JP2011090183A - 電気光学装置及び電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、シール材と重なる部分を遮光可能とすることで、簡易な構成で品質の高い装置を実現する。
【解決手段】電気光学装置は、第１の基板（１０）及び第２の基板（２０）間に電気光学物質（５０）を挟持してなる電気光学装置であって、第１の基板において、表示部（１０ａ）の周辺に設けられた周辺回路（１０４）と、第１の基板に周辺回路より外側に設けられており、周辺回路と電気的に接続された配線（１５０）と、周辺回路及び配線とそれぞれ少なくとも部分的に重なるように設けられており、第１の基板及び第２の基板を互いに接着するシール材（５２）と、第２の基板に周辺回路及びシール材とそれぞれ少なくとも部分的に重なるように設けられた遮光膜（５３）とを備える。
【選択図】図３

Description

本発明は、例えば液晶装置等の電気光学装置、及び該電気光学装置を備えた、例えば液晶プロジェクター等の電子機器の技術分野に関する。

この種の電気光学装置として、例えば一対の基板間に液晶層を挟持してなる液晶装置がある。このような液晶装置の製造工程においては、一対の基板を、紫外線硬化樹脂等が含まれるシール材によって貼り合わせる手法が用いられることがある。この場合、シール材を硬化させるには、シール材に対して十分な紫外線を照射することが求められる。このため、例えば特許文献１では、基板におけるシール材と重なる部分には遮光膜を設けないようにするという技術が提案されている。

特許第２５６９５４８号公報

しかしながら、上述したようにシール材と重なる部分に遮光膜を設けない場合、装置の動作時に照射される光がシール材と重なる部分を透過してしまうため、表示画像に悪影響を与えてしまうおそれがある。また、シール材と重なる部分における遮光性を有する配線のレイアウトが制限されてしまうため、装置構成が複雑化してしまうおそれがある。このように、上述した技術では、シール材と重なる部分を遮光できないが故に、様々な不都合が生じてしまうという技術的問題点がある。

本発明は、例えば上述した問題点に鑑みなされたものであり、シール材と重なる部分を遮光可能とすることで、簡易な構成で品質の高い電気光学装置及び電子機器を提供することを課題とする。

本発明の電気光学装置は上記課題を解決するために、第１の基板及び第２の基板間に電気光学物質を挟持してなる電気光学装置であって、前記第１の基板において、表示部の周辺に設けられた周辺回路と、前記第１の基板に前記周辺回路より外側に設けられており、前記周辺回路と電気的に接続された配線と、前記周辺回路及び前記配線とそれぞれ少なくとも部分的に重なるように設けられており、前記第１の基板及び前記第２の基板を互いに接着するシール材と、前記第２の基板に前記周辺回路及び前記シール材とそれぞれ少なくとも部分的に重なるように設けられた遮光膜とを備える。

本発明の電気光学装置によれば、例えばＴＦＴアレイ基板である第１の基板と、対向基板である第２の基板との間に、液晶等の電気光学物質が挟持されている。第１の基板には、画像を表示する表示部の周辺に、走査線駆動回路やデータ線駆動回路等の周辺回路が設けられている。また、表示部から見て周辺回路より外側には、周辺回路と電気的に接続された配線が設けられている。周辺回路及び配線は、典型的には、遮光性を有する金属等を含んで構成される。

第１の基板及び第２の基板は、シール材によって互いに接着されている。ここで特に、シール材は、表面活性接合によって第１の基板及び第２基板と接着される。このため、本発明に係るシール材は、例えば紫外線硬化樹脂等によって構成される場合とは異なり、第１基板及び第２の基板を貼り合わせた後に、光を照射して硬化する必要がない。

仮に、シール材が紫外線硬化樹脂によって構成される場合には、シール材に光を十分に照射できない部分が存在してしまうことを避けねばならなくなる。このため、シール材と重なる部分には遮光性を有する部材を設けることができない。或いは、シール材と重なる部分における遮光性を有する部材の形成密度が、極端に制限されてしまう。

