JP2009507846A - Ppar活性化合物 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は,米国特許仮出願60/715,214(2005年9月7日出願)および米国特許仮出願60/789,387(2006年4月5日出願)に基づく優先権を主張し,これらの出願はその全体がすべての目的のために参照として本明細書に取り込まれる。
本発明は,ペルオキシソーム増殖剤活性化レセプターとして識別される核レセプターのファミリーのメンバーに対する調節剤の分野に関する。
本発明は,PPARα,PPARδ,およびPPARγの少なくとも1つの調節を含む治療方法および/または予防方法等の種々の用途において有用な,PPARに対して活性な化合物に関する。本発明に含まれるものは,PPARファミリー(すなわち,PPARα,PPARδ,およびPPARγ)にわたる総活性(pan−actvity)を有する化合物,ならびに単一のPPAR,または3つのPPARのうちの2つに対して有意な特異性(少なくとも5倍,10倍,20倍,50倍,または100倍高い活性)を有する化合物である。
Xは,−C(O)OR16,−C(O)NR17R18,およびカルボン酸イソスターからなる群より選択され;
Wは,共有結合,−NR51(CR4R5)1−2−,−O−(CR4R5)1−2−,−S−(CR4R5)1−2−,−(CR4R5)1−3−,および−CR6=CR7−からなる群より選択され;
R1およびR2は,独立して,水素,ハロゲン,低級アルキル,低級アルケニル,低級アルキニル,−SR9,および−OR9からなる群より選択され,ここで,低級アルキル,低級アルケニルおよび低級アルキニルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルケニル,フルオロ置換低級アルケニル,低級アルキニル,フルオロ置換低級アルキニル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R3は,−[(CR4R5)m−(Y)p]r−R10および−[(CR4R5)m−(Y)p]r−Ar1−M−Ar2からなる群より選択され;
Lは,−O−,−S−,−NR52−,−C(Z)−,−S(O)n−,−C(Z)NR52−,−NR52C(Z)−,−NR52S(O)2−,−S(O)2NR52−,−NR52C(Z)NR52−,および−NR52S(O)2NR52−からなる群より選択され;
Yは,−O−,−S−,−NR53−,−C(Z)−,−S(O)n−,−C(Z)NR54−,−NR54C(Z)−,−NR54S(O)2−,−S(O)2NR54−,−NR54C(Z)NR54−,および−NR54S(O)2NR54−からなる群より選択され;
Ar1は,任意に置換されていてもよいアリーレンおよび任意に置換されていてもよいヘテロアリーレンからなる群より選択され;
Mは,共有結合,−CR19R20−,−O−,−S−,−NR53−,−C(Z)−,および−S(O)n−からなる群より選択され;
Ar2は,任意に置換されていてもよいアリールおよび任意に置換されていてもよいヘテロアリールからなる群より選択され;
R4およびR5は,それぞれの場合に独立して,水素,フルオロおよび低級アルキルからなる群より選択され,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;または
R4またはR5の1つは,フェニル,5−7員の単環のヘテロアリール,3−7員の単環のシクロアルキル,および5−7員の単環のヘテロシクロアルキルからなる群より選択され,R4およびR5の他のものは,独立して,水素,フルオロおよび低級アルキルからなる群より選択され,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,およびフェニル,単環のヘテロアリール,単環のシクロアルキルおよび単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;または
同じまたは異なる炭素上のR4およびR5の任意の2つは,一緒になって,3−7員の単環のシクロアルキルまたは5−7員の単環のヘテロシクロアルキルを形成し,およびR4およびR5の他のものは,独立して,水素,フルオロおよび低級アルキルからなる群より選択され,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,および単環のシクロアルキルまたは単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R6およびR7は,独立して,水素または低級アルキルであり,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;または
R6およびR7の1つは,フェニル,5−7員の単環のヘテロアリール,3−7員の単環のシクロアルキル,および5−7員の単環のヘテロシクロアルキルからなる群より選択され,R6およびR7の他のものは,水素または低級アルキルであり,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,およびフェニル,単環のヘテロアリール,単環のシクロアルキルおよび単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;または
R6およびR7は,一緒になって,5−7員の単環のシクロアルキルまたは5−7員の単環のヘテロシクロアルキルを形成し,ここで,単環のシクロアルキルまたは単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R9は,それぞれの場合に独立して,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,R9がC3−6アルケニルであるとき,そのアルケン炭素は,−OR9のOまたは−SR9のSには結合していない),C3−6アルキニル(ただし,R9がC3−6アルキニルであるとき,そのアルキン炭素は,−OR9のOまたは−SR9のSには結合していない),シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルケニル,フルオロ置換低級アルケニル,低級アルキニル,フルオロ置換低級アルキニル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,および低級アルキル,C3−6アルケニルおよびC3−6アルキニルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,−OR9のOまたは−SR9のSに結合しているアルキル,C3−6アルケニルまたはC3−6アルキニル炭素上の任意の置換基は,フルオロ,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,アルキル,C3−6アルケニルおよびC3−6アルキニルのシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリール置換基は,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルケニル,フルオロ置換低級アルケニル,低級アルキニル,フルオロ置換低級アルキニル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R10は,任意に置換されていてもよいシクロアルキル,任意に置換されていてもよいヘテロシクロアルキル,任意に置換されていてもよいアリール,および任意に置換されていてもよいヘテロアリールからなる群より選択され;
R51およびR52は,それぞれの場合に独立して,水素,低級アルキル,フェニル,5−7員の単環のヘテロアリール,3−7員の単環のシクロアルキル,および5−7員の単環のヘテロシクロアルキルからなる群より選択され,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,−NR51−または−NR52−のNに結合しているアルキル炭素上の任意の置換基はフルオロであり,およびフェニル,単環のヘテロアリール,単環のシクロアルキルおよび単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R53は,それぞれの場合に独立して,水素,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,R53がC3−6アルケニルであるとき,そのアルケン炭素は,−NR53−のNには結合していない),C3−6アルキニル(ただし,R53がC3−6アルキニルであるとき,そのアルキン炭素は,−NR53−のNには結合していない),シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,ヘテロアリール,−C(Z)NR11R12,−S(O)2NR11R12,−S(O)2R13,−C(Z)R13,および−C(Z)OR15からなる群より選択され,ここで,低級アルキル,C3−6アルケニル,およびC3−6アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,−NR22R23,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,−NR53−のNに結合しているアルキル,C3−6アルケニルまたはC3−6アルキニル炭素上の任意の置換基は,フルオロ,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR21,−SR21,−S(O)R21,−S(O)2R21,−C(Z)R21,−C(Z)OR21,−NR22R23,−C(Z)NR22R23,−S(O)2NR22R23,−C(NH)NR22R23,−NR21C(Z)R21,−NR21S(O)2R21,−NR21C(Z)NR22R23,−NR21S(O)2NR22R23,低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールの任意の低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニル置換基は,さらに任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,および−NR22R23からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R54は,それぞれの場合に独立して,水素,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,R54がC3−6アルケニルであるとき,そのアルケン炭素は,−NR54−のNには結合していない),C3−6アルキニル(ただし,R54がC3−6アルキニルであるとき,そのアルキン炭素は,−NR54−のNには結合していない),シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,低級アルキル,C3−6アルケニル,およびC3−6アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,−NR22R23,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,−NR54−のNに結合しているアルキル,C3−6アルケニルまたはC3−6アルキニル炭素上の任意の置換基は,フルオロ,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR21,−SR21,−S(O)R21,−S(O)2R21,−C(Z)R21,−C(Z)OR21,−NR22R23,−C(Z)NR22R23,−S(O)2NR22R23,−C(NH)NR22R23,−NR21C(Z)R21,−NR21S(O)2R21,−NR21C(Z)NR22R23,−NR21S(O)2NR22R23,低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールの任意の低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニル置換基は,さらに任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,および−NR22R23からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R11およびR12は,それぞれの場合に独立して,水素,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,R11および/またはR12がC3−6アルケニルであるとき,そのアルケン炭素は,−C(Z)NR11R12または−S(O)2NR11R12のNには結合していない),C3−6アルキニル(ただし,R11および/またはR12がC3−6アルキニルであるとき,そのアルキン炭素は,−C(Z)NR11R12または−S(O)2NR11R12のNには結合していない),シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,低級アルキル,C3−6アルケニル,およびC3−6アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,−NR22R23,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,−C(Z)NR11R12または−S(O)2NR11R12のNに結合しているアルキル,C3−6アルケニルまたはC3−6アルキニル炭素上の任意の置換基は,フルオロ,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR21,−SR21,−S(O)R21,−S(O)2R21,−C(Z)R21,−C(Z)OR21,−NR22R23,−C(Z)NR22R23,−S(O)2NR22R23,−C(NH)NR22R23,−NR21C(Z)R21,−NR21S(O)2R21,−NR21C(Z)NR22R23,−NR21S(O)2NR22R23,低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールの任意の低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニル置換基は,さらに任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,および−NR22R23からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;または
R11およびR12は,これらが結合している窒素と一緒になって,5−7員の単環のヘテロシクロアルキルまたは5または7員の単環の窒素含有ヘテロアリールを形成し,ここで,単環のヘテロシクロアルキルまたは単環の窒素含有ヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,−NO2,−CN,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,モノ−アルキルアミノ,ジ−アルキルアミノ,およびシクロアルキルアミノからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R13は,それぞれの場合に独立して,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,R13がC3−6アルケニルであるとき,そのアルケン炭素は,−C(Z)R13のC(Z)または−S(O)2R13のS(O)2には結合していない),C3−6アルキニル(ただし,R13がC3−6アルキニルであるとき,そのアルキン炭素は,−C(Z)R13のC(Z)または−S(O)2R13のS(O)2には結合していない),シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,低級アルキル,C3−6アルケニル,およびC3−6アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,−NR22R23,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR21,−SR21,−S(O)R21,−S(O)2R21,−C(Z)R21,−C(Z)OR21,−NR22R23,−C(Z)NR22R23,−S(O)2NR22R23,−C(NH)NR22R23,−NR21C(Z)R21,−NR21S(O)2R21,−NR21C(Z)NR22R23,−NR21S(O)2NR22R23,低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールの任意の低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニル置換基は,さらに任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,および−NR22R23からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R15は,それぞれの場合に独立して,水素,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,R15がC3−6アルケニルであるとき,そのアルケン炭素は,OR15のOには結合していない),C3−6アルキニル(ただし,R15がC3−6アルキニルであるとき,そのアルキン炭素は,OR15のOには結合していない),シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,低級アルキル,C3−6アルケニル,およびC3−6アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,−NR22R23,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,OR15のOに結合しているアルキル,C3−6アルケニルまたはC3−6アルキニル炭素上の任意の置換基は,フルオロ,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR21,−SR21,−S(O)R21,−S(O)2R21,−C(Z)R21,−C(Z)OR21,−NR22R23,−C(Z)NR22R23,−S(O)2NR22R23,−C(NH)NR22R23,−NR21C(Z)R21,−NR21S(O)2R21,−NR21C(Z)NR22R23,−NR21S(O)2NR22R23,低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールの任意の低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニル置換基は,さらに任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,および−NR22R23からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R16は,水素,低級アルキル,フェニル,5−7員の単環のヘテロアリール,3−7員の単環のシクロアルキル,および5−7員の単環のヘテロシクロアルキルからなる群より選択され,ここで,フェニル,単環のヘテロアリール,単環のシクロアルキルおよび単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,および低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオおよびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,R16が低級アルキルであるとき,OR16のOに結合しているアルキル炭素上の任意の置換基はフルオロであり;
R17およびR18は,独立して,水素,低級アルキル,フェニル,5−7員の単環のヘテロアリール,3−7員の単環のシクロアルキル,および5−7員の単環のヘテロシクロアルキルからなる群より選択され,ここで,フェニル,単環のヘテロアリール,単環のシクロアルキルおよび単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,および低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオおよびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,R17および/またはR18が低級アルキルであるとき,NR17R18のNに結合しているアルキル炭素上の任意の置換基はフルオロであり;または
R17およびR18は,これらが結合している窒素と一緒になって,5−7員の単環のヘテロシクロアルキルまたは5または7員の窒素含有単環ヘテロアリールを形成し,ここで,単環のヘテロシクロアルキルまたは単環の窒素含有ヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R19およびR20は,独立して,水素,低級アルキル,低級アルケニル,低級アルキニル,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,−NR22R23,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR21,−SR21,−S(O)R21,−S(O)2R21,−C(Z)R21,−C(Z)OR21,−NR22R23,−C(Z)NR22R23,−S(O)2NR22R23,−C(NH)NR22R23,−NR21C(Z)R21,−NR21S(O)2R21,−NR21C(Z)NR22R23,−NR21S(O)2NR22R23,低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールの任意の低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニル置換基は,さらに任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,および−NR22R23からなる群より選択される置換基で置換されていてもよく;または
R19およびR20は,一緒になって,3−7員の単環のシクロアルキルまたは5−7員の単環のヘテロシクロアルキルを形成し,ここで,単環のシクロアルキルまたは単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R21,R22,およびR23は,それぞれの場合に独立して,水素,または任意にフルオロ,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,モノ−アルキルアミノ,ジ−アルキルアミノ,およびシクロアルキルアミノからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい低級アルキルであり,ただし,OR21,SR21,NR21,NR22またはNR23のいずれかのO,S,またはNに結合している低級アルキル炭素上の任意の置換基はフルオロであり,および,S,S(O),S(O)2またはC(Z)に結合しているR21は水素ではなく;または
R22およびR23は,これらが結合している窒素と一緒になって,5−7員の単環のヘテロシクロアルキルまたは5または7員の単環の窒素含有ヘテロアリールを形成し,ここで,単環のヘテロシクロアルキルまたは単環の窒素含有ヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,−NO2,−CN,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,モノ−アルキルアミノ,ジ−アルキルアミノ,およびシクロアルキルアミノからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
ZはOまたはSであり;
mは1,2,3,または4であり;
nは1または2であり;
pは0または1であり,ただし,pが1であり,mが1であり,およびLが,−O−,−S−,−NR52−,−C(Z)NR52−,−S(O)2NR52−,−NR52C(Z)NR52−,またはNR52S(O)2NR52−であるとき,Yは,−O−,−S−,−NR53−,−NR54C(Z)−,−NR54S(O)2−,−NR54C(Z)NR54−,またはNR54S(O)2NR54−ではなく;および
rは0または1である]
の化合物,そのすべての塩,プロドラッグ,互変異性体,および異性体を提供する。
を有する化合物も除かれる。また,Lが−O−であり,およびR3が以下の構造:
を有する化合物も除かれる。また,以下の化合物:
[式中,
[式中,
W,X,R1,R2,R4,R5,Y,M,およびpは,式Iにおいて定義されるとおりであり;
Ar1aは,アリーレンおよびヘテロアリーレンからなる群より選択され;
Ar2aは,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択され;
R24は,それぞれの場合に独立して,ハロゲン,低級アルキル,低級アルケニル,低級アルキニル,−NO2,−CN,−OR26,−SR26,−OC(O)R26,−OC(S)R26,−C(O)R26,−C(S)R26,−C(O)OR26,−C(S)OR26,−S(O)R26,−S(O)2R26,−C(O)NR27R28,−C(S)NR27R28,−S(O)2NR27R28,−C(NH)NR27R28,−NR26C(O)R26,−NR26C(S)R26,−NR26S(O)2R26,NR26C(O)NR27R28,NR26C(S)NR27R28,−NR26S(O)2NR27R28,および−NR27R28からなる群より選択され,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,および−NR37R38からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,および低級アルケニルおよび低級アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,−NR37R38,および−R35からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R25は,それぞれの場合に独立して,ハロゲン,低級アルキル,低級アルケニル,低級アルキニル,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,ヘテロアリール,−NO2,−CN,−OR29,−SR29,−OC(O)R29,−OC(S)R29,−C(O)R29,−C(S)R29,−C(O)OR29,−C(S)OR29,−S(O)R29,−S(O)2R29,−C(O)NR29R29,−C(S)NR29R29,−S(O)2NR29R29,−C(NH)NR30R31,−NR29C(O)R29,−NR29C(S)R29,−NR29S(O)2R29,−NR29C(O)NR29R29,−NR29C(S)NR29R29,−NR29S(O)2NR29R29,および−NR29R29からなる群より選択され,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,−NR37R38,および−R32からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,および低級アルケニルおよび低級アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,−NR37R38,−R35および−R32からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR36,−SR36,−NR37R38,−R35,−R33,および−R34からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R26,R27およびR28は,それぞれの場合に独立して,水素,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,そのアルケン炭素は,R24のO,S,N,C(O),C(S),S(O)またはS(O)2のいずれにも結合していない),およびC3−6アルキニル(ただし,そのアルキン炭素は,R24のO,S,N,C(O),C(S),S(O)またはS(O)2のいずれにも結合していない)からなる群より選択され,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,および−NR37R38からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,および低級アルケニルおよび低級アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,−NR37R38,および−R35からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,S,C(O),C(S),S(O),またはS(O)2に結合しているR26は水素ではなく,またはR27およびR28は,これらが結合している窒素と一緒になって,シクロアルキルアミノを形成し;
R29,R30およびR31は,それぞれの場合に独立して,水素,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,そのアルケン炭素は,R25のO,S,N,C(O),C(S),S(O)またはS(O)2のいずれにも結合していない),C3−6アルキニル(ただし,そのアルキン炭素は,R25のO,S,N,C(O),C(S),S(O)またはS(O)2のいずれにも結合していない),シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択され,または
