JP2016001526A

JP2016001526A - 表示装置

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Publication number: JP2016001526A
Application number: JP2014120438A
Authority: JP
Inventors: 武栗谷川; Takeshi Kuriyagawa; 拓生海東; Takuo Kaito
Original assignee: Japan Display Inc
Current assignee: Japan Display Inc
Priority date: 2014-06-11
Filing date: 2014-06-11
Publication date: 2016-01-07
Also published as: CN105280674A; CN105280674B; US20150364721A1; KR20150142603A

Abstract

【課題】本発明は、発光素子の劣化を抑制することができる表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の一実施形態による表示装置は、第１基板と、第１基板上に配置された発光素子と、第１防湿性を有する第２基板と、第２基板上に配置され、第１防湿性よりも高い第２防湿性を有する第１バリア層と、第１バリア層上に配置された有機層と、有機層上に配置され、第１防湿性よりも高い第３防湿性を有する第２バリア層と、を有し、第１基板と第２基板とは、各々の上面が対向するように貼り合せられている。
【選択図】図１

Description

本発明は、表示装置に関する。特に、発光素子が設けられた基板に対向する対向基板側の膜構造に関する。

近年、モバイル用途の発光表示装置において、高精細化や低消費電力化に対する要求が強くなってきている。モバイル用途の表示装置としては、液晶表示装置（ＬＣＤ：Liquid Crystal Display Device）や、有機ＥＬ表示装置等の自発光素子（ＯＬＥＤ：Organic Light-Emitting Diode）を利用した表示装置や、電子ペーパー等が採用されている。

その中でも、有機ＥＬ表示装置や電子ペーパーは液晶表示装置で必要であったバックライトや偏光板が不要であり、さらに発光素子の駆動電圧が低いため、低消費電力かつ薄型発光表示装置として非常に注目を集めている。また、薄膜だけで表示装置を形成することができるため、例えば特許文献１に示すように、折り曲げ可能（フレキシブル）なプラスチック基板上に表示部を形成することで、折り曲げ可能な表示装置（フレキシブルディスプレイ）を実現することができる。このような表示装置はガラス基板を使用しないため、軽く、壊れにくい表示装置を実現することが可能であり、非常に注目を集めている。

特開２００７−１８３６０５号公報

しかしながら、例えば有機ＥＬ表示装置の各画素に配置された有機ＥＬ素子などの発光素子に使用される発光材料は、酸素や水分に曝されると劣化して発光効率が低下することが知られている。特に、フレキシブルディスプレイにおいては、フレキシブル基板として樹脂材料の非常に薄い基板が使用されるため、外部からの酸素や水分が該フレキシブル基板を透過して発光材料に到達し、発光素子が劣化してしまう問題が発生する。

本発明は、発光素子の劣化を抑制することができる表示装置を提供することを目的とする。

本発明の一実施形態による表示装置は、第１基板と、第１基板上に配置された発光素子と、第１防湿性を有する第２基板と、第２基板上に配置され、第１防湿性よりも高い第２防湿性を有する第１バリア層と、第１バリア層上に配置された有機層と、有機層上に配置され、第１防湿性よりも高い第３防湿性を有する第２バリア層と、を有し、第１基板と第２基板とは、各々の上面が対向するように貼り合せられている。

本発明の実施形態１に係る表示装置の層構造の断面図を示す図である。本発明の実施形態２に係る表示装置の斜視図を示す図である。本発明の実施形態２に係る表示装置の平面図を示す図である。本発明の実施形態２に係る表示装置のＡ−Ｂ断面図を示す図である。本発明の実施形態２に係る表示装置のＡ−Ｂ断面図を示す図である。本発明の実施形態２に係る表示装置の製造方法において、第１支持基板上に第１基板、発光素子及び保護膜を形成する工程を示す図である。本発明の実施形態２に係る表示装置の製造方法において、第２支持基板上に第２基板及び第１バリア層を形成する工程を示す図である。本発明の実施形態２に係る表示装置の製造方法において、カラーフィルタ及び遮光層を形成する工程を示す図である。本発明の実施形態２に係る表示装置の製造方法において、第２バリア層を形成する工程を示す図である。本発明の実施形態２に係る表示装置の製造方法において、第１支持基板と第２支持基板とを貼り合せる工程を示す図である。本発明の実施形態２に係る表示装置の製造方法において、第１支持基板及び第２支持基板を剥離する工程を示す図である。本発明の実施形態３に係る表示装置の第１バリア層の層構造の断面図を示す図である。本発明の実施形態３に係る表示装置の第２バリア層の層構造の断面図を示す図である。

