JP2009275666A - 内燃機関の排気浄化装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】内燃機関の排気浄化装置において、還元剤をより広い範囲に分散させることができる技術を提供する。
【解決手段】内燃機関の排気通路の途中に設けられる触媒へ還元剤を供給するために還元剤を噴射する還元剤噴射装置と、還元剤噴射装置から噴射される還元剤が一定の状態となるように、該還元剤噴射装置からの還元剤の噴射時期または噴射圧力の少なくとも一方を排気の流量に応じて決定する決定手段と、を備える。
【選択図】図2
【解決手段】内燃機関の排気通路の途中に設けられる触媒へ還元剤を供給するために還元剤を噴射する還元剤噴射装置と、還元剤噴射装置から噴射される還元剤が一定の状態となるように、該還元剤噴射装置からの還元剤の噴射時期または噴射圧力の少なくとも一方を排気の流量に応じて決定する決定手段と、を備える。
【選択図】図2
Description
本発明は、内燃機関の排気浄化装置に関する。
内燃機関の排気通路に備わる触媒へ還元剤を添加することにより、NOxを浄化したり
、触媒の温度を高めたり、フィルタの再生を行なったりする技術が知られている。そして、尿素水を排気中へ噴射する添加弁と、該添加弁よりも下流で尿素水を衝突させることにより該尿素水を排気中に均一に分散させるためのスタティックミキサーと、を備える技術が知られている(例えば、特許文献1参照。)。
特表2001−516635号公報
特開2006−90149号公報
、触媒の温度を高めたり、フィルタの再生を行なったりする技術が知られている。そして、尿素水を排気中へ噴射する添加弁と、該添加弁よりも下流で尿素水を衝突させることにより該尿素水を排気中に均一に分散させるためのスタティックミキサーと、を備える技術が知られている(例えば、特許文献1参照。)。
しかし、排気の流量によって還元剤の流れる位置が変化するため、スタティックミキサーにおいて最も尿素水を分散させることができる位置へ該尿素水が衝突しないことがある。例えば、排気の流量が多いと、添加弁から噴射された尿素水が、スタティックミキサーに到達する前に排気の流れに乗って下流側へ流されるので、該添加弁側の排気管の壁面付近を流れる。一方、排気の流量が少ないと、添加弁と対向する側の排気管の壁面付近を尿素水が流れる。このような理由により、尿素水がスタッティックミキサーの中央に衝突しないと、尿素水を排気中に均一に分散させることが困難となる虞がある。
本発明は、上記したような問題点に鑑みてなされたものであり、内燃機関の排気浄化装置において、還元剤をより広い範囲に分散させることができる技術を提供することを目的とする。
上記課題を達成するために本発明による内燃機関の排気浄化装置は、以下の手段を採用した。すなわち、本発明による内燃機関の排気浄化装置は、
内燃機関の排気通路の途中に設けられる触媒へ還元剤を供給するために還元剤を噴射する還元剤噴射装置と、
前記還元剤噴射装置から噴射される還元剤が一定の状態となるように、該還元剤噴射装置からの還元剤の噴射時期または噴射圧力の少なくとも一方を排気の流量に応じて決定する決定手段と、
を備えることを特徴とする。
内燃機関の排気通路の途中に設けられる触媒へ還元剤を供給するために還元剤を噴射する還元剤噴射装置と、
前記還元剤噴射装置から噴射される還元剤が一定の状態となるように、該還元剤噴射装置からの還元剤の噴射時期または噴射圧力の少なくとも一方を排気の流量に応じて決定する決定手段と、
を備えることを特徴とする。
還元剤噴射装置は、少なくとも液体を含んだ還元剤を噴射する。そして、噴射された還元剤が流通する軌跡は、排気の流量によって変わる。ここで、「還元剤が一定の状態となる」とは、排気の流量が変わっても、還元剤の軌跡、分散範囲、進行方向、または到達位置等の少なくとも1つが略同じになることを意味する。また、還元剤が目標となる位置を通過することとしても良い。