R30およびR31は,これらが結合している窒素と一緒になって,5−7員のヘテロシクロアルキルまたは5または7員の窒素含有ヘテロアリールを形成し,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,−NR37R38,および−R32からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,および低級アルケニルおよび低級アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,−NR37R38,−R35および−R32からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,ヘテロアリール,5−7員のヘテロシクロアルキル,および5または7員の窒素含有ヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OH,−NH2,−OR36,−SR36,−NHR36,−NR37R38,−R33,−R34,および−R35からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,さらに,S,C(O),C(S),S(O),またはS(O)2に結合しているR29は水素ではなく;
R32は,それぞれの場合に独立して,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR36,−SR36,−NR37R38,−R33,−R34,および−R35からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R33は,それぞれの場合に独立して,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,−NR37R38,および−R35からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい低級アルケニルであり;
R34は,それぞれの場合に独立して,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,−NR37R38,および−R35からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい低級アルキニルであり;
R35は,それぞれの場合に独立して,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,および−NR37R38からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい低級アルキルであり;
R36,R37およびR38は,それぞれの場合に独立して,水素,または任意にフルオロ,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,モノ−アルキルアミノ,ジ−アルキルアミノ,およびシクロアルキルアミノからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい低級アルキルであり,または−NR37R38はシクロアルキルアミノであり,ただし,OR36,SR36,NR36,NR37またはNR38のいずれかのO,S,またはNに結合している低級アルキル炭素上の任意の置換基ははフルオロであり,およびSに結合しているR36は水素ではなく;
uは0,1,2,3または4であり;
vは0,1,2,3,4,または5であり;
sは0,1,2,3または4であり,ただし,s=0であるとき,p=0であり,sが1,2,3,または4であり,p=0であるとき,Ar1aはピラゾリル,イミダゾリル,イソオキサゾリル,オキサゾリル,チアゾリル,またはイソチアゾリルではなく,sが0であり,pが0であり,およびAr2aがフェニルであるとき,
を有する。
[式中,
W,X,R1,R2,R4,R5,Y,M,およびpは,式Iにおいて定義されるとおりであり;
Ar1a,Ar2a,R24,R25,uおよびvは,式Iaにおいて定義されるとおりであり;および
tは0,1,2,3または4であり,ただし,t=0であるとき,p=0ではない]
を有する。
[式中,
X,W,M,R1,およびR2は,式Iにおいて定義されるとおりであり;および
Ar1a,Ar2a,R24,R25,uおよびvは,式IaおよびIbにおいて定義されるとおりである]
を有する。
[式中,
X,W,M,R1,およびR2は,式Iにおいて定義されるとおりであり;および
Ar1a,Ar2a,R24,R25,uおよびvは,式IaおよびIbにおいて定義されるとおりであり,ただし,Ar2aがフェニルであるとき,
を有する。
[式中,
X,W,M,R1,およびR2は,式Iにおいて定義されるとおりであり;および
R25は,式IaおよびIbにおいて定義されるとおりである]
を有する。
[式中,
X,W,M,R1,およびR2は式Iにおいて定義されるとおりであり;および
R25は式IaおよびIbにおいて定義されるとおりである]
を有する。
[式中,
X,W,M,R1,およびR2は,式Iにおいて定義されるとおりであり;および
R25は,式IaおよびIbにおいて定義されるとおりである]
を有する。
[式中,
X,W,M,R1,およびR2は,式Iにおいて定義されるとおりであり;および
R25は,式IaおよびIbにおいて定義されるとおりである]
を有する。
[式中,
X,W,M,R1,およびR2は,式Iにおいて定義されるとおりであり;および
R25は,式IaおよびIbにおいて定義されるとおりである]
を有する。
[式中,
X,W,M,R1,およびR2は,式Iにおいて定義されるとおりであり;および
R25は,式IaおよびIbにおいて定義されるとおりである]
を有する。
[式中,
X,W,M,R1,およびR2は,式Iにおいて定義されるとおりであり;および
R25は,式IaおよびIbにおいて定義されるとおりである]
を有する。
[式中,
X,W,M,R1,およびR2は,式Iにおいて定義されるとおりであり;および
R25は,式IaおよびIbにおいて定義されるとおりである]
を有する。
上述の概要に示されるように,本発明は,ペルオキシソーム増殖因子活性化レセプター(PPAR)に関し,これは,ヒトおよび他の哺乳動物で同定されている。1またはそれ以上のPPARに対して活性な,式Iに対応する一群の化合物,特に1またはそれ以上のヒトPPARに対して活性な化合物が同定された。これらの化合物は,PPARに対するアゴニスト,例えば,PPARα,PPARδ,およびPPARγの少なくとも1つのアゴニスト,ならびに二重PPARアゴニストおよび総アゴニスト(pan−agonist),例えば,PPARαおよびPPARγの両方のアゴニスト,PPARαおよびPPARδの両方のアゴニスト,PPARγおよびPPARδの両方のアゴニスト,またはPPARα,PPARγおよびPPARδのアゴニストとして用いることができる。
−Rg,−Rh,および−Riは,それぞれの場合に独立して,−Rn,−Ro,および−Rpからなる群より選択され,または
−Rhおよび−Riは,これらが結合している窒素と一緒になって,5−7員のヘテロシクロアルキルまたは5または7員の窒素含有ヘテロアリールを形成し,ここで,5−7員のヘテロシクロアルキルまたは5または7員の窒素含有ヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,シクロアルキルアミノ,−NO2,−CN,−OH,−NH2,−ORt,−SRt,−NHRt,−NRtRt,−Rq,および−Ruからなる群より選択される1またはそれ以上の,好ましくは1,2,3,4または5個の,あるいは1,2,または3個の置換基で置換されていてもよく;
各−Rjは,独立して,任意に,フルオロ,シクロアルキルアミノ,−OH,−NH2,−ORt,−ORu,−SRt,−SRu,−NHRt,−NHRu,−NRtRu,−NRtRt,−NRuRu,および−Rmからなる群より選択される1またはそれ以上の,好ましくは1,2,3,4または5個の,あるいは1,2または3個の置換基で置換されていてもよい低級アルキルであり;
各−Rkは,独立して,低級アルケニルおよび低級アルキニルからなる群より選択され,ここで,低級アルケニルまたは低級アルキニルは,任意に,フルオロ,シクロアルキルアミノ,−OH,−NH2,−ORt,−ORu,−SRt,−SRu,−NHRt,−NHRu,−NRtRu,−NRtRt,−NRuRu,−Rj,および−Rmからなる群より選択される1またはそれ以上の,好ましくは1,2,3,4または5個の,あるいは1,2または3個の置換基で置換されていてもよく;
各−Rmは,独立して,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,シクロアルキルアミノ,−NO2,−CN,−OH,−NH2,−ORt,−ORu,−SRt,−SRu,−NHRt,−NHRu,−NRtRu,−NRtRt,−NRuRu,−Rq,および−Ruからなる群より選択される1またはそれ以上の,好ましくは1,2,3,4または5個の,あるいは1,2または3個の置換基で置換されていてもよく;
各−Rnは,独立して,任意に,フルオロ,シクロアルキルアミノ,−OH,−NH2,−ORt,−ORu,−SRt,−SRu,−NHRt,−NHRu,−NRtRu,−NRtRt,−NRuRu,および−Rmからなる群より選択される1またはそれ以上の,好ましくは1,2,3,4または5個の,あるいは1,2,または3個の置換基で置換されていてもよい低級アルキルであり,ただし,任意のORg,SRg,またはNRgのいずれかのO,S,またはNに結合しているアルキル炭素上の任意の置換基は,フルオロおよび−Rmからなる群より選択され;
各−Roは,独立して,C3−6アルケニルおよびC3−6アルキニルからなる群より選択され,ここで,C3−6アルケニルまたはC3−6アルキニルは,任意に,フルオロ,シクロアルキルアミノ,−OH,−NH2,−ORt,−ORu,−SRt,−SRu,−NHRt,−NHRu,−NRtRu,−NRtRt,−NRuRu,−Rjおよび−Rmからなる群より選択される1またはそれ以上の,好ましくは1,2,3,4または5個の,あるいは1,2,または3個の置換基で置換されていてもよく,ただし,任意の−ORg,−SRg,またはNRgのいずれかのO,S,またはNに結合しているアルケニルまたはアルキニル炭素上の任意の置換基は,フルオロ,−Rjおよび−Rmからなる群より選択され;
各Rpは,独立して,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,シクロアルキルアミノ,−NO2,−CN,−OH,−NH2,−ORt,−ORu,−SRt,−SRu,−NHRt,−NHRu,−NRtRu,−NRtRt,−NRuRu,−Rq,および−Ruからなる群より選択される1またはそれ以上の,好ましくは1,2,3,4または5個の,あるいは1,2,または3個の置換基で置換されていてもよく;
各−Rqは,独立して,低級アルキル,低級アルケニルおよび低級アルキニルからなる群より選択され,ここで,低級アルキルは,任意に,−Ru,フルオロ,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,モノ−アルキルアミノ,ジ−アルキルアミノ,およびシクロアルキルアミノからなる群より選択される1またはそれ以上の,好ましくは1,2,3,4または5個の,あるいは1,2,または3個の置換基で置換されていてもよく,低級アルケニルまたは低級アルキニルは,任意に,−Ru,フルオロ,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,モノ−アルキルアミノ,ジ−アルキルアミノ,およびシクロアルキルアミノからなる群より選択される1またはそれ以上の,好ましくは1,2,3,4または5個の,あるいは1,2,または3個の置換基で置換されていてもよく;
各−Rtは,独立して,低級アルキル,C3−6アルケニルおよびC3−6アルキニルからなる群より選択され,ここで,低級アルキルは,任意に,−Ru,フルオロ,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,モノ−アルキルアミノ,ジ−アルキルアミノ,およびシクロアルキルアミノからなる群より選択される1またはそれ以上の,好ましくは1,2,3,4または5個の,あるいは1,2,または3個の置換基で置換されていてもよく,ただし,−ORtのO,−SRtのS,または−NHRt,−NRtRt,または−NRtRuのNに結合している低級アルキル炭素上の任意の置換基は,フルオロまたは−Ruであり,C3−6アルケニルまたはC3−6アルキニルは,任意に,−Ru,フルオロ,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,モノ−アルキルアミノ,ジ−アルキルアミノ,およびシクロアルキルアミノからなる群より選択される1またはそれ以上の,好ましくは1,2,3,4または5個の,あるいは1,2,または3個の置換基で置換されていてもよく,ただし,−ORtのO,−SRtのS,または−NHRt,−NRtRt,または−NRtRuのNに結合しているC3−6アルケニルまたはC3−6アルキニル炭素上の任意の置換基は,フルオロ,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,または−Ruであり;
ここで,各−Ruは,独立して,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,−NO2,−CN,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,モノ−アルキルアミノ,ジ−アルキルアミノ,およびシクロアルキルアミノからなる群より選択される1またはそれ以上の,好ましくは1,2,3,4または5個の,あるいは1,2,または3個の置換基で置換されていてもよい。
σ2={(1−2) 2 +(2−2) 2 +(3−2) 2 }/3=0.667
PPARは,多数の異なる疾病および状態の適当な標的であると認識されてきた。その応用のいくつかを以下に説明する。追加の応用は知られており,本発明の化合物はこれらの疾病および状態についても用いることができる。
概要において示されるように,適用可能な疾病および状態に関して,多くの様々なPPARアゴニストが同定されている。さらに,本発明は,上述の概要において示されるように,式I,Ia,Ib,IcまたはIdにより表されるPPARアゴニスト化合物を提供する。
多数の様々なアッセイを用いて,PPAR調節剤の活性を評価することができ,および/または特定のPPARに対する調節剤の特異性を判定することができる。以下の実施例に記載されているアッセイに加えて,当業者は,用いることができる他のアッセイを理解し,特定の用途についてアッセイを改変することができる。例えば,アッセイはAlphaScreen(amplified luminescent proximity homogeneous Assay)フォーマット,例えば,AlphaScreening system(Packard Bio Science)を利用することができる。AlphaScreenは,SeethalaおよびPrabhavathi(Homogenous Assays:AlphaScreen,Handbook of Drug Screening,Marcel Dekkar Pub.2001,pp.106−110)に一般に説明されている。PPARレセプターリガンド結合アッセイにおけるこの手法の適用は,例えば,Xuら(Nature 2002,415:813−817)に記載されている。
自己免疫疾患および神経学的疾病などの疾病の治療における式Iの化合物の有用性は,当業者に知られるモデル系を用いて容易に評価することができる。例えば,アルツハイマー病のモデルにおけるPPAR調節剤の効力は,神経組織に対する炎症性障害を模倣し,分子および薬理学的マーカーを用いて回復を測定することにより試験することができる(Heneka,et al.J.Neurosci.2000,20,6862−6867)。多発性硬化症におけるPPAR調節剤の効力は,実験的自己免疫脳脊髄炎(EAE)の一般に認められるモデルを用いてモニタリングすることができる(Storer et al.,J.Neuroimmunol.2004,161:113−122.Seealso:Niino,et al.J.Neuroimmunol.2001,116:40−48;Diab,et al.,J.Immunol.2002,168:2508−2515;Natarajan,et al.,Genes Immun.,2002,3:59−70;Feinstein,et al.,Ann.Neurol.2002,51:694−702)。
本明細書において企図される化合物は,一般式および特定の化合物として記載される。さらに,本発明の化合物は,多数の異なる形または誘導体として存在することができ,これらはすべて本発明の範囲内である。これらには,例えば,互変異性体,立体異性体,ラセミ混合物,位置異性体,塩,プロドラッグ(例えばカルボン酸エステル),溶媒和形,異なる結晶形または多型,および活性な代謝産物がある。
ある種の化合物は互変異性を示すかもしれないことが理解される。そのような場合,本明細書中の式の描画は可能な互変異性形の1つのみを明示的に示す。したがって,本明細書に記載される式は示される化合物の任意の互変異性の形を表すことを意図しており,単に式の描画により示される特定の互変異性形に限定されないことが理解されるべきである。
本明細書に記載されている式および化合物に加えて,本発明はまた,プロドラッグ(一般的に薬学的に許容しうるプロドラッグ),活性な代謝誘導体(活性代謝物),およびそれらの薬学的に許容しうる塩も含む。
化合物は,薬学的に許容しうる塩として製剤することができるかまたはその形でありうる。企図される薬学的に許容しうる塩型としては,限定されないが,モノ,ビス,トリス,テトラキス等が挙げられる。薬学的に許容しうる塩は,それらの投与量および投与濃度において無毒の塩である。このような塩を調製することで,化合物の生理学的作用を妨げることなく,その物理的特徴が変わり,薬理学的使用が容易になり得る。物理的性質の有用な変化としては,経粘膜投与を容易にするための融点の低下および,より高濃度の薬物の投与を容易にするための溶解度の上昇が挙げられる。本発明の化合物は,十分に酸性の,十分に塩基性の,または両方の官能基を有していてもよく,したがって,多数の無機または有機塩基,および無機および有機酸の任意のものと反応させて,薬学的に許容しうる塩を形成することができる。
固体である薬剤の場合には,化合物および塩が異なる結晶または多型で存在しうることは当業者には理解され,これらはすべて本発明および特定された式の範囲内であることが意図される。
本発明の方法および化合物は,典型的には,ヒト被験者の治療に用いられる。しかしながら,これらは他の動物被験者において,類似のまたは同一の適応症を治療するためにも用いることができる。この文脈において,"被験者","動物被験者"および同様の用語は,ヒトおよび非ヒト脊椎動物,例えば,非ヒト霊長類,スポーツおよび商用動物,例えば,ウシ,ウマ,ブタ,ヒツジ,齧歯類,およびペット,例えば犬およびネコ等の哺乳動物を表す。
R3が−Ar1−M−Ar2である式Iの化合物の合成は,スキーム1に示されるようにして3工程で行うことができる。
スキーム1
中間体XXXは,化合物XXIXから,2−ブタノン等の不活性溶媒中で炭酸カリウム等の塩基を用いてアルキルハロゲン化物を用いるアルキル化反応により,またはTHF等の不活性溶媒中でヒドロキシル基,トリフェニルホスフィンおよびDEAD(ジエチルアゾジカルボキシレート)等の活性化試薬を用いるミツノブ反応により製造することができる。
中間体XXXIは,ピリジン等の不活性溶媒中で無水トリフリルまたは塩化トシルスルホニルと反応させて,L−Ar1の求核基を不安定基で置き換えることにより,中間体XXXのヒドロキシル基をより不安定な基,例えばトリフレートに変換することにより製造することができる。別の方法は,2−ブタノン等の不活性溶媒中でアルキルハロゲン化物および炭酸カリウム等の塩基を用いるアルキル化反応において中間体XXXのヒドロキシル基を用いるか,またはTHF等の不活性溶媒中でヒドロキシアルカン,トリフェニルホスフィンおよびDEAD等の活性化試薬を用いるミツノブ反応を利用する。同様に,中間体XXXIは,1,4−ジオキサン等の不活性溶媒中でヨウ化銅等の触媒を用いて,中間体XXXのヒドロキシル基をN,N−ジメチルグリシン等のリガンドとのウルマン反応を生じさせることにより製造することができる。このスキームにおいて,Lは好ましくは−O−または−S(O)2−である。
化合物XXXIIは,パラジウム触媒を用いて中間体XXXIをボロン酸とスズキカップリングさせて,ビアリール化合物を生成するか,またはSN2Ar反応によりフッ化物等の不安定性官能基を置き換えることにより製造することができる。Ar2を導入するための他の手段は,金属の補助により不安定基をアミノまたはアルコールで置き換えることにより行うことができる。
スキーム2
化合物L−Ar1−M−Ar2は,化合物L−Ar1から,パラジウム触媒を用いてボロン酸とスズキカップリングさせてビアリール化合物を生成するか,またはSN2Ar反応によりフッ化物等の不安定性官能基を置き換えることにより製造することができる。Ar2を導入するための他の手段は,金属の補助により不安定基をアミノまたはアルコールで置き換えることにより行うことができる。
化合物XXXIIは,ピリジン等の不活性溶媒中で,無水トリフリルまたは塩化トシルスルホニルと反応させて,L−Ar1−M−Ar2の求核基を不安定基で置き換えることにより,スキーム1と同様にして製造した中間体XXXのヒドロキシル基を,より不安定な基,例えばトリフレートに変換することにより製造することができる。別の方法は,中間体XXXのヒドロキシル基を用いて,2−ブタノン等の不活性溶媒中でおよび炭酸カリウム等の塩基を用いてアルキルハロゲン化物を用いるアルキル化反応により,またはTHF等の不活性溶媒中でトリフェニルホスフィンおよびDEAD等の活性化試薬を用いて,ヒドロキシアルカンを用いるミツノブ反応により製造することができる。同様に,化合物XXXIIは,1,4−ジオキサン等の不活性溶媒中でヨウ化銅等の触媒を用いて,中間体XXXのヒドロキシル基をN,N−ジメチルグリシン等のリガンドとのウルマン反応を生じさせることにより製造することができる。
スキーム3:
中間体XXXIVは,DMFまたはDMSO等の不活性溶媒中でパラジウムまたは銅等の触媒を用いて,中間体XXXIIIの臭素(またはヨウ素)ヒドロキシルまたはチオール基で置き換えることにより製造することができる。
中間体XXXIは,DMFまたはDMSO等の不活性溶媒中でパラジウムまたは銅等の触媒を用いて中間体XXXIVの臭素(またはヨウ素)をヒドロキシルまたはチオール基で置き換えることにより製造することができる。
中間体XXXIIは,パラジウム触媒を用いる中間体XXXIとボロン酸とのスズキカップリングによりビアリール化合物を生成するか,またはSN2Ar反応によりフッ素などの不安定な官能基を置き換えることにより製造することができる。Ar2を導入するための他の方法は,アミノまたはアルコールによる不安定な基の金属補助置換により行うことができる。
スキーム4
化合物IIIは,化合物IIから,N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)等の不活性溶媒中で,炭酸カリウム等の非求核塩基を用いて,加熱しながら,ヨードエタン等のアルキルハロゲン化物と反応させることにより製造することができる。
化合物IVは,工程1と同様にしてもう一度アルキル化を行うか,またはテトラヒドロフラン等の不活性溶媒中で室温でトリフェニルホスフィンおよびジイソプロピルアゾジカルボキシレート等の試薬を用いるミツノブ反応条件により製造することができる。
化合物Vは,標準的なケン化条件により,1:1比のTHF等の不活性有機溶媒と水性水酸化物溶液(例えば,LiOH,NaOH,またはKOH,1M)を用いて周囲条件でアルキルエステルを脱保護することにより製造することができる。
スキーム5
化合物VIIは,DMFまたはジメチルスルホキシド(DMSO)等の不活性溶媒中で,塩基(水素化ナトリウムまたは水酸化ナトリウム等)を用いて脱プロトン化し,次にアルキルハロゲン化物を用いてアルキル化する(または1,4−ジブロモブタンを用いてシクロペンチル環を形成する)ことにより製造することができる。
化合物VIIIは,0℃で三臭化ホウ素等の酸を用いる脱メチル化により製造することができる。
化合物IXは,DMF等の不活性溶媒中で加熱しながら炭酸カリウム等の非求核塩基を用いてヨードエタン等のアルキルハロゲン化物と反応させることにより製造することができる。
化合物Xは,工程1と類似したアルキル化をもう一度行うか,またはミツノブ反応条件により,THF等の不活性溶媒中で室温でトリフェニルホスフィンおよびジイソプロピルアゾジカルボキシレート等の試薬を用いて製造することができる。
化合物XIは,標準的なケン化条件により,1:1比のTHF等の不活性有機溶媒と水性水酸化物溶液(例えば,LiOH,NaOH,またはKOH,1M)を用いて周囲条件でアルキルエステルを脱保護することにより製造することができる。
スキーム6:
化合物XIIは,フェノール(III,スキーム4の工程1と同様にして製造)をヨードベンゼン等のハロゲン化芳香族環と,ウルマン(Ullman)カップリング条件により,塩基性条件下でジオキサン等の不活性溶媒中でヨウ化銅等の触媒を用いて製造する。
化合物XIIIは,アルキルエステルXIIを,標準的なケン化条件により,1:1比のTHF等の不活性有機溶媒と水性水酸化物溶液(例えば,LiOH,NaOH,またはKOH,1M)を用いて,周囲条件下で脱保護することにより製造することができる。
スキーム7
化合物XIVは,IIIのヒドロキシ部分をピリジン等の緩衝溶媒中で無水トリフルオロメチルスルホン酸と反応させて"トリフレート"を生成することにより製造する。
化合物XVは,トルエン等の不活性溶媒中で,酢酸パラジウム等の触媒を用いて,塩基性条件下でトリフレートをスルフィン酸塩で置き換えることにより製造する。
化合物XVIは,標準的なケン化条件により,1:1比のTHF等の不活性有機溶媒と水性水酸化物溶液(例えば,LiOH,NaOH,またはKOH,1M)で,周囲条件でアルキルエステルを脱保護することにより製造することができる。
スキーム8:
化合物IIIを,DMF等の不活性溶媒中で塩基性条件下で塩化N,N,−ジメチルチオカルバモイルで処理する。
チオカルバメートXVIIを,DMSOまたはDMF等の不活性溶媒を用いて電子レンジ合成器の助けにより熱的に再配列させて,化合物XVIIIを得る。
化合物XIXは,チオカルバメートXVIIIをメタノール等の不活性溶媒中で塩基性条件下で(例えば,水性KOH)加水分解することにより製造することができる。
化合物XXは,ベンゼンチオールXIXとヨードベンゼン等のハロゲン化芳香族環とのウルマン(Ullman)カップリング条件により,ジオキサン等の不活性溶媒中で塩基性雰囲気下でヨウ化銅などの触媒を用いて製造する。
ビアリールチオールエーテルXXは,ジクロロメタン等の不活性溶媒中でm−クロロ過安息香酸等の酸化剤に暴露することによりスルホンXXIに変換することができる。
化合物XXIIは,アルキルエステルXXIを標準的なケン化条件下で,1:1比のTHF等の不活性有機溶媒と水性水酸化物溶液(例えば,LiOH,NaOH,またはKOH,1M)を用いて,周囲条件で脱保護することにより製造することができる。
スキーム9
化合物XXIVは,ジメトキシベンゼンXXIIIを三塩化インジウム等の酸性条件下でフリーデルクラフトスルホニル化することにより製造する。
化合物XXVは,0℃で臭化ホウ素等の酸を用いて脱メチル化することにより製造することができる。
化合物XXVIは,XXVからDMF等の不活性溶媒中で加熱しながらヨードエタン中のハロゲン化アルキルおよび炭酸カリウム等の非求核塩基と反応させることにより製造することができる。
化合物XXVIIは,XXVIからDMF等の不活性溶媒中で加熱しながらブロモ酢酸エステルおよび炭酸カリウム等の非求核塩基と反応させることにより製造することができる。
化合物XXVIIIは,アルキルエステルを,周囲条件下で1:1比のTHF等の不活性有機溶媒と水性水酸化溶液(例えば,LiOH,NaOH,またはKOH,1M)を用いる標準的なケン化条件下で脱保護することにより製造することができる。
スキーム10:
化合物XXXVIIは,α−ハロゲン化アセチル基(XXXV,V=クロロまたはブロモ)を加熱しながらアミドまたはチオアミド(XXXVI,UはO,S,またはNHである)とカップリングさせて,環化した複素環XXXVIIを得ることにより製造することができる。
化合物XXXVIXは,複素環上の5−プロトンを−78℃で,THF等の不活性溶媒中でsec−ブチルリチウム等の強塩基で脱プロトン化し,次にこれを求電子試薬XXXVIIIとカップリングさせて複素環の5位にチオールエーテルを付加することにより製造することができる。
化合物XXXXは,チオールエーテルを周囲条件で,ジクロロメタン等の不活性溶媒中でmCPBA等の酸化剤で酸化することにより製造することができる。
化合物P−0002は,スキーム11に示されるようにして,3,5−ジメトキシフェニルアセトニトリル1から5工程で合成した。
スキーム11
テトラヒドロフラン(10mL,0.1mol)中の3,5−ジメトキシフェニルアセトニトリル(1,500mg,0.003mol)の溶液に,−78℃でヘキサン(2.6mL)中の2.5Mn−ブチルリチウムを5分以内に加えた。次に混合物を30分間撹拌した。5mlテトラヒドロフラン中のヨウ化メチル(0.40mL,0.0065mol)を10分間かけて加えた。混合物を0℃から室温で一晩撹拌した。水(5ml)を加え,次にジエチルエーテル(10ml)を加えた。水性相をジエチルエーテルで抽出した。プールした有機相をブラインで洗浄し,硫酸ナトリウムで乾燥した。フラッシュクロマトグラフィー(ヘキサン中0−5%酢酸エチル)により,透明油状物(2,296mg,50%)を得た。
ジクロロメタン(6mL,0.09mol)中の2−(3,5−ジメトキシ−フェニル)−2−メチル−プロピオニトリル(2,290mg,0.0014mol)の溶液に,ヘプタン(3.5mL)中の1M三フッ化ホウ酸を室温で加え,混合物を6時間撹拌した。反応を水でクエンチし,酢酸エチルで希釈した。相を分離し,水性相を酢酸エチルで抽出し,これをブラインで洗浄し,硫酸ナトリウムで乾燥し,濃縮した。粗物質をさらに精製することなく次の工程で用いた。
ジメチルホルムアミド(10mL,0.2mol)中の2−(3,5−ジヒドロキシ−フェニル)−2−メチル−プロピオニトリル(3,0.257g,0.00145mol)の溶液に,炭酸カリウム(0.6g,0.004mol)を加えた。混合物を90℃に加熱し,ジメチルホルムアミド(1ml)中の1−ヨードブタン(0.100mL,0.000878mol)を滴加した。反応液を5時間撹拌した後,ジメチルホルムアミドを真空下で除去した。水および酢酸エチルを加え,水性相を1MHClを用いて酸性にし,酢酸エチルで抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥した。フラッシュクロマトグラフィー(ヘキサン中0−5%酢酸エチル)により,所望の化合物4を得た。
