JP2009133948A - 液晶装置、液晶装置の製造方法、電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】より簡単な構造の半透過反射型の液晶装置、その液晶装置の製造方法、その液晶装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】本適用例の液晶装置１００は、一対の基板としての素子基板１０および対向基板２０と、１つのサブ画素領域内に反射表示領域Ｒおよび透過表示領域Ｔを有する複数のサブ画素ＳＧと、素子基板１０と対向基板２０とに挟まれた反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとを区切ると共に、複数のサブ画素ＳＧをそれぞれ区画する隔壁部２１と、を備え、一対の基板の間において、隔壁部２１により区画された反射表示領域Ｒに第１の液晶からなる第１液晶層５０ａが封入され、隔壁部２１により区画された透過表示領域Ｔに第２の液晶からなる第２液晶層５０ｂが封入されており、第１液晶層５０ａにおける反射光の位相差値と第２液晶層５０ｂにおける透過光の位相差値をほぼ同等とした。
【選択図】図３

Description

本発明は、反射表示領域と透過表示領域とを有する液晶装置、液晶装置の製造方法、電子機器に関する。

液晶装置としては、複数の走査線と複数の信号線とが交差するアレイ基板と、該アレイ基板に対し液晶層を挟んで対向する対向基板とを備え、走査線と信号線とが交差する交差部に、外光を反射する手段と位相差膜とを有する反射部をそれぞれ有する赤、青、緑の画素が配置され、赤の画素の位相差膜での位相差値をｒＲ、緑の画素の位相差膜での位相差値をｒＧ、青の画素の位相差膜での位相差値をｒＢとしたときに、ｒＲ＞ｒＧ、ｒＧ＞ｒＢ、ｒＲ＞ｒＢの１つが少なくとも成立し、かつ、１２０ｎｍ＜ｒＲ＜１８０ｎｍ、かつ１１０ｎｍ＜ｒＧ＜１７０ｎｍ、かつ、８０ｎｍ＜ｒＢ＜１４０ｎｍである液晶表示装置が知られている（特許文献１）。

上記液晶表示装置は、赤、青、緑の画素の光学特性を考慮し、これらの画素の位相差値を規定することによって、反射表示時のコントラスト比の低下防止と色付きの低減を図ったものである。

また、他の液晶装置としては、液晶層と、該液晶層を挟持する第一の基板および第二の基板とからなり、一画素内に反射表示部と透過表示部とを有し、反射表示部における液晶層のリタデーションが４分の１波長であり、位相差板のリタデーションが２分の１波長である他の液晶表示装置が知られている（特許文献２）。

上記他の液晶表示装置は、所謂半透過型ＩＰＳ方式を採用しており、上記光学設計とすることにより、透過型ＩＰＳ方式と同等な広視野角を実現できるとしている。

これらの液晶表示装置では、液晶層に面する側に位相差膜（位相差板）が形成されている。このような内蔵型の位相差膜の形成方法として、特許文献１では、高分子液晶ポリマーと感光性樹脂との混合物を基板上に塗布して写真食刻法によりパターニングする例が挙げられている。

特開２００６−２９２８４７号公報 特開２００５−３３８２５６号公報

しかしながら、上記位相差膜の形成方法では、赤、青、緑の画素に対応して位相差膜をパターニングする必要があり、製造工程が複雑になるという課題があった。
また、写真食刻法によりパターニングする場合、位相差膜形成材料の大半が無駄になってしまうという課題があった。

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。

［適用例１］本適用例の液晶装置は、一対の基板と、前記一対の基板に挟まれた領域を反射表示領域と透過表示領域とに区切る隔壁部と、１つの画素領域内に前記反射表示領域および前記透過表示領域を有する複数の画素と、を備え、前記一対の基板の間において、前記隔壁部により区画された前記反射表示領域に第１の液晶からなる第１液晶層が封入され、前記隔壁部により区画された前記透過表示領域に第２の液晶からなる第２液晶層が封入されており、前記第１液晶層における反射光の位相差値と前記第２液晶層における透過光の位相差値がほぼ同等であることを特徴とする。

この構成によれば、第１の液晶と第２の液晶とが隔壁部に区画された反射表示領域と透過表示領域とに分けて封入され、反射表示領域における反射光の位相差値と透過表示領域における透過光の位相差値がほぼ同等である。したがって、光学的な補償がなされた反射表示領域と透過表示領域とを有する複数の画素を備えた半透過反射型の液晶装置を提供することができる。また、このような光学的な補償を行うために、少なくとも反射表示領域に位相差膜を設ける場合に比べて、半透過反射型の液晶装置の構造を簡略化できる。

［適用例２］上記適用例の液晶装置において、前記第１液晶層の層厚と前記第２液晶層の層厚とがほぼ同等であり、前記第１の液晶の複屈折率が前記第２の液晶の複屈折率の半分の値であることが好ましい。
一般的に液晶層の位相差値は、液晶層を構成する液晶の複屈折率と液晶層の層厚とを乗ずることにより与えられる。この構成によれば、一対の基板の間における隔壁部の高さを一定にして、反射表示領域における反射光の位相差値と透過表示領域における透過光の位相差値とをほぼ同等とすることができる。すなわち、構造が単純な所謂シングルギャップ構造を採用することができる。