ところで、排気は一定の流量で流れているのではなく、常に変化している。つまり、還元剤噴射装置付近の排気の流量は変化するので、還元剤の噴射時期によって該還元剤が流通する位置が変わる。例えば排気の流量が多いときには、噴霧範囲は還元剤噴射装置側の壁面に近い位置となる。これに対し、排気の流量に応じて噴射時期を決定すれば、所望の位置に還元剤を流通させることができる。つまり、所望の位置に還元剤を流通させるよう
な排気の流量となる時期に還元剤を噴射させる。このように、還元剤の噴射時期を変更することにより、還元剤を一定の状態とすることができる。
な排気の流量となる時期に還元剤を噴射させる。このように、還元剤の噴射時期を変更することにより、還元剤を一定の状態とすることができる。
また、還元剤の噴射圧力を変化させても、還元剤が流通する位置が変わる。ここで、排気の流量が多いほど、還元剤を下流に流そうとする力が大きくなり、排気の流量が少ないほど、還元剤が噴射方向へ直進し易くなる。つまり、排気の流量が多いほど、還元剤の噴射圧力を高くすれば、該還元剤が下流に流されるのを抑制できるので、所望の位置に還元剤を流通させることができる。このように、還元剤の噴射圧力を変更することにより、還元剤を一定の状態とすることができる。
つまり、還元剤の噴射時期または噴射圧力を変化させることにより、還元剤を最も分散させることができる位置へ噴射させることができるため、より広い範囲に還元剤を分散させることができる。
本発明においては、前記還元剤噴射装置付近の排気の流量であって、脈動波により変化する排気の流量を測定または推定する脈動推定手段を更に備え、
前記決定手段は、前記脈動推定手段により得られる排気の流量が所定値に最も近くなるときを還元剤の噴射時期として決定することができる。
前記決定手段は、前記脈動推定手段により得られる排気の流量が所定値に最も近くなるときを還元剤の噴射時期として決定することができる。
「還元剤噴射装置付近」は、その位置における排気の流量が変わると、それに応じて還元剤が流通する位置が変わる範囲とすることができる。また、その位置における排気の流量が変わると、それに応じて還元剤の進行方向が変わる範囲としても良い。さらに、その位置における排気の流量が変わると、それに応じて還元剤の噴霧範囲が変わる範囲としても良い。この噴霧範囲とは、還元剤が排気の流れに乗って流れる範囲ではなく、還元剤噴射装置から噴射したときの勢いにより還元剤が到達する範囲をいう。
ここで、排気弁の開閉により排気通路内に脈動波が発生する。そして、この脈動波により、排気の流量が変化する。つまり、脈動波により、還元剤噴射装置付近の排気の流量が変化するので、還元剤の噴射時期によって該還元剤が流通する位置が変わる。また、脈動波は排気弁の開閉時期によって変化し、還元剤噴射装置が還元剤を噴射する付近の排気の脈動の状態はこれらに影響を受ける。また、脈動が還元剤噴射装置まで到達するまでの時間は、排気弁から還元剤噴射装置までの排気管長により影響を受ける。脈動推定手段はこれらのことを考慮して、脈動波により変化する排気の流量を推定することができる。また、内燃機関の運転状態と関連付けて予めマップを作成しておき、該マップに基づいて排気の流量を推定することもできる。
そして、脈動波により変化する排気の流量が所定値に最も近いときに還元剤を噴射させれば、所望の位置に還元剤を流通させることができる。つまり、所定値とは、目標となる位置に還元剤を流通させることができる排気の流量とすることができる。この所定値は、ある程度の幅があっても良い。そして、「最も近いとき」とするのは、排気の脈動によって変化する排気の流量が、所定値とならないときもあるため、そのような場合には最も所定値に近づいたときに還元剤を噴射させるためである。この「最も近いとき」には、所定値となっているときを含む。
このように脈動によって変化する排気の流量が所定値に最も近いときに還元剤を噴射すれば、そのときの運転状態に応じた最適な噴射圧力または噴射時期を決定することができる。
本発明においては、前記還元剤噴射装置よりも下流の排気通路内に設けられ還元剤を衝突させて該還元剤を排気中に分散させる分散装置を更に備え、
前記決定手段は、前記還元剤噴射装置から噴射される還元剤が前記分散装置の中央に衝突するような排気の流量のときを還元剤の噴射時期として決定することができる。