以下に、本発明の各実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。

〈実施形態１〉
図１を用いて、本発明の実施形態１に係る表示装置の層構造について説明する。実施形態１では、発光素子を有するトップエミッション型のフレキシブル表示装置の層構造について説明する。

［表示装置の層構造］
図１は、本発明の実施形態１に係る表示装置の層構造の断面図を示す図である。図１に示すように、表示装置１０は、第１基板１００と、第１基板１００上に配置された発光素子１１０とを有する。また、表示装置１０は、第１防湿性を有する第２基板２００と、第２基板２００上に配置され、第１防湿性よりも高い第２防湿性を有する第１バリア層２１０と、第１バリア層２１０上に配置された有機層２２０と、有機層２２０上に配置され、第１防湿性よりも高い第３防湿性を有する第２バリア層２３０とを有する。そして、第１基板１００と第２基板２００とは、各々の上面が対向するように、充填材３００を介して貼り合せられている。ここで、第１基板１００の上面は紙面上方であり、第２基板２００の上面は紙面下方である。ここで、防湿性が高いとは透湿率が低く、水蒸気が透過しにくい材料を意味する。また、換言すると、水分に対するブロッキング能力が高い材料ともいう。

第１基板１００及び第２基板２００はフレキシブルな材料を使用することができる。具体的には、ポリイミド樹脂やアクリル樹脂などを使用することができる。この場合、第１基板１００の厚さは、好ましくは３μｍ以上５０μｍ以下であるとよい。さらに好ましくは、５μｍ以上２０μｍ以下であるとよい。また、実施形態１のようにトップエミッション型の表示装置においては、発光素子１１０から放出された光は第２基板２００側から出射されるため、第１基板１００は必ずしも高い透光性を有する必要はない。例えば、トランジスタ形成工程における熱処理への耐性を高めるために第１基板１００に不純物を導入してもよく、その結果、第１基板１００の透光性が低くなってもよい。逆に、第２基板２００は透光性が高い材料が好ましい。一方で、ボトムエミッション型の表示装置の場合は、発光素子１１０から放出される光は第１基板１００側から出射されるため、第１基板１００は透光性が高い材料が好ましい。

発光素子１１０は、トランジスタ層及び発光層を有する。トランジスタ層はトランジスタ素子及び配線を有する。トランジスタ素子はアモルファスシリコントランジスタ素子、ポリシリコントランジスタ素子、単結晶シリコントランジスタ素子、酸化物半導体トランジスタ素子、有機半導体トランジスタ素子などを使用することができる。ただし、発光素子１１０は必ずしもトランジスタ素子を有していなくてもよく、例えば、パッシブ型発光装置のように第１基板１００上に配線及び発光層が配置された構造であってもよい。また、発光層としては、有機ＥＬ、無機ＥＬなどを使用することができる。また、上記のような自発光の発光層ではなく、電子ペーパーのような反射型の表示層であってもよい。

ここで、発光素子１１０は、第１基板１００とトランジスタ層との間に、第１基板１００からの不純物や第１基板１００側から侵入する水分がトランジスタ層及び発光層に拡散することを抑制する下地バリア層を有してもよい。下地バリア層としては、窒化シリコン膜（ＳｉＮ_ｘ膜）、酸化シリコン膜（ＳｉＯ_ｘ膜）、窒化酸化シリコン膜（ＳｉＮ_ｘＯ_ｙ膜）、酸化窒化シリコン膜（ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ膜）、窒化アルミニウム膜（ＡｌＮ_ｘ膜）、酸化アルミニウム膜（ＡｌＯ_ｘ膜）、窒化酸化アルミニウム膜（ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ膜）、酸化窒化アルミニウム膜（ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ膜）などを使用することができる（ｘ、ｙは任意）。また、これらの膜を積層した構造を使用してもよい。ここで、窒化酸化シリコン膜とは窒素よりも少ない酸素を含有する窒化シリコン膜であり、酸化窒化シリコン膜とは酸素よりも少ない窒素を含有する酸化シリコン膜である。

