JP2013023460A - 基質と水素との反応生成物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】溶剤と基質とからなる液相にマイクロバブル又はナノバブルを導入し、固体触媒の存在下での基質と水素との気液接触によって生成する反応生成物を製造する。前記基質には、不飽和炭素結合を有する有機化合物、二級アルコール、及び三級アルコールのいずれか一つを用いる。
【選択図】なし
Description
によって行うことができる。
し水素化分解反応の溶剤としては、2−プロパノール等の二級アルコールは好ましくない
。
水素ガスのマイクロバブルを連続して供給する形式や、水素ガスのマイクロバブル又はナノバブルと液相との混合流体を固体触媒に接触させる形式が挙げられる。固体触媒は液相中に分散されていてもよいし、通液性を有する所定の容器に収容されていてもよいし、液相と水素ガスのマイクロバブルとの混合流体が流通する筒に固定されて収容されていてもよい。
図1の装置は、四つ口フラスコ1、マイクロバブル発生装置2、撹拌機3、及びホットプレート4を有する。四つ口フラスコ1の中管には、撹拌機3と接続されている撹拌棒5とその先端に配置されている撹拌翼6が挿入され、その他の側管には、フラスコ1内の液相を排出する排液管7、フラスコ1内に液相を供給する供給管8、及び、余剰水素ガスリサイクル用排出管9が接続されている。四つ口フラスコ1の内部には、図2に示すように、通液性を有するカップ10が収容されており、カップ10の内部に撹拌棒5及び撹拌翼6が配置されている。排液管7の先端はカップ10の外側のフラスコ1内の液相に浸る位置に配置されており、供給管8の先端はカップ10の内側に液相を供給する位置に配置されている。排液管7の基端はマイクロバブル発生装置2に接続されている。
を用いた。マイクロバブル発生装置2の吐出口は供給管8の基端と接続されており、マイクロバブルを含む液相は供給管8から四つ口フラスコ1のカップ10内に供給される。
図1の装置を用いて、下記式に示すスチレンの水素還元反応を行った。液相には20mmmolのスチレンと40mLのメタノールとのスチレン−メタノール溶液を用い、触媒には10%パラジウム/カーボンをスチレンに対して0.1重量%用い、水素ガスの流量を水素ガス用流量計14において0.5mL/分とし、撹拌速度を20rpmとし、液相の循環流量を10L/時間とし、液相の温度を30℃とし、1時間反応を行った。ガスクロマトグラフィーにより、液相中のスチレンの消失を確認し、反応の終点とした。スチレンの反応率は100%であった。
下記式に示すように、基質をインデンに代え、反応時間を2時間とし、図1の装置から10カップを外した以外は実施例1と同様の条件で水素還元反応を行った。インデンの反応率は100%であった。
下記式に示すように、基質を3,7−ジメチルオクタ−2,6−ジエン−1−アールに
代え、反応時間を3時間とし、図1の装置から10カップを外した以外は実施例1と同様の条件で水素還元反応を行った。3,7−ジメチルオクタ−2,6−ジエン−1−アールの反応率は100%であった。
下記式に示すように、基質を1−メチル−4−(プロパン−2−イリデン)シクロヘキ−1−エンに代え、反応時間を6時間とし、図1の装置から10カップを外した以外は実施例1と同様の条件で水素還元反応を行った。1−メチル−4−(プロパン−2−イリデン)シクロヘキ−1−エンの反応率は1−メチル−4−(プロパン−2−イリデン)シクロヘキサン53%、1−イソプロピル−4−メチルシクロヘキサン47%であった。
下記式に示すように、基質をフェニルアセチレンに代え、反応時間を7時間とし、図1の装置から10カップを外した以外は実施例1と同様の条件で水素還元反応を行った。フェニルアセチレンの反応率は100%であった。
下記式に示すように、基質を下記式(4)の化合物に代え、また反応夜溶媒をトルエン100mLとメタノール100mLとの混合溶媒に代え、反応温度を60℃、反応時間を15時間とした以外は実施例1と同様の条件で水素還元反応を行った。(4)の化合物の反応率は99.0%であった。
下記式に示すように、基質を下記式(5)の化合物代え、反応温度を60℃、反応時間を7時間とした以外は実施例1と同様の条件で水素還元反応を行った。式(5)の化合物の反応率は99.9%であった。
下記式に示すように、基質を下記式(6)の化合物に代え、反応温度を60℃、反応時間を10時間とした以外は実施例1と同様の条件で水素還元反応を行った。式(6)の化合物の反応率は60.0%であった。