［適用例３］上記適用例の液晶装置において、前記一対の基板のうち一方の基板は、前記反射表示領域に前記第１液晶層の厚みを調整する液晶層厚調整層を有しており、前記第１液晶層の層厚は前記第２液晶層の層厚より小さく、前記第１の液晶の複屈折率が前記第２の液晶の複屈折率より小さいとしてもよい。
この構成によれば、反射表示領域に液晶層厚調整層を有しているので、所謂マルチギャップ構造となる。前述したように、液晶層の位相差値は、液晶層を構成する液晶の複屈折率と液晶層の層厚とを乗ずることにより与えられる。したがって、反射表示領域に設けられた液晶層厚調整層の厚みを調整すれば、複屈折率が異なる第１の液晶および第２の液晶の材料選択における自由度を広げることができる。

［適用例４］上記適用例の液晶装置において、前記一対の基板のうち一方の基板は、前記隔壁部により区画された複数の前記画素領域に、複数色のフィルタエレメントを有するカラーフィルタを備えたことを特徴とする。
この構成によれば、構造が単純でカラー表示が可能な半透過反射型の液晶装置を提供することができる。

［適用例５］上記適用例の液晶装置において、前記一対の基板のうち一方の基板は、前記隔壁部により区画された複数の前記画素領域に、複数色のフィルタエレメントを有するカラーフィルタと、前記反射表示領域に前記第１液晶層の厚みを調整する液晶層厚調整層とを有し、少なくとも１色のフィルタエレメントに対する前記液晶層厚調整層の厚みが、他の色のフィルタエレメントに対する前記液晶層厚調整層の厚みと異なることを特徴とする。
この構成によれば、フィルタエレメントの色に対応して液晶層厚調整層の厚みを調整することによって、フィルタエレメントの吸収波長に応じた光学的補正が施された液晶装置を提供することができる。

［適用例６］上記適用例の液晶装置において、前記隔壁部が遮光性を有する材料からなることが好ましい。
この構成によれば、反射表示領域と透過表示領域とが遮光性を有する隔壁部で仕切られると共に区画されるので、２つの領域でそれぞれ光漏れが生じても互いに影響され難い。したがって、構造が単純でより引き締まった画像の表示が可能な半透過反射型の液晶装置を提供することができる。

［適用例７］本適用例の液晶装置の製造方法は、一対の基板と、１つの画素領域内に反射表示領域および透過表示領域を有する複数の画素とを有する液晶装置の製造方法であって、前記一対の基板のうち一方の基板に、前記複数の画素を区画すると共に、前記反射表示領域と前記透過表示領域とを区切るように隔壁部を形成する隔壁部形成工程と、前記一方の基板の前記隔壁部により区画された前記反射表示領域に第１の液晶を充填し、前記隔壁部により区画された前記透過表示領域に第２の液晶を充填して、前記一対の基板を接合することにより、前記第１の液晶からなる第１液晶層と、前記第２の液晶からなる第２液晶層とを狭持する組立工程と、を備え、前記第１液晶層における反射光の位相差値と前記第２液晶層における透過光の位相差値がほぼ同等となるように、前記第１の液晶および前記第２の液晶を選定することを特徴とする。

この方法によれば、組立工程では、第１の液晶と第２の液晶とが隔壁部に区画された反射表示領域と透過表示領域とに分けて充填され、反射表示領域における反射光の位相差値と透過表示領域における透過光の位相差値がほぼ同等となる。したがって、光学的な補償がなされた反射表示領域と透過表示領域とを有する複数の画素を備えた半透過反射型の液晶装置を製造することができる。また、このような光学的な補償を行うために、少なくとも反射表示領域に位相差膜を設ける場合に比べて、半透過反射型の液晶装置の製造工程を簡略化できる。

［適用例８］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記隔壁部形成工程は、遮光性を有する材料を用いて前記隔壁部を形成することが好ましい。
この方法によれば、反射表示領域と透過表示領域とが遮光性を有する隔壁部で仕切られると共に区画されるので、反射表示領域と透過表示領域とにおいて、それぞれ光漏れが生じても互いに影響され難い。したがって、構造が単純でより引き締まった画像の表示が可能な半透過反射型の液晶装置を製造することができる。

［適用例９］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記組立工程は、前記第１液晶層の層厚と前記第２液晶層の層厚とがほぼ同等となるように、前記一対の基板を接合し、前記第１の液晶の複屈折率が、前記第２の液晶の複屈折率の半分の値であることが好ましい。
この方法によれば、一対の基板の間における隔壁部の高さを一定にして、反射表示領域における反射光の位相差値と透過表示領域における透過光の位相差値とをほぼ同等とすることができる。すなわち、構造が単純な所謂シングルギャップ構造を採用して、半透過反射型の液晶装置を製造することができる。

［適用例１０］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記一方の基板の前記隔壁部により区画された前記反射表示領域に前記第１液晶層の厚みを調整する液晶層厚調整層を形成する液晶層厚調整層形成工程を備え、前記組立工程は、前記第２の液晶の複屈折率よりも小さい複屈折率を有する前記第１の液晶を前記反射表示領域に充填するとしてもよい。
この方法によれば、反射表示領域に液晶層厚調整層を形成することによって、所謂マルチギャップ構造となる。したがって、反射表示領域に設けられた液晶層厚調整層の厚みを調整すれば、複屈折率が異なる第１の液晶および第２の液晶の材料選択における自由度を広げることができる。ゆえに、液晶材料の入手がより容易になる。