第１バリア層２１０は単膜構造であってもよく、積層膜構造であってもよい。また、第１バリア層２１０は、シリコン及び窒素を含有し、第２基板２００の第１防湿性よりも高い第２防湿性を有する第１防湿膜を含む。第１バリア層２１０が単膜構造である場合は、第１防湿膜が第１バリア層２１０であることを意味する。また、第１バリア層２１０が積層膜構造である場合は、第１バリア層２１０の少なくとも一層に第１防湿膜が使用されていることを意味する。第１防湿膜としては、ＳｉＮ_ｘ膜、ＳｉＮ_ｘＯ_ｙ膜、又はこれらの膜に不純物を混入した膜を使用することができる。また、上記の膜以外にも、第１防湿膜としてＡｌＮ_ｘ膜、ＡｌＮ_ｘＯ_ｙ膜、その他の窒化金属膜、窒化酸化金属膜を使用することができる。

第２バリア層２３０は単膜構造であってもよく、積層膜構造であってもよい。また、第２バリア層２３０は、シリコン及び窒素を含有し、第２基板２００の第１防湿性よりも高い第３防湿性を有する第２防湿膜を含む。第２バリア層２３０が単膜構造である場合は、第２防湿膜が第２バリア層２３０であることを意味する。また、第２バリア層２３０が積層膜構造である場合は、第２バリア層２３０の少なくとも一層に第２防湿膜が使用されていることを意味する。第２防湿膜としては、ＳｉＮ_ｘ膜、ＳｉＮ_ｘＯ_ｙ膜、又はこれらの膜に不純物を混入した膜を使用することができる。また、上記の膜以外にも、第２防湿膜としてＡｌＮ_ｘ膜、ＡｌＮ_ｘＯ_ｙ膜、その他の窒化金属膜、窒化酸化金属膜を使用することができる。また、第２バリア層２３０はさらに有機層２２０よりも防湿性が高く、有機層２２０から放出される水分及びガスをブロックする機能を有していてもよい。

ここで、第１防湿膜又は第２防湿膜の膜厚は水分に対する十分なバリア性を確保するために５０ｎｍ以上であることが好ましい。一方、ＳｉＮ_ｘ膜に代表される第１防湿膜又は第２防湿膜は非常に応力が強いため、５００ｎｍ以下であることが好ましい。また、第１バリア層２１０の第１防湿膜と第２バリア層２３０の第２防湿膜は、同一の膜であってもよく、また、互いに異なる膜であってもよい。

有機層２２０は、表示装置１０の表示領域に設けられた各々の画素に対応して配置された、特定の波長帯の光を透過するカラーフィルタであってもよい。また、上記の画素間に配置され、遮光性を有する遮光膜であってもよい。また、有機層２２０は、カラーフィルタ及び遮光膜の両方であってもよい。

以上のように、本発明の実施形態１に係る発明によると、第２基板２００と有機層２２０との間、及び、有機層２２０と発光素子１１０との間にそれぞれバリア層が設けられているため、第２基板２００側からの水分の侵入を抑制することができる。その結果、発光素子１１０の劣化を抑制することができる。また、有機層２２０からの水分や脱ガス成分が発光素子１１０に到達することも抑制することができるため、発光素子１１０の劣化を抑制することができる。

〈実施形態２〉
図２乃至４を用いて、本発明の実施形態２に係る表示装置の構成を説明する。実施形態２では、実施形態１で説明した層構造の表示装置に対して、ドライバＩＣ４００やＦＰＣ（Flexible Printed Circuits）４１０などの外部素子を実装した表示装置について詳細に説明する。実施形態２では、フレキシブル表示装置の一例として、高精細化に有利な「白色＋ＣＦ構造」の表示装置について説明する。