しかるに本発明では、上述したように、第１基板及び第２の基板を貼り合わせた後に、シール材に光を照射して硬化する必要がない。よって、シール材と遮光性を有する部材とを互いに重なるように設けることが可能となる。これにより、装置構成のレイアウトの自由度が大幅に高められる。

具体的には、本発明に係るシール材は、周辺回路及び配線とそれぞれ少なくとも部分的に重なるように設けられている。また、第２の基板において、周辺回路及び前記シール材とそれぞれ少なくとも部分的に重なるように、遮光膜が設けられている。この遮光膜は、例えば表示部と周辺部との境界に沿って設けられる額縁遮光膜であり、周辺部を覆うように設けられている。尚、周辺回路は第１の基板において複数設けられる場合があるが、その場合、遮光膜は少なくとも１つの周辺回路と重なるように設けられればよい。

本発明では、上述したように、遮光膜をシール材と重なるように設けることができるため、遮光膜の幅を広げることができる。よって、表示部以外からの光が表示画像に影響を与えてしまうことを低減できる。即ち、周辺光再反射を防ぐことができる。また、シール材と重なる領域に配置せざるを得なかった配線等の形成密度を考慮しなくとも済むため、配置スペースを効率的に利用することができる。

更に本発明では、シール材に対して紫外線等の光を照射しなくともよいため、その際に光がシール材以外の部分に照射されることに起因する信頼性の低下を防止することができる。また、シール材を無機物等で構成すれば、シールの未硬化成分が他の部材に悪影響を及ぼすことで、信頼性が低下してしまうことも防止できる。

以上説明したように、本発明の電気光学装置によれば、高品質な画像を表示できると共に信頼性の高い電気光学装置を実現可能である。

本発明の電気光学装置の一態様では、前記遮光膜は、前記配線と少なくとも部分的に重なるように設けられており、前記第１の基板に前記配線と重なる他の遮光層は設けられていない。

この態様によれば、遮光膜が配線と少なくとも部分的に重なるように設けられているため、配線と重なる他の遮光層がなくとも、配線と重なる部分を遮光できる。即ち、本態様の遮光層では、他の遮光層によって遮光されるべき部分までも遮光することができる。

例えば、仮に遮光膜と配線とが互いに重なっていないとすると、装置に投射された光の中には配線間を透過する光が存在してしまう。このような光は、装置の動作や表示される画像等に悪影響を及ぼす。よって通常は、配線と重なる部分に他の遮光層を設けることが求められてしまう。

しかるに本態様では、上述したように、遮光層が配線と少なくとも部分的に重なるように設けられているため、他の遮光層を設ける必要がない。従って、装置構成を簡単化することが可能である。

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記第１の基板及び前記第２の基板には、互いに貼り合わせられる際の目印となるアライメントマークが夫々設けられており、前記遮光膜は、前記アライメントマークと重ならないように設けられている。

この態様によれば、第１の基板及び第２の基板の各々には、互いに貼り合わせられる際の目印となるアライメントマークが夫々設けられている。アライメントマークは、その性質上、目視できる（或いは、専用の機器等を用いて確認できる）位置に設けられることが好ましい。

本態様では、遮光膜がアライメントマークと重ならないように設けられているため、遮光膜によってアライメントマークが確認できなくなってしまうことを防止できる。従って、第１の基板及び第２の基板の貼り合わせを好適に行うことが可能である。

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記第１の基板及び前記第２基板間を電気的に導通する導通部を備え、前記遮光膜は、前記導通部と重ならないように設けられている。

この態様によれば、例えば基板の四隅等に、第１の基板及び第２基板間を電気的に導通する導通部が設けられている。導通部は、典型的には、紫外線硬化樹脂等を含む材料によって構成されており、第１の基板及び第２基板を互いに接続するように設けられた後に硬化させられる。

本態様では、遮光膜が導通部と重ならないように設けられているため、遮光膜によって導通部が遮光されてしまうことを回避できる。従って、導通部を確実に硬化させ、第１の基板及び第２基板間を電気的に導通させることが可能となる。