アセトニトリル(5mL,0.1mol)中の2−(3−ブトキシ−5−ヒドロキシ−フェニル)−2−メチル−プロピオニトリル(4,50mg,0.0002mol)の溶液に,炭酸カリウム(89mg,0.00064mol)を加え,次に1−[4−(3−ブロモ−プロポキシ)−2−ヒドロキシ−3−プロピル−フェニル]−エタノン(100mg,0.00032mol)を加えた。混合物を80℃で一晩加熱した。混合物を濃縮し,水および酢酸エチルを加えた。水性相を1MHClで酸性にし,酢酸エチルで抽出した。プールした有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し,濃縮した。精製は,クロマトグラフィー(ヘキサン中25%酢酸エチル)により行った。所望の化合物を油状物(5,15mg,10%)として得た。
メタノール(1mL,0.02mol)中の2−{3−[3−(4−アセチル−3−ヒドロキシ−2−プロピル−フェノキシ)−プロポキシ]−5−ブトキシ−フェニル}−2−メチル−プロピオニトリル(5,13mg,0.000028mol)の溶液に,水中2M水酸化リチウム(0.2mL)を加え,混合物を80℃で2日間撹拌した。混合物を電子レンジ反応容器に移し,電子レンジオーブンで120℃で5分間加熱し,次に160℃で15分間を合計5回で加熱した。混合物を1MHClで酸性にし,酢酸エチルで抽出し,硫酸ナトリウムで乾燥し,溶媒を減圧下で除去した。化合物P−0002は,順相クロマトグラフィー(ヘキサン中50%酢酸エチル)を用いて精製した。計算値分子量486.60,MS(ESI)[M+H+]+=487.3,[M−H+]−=485.2。
化合物P−0027は,スキーム12に示されるようにして,(3,5−ジヒドロキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル8から5工程で合成した。
スキーム12
ジメチルホルムアミド(50mL,0.7mol)中の(3,5−ジヒドロキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル(8,1.200g,0.006587mol)の溶液に,炭酸カリウム(2.73g,0.0198mol)を一度に加えた。ジメチルホルムアミド中の1−ヨードブタン(0.682mL,0.00599mol)を滴加し,反応液を90℃に加熱し,一晩撹拌した。ジメチルホルムアミドを真空下で除去し,水および酢酸エチルを加えた。混合物を1MHClで酸性にし,水性相を酢酸エチルで抽出した。プールした有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し,シリカに負荷した。フラッシュクロマトグラフィー(ヘキサン中25%酢酸エチル)により,所望の化合物を油状物(9,615mg,43%)として得た。
ピリジン(0.4mL,0.005mol)中の(3−ブトキシ−5−ヒドロキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル(9,100mg,0.0004mol)の溶液に,氷/水浴上で,トリフルオロメタン無水スルホン酸(90.0μL,0.000535mol)を溶液に滴加した。混合物を冷却しながら15分間撹拌し,次に室温で2時間撹拌した。水(2mL)およびジエチルエーテル(5mL)を加え,溶液を1mLの濃HClで酸性にした。エーテルを分離し,1MHClで洗浄し,硫酸ナトリウムで乾燥し,濃縮した。フラッシュクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル3:1)により精製して,透明油状物(10,95mg,60%)を得た。
密封可能な反応容器中でトルエン(4mL,0.04mol)に溶解した(3−ブトキシ−5−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル(10,198mg,0.000535mol)および4−フルオロ−ベンゼンスルフィン酸ナトリウム(120mg,0.00064mol)の溶液に,トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)(49mg,0.000053mol),炭酸セシウム(260mg,0.00080mol),およびキサントホス(60mg,0.0001mol)をアルゴン雰囲気下で加えた。容器を密封し,混合物を120℃で一晩加熱した。冷却した後,反応混合物を酢酸エチルで希釈し,ブラインで洗浄し,硫酸ナトリウムで乾燥し,濃縮し,シリカに負荷した。フラッシュクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル9:1)により,所望の化合物(11,65mg,32%)を得た。
ジメチルスルホキシド(0.5mL,0.007mol)中の[3−ブトキシ−5−(4−フルオロ−ベンゼンスルホニル)−フェニル]−酢酸メチルエステル(11,25mg,0.000066mol)の溶液に,炭酸カリウム(10mg,0.000072mol)および4−トリフルオロメトキシ−フェノール(9.4μL,0.000072mol)を加えた。混合物を電子レンジオーブン中で120℃で10分間加熱した。一晩凍結乾燥することにより溶媒を除去した。酢酸エチルおよび水を加え,層を分離した。有機相をブラインで洗浄し,硫酸ナトリウムで乾燥した。所望の生成物をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル3:1)により精製して,化合物12(12mg,34%)を得た。
テトラヒドロフラン(2mL,0.02mol)中の{3−ブトキシ−5−[4−(4−トリフルオロメトキシ−フェノキシ)−ベンゼンスルホニル]−フェニル}−酢酸メチルエステル(12,12mg,0.000022mol)の溶液に,水酸化カリウム(1M,1mL)を加え,室温で一晩撹拌した。酢酸エチル(3mL)を加え,混合物を1MHClで酸性にした。水性相を酢酸エチルで抽出した。有機相をブラインで洗浄し,次に硫酸ナトリウムで乾燥し,濃縮した。所望の化合物P−0027は,シリカゲルクロマトグラフィー(ジクロロメタン中5%メタノール)を用いて精製した。計算値分子量524.51,MS(ESI)[M+H+]+=525.2[M−H+]−=523.2。
化合物P−0006は,スキーム13に示されるようにして,(3−ブトキシ−5−ヒドロキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル9から2工程で合成した。
スキーム13
1,4−ジオキサン(10mL,0.1mol)に溶解した(3−ブトキシ−5−ヒドロキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル(9,200mg,0.0008mol,実施例3のスキーム12の工程1と同様にして製造)の溶液に,炭酸セシウム(550mg,0.0017mol),ヨードベンゼン(140μL,0.0012mol),L−プロリン(30mg,0.0002mol)およびヨウ化銅(I)(20mg,0.00008mol)を加えた。混合物を90℃で一晩加熱した。酢酸エチルを加え,混合物を1MHClを用いて酸性にした。水性層を酢酸エチルで3回抽出し,硫酸ナトリウムで乾燥し,濃縮した。フラッシュクロマトグラフィー(ヘキサン中10−20%酢酸エチル)を用いて精製して,所望の化合物(14,19mg,7%)を得た。
テトラヒドロフラン(2mL,0.02mol)中の(3−ブトキシ−5−フェノキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル(14,18mg,0.000057mol)の溶液に,水中の水酸化カリウム(1M,0.6mL)を加え,混合物を室温で一晩撹拌した。酢酸エチルを加え,混合物を1MHClで酸性にした。水性相を酢酸エチルで抽出した。有機相をブラインで洗浄し,硫酸ナトリウムで乾燥し,濃縮して,所望の化合物(P−0006,15mg,84%)を得た。計算値分子量300.35,MS(ESI)[M+H+]+=301.2[M−H+]−=299.1。
化合物P−0025は,スキーム14に示されるようにし,(3,5−ジヒドロキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル8から4工程で合成した。
スキーム14
オーブンで乾燥し,次に火力乾燥した丸底フラスコ中で,(3,5−ジヒドロキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル(8,5.0g,0.027mol)および炭酸カリウム(3.81g,0.0276mol)を2−ブタノン(500mL,5.55mol)に溶解した。反応容器をアルゴンでパージし,97℃で加熱した。滴加漏斗中で,2−ブタノン(50mL,0.55mol)および1−ヨードブタン(4.59g,0.0249mol)を混合した。滴加漏斗を反応容器に取り付け,内容物を反応液に2時間かけて加えた。添加が完了した後,漏斗を冷却器で置き換え,反応液を一晩加熱した。翌朝,TLC(20%酢酸エチル/ヘキサン)は3つのスポットを示した(Rf=0.8,0.3,および0.02)。固体を濾別し,溶媒を除去した。水および酢酸エチルを加えた。溶液を1MHClを用いて中和し,水性相を酢酸エチルで抽出した。プールした有機相を乾燥し(Na2SO4),シリカに吸着させた。withシリカカラムを用いるフラッシュクロマトグラフィーにより,段階勾配溶媒(ヘキサン中4,7,10,20%酢酸エチル)を用いて所望のメチルエステル(Rf=0.3)を単離し,これを次の工程で用いた。1H NMR(CDCl3)は化合物構造と一致した。
丸底フラスコ中で,(3−ブトキシ−5−ヒドロキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル(9,2.3g,0.0096mol)をピリジン(8mL,0.1mol)に溶解した。フラスコを氷浴に入れ,0℃に冷却した。無水トリフルオロメタンスルホン酸(3.3g,0.012mol)を溶液に15分間かけて滴加した。反応液を4時間撹拌し,周囲条件まで暖めた。フラスコを新たな氷浴に入れ,40mLの水を容器に加え,次にジエチルエーテル(90mL)および濃HCl(6mL)を加えた。この間,反応液は激しく撹拌した。40分後,有機層を分離し,1NHCl溶液で洗浄し,MgSO4で乾燥した。溶媒を減圧下で除去して,暗黄色油状物を得た。シリカプラグを用いて,所望の化合物を黄色油状物として単離した。1H NMRは化合物の構造と一致した。
乾燥丸底フラスコ中に,(3−ブトキシ−5−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル(10,150mg,0.00040mol)をアルゴン気流中で加えた。3−メトキシフェニルスルフィン酸ナトリウム塩(97mg,0.00050mol)およびトルエン(8mL,0.08mol)を加え,容器をアルゴンでパージした。炭酸セシウム(205mg,0.000629mol),トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)(4mg,0.000004mol),およびキサントホス(4mg,0.000007mol)を速やかに加え,反応液を110℃で一晩加熱した後,反応のTLC分析(20%酢酸エチル/ヘキサン)は所望の化合物が形成されていることを示した(Rf=0.3)。反応液を室温まで冷却し,水で希釈した。反応液を酢酸エチルで3回抽出し,合わせた有機層をブラインで2回洗浄し,硫酸ナトリウムで可塑し,減圧下で蒸発させて,粗化合物を褐色油状物として得た。この油状物をシリカに吸着させ,フラッシュクロマトグラフィーにより段階勾配(ヘキサン中5,7,10%酢酸エチル)を用いて精製して,所望の化合物を単離した。1H NMRは化合物の構造と一致した。
フラスコ中で,[3−ブトキシ−5−(3−メトキシ−ベンゼンスルホニル)−フェニル]−酢酸メチルエステル15を,テトラヒドロフラン/1NKOH(4:1)の5mLの混合物で処理し,一晩激しく撹拌した。反応液に1NHClを加えて酸性にし(pH試験紙で酸性),酢酸エチルで抽出し(反応容量の3倍),MgSO4で乾燥した。破砕:ヘキサン/ジクロロメタンを加え(各3mL),フラスコを約1時間撹拌した。この時点で,溶媒を濾過により除去した。灰白色/褐色固体を週末のあいだ高真空下に置いた。1H NMR(CD3OD)は化合物構造と一致した。計算値分子量378.44,MS(ESI)[M−H+]−=377.13。
化合物P−0080は,スキーム15に示されるようにして,(3,5−ジヒドロキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル8から4工程で合成した。
スキーム15
フラスコ中で,(3,5−ジヒドロキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル(8,4g,0.02mol)を2−ブタノン(80mL,0.8mol)に溶解した。炭酸カリウム(9.10g,0.0659mol)を一度に加え,ヨードエタン(1.60mL,0.0200mol)を滴加した。反応液を80℃に加熱し,5時間撹拌した。固体を濾別し,溶媒を除去した。水および酢酸エチルを加えた。溶液を1MHClで中和し,水性相を酢酸エチルで抽出した。プールした有機相を乾燥し(Na2SO4),シリカに吸着させた。フラッシュクロマトグラフィーを行い,ヘキサン中20−40%酢酸エチルで溶出して,所望の化合物を透明黄色油状物として得た。1H NMRは化合物の構造と一致した。
丸底フラスコ中で,(3−エトキシ−5−ヒドロキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル(16,4g,0.02mol)をピリジン(60mL,0.7mol)に0℃で溶解した。トリフルオロメタン無水スルホン酸(7mL,0.04mol)を少しずつ加え,周囲条件にしながら反応液を16時間撹拌した。反応液を濃HClで酸性にし,ジエチルエーテルで3回抽出した。次に合わせた有機層をブラインで2回洗浄し,硫酸ナトリウムで乾燥し,蒸発させて,赤橙色油状物を得た。次に,油状物をシリカでヘキサン中20−35%酢酸エチルを用いるフラッシュクロマトグラフィーにより精製して,所望の化合物を黄色油状物として得た。1H NMRは所望の化合物と一致した。
丸底フラスコ中で,4’−トリフルオロメチル−ビフェニル−3−スルフィン酸ナトリウム塩(71mg,0.00023mol),(3−エトキシ−5−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル(17,109mg,0.000318mol),キサントホス(12mg,0.000021mol)および炭酸セシウム(174mg,0.000534mol)をトルエン(7mL,0.06mol)中でアルゴン流下で混合した。ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)(10mg,0.000017mol)を速やかに加え,反応液を110℃に予熱した油浴に16時間置いた後,TLC(20%酢酸エチル/ヘキサン)は複数のスポットおよび出発物質がないことを示した。溶媒を除去し,粗化合物をシリカプレートに負荷した。所望の化合物を単離した。1H NMRは化合物の構造と一致した。
ケン化:粗反応生成物をテトラヒドロフラン/1NKOH(4:1)の2mLの混合物に溶解し,一晩激しく撹拌した後,TLC(20%酢酸エチル/ヘキサン)は出発物質がないことおよびベースライン近傍に新たなスポットを示した。1NHClを加えることにより反応液を酸性にし(pH試験紙で酸性),酢酸エチルで抽出し(反応容量の3倍),MgSO4で乾燥した。1H NMR(CDCl3)は化合物の構造と一致した。計算値分子量426.48,MS(ESI)[M+H+]+=427.12,[M−H+]−=425.06。
スキーム15a
上述のスキーム15を参照。
丸底フラスコに,(3−エトキシ−5−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル(17,1.26g,0.00368mol),3−クロロフェニルスルフィン酸ナトリウム塩(68,1.26g,0.00634mol),トルエン(30mL,0.3mol),キサントホス(0.30g,0.00052mol),トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)(0.50g,0.00055mol),および炭酸セシウム(1.3g,0.0040mol)を混合し,108℃で16時間加熱した。反応液を室温まで冷却させ,水で希釈した。反応液を酢酸エチルで4回抽出した。合わせた有機層を水で2回,ブラインで1回洗浄し,硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を蒸発させて,黄橙色油状物を得た。次にこの油状物をフラッシュクロマトグラフィー(ヘキサン中20−40%酢酸エチル)により精製して,所望の化合物を黄色油状物として得た。油状物を溶解し,16時間処理した後に後処理した。反応液を10%HClで酸性にしてpH1−2とし,酢酸エチルで4回抽出した。合わせた有機層をブラインで1回洗浄し,硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を蒸発させて,黄色油状物を得た。次にこの油状物をフラッシュクロマトグラフィーにより,ジクロロメタン中9%メタノールで精製して,所望の化合物を淡黄色がかった油状物として得,これを高真空下で乾燥して,白色固体を得た。1H NMRは化合物の構造と一致した。
10mgの[3−(3−クロロ−ベンゼンスルホニル)−5−エトキシ−フェニル]−酢酸メチルエステル69を400μLのアセトニトリルに溶解し,2当量の4−クロロフェニルボロン酸を加えた。200μLの1MK2CO3を加え,10μLのPd(AOc)2/ジ−t−ブチルビフェニルホスフィンのトルエン中0.2M溶液を加えた。反応混合物を電子レンジで160℃で10分間加熱した。溶液を酢酸で中和し,溶媒を真空下で除去した。粗物質を500μLのジメチルスルホキシドに溶解し,HPLCにより精製し,水/0.1%トリフルオロ酢酸およびアセトニトリル/0.1%トリフルオロ酢酸の勾配,20−100%アセトニトリルの16分間の勾配で溶出した。計算値分子量430.91,MS(ESI)[M−H+]−=429.03。
化合物P−0082は,スキーム16に示されるようにして,(3−エトキシ−5−ヒドロキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル(16)から2工程で合成した。
スキーム16
フラスコ中で,(3−エトキシ−5−ヒドロキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル(16,120mg,0.00057mol,実施例6のスキーム15の工程1と同様にして製造)を1,4−ジオキサン(2mL,0.02mol)に溶解した。炭酸セシウム(370mg,0.0011mol),3−ブロモ−4’−トリフルオロメチル−ビフェニル(260mg,0.00086mol),ジメチルアミノ−酢酸(20mg,0.0002mol)およびヨウ化銅(I)(10mg,0.00006mol)を加えた。混合物をアルゴン雰囲気下で90℃で一晩加熱した後,TLCは出発物質が完全に変換されたことを示した。酢酸エチルを加え,次に塩化アンモニウム/水酸化アンモニウム(4:1)の混合物を加えた。層を分離し,有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。粗物質をシリカに吸着させ,ヘキサン中10−20%酢酸エチルを用いるフラッシュクロマトグラフィーにより所望の化合物を単離し,これを次の工程で用いた。1H NMRは化合物の構造と一致した。
[3−エトキシ−5−(4’−トリフルオロメチル−ビフェニル−3−イルオキシ)−フェニル]−酢酸メチルエステル(19,20mg,0.00005mol)をテトラヒドロフラン(4mL,0.05mol)に溶解した。水中1M水酸化リチウム(1mL)を加え,混合物を室温で一晩撹拌した。混合物を1MHClで酸性(pH1−2)にし,酢酸エチルで抽出した。有機層を水性層から分離し,硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下で蒸発させて油状物を得た。調製用TLC(ジクロロメタン中5%メタノール)により精製した後に,最終化合物を単離した。1H NMRは化合物の構造と一致した。計算値分子量416.39,MS(ESI)[M+H+]+=417.2,[M−H+]−=415.0。
化合物P−0064は,スキーム17に示されるようにして,(3,5−ジヒドロキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル8から5工程で合成した。
スキーム17
フラスコ中で,(3,5−ジヒドロキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル(8,10.376g,0.056957mol)を2−ブタノン(200mL,2mol)に溶解した。炭酸カリウム(21.5g,0.155mol)を一度に加え,1−ヨードプロパン(5.06mL,0.0518mol)を滴加した。反応液を80℃に加熱し,一晩撹拌した。固体を濾別し,溶媒を除去した。水および酢酸エチルを加え,溶液を1MHClで中和した。水性相を酢酸エチルで抽出した。プールした有機相を乾燥し(Na2SO4),シリカに吸着させた。フラッシュクロマトグラフィーにより,ヘキサン中20−40%酢酸エチルで溶出して,所望の化合物を透明黄色油状物として得た。1H NMRは化合物の構造と一致した。
0°Cに冷却した丸底フラスコ中で,(3−ヒドロキシ−5−プロポキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル(20,2.36g,0.0105mol)をピリジン(35mL,0.43mol)に溶解した。トリフルオロメタン無水スルホン酸(4mL,0.02mol)をシリンジにより少しずつ加えた。反応を16時間進行させた後,後処理を行った。反応液を2−3mLの濃HClで酸性にし,エチルエーテルで4回抽出した。合わせたエーテル層を1NHClで1回,水で1回,ブラインで1回洗浄し,硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を蒸発させて,褐色油状物を得,これを次の工程で用いた。TLCは,所望の化合物が主生成物であることを示した。1H NMR分析は,トリフラート21が主要生成物であることを示した(>90%)。
(3−プロポキシ−5−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル(21,129.4mg,0.0003633mol),(4−フルオロフェニル)スルフィン酸ナトリウム塩(116mg,0.36mmol),トルエン(2.7090mL,0.025432mol),トリス(ジベンジリデンアセトン)−ジパラジウム(0)(20mg,0.00002mol),炭酸セシウム(177.56mg,5.4497E−4mol),およびキサントホス(21.02mg,3.633E−5mol)を高圧管に入れ,窒素でパージした後に,テフロン(登録商標)栓で密封した。混合物を120℃で一晩加熱した。反応液を冷却し,酢酸エチルで希釈した。層を分離し,有機層を飽和炭酸水素ナトリウムで洗浄し,MgSO4で乾燥した。溶媒を減圧下で除去して,粗物質を得,これを調製用プレートクロマトグラフィー(7:3ヘキサン:酢酸エチル)を用いて精製した。所望の化合物を単離し,1H NMRは化合物構造と一致した。MS(ESI)[M+H+]+=367.2。
[3−(4−フルオロ−ベンゼンスルホニル)−5−プロポキシ−フェニル]−酢酸メチルエステル(22,24mg,0.000066mol)をジメチルスルホキシド(0.5mL,0.007mol)に溶解し,炭酸カリウム(10mg,0.000072mol)および4−トリフルオロメトキシ−フェノール(9.4μL,0.000072mol)を電子レンジ反応容器に入れた。この混合物を120℃で10分間加熱した。一晩凍結乾燥して溶媒を除去した。酢酸エチルおよび水を粗物質に加え,層を分離した。有機相をブラインで洗浄し,硫酸ナトリウムで乾燥した。粗物質を調製用TLC(ヘキサン:酢酸エチル7:3)で精製した。1H NMRは化合物の構造と一致した。MS(ESI)[M+H+]+=525.2。
3−プロポキシ−5−[4−(4−トリフルオロメトキシ−フェノキシ)−ベンゼンスルホニル]−フェニル−酢酸メチルエステル(23,20.000mg,3.8131E−5mol),水酸化リチウム(1M,0.30mL)およびテトラヒドロフラン(1.0mL,0.012mol)を小さいバイアルに入れ,反応混合物を周囲条件で3日間撹拌した。反応液を1MHClで酸性にし,水および酢酸エチルで希釈した。有機層を分離し,MgSO4で乾燥し,減圧下で濃縮して,灰白色固体(11mg)を得た。1H NMRは化合物の構造と一致した。計算値分子量510.48,MS(ESI)[M+H+]+=511.2。
化合物P−0009は,スキーム18に示されるようにして,(3−ブトキシ−5−ヒドロキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル9から2工程で合成した。
スキーム18
フラスコ中で,(3−ブトキシ−5−ヒドロキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル(9,103mg,0.000432mol(スキーム14の工程1,実施例5にしたがって製造)をN,N−ジメチルホルムアミド(4mL,0.05mol)に溶解した。炭酸カリウム(180mg,0.0013mol)および5−(クロロメチル)−4−メチル−2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]−1,3−チアゾール(0.21g,0.00073mol)を加えた。反応混合物を90℃で5時間撹拌した。混合物を減圧下で濃縮し,水および酢酸エチルで希釈した。混合物を1MHClで酸性にした。水性相を酢酸エチルで抽出し,有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し,減圧下で蒸発させた。粗物質をシリカに吸着させ,フラッシュクロマトグラフィーにより,100%ヘキサン,次にヘキサン中10%酢酸エチルの溶媒を用いて精製した。1H NMRは化合物の構造と一致した。
フラスコ中で,{3−ブトキシ−5−[4−メチル−2−(4−トリフルオロメチル−フェニル)−チアゾール−5−イルメトキシ]−フェニル}−酢酸メチルエステル(24,101mg,0.000205mol)をテトラヒドロフラン(5mL,0.06mol)に溶解した。水(2mL)中の1M水酸化カリウムを加え,混合物を室温で一晩撹拌した。混合物を1MHClで酸性にし,水性相を酢酸エチルで3回抽出した。有機相をブラインで洗浄し,硫酸ナトリウムで乾燥し,濃縮した。1H NMRでは少量の不純物が見られた。生成物を調製用TLCプレートでさらに精製し,ジクロロメタン中5%メタノールで溶出した。1H NMRは化合物構造と一致した。計算値分子量479.52,MS(ESI)[M+H+]+=480.2;[M−H+]−=478.2。
化合物P−0089は,スキーム19に示されるようにして,(3−エトキシ−5−ヒドロキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル16から3工程で合成した。
スキーム19
1,4−ジオキサン(3mL,0.04mol)に溶解した(3−エトキシ−5−ヒドロキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル(16,200mg,0.001mol,実施例6のスキーム15の工程1にしたがって製造)の溶液に,炭酸セシウム(620mg,0.0019mol),1−ブロモ−3−ヨード−ベンゼン(180μL,0.0014mol),ジメチルアミノ−酢酸(30mg,0.0003mol)およびヨウ化銅(I)(20mg,0.0001mol)を加えた。混合物をアルゴン雰囲気下で90℃で一晩撹拌した。反応液を塩化アンモニウム:水酸化アンモニウム4:1の混合物で希釈し,酢酸エチルで3回抽出した。合わせた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し,減圧下で濃縮し,シリカに吸着させてフラッシュクロマトグラフィーを行った。ヘキサン中10−20%酢酸エチルの勾配を用いて,純粋な化合物25を単離した。1H NMRは所望の化合物と一致した。MS(ESI)[M+H+]+=417.2[M−H+]−=365.1,367.1。
テトラヒドロフラン(5mL,0.07mol)中の[3−(3−ブロモ−フェノキシ)−5−エトキシ−フェニル]−酢酸メチルエステル(25,71mg,0.00019mol)の溶液に,2−メトキシピリジルボロン酸(44mg,0.00029mol)および[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−フェロセン]ジクロロパラジウム(II),ジクロロメタン(1:1)との錯体(16mg,0.000019mol)および水中1M炭酸カリウム(0.6mL)を加えた。反応液を90℃で一晩撹拌した。冷却した後,水を加えて反応液を希釈した。反応液を酢酸エチルで3回抽出した。合わせた有機層をブラインで1回洗浄し,硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で濃縮した後,粗生成物をシリカに吸着させ,ヘキサン中10−20%酢酸エチルの勾配を用いるフラッシュクロマトグラフィーにより精製して,所望の化合物を透明油状物として単離した。1H NMRは化合物の構造と一致した。
フラスコ中で,3−エトキシ−5−[3−(6−メトキシ−ピリジン−3−イル)−フェノキシ]−フェニル−酢酸メチルエステル26をTHF(3ml)に溶解し,1mLのLiOH(1M)を加え,反応液を周囲温度で一晩撹拌した。反応液を1MHClで酸性にしてpH1−2とした。反応液を酢酸エチルで2回抽出し,合わせた有機層をNa2SO4で乾燥し,減圧下で濃縮し,調製用TLCプレートで,ジクロロメタン中5%メタノールを用いて精製した。1H NMRは化合物の構造と一致した。計算値分子量379.41,MS(ESI)[M−H+]+=380.2,[M−H+]−=379.1。
化合物P−0093は,スキーム20に示されるようにして,5工程で合成した。
スキーム20