［表示装置の構成］
図２は、本発明の実施形態２に係る表示装置の斜視図を示す図である。また、図３は、本発明の実施形態２に係る表示装置の平面図を示す図である。実施形態２に係る表示装置２０は、図２及び３に示すように、第１基板１００と、第１基板１００に対向する第２基板２００と、第２基板２００から露出された第１基板１００に設けられたドライバＩＣ４００及びＦＰＣ（Flexible Printed Circuits）４１０とを有する。ここで、ＦＰＣ４１０には、駆動回路を制御するコントローラ回路に接続される端子部４１１が備えられている。

第１基板１００は、表示領域１３０に発光素子を含む画素１８０を有する。実施形態２に係る表示装置２０では、各々の画素１８０は白色光を上面（Ｄ１方向）から放出する発光素子を有する。第２基板２００は、各々の画素１８０に対応して開口部が設けられた遮光層１２１と、各々の開口部に設けられ、特定の波長帯の光を透過するカラーフィルタ１８１乃至１８３とを有する。第１基板１００及び第２基板２００は、画素１８０が配置された表示領域１３０の周辺の周辺領域１４０に配置されたシール材１５０及びシール材１５０の内側に充填された充填材３００によって貼り合せられている。

図４Ａは、本発明の実施形態２に係る表示装置のＡ−Ｂ断面図を示す図である。図４Ａに示すように、実施形態２に係る表示装置２０は、フレキシブルな第１基板１００と、第１基板１００上に配置され、第１基板１００よりも防湿性が高く、第１基板１００からの不純物拡散を抑制する下地バリア層１０２と、第１基板１００の表示領域１３０に配置された発光素子１１１、１１２、１１３と、上記の各々の発光素子を覆うように表示領域１３０及び周辺領域１４０に配置され、周辺領域１４０において下地バリア層１０２と接して発光素子１１０を封止する保護層１２０とを有する。

また、表示装置２０は、フレキシブルな第２基板２００と、第２基板２００上に配置され、第２基板２００よりも防湿性が高い第１バリア層２１０と、表示領域１３０に配置された発光素子１１１、１１２、１１３に対応して設けられたカラーフィルタ１８１、１８２、１８３と、各々のカラーフィルタの間に配置された遮光層１２１と、遮光層１２１及び上記の各々のカラーフィルタを覆うように表示領域１３０及び周辺領域１４０に配置され、周辺領域１４０において第１バリア層２１０と接して遮光層１２１及びカラーフィルタを密閉する第２バリア層２３０とを有する。なおここでは、カラーフィルタとしてＲＧＢ３色構成を有する例を示しているが、光透過部を加えたＲＧＢＷ４色構成や、Ｗに換えて他色の透過部を加えた４色構成であっても良い。

また、上記で説明した第１基板１００及び第２基板２００は、シール材１５０及び充填材３００によって貼り合せられる。つまり、シール材１５０は周辺領域１４０において第２バリア層２３０及び保護層１２０と接している。ただし、図４Ａに示した構造に限定されず、シール材１５０が配置された領域の下地バリア層１０２、保護層１２０、第１バリア層２１０、及び第２バリア層２３０のいずれか又は複数の層が除去された構造であってもよい。

また図３、図４Ａにおいて、シール材１５０は第１基板１００及び第２基板２００の端部からわずかに内側に入った領域に設けられているが、端部方向からの防湿性を向上させる手段として、図４Ｂに示すようにシール材１５０が第１基板１００及び第２基板の端部を覆うように設けられても良い。このとき、シール材１５０の外側にさらに別のシール材を塗布して形成しても良く、シール材１５０が未硬化の状態で、第１基板１００と第２基板２００とに押圧を加え、広がりを利用して形成しても良い。

以上のように、本発明の実施形態２に係る発明によると、第２基板とカラーフィルタとの間、及び、カラーフィルタと発光層との間にバリア層が設けられているため、第２基板側からの水分の侵入を抑制することができる。また、有機層からの水分や脱ガス成分が発光素子に到達することや、基板の周辺部からの水分の混入を抑制することもできる。したがって、発光素子の劣化を抑制することができる。