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記電気光学物質を注入するための開口部を封止する封止材を備え、前記遮光膜は、前記封止材と重ならないように設けられている。

この態様によれば、その製造時には、先ずシール材が開口部を有するように設けられる。続いて、第１の基板及び第２基板を互いに貼り合わせた後に、シール材における開口部から電気光学物質が注入される。これにより、シール材に囲われた領域に電気光学物質が充填される。開口部は、電気光学物質が注入された後に封止材によって封止される。封止材は、典型的には、手作業によって取り付けられる。

本態様では、遮光膜が封止材と重ならないように（言い換えれば、開口部と重ならないように）設けられているため、製造時において、遮光膜が妨げとなって封止材を取り付ける部分が確認できなくなってしまうことを防止できる。従って、シール材における開口部を確実に封止することが可能となる。

本発明の電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置（但し、その各種態様も含む）を備える。

本発明の電子機器によれば、上述した本発明に係る電気光学装置を具備してなるので、高品質な表示を行うことが可能であると共に信頼性の高い、投射型表示装置、テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサー、ビューファインダー型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダー、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。また、本発明の電子機器として、例えば電子ペーパーなどの電気泳動装置等も実現することも可能である。

本発明の作用及び他の利得は次に説明する発明を実施するための形態から明らかにされる。

第１実施形態に係る電気光学装置の全体構成を示す平面図である。 図１のＨ−Ｈ´線断面図である。 第１実施形態に係る電気光学装置の画像表示領域を構成する各種素子、配線等の等価回路図である。 第１実施形態に係る電気光学装置を構成する各部材の位置関係を簡略化して示す平面図である。 図４のＡ−Ａ´線断面を概略的に示す概略断面図である。 比較例に係る電気光学装置の製造方法を示す側面図である。 比較例に係る電気光学装置のＡ−Ａ´線断面を概略的に示す概略断面図である。 第１実施形態に係る電気光学装置の変形例のＡ−Ａ´線断面を概略的に示す概略断面図（その１）である。である。 第１実施形態に係る電気光学装置の変形例のＡ−Ａ´線断面を概略的に示す概略断面図（その２）である。 第１実施形態に係る電気光学装置の変形例のＡ−Ａ´線断面を概略的に示す概略断面図（その３）である。 比較例に係る電気光学装置に設けられる配線間遮光層を示す断面図である。 第１実施形態に係る電気光学装置における上下導通部周辺を部分的に拡大して示す拡大平面図である。 第２実施形態に係る電気光学装置を構成する各部材の位置関係を簡略化して示す平面図である。 第２実施形態に係る電気光学装置の製造方法を、順を追って示す工程平面図（その１）である。 第２実施形態に係る電気光学装置の製造方法を、順を追って示す工程平面図（その２）である。 電気光学装置を適用した電子機器の一例たるプロジェクターの構成を示す平面図である。

以下では、本発明の実施形態について図を参照しつつ説明する。

＜電気光学装置＞
先ず、本実施形態に係る電気光学装置について、図１から図１５を参照して説明する。尚、以下の実施形態では、本発明の電気光学装置の一例として駆動回路内蔵型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）アクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を挙げて説明する。

＜第１実施形態＞
第１実施形態に係る電気光学装置の全体構成について、図１及び図２を参照して説明する。ここに図１は、本実施形態に係る電気光学装置の全体構成を示す平面図であり、図２は、図１のＨ−Ｈ´線断面図である。

図１及び図２において、本実施形態に係る電気光学装置では、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とが対向配置されている。ＴＦＴアレイ基板１０は、本発明の「第１の基板」の一例であり、例えば石英基板、ガラス基板等の透明基板や、シリコン基板等である。対向基板２０は、本発明の「第２の基板」の一例であり、例えば石英基板、ガラス基板等の透明基板である。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間には、本発明の「電気光学物質」の一例である液晶層５０が封入されている。液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、一対の配向膜間で所定の配向状態をとる。

ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とは、複数の画素電極が設けられた画像表示領域１０ａの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材５２により、相互に接着されている。

シール材５２は、両基板を貼り合わせるための部材であり、表面活性接合技術によって、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０と互いに接合されている。表面活性接合技術は、例えば金属等の表面にエネルギーを与えることで活性化させることで、活性化させた面に結合力を持たせる技術である。活性化には、例えば原子ビームの照射等、様々な手法を用いることができる。

シール材５２中には、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隔（即ち、基板間ギャップ）を所定値とするためのグラスファイバー或いはガラスビーズ等のギャップ材が散布されている。尚、ギャップ材を、シール材５２に混入されるものに加えて若しくは代えて、画像表示領域１０ａ又は画像表示領域１０ａの周辺に位置する周辺領域に、配置するようにしてもよい。

図２において、シール材５２が配置されたシール領域と重なる領域には、画像表示領域１０ａの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。額縁遮光膜５３及びシール材の具体的な位置関係については、後に詳述する。尚、このような額縁遮光膜５３の一部又は全部は、ＴＦＴアレイ基板１０側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。

図１に戻り、周辺領域のうち、シール材５２が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けられている。走査線駆動回路１０４は、この一辺に隣接する２辺に沿うようにして設けられている。更に、このように画像表示領域１０ａの両側に設けられた二つの走査線駆動回路１０４間をつなぐため、ＴＦＴアレイ基板１０の残る一辺に沿うようにして複数の配線１０５が設けられている。尚、ここでのデータ線駆動回路１０１及び走査線駆動回路１０４は、本発明の「周辺回路」の一例である。

ＴＦＴアレイ基板１０上における対向基板２０の４つのコーナー部に対向する領域には、両基板間を上下導通材で接続するための上下導通端子１０６が配置されている。これにより、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通をとることができる。

図２において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、駆動素子である画素スイッチング用のＴＦＴや走査線、データ線等の配線が作り込まれた積層構造が形成される。この積層構造の詳細な構成については図２では図示を省略してあるが、この積層構造の上に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明材料からなる画素電極９ａが、画素毎に所定のパターンで島状に形成されている。

画素電極９ａは、対向電極２１に対向するように、ＴＦＴアレイ基板１０上の画像表示領域１０ａに形成されている。ＴＦＴアレイ基板１０における液晶層５０の面する側の表面、即ち画素電極９ａ上には、配向膜１６が画素電極９ａを覆うように形成されている。

対向基板２０におけるＴＦＴアレイ基板１０との対向面上には、遮光膜２３が形成されている。遮光膜２３は、例えば対向基板２０における対向面上に平面的に見て、格子状に形成されている。対向基板２０において、遮光膜２３によって非開口領域が規定され、遮光膜２３によって区切られた領域が、例えばプロジェクター用のランプや直視用のバックライトから出射された光を透過させる開口領域となる。尚、遮光膜２３をストライプ状に形成し、該遮光膜２３と、ＴＦＴアレイ基板１０側に設けられたデータ線等の各種構成要素とによって、非開口領域を規定するようにしてもよい。

遮光膜２３上には、ＩＴＯ等の透明材料からなる対向電極２１が複数の画素電極９ａと対向するように形成されている。また遮光膜２３上には、画像表示領域１０ａにおいてカラー表示を行うために、開口領域及び非開口領域の一部を含む領域に、図２には図示しないカラーフィルターが形成されるようにしてもよい。対向基板２０の対向面上における、対向電極２１上には、配向膜２２が形成されている。

尚、図１及び図２に示したＴＦＴアレイ基板１０上には、上述したデータ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４等の駆動回路に加えて、画像信号線上の画像信号をサンプリングしてデータ線に供給するサンプリング回路、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造途中や出荷時の当該電気光学装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形成してもよい。

次に、本実施形態に係る電気光学装置の画素部の電気的な構成について、図３を参照して説明する。ここに図３は、本実施形態に係る電気光学装置の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数の画素における各種素子、配線等の等価回路図である。