［適用例１１］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記一方の基板の前記隔壁部により区画された複数の前記画素領域に、複数色のフィルタエレメントを有するカラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成工程を備えるとしてもよい。
この方法によれば、構造が単純でカラー表示が可能な半透過反射型の液晶装置を製造することができる。

［適用例１２］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記一方の基板の前記隔壁部により区画された複数の前記画素領域に、複数色のフィルタエレメントを有するカラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成工程と、前記一方の基板の前記隔壁部により区画された前記反射表示領域に前記第１液晶層の厚みを調整する液晶層厚調整層を形成する液晶層厚調整層形成工程とをさらに備え、前記液晶層厚調整層形成工程は、少なくとも１色のフィルタエレメントに対する前記液晶層厚調整層の厚みが、他の色のフィルタエレメントに対する前記液晶層厚調整層の厚みと異なるように形成することが望ましい。
この方法によれば、フィルタエレメントの色に対応して液晶層厚調整層の厚みを調整することにより、フィルタエレメントの吸収波長に応じた光学的補正を実現することができる。

［適用例１３］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記液晶層厚調整層形成工程は、液晶層厚調整層形成材料を含む液状体を液滴として前記反射表示領域に塗布する塗布工程と、塗布された前記液状体を乾燥させることにより、前記液晶層厚調整層を形成する成膜工程とを含むことが好ましい。
この方法によれば、液状体を液滴として塗布する液滴吐出法を採用しているので、液状体の塗布量を調整することにより、反射表示領域における液晶層厚調整層の厚みを容易に制御することができる。すなわち、基板上に液状体を一括塗布して成膜するスピンコートなどの方法に比べて、使用する材料の無駄を省いて、精度よく液晶層厚調整層を形成することができる。

［適用例１４］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記カラーフィルタ形成工程は、フィルタエレメント形成材料を含む少なくとも３色の液状体を液滴として複数の前記画素領域に塗布する塗布工程と、塗布された前記液状体を固化して、少なくとも赤、青、緑、３色の前記フィルタエレメントを形成する成膜工程とを含むことが好ましい。
この方法によれば、液状体を液滴として塗布する液滴吐出法を採用しているので、液状体の塗布量を調整することにより、画素領域におけるフィルタエレメントの厚みを容易に制御することができる。すなわち、複数色のフィルタエレメントをフォトリソグラフィ法により形成する場合に比べて、使用する材料の無駄を省いて、精度よくフィルタエレメントを形成することができる。

［適用例１５］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記組立工程は、前記第１の液晶を液滴として前記反射表示領域に吐出する第１吐出工程、前記第２の液晶を液滴として前記透過表示領域に吐出する第２吐出工程とを含むことが好ましい。
この方法によれば、第１の液晶および第２の液晶は、それぞれ液滴として反射表示領域と透過表示領域とに打ち分けられる。すなわち、液滴吐出法を用いるので、容易に打ち分けが可能である。また、液滴吐出法としてインクジェット法を採用すれば、所望の領域に、量的に高い精度で塗布することができる。

［適用例１６］本適用例の電子機器は、上記適用例の液晶装置、または上記適用例の液晶装置の製造方法を用いて製造された液晶装置を搭載したことを特徴とする。
この構成によれば、構造が単純な半透過反射型の液晶装置を搭載しているので、優れたコストパフォーマンスを有する電子機器を提供することができる。

以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。

（実施形態１）
＜液晶装置＞
まず、本実施形態の液晶装置について説明する。図１は、液晶装置の電気的な構成を示す等価回路図である。

図１に示すように、本実施形態の液晶装置１００は、複数のサブ画素ＳＧを有している。各サブ画素ＳＧは、画素電極９と、共通電極１９と、画素電極９をスイッチング制御するためのＴＦＴ（Thin Film Transistor）３０とを有している。画素電極９と共通電極１９との間には液晶層５０が介在している。液晶層５０の詳細は後述するが、液晶層５０は、第１液晶層５０ａと第２液晶層５０ｂとに分かれている。共通電極１９は走査線駆動回路９０から延びる共通線３ｂと電気的に接続されており、各サブ画素ＳＧにおいて共通の電位に保持されるようになっている。

データ線駆動回路７０から延びるデータ線６ａがＴＦＴ３０のソースと電気的に接続されている。データ線駆動回路７０は、画像信号Ｓ１，Ｓ２，…，Ｓｎを、データ線６ａを介して各サブ画素ＳＧに供給する。前記画像信号Ｓ１〜Ｓｎはこの順に線順次に供給しても構わないし、相隣接する複数のデータ線６ａ同士に対して、グループ毎に供給するようにしてもよい。

また、ＴＦＴ３０のゲートには、走査線駆動回路９０から延びる走査線３ａが電気的に接続されている。走査線駆動回路９０から所定のタイミングで走査線３ａにパルス的に供給される走査信号Ｇ１，Ｇ２，…，Ｇｍが、この順に線順次でＴＦＴ３０のゲートに印加されるようになっている。画素電極９は、ＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続されている。