［表示装置の製造方法］
図５乃至１０を用いて、本発明の実施形態２に係る表示装置の製造方法を説明する。より具体的には、図５を用いて第１基板側の製造方法を説明し、図６乃至８を用いて第２基板側の製造方法を説明し、図９及び１０を用いて第１基板と第２基板との貼り合せ及び支持基板の剥離（フレキシブル化）工程について説明する。ここでは、剛性を有する２つの支持基板にそれぞれフレキシブル基板を形成し、２つのフレキシブル基板の一方の基板上に発光素子を形成し、他方の基板上にカラーフィルタを形成し、これらの基板を貼り合せた後にそれぞれの支持基板を剥離する方法について説明する。

図５は、本発明の実施形態２に係る表示装置の製造方法において、第１支持基板上に第１基板、発光素子及び保護膜を形成する工程を示す図である。図５では、まず第１支持基板５００として少なくとも第１基板１００よりも高い剛性を有する基板を準備する。第１支持基板５００としては、例えばガラス基板を使用することができる。そして、第１支持基板５００上にフレキシブルな第１基板１００を形成する。第１基板１００としては、実施形態１で説明した材料を使用することができる。

次に、第１基板１００上に、第１基板１００からの不純物や第１基板１００側から侵入する水分がトランジスタ層及び発光層に拡散することを抑制する下地バリア層１０２を形成する。下地バリア層１０２としては、実施形態１で説明した材料を使用することができる。次に、下地バリア層１０２上にトランジスタ層及び発光層を有する発光素子１１０を形成する。ここで、下地バリア層１０２及びトランジスタ層の製造プロセスにおける熱処理工程の温度は、第１基板１００のガラス転移点よりも低い温度とすることが望ましい。次に、発光素子１１０上に保護層１２０を形成する。ここで、保護層１２０の成膜温度は、発光素子１１０の発光層に含まれる有機層のガラス転移点よりも低い温度とすることが望ましい。

図６は、本発明の実施形態２に係る表示装置の製造方法において、第２支持基板上に第２基板及び第１バリア層を形成する工程を示す図である。図６では、まず第１支持基板５００と同様に、第２支持基板６００として少なくとも第２基板２００よりも高い剛性を有する基板を準備する。第２支持基板６００としては、例えばガラス基板を使用することができる。そして、第２支持基板６００上にフレキシブルな第２基板２００を形成する。第２基板２００としては、実施形態１で説明した材料を使用することができる。次に、第２基板２００上に第１バリア層２１０を形成する。第１バリア層２１０としては、実施形態１で説明した材料を使用することができる。また、第１バリア層２１０の成膜温度は、第２基板２００のガラス転移点よりも低い温度とすることが望ましい。

図７は、本発明の実施形態２に係る表示装置の製造方法において、カラーフィルタ及び遮光層を形成する工程を示す図である。図７では、赤の波長帯の光を透過するカラーフィルタ１８１、緑の波長帯の光を透過するカラーフィルタ１８２、青の波長帯の光を透過するカラーフィルタ１８３をそれぞれの発光素子に対応して形成し、各々のカラーフィルタ間に遮光層１２１を形成する。ここで、図７では、カラーフィルタ１８１、１８２、１８３を形成した後に遮光層１２１を形成するプロセスを例示したが、このプロセスに限定されず、遮光層１２１を形成した後にカラーフィルタ１２２を形成してもよい。

図８は、本発明の実施形態２に係る表示装置の製造方法において、第２バリア層を形成する工程を示す図である。図８では、カラーフィルタ１８１、１８２、１８３及び遮光層１２１を覆うように第２バリア層２３０を形成する。第２バリア層２３０としては、実施形態１で説明した材料を使用することができる。ここで、第２バリア層２３０の成膜温度は、第２基板２００、カラーフィルタ１８１、１８２、１８３、及び遮光層１２１のガラス転移点よりも低い温度とすることが望ましい。また、カラーフィルタ１８１、１８２、１８３及び遮光層１２１と第２バリア層２３０との間にカラーフィルタ１８１、１８２、１８３及び遮光層１２１による段差を緩和するオーバーコート層を形成してもよい。