前記決定手段は、前記還元剤噴射装置から噴射される還元剤が前記分散装置の中央に衝突するような排気の流量のときを還元剤の噴射時期として決定することができる。
ここで、還元剤を分散装置に衝突させることにより、還元剤が反射して広い範囲に飛び散る。これにより、還元剤の分散及び微粒化が促進される。そして、還元剤噴射装置から噴射される還元剤を分散装置の中央に衝突させることにより、還元剤のほとんどが分散装置へ直接衝突する。なお、中央に衝突させるということは、還元剤の少なくとも一部が中央に衝突することを含む。また、還元剤が流通する軌跡の中心軸が分散装置の中心を通過するとしても良い。
つまり、還元剤噴射装置から噴射される還元剤のほとんどが勢い良く分散装置へ衝突するので、還元剤が排気通路の壁面に付着することを抑制すると共に、還元剤の分散をより促進させることができる。なお、分散装置には、たとえばスタティックミキサーを用いることができる。また、還元剤噴射装置から噴射される還元剤が分散装置の中央に衝突するような排気の流量が、前記所定値となる。
また、上記課題を達成するために本発明による内燃機関の排気浄化装置は、以下の手段を採用しても良い。すなわち、本発明による内燃機関の排気浄化装置は、
内燃機関の排気通路の途中に設けられる触媒へ還元剤を供給するために還元剤を噴射する還元剤噴射装置と、
前記還元剤噴射装置付近の排気の流量を検出または推定する流量推定手段と、
前記流量推定手段により得られる流量が、多いときには少ないときよりも、前記還元剤噴射装置から噴射させる還元剤の圧力を高くする圧力変更手段と、
を備えることを特徴としても良い。
内燃機関の排気通路の途中に設けられる触媒へ還元剤を供給するために還元剤を噴射する還元剤噴射装置と、
前記還元剤噴射装置付近の排気の流量を検出または推定する流量推定手段と、
前記流量推定手段により得られる流量が、多いときには少ないときよりも、前記還元剤噴射装置から噴射させる還元剤の圧力を高くする圧力変更手段と、
を備えることを特徴としても良い。
還元剤の噴射圧力を変化させると、還元剤が流通する位置が変わる。ここで、排気の流量が多いほど、還元剤を下流に流そうとする力が大きくなるので、排気の流量が多いほど、還元剤の噴射圧力を高くすれば、該還元剤が下流に流されるのを抑制できる。このため、所望の位置に還元剤を流通させることができる。
このように、所望の位置に還元剤を流通させることができれば、排気通路の壁面に還元剤が付着することを抑制できるため、該還元剤をより広い範囲に分散させることができる。なお、還元剤の噴射圧力は、排気の流量に応じて段階的に変化させても良く、無段階に変化させても良い。
本発明においては、前記還元剤噴射装置よりも下流の排気通路内に設けられ還元剤を衝突させて該還元剤を排気中に分散させる分散装置を更に備え、
前記圧力変更手段は、前記還元剤噴射装置から噴射される還元剤が前記分散装置の中央に衝突するように圧力を変更することができる。
前記圧力変更手段は、前記還元剤噴射装置から噴射される還元剤が前記分散装置の中央に衝突するように圧力を変更することができる。
つまり、還元剤噴射装置から噴射される還元剤のほとんどが勢い良く分散装置へ衝突するので、還元剤が排気通路の壁面に付着することを抑制すると共に、還元剤の分散をより促進させることができる。
本発明に係る内燃機関の排気浄化装置によれば、還元剤をより広い範囲に分散させることができる。
以下、本発明に係る内燃機関の排気浄化装置の具体的な実施態様について図面に基づい
て説明する。
て説明する。
図1は、本実施例に係る内燃機関の排気浄化システムを適用する内燃機関とその吸・排気系の概略構成を示す図である。図1に示す内燃機関1は、4つの気筒を有する水冷式の4サイクル・ディーゼルエンジンである。
内燃機関1には、吸気通路2および排気通路3が接続されている。この吸気通路2の途中には、該吸気通路2内を流通する吸気の流量に応じた信号を出力するエアフローメータ4が設けられている。このエアフローメータ4により、内燃機関1の吸入空気量が測定される。