スイッチング素子であるＴＦＴ３０が走査信号Ｇ１，Ｇ２，…，Ｇｍの入力により一定期間だけオン状態とされることで、データ線６ａから供給される画像信号Ｓ１，Ｓ２，…，Ｓｎが所定のタイミングで画素電極９に書き込まれるようになっている。画素電極９を介して液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｓ１，Ｓ２，…，Ｓｎは、画素電極９と液晶を介して対向する共通電極１９との間で一定期間保持される。

図２は、画素の構造を示す概略平面図である。図２に示すように、液晶装置１００は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）、３色のフィルタエレメント２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂに対応する３つのサブ画素ＳＧを単位として構成された複数の画素を有している。以降、１つのサブ画素ＳＧが形成された領域をサブ画素領域と呼ぶ。各サブ画素ＳＧには、略梯子状に形成された複数のスリット（隙間）２９を有する矩形の画素電極９が設けられている。画素電極９の外周を取り囲むようにして、走査線３ａと共通線３ｂと複数のデータ線６ａとが配置されている。
走査線３ａとデータ線６ａとの交差部近傍にＴＦＴ３０が形成されており、ＴＦＴ３０はデータ線６ａ及び画素電極９と電気的に接続されている。また、画素電極９と平面視でほぼ重なる位置に矩形状の共通電極１９が形成されている。

画素電極９は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなる導電膜である。１つのサブ画素ＳＧの画素電極９に１７本のスリット２９が形成されている。各スリット２９は、走査線３ａ及びデータ線６ａの双方と交差する方向（図中斜め方向）に延びて、Ｙ軸方向において等間隔に配列するように形成されている。各スリット２９は略同一の幅に形成され、互いに平行である。これにより、画素電極９は、複数本（図示では１６本）の帯状電極部９ｃを有することになる。スリット２９が一定の幅を有して等間隔で配列していることから、帯状電極部９ｃも一定の幅を有して等間隔で配列している。本実施形態では、スリット２９の幅と帯状電極部９ｃの幅はいずれも４μｍである。

共通電極１９は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなる平面視ほぼ矩形状の透明共通電極１９ｔと、アルミニウムや銀などの光反射性を有する金属材料からなる平面視ほぼ矩形状の反射共通電極１９ｒとからなる。透明共通電極１９ｔと反射共通電極１９ｒとは、互いの辺端部において電気的に接続されている。
反射共通電極１９ｒは、走査線３ａと平行に延びる共通線３ｂと一体に形成されている。したがって、透明共通電極１９ｔと反射共通電極１９ｒとからなる共通電極１９は共通線３ｂと電気的に接続されている。
反射共通電極１９ｒの形成領域が当該サブ画素ＳＧの反射表示領域Ｒを構成しており、透明共通電極１９ｔの形成領域が透過表示領域Ｔを構成している。すなわち、液晶装置１００は、反射共通電極１９ｒが反射層として機能し、各サブ画素ＳＧ内に反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとを備えている。

なお、共通線３ｂと反射共通電極１９ｒとを別々の導電膜を用いて形成し、これらを電気的に接続してもよい。その方法としては、反射共通電極１９ｒと共通線３ｂとを層間絶縁膜を介して異なる配線層に形成し、層間絶縁膜に開口したコンタクトホールを介して両者を接続する方法が挙げられる。また、透明共通電極１９ｔが反射共通電極１９ｒを覆って形成されていてもよい。

ＴＦＴ３０は、走査線３ａ上に部分的に形成された島状のアモルファスシリコン膜からなる半導体層３５と、データ線６ａを分岐して半導体層３５上に延出されたソース電極３１と、半導体層３５上から画素電極９の形成領域に延びる矩形状のドレイン電極３２とを備えている。
走査線３ａは、半導体層３５と対向する位置でＴＦＴ３０のゲート電極として機能する。ドレイン電極３２と画素電極９とは、両者が平面的に重なる位置に形成された画素コンタクトホール４７を介して電気的に接続されている。
なお、図示のサブ画素ＳＧにおいて、画素電極９と共通電極１９とが平面視で重なる領域が、当該サブ画素ＳＧの容量として機能するので、画像信号を保持するために別途保持容量をサブ画素ＳＧの形成領域内に設ける必要が無く、高い開口率を得ることができる。

図３を参照して、液晶装置１００の構造をさらに詳しく説明する。図３は、液晶装置の構造を示す概略断面図である。詳しくは、同図（ａ）は、図２のＡ−Ａ'線で切った断面図、同図（ｂ）は、図２のＢ−Ｂ'線で切った断面図である。

図３（ａ）に示すように、液晶装置１００は、一対の基板のうち一方の基板としての対向基板２０と、他方の基板としての画素電極９および共通電極１９を有する素子基板１０とにより、液晶層５０を挟持している。素子基板１０と対向基板２０とに挟まれた領域（表示領域）において、カラーフィルタ２２と、カラーフィルタ２２（２２Ｇ）をサブ画素ＳＧごと（色ごと）に区画すると共に、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとを区切る隔壁部２１とを備えている。