下記式に示すように、基質を下記式(7)の化合物に代え、反応温度を60℃、反応時間を10時間とした以外は実施例1と同様の条件で水素還元反応を行った。式(7)の化合物の反応率は90.0%であった。
下記式に示すように、基質を2−エチル−2−ブテン−1−アールに代え、無溶媒とし、反応温度を60℃、反応時間を5時間とした以外は実施例1と同様の条件で水素還元反応を行った。2−エチル−2−ブテン−1−アールの反応率は50%であった。
下記式に示すように、基質を2−エチルブタナールに代え、触媒をラネーニッケルに代え、無溶媒とし、反応温度を60℃、反応時間を5時間とした以外は実施例1と同様の条件で水素還元反応を行った。2−エチルブタナールの反応率は50%であった。
下記式に示すように、基質を下記式(10)の化合物に代え、溶媒を100mLのトルエンと100mLのメタノールとの混合溶媒に代え、反応温度を80℃、反応時間を7時間とした以外は実施例1と同様の条件で水素化分解反応を行った。式(10)の化合物の反応率は40%であった。
下記式に示すように、基質を下記式(11)の化合物に代え、反応温度を80℃、反応時間を7時間とした以外は実施例1と同様の条件で水素化分解反応を行った。下記式(11)の化合物の反応率は40%であった。
図1の装置から、カップ10を外し、排液管7及び余剰水素ガスリサイクル用排出管9を外してこれらが挿入されていた側管を密閉し、供給管8の基端を水素ガスが充填されたバルーン(1L)と接続する以外は実施例1と同様に水素還元反応を行った。スチレンの反応率は30%であった。
図1の装置から、カップ10を外し、排液管7及び余剰水素ガスリサイクル用排出管9を外してこれらが挿入されていた側管を密閉し、供給管8の基端を水素ガスが充填されたバルーン(1L)と接続する以外は実施例11と同様に水素還元反応を行った。式(11)の化合物の反応率は0%であった。
有用性の高い反応である。本発明によれば、このような反応を常圧で行うことができる。したがって、本発明によれば、水素還元反応や水素化分解反応を利用する工業生産を、高圧ガス保安法が適用されない通常の設備で行い、製造設備の費用の大幅な軽減を可能とすることが期待される。
2 マイクロバブル発生装置
3 撹拌機
4 ホットプレート
5 撹拌棒
6 撹拌翼
7 排液管
8 供給管
9 余剰水素ガスリサイクル用排出管
10 カップ
11、12 トラップ
13 三方弁
14 水素ガス用流量計
Claims (8)
- 基質を含有する液相と水素ガスの気泡とを固体触媒の存在下で接触させて、固体触媒の存在下での基質と水素との気液接触によって生成する反応生成物を製造する方法において、
前記基質が、不飽和炭素結合を有する有機化合物、二級アルコール、三級アルコール、及びアルデヒドのいずれか一つであり、
液相に導入される水素ガスの気泡が水素ガスのマイクロバブル又はナノバブルであることを特徴とする、基質と水素との反応生成物を製造する方法。 - 前記基質が不飽和炭素結合を有する有機化合物であり、前記固体触媒が前記有機化合物の水素還元反応用の触媒であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記不飽和炭素結合を有する有機化合物が、置換されていてもよい鎖状オレフィン及び置換されていてもよい環状オレフィンのいずれか一つであることを特徴とする請求項1又は2に記載の方法。
- 前記不飽和炭素結合を有する有機化合物が、一置換オレフィン、二置換オレフィン、三置換オレフィン及び四置換オレフィンのいずれか一つであることを特徴とする請求項3に記載の方法。
- 前記不飽和炭素結合を有する有機化合物が、置換されていてもよい鎖状アルキンであることを特徴とする請求項1又は2に記載の方法。
- 前記不飽和炭素結合を有する有機化合物が、一置換アルキン及び二置換アルキンのいずれか一つであることを特徴とする請求項5に記載の方法。
- 前記基質が二級アルコール又は三級アルコールであり、前記固体触媒がこれらのアルコールの水素化分解反応用の触媒であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記基質がアルデヒドであり、前記固体触媒がアルデヒドの水素還元反応用の触媒であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
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