電子レンジ試験管中で,2−メチル−3−ブロモチオフェン(27,130.0mg,0.0007342mol),4−(トリフルオロメチル)フェニルボロン酸(189mg,0.000995mol),テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(10mg,0.000009mol),および1NK2CO3(0.3mL)を1,2−エタンジオール(3mL,0.05mol)中で撹拌した。反応容器を98℃で30分間加熱し,次に300ワットの出力でさらに20分間加熱した。反応液を丸底フラスコに移し,溶媒を酢酸エチルとの共沸として除去して,油状物を得た。次に粗物質をシリカに吸着させ,ヘキサン中10−20%酢酸エチルの勾配を用いるフラッシュクロマトグラフィーで精製して,所望の化合物を単離した。1H NMRは化合物の構造と一致した。
乾燥丸底フラスコ中で,クロロスルホン酸(620mg,0.0053mol)をジクロロメタン(10mL,0.2mol)に溶解した。フラスコを氷浴に入れ,穏やかなアルゴン流下で10−15分間冷却した。五塩化リン(410mg,0.0020mol)を加え,反応液を激しく撹拌した。溶液を五塩化リンが完全に溶解するまで撹拌した後,3mLのジクロロメタンに溶解した2−メチル−3−(4−トリフルオロメチルフェニル)チオフェン(28,4.00E2mg,0.00165mol)を一度に反応液に加えた。反応液の色は黄色から暗緑色に変化した。3時間後,反応液を氷/水混合物に注加し,すべての氷が解けるまで撹拌した。反応液を分液漏斗に入れ,反応液をジクロロメタン(2x30mL)で抽出した。合わせた有機層を水(2x10mL),ブライン(15mL)で1回洗浄し,MgSO4で乾燥した。溶媒を減圧下で蒸発させ,シリカに吸着させた。ヘキサン中0−30%酢酸エチルの勾配を用いるフラッシュクロマトグラフィーにより,所望の化合物を単離した。1H NMRは化合物の構造と一致した。
丸底フラスコ中で,亜硫酸ナトリウム(308mg,0.00244mol)を水(13mL,0.72mol)に溶解した。フラスコを90℃に予熱した油浴に入れた。反応液を亜硫酸ナトリウムがすべて溶解するまで20分間撹拌した。炭酸水素ナトリウム(105mg,0.00125mol)および塩化5−メチル−4−(4−トリフルオロメチルフェニル)チオフェン−2−スルホニル(29,356.0mg,0.001045mol)をフラスコに同時に加え,反応液を103℃で4時間加熱した。フラスコを室温に冷却し,2日間凍結乾燥した。エタノール(40mL)を塩に加え,容器を100℃で40分間加熱し,熱重力濾過に供した。塩を多量の熱エタノールですすいだ。濾液を減圧下で蒸発させて,5−メチル−4−(4−トリフルオロメチルフェニル)−チオフェン−2−スルフィン酸ナトリウム塩30を白色固体として得た。
ねじ蓋付き反応容器中で,3−エトキシ−5−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−フェニル−酢酸メチルエステル(17,110mg,0.00032mol,実施例6のスキーム15の工程2と同様にして製造),5−メチル−4−(4−トリフルオロメチルフェニル)−チオフェン−2−スルフィン酸ナトリウム塩(30,130mg,0.00041mol),キサントホス(10mg,0.00002mol),および炭酸セシウム(245mg,0.000752mol)をトルエン(6mL,0.06mol)に溶解した。反応容器をアルゴンで3−5分間パージし,トリス(ジベンジリデンアセトン)−ジパラジウム(0)(10mg,0.00001mol)を加え,反応液に蓋をして,120℃に予熱した油浴中に入れた。反応液を一晩加熱した。溶媒を減圧下で除去した。粗生成物を調製用TLCプレートにより,ヘキサン中20%酢酸エチルを用いて精製して,所望の化合物を油状物として単離した。1H NMRは化合物の構造と一致した。
フラスコ中で,{3−エトキシ−5−[5−メチル−4−(4−トリフルオロメチル−フェニル)−チオフェン−2−スルホニル]−フェニル}−酢酸メチルエステル31をテトラヒドロフラン/1NLiOH(4:1)の3mLの混合物に溶解し,反応液を4時間激しく撹拌した。1NHClを加えて反応液を酸性にし(pH1−2),反応液を酢酸エチル(3X)で抽出した。有機層をMgSO4で乾燥し,溶媒を減圧下で蒸発させた。粗生成物を調製用TLCプレート精製に供し,クロロホルム中3%メタノールで溶出して,所望の化合物を単離した。1H NMRは化合物の構造と一致した。計算値分子量484.51,MS(ESI)[M−H+]−=484.21。
化合物P−0083は,スキーム21に示されるようにして2工程で合成した。
スキーム21
フラスコ中で,(3−エトキシ−5−ヒドロキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル(16,120mg,0.00057mol(実施例6のスキーム15の工程1と同様にして製造))を1,4−ジオキサン(2mL,0.02mol)に溶解した。炭酸セシウム(370mg,0.0011mol),2−ブロモ−5−フェニル−チオフェン(2.0E2mg,0.00086mol),ジメチルアミノ−酢酸(20mg,0.0002mol)およびヨウ化銅(I)(10mg,0.00006mol)を混合し,90℃でアルゴン雰囲気下で一晩撹拌した。冷却した後,反応液を酢酸エチルで,次にアンモニウム塩化:アンモニウム水酸化4:1の混合物で希釈した。層を分離し,有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し,溶媒を減圧下で除去した。粗物質をシリカに吸着させ,フラッシュクロマトグラフィーによりヘキサン中10−20%酢酸エチルの勾配を用いて精製して,所望の化合物を得た。1H NMRは化合物の構造と一致した。
フラスコ中で,[3−エトキシ−5−(5−フェニル−チオフェン−2−イルオキシ)−フェニル]−酢酸メチルエステル(31,20mg,0.00005mol)をテトラヒドロフラン(4mL,0.05mol)に溶解した。水(1mL)中の1M水酸化リチウムを加え,混合物を室温で一晩撹拌した。混合物をまず酢酸エチルで希釈し,1MHClを用いて酸性にしてpH1−2とした。層を分離した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し,溶媒を減圧下で除去した。粗化合物P−0083を調製用TLCで精製し,ジクロロメタン中5%メタノールで溶出して,所望の化合物を得た。1H NMRは化合物の構造と一致した。計算値分子量354.42,MS(ESI)[M+H+]+=355.1[M−H+]−=353.0。
化合物P−0284は,スキーム22に示されるようにして3工程で合成した。
スキーム22
4−トリフルオロメチル−ベンズアミド(33,1.00g,0.00529mol)を,クロロアセトン(13,20mL,0.2mol)とともに電子レンジ反応容器に入れた。混合物を電子レンジで120℃で40分間加熱した。まだ出発物質が残っていた。溶媒を蒸発させ,粗反応生成物をシリカと接触させ,フラッシュクロマトグラフィー(ヘキサン中酢酸エチル)により精製して,化合物34を得た。1H NMRは化合物の構造と一致した。
4−メチル−2−(4−トリフルオロメチル−フェニル)−オキサゾール(34,200mg,0.0009mol)をテトラヒドロフラン(5mL,0.06mol)に溶解した。混合物を−76℃に冷却した。ヘキサン(1.4M,2200μL)中sec−ブチルリチウムを滴加し,混合物を20分間撹拌した。テトラヒドロフラン中の[3−(3−カルボキシメチル−フェニルジスルファニル)−フェニル]−酢酸(35,210mg,0.00063mol)を溶液にゆっくり加えた。混合物を室温にし,一晩撹拌した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し,1MHClを用いて酸性にした。相を分離し,水性相を酢酸エチルで抽出した。プールした有機抽出物を硫酸ナトリウムで乾燥し,真空下で濃縮した。反応生成物をフラッシュクロマトグラフィー(ヘキサン中酢酸エチル)を用いて精製して,化合物36を得た。1H NMRは化合物の構造と一致した。MS(ESI)[M+H+]+=394.1,[M−H+]−=392。
3−[4−メチル−2−(4−トリフルオロメチル−フェニル)−オキサゾール−5−イルスルファニル]−フェニル−酢酸(36,20mg,0.00005mol)をジクロロメタン(1mL,0.02mol)に溶解した。m−クロロ過安息香酸(29mg,0.00017mol)を加え,混合物を室温で一晩撹拌した。TLCは出発物質と同一のRfのスポットを示し,質量分析は所望の化合物の質量を示した。混合物を濃縮し,メタノールに溶解した。所望の化合物は逆相調製用HPLCを用いて精製した。1H NMRは化合物の構造と一致した。計算値分子量425.38,MS(ESI)[M+H+]+=426.0,[M−H+]−=424.0。
化合物P−0287は,スキーム23に示されるようにして3工程で合成した。
スキーム23
丸底フラスコ(火力乾燥および不活性雰囲気下)で,1−ブロモ−4−トリフルオロメチルベンゼン(38,2.0g,0.0089mol),サリチルアルドキシム(40mg,0.0003mol),炭酸セシウム(6g,0.02mol),酸化銅(I)(44mg,0.00031mol)および4−ブロモピラゾール(37,2.0g,0.013mol)をアセトニトリル(15mL,0.21mol)中で混合した。合わせた混合物を110℃で3日間加熱した。粗反応物をブフナー漏斗を用いて濾過した。濾液を最初の容量の半分に減縮させ,シリカを加え,次に回転蒸発器で溶媒を完全に除去した。勾配溶媒(0−35%酢酸エチル/ヘキサン)でフラッシュクロマトグラフィーを行って,所望の化合物を得た。中間体はさらに特性決定することなく用いた。1H NMRは化合物構造と一致した。
丸底フラスコ(火力乾燥および不活性条件下)で,4−ブロモ−1−(4−トリフルオロメチルフェニル)−1H−ピラゾール(39,180.00mg,6.1841E−4mol)をテトラヒドロフラン(8mL,0.1mol)に溶解した。フラスコをアセトンドライアイス浴に入れ,10分間撹拌して,リチオ化ピラゾール溶液を得た。sec−ブチルリチウム(0.063mL,0.00074mol)を加え,反応液を10分間撹拌した。別の乾燥したフラスコ中で,アルゴンパージ下で,[3−(3−カルボキシメチル−フェニルジスルファニル)−フェニル]−酢酸(35,206.8mg,0.0006184mol)をテトラヒドロフラン(10mL)に溶解した。sec−ブチルリチウム(0.126mL,0.00148mol)を加え,反応液を10分間撹拌して,ジスルフィド溶液を得た。リチオ化ピラゾール溶液をジスルフィド溶液にカニューレを用いて加え,反応液を不活性雰囲気下で一晩撹拌した後,TLC(20%酢酸エチル/ヘキサン)はフェニルピラゾールがないことを示し,粗反応物の質量分析は所望の化合物と一致した。メタノール(3mL)を加えてブチルリチウムをクエンチし,溶媒を回転蒸発乾固させた。粗化合物をシリカに吸着させ,フラッシュクロマトグラフィーにより勾配溶媒条件(0to8%メタノール/ジクロロメタン)を用いて単離した。1H NMRの構造特性はメチレンピークを示した。化合物はさらに精製することなく次の工程で用いた。
工程2からの粗化合物40を4mLのジクロロメタンに溶解し,m−CPBA(4当量)を加えた。反応液を室温で6時間撹拌し,この時点で取り出したアリコートは,質量分析により所望の生成物を示した。シリカを粗混合物に加え,溶媒を蒸発させた。フラッシュクロマトグラフィーは0−8%メタノール/ジクロロメタンの勾配条件で行った。質量分析により示された適当な画分を合わせ,蒸発させた。これをアセトニトリルに再溶解し,逆相HPLCに供して,所望の化合物を単離した。1H NMR(CD3OD)は化合物構造と一致した。純度>90%.計算値分子量410.37,MS(ESI)[M−H+]−=409.01。
化合物P−0289は,スキーム24に示されるようにして6工程で合成した。
スキーム24
(3−ヒドロキシ−フェニル)−酢酸ベンジルエステル(41,2000mg,0.008mol)をピリジン(9mL,0.1mol)に溶解した。冷却しながら,無水トリフルオロメタンスルホン酸(1.77mL,0.0105mol)を溶液に滴加した。混合物を冷却しながら30分間撹拌し,次に室温で一晩撹拌した。混合物を冷却し,水を加え,次にジエチルエーテルを加えた。混合物を6MHClを用いて酸性にしてpH1とした。エーテルを分離し,1MHClで2回,次にブラインで洗浄し,硫酸ナトリウムで乾燥し,濃縮して,油状物を得た。これをさらに精製することなく用いた。1H NMRは化合物の構造と一致した。
メタノール(4mL,0.1mol)中の(3−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−フェニル)−酢酸ベンジルエステル(42,1.13g,0.00302mol)の溶液に,硫酸(0.2mL,0.004mol)を加えた。混合物を室温で一晩撹拌した。混合物を真空下で濃縮した。酢酸エチルおよび水を加え,層を分離した。有機相を飽和NaHCO3で2回洗浄し,濃縮した。1H NMRは化合物の構造と一致した。
(3−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル(43,630mg,0.0021mol)および4−ベンジルオキシ−ベンゼンスルフィン酸ナトリウム(44,856mg,0.00317mol)を反応フラスコ中のトルエン(10mL,0.1mol)に入れた。トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)(190mg,0.00021mol),炭酸セシウム(1.0E3mg,0.0032mol),いおよびキサントホス(200mg,0.0004mol)を加えた。アルゴン雰囲気下で,混合物を120℃で一晩加熱した。冷却した後,反応混合物を酢酸エチルで希釈し,ブラインで洗浄し,硫酸ナトリウムで乾燥し,濃縮し,シリカと接触させた。Isco40gカラム(ヘキサン中10−30%酢酸エチル)で生成物を分離し,所望の化合物を単離した。1H NMRは化合物の構造と一致した。
[3−(4−ベンジルオキシ−ベンゼンスルホニル)−フェニル]−酢酸メチルエステル(45,220mg,0.00055mol)をテトラヒドロフラン(10mL,0.1mol)に溶解し,5%Pd/C(5:95,パラジウム:炭素,100mg)を加えた。この混合物を,水素雰囲気下で室温で一晩撹拌した。触媒を濾別し,溶媒を蒸発させて,所望の化合物を得,これをさらに精製することなく用いた。1H NMRは化合物の構造と一致した。
[3−(4−ヒドロキシ−ベンゼンスルホニル)−フェニル]−酢酸メチルエステル(46,100mg,0.0003mol),2−(5−メチル−2−フェニル−オキサゾール−4−イル)−エタノール(47,73.0mg,0.000359mol)およびトリフェニルホスフィン(128mg,0.000490mol)のテトラヒドロフラン(3mL,0.04mol)中の撹拌溶液に,1mLテトラヒドロフラン中のジイソプロピルアゾジカルボキシレート(96.4μL,0.000490mol)を滴加した。混合物を室温で一晩撹拌した。酢酸エチルおよび水を加え,層を分離し,水性相をさらに酢酸エチルで抽出した。プールした有機相をブラインで洗浄し,硫酸ナトリウムで乾燥した。反応物質をシリカに負荷し,Isco Companion 12gカラム(ヘキサン中10−30%酢酸エチル)で精製して,所望の化合物を得た。1H NMRは化合物の構造と一致した。
(3−4−[2−(5−メチル−2−フェニル−オキサゾール−4−イル)−エトキシ]−ベンゼンスルホニル−フェニル)−酢酸メチルエステル48を,1mlKOH(1M)および3mlテトラヒドロフランを用い,室温で一晩撹拌することにより加水分解した。酢酸エチルを混合物に加え,次に1MHClを用いて酸性にした。有機相をブラインで洗浄し,乾燥した。所望の化合物を調製用TLC(ジクロロメタン中5%メタノール)で単離した。1H NMRは化合物の構造と一致した。計算値分子量477.53,MS(ESI)[M+H+]+=478.1,[M−H+]−=476.1。
化合物P−0120は,スキーム25に示されるようにして,5工程で合成した。
スキーム25
丸底電子レンジ試験管反応容器に,1,2−エタンジオール(3mL,0.05mol)中の2−メチル−3−ブロモチオフェン(27,2.40E2mg,0.00136mol),4−トリフルオロメトキシフェニルボロン酸(590mg,0.0028mol),および1NK2CO3(0.2mL)を入れた。容器をアルゴンで2−3分間パージした後,テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(4mg,0.000003mol)を加えた。反応液を電子レンジで120℃で30分間処理した。TLC分析(ヘキサン溶媒)は所望の化合物の形成を示した。反応液をシリカに吸着させ,所望の化合物をフラッシュクロマトグラフィーにより直鎖ヘキサンを用いて単離し,さらに精製することなく次の工程で用いた。1H NMRは化合物の構造と一致した。
オーブンで乾燥した丸底フラスコで,クロロスルホン酸(330mg,0.0028mol)をジクロロメタン(6mL,0.09mol)に溶解した。フラスコを氷浴に置き,穏やかなアルゴン流下で10−15分間冷却した。五塩化リン(340mg,0.0016mol)を加え,反応液を激しく撹拌すると,紫色のガスが発生した。溶液を五塩化リンの固体塊が溶解するまで20−35分間撹拌した。3mLのジクロロメタンに溶解した2−メチル−3−(4−トリフルオロメトキシフェニル)チオフェン(49,350mg,0.0014mol)をシリンジに取り,混合物に一度に加えると,反応液の色は時間とともに黄色から暗緑色に変化した。反応の進行をTLCで3時間モニターした。反応液を氷に注加し,氷が溶解するまで撹拌した。反応液を分離漏斗に入れ,ジクロロメタン(2x30mL)で抽出した。有機層を水(2x10mL)およびブライン(15mL)で洗浄し,MgSO4で乾燥した。溶媒を減圧下で濃縮し,反応生成物をシリカに吸着させた。所望の化合物をフラッシュクロマトグラフィーにより0−30%酢酸エチル/ヘキサン,25分間の勾配溶媒条件を用いて単離した。1H NMR(CDCl3)は化合物構造と一致した。純度>90%。
丸底フラスコで,亜硫酸ナトリウム(4.0E2mg,0.0031mol)を水(15mL,0.83mol)に溶解した。反応液を98℃に予熱した油浴に入れた。約20分後,塩は完全に溶解し,炭酸水素ナトリウム(99mg,0.0012mol)および塩化5−メチル−4−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−チオフェン−2−スルホニル(50,3.50E2mg,0.000981mol)の合わせた混合物を一度に加えた。反応の進行は,1時間ごとにTLC(20%酢酸エチル/ヘキサン)でモニターした。反応液を一晩加熱した後,TLCは出発物質がないことを示した。反応容器を室温に冷却し,内容物をアセトンドライアイス浴で凍結させた。一晩凍結乾燥することにより水を除去した。スルフィン酸塩をエタノール(40mL)に溶解し,98℃で30分間加熱し,次に熱濾過した。白色塩残渣を大量の熱エタノール(40mL)ですすいだ。回収した濾液を回転蒸発させて,所望の化合物を白色ガム状固体として得,これをさらに精製することなく用いた。1H NMR(CD3OD)は化合物構造と一致した。
火力乾燥40mLバイアルで,(3−エトキシ−5−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル(17,116mg,0.000339mol(実施例6のスキーム15の工程2と同様にして製造),5−メチル−4−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−チオフェン−2−スルフィン酸ナトリウム塩(51,195mg,0.000566mol),炭酸セシウム(289mg,0.000887mol)およびキサントホス(8mg,0.00001mol)をトルエン(5mg,0.00005mol)に加えた。次に容器をアルゴンでフラッシュし,トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)(8mg,0.000009mol)を速やかに加えた。反応液をアルゴン雰囲気下でさらに3−4分間撹拌した。この後,反応容器を117℃に設定した加熱ブロックに移し,一晩加熱した。バイアルを室温に冷却し,TLC(20%酢酸エチル/ヘキサン)は出発物質がないことを示した。粗反応混合物をフラスコに移し,溶媒を減圧下で除去した。これを酢酸エチル(60mL)および水(30mL)で希釈した。有機層を分離し,水性層を酢酸エチル(2x40mL)で洗浄した。有機画分を合わせ,ブラインで洗浄し,MgSO4で乾燥し,濾過した。濾液を濃縮し,シリカに吸着させてクロマトグラフィーを行った。所望の化合物は,フラッシュクロマトグラフィーにより,0−35%酢酸エチル/ヘキサン,40分間の勾配溶媒条件を用いて単離し,次の工程で用いた。1H NMRは化合物の構造と一致した。
メチルエステル52をテトラヒドロフラン/1NLiOH(4:1)の5mLの混合物に溶解し,一晩激しく撹拌した。反応液に1NHClを加えて酸性にし(pH試験紙によりpH0−1),酢酸エチルで抽出し(反応容量の3倍),MgSO4で乾燥した。所望の化合物は,フラッシュクロマトグラフィーにより,2%メタノール/クロロホルムを用いて単離した。1H NMR(CDCl3)は構造と一致した。純度>96%。
化合物P−0283は,スキーム26に示されるようにして,5工程で合成した。
スキーム26
電子レンジチューブで,2−ブロモ−5−メチル−チオフェン(53,400mg,0.002mol),4−(トリフルオロメチル)フェニルボロン酸(640mg,0.0034mol),および1NK2CO3をテトラヒドロフラン(3mL,0.04mol)中で混合した。容器をアルゴンでパージし,次にテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(10mg,0.000009mol)をすばやく加えた。反応容器を電子レンジチャンバに入れ,110℃で30分間加熱した後,TLC分析(ヘキサン)はなお出発物質および出発物質の近くの蛍光スポットを示した。溶媒を一部除去し,粗反応混合物をシリカに吸着させた。所望の化合物は,フラッシュクロマトグラフィーにより100%ヘキサンを用いて単離し,次の工程で用いた。1H NMRは化合物の構造と一致した。
火力乾燥した丸底フラスコを不活性条件下で氷浴に置き,クロロスルホン酸(250mg,0.0021mol)および乾燥ジクロロメタン(6mL,0.09mol)を混合した。反応フラスコをアルゴンでパージし,10−15分間撹拌した後,五塩化リン(210mg,0.00099mol)を加え,固体リンが溶解するまで反応液を撹拌した。5mLのジクロロメタンに溶解した2−メチル−5−(4−トリフルオロメチルフェニル)−チオフェン(54,200mg,0.0008mol)を撹拌した反応液にゆっくり加えた。添加が完了した後,反応液をアルゴン雰囲気下で4時間撹拌した。TLC分析(5%酢酸エチル/ヘキサン)は出発物質がほぼ消失し,より遅いRfの2つの新たなスポットが出現したことを示した。反応液を氷に注加し,撹拌した。氷が溶解した後,有機相を30mLのジクロロメタンで抽出し,ブライン(2x)で洗浄し,MgSO4で乾燥し,濾過した。溶媒を元の容量の半分まで蒸発させ,シリカを加え,次に溶媒を真空下で除去した。所望の化合物は,フラッシュクロマトグラフィーにより,0−5%酢酸エチル/ヘキサン,18分間,次に5−20%酢酸エチル,5分間の勾配溶媒条件を用いて単離し,次の工程で用いた。1H NMRは化合物の構造と一致した。計算値分子量322.32,MS(ESI)[M−H+]−=321.33。
丸底フラスコで,亜硫酸ナトリウム(100mg,0.0008mol)を水(9mL,0.5mol)に溶解した。反応フラスコを固体が完全に溶解するまで98℃で30分間加熱した。炭酸水素ナトリウム(33mg,0.00039mol)および塩化2−メチル−5−(4−トリフルオロメチルフェニル)チオフェン−2−スルホニル(55,112mg,0.000329mol)を同時に反応液に加え,冷却器を取り付けて反応液を一晩加熱した。16時間後,TLC分析(20%酢酸エチル/ヘキサン)は出発物質がないことを示した。反応液を室温に冷却し,溶媒を凍結乾燥により除去した。得られた固体を30mLのエタノールに溶解し,容器を30分間還流し,混合物を熱濾過した。塩を回収し,エタノールに再溶解し,上記の工程を繰り返した。濾液を回収し,減圧下で蒸発させて,所望のスルフィン酸塩を得た。1H NMR(CD3OD)は化合物構造と一致した。計算値分子量306.00,MS(ESI)[M−H+]−=305.01。
火力乾燥バイアルで,(3−エトキシ−5−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル(17,102mg,0.000298mol,実施例6のスキーム15の工程2と同様にして製造),2−メチル−5−(4−トリフルオロメチルフェニル)−チオフェン−3−スルフィン酸ナトリウム塩(56,75mg,0.00023mol),キサントホス(6mg,0.00001mol),炭酸セシウム(150mg,0.00046mol),およびトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)(5mg,0.000005mol)をトルエン(6mL,0.06mol)で混合した。バイアルをアルゴンで2−3分間パージし,反応液を117℃に予熱した油浴に入れて5時間置いた。10%酢酸エチル/ヘキサンを用いるTLC分析は所望の化合物を示した。バイアルを室温に冷却し,溶媒を回転蒸発乾固させた。粗混合物を酢酸エチル(3x30mL)および水(20mL)で抽出し,有機層を単離し,ブラインで洗浄し,MgSO4で乾燥し,濾過した。溶媒を減圧下で蒸発させた。得られた固体を最少量の酢酸エチルに再溶解し,これをシリカプレートに負荷した。所望の化合物は,プレートクロマトグラフィーにより単離し,10%酢酸エチル/ヘキサン溶媒で溶出した。1H NMRは化合物の構造と一致した。
メチルエステル57をテトラヒドロフラン/1NLiOH(4:1)の5mLの混合物に溶解し,一晩激しく撹拌した後,TLC(20%酢酸エチル/ヘキサン)は出発物質がないこと,およびベースライン近傍に新たなスポットを示した。反応液に1NHClを加えて酸性にし(pH試験紙によりpH0−1),酢酸エチルで抽出し(反応容量の3倍),MgSO4で乾燥した。所望の化合物は,フラッシュクロマトグラフィーにより,0−3%メタノール/ジクロロメタン,25分間の勾配溶媒条件を用いて単離した。1H NMR(CDCl3)は化合物構造と一致した。純度>96%。
化合物P−0279は,スキーム27に示されるようにして,5工程で合成した。
スキーム27
40mLの反応容器で,3−ブロモ−チオフェン(58,4.50E2mg,0.00276mol),4−トリフルオロメトキシフェニルボロン酸(683mg,0.00332mol),1NK2CO3(0.4mL),ヨウ化テトラ−n−ブチルアンモニウム(4mg,0.00001mol)およびテトラヒドロフラン(8mL,0.1mol)を混合した。混合物をアルゴン雰囲気下で2−5分間撹拌し,次にテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(8mg,0.000007mol)を加えた。容器を87℃に予熱した油浴に入れ,2日間撹拌した。TLC分析(ヘキサン)は出発物質および2つのより遅く移動するスポットを示した。反応液を濾過し,減圧下で濃縮した。粗反応混合物をシリカに吸着させ,所望の化合物をフラッシュクロマトグラフィーにより精製し,100%ヘキサンで溶出し,これをさらに精製することなく次の工程で用いた。1H NMRは化合物の構造と一致した。
火力乾燥丸底フラスコで,不活性条件下で,クロロスルホン酸(480mg,0.0042mol)をジクロロメタン(5mL,0.08mol)に溶解した。フラスコをアルゴン流下で氷浴に移し,五塩化リン(340mg,0.0016mol)を加えた。混合物を固体が溶解するまで撹拌した。3−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−チオフェン(59,328mg,0.00134mol)を4mLのジクロロメタンに溶解し,冷却五塩化リン−クロロスルホン酸混合物に加えた。反応液を不活性雰囲気下で一晩撹拌した後,TLC分析(ヘキサン)は出発物質がないこと,および20%酢酸エチル/ヘキサンの溶媒条件で新たなスポットの出現を示した。反応混合物を氷に注加し,ジクロロメタン(2x20mL)で抽出した。単離された有機層をブライン(3x20mL)で洗浄し,MgSO4で乾燥した。粗混合物を濾過し,溶媒を減圧下で蒸発させ,粗化合物をシリカに吸着させ,フラッシュクロマトグラフィーにより0−25%酢酸エチル/ヘキサン,20分間の勾配を用いて精製した。1H NMRは所望の2,3−置換パターンを有する化合物構造と一致した。
丸底フラスコで,亜硫酸ナトリウム(220mg,0.0017mol)を水(15mL,0.83mol)に溶解し,107℃で10−12分間加熱した。固体は徐々に溶液になった。塩化3−(4−トリフルオロメトキシフェニル)チオフェン−2−スルホニル(60,223mg,0.000651mol)および炭酸水素ナトリウム(62mg,0.00074mol)を秤量紙上で混合し,合わせた固体を還流溶液に加えた。4時間後,TLC分析(20%酢酸エチル/ヘキサン)は出発物質の存在を示した。窒素バルーンを反応フラスコに取り付け,反応液を一晩還流した後,TLCは出発物質がないことを示した。反応液を室温に冷却し,溶媒をアセトンドライアイス浴を用いて凍結し,溶媒を凍結乾燥により除去した。16時間後,固体塩を40mLのエタノールと混合し,40分間還流し,濾過した。回収した固体をエタノールに再溶解し,この工程を繰り返した。濾液を合わせ,溶媒を真空下で除去して,所望のスルフィン酸塩を得た。白色粉体を次の工程で用いた。