一方、排気通路3の途中には、触媒5が備えられている。この触媒5には還元剤が供給される。触媒5には、例えば、吸蔵還元型NOx触媒、選択還元型NOx触媒、酸化触媒、三元触媒等を挙げることができる。また、パティキュレートフィルタに触媒5を担持したもの、または触媒5の下流にパティキュレートフィルタを備えるものであっても良い。
また、触媒5よりも上流の排気通路3には、排気中に還元剤を噴射する還元剤噴射弁6が取り付けられている。還元剤は、例えば燃料または尿素を用いることができ、触媒5の種類によって変わる。還元剤噴射弁6は、後述するECU10からの信号により開弁して排気中へ燃料を噴射する。なお、本実施例においては還元剤噴射弁6が、本発明における還元剤噴射装置に相当する。
還元剤噴射弁6よりも下流には、還元剤を衝突させることにより該還元剤を広い範囲に分散させるための分散板7が設けられている。この分散板7は、還元剤噴射弁6から噴射される還元剤が直接到達する位置に設けられている。直接到達するとは、排気の流れに乗った後に到達するのではなく、還元剤噴射弁6から噴射されたときの勢いで到達することを意味する。この分散板7は、例えば排気の流れ方向に対して直角に設置される板であって、複数の穴を開けたものを用いることができる。なお、本実施例においては分散板7が、本発明における分散装置に相当する。
以上述べたように構成された内燃機関1には、該内燃機関1を制御するための電子制御ユニットであるECU10が併設されている。このECU10は、内燃機関1の運転条件や運転者の要求に応じて内燃機関1の運転状態を制御するユニットである。
また、ECU10には、上記センサの他、運転者がアクセルペダル11を踏み込んだ量に応じた電気信号を出力し機関負荷を検出可能なアクセル開度センサ12、および機関回転数を検出するクランクポジションセンサ13が電気配線を介して接続され、これら各種センサの出力信号がECU10に入力されるようになっている。
一方、ECU10には、還元剤噴射弁6が電気配線を介して接続されており、該ECU10により還元剤噴射弁6の開閉時期が制御される。
そして本実施例では、還元剤噴射弁6から還元剤噴射する時期を決定するときに排気の脈動波を考慮する。つまり、排気脈動により、還元剤噴射弁6付近の単位時間当たりの排気の流量が変化するため、その変化の中で最適な時期に還元剤を噴射させる。そして、この最適な時期とは、排気中を流通する還元剤の中心軸が、分散板7の中央を通過する時期とする。
まず、噴射された還元剤が流通する軌跡の中心軸が分散板7の中心に衝突する排気の流
量を目標値として予め実験等により求めてECU10に記憶させておく。そして、実際の排気の流量が目標値に最も近づいたときを還元剤の噴射時期とする。この目標値にある程度の幅を持たせて、目標範囲としても良い。つまり、同等の範囲に還元剤を分散させることができる還元剤の通過位置を分散板7の中央としても良い。
量を目標値として予め実験等により求めてECU10に記憶させておく。そして、実際の排気の流量が目標値に最も近づいたときを還元剤の噴射時期とする。この目標値にある程度の幅を持たせて、目標範囲としても良い。つまり、同等の範囲に還元剤を分散させることができる還元剤の通過位置を分散板7の中央としても良い。
ここで、図2は、還元剤噴射弁6付近の排気の流量の推移を示した図である。(A)は、排気の流量が比較的多い場合を示し、(B)は、排気の流量が比較的少ない場合を示している。また、Ga1は目標範囲の下限値であり、Ga2は目標範囲の上限値である。つまり、排気の流量が下限値Ga1以上で且つ上限値Ga2以下のときに還元剤を噴射させると、該還元剤の中心軸が、分散板7の中央を通過する。なお、本実施例では、還元剤噴射弁6から噴射される還元剤の圧力は一定とする。
ところで、排気の流量が多くなると、目標範囲の上限値Ga2よりも、変動している排気の流量の下限値のほうが大きくなるため、排気の流量が目標範囲に入らなくなる。このような場合には、排気の流量が最も少なくなったときを還元剤の噴射時期とする。つまり、排気の流量と、目標範囲の上限値Ga2との差が最も小さくなったときを還元剤の噴射時期とする。この時期を図2(A)では、「噴射」で示している。