隔壁部２１によって区画された反射表示領域Ｒに第１液晶層５０ａが封入され、隔壁部２１によって区画された透過表示領域Ｔに第２液晶層５０ｂが封入されている。第１液晶層５０ａおよび第２液晶層５０ｂの層厚（セル厚）ｄは、ほぼ同等となっている。

このように反射表示と透過表示とを行う液晶装置１００では、光学設計上、反射共通電極１９ｒによって反射した外光（反射光）と、透過表示領域Ｔを透過する透過光とにおいて、位相の差が生ずると、反射黒表示を行う際に色付きが生じ、高コントラストな反射表示を得ることが困難になるという課題がある。これは、反射光が透過光に対して倍以上の光路を経て対向基板２０側から射出することに起因する。
上記位相の差、所謂位相差値（リタデーション）は、液晶の複屈折率Δｎと層厚ｄとを乗ずることによって与えられる。
そこで本実施形態では、正の誘電異方性を有し、複屈折率Δｎが異なる第１の液晶と第２の液晶とを用い、一対の基板の間において、隔壁部２１で区画された反射表示領域Ｒに第１の液晶からなる第１液晶層５０ａを挟持させ、隔壁部２１で区画された透過表示領域Ｔに第２の液晶からなる第２液晶層５０ｂを挟持させた。第１の液晶の複屈折率を第２の液晶の複屈折率の半分の値とすることにより、ほぼ同等の層厚ｄであっても、反射表示領域Ｒにおける第１液晶層５０ａの位相差値を、透過表示領域Ｔにおける第２液晶層５０ｂの位相差値に対してほぼ半分とした。これにより、透過表示領域Ｔを透過する光（透過光）と反射表示領域Ｒに入射して反射共通電極１９ｒで反射し、再び上偏光板２４に入射する光（反射光）との位相の差を無くした。

この場合、第１の液晶の複屈折率をΔｎ₁とし、第２の液晶の複屈折率をΔｎ₂とすると、２Δｎ₁＝Δｎ₂である。また、λを光の波長とすると、Δｎ₁×ｄ＝λ／４となるように第１の液晶を選定した。一方で第２の液晶は、Δｎ₂×ｄ＝λ／２となるように選定した。なお、層厚ｄは、必ずしも一定でなく液晶装置１００の製造上のばらつきを有する。よって、実質上の透過表示、反射表示における不具合が生じないように、上記ばらつきを抑えることが好ましい。言い換えれば、製造上の上記ばらつきを肯定すると、上記透過光と反射光とにおける位相は、上記ばらつきに起因する差を有していてもよい。

透明なガラス等からなる素子基板１０上には、走査線３ａ、共通電極１９および共通線３ｂが形成されている。これらの走査線３ａ、共通電極１９及び共通線３ｂを覆って、シリコン酸化物膜等からなる絶縁薄膜１１が形成されている。絶縁薄膜１１上には、ＴＦＴ３０を構成する島状の半導体層３５と、半導体層３５と一部が重なるようにソース電極３１（データ線６ａ）と、ドレイン電極３２とが形成されている。これらの半導体層３５、ソース電極３１およびドレイン電極３２を覆って、シリコン酸化物膜や樹脂膜からなる層間絶縁膜１２が形成されている。層間絶縁膜１２上には、画素電極９が形成され、層間絶縁膜１２を貫通してドレイン電極３２に達する画素コンタクトホール４７を介して、画素電極９とドレイン電極３２とが電気的に接続されている。共通電極１９における透明共通電極１９ｔと反射共通電極１９ｒの境界は、ちょうど透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとを仕切る隔壁部２１の直下に位置している。

画素電極９を覆って、ポリイミド等からなる配向膜１８が形成されている。配向膜１８は、ラビング処理等の配向処理を施されて液晶を所定方向に配向させるようになっている。本実施形態では、配向膜１８による配向規制方向は、データ線６ａの延在方向と平行であり、画素電極９のスリット２９の延在方向とは交差する方向である。

素子基板１０と同じく、透明なガラス等からなる対向基板２０上には、液晶層５０側に向かってカラーフィルタ２２（２２Ｇ）と、第１液晶層５０ａと、第２液晶層５０ｂと、これらの各構成要素を実質的に区画する隔壁部２１と、配向膜２３とが順に形成されている。また、対向基板２０の表面（液晶層５０側に対して反対側の表面）には、上偏光板２４が貼り付けられている。上偏光板２４および素子基板１０側の下偏光板１４の光学的な配置は、クロスニコルとなっている。第１液晶層５０ａおよび第２液晶層５０ｂを構成する液晶分子は、一対の基板の間において、所定の角度を有して両基板面に対して平行な方向に配向するように、各配向膜１８，２３がラビング処理されている。