続いて、図５に示した第１支持基板５００と図８に示した第２支持基板６００とをシール材１５０及び充填材３００を介して貼り合せる。図９は、本発明の実施形態２に係る表示装置の製造方法において、第１支持基板と第２支持基板とを貼り合せる工程を示す図である。シール材１５０及び充填材３００は、第１支持基板５００又は第２支持基板６００に形成された後に、第１支持基板５００と第２支持基板６００とは貼り合せられる。第１支持基板５００及び第２支持基板６００の貼り合せは減圧雰囲気下で行われてもよい。また、シール材１５０、充填材３００の両方又は一方に、紫外線照射後に徐々に硬化する遅延硬化型の樹脂材料を使用することができる。例えば、紫外線による遅延硬化型の樹脂材料を使用することで、例えば第１又は第２バリア層の紫外線に対する透光性が低い場合でもシール材１５０、充填材３００を硬化させることができる。

図１０は、本発明の実施形態２に係る表示装置の製造方法において、第１支持基板及び第２支持基板を剥離する工程を示す図である。図１０に示すように、第１支持基板５００及び第２支持基板６００をそれぞれ第１基板１００及び第２基板２００から剥離することで、フレキシブルな第１基板１００及び第２基板２００に挟持された表示装置を得ることができる。第１支持基板５００及び第２支持基板６００の剥離は、例えば、各々の支持基板の裏面（発光素子やカラーフィルタが形成された面とは逆の面）側からレーザ照射を行い、両支持基板−フレキシブル基板の界面を局所的に加熱することで行うことができる。また、各々の支持基板上にＵＶ硬化性の接着層を介してフレキシブル基板を形成し、フレキシブル基板上に発光素子及びカラーフィルタを形成した後に各々の支持基板の裏面側からＵＶ照射を行い、接着層を変質させることで剥離することもできる。

以上のようにして、本発明の実施形態２に係るフレキシブルな表示装置を得ることができる。

〈実施形態３〉
図１１及び１２を用いて、本発明の実施形態３に係る表示装置の層構造について説明する。実施形態３でも実施形態１と同様にトップエミッション型のフレキシブル表示装置の層構造について説明する。

図１１は、本発明の実施形態３に係る表示装置の第１バリア層の層構造の断面図を示す図である。図１１では、図１の第１バリア層２１０が積層膜で構成された構造について例示する。図１１に示すように、第１バリア層２１０は、第１防湿膜２１２の他に、第１防湿膜２１２と第２基板２００との間に第１防湿膜２１２よりも第２基板２００との密着性が高い第１密着性膜２１１と、第１防湿膜２１２と有機層２２０との間に第１防湿膜２１２よりも有機層２２０との密着性が高い第２密着性膜２１３とを有する。

第１密着性膜２１１及び第２密着性膜２１３としては、ＳｉＯ_ｘ膜、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ膜、又はこれらの膜に不純物を混入した膜を使用することができる。また、上記の膜以外にも、第１密着性膜２１１及び第２密着性膜２１３として、ＡｌＯ_ｘ膜、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ膜、その他の酸化金属膜、酸化窒化金属膜を使用することができる。ここで、第１防湿膜２１２は第１密着性膜２１１及び第２密着性膜２１３よりも防湿性が高い。図１１では、第１防湿膜２１２の上下に第１密着性膜２１１及び第２密着性膜２１３を配置した構造を例示したが、この構造に限定されず、例えば第１密着性膜２１１又は第２密着性膜２１３の一方だけを有する構造であってもよい。

上記のように、第１防湿膜２１２と第２基板２００又は有機層２２０との密着性が悪い場合においても、実施形態３に示したように第１密着性膜２１１及び第２密着性膜２１３を導入することで、良好な密着性と良好な防湿性を両立することができる。また、例えば、第１防湿膜２１２としてＳｉＮ_ｘ膜、ＳｉＮ_ｘＯ_ｙ膜を使用する場合、第２基板２００上に第１密着性膜２１１を形成することで、ＳｉＮ_ｘ膜、ＳｉＮ_ｘＯ_ｙ膜の成膜に使用するアンモニアガスによって第２基板２００がエッチングされることを抑制できる。