図３において、画像表示領域１０ａを構成するマトリクス状に形成された複数の画素の各々には、画素電極９ａ及びＴＦＴ３０が形成されている。ＴＦＴ３０は、画素電極９ａに電気的に接続されており、本実施形態に係る電気光学装置の動作時に画素電極９ａをスイッチング制御する。画像信号が供給されるデータ線６ａは、ＴＦＴ３０のソースに電気的に接続されている。データ線６ａに書き込む画像信号Ｓ１、Ｓ２、・・・、Ｓｎは、この順に線順次に供給しても構わないし、相隣接する複数のデータ線６ａ同士に対して、グループ毎に供給するようにしてもよい。

ＴＦＴ３０のゲートには、走査線３ａが電気的に接続されており、本実施形態に係る電気光学装置は、所定のタイミングで、走査線３ａにパルス的に走査信号Ｇ１、Ｇ２、・・・、Ｇｍを、この順に線順次で印加するように構成されている。画素電極９ａは、ＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるＴＦＴ３０を一定期間だけそのスイッチを閉じることにより、データ線６ａから供給される画像信号Ｓ１、Ｓ２、・・・、Ｓｎが所定のタイミングで書き込まれる。画素電極９ａを介して電気光学物質の一例としての液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｓ１、Ｓ２、・・・、Ｓｎは、対向基板に形成された対向電極との間で一定期間保持される。

液晶層５０（図２参照）を構成する液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能とする。例えば、ノーマリーホワイトモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が減少し、ノーマリーブラックモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が増加され、全体として電気光学装置からは画像信号に応じたコントラストをもつ光が出射される。

ここで保持された画像信号がリークすることを防ぐために、画素電極９ａと対向電極２１（図２参照）との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量７０が付加されている。蓄積容量７０は、画像信号の供給に応じて各画素電極９ａの電位を一時的に保持する保持容量として機能する容量素子である。蓄積容量７０の一方の電極は、画素電極９ａと並列してＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続され、他方の電極は、定電位となるように、電位固定の容量線３００に電気的に接続されている。蓄積容量７０によれば、画素電極９ａにおける電位保持特性が向上し、コントラスト向上やフリッカーの低減といった表示特性の向上が可能となる。

次に、本実施形態に係る電気光学装置のより具体的な構成について、図４及び図５を参照して説明する。ここに図４は、本実施形態に係る電気光学装置を構成する各部材の位置関係を簡略化して示す平面図であり、図５は、図４のＡ−Ａ´線断面を概略的に示す概略断面図である。尚、図４では、説明の便宜上、図１や図２等で示した電気光学装置を構成する詳細な部材を適宜省略して図示してある。また、図５においても、本実施形態と深く関係のない部材については、適宜省略して図示してある。

図４において、本実施形態に係る電気光学装置は、シール材５２が表面活性接合技術により、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０と接着されている。このため、図に示すように、シール材５２と額縁遮光膜５３とを互いに重なるように配置することができる。また、シール材５２とデータ線駆動回路１０１及び走査線駆動回路１０４とを互いに重なるように配置することができる。

図５において、Ａ−Ａ´線断面においては、シール材５２、額縁遮光膜５３及び走査線駆動回路１０４は、各々が互いに重なるような構成となっている。尚、配線１５０は、走査線駆動回路１０４の外側に配置されたコモン配線等の配線群を示しており、本発明の「配線」の一例である。配線１５０は、外部回路接続端子１０２と走査線駆動回路１０４とを互いに電気的に接続している。配線１５０は、例えばクロック信号やスタートパルス等の信号を走査線駆動回路に供給している。

ここで、本実施形態に係る電気光学装置によって得られる効果について、図４及び図５に加え、図６及び図７を参照して説明する。ここに図６は、比較例に係る電気光学装置の製造方法を示す側面図であり、図７は、比較例に係る電気光学装置のＡ−Ａ´線断面を概略的に示す概略断面図である。