隔壁部２１は、ブラックマトリクス（ＢＭ）と呼ばれるものである。その形成方法は、例えば、対向基板２０の表面に遮光性材料として黒色顔料などを含む樹脂材料を、オフセットなどの印刷法でパターニングする方法が挙げられる。また、上記樹脂材料として感光性を有するものを選択すれば、全面に塗布された上記樹脂材料をフォトリソグラフィ法でパターニングすることも可能である。本実施形態では、隔壁部２１をカラーフィルタ２２（２２Ｇ）を区画すると共に、一対の基板を接合した際にセル厚ｄが確保されるように、その高さを設定する。したがって、厚膜となるように、複数回に亘って積層することにより形成してもよい。この場合、隔壁部２１の高さはおよそ３．５〜４μｍ、カラーフィルタ２２の膜厚はおよそ１．５〜２μｍ、第１液晶層５０ａおよび第２液晶層５０ｂの層厚はおよそ２μｍである。また、透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとを仕切る隔壁部２１のＹ軸方向における長さ（言い換えれば幅）は、当該隔壁部２１の直下に透明共通電極１９ｔと反射共通電極１９ｒの境界が位置するように、素子基板１０と対向基板２０との組立時のＹ軸方向の位置精度を考慮して決定することが好ましい。

カラーフィルタ２２は、各色のフィルタエレメント形成材料（着色材料）を含む樹脂材料を、上記隔壁部２１の開口部を埋めるように形成する。形成方法としては、上記樹脂材料を含む液状体を液滴吐出法（インクジェット法）を用いて塗布し、塗布された液状体を乾燥させてカラーフィルタ２２を形成する方法が挙げられる。このような液滴吐出法を用いれば、フォトリソグラフィ法を用いて形成する場合に比べて、隔壁部２１によって区画されたサブ画素領域に必要量の上記液状体を無駄なく塗布することが可能である。また、フォトマスクを必要とせず、露光・現像等の製造工程を省くこともできる。

図３（ｂ）に示すように、各サブ画素ＳＧの隔壁部２１により区画された領域にカラーフィルタ２２における各色のフィルタエレメント２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂが設けられている。

各色のフィルタエレメント２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂの膜厚は、ほぼ同一である。これにより、カラー表示を可能とするものである。なお、各フィルタエレメント２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂの膜厚をほぼ同一とすることに限定されず、色ごと、あるいは同色のフィルタエレメントであっても反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとで膜厚を変えてもよい。これにより、反射表示領域Ｒおよび透過表示領域Ｔの光学特性に応じて表示色の色相や彩度を調整することができる。すなわち、より見映えのよいカラー表示を可能とする。

次に上記液晶装置１００について、光学設計の条件をまとめて説明する。図４は、液晶装置の光学設計条件の１例を示す概略図である。図４に示すように液晶装置１００の光学設計条件は、上偏光板２４の偏光軸と下偏光板１４の偏光軸とが直交している。液晶層５０（第１液晶層５０ａ、第２液晶層５０ｂ）における液晶分子の遅相軸の配向方向は、画素電極９と共通電極１９との間に所定の駆動電圧が印加されないＯＦＦ状態では、上偏光板２４の偏光軸に対して平行な状態となっている。画素電極９と共通電極１９との間に所定の駆動電圧が印加されたＯＮ状態では、上偏光板２４の偏光軸に対して４５度の角度で交差することになる。これにより、ＯＦＦ状態では、下偏光板１４を透過して偏光された透過光（直線偏光）は、第２液晶層５０ｂでλ／２の位相が与えられ、透過光の振動方向が上偏光板２４の偏光軸と直交する方向に変換される（吸収軸と平行となる）ので遮光される。一方で反射表示領域Ｒにおいて上偏光板２４を透過して偏光した入射光（直線偏光）は、第１液晶層５０ａによりλ／４の位相が与えられ、可視波長のほぼ全域において略円偏光となって反射共通電極１９ｒに入射する。反射共通電極１９ｒで反射した反射光は、再び上偏光板２４に入射する際に上偏光板２４の偏光軸に対して垂直な偏光に変換されるため、光が透過しない。したがって、所謂黒表示状態（ノーマリーブラック）となる。ＯＮ状態では、液晶分子の配向方向が上偏光板２４および下偏光板１４それぞれに対して４５度となるため、カラーフィルタ２２を透過した透過光および反射光の振動方向は上偏光板２４の偏光軸と平行となり上偏光板２４を透過する。よって、フィルタエレメント２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂの色に対応したカラー表示状態となる。

以上、本実施形態の液晶装置１００は、サブ画素ＳＧごとに反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとを有し、素子基板１０側に設けられた画素電極９と共通電極１９との間に駆動電圧を印加して、液晶層５０（第１液晶層５０ａおよび第２液晶層５０ｂ）を駆動する所謂ＦＦＳ（Fringe Field Switching）方式と呼ばれるものである。黒表示時における色付きが抑制され、コントラスト低下が少ない反射表示および透過表示を実現している。

なお、このような液晶装置１００は、素子基板１０の背面側に、白色のＬＥＤや冷陰極管などの光源からの光を液晶装置１００に導く導光板や拡散板、反射板などを備えた照明装置を配して用いられる。

＜液晶装置の製造方法＞

次に、本実施形態の液晶装置１００の製造方法について、図を参照して説明する。図５は、液晶装置の製造方法を示すフローチャートである。また、図６（ａ）〜（ｅ）および図７（ｆ）〜（ｇ）は液晶装置の製造方法を示す概略断面図である。