火力乾燥丸底フラスコで,不活性条件下で,(3−プロポキシ−5−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル(62,106mg,0.000298mol(実施例6のスキーム15の工程2と同様にして,ただし工程1においてヨードエタンの代わりに1−ヨードプロパンを用いて製造),3−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−チオフェン−2−スルフィン酸ナトリウム塩(61,221mg,0.000669mol),炭酸セシウム(295mg,0.000905mol),キサントホス(10mg,0.00002mol),トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)(10mg,0.00001mol),およびトルエン(15mL,0.14mol)を混合した。反応容器をアルゴンで5分間パージし,117℃で5時間加熱した後,TLC(20%酢酸エチル/ヘキサン)は出発物質がないこと,および複数の新たなスポットを示した。溶媒を減圧下で除去し,粗反応混合物を調製用シリカプレートに適用した。所望の化合物をプレートクロマトグラフィーにより20%酢酸エチル/ヘキサンを用いて単離した。1H NMRは化合物の構造と一致した。
メチルエステル63をテトラヒドロフラン/1NLiOH(4:1)の5mLの混合物に溶解し,一晩激しく撹拌した後,TLC(20%酢酸エチル/ヘキサン)は出発物質がないこと,および,ベースライン近傍に新たなスポットを示した。反応液に1NHClを加えて酸性にし(pH試験紙によりpH0−1),酢酸エチル(反応容量の3倍)で抽出し,MgSO4で乾燥した。所望の化合物はフラッシュクロマトグラフィーにより0−3%メタノール/ジクロロメタン,25分間の勾配溶媒条件を用いて単離した。1H NMR(CDCl3)は化合物構造と一致した。純度>96%。
化合物P−0278は,スキーム28に示されるようにして,5工程で合成した。
スキーム28
40mLの反応容器で,3−ブロモ−チオフェン(58,4.50E2mg,0.00276mol),4−(トリフルオロメチル)フェニルボロン酸(6.30E2mg,0.00332mol),1NK2CO3(0.4mL),ヨウ化テトラ−n−ブチルアンモニウム(4mg,0.00001mol)およびテトラヒドロフラン(8mL,0.1mol)を混合した。混合物をアルゴン雰囲気下で2−5分間撹拌し,次にテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(8mg,0.000007mol)を加えた。容器を87℃に予熱した油浴に入れ,2日間撹拌した後,TLC分析(ヘキサン)は出発物質および2つのより遅く移動するスポットを示した。反応液を濾過し,溶媒をシリカを用いて濃縮した。所望の化合物はフラッシュクロマトグラフィーにより,ヘキサンで溶出して単離し,次の工程で用いた。1H NMRは化合物の構造と一致した。
火力乾燥した丸底フラスコで,クロロスルホン酸(480mg,0.0042mol)をアルゴン雰囲気下でジクロロメタン(8mL,0.1mol)に溶解した。容器を氷浴に入れ,4−5分間撹拌した。五塩化リン(340mg,0.0016mol)を2分間かけてゆっくり加え,反応液を固体が溶解するまで撹拌した後,3mLジクロロメタンに溶解した3−(4−トリフルオロメチルフェニル)−チオフェン(64,306mg,0.00134mol)を加えた。反応液を窒素バルーン下で一晩撹拌した。16時間後,TLC分析(ヘキサン)は出発物質がないことを示し,20%酢酸エチル/ヘキサンで溶出すると,3つの新たなスポットが示された。反応液を氷を満たしたビーカーにゆっくり注加し,氷が溶解するまで撹拌した。これを30mLのジクロロメタンで溶出し,次にブライン(10mL)で2回洗浄し,塩を加えた後,乳濁層が消えるまで待った。有機層を回収し,MgSO4でよく乾燥し,次に回転蒸発により元の容量の半分にした。シリカを混合物に加え,溶媒を除去した。所望の化合物は,フラッシュクロマトグラフィーにより,0−25%酢酸エチル/ヘキサン,25分間の勾配を用いて単離し,これを次の工程で用いた。1H NMRは化合物の構造と一致した。
丸底フラスコで,亜硫酸ナトリウム(240mg,0.0019mol)を水に溶解した。反応容器を102℃に予熱した油浴に入れ,20−23分間加熱した。塩化4−(4−トリフルオロメチルフェニル)−チオフェン−2−スルホニル(65,250mg,0.00076mol)および炭酸水素ナトリウム(77mg,0.00092mol)を秤量紙上で混合し,反応液にゆっくり加えた。反応液を一晩加熱した後,TLC(20%酢酸エチル/ヘキサン)は出発物質がないことを示した。反応液を室温に冷却し,溶媒をアセトンドライアイス浴を用いて凍結した。溶媒を凍結乾燥により除去した。粗白色固体をエタノールと混合し,20分間還流し,次に熱濾過し,塩を大量の熱エタノールですすいだ。濾液を回収し,減圧下で蒸発させて,所望のスルフィン酸塩を得た。1H NMRは化合物の構造と一致した。計算値分子量291.98,MS(ESI)[M−H+]−=291.21。
火力乾燥したシンチレーションバイアルで,(3−エトキシ−5−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−フェニル)−酢酸メチルエステル(17,102mg,0.000298mol,実施例6のスキーム15の工程2と同様にして製造),4−(4−トリフルオロメチルフェニル)−チオフェン−2−スルフィン酸ナトリウム塩(66,112mg,0.000356mol),および炭酸セシウム(210mg,0.00064mol)をトルエン(4mL,0.04mol)に溶解した。混合物をアルゴンで数分間パージし,キサントホス(5mg,0.000009mol)およびトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)(5mg,0.000005mol)を加えた。バイアルに蓋をし,混合物を117℃で5時間加熱した後,TLC分析(20%酢酸エチル/ヘキサン)は痕跡量の出発物質および出発物質より下に移動した新たなスポット(蛍光)を示した。反応液を室温に冷却し,溶媒を減圧下で蒸発させた。粗混合物をシリカに吸着させた。所望の化合物は,フラッシュクロマトグラフィーにより,0−20%酢酸エチル/ヘキサン,25分間の勾配を用いて単離した。1H NMRは化合物の構造と一致した。
メチルエステル67を4mLのテトラヒドロフラン/1NLiOH(4:1)の混合物に溶解し,3時間激しく撹拌した後,TLC分析(20%酢酸エチル/ヘキサン)は出発物質がないこと,およびベースライン周辺に新たなスポットを示した。反応液に1NHClを加えて酸性にし(pH試験紙によりpH0−1),酢酸エチル(反応容量の3倍)で抽出し,MgSO4で乾燥した。所望の化合物は,フラッシュクロマトグラフィーにより,0−3%メタノール/ジクロロメタンの勾配を用いて単離した。1H NMR(CDCl3)は化合物構造と一致した。純度>96%.計算値分子量470.49,MS(ESI)[M−H+]−=468.24。
化合物P−0029は,以下のようにして4工程で合成した。
温度計,ストッパー,窒素入り口アダプターおよび磁気スターラーバーを備えた500mLの3ツ口フラスコに,2−(3,5−ジヒドロキシフェニル)酢酸メチル(5.33g,29.3mmol)およびN,N−ジメチルホルムアミド(100mL)を入れた。反応混合物を窒素下に置き,内部温度−50℃に冷却した。このとき,水素化ナトリウム(ミネラルオイル中60%分散物,2.34g,58.5mmol)を4回に分けて15分間かけて加え,その間に内部温度は−22℃に上昇した。得られたスラリーを室温で40分間撹拌した。透明な緑色の反応混合物を再び内部温度−50℃に冷却し,ヨードエタン(2.36mL,29.2mmol)を一度に加えた。次に反応混合物を−24℃浴に入れた。20分以内に内部温度は−57℃から−24℃に上昇した。内部温度を−24℃から−14℃に75分間保持し,次に95分間かけて+11℃まで暖めた。反応混合物をギ酸(15mL)でクエンチし,室温で20分間撹拌した。得られたスラリーを濾過し,少量の酢酸エチルですすぎ,減圧下で濃縮して,粘稠な橙色油状物を得,これをシリカゲルプラグに負荷した。ヘキサン中20%酢酸エチル,次にヘキサン中30%酢酸エチルで溶出して,油状物を得た。これは1H NMRにより,2−(3−エトキシ−5−ヒドロキシフェニル)酢酸メチルと同定された(2.84g,46%)。1H NMR(CDCl3):δ6.38(s,1H),6.33(s,1H),6.29(s,1H),3.97(q,J=7Hz,2H),3.68(s,3H),3.50(s,2H),1.37(t,J=7Hz,3H)。
滴加漏斗および窒素入り口アダプターを備えた1Lの丸底フラスコに,2−(3−エトキシ−5−ヒドロキシフェニル)酢酸メチル(2.1g,9.99mmol)およびジクロロメタン(19.98ml)を入れた。反応混合物を−78℃浴で窒素下で冷却した。N,N−ジイソプロピルエチルアミン(2.44ml,13.98mmol)を加え,次にジクロロメタン(10mL)中のトリフルオロメタン無水スルホン酸(2.02ml,11.99mmol)を6分間かけて滴加した。淡黄色スラリーを−78℃浴中で撹拌した。40分後,反応混合物を水(100mL)およびジクロロメタン(100mL)注加し,抽出した。ミルク状のジクロロメタン層をシリカゲルプラグに負荷し,ジクロロメタンで500mLを回収するまで溶出した。ジクロロメタン層を減圧下で濃縮して,3.12g(91%)の無色油状物を得た。これは1H NMRにより2−(3−エトキシ−5−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)フェニル)酢酸メチルと同定された。1H NMR(DMSO−d6):δ6.94(m,1H),6.92(m,2H),4.02(q,J=7Hz,2H),3.72(s,2H),3.58(s,3H),1.28(t,J=7Hz,3H)。
2−(3−エトキシ−5−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)フェニル)酢酸メチル(3.48g,10.17mmol)を以下のようにして2回に分けて反応させた。2−(3−エトキシ−5−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)フェニル)酢酸メチル(1.74g,5.08mmol),Cs2CO3(2.49g,7.64mmol),4−(4−(トリフルオロメチル)フェノキシ)ベンゼンスルフィン酸ナトリウム二水和物(2.09g,5.80mmol),トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)(0.465g,0.5mmol),4,5−ビス(ジフェニルホスフィノ)−9,9−ジメチルキサンテン(0.588g,1.0mmol),およびジオキサン(26mL)を80mL容器中で混合し,よく撹拌した。電子レンジでCEM(Matthews,NC)Discover(300watt)で160℃で5分間処理した。合わせた反応物を同じセライトパッドに注加し,ジクロロメタンで3−4回すすいだ。減圧下で40℃で濃縮して,橙色油状物(8.33g)を得,これをヘキサン中20%酢酸エチルを用いるシリカゲルクロマトグラフィーにより精製して,3.05g(60.6%)の2−(3−エトキシ−5−(4−(4−(トリフルオロメチル)フェノキシ)フェニルスルホニル)フェニル)酢酸メチルを得た。1H NMR(DMSO−d6):δ7.97(d,J=9Hz,2H),7.76(d,J=8.5Hz,2H),7.41(brs,1H),7.28−7.26(m,3H),7.21(d,J=9Hz,2H),7.11(brs,1H),4.05(q,J=7Hz,2H),3.75(s,2H),3.57(s,3H),1.28(t,J=7Hz,3H)。
2Lの丸底フラスコ中で,2−(3−エトキシ−5−(4−(4−(トリフルオロメチル)フェノキシ)フェニルスルホニル)フェニル)酢酸メチル(29.9g,60.4mmol)およびテトラヒドロフラン(201ml)を混合した。1N水酸化カリウム(72.4ml,72.4mmol)を5分間かけて滴加し,次に反応混合物が均一となるまでメタノールを加えた(約75mL)。溶液を室温で2時間撹拌し,次に減圧下で痕跡量のメタノールがすべて除去されるまで濃縮した。得られた淡褐色固体を2NHCl(350mL)と酢酸エチル(1.3L)との間に分配し,よく抽出した。酢酸エチル層を分離し,乾燥(Na2SO4)した。減圧下で濃縮して,泡状物(26.76g,91%)を得,これを1:1トルエン:ヘキサンから再結晶した。得られた固体を真空オーブン中で室温で一晩乾燥して,22.5g(84%)の{3−エトキシ−5−[4−(4−トリフルオロメチル−フェノキシ)ベンゼンスルホニル]−フェニル}酢酸(P−0029)を得た。1H NMR(DMSO−d6):δ12.43(brs,1H),7.97(d,J=8.9Hz,2H),7.75(d,J=8.5Hz,2H),7.4(brs,1H),7.28−7.26(m,3H),7.20(d,J=8.9Hz,2H),7.10(brs,1H),4.05(q,J=7Hz,2H),3.63(s,2H),1.28(t,J=7Hz,3H)。
遺伝子工学
PPARα,PPARγ,およびPPARδのリガンド結合ドメイン(LBDs)
をコードするプラスミドは,慣用のポリメラーゼ連鎖反応(PCR)法(pGal4−PPARα−LBD,pGal4−PPARγ−LBD,pGal4−PPARδ−LBD)を用いて遺伝子操作により作製した。アッセイにおいて用いた関連するDNA配列およびコードされる蛋白質配列をそれぞれについて示す(下記を参照)。種々のヒト組織からクローニングした相補的DNAはInvitrogenから購入し,これらをPCR反応の基質として用いた。PCR産物を開始するように,かつプラスミドとのライゲーションのための適当な制限酵素切断部位を与えるように,特別の注文合成オリゴヌクレオチドプライマーを設計した(Invitrogen,下記を参照)。
蛋白質発現のためには,目的とする遺伝子を含むプラスミドでE.coli BL21(DE3)RIL株(Invitrogen)を形質転換し,適当な抗生物質を含むLB寒天プレート上での成長について形質転換体を選択した。単一コロニーを200mlのLB培地中で37℃で4時間増殖させた。PPARαおよびPPARγ用には,すべての蛋白質発現は30Lのバイオリアクターを用いる大規模発酵により行った。400mlのスターター培養物を30LのTB培地に加え,37℃でOD600nmが2−5に達するまで成長させた。培養物を20℃に冷却し,0.5mMのIPTGを加え,培養物をさらに18時間成長させた。
PPARα:(核酸,配列番号_)(蛋白質,配列番号_)
PPARA
PPARA-S GCTGACACATATGGAAACTGCAGATCTCAAATC (配列番号_)
PPARA-A GTGACTGTCGACTCAGTACATGTCCCTGTAGA (配列番号_)
PPARG
PPARG-S GCTCAGACATATGGAGTCCGCTGACCTCCGGGC (配列番号_)
PPARG-A GTGACTGTCGACCTAGTACAAGTCCTTGTAGA (配列番号_)
PPARD
PPARD-G165 GTTGGATCCCAGTACAACCCACAGGTGGC (配列番号_)
PPARD-A GTGACTGTCGACTTAGTACATGTCCTTGTAGA (配列番号_)
均一系Alphaスクリーニングアッセイをアゴニストモードで用いて,PPAR(α,δ,γ)とコアクチベータであるビオチン−PGC−1ペプチド(ビオチン−AHX−DGTPPPQEAEEPSLLKKLLLAPANT−CONH2(配列番号_)),Wyethより供給)とのリガンド依存性相互作用を決定した。試験したすべての化合物は,DMSOで連続的に1:3で希釈して,全体で8種類の濃度点を用意した。サンプルは,実施例21にしたがって調製したHis−タグ付きPPAR−LBDとともに調製した。his−タグ付きPPAR−LBDに結合するNiキレートアクセプタビーズを加え,アゴニスト活性が,近接したドナービーズおよびアクセプタービーズからのシグナルと相関するように,コアクチベータ(Perkin−Elmer#6760619M)のビオチンに結合するストレプトアビジンドナービーズを加えた。各サンプルは,1μlの化合物および15μlの1.33xレセプター/ペプチドミックスを混合することにより調製し,室温で15分間インキュベートし,次に,アッセイバッファ中の4xビーズ4μlを加えた。アッセイバッファは,50mMHEPES(pH7.5),50mMKCl,1mMDTTおよび0.8%BSAであった。各サンプルの最終濃度は,25nMビオチン−PGC−1ペプチド,20nMのPPARγまたは10nMのPPARαまたはδ,および各ビーズ5μg/mlであり,化合物は最終DMSOが5%となるよう所望の濃度で加えた。WY−14643(PPARα),ファルグリタザール(farglitazar)(PPARγ)およびベザフィブレート(PPARδ)を,対照サンプルとしてアッセイした。サンプルを暗所で室温で1時間インキュベートし,その後FusionalphaまたはAlphaQuestリーダーで読みを取得した。シグナル対化合物濃度を用いてEC50を決定した。データはμMol/Lで表す。Fusionalpha装置からのデータポイントをアッセイExplorer(登録商標)(MDL)に移して,曲線を生成し,曲線の変曲点をEC50として計算した。
このアッセイは,意図される標的分子の細胞レベルでの調節に対して観察された生化学的活性(実施例22)を確認するために行う。293T細胞(ATCC)を,3mlの成長培地(ダルベッコイーグル培地,Mediatech,10%FBS)中で,6ウエルプレート(Corning3516)に1−2x106細胞/ウエルとなるよう播種した。これらを80−90%コンフルエントとなるまでインキュベートし,吸引により培地を除去した。これらの細胞を,アゴニストによりルシフェラーゼが活性化されるようにPPARLBDおよびルシフェラーゼでトランスフェクションした。試験化合物で処置したトランスフェクションした細胞のルシフェラーゼ活性の測定は,アゴニスト活性と直接相関する。100μlの無血清成長培地に,1μgのpFR−Luc(Stratageneカタログ番号219050),6μlのMetafectene(Biontex,Inc.)および1mgのpGal4−PPAR−LBD(実施例5からのα,γまたはδ)を加えた。これを倒置することにより混合し,次に室温で15−20分間インキュベートし,900μlの無血清成長培地で希釈した。これを293T細胞上に重層し,CO2インキュベータ中で37℃で4−5時間インキュベートした。トランスフェクション培地を吸引により除去し,成長培地を加え,細胞を24時間インキュベートした。次に細胞を5mlの成長培地に懸濁し,さらに15mlの成長培地で希釈した。各試験サンプルについて,95μlのトランスフェクションした細胞を96ウエル培養プレートのウエルに写した。試験した化合物はDMSO中で所望の最終濃度の200倍に希釈した。これを成長培地で10倍に希釈し,5μlを95μlのトランスフェクションした細胞に加えた。プレートをCO2インキュベータ中で37℃で24時間インキュベートした。ルシフェラーゼ反応混合物は,1mlの溶解バッファ,1mlの溶解バッファ中の基質,および3mlの反応バッファ(Roche Diagnostics Luciferase アッセイキット#1814036)を混合することにより調製した。各サンプルウエルについて,成長培地を50mlの反応混合物で置き換え,プレートを15−20分間振盪し,Victor2Vプレートリーダー(PerkinElmer)で発光を測定した。シグナル対化合物濃度を用いてEC50を決定した。
PPARA受託番号NM_005036(配列番号_)
Claims (76)
- 次の化学構造:
Xは,−C(O)OR16,−C(O)NR17R18,およびカルボン酸イソスターからなる群より選択され;
Wは,共有結合,−NR51(CR4R5)1−2−,−O−(CR4R5)1−2−,−S−(CR4R5)1−2−,−(CR4R5)1−3−,および−CR6=CR7−からなる群より選択され;
R1およびR2は,独立して,水素,ハロゲン,低級アルキル,低級アルケニル,低級アルキニル,−SR9,および−OR9からなる群より選択され,ここで,低級アルキル,低級アルケニルおよび低級アルキニルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルケニル,フルオロ置換低級アルケニル,低級アルキニル,フルオロ置換低級アルキニル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R3は,−[(CR4R5)m−(Y)p]r−R10および−[(CR4R5)m−(Y)p]r−Ar1−M−Ar2からなる群より選択され;
Lは,−O−,−S−,−NR52−,−C(Z)−,−S(O)n−,−C(Z)NR52−,−NR52C(Z)−,−NR52S(O)2−,−S(O)2NR52−,−NR52C(Z)NR52−,および−NR52S(O)2NR52−からなる群より選択され;
Yは,−O−,−S−,−NR53−,−C(Z)−,−S(O)n−,−C(Z)NR54−,−NR54C(Z)−,−NR54S(O)2−,−S(O)2NR54−,−NR54C(Z)NR54−,および−NR54S(O)2NR54−からなる群より選択され;
Ar1は,任意に置換されていてもよいアリーレンおよび任意に置換されていてもよいヘテロアリーレンからなる群より選択され;
Mは,共有結合,−CR19R20−,−O−,−S−,−NR53−,−C(Z)−,および−S(O)n−からなる群より選択され;
Ar2は,任意に置換されていてもよいアリールおよび任意に置換されていてもよいヘテロアリールからなる群より選択され;
R4およびR5は,それぞれの場合に独立して,水素,フルオロおよび低級アルキルからなる群より選択され,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;または
R4またはR5の一方は,フェニル,5−7員の単環のヘテロアリール,3−7員の単環のシクロアルキル,および5−7員の単環のヘテロシクロアルキルからなる群より選択され,およびR4およびR5の他方は,独立して,水素,フルオロおよび低級アルキルからなる群より選択され,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,およびフェニル,単環のヘテロアリール,単環のシクロアルキルおよび単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;または
同じまたは異なる炭素上のR4およびR5の任意の2つは,一緒になって,3−7員の単環のシクロアルキルまたは5−7員の単環のヘテロシクロアルキルを形成し,およびR4およびR5の他のものは,独立して,水素,フルオロおよび低級アルキルからなる群より選択され,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,および単環のシクロアルキルまたは単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R6およびR7は,独立して,水素または低級アルキルであり,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;または
R6およびR7の一方は,フェニル,5−7員の単環のヘテロアリール,3−7員の単環のシクロアルキル,および5−7員の単環のヘテロシクロアルキルからなる群より選択され,およびR6およびR7の他方は,水素または低級アルキルであり,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,およびフェニル,単環のヘテロアリール,単環のシクロアルキルおよび単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;または
R6およびR7は,一緒になって,5−7員の単環のシクロアルキルまたは5−7員の単環のヘテロシクロアルキルを形成し,ここで,単環のシクロアルキルまたは単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R9は,それぞれの場合に独立して,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,R9がC3−6アルケニルであるとき,そのアルケン炭素は,−OR9のOまたは−SR9のSには結合していない),C3−6アルキニル(ただし,R9がC3−6アルキニルであるとき,そのアルキン炭素は,−OR9のOまたは−SR9のSには結合していない),シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルケニル,フルオロ置換低級アルケニル,低級アルキニル,フルオロ置換低級アルキニル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,および低級アルキル,C3−6アルケニルおよびC3−6アルキニルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,−OR9のOまたは−SR9のSに結合しているアルキル,C3−6アルケニルまたはC3−6アルキニル炭素上の任意の置換基は,フルオロ,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,アルキル,C3−6アルケニルおよびC3−6アルキニルのシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリール置換基は,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルケニル,フルオロ置換低級アルケニル,低級アルキニル,フルオロ置換低級アルキニル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R10は,任意に置換されていてもよいシクロアルキル,任意に置換されていてもよいヘテロシクロアルキル,任意に置換されていてもよいアリール,および任意に置換されていてもよいヘテロアリールからなる群より選択され;
R51およびR52は,それぞれの場合に独立して,水素,低級アルキル,フェニル,5−7員の単環のヘテロアリール,3−7員の単環のシクロアルキル,および5−7員の単環のヘテロシクロアルキルからなる群より選択され,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,−NR51−または−NR52−のNに結合しているアルキル炭素上の任意の置換基はフルオロであり,およびフェニル,単環のヘテロアリール,単環のシクロアルキルおよび単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R53は,それぞれの場合に独立して,水素,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,R53がC3−6アルケニルであるとき,そのアルケン炭素は,−NR53−のNには結合していない),C3−6アルキニル(ただし,R53がC3−6アルキニルであるとき,そのアルキン炭素は,−NR53−のNには結合していない),シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,ヘテロアリール,−C(Z)NR11R12,−S(O)2NR11R12,−S(O)2R13,−C(Z)R13,および−C(Z)OR15からなる群より選択され,ここで,低級アルキル,C3−6アルケニル,およびC3−6アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,−NR22R23,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,−NR53−のNに結合しているアルキル,C3−6アルケニルまたはC3−6アルキニル炭素上の任意の置換基は,フルオロ,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR21,−SR21,−S(O)R21,−S(O)2R21,−C(Z)R21,−C(Z)OR21,−NR22R23,−C(Z)NR22R23,−S(O)2NR22R23,−C(NH)NR22R23,−NR21C(Z)R21,−NR21S(O)2R21,−NR21C(Z)NR22R23,−NR21S(O)2NR22R23,低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールの任意の低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニル置換基は,さらに任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,および−NR22R23からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R54は,それぞれの場合に独立して,水素,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,R54がC3−6アルケニルであるとき,そのアルケン炭素は,−NR54−のNには結合していない),C3−6アルキニル(ただし,R54がC3−6アルキニルであるとき,そのアルキン炭素は,−NR54−のNには結合していない),シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,低級アルキル,C3−6アルケニル,およびC3−6アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,−NR22R23,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,−NR54−のNに結合しているアルキル,C3−6アルケニルまたはC3−6アルキニル炭素上の任意の置換基は,フルオロ,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR21,−SR21,−S(O)R21,−S(O)2R21,−C(Z)R21,−C(Z)OR21,−NR22R23,−C(Z)NR22R23,−S(O)2NR22R23,−C(NH)NR22R23,−NR21C(Z)R21,−NR21S(O)2R21,−NR21C(Z)NR22R23,−NR21S(O)2NR22R23,低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールの任意の低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニル置換基は,さらに任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,および−NR22R23からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R11およびR12は,それぞれの場合に独立して,水素,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,R11および/またはR12がC3−6アルケニルであるとき,そのアルケン炭素は,−C(Z)NR11R12または−S(O)2NR11R12のNには結合していない),C3−6アルキニル(ただし,R11および/またはR12がC3−6アルキニルであるとき,そのアルキン炭素は,−C(Z)NR11R12または−S(O)2NR11R12のNには結合していない),シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,低級アルキル,C3−6アルケニル,およびC3−6アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,−NR22R23,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,−C(Z)NR11R12または−S(O)2NR11R12のNに結合しているアルキル,C3−6アルケニルまたはC3−6アルキニル炭素上の任意の置換基は,フルオロ,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR21,−SR21,−S(O)R21,−S(O)2R21,−C(Z)R21,−C(Z)OR21,−NR22R23,−C(Z)NR22R23,−S(O)2NR22R23,−C(NH)NR22R23,−NR21C(Z)R21,−NR21S(O)2R21,−NR21C(Z)NR22R23,−NR21S(O)2NR22R23,低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールの任意の低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニル置換基は,さらに任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,および−NR22R23からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;または