図６において、例えばシール材が紫外線硬化樹脂によって構成される場合を考える。この場合、装置の製造時において、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を互いに貼り合わせた後には、ＵＶ（Ultra Violet）光マスク２００を用いたＵＶ光の照射が行われる。即ち、シール材５２を硬化させるためにＵＶ光が照射される。

図７において、ＵＶ光をシール材５２に照射するためには、シール材５２と額縁遮光膜５３とが互いに重ならないような構成が求められる。しかしながら、このような構成では、装置の動作時において、シール材５２と重なる部分を透過した光が、表示画像に影響を与えてしまうおそれがある。即ち、周辺光再反射が起こることによって画質が低下してしまうおそれがある。加えて、シール材５２と重なる部分を透過した光が、シール材５２以外の部分に照射されることに起因して、装置の信頼性が低下してしまうおそれがある。

これに対し、本実施形態に係る電気光学装置では、図４及び図５に示したように、シール材５２と、額縁遮光膜５３、データ線駆動回路１０１及び走査線駆動回路１０４とを互いに重なるように配置することができる。このため、周辺光再反射を確実に防止できる。従って、高品質な画像を表示することが可能となる。また、額縁遮光膜５３を設ける領域がシール材５２によって制限されないため、装置の各部位を効果的に遮光することが可能となる。従って、光に起因する信頼性低下を防止することが可能となる。

また、本実施形態に係るシール材５２は表面活性接合技術を用いて接合されるため、無機材料を用いることも可能である。この場合、未硬化成分が他の部材に悪影響を及ぼすことで、信頼性が低下してしまうことを防止できる。

続いて、本実施形態に係る電気光学装置の変形例について、図８から図１１を参照して説明する。ここに図８から図１０は夫々、本実施形態に係る電気光学装置の変形例のＡ−Ａ´線断面を概略的に示す概略断面図である。また図１１は、比較例に係る電気光学装置に設けられる配線間遮光層を示す断面図である。

図８に示すように、シール材５２と額縁遮光膜５３とは、部分的に重なるように設けられてもよい。このような場合であっても、シール材５２と額縁遮光膜５３とを互いに重ねて配置できることによる効果を相応に得ることができる。

図９に示すように、シール材５２は、配線１５０に重なる位置まで延在するように設けられてもよい。このような場合であっても、シール材５２にはＵＶ光を照射しなくともよいため、配線１５０の配置レイアウトが制限されてしまうことはない。

図１０に示すように、シール材５２が配線１５０に重なるように設けられる場合には、額縁遮光膜５３も同様に、配線１５０と重なるように設けられてもよい。この場合、額縁遮光膜５３によって、装置の各部材をより効果的に遮光することが可能となる。

図１１において、例えば図６及び図７で示した紫外線硬化樹脂を含んだシール材５２を用いる場合には、シール材５２に対するＵＶ光の照射を遮らないように、配線１５０間にある程度の間隔が設けられる。即ち、配線１５０の形成密度が制限される。

しかしながら、上述したような配線間の間隙は、シール材５２硬化時のＵＶ光に加えて、装置の動作時における投射光（即ち、画像を表示するための光）も透過させてしまう。このため、投射光が配線１５０間の間隙を通り抜けてしまわないように、配線間遮光膜４００を設ける等して、遮光機能を高めることが求められていた。

これに対し、図１０に示すような本実施形態に係る電気光学装置では、額縁遮光膜５３によって、配線１５０と重なる部分の遮光も行うことができる。よって、図１１に示す配線間遮光膜４００のような遮光膜を設ける必要がない。従って、装置構成を簡単化することが可能である。

次に、本実施形態に係る額縁遮光膜のより詳細な構成について、図１２を参照して説明する。ここに図１２は、本実施形態に係る電気光学装置における上下導通部周辺を部分的に拡大して示す拡大平面図である。