図５に示すように、本実施形態の液晶装置１００の製造方法は、隔壁部形成工程（ステップＳ１）と、カラーフィルタ形成工程（ステップＳ２）と、配向膜形成工程（ステップＳ３）とを備えている。また、第１の液晶を充填する工程（ステップＳ４）と、第２の液晶を充填する工程（ステップＳ５）と、一対の基板である素子基板１０と対向基板２０とを接合して液晶層５０を挟持するように組み立てる組立工程（ステップＳ６）とを備えている。

図５のステップＳ１は、隔壁部形成工程である。ステップＳ１では、図６（ａ）に示すように、複数の開口部２１ａを有する隔壁部２１を形成する。具体的には、対向基板２０の表面に、遮光性を有する隔壁部形成材料をオフセットなどの印刷法を用いて塗布、パターニングする方法、感光性を有する隔壁部形成材料を所定の膜厚で塗布して、露光・現像することによって隔壁部２１をパターニングする方法が挙げられる。隔壁部２１は、前述のサブ画素領域を区画して開口すると共に、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとを仕切るように形成する（図３参照）。隔壁部２１の膜厚すなわち高さは、後に形成されるカラーフィルタ２２の各フィルタエレメント２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂを区画すると共に、第１液晶層５０ａ、第２液晶層５０ｂの層厚ｄ（図３参照）を確保可能な高さ（この場合、３．５〜４μｍ）となるように調整する。そして、ステップＳ２へ進む。

図５のステップＳ２は、カラーフィルタ形成工程である。ステップＳ２では、まず、図６（ｂ）に示すように、フィルタエレメント形成材料を含む３色の液状体４Ｒ，４Ｇ，４Ｂをそれぞれ所望の開口部２１ａ（隔壁部２１により区画されたサブ画素領域）に塗布する。本実施形態では、３色の液状体４Ｒ，４Ｇ，４Ｂをそれぞれ異なる吐出ヘッド１Ｒ，１Ｇ，１Ｂに充填し、各吐出ヘッド１Ｒ，１Ｇ，１Ｂと対向基板２０とを相対的に走査することにより、各吐出ヘッド１Ｒ，１Ｇ，１Ｂに設けられた複数のノズル２から液滴として吐出する。３色の液状体４Ｒ，４Ｇ，４Ｂをほぼ同時に吐出してもよいし、個々に吐出してもよい。吐出ヘッド１Ｒ，１Ｇ，１Ｂとして例えばインクジェットヘッドを用いれば、必要量の液状体４Ｒ，４Ｇ，４Ｂをそれぞれ精度よく、かつ無駄なく所望の開口部２１ａに塗布することができる。

なお、液状体４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを塗布する前に、隔壁部２１が形成された対向基板２０の塗布面を親液処理し、隔壁部２１を撥液処理することが好ましい。親液処理の方法としては、酸素ガスを処理ガスとするプラズマ処理が挙げられる。また、撥液処理の方法としては、ＣＦ₄を処理ガスとするプラズマ処理が挙げられる。このような表面処理を施すことにより、ムラなく液状体４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを開口部２１ａ内に塗布することができる。

次に、塗布された液状体４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを乾燥させ、溶媒成分を除去することにより、図６（ｃ）に示すように赤（Ｒ）に対応したフィルタエレメント２２Ｒ、緑（Ｇ）に対応したフィルタエレメント２２Ｇ、青（Ｂ）に対応したフィルタエレメント２２Ｂをそれぞれ所定の膜厚（およそ１．５〜２μｍ）で形成することができる。そして、ステップＳ３へ進む。

図５のステップＳ３は、配向膜形成工程である。ステップＳ３では、図６（ｄ）に示すように、隔壁部２１と各フィルタエレメント２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂの表面を覆うように配向膜２３を形成する。配向膜２３の形成方法としては、配向膜材料としてのポリイミドやポリアミック酸を含む有機溶液を塗布して、溶媒成分を除去する乾燥・焼成を行うことにより成膜化する。塗布方法としては、スピンコート、スリットコートなどの方法や、オフセットなどの印刷法、液滴吐出法が挙げられる。成膜化した配向膜２３は、その表面を一定の方向にラビング処理する。なお、上記有機溶液を塗布する前に、塗布面の濡れ性を改善する表面処理を施してもよい。例えば、紫外線照射や酸素を処理ガスとするプラズマ処理などが挙げられる。そして、ステップＳ４へ進む。

図５のステップＳ４は、反射表示領域Ｒに第１の液晶を吐出する第１吐出工程としての第１の液晶充填工程である。ステップＳ４では、図６（ｅ）に示すように、隔壁部２１で区画された反射表示領域Ｒに、第１の液晶５１を液滴として吐出する。吐出方法としては、ステップＳ２と同様に、複数のノズル２を有する吐出ヘッド１Ａに第１の液晶５１を充填し、吐出ヘッド１Ａと対向基板２０とを相対的に走査することにより、ノズル２から第１の液晶５１を液滴として吐出する。必要量の第１の液晶５１を各反射表示領域Ｒに精度よく、かつ無駄なく塗布することができる。そして、ステップＳ５へ進む。