R11およびR12は,これらが結合している窒素と一緒になって,5−7員の単環のヘテロシクロアルキルまたは5または7員の単環の窒素含有ヘテロアリールを形成し,ここで,単環のヘテロシクロアルキルまたは単環の窒素含有ヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,−NO2,−CN,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,モノ−アルキルアミノ,ジ−アルキルアミノ,およびシクロアルキルアミノからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R13は,それぞれの場合に独立して,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,R13がC3−6アルケニルであるとき,そのアルケン炭素は,−C(Z)R13のC(Z)または−S(O)2R13のS(O)2には結合していない),C3−6アルキニル(ただし,R13がC3−6アルキニルであるとき,そのアルキン炭素は,−C(Z)R13のC(Z)または−S(O)2R13のS(O)2には結合していない),シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,低級アルキル,C3−6アルケニル,およびC3−6アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,−NR22R23,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR21,−SR21,−S(O)R21,−S(O)2R21,−C(Z)R21,−C(Z)OR21,−NR22R23,−C(Z)NR22R23,−S(O)2NR22R23,−C(NH)NR22R23,−NR21C(Z)R21,−NR21S(O)2R21,−NR21C(Z)NR22R23,−NR21S(O)2NR22R23,低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールの任意の低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニル置換基は,さらに任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,および−NR22R23からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R15は,それぞれの場合に独立して,水素,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,R15がC3−6アルケニルであるとき,そのアルケン炭素は,OR15のOには結合していない),C3−6アルキニル(ただし,R15がC3−6アルキニルであるとき,そのアルキン炭素は,OR15のOには結合していない),シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,低級アルキル,C3−6アルケニル,およびC3−6アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,−NR22R23,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,OR15のOに結合しているアルキル,C3−6アルケニルまたはC3−6アルキニル炭素上の任意の置換基は,フルオロ,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR21,−SR21,−S(O)R21,−S(O)2R21,−C(Z)R21,−C(Z)OR21,−NR22R23,−C(Z)NR22R23,−S(O)2NR22R23,−C(NH)NR22R23,−NR21C(Z)R21,−NR21S(O)2R21,−NR21C(Z)NR22R23,−NR21S(O)2NR22R23,低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールの任意の低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニル置換基は,さらに任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,および−NR22R23からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R16は,水素,低級アルキル,フェニル,5−7員の単環のヘテロアリール,3−7員の単環のシクロアルキル,および5−7員の単環のヘテロシクロアルキルからなる群より選択され,ここで,フェニル,単環のヘテロアリール,単環のシクロアルキルおよび単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,および低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオおよびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,R16が低級アルキルであるとき,OR16のOに結合しているアルキル炭素上の任意の置換基はフルオロであり;
R17およびR18は,独立して,水素,低級アルキル,フェニル,5−7員の単環のヘテロアリール,3−7員の単環のシクロアルキル,および5−7員の単環のヘテロシクロアルキルからなる群より選択され,ここで,フェニル,単環のヘテロアリール,単環のシクロアルキルおよび単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオおよびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,R17および/またはR18が低級アルキルであるとき,NR17R18のNに結合しているアルキル炭素上の任意の置換基はフルオロであり;または
R17およびR18は,これらが結合している窒素と一緒になって,5−7員の単環のヘテロシクロアルキルまたは5または7員の窒素含有単環ヘテロアリールを形成し,ここで,単環のヘテロシクロアルキルまたは単環の窒素含有ヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R19およびR20は,独立して,水素,低級アルキル,低級アルケニル,低級アルキニル,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,−NR22R23,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR21,−SR21,−S(O)R21,−S(O)2R21,−C(Z)R21,−C(Z)OR21,−NR22R23,−C(Z)NR22R23,−S(O)2NR22R23,−C(NH)NR22R23,−NR21C(Z)R21,−NR21S(O)2R21,−NR21C(Z)NR22R23,−NR21S(O)2NR22R23,低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールの任意の低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニル置換基は,さらに任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,および−NR22R23からなる群より選択される置換基で置換されていてもよく;または
R19およびR20は,一緒になって,3−7員の単環のシクロアルキルまたは5−7員の単環のヘテロシクロアルキルを形成し,ここで,単環のシクロアルキルまたは単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R21,R22,およびR23は,それぞれの場合に独立して,水素,または任意にフルオロ,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,モノ−アルキルアミノ,ジ−アルキルアミノ,およびシクロアルキルアミノからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい低級アルキルであり,ただし,OR21,SR21,NR21,NR22またはNR23のいずれかのO,S,またはNに結合している低級アルキル炭素上の任意の置換基はフルオロであり,およびS,S(O),S(O)2またはC(Z)に結合しているR21は水素ではなく;または
R22およびR23は,これらが結合している窒素と一緒になって,5−7員の単環のヘテロシクロアルキルまたは5または7員の単環の窒素含有ヘテロアリールを形成し,ここで,単環のヘテロシクロアルキルまたは単環の窒素含有ヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,−NO2,−CN,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,モノ−アルキルアミノ,ジ−アルキルアミノ,およびシクロアルキルアミノからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
ZはOまたはSであり;
mは1,2,3,または4であり;
nは1または2であり;
pは0または1であり,ただしpが1であり,mが1であり,Lが−O−,−S−,−NR52−,−C(Z)NR52−,−S(O)2NR52−,−NR52C(Z)NR52−,またはNR52S(O)2NR52−であるとき,Yは,−O−,−S−,−NR53−,−NR54C(Z)−,−NR54S(O)2−,−NR54C(Z)NR54−,またはNR54S(O)2NR54−ではなく;および
rは0または1である]
を有する化合物,そのすべての塩,プロドラッグ,互変異性体,および異性体。 - Lは−S(O)2−であり,R3はR10であり,ここでR10は任意に置換されていてもよいフェニルである,請求項1記載の化合物。
- R10は,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,およびフルオロ置換低級アルコキシからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよいフェニルである,請求項2記載の化合物。
- Lは−O−であり,R3はR10であり,ここで,R10は任意に置換されていてもよいフェニルである,請求項1記載の化合物。
- R10は,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,およびフルオロ置換低級アルコキシからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよいフェニルである,請求項4記載の化合物。
- R1およびR2の少なくとも1つは−OR9である,請求項1−5のいずれかに記載の化合物。
- R1およびR2の一方は−OR9であり,R1およびR2の他方は水素またはハロである,請求項6記載の化合物。
- R2は−OR9であり,R1は水素である,請求項7記載の化合物。
- R9は,任意に,フルオロ,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,シクロアルキル,およびフルオロ置換シクロアルキルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい低級アルキルである,請求項8記載の化合物。
- XはC(O)OR16である,請求項7−9のいずれかに記載の化合物。
- R16はHである,請求項10記載の化合物。
- Wは−(CR4R5)1−3−である,請求項11記載の化合物。
- Wは−CH2−または−CH2CH2−である,請求項12記載の化合物。
- R9は,任意に,フルオロ,−OH,低級アルコキシ,および低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい低級アルキルである,請求項13記載の化合物。
- 以下の化学構造:
Xは,−C(O)OR16,−C(O)NR17R18,およびカルボン酸イソスターからなる群より選択され;
Wは,共有結合,−NR51(CR4R5)1−2−,−O−(CR4R5)1−2−,−S−(CR4R5)1−2−,−(CR4R5)1−3−,および−CR6=CR7−からなる群より選択され;
Yは,−O−,−S−,−NR53−,−C(Z)−,−S(O)n−,−C(Z)NR54−,−NR54C(Z)−,−NR54S(O)2−,−S(O)2NR54−,−NR54C(Z)NR54−,および−NR54S(O)2NR54−からなる群より選択され;
Mは,共有結合,−CR19R20−,−O−,−S−,−NR53−,−C(Z)−,および−S(O)n−からなる群より選択され;
Ar1aは,アリーレンおよびヘテロアリーレンからなる群より選択され;
Ar2aは,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択され;
R1およびR2は,独立して,水素,ハロゲン,低級アルキル,低級アルケニル,低級アルキニル,−SR9,および−OR9からなる群より選択され,ここで,低級アルキル,低級アルケニルおよび低級アルキニルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルケニル,フルオロ置換低級アルケニル,低級アルキニル,フルオロ置換低級アルキニル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R4およびR5は,それぞれの場合に独立して,水素,フルオロおよび低級アルキルからなる群より選択され,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;または
R4またはR5の1つは,フェニル,5−7員の単環のヘテロアリール,3−7員の単環のシクロアルキル,および5−7員の単環のヘテロシクロアルキルからなる群より選択され,およびR4およびR5の他のものは,独立して,水素,フルオロおよび低級アルキルからなる群より選択され,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,およびフェニル,単環のヘテロアリール,単環のシクロアルキルおよび単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;または
同じまたは異なる炭素上のR4およびR5の任意の2つは,一緒になって,3−7員の単環のシクロアルキルまたは5−7員の単環のヘテロシクロアルキルを形成し,R4およびR5の他のものは,独立して,水素,フルオロおよび低級アルキルからなる群より選択され,ただし,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,および単環のシクロアルキルまたは単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R6およびR7は,独立して,水素または低級アルキルであり,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;または
R6およびR7の1つは,フェニル,5−7員の単環のヘテロアリール,3−7員の単環のシクロアルキル,および5−7員の単環のヘテロシクロアルキルからなる群より選択され,R6およびR7の他のものは水素または低級アルキルであり,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,およびフェニル,単環のヘテロアリール,単環のシクロアルキルおよび単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;または
R6およびR7は,一緒になって,5−7員の単環のシクロアルキルまたは5−7員の単環のヘテロシクロアルキルを形成し,ここで,単環のシクロアルキルまたは単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R9は,それぞれの場合に独立して,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,R9がC3−6アルケニルであるとき,そのアルケン炭素は,−OR9のOまたは−SR9のSには結合していない),C3−6アルキニル(ただし,R9がC3−6アルキニルであるとき,そのアルキン炭素は,−OR9のOまたは−SR9のSには結合していない),シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルケニル,フルオロ置換低級アルケニル,低級アルキニル,フルオロ置換低級アルキニル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,および低級アルキル,C3−6アルケニルおよびC3−6アルキニルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,−OR9のOまたは−SR9のSに結合しているアルキル,C3−6アルケニルまたはC3−6アルキニル炭素上の任意の置換基は,フルオロ,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,アルキル,C3−6アルケニルおよびC3−6アルキニルのシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリール置換基は,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルケニル,フルオロ置換低級アルケニル,低級アルキニル,フルオロ置換低級アルキニル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R51は,水素,低級アルキル,フェニル,5−7員の単環のヘテロアリール,3−7員の単環のシクロアルキル,および5−7員の単環のヘテロシクロアルキルからなる群より選択され,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,−NR51−のNに結合しているアルキル炭素上の任意の置換基はフルオロであり,およびフェニル,単環のヘテロアリール,単環のシクロアルキルおよび単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R53は,それぞれの場合に独立して,水素,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,R53がC3−6アルケニルであるとき,そのアルケン炭素は,−NR53−のNには結合していない),C3−6アルキニル(ただし,R53がC3−6アルキニルであるとき,そのアルキン炭素は,−NR53−のNには結合していない),シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,ヘテロアリール,−C(Z)NR11R12,−S(O)2NR11R12,−S(O)2R13,−C(Z)R13,および−C(Z)OR15からなる群より選択され,ここで,低級アルキル,C3−6アルケニル,およびC3−6アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,−NR22R23,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,−NR53−のNに結合しているアルキル,C3−6アルケニルまたはC3−6アルキニル炭素上の任意の置換基は,フルオロ,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR21,−SR21,−S(O)R21,−S(O)2R21,−C(Z)R21,−C(Z)OR21,−NR22R23,−C(Z)NR22R23,−S(O)2NR22R23,−C(NH)NR22R23,−NR21C(Z)R21,−NR21S(O)2R21,−NR21C(Z)NR22R23,−NR21S(O)2NR22R23,低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールの任意の低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニル置換基は,さらに任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,および−NR22R23からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R54は,それぞれの場合に独立して,水素,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,R54がC3−6アルケニルであるとき,そのアルケン炭素は,−NR54−のNには結合していない),C3−6アルキニル(ただし,R54がC3−6アルキニルであるとき,そのアルキン炭素は,−NR54−のNには結合していない),シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,低級アルキル,C3−6アルケニル,およびC3−6アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,−NR22R23,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,−NR54−のNに結合しているアルキル,C3−6アルケニルまたはC3−6アルキニル炭素上の任意の置換基は,フルオロ,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR21,−SR21,−S(O)R21,−S(O)2R21,−C(Z)R21,−C(Z)OR21,−NR22R23,−C(Z)NR22R23,−S(O)2NR22R23,−C(NH)NR22R23,−NR21C(Z)R21,−NR21S(O)2R21,−NR21C(Z)NR22R23,−NR21S(O)2NR22R23,低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールの任意の低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニル置換基は,任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,および−NR22R23からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R11およびR12は,それぞれの場合に独立して,水素,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,R11および/またはR12がC3−6アルケニルであるとき,そのアルケン炭素は,−C(Z)NR11R12または−S(O)2NR11R12のNには結合していない),C3−6アルキニル(ただし,R11および/またはR12がC3−6アルキニルであるとき,そのアルキン炭素は,−C(Z)NR11R12または−S(O)2NR11R12のNには結合していない),シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,低級アルキル,C3−6アルケニル,およびC3−6アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,−NR22R23,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,−C(Z)NR11R12または−S(O)2NR11R12のNに結合しているアルキル,C3−6アルケニルまたはC3−6アルキニル炭素上の任意の置換基は,フルオロ,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR21,−SR21,−S(O)R21,−S(O)2R21,−C(Z)R21,−C(Z)OR21,−NR22R23,−C(Z)NR22R23,−S(O)2NR22R23,−C(NH)NR22R23,−NR21C(Z)R21,−NR21S(O)2R21,−NR21C(Z)NR22R23,−NR21S(O)2NR22R23,低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールの任意の低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニル置換基は,さらに任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,および−NR22R23からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;または
R11およびR12は,これらが結合している窒素と一緒になって,5−7員の単環のヘテロシクロアルキルまたは5または7員の単環の窒素含有ヘテロアリールを形成し,ここで,単環のヘテロシクロアルキルまたは単環の窒素含有ヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,−NO2,−CN,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,モノ−アルキルアミノ,ジ−アルキルアミノ,およびシクロアルキルアミノからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R13は,それぞれの場合に独立して,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,R13がC3−6アルケニルであるとき,そのアルケン炭素は,−C(Z)R13のC(Z),または−S(O)2R13のS(O)2には結合していない),C3−6アルキニル(ただし,R13がC3−6アルキニルであるとき,そのアルキン炭素は,−C(Z)R13のC(Z)または−S(O)2R13のS(O)2には結合していない),シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,低級アルキル,C3−6アルケニル,およびC3−6アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,−NR22R23,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR21,−SR21,−S(O)R21,−S(O)2R21,−C(Z)R21,−C(Z)OR21,−NR22R23,−C(Z)NR22R23,−S(O)2NR22R23,−C(NH)NR22R23,−NR21C(Z)R21,−NR21S(O)2R21,−NR21C(Z)NR22R23,−NR21S(O)2NR22R23,低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールの任意の低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニル置換基は,さらに任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,および−NR22R23からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R15は,それぞれの場合に独立して,水素,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,R15がC3−6アルケニルであるとき,そのアルケン炭素は,OR15のOには結合していない),C3−6アルキニル(ただし,R15がC3−6アルキニルであるとき,そのアルキン炭素は,OR15のOには結合していない),シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,低級アルキル,C3−6アルケニル,およびC3−6アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,−NR22R23,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,OR15のOに結合しているアルキル,C3−6アルケニルまたはC3−6アルキニル炭素上の任意の置換基は,フルオロ,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR21,−SR21,−S(O)R21,−S(O)2R21,−C(Z)R21,−C(Z)OR21,−NR22R23,−C(Z)NR22R23,−S(O)2NR22R23,−C(NH)NR22R23,−NR21C(Z)R21,−NR21S(O)2R21,−NR21C(Z)NR22R23,−NR21S(O)2NR22R23,低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールの任意の低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニル置換基は,さらに任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,および−NR22R23からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R16は,水素,低級アルキル,フェニル,5−7員の単環のヘテロアリール,3−7員の単環のシクロアルキル,および5−7員の単環のヘテロシクロアルキルからなる群より選択され,ここで,フェニル,単環のヘテロアリール,単環のシクロアルキルおよび単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,および低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオおよびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,R16が低級アルキルであるとき,OR16のOに結合しているアルキル炭素上の任意の置換基はフルオロであり;