図１２において、本実施形態に係る電気光学装置の上下導通部１０６周辺では、額縁遮光膜５３が切り欠きを有するように設けられている。これにより、額縁遮光膜５３は、上下導通部１０６及びアライメントマーク５００とは重ならないように設けられている。尚、ここでの上下導通部１０６は、本発明の「導通部」の一例である。

上下導通部１０６は、典型的には、紫外線硬化樹脂等を含む材料によって構成されており、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を互いに接続するように設けられた後に、ＵＶ光を照射して硬化させられる。ここでは、額縁遮光膜５３が上下導通部１０６と重ならないように設けられることで、額縁遮光膜５３によって上下導通部１０６が遮光されてしまうことを回避している。従って、上下導通部１０６の硬化処理を確実に行うことができる。

他方、アライメントマーク５００は、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を互いに貼り合わせる際の目印として、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０上に夫々設けられている。アライメントマーク５００は、その性質上、目視できる位置に設けられることが好ましい。ここでは、額縁遮光膜５３がアライメントマーク５００と重ならないように設けられているため、額縁遮光膜５３に妨げられてアライメントマークが確認できなくなってしまうことを回避している。従って、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の貼り合わせを好適に行うことが可能である。

以上説明したように、本実施形態に係る電気光学装置によれば、シール材５２と重なる部分を遮光可能とすることで、簡易な構成で品質の高い装置を実現することができる。

＜第２実施形態＞
次に、第２実施形態に係る電気光学装置について、図１３から図１５を参照して説明する。尚、第２実施形態は、上述の第１実施形態と比べて、シール材や額縁遮光膜等の位置関係が異なり、その他の構成については概ね同様である。このため第２実施形態では、第１実施形態と異なる部分について詳細に説明し、その他の重複する部分については適宜説明を省略する。

先ず、第２実施形態に係る電気光学装置の構成について、図１３を参照して説明する。ここに図１３は、第２実施形態に係る電気光学装置を構成する各部材の位置関係を簡略化して示す平面図である。

図１３において、第２実施形態に係る電気光学装置は、図４で示す第１実施形態に係る電気光学装置と比較すると、対向基板２０がデータ線駆動回路１０１を覆っていない点で異なる。これにより、データ線駆動回路１０１は、額縁遮光膜５３に覆われないように配置されることになる。

また、シール材５２には、液晶を注入する際に用いる開口部が設けられており、開口部には、液晶が外部に漏れ出すことを防止する封止材６００が備えられている。封止材６００は、データ線駆動回路１０１に沿った辺の一部として設けられていると共に、額縁遮光膜５３とは完全に重ならないように設けられている。

ここで、第２実施形態に係る電気光学装置によって得られる効果について、図１４及び図１５を参照して説明する。ここに図１４及び図１５は、第２実施形態に係る電気光学装置の製造方法を、順を追って示す工程平面図である。

図１４において、第２実施形態に係る電気光学装置の製造時には、先ずシール材５２が開口部５２ａを有するように描画される。続いて、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を互いに貼り合わせた後に、シール材５２における開口部５２ａから液晶が注入される。これにより、シール材５２に囲われた領域に液晶が充填される。

図１５において、シール材の開口部５２ａは、液晶が注入された後に封止材６００によって封止される。封止材６００は、典型的には、手作業によって取り付けられる。

ここで特に、第２実施形態に係る電気光学装置では、図１３に示したように、額縁遮光膜５３が封止材６００と完全重ならないように設けられている。このため、製造時において、額縁遮光膜５３が妨げとなって、封止材６００を取り付ける部分が確認できなくなってしまうことを防止できる。従って、シール材５２における開口部５２ａを確実に封止することが可能となる。

以上説明したように、第２実施形態に係る電気光学装置によれば、シール材５２において、開口部５２ａがデータ線駆動回路１０１側に設けられる場合であっても、封止作業を好適に行うことが可能である。

＜電子機器＞
次に、上述した電気光学装置である液晶装置を各種の電子機器に適用する場合について説明する。ここに図１６は、プロジェクターの構成例を示す平面図である。以下では、この液晶装置をライトバルブとして用いたプロジェクターについて説明する。