一方、排気の流量が少なくなると、目標範囲の下限値Ga1よりも、変動している排気の流量の上限値のほうが小さくなるため、排気の流量が目標範囲に入らなくなる。このような場合には、排気の流量が最も多くなったときを還元剤の噴射時期とする。つまり、目標範囲の下限値Ga1と、排気の流量との差が最も小さくなったときを還元剤の噴射時期とする。この時期を図2(B)では、「噴射」で示している。
つまり、脈動している中で、最も目標範囲に近づいたときを還元剤の噴射時期とする。なお、最も目標範囲に近づいたときに毎回還元剤を噴射させるのではなく、還元剤を噴射する必要が生じたときのみ噴射すれば良い。
なお、変動している排気の流量が目標範囲となる時期がある場合には、この時期を還元剤の噴射時期とする。
排気脈動は、排気弁の開閉により生じるため、機関回転数に応じて変化する。そこで、脈動の周波数や振幅は、機関回転数と関連付けて予め実験等により求めてマップ化しておきECU10に記憶させておく。また、図2に示した関係を予め実験等により求めてマップ化しておいても良い。
そして、排気脈動で変化する排気の流量の平均値は、エアフローメータ4により得られる吸入空気量と、気筒内への燃料供給量とに基づいて得ることができる。つまり、この平均値と、脈動の振幅および周波数と、を考慮して実際の排気の流量を算出することができる。なお、本実施例では例えば機関回転数に基づいて排気の流量を推定するECU10が、本発明における脈動推定手段に相当する。
図3は、本実施例にかかる還元剤の噴射時期を決定するためのフローを示したフローチャートである。本ルーチンは、触媒5へ還元剤を供給する要求があるとときに、所定時間毎に繰り返し実行される。
ステップS101では、ECU10は、排気の流量Gaが下限値GA1よりも少ないか、又は上限値GA2よりも多いか否か判定する。ここでいう排気の流量Gaとは、排気の脈動を考慮しない平均値である。なお、排気の流量Gaが下限値GA1以上で且つ上限値GA2以下の場合には、還元剤噴射弁6から噴射される還元剤の中心軸が、分散板7の中
央に衝突する。つまり、排気の脈動を考慮しなくても分散板7の中央へ還元剤を衝突させることができる。なお、下限値GA1及び上限値GA2は、予め実験等により求めてECU10に記憶させておく。
央に衝突する。つまり、排気の脈動を考慮しなくても分散板7の中央へ還元剤を衝突させることができる。なお、下限値GA1及び上限値GA2は、予め実験等により求めてECU10に記憶させておく。
ステップS101で肯定判定がなされた場合には、ステップS102へ進み、一方否定判定がなされた場合には、ステップS106へ進んで通常の時期に還元剤を噴射させる。通常の時期とは排気脈動を考慮しないで決定される時期である。この場合、還元剤を供給する要求があったときに直ちに還元剤が噴射される。
ステップS102では、ECU10は、排気脈動の振幅マップを読み込む。つまり、排気の流量がどの程度変化するのかを、例えば機関回転数と関連付けて予め実験等により求めてマップ化しておく。
ステップS103では、ECU10は、排気の流量Gaに排気脈動の振幅ΔGaを考慮すれば、下限値GA1以上で且つ上限値GA2の範囲内となる時期があるか否か判定する。つまり、排気の流量Gaに対して、ステップS102で読み込まれる振幅ΔGa分を増減したときに、下限値GA1以上で且つ上限値GA2の範囲となる場合があるか否か判定される。
ステップS103で肯定判定がなされた場合にはステップS104へ進み、一方否定判定がなされた場合にはステップS105へ進む。
ステップS104では、ECU10は、脈動により変動する排気の流量が下限値GA1以上で且つ上限値GA2以下となる範囲に最も近づく時期を還元剤の噴射時期として決定する。つまり、排気の脈動を考慮しても、排気の流量が下限値GA1以上で且つ上限値GA2以下となる時期がないため、この時期に最も近づいたときを還元剤の噴射時期とする。具体的には、下限値GA1未満の流量で排気脈動が起こっている場合には、排気の流量が最も多いときを還元剤の噴射時期とする。また、上限値GA2よりも多い流量で排気脈動が起こっている場合には、排気の流量が最も少ないときを還元剤の噴射時期とする。