R17およびR18は,独立して,水素,低級アルキル,フェニル,5−7員の単環のヘテロアリール,3−7員の単環のシクロアルキル,および5−7員の単環のヘテロシクロアルキルからなる群より選択され,ここで,フェニル,単環のヘテロアリール,単環のシクロアルキルおよび単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,および低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオおよびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,R17および/またはR18が低級アルキルであるとき,NR17R18のNに結合しているアルキル炭素上の任意の置換基はフルオロであり;または
R17およびR18は,これらが結合している窒素と一緒になって,5−7員の単環のヘテロシクロアルキルまたは5または7員の窒素含有単環ヘテロアリールを形成し,ここで,単環のヘテロシクロアルキルまたは単環の窒素含有ヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R19およびR20は,独立して,水素,低級アルキル,低級アルケニル,低級アルキニル,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,−NR22R23,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR21,−SR21,−S(O)R21,−S(O)2R21,−C(Z)R21,−C(Z)OR21,−NR22R23,−C(Z)NR22R23,−S(O)2NR22R23,−C(NH)NR22R23,−NR21C(Z)R21,−NR21S(O)2R21,−NR21C(Z)NR22R23,−NR21S(O)2NR22R23,低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールの任意の低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニル置換基は,さらに任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,および−NR22R23からなる群より選択される置換基で置換されていてもよく;または
R19およびR20は,一緒になって,3−7員の単環のシクロアルキルまたは5−7員の単環のヘテロシクロアルキルを形成し,ここで,単環のシクロアルキルまたは単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R21,R22,およびR23は,それぞれの場合に独立して,水素,または任意にフルオロ,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,モノ−アルキルアミノ,ジ−アルキルアミノ,およびシクロアルキルアミノからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい低級アルキルであり,ただし,OR21,SR21,NR21,NR22またはNR23のいずれかのO,S,またはNに結合している低級アルキル炭素上の任意の置換基はフルオロであり,およびS,S(O),S(O)2またはC(Z)に結合しているR21は水素ではなく;または
R22およびR23は,これらが結合している窒素と一緒になって,5−7員の単環のヘテロシクロアルキルまたは5または7員の単環の窒素含有ヘテロアリールを形成し,ここで,単環のヘテロシクロアルキルまたは単環の窒素含有ヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,−NO2,−CN,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,モノ−アルキルアミノ,ジ−アルキルアミノ,およびシクロアルキルアミノからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R24は,それぞれの場合に独立して,ハロゲン,低級アルキル,低級アルケニル,低級アルキニル,−NO2,−CN,−OR26,−SR26,−OC(O)R26,−OC(S)R26,−C(O)R26,−C(S)R26,−C(O)OR26,−C(S)OR26,−S(O)R26,−S(O)2R26,−C(O)NR27R28,−C(S)NR27R28,−S(O)2NR27R28,−C(NH)NR27R28,−NR26C(O)R26,−NR26C(S)R26,−NR26S(O)2R26,NR26C(O)NR27R28,NR26C(S)NR27R28,−NR26S(O)2NR27R28,および−NR27R28からなる群より選択され,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,および−NR37R38からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,および低級アルケニルおよび低級アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,−NR37R38,および−R35からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R25は,それぞれの場合に独立して,ハロゲン,低級アルキル,低級アルケニル,低級アルキニル,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,ヘテロアリール,−NO2,−CN,−OR29,−SR29,−OC(O)R29,−OC(S)R29,−C(O)R29,−C(S)R29,−C(O)OR29,−C(S)OR29,−S(O)R29,−S(O)2R29,−C(O)NR29R29,−C(S)NR29R29,−S(O)2NR29R29,−C(NH)NR30R31,−NR29C(O)R29,−NR29C(S)R29,−NR29S(O)2R29,−NR29C(O)NR29R29,−NR29C(S)NR29R29,−NR29S(O)2NR29R29,および−NR29R29からなる群より選択され,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,−NR37R38,および−R32からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,および低級アルケニルおよび低級アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,−NR37R38,−R35および−R32からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR36,−SR36,−NR37R38,−R35,−R33,および−R34からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R26,R27およびR28は,それぞれの場合に独立して,水素,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,そのアルケン炭素は,R24のO,S,N,C(O),C(S),S(O)またはS(O)2のいずれにも結合していない),およびC3−6アルキニル(ただし,そのアルキン炭素は,R24のO,S,N,C(O),C(S),S(O)またはS(O)2のいずれにも結合していない)からなる群より選択され,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,および−NR37R38からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,および低級アルケニルおよび低級アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,−NR37R38,および−R35からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,S,C(O),C(S),S(O),またはS(O)2に結合しているR26は水素ではなく,または
R27およびR28は,これらが結合している窒素と一緒になって,シクロアルキルアミノを形成し;
R29,R30およびR31は,それぞれの場合に独立して,水素,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,そのアルケン炭素は,R25のO,S,N,C(O),C(S),S(O)またはS(O)2のいずれにも結合していない),C3−6アルキニル(ただし,そのアルキン炭素は,R25のO,S,N,C(O),C(S),S(O)またはS(O)2のいずれにも結合していない),シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択され,または
R30およびR31これらが結合している窒素と一緒になって,5−7員のヘテロシクロアルキルまたは5または7員の窒素含有ヘテロアリールを形成し,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,−NR37R38,および−R32からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,および低級アルケニルおよび低級アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,−NR37R38,−R35および−R32からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,ヘテロアリール,5−7員のヘテロシクロアルキル,および5または7員の窒素含有ヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OH,−NH2,−OR36,−SR36,−NHR36,−NR37R38,−R33,−R34,および−R35からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,S,C(O),C(S),S(O),またはS(O)2に結合しているR29は水素ではなく;
R32は,それぞれの場合に独立して,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR36,−SR36,−NR37R38,−R33,−R34,および−R35からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R33は,それぞれの場合に独立して,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,−NR37R38,および−R35からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい低級アルケニルであり;
R34は,それぞれの場合に独立して,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,−NR37R38,および−R35からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい低級アルキニルであり;
R35は,それぞれの場合に独立して,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,および−NR37R38からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい低級アルキルであり;
R36,R37およびR38は,それぞれの場合に独立して,水素,または任意にフルオロ,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,モノ−アルキルアミノ,ジ−アルキルアミノ,およびシクロアルキルアミノからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい低級アルキルであり,または−NR37R38はシクロアルキルアミノであり,ただし,OR36,SR36,NR36,NR37またはNR38のいずれかのO,S,またはNに結合している低級アルキル炭素上の任意の置換基はフルオロであり,およびSに結合しているR36水素ではなく;
ZはOまたはSであり;
nは1または2であり;
uは0,1,2,3または4であり;
vは0,1,2,3,4,または5であり;
pは0または1であり;および
tは0,1,2,3または4であり,ただし,t=0であるときp=0である]
を有する,請求項1記載の化合物,そのすべての塩,プロドラッグ,互変異性体,および異性体。 - R1およびR2の少なくとも1つは−OR9である,請求項15記載の化合物。
- R1およびR2の一方は−OR9であり,R1およびR2の他方は水素またはハロである,請求項16記載の化合物。
- R2は−OR9であり,R1は水素である,請求項17記載の化合物。
- R9は,任意に,フルオロ,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,シクロアルキル,およびフルオロ置換シクロアルキルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい低級アルキルである,請求項18記載の化合物。
- 以下の化学構造:
- R1およびR2の少なくとも1つは−OR9である,請求項20記載の化合物。
- R1およびR2の一方は−OR9であり,R1およびR2の他方は水素またはハロである,請求項21記載の化合物。
- R2は−OR9であり,R1は水素である,請求項22記載の化合物。
- R9は,任意に,フルオロ,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,シクロアルキル,およびフルオロ置換シクロアルキルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい低級アルキルである,請求項23記載の化合物。
- Ar1aはフェニルであり,MはS(O)2に対してパラ位でAr1aに結合している,請求項20−24のいずれかに記載の化合物。
- Ar2aはフェニルである,請求項25記載の化合物。
- vは1であり,R25はMに対してパラ位で結合している,請求項26記載の化合物。
- Mは共有結合または−O−である,請求項27記載の化合物。
- XはC(O)OR16である,請求項28記載の化合物。
- R16はHである,請求項29記載の化合物。
- Wは−(CR4R5)1−3−である,請求項30記載の化合物。
- Wは−CH2−または−CH2CH2−である,請求項31記載の化合物。
- R9は,任意に,フルオロ,低級アルコキシ,および低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい低級アルキルであり,Ar1aはフェニルであり,Mは共有結合または−O−であり,かつ,S(O)2に対してパラ位でAr1aに結合しており,uは0であり,vは1であり,Ar2aはフェニルであり,Wは−CH2−であり,Xは−COOHであり,R25は,ハロゲン,低級アルキル,低級アルコキシ,および低級アルキルチオからなる群より選択され,ここで,低級アルキル,低級アルコキシ,および低級アルキルチオは,任意に,フルオロ,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい,請求項24記載の化合物。
- R9は低級アルキルであり,Mは−O−であり,およびR25は任意にフルオロで置換されていてもよい低級アルキルまたは任意にフルオロで置換されていてもよい低級アルコキシである,請求項33記載の化合物。
- R25はMに対してパラ位でAr2aに結合している,請求項34記載の化合物。
- R25はMに対してメタ位でAr2aに結合している,請求項34記載の化合物。
- R9は,任意に,フルオロ,低級アルコキシ,および低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい低級アルキルであり,Ar1aはフェニルであり,Mは共有結合または−O−であり,かつ−S(O)2−に対してメタ位でAr1aに結合しており,uは0であり,vは1であり,Ar2aはフェニルであり,Wは−CH2−であり,Xは−COOHであり,R25は,ハロゲン,低級アルキル,低級アルコキシ,および低級アルキルチオからなる群より選択され,ここで,低級アルキル,低級アルコキシ,および低級アルキルチオは,任意に,フルオロ,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい,請求項24記載の化合物。
- R9は低級アルキルであり,R25は任意にフルオロで置換されていてもよい低級アルキルまたは任意にフルオロで置換されていてもよい低級アルコキシである,請求項37記載の化合物。
- R25はMに対してパラ位でAr2aに結合している,請求項38記載の化合物。
- R25はMに対してメタ位でAr2aに結合している,請求項38記載の化合物。
- 以下の化学構造:
Xは,−C(O)OR16,−C(O)NR17R18,およびカルボン酸イソスターからなる群より選択され;
Wは,共有結合,−NR51(CR4R5)1−2−,−O−(CR4R5)1−2−,−S−(CR4R5)1−2−,−(CR4R5)1−3−,および−CR6=CR7−からなる群より選択され;
Yは,−O−,−S−,−NR53−,−C(Z)−,−S(O)n−,−C(Z)NR54−,−NR54C(Z)−,−NR54S(O)2−,−S(O)2NR54−,−NR54C(Z)NR54−,および−NR54S(O)2NR54−からなる群より選択され;
Mは,共有結合,−CR19R20−,−O−,−S−,−NR53−,−C(Z)−,および−S(O)n−からなる群より選択され;
Ar1aは,アリーレンおよびヘテロアリーレンからなる群より選択され;
Ar2aは,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択され;
R1およびR2は,独立して,水素,ハロゲン,低級アルキル,低級アルケニル,低級アルキニル,−SR9,および−OR9からなる群より選択され,ここで,低級アルキル,低級アルケニルおよび低級アルキニルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルケニル,フルオロ置換低級アルケニル,低級アルキニル,フルオロ置換低級アルキニル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R4およびR5は,それぞれの場合に独立して,水素,フルオロおよび低級アルキルからなる群より選択され,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;または
R4またはR5の1つは,フェニル,5−7員の単環のヘテロアリール,3−7員の単環のシクロアルキル,および5−7員の単環のヘテロシクロアルキルからなる群より選択され,R4およびR5の他のものは,独立して,水素,フルオロおよび低級アルキルからなる群より選択され,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,およびフェニル,単環のヘテロアリール,単環のシクロアルキルおよび単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;または
同じまたは異なる炭素上のR4およびR5の任意の2つは,一緒になって,3−7員の単環のシクロアルキルまたは5−7員の単環のヘテロシクロアルキルを形成し,R4およびR5の他のものは,独立して,水素,フルオロおよび低級アルキルからなる群より選択され,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,および単環のシクロアルキルまたは単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R6およびR7は,独立して,水素または低級アルキルであり,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;または
R6およびR7の1つは,フェニル,5−7員の単環のヘテロアリール,3−7員の単環のシクロアルキル,および5−7員の単環のヘテロシクロアルキルからなる群より選択され,R6およびR7の他のものは水素または低級アルキルであり,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,およびフェニル,単環のヘテロアリール,単環のシクロアルキルおよび単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;または
R6およびR7は,一緒になって,5−7員の単環のシクロアルキルまたは5−7員の単環のヘテロシクロアルキルを形成し,ここで,単環のシクロアルキルまたは単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R9は,それぞれの場合に独立して,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,R9がC3−6アルケニルであるとき,そのアルケン炭素は,−OR9のOまたは−SR9のSには結合していない),C3−6アルキニル(ただし,R9がC3−6アルキニルであるとき,そのアルキン炭素は,−OR9のOまたは−SR9のSには結合していない),シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルケニル,フルオロ置換低級アルケニル,低級アルキニル,フルオロ置換低級アルキニル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,および低級アルキル,C3−6アルケニルおよびC3−6アルキニルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,−OR9のOまたは−SR9のSに結合しているアルキル,C3−6アルケニルまたはC3−6アルキニル炭素上の任意の置換基は,フルオロ,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,アルキル,C3−6アルケニルおよびC3−6アルキニルのシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリール置換基は,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルケニル,フルオロ置換低級アルケニル,低級アルキニル,フルオロ置換低級アルキニル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R51は,水素,低級アルキル,フェニル,5−7員の単環のヘテロアリール,3−7員の単環のシクロアルキル,および5−7員の単環のヘテロシクロアルキルからなる群より選択され,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,−NR51−のNに結合しているアルキル炭素上の任意の置換基はフルオロであり,およびフェニル,単環のヘテロアリール,単環のシクロアルキルおよび単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R53は,それぞれの場合に独立して,水素,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,R53がC3−6アルケニルであるとき,そのアルケン炭素は,−NR53−のNには結合していない),C3−6アルキニル(ただし,R53がC3−6アルキニルであるとき,そのアルキン炭素は,−NR53−のNには結合していない),シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,ヘテロアリール,−C(Z)NR11R12,−S(O)2NR11R12,−S(O)2R13,−C(Z)R13,および−C(Z)OR15からなる群より選択され,ここで,低級アルキル,C3−6アルケニル,およびC3−6アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,−NR22R23,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,−NR53−のNに結合しているアルキル,C3−6アルケニルまたはC3−6アルキニル炭素上の任意の置換基は,フルオロ,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR21,−SR21,−S(O)R21,−S(O)2R21,−C(Z)R21,−C(Z)OR21,−NR22R23,−C(Z)NR22R23,−S(O)2NR22R23,−C(NH)NR22R23,−NR21C(Z)R21,−NR21S(O)2R21,−NR21C(Z)NR22R23,−NR21S(O)2NR22R23,低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールの任意の低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニル置換基は,さらに任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,および−NR22R23からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R54は,それぞれの場合に独立して,水素,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,R54がC3−6アルケニルであるとき,そのアルケン炭素は,いずれかの−NR54−のNには結合していない),C3−6アルキニル(ただし,R54がC3−6アルキニルであるとき,そのアルキン炭素は,いずれかの−NR54−のNには結合していない),シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,低級アルキル,C3−6アルケニル,およびC3−6アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,−NR22R23,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,−NR54−のNに結合しているアルキル,C3−6アルケニルまたはC3−6アルキニル炭素上の任意の置換基は,フルオロ,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR21,−SR21,−S(O)R21,−S(O)2R21,−C(Z)R21,−C(Z)OR21,−NR22R23,−C(Z)NR22R23,−S(O)2NR22R23,−C(NH)NR22R23,−NR21C(Z)R21,−NR21S(O)2R21,−NR21C(Z)NR22R23,−NR21S(O)2NR22R23,低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールの任意の置換基である低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルは,さらに,任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,および−NR22R23からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R11およびR12は,それぞれの場合に独立して,水素,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,R11および/またはR12がC3−6アルケニルであるとき,そのアルケン炭素は,−C(Z)NR11R12または−S(O)2NR11R12のNには結合していない),C3−6アルキニル(ただし,R11および/またはR12がC3−6アルキニルであるとき,そのアルキン炭素は,−C(Z)NR11R12または−S(O)2NR11R12のNには結合していない),シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,低級アルキル,C3−6アルケニル,およびC3−6アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,−NR22R23,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,−C(Z)NR11R12または−S(O)2NR11R12のNに結合しているアルキル,C3−6アルケニルまたはC3−6アルキニル炭素上の任意の置換基は,フルオロ,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR21,−SR21,−S(O)R21,−S(O)2R21,−C(Z)R21,−C(Z)OR21,−NR22R23,−C(Z)NR22R23,−S(O)2NR22R23,−C(NH)NR22R23,−NR21C(Z)R21,−NR21S(O)2R21,−NR21C(Z)NR22R23,−NR21S(O)2NR22R23,低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールの任意の低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニル置換基は,さらに任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,および−NR22R23からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;または