図１６に示されるように、プロジェクター１１００内部には、ハロゲンランプ等の白色光源からなるランプユニット１１０２が設けられている。このランプユニット１１０２から射出された投射光は、ライトガイド１１０４内に配置された４枚のミラー１１０６及び２枚のダイクロイックミラー１１０８によってＲＧＢの３原色に分離され、各原色に対応するライトバルブとしての液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇに入射される。

液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇの構成は、上述した液晶装置と同等であり、画像信号処理回路から供給されるＲ、Ｇ、Ｂの原色信号でそれぞれ駆動されるものである。そして、これらの液晶パネルによって変調された光は、ダイクロイックプリズム１１１２に３方向から入射される。このダイクロイックプリズム１１１２においては、Ｒ及びＢの光が９０度に屈折する一方、Ｇの光が直進する。従って、各色の画像が合成される結果、投射レンズ１１１４を介して、スクリーン等にカラー画像が投写されることとなる。

ここで、各液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇによる表示像について着目すると、液晶パネル１１１０Ｇによる表示像は、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂによる表示像に対して左右反転することが必要となる。

尚、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇには、ダイクロイックミラー１１０８によって、Ｒ、Ｇ、Ｂの各原色に対応する光が入射するので、カラーフィルターを設ける必要はない。

尚、図１６を参照して説明した電子機器の他にも、モバイル型のパーソナルコンピュータや、携帯電話、液晶テレビや、ビューファインダー型、モニタ直視型のビデオテープレコーダー、カーナビゲーション装置、ページャー、電子手帳、電卓、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等が挙げられる。そして、これらの各種電子機器に適用可能なのは言うまでもない。

また、本発明は上述の各実施形態で説明した液晶装置以外にも反射型液晶装置（ＬＣＯＳ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ、ＳＥＤ）、有機ＥＬディスプレイ、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）、電気泳動装置等にも適用可能である。

本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、特許請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気光学装置、及び該電気光学装置を備えた電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。

３ａ…走査線、６ａ…データ線、９ａ…画素電極、１０…ＴＦＴアレイ基板、１０ａ…画像表示領域、２０…対向基板、３０…ＴＦＴ、５０…液晶層、５２…シール材、５２ａ…開口部、５３…額縁遮光膜、１０１…データ線駆動回路、１０２…外部回路接続端子、１０４…走査線駆動回路、１０６…上下導通部、１５０…配線、２００…ＵＶ光遮光マスク、４００…配線間遮光膜、５００…アライメントマーク、６００…封止材

Claims (6)

1. 第１の基板及び第２の基板間に電気光学物質を挟持してなる電気光学装置であって、
   前記第１の基板において、表示部の周辺に設けられた周辺回路と、
   前記第１の基板に前記周辺回路より外側に設けられており、前記周辺回路と電気的に接続された配線と、
   前記周辺回路及び前記配線とそれぞれ少なくとも部分的に重なるように設けられており、前記第１の基板及び前記第２の基板を互いに接着するシール材と、
   前記第２の基板に前記周辺回路及び前記シール材とそれぞれ少なくとも部分的に重なるように設けられた遮光膜と
   を備えることを特徴とする電気光学装置。
2. 前記遮光膜は、前記配線と少なくとも部分的に重なるように設けられており、
   前記第１の基板に前記配線と重なる他の遮光層は設けられていない
   ことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
3. 前記第１の基板及び前記第２の基板には、互いに貼り合わせられる際の目印となるアライメントマークが夫々設けられており、
   前記遮光膜は、前記アライメントマークと重ならないように設けられている
   ことを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
4. 前記第１の基板及び前記第２基板間を電気的に導通する導通部を備え、
   前記遮光膜は、前記導通部と重ならないように設けられている
   ことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
5. 前記電気光学物質を注入するための開口部を封止する封止材を備え、
   前記遮光膜は、前記封止材と重ならないように設けられている
   ことを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
6. 請求項１から５のいずれか一項に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。

Images