ステップS105では、ECU10は、排気の流量Gaに排気脈動の振幅ΔGaを増減した値が下限値GA1以上で且つ上限値GA2以下となる時期を還元剤の噴射時期として決定する。つまり、排気脈動により排気の流量が下限値GA1以上で且つ上限値GA2以下となる時期があるため、この時期を還元剤の噴射時期とする。
このようにして、そのときの運転状態において最も適切な還元剤の噴射時期を決定することができる。これにより、分散板7へ多くの還元剤を衝突させることができるため、該還元剤を排気中の広い範囲へ分散させることができる。なお、本実施例では図3に示すフローを処理するECU10が、本発明における決定手段に相当する。
以上説明したように本実施例よれば、還元剤を広い範囲に分散させることができるため、触媒5またはパティキュレートフィルタ内の温度を均一にすることができる。また、触媒5の全体に還元剤を供給することができるため、例えばNOxの浄化能力をより高める
ことができる。
ことができる。
なお、本実施例で採用する分散板7の形状は単なる例示であり、他の形状のものを採用することができる。また、本実施例では、分散板7は排気の流れに対して直角となるように設置されているが、排気の流れに対して角度を付けて設置しても良い。
また、本実施例では、分散板7を備えているが、分散板7を備えていない場合であって
も還元剤をより広い範囲に分散させることができる。たとえば、還元剤が排気通路の中心軸を流れるように、該還元剤の噴射時期を決定することにより、還元剤が排気通路3に付着することを抑制しつつ、広い範囲に分散させることができる。
も還元剤をより広い範囲に分散させることができる。たとえば、還元剤が排気通路の中心軸を流れるように、該還元剤の噴射時期を決定することにより、還元剤が排気通路3に付着することを抑制しつつ、広い範囲に分散させることができる。
本実施例では、排気の流量に応じて、還元剤の噴射圧力を変更する。その他の装置等については実施例1と同様のため、説明を省略する。
還元剤の噴射圧力を変更すると、還元剤が流通する位置が変わる。たとえば、排気の流量が同じ場合には、還元剤の噴射圧力が高いほど、還元剤が流通する位置は還元剤噴射弁6からの噴射方向に近くなる。つまり、還元剤の勢いが強くなるため、排気の流れによって下流側に流される分が小さくなる。そのため、還元剤の噴射圧力が高いほど、還元剤が流通する位置は、排気通路3の還元剤噴射弁6が備わる側の壁面と対向する壁面に近づく。また、還元剤の噴射圧力が低いほど、還元剤が流通する位置は、排気通路3の還元剤噴射弁6が備わる側の壁面に近づく。
一方、還元剤の噴射圧力が同じ場合には、排気の流量が少ないほど、還元剤が流通する位置は還元剤噴射弁6からの噴射方向に近くなる。つまり、排気の流量が多くなるほど、還元剤が下流に流される分が大きくなる。そのため、排気の流量が少ないほど、還元剤が流通する位置は、排気通路3の還元剤噴射弁6が備わる側の壁面と対向する壁面に近づく。また、排気の流量が多いほど、還元剤が流通する位置は、排気通路3の還元剤噴射弁6が備わる側の壁面に近づく。
そこで本実施例では、排気の流量が多いほど、還元剤の噴射圧力を高くし、排気の流量が少ないほど、還元剤の噴射圧力を低くする。これは、排気の流量を複数の領域に分けて、還元剤の噴射圧力を段階的に変化させても良い。また、排気の流量に応じて徐々に(無段階に)変化させても良い。
すなわち、排気の流量が多いほど、還元剤が下流へ流され易くなるため、還元剤の噴射圧力を高くすることにより、還元剤が下流へ流されることを抑制する。つまり、排気の流量が多いほど、分散板7の中央からずれた位置であって、還元剤噴射弁6に近い位置に還元剤が衝突するため、還元剤の噴射圧力を高くすることにより、分散板7の中央に還元剤を衝突させる。
また、排気の流量が少ないほど、還元剤が直進し易くなるため、還元剤の噴射圧力を低くすることにより、還元剤が排気により下流へ流されるようにする。つまり、排気の流量が少ないほど、分散板7の中央からずれた位置であって、還元剤噴射弁6から遠い位置に還元剤が衝突するため、還元剤の噴射圧力を低くすることにより、分散板7の中央に還元剤を衝突させる。