R11およびR12は,これらが結合している窒素と一緒になって,5−7員の単環のヘテロシクロアルキルまたは5または7員の単環の窒素含有ヘテロアリールを形成し,ここで,単環のヘテロシクロアルキルまたは単環の窒素含有ヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,−NO2,−CN,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,モノ−アルキルアミノ,ジ−アルキルアミノ,およびシクロアルキルアミノからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R13は,それぞれの場合に独立して,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,R13がC3−6アルケニルであるとき,そのアルケン炭素は,−C(Z)R13のC(Z)または−S(O)2R13のS(O)2には結合していない),C3−6アルキニル(ただし,R13がC3−6アルキニルであるとき,そのアルキン炭素は,−C(Z)R13のC(Z),または−S(O)2R13のS(O)2には結合していない),シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,低級アルキル,C3−6アルケニル,およびC3−6アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,−NR22R23,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR21,−SR21,−S(O)R21,−S(O)2R21,−C(Z)R21,−C(Z)OR21,−NR22R23,−C(Z)NR22R23,−S(O)2NR22R23,−C(NH)NR22R23,−NR21C(Z)R21,−NR21S(O)2R21,−NR21C(Z)NR22R23,−NR21S(O)2NR22R23,低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールの任意の低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニル置換基は,さらに任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,および−NR22R23からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R15は,それぞれの場合に独立して,水素,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,R15がC3−6アルケニルであるとき,そのアルケン炭素は,OR15のOには結合していない),C3−6アルキニル(ただし,R15がC3−6アルキニルであるとき,そのアルキン炭素は,OR15のOには結合していない),シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,低級アルキル,C3−6アルケニル,およびC3−6アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,−NR22R23,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,OR15のOに結合しているアルキル,C3−6アルケニルまたはC3−6アルキニル炭素上の任意の置換基は,フルオロ,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR21,−SR21,−S(O)R21,−S(O)2R21,−C(Z)R21,−C(Z)OR21,−NR22R23,−C(Z)NR22R23,−S(O)2NR22R23,−C(NH)NR22R23,−NR21C(Z)R21,−NR21S(O)2R21,−NR21C(Z)NR22R23,−NR21S(O)2NR22R23,低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールの任意の低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニル置換基は,さらに任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,および−NR22R23からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R16は,水素,低級アルキル,フェニル,5−7員の単環のヘテロアリール,3−7員の単環のシクロアルキル,および5−7員の単環のヘテロシクロアルキルからなる群より選択され,ここで,フェニル,単環のヘテロアリール,単環のシクロアルキルおよび単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,および低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオおよびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,R16が低級アルキルであるとき,OR16のOに結合しているアルキル炭素上の任意の置換基はフルオロであり;
R17およびR18は,独立して,水素,低級アルキル,フェニル,5−7員の単環のヘテロアリール,3−7員の単環のシクロアルキル,および5−7員の単環のヘテロシクロアルキルからなる群より選択され,ここで,フェニル,単環のヘテロアリール,単環のシクロアルキルおよび単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,および低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OH,−NH2,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオおよびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,R17および/またはR18が低級アルキルであるとき,NR17R18のNに結合しているアルキル炭素上の任意の置換基はフルオロであり;または
R17およびR18は,これらが結合している窒素と一緒になって,5−7員の単環のヘテロシクロアルキルまたは5または7員の窒素含有単環ヘテロアリールを形成し,ここで,単環のヘテロシクロアルキルまたは単環の窒素含有ヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R19およびR20は,独立して,水素,低級アルキル,低級アルケニル,低級アルキニル,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR21,−SR21,−NR22R23,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR21,−SR21,−S(O)R21,−S(O)2R21,−C(Z)R21,−C(Z)OR21,−NR22R23,−C(Z)NR22R23,−S(O)2NR22R23,−C(NH)NR22R23,−NR21C(Z)R21,−NR21S(O)2R21,−NR21C(Z)NR22R23,−NR21S(O)2NR22R23,低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールまたはヘテロアリールの任意の低級アルキル,低級アルケニル,および低級アルキニル置換基は,さらに任意にフルオロ,−OR21,−SR21,および−NR22R23からなる群より選択される置換基で置換されていてもよく;または
R19およびR20は,一緒になって,3−7員の単環のシクロアルキルまたは5−7員の単環のヘテロシクロアルキルを形成し,単環のシクロアルキルまたは単環のヘテロシクロアルキルは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R21,R22,およびR23は,それぞれの場合に独立して,水素または低級アルキルは,任意に,フルオロ,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,モノ−アルキルアミノ,ジ−アルキルアミノ,およびシクロアルキルアミノからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,OR21,SR21,NR21,NR22またはNR23のいずれかのO,S,またはNに結合している低級アルキル炭素上の任意の置換基はフルオロであり,およびS,S(O),S(O)2またはC(Z)に結合しているR21は水素ではなく;または
R22およびR23は,これらが結合している窒素と一緒になって,5−7員の単環のヘテロシクロアルキルまたは5または7員の単環の窒素含有ヘテロアリールを形成し,ここで,単環のヘテロシクロアルキルまたは単環の窒素含有ヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−OH,−NH2,−NO2,−CN,低級アルキル,フルオロ置換低級アルキル,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,モノ−アルキルアミノ,ジ−アルキルアミノ,およびシクロアルキルアミノからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R24は,それぞれの場合に独立して,ハロゲン,低級アルキル,低級アルケニル,低級アルキニル,−NO2,−CN,−OR26,−SR26,−OC(O)R26,−OC(S)R26,−C(O)R26,−C(S)R26,−C(O)OR26,−C(S)OR26,−S(O)R26,−S(O)2R26,−C(O)NR27R28,−C(S)NR27R28,−S(O)2NR27R28,−C(NH)NR27R28,−NR26C(O)R26,−NR26C(S)R26,−NR26S(O)2R26,NR26C(O)NR27R28,NR26C(S)NR27R28,−NR26S(O)2NR27R28,および−NR27R28からなる群より選択され,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,および−NR37R38からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,および低級アルケニルおよび低級アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,−NR37R38,および−R35からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R25は,それぞれの場合に独立して,ハロゲン,低級アルキル,低級アルケニル,低級アルキニル,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,ヘテロアリール,−NO2,−CN,−OR29,−SR29,−OC(O)R29,−OC(S)R29,−C(O)R29,−C(S)R29,−C(O)OR29,−C(S)OR29,−S(O)R29,−S(O)2R29,−C(O)NR29R29,−C(S)NR29R29,−S(O)2NR29R29,−C(NH)NR30R31,−NR29C(O)R29,−NR29C(S)R29,−NR29S(O)2R29,−NR29C(O)NR29R29,−NR29C(S)NR29R29,−NR29S(O)2NR29R29,および−NR29R29からなる群より選択され,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,−NR37R38,および−R32からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,および低級アルケニルおよび低級アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,−NR37R38,−R35および−R32からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,およびヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR36,−SR36,−NR37R38,−R35,−R33,および−R34からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R26,R27およびR28は,それぞれの場合に独立して,水素,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,そのアルケン炭素は,R24のO,S,N,C(O),C(S),S(O)またはS(O)2のいずれにも結合していない),およびC3−6アルキニル(ただし,そのアルキン炭素は,R24のO,S,N,C(O),C(S),S(O)またはS(O)2のいずれにも結合していない)からなる群より選択され,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,および−NR37R38からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,および低級アルケニルおよび低級アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,−NR37R38,および−R35からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,S,C(O),C(S),S(O),またはS(O)2に結合しているR26は水素ではなく,または
R27およびR28は,これらが結合している窒素と一緒になってシクロアルキルアミノを形成し;
R29,R30およびR31は,それぞれの場合に独立して,水素,低級アルキル,C3−6アルケニル(ただし,そのアルケン炭素はR25のO,S,N,C(O),C(S),S(O)またはS(O)2のいずれにも結合していない),C3−6アルキニル(ただし,そのアルキン炭素は,R25のO,S,N,C(O),C(S),S(O)またはS(O)2のいずれにも結合していない),シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択され,または
R30およびR31は,これらが結合している窒素と一緒になって,5−7員のヘテロシクロアルキルまたは5または7員の窒素含有ヘテロアリールを形成し,ここで,低級アルキルは,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,−NR37R38,および−R32からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,および低級アルケニルおよび低級アルキニルは,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,−NR37R38,−R35および−R32からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,およびシクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリール,ヘテロアリール,5−7員のヘテロシクロアルキル,および5または7員の窒素含有ヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OH,−NH2,−OR36,−SR36,−NHR36,−NR37R38,−R33,−R34,および−R35からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく,ただし,S,C(O),C(S),S(O),またはS(O)2に結合しているR29は水素ではなく;
R32は,それぞれの場合に独立して,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールからなる群より選択され,ここで,シクロアルキル,ヘテロシクロアルキル,アリールおよびヘテロアリールは,任意に,ハロゲン,−NO2,−CN,−OR36,−SR36,−NR37R38,−R33,−R34,および−R35からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよく;
R33は,それぞれの場合に独立して,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,−NR37R38,および−R35からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい低級アルケニルであり;
R34は,それぞれの場合に独立して,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,−NR37R38,および−R35からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい低級アルキニルであり;
R35は,それぞれの場合に独立して,任意に,フルオロ,−OR36,−SR36,および−NR37R38からなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい低級アルキルであり;
R36,R37およびR38は,それぞれの場合に独立して,水素,または任意にフルオロ,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,モノ−アルキルアミノ,ジ−アルキルアミノ,およびシクロアルキルアミノからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい低級アルキルであるか,または−NR37R38シクロアルキルアミノであり,ただし,OR36,SR36,NR36,NR37またはNR38のいずれかのO,S,またはNに結合している低級アルキル炭素上の任意の置換基はフルオロであり,およびSに結合しているR36は水素ではなく;
ZはOまたはSであり;
nは1または2であり;
uは0,1,2,3または4であり;
vは0,1,2,3,4,または5であり;
pは0または1であり;および
sは0,1,2,3または4であり,ただし,s=0であるとき,p=0であり,sが1,2,3,または4であり,p=0であるとき,Ar1aは,ピラゾリル,イミダゾリル,イソオキサゾリル,オキサゾリル,チアゾリル,またはイソチアゾリルではなく,およびs=0,p=0,およびAr2aがフェニルであるとき,
を有する,請求項1記載の化合物そのすべての塩,プロドラッグ,互変異性体,および異性体。 - R1およびR2の少なくとも1つは−OR9である,請求項41記載の化合物。
- R1およびR2の一方は−OR9であり,R1およびR2の他方は水素またはハロである,請求項42記載の化合物。
- R2は−OR9であり,R1は水素である,請求項43記載の化合物。
- R9は,任意に,フルオロ,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,シクロアルキル,およびフルオロ置換シクロアルキルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい低級アルキルである,請求項44記載の化合物。
- 以下の化学構造:
- R1およびR2の少なくとも1つは−OR9である,請求項46記載の化合物。
- R1およびR2の一方は−OR9であり,R1およびR2の他方は水素またはハロである,請求項47記載の化合物。
- R2は−OR9であり,R1は水素である,請求項48記載の化合物。
- R9は,任意に,フルオロ,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,フルオロ置換低級アルキルチオ,シクロアルキル,およびフルオロ置換シクロアルキルからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい低級アルキルである,請求項49記載の化合物。
- Ar1aはフェニルであり,MはS(O)2に対してパラ位でAr1aに結合している,請求項46−50のいずれかに記載の化合物。
- Ar2aはフェニルである,請求項51記載の化合物。
- vは1であり,R25はMに対してパラ位で結合している,請求項52記載の化合物。
- Mは共有結合または−O−である,請求項53記載の化合物。
- XはC(O)OR16である,請求項54記載の化合物。
- R16はHである,請求項55記載の化合物。
- Wは−(CR4R5)1−3−である,請求項56記載の化合物。
- Wは−CH2−または−CH2CH2−である,請求項57記載の化合物。
- R9は,任意に,フルオロ,低級アルコキシ,および低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい低級アルキルであり,Ar1aはフェニルであり,Mは共有結合または−O−であって,−O−に対してパラ位でAr1aに結合しており,uは0であり,vは1であり,Ar2aはフェニルであり,Wは−CH2−であり,Xは−COOHであり,およびR25は,ハロゲン,低級アルキル,低級アルコキシ,および低級アルキルチオからなる群より選択され,ここで,低級アルキル,低級アルコキシ,および低級アルキルチオは,任意に,フルオロ,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい,請求項50記載の化合物。
- R9は低級アルキルであり,Mは−O−であり,およびR25は任意にフルオロで置換されていてもよい低級アルキルまたは任意にフルオロで置換されていてもよい低級アルコキシである,請求項59記載の化合物。
- R25はMに対してパラ位でAr2aに結合している,請求項60記載の化合物。
- R25はMに対してメタ位でAr2aに結合している,請求項60記載の化合物。
- R9は,任意に,フルオロ,低級アルコキシ,および低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい低級アルキルであり,Ar1aはフェニルであり,Mは共有結合または−O−であって,−O−に対してメタ位でAr1aに結合しており,uは0であり,vは1であり,Ar2aはフェニルであり,Wは−CH2−であり,Xは−COOHであり,およびR25は,ハロゲン,低級アルキル,低級アルコキシ,および低級アルキルチオからなる群より選択され,ここで,低級アルキル,低級アルコキシ,および低級アルキルチオは,任意に,フルオロ,低級アルコキシ,フルオロ置換低級アルコキシ,低級アルキルチオ,およびフルオロ置換低級アルキルチオからなる群より選択される1またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい,請求項50記載の化合物。
- R9は低級アルキルであり,R25は任意にフルオロで置換されていてもよい低級アルキルまたは任意にフルオロで置換されていてもよい低級アルコキシである,請求項63記載の化合物。
- R25はMに対してパラ位でAr2aに結合しいる,請求項64記載の化合物。
- R25はMに対してメタ位でAr2aに結合している,請求項64記載の化合物。
- 前記化合物は,以下:
{3−ブトキシ−5−[4−(4−トリフルオロメトキシ−フェノキシ)−ベンゼンスルホニル]−フェニル}−酢酸,
{3−メトキシ−5−[4−(4−トリフルオロメトキシ−フェノキシ)−ベンゼンスルホニル]−フェニル}−酢酸,
{3−(2−メトキシ−エトキシ)−5−[4−(4−トリフルオロメチル−フェノキシ)−ベンゼンスルホニル]−フェニル}−酢酸,
{3−(2−メトキシ−エトキシ)−5−[4−(4−トリフルオロメトキシ−フェノキシ)−ベンゼンスルホニル]−フェニル}−酢酸,
{3−メトキシ−5−[4−(4−トリフルオロメチル−フェノキシ)−ベンゼンスルホニル]−フェニル}−酢酸,
{3−ベンジルオキシ−5−[4−(4−トリフルオロメチル−フェノキシ)−ベンゼンスルホニル]−フェニル}−酢酸,
{3−ブトキシ−5−[4−(4−トリフルオロメチル−フェノキシ)−ベンゼンスルホニル]−フェニル}−酢酸,
{3−エトキシ−5−[4−(4−トリフルオロメトキシ−フェノキシ)−ベンゼンスルホニル]−フェニル}−酢酸,
{3−プロポキシ−5−[4−(4−トリフルオロメトキシ−フェノキシ)−ベンゼンスルホニル]−フェニル}−酢酸,
{3−プロポキシ−5−[3−(4−トリフルオロメチル−フェノキシ)−ベンゼンスルホニル]−フェニル}−酢酸,
[3−エトキシ−5−(4’−トリフルオロメチル−ビフェニル−3−スルホニル)フェニル]−酢酸,
{3−エトキシ−5−[4−(4−トリフルオロメトキシ−フェノキシ)−ベンゼンスルホニル]−フェニル}−酢酸メチルエステル,
{3−エトキシ−5−[4−(4−トリフルオロメチル−フェノキシ)−ベンゼンスルホニル]−フェニル}−酢酸,
[3−エトキシ−5−(4’−トリフルオロメトキシ−ビフェニル−3−スルホニル)−フェニル]−酢酸,
3−{3−プロポキシ−5−[4−(4−トリフルオロメチル−フェノキシ)−ベンゼンスルホニル]−フェニル}−プロピオン酸,
3−{3−エトキシ−5−[4−(4−トリフルオロメチル−フェノキシ)−ベンゼンスルホニル]−フェニル}−プロピオン酸,および
3−{3−プロポキシ−5−[4−(4−トリフルオロメトキシ−フェノキシ)−ベンゼンスルホニル]−フェニル}−プロピオン酸
からなる群より選択される,請求項1記載の化合物。 - 前記化合物は,以下:
[3−ブトキシ−5−(4−トリフルオロメチル−ベンゼンスルホニル)−フェニル]−酢酸,
[3−ブトキシ−5−(4−メトキシ−ベンゼンスルホニル)−フェニル]−酢酸,
[3−ブトキシ−5−(4−トリフルオロメトキシ−ベンゼンスルホニル)−フェニル]−酢酸,および
[3−ブトキシ−5−(3−メトキシ−ベンゼンスルホニル)−フェニル]−酢酸
からなる群より選択される,請求項1記載の化合物。 - 薬学的に許容しうる担体;および
請求項1−68のいずれかに記載の化合物
を含む組成物。 - PPAR調節が治療上の有用性を与える疾病または状態に罹患しているかまたはそのリスクを有する被験者を治療する方法であって,前記被験者に有効量の請求項1−68のいずれかに記載の化合物または請求項69記載の組成物を投与することを含む方法。
- 前記化合物がヒトへの投与について認可されている,請求項70記載の方法。
- 前記疾病または状態がPPAR媒介性疾病または状態である,請求項70または71記載の方法。
- 前記疾病または状態が,肥満,太りすぎ状態,過食症,神経性食欲不振,高脂血症,脂質異常症,低アルファリポ蛋白血症,高トリグリセリド血症,および高コレステロール血症,低HDL,代謝症候群,II型糖尿病,I型糖尿病,高インスリン血症,グルコース耐性異常,インスリン抵抗性,糖尿病の合併症である,ニューロパシー,腎症,網膜症,糖尿病性足部潰瘍または白内障,高血圧症,冠状動脈性心臓病,心不全,うっ血性心不全,アテローム性動脈硬化症,動脈硬化症,発作,脳血管疾患,心筋梗塞,末梢血管障害,白斑,ブドウ膜炎,落葉状天疱瘡,封入体筋炎,多発性筋炎,皮膚筋炎,強皮症,グレーヴズ病,ハシモト病,慢性対宿主性移植片病,慢性関節リウマチ,炎症性腸症候群,クローン病,全身性エリテマトーデス,シェーグレン症候群,多発性硬化症,ぜん息,慢性閉塞性肺疾患,多発性嚢胞腎病,多嚢胞性卵巣症候群,膵炎,腎炎,肝炎,湿疹,乾癬,皮膚炎,創傷治癒障害,アルツハイマー病,パーキンソン病,筋萎縮性側索硬化症,脊髄傷害,急性播種性脳脊髄炎,ギヤン・バレー症候群,血栓症,大腸または小腸の閉塞,腎不全,勃起障害,尿失禁,神経因性膀胱障害,眼性炎症,黄斑変性,病的新生血管形成,HCV感染,HIV感染,ヘリコバクター・ピロリ感染,神経障害性または炎症性痛覚,不妊症,および癌,からなる群より選択される,請求項70−72のいずれかに記載の方法。
- 請求項69記載の医薬組成物を含むキット。
- さらに,前記組成物がヒトに対する投与について認可されていることの表示を含む,請求項74記載のキット。
- 前記組成物が,肥満,太りすぎ状態,過食症,神経性食欲不振,高脂血症,脂質異常症,低アルファリポ蛋白血症,高トリグリセリド血症,および高コレステロール血症,低HDL,代謝症候群,II型糖尿病,I型糖尿病,高インスリン血症,グルコース耐性異常,インスリン抵抗性,糖尿病の合併症であるニューロパシー,腎症,網膜症,糖尿病性足部潰瘍または白内障,高血圧症,冠状動脈性心臓病,心不全,うっ血性心不全,アテローム性動脈硬化症,動脈硬化症,発作,脳血管疾患,心筋梗塞,末梢血管障害,白斑,ブドウ膜炎,落葉状天疱瘡,封入体筋炎,多発性筋炎,皮膚筋炎,強皮症,グレーヴズ病,ハシモト病,慢性対宿主性移植片病,慢性関節リウマチ,炎症性腸症候群,クローン病,全身性エリテマトーデス,シェーグレン症候群,多発性硬化症,ぜん息,慢性閉塞性肺疾患,多発性嚢胞腎病,多嚢胞性卵巣症候群,膵炎,腎炎,肝炎,湿疹,乾癬,皮膚炎,創傷治癒障害,アルツハイマー病,パーキンソン病,筋萎縮性側索硬化症,脊髄傷害,急性播種性脳脊髄炎,ギヤン・バレー症候群,血栓症,大腸または小腸の閉塞,腎不全,勃起障害,尿失禁,神経因性膀胱障害,眼性炎症,黄斑変性,病的新生血管形成,HCV感染,HIV感染,ヘリコバクター・ピロリ感染,神経障害性または炎症性痛覚,不妊症,および癌からなる群より選択される適応症について認可されている,請求項75記載のキット。
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