図１２は、本発明の実施形態３に係る表示装置の第２バリア層の層構造の断面図を示す図である。図１２では、図１の第２バリア層２３０が積層膜で構成された構造について例示する。図１２に示すように、第２バリア層２３０は、第２防湿膜２３２と有機層２２０との間に第２防湿膜２３２よりも有機層２２０との密着性が高い第３密着性膜２３１を有する。

第３密着性膜２３１としては、ＳｉＯ_ｘ膜、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ膜、又はこれらの膜に不純物を混入した膜を使用することができる。また、上記の膜以外にも、第３密着性膜２３１として、ＡｌＯ_ｘ膜、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ膜、その他の酸化金属膜、酸化窒化金属膜を使用することができる。ここで、第２防湿膜２３２は第３密着性膜２３１よりも防湿性が高い。

上記のように、第２防湿膜２３２と有機層２２０との密着性が悪い場合においても、実施形態３に示したように第３密着性膜２３１を導入することで、良好な密着性と良好な防湿性を両立することができる。また、例えば、第２防湿膜２３２としてＳｉＮ_ｘ膜、ＳｉＮ_ｘＯ_ｙ膜を使用する場合、有機層２２０上に第３密着性膜２３１を形成することで、ＳｉＮ_ｘ膜、ＳｉＮ_ｘＯ_ｙ膜の成膜に使用するアンモニアガスによって有機層２２０がエッチングされることを抑制できる。

以上のように、本発明の実施形態３に係る発明によると、第１防湿膜２１２と第２基板２００との間、第１防湿膜２１２と有機層２２０との間、及び、第２防湿膜と有機層２２０との間にそれぞれ第１乃至第３密着性膜を配置することで、良好な密着性を得ることができる。

なお、本発明は上記の実施形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。

１０、２０：表示装置
１００：第１基板
１０２：下地バリア層
１１０、１１１、１１２、１１３：発光素子
１２０：保護層
１２１：遮光層
１２２：カラーフィルタ
１３０：表示領域
１４０：周辺領域
１５０：シール材
１８０：画素
１８１、１８２、１８３：カラーフィルタ
２００：第２基板
２１０：第１バリア層
２１１：第１密着性膜
２１２：第１防湿膜
２１３：第２密着性膜
２２０：有機層
２３０：第２バリア層
２３１：第３密着性膜
２３２：第２防湿膜
３００：充填材
４００：ドライバＩＣ
４１０：ＦＰＣ
４１１：端子部
５００：第１支持基板
６００：第２支持基板

Claims

第１基板と、
前記第１基板上に配置された発光素子と、
第１防湿性を有する第２基板と、
前記第２基板上に配置され、前記第１防湿性よりも高い第２防湿性を有する第１バリア層と、
前記第１バリア層上に配置された有機層と、
前記有機層上に配置され、前記第１防湿性よりも高い第３防湿性を有する第２バリア層と、を有し、
前記第１基板と前記第２基板とは、各々の前記発光素子と前記有機層とが対向するように貼り合せられていることを特徴とする表示装置。
前記有機層は特定の波長帯の光を透過するカラーフィルタ部を有することを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
前記第１バリア層はシリコン及び窒素を含有し、前記第２防湿性を有する第１防湿膜を含み、
前記第２バリア層はシリコン及び窒素を含有し、前記第３防湿性を有する第２防湿膜を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の表示装置。
前記第１バリア層は、
前記第１防湿膜と前記第２基板との間に前記第１防湿膜よりも前記第２基板との密着性が高い第１密着性膜と、
前記第１防湿膜と前記有機層との間に前記第１防湿膜よりも前記有機層との密着性が高い第２密着性膜と、
を有することを特徴とする請求項３に記載の表示装置。
前記第１防湿膜は前記第１密着性膜及び前記第２密着性膜よりも防湿性が高いことを特徴とする請求項４の記載の表示装置。
前記第２バリア層は、前記第２防湿膜と前記有機層との間に前記第２防湿膜よりも前記有機層との密着性が高い第３密着性膜を有することを特徴とする請求項３に記載の表示装置。
前記第２防湿膜は前記第３密着性膜よりも防湿性が高いことを特徴とする請求項６の記載の表示装置。