図4は、本実施例にかかる還元剤の噴射圧力を決定するためのフローを示したフローチャートである。本ルーチンは、触媒5へ還元剤を供給する要求があるとときに、所定時間毎に繰り返し実行される。
ステップS201では、ECU10は、排気の流量を取得する。ここでいう排気の流量は、実施例1における排気の流量の平均値であって良く、また脈動により変動する排気の流量であっても良い。つまり、本実施例では、排気の流量の平均値に応じて還元剤の噴射時期を決定することもできるし、脈動により変動する排気の流量に応じて還元剤の噴射時期を決定することもできる。なお、本実施例ではステップS201を処理するECU10が、本発明における流量推定手段に相当する。
ステップS202では、ECU10は、排気の流量に応じて還元剤の噴射圧力を決定する。例えば、排気の流量と還元剤の噴射圧力との関係を予め実験等により求めてマップ化し、ECU10に記憶させておく。なお、本実施例ではステップS202を処理するECU10が、本発明における圧力変更手段に相当する。
このようにして、還元剤を分散板7の中心に衝突させることができるため、より広い範囲に還元剤を分散させることができる。
以上説明したように本実施例よれば、還元剤を広い範囲に分散させることができるため、触媒5またはパティキュレートフィルタ内の温度を均一にすることができる。また、触媒5の全体に還元剤を供給することができるため、例えばNOxの浄化能力をより高める
ことができる。
ことができる。
1 内燃機関
2 吸気通路
3 排気通路
4 エアフローメータ
5 触媒
6 還元剤噴射弁
7 分散板
10 ECU
11 アクセルペダル
12 アクセル開度センサ
13 クランクポジションセンサ
2 吸気通路
3 排気通路
4 エアフローメータ
5 触媒
6 還元剤噴射弁
7 分散板
10 ECU
11 アクセルペダル
12 アクセル開度センサ
13 クランクポジションセンサ
Claims (5)
- 内燃機関の排気通路の途中に設けられる触媒へ還元剤を供給するために還元剤を噴射する還元剤噴射装置と、
前記還元剤噴射装置から噴射される還元剤が一定の状態となるように、該還元剤噴射装置からの還元剤の噴射時期または噴射圧力の少なくとも一方を排気の流量に応じて決定する決定手段と、
を備えることを特徴とする内燃機関の排気浄化装置。 - 前記還元剤噴射装置付近の排気の流量であって、脈動波により変化する排気の流量を測定または推定する脈動推定手段を更に備え、
前記決定手段は、前記脈動推定手段により得られる排気の流量が所定値に最も近くなるときを還元剤の噴射時期として決定することを特徴とする請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。 - 前記還元剤噴射装置よりも下流の排気通路内に設けられ還元剤を衝突させて該還元剤を排気中に分散させる分散装置を更に備え、
前記決定手段は、前記還元剤噴射装置から噴射される還元剤が前記分散装置の中央に衝突するような排気の流量のときを還元剤の噴射時期として決定することを特徴とする請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。 - 内燃機関の排気通路の途中に設けられる触媒へ還元剤を供給するために還元剤を噴射する還元剤噴射装置と、
前記還元剤噴射装置付近の排気の流量を検出または推定する流量推定手段と、
前記流量推定手段により得られる流量が、多いときには少ないときよりも、前記還元剤噴射装置から噴射させる還元剤の圧力を高くする圧力変更手段と、
を備えることを特徴とする内燃機関の排気浄化装置。 - 前記還元剤噴射装置よりも下流の排気通路内に設けられ還元剤を衝突させて該還元剤を排気中に分散させる分散装置を更に備え、
前記圧力変更手段は、前記還元剤噴射装置から噴射される還元剤が前記分散装置の中央に衝突するように圧力を変更することを特徴とする請求項4に記載の内燃機関の排気浄化装置。
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