図５のステップＳ５は、透過表示領域Ｔに第２の液晶を吐出する第２吐出工程としての第２の液晶充填工程である。ステップＳ５では、ステップＳ４と同様にして、図６（ｅ）に示すように、吐出ヘッド１Ｂに第２の液晶５２を充填し、吐出ヘッド１Ｂと対向基板２０とを相対的に走査することにより、ノズル２から第２の液晶５２を液滴として隔壁部２１で区画された透過表示領域Ｔに吐出する。必要量の第２の液晶５２を各透過表示領域Ｔに精度よく、かつ無駄なく塗布することができる。そして、ステップＳ６へ進む。

なお、ステップＳ４およびステップＳ５において、どのような液晶材料を選定するかによっては、粘度が液滴吐出法（インクジェット法）に適さないことも考えられる。その場合には、液晶材料自体、あるいは吐出ヘッド１Ａ，１Ｂを室温以上に加温して、粘度をおよそ３０ｍＰａ・ｓ以下とすることが望ましい。また、２種類の液晶材料が混じり合わないように、反射表示領域Ｒおよび透過表示領域Ｔにおける塗布量は、必要量に対してわずかに減じておくことが望ましい。
また、２種類の液晶材料の塗布は、同一吐出工程で行ってもよい。それぞれに異なる種類の液晶材料が充填された吐出ヘッド１Ａ，１Ｂと、対向基板２０とを相対的に走査すれば、ほぼ同時に２種の液晶材料を所望の領域に吐出することができる。
また、前述したように第１の液晶５１の複屈折率は、第２の液晶５２の複屈折率よりも小さく、半分の値となるように選定されている。

図５のステップＳ６は、組立工程である。ステップＳ６では、まず、図７（ｆ）に示すように、第１の液晶５１と第２の液晶５２とが塗布された対向基板２０と、画素電極９、共通電極１９（反射共通電極１９ｒおよび透明共通電極１９ｔ）を有する素子基板１０とを、チャンバー（図示省略）内において所定の位置で対向配置する。そして、チャンバー内を減圧状態とし、塗布された第１の液晶５１および第２の液晶５２の中に溶解する窒素、酸素、炭酸ガス、水蒸気などの気体を脱気する。続いて、素子基板１０または対向基板２０のいずれか一方において、複数の画素を有する表示領域を囲むように設けられたシール材（接着剤）を介して、素子基板１０と対向基板２０とを接合する。シール材としては、紫外線硬化型または熱硬化型のエポキシ系あるいはアクリル系の接着剤を用いることができる。これにより、図７（ｇ）に示すように、第１の液晶５１からなる第１液晶層５０ａと第２の液晶５２からなる第２液晶層５０ｂとを素子基板１０と対向基板２０との間に封入する。

このようにしてできあがった液晶セルの表裏面に上偏光板２４と下偏光板１４とを貼り付ける。そして、駆動回路と接続することにより液晶装置１００が完成する。

このような液晶装置１００の製造方法によれば、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとにおける光学的な補償を行うために、位相差板を液晶セル外に貼り付ける工程や、液晶セル内に位相差膜を形成する工程などが不要となり、より単純な構造で反射表示と透過表示とを実現できる液晶装置１００を製造することができる。

また、液晶層５０を同種の液晶材料により構成する場合に比べて、第１の液晶５１と第２の液晶５２とを打ち分けて第１液晶層５０ａと第２液晶層５０ｂとを構成するので、反射表示、透過表示に適した液晶材料を選定して用いることができる。

さらに、カラーフィルタ形成工程（ステップＳ２）や液晶充填工程（ステップＳ４、ステップＳ５）において、液滴吐出法（インクジェット法）を用いているので、使用する材料の無駄を省き、簡略化された製造工程で効率よく液晶装置１００を製造することができる。

（実施形態２）
＜他の液晶装置＞
次に、実施形態２の液晶装置およびその製造方法について図を参照して説明する。図８（ａ）および（ｂ）は、実施形態２の液晶装置の構造を示す概略断面図である。なお、上記実施形態１と同じ構成の部分については同じ符号を用いて説明する。

図８（ａ）に示すように、本実施形態の液晶装置２００は、上記実施形態１に対して、反射表示領域Ｒにおいて、第１液晶層５０ａの厚みを調整する液晶層厚調整層２５（２５Ｇ）をさらに備えている。基本的な光学設計条件は、上記実施形態１の液晶装置１００と同じであり、図４に示された条件を採用できる。

液晶層厚調整層２５（２５Ｇ）は、透明性と光学的等方性とを有しており、隔壁部２１により区画された反射表示領域Ｒにおいて、フィルタエレメント２２Ｇに積層されている。これにより、反射表示領域Ｒの第１液晶層５０ａの層厚と、透過表示領域Ｔの第２液晶層５０ｂの層厚とを異ならせている。この場合、透過表示領域Ｔにおいては、第２液晶層５０ｂの層厚をｄとし、反射表示領域Ｒにおいては、第１液晶層５０ａの層厚を層厚ｄよりも小さい（薄い）ｘとしている。

前述したように液晶層における位相差値は、当該液晶層を構成する液晶の複屈折率Δｎと層厚とを乗ずることによって与えられる。したがって、第１液晶層５０ａの位相差値はΔｎ₁×ｘとなる。また、第２液晶層５０ｂの位相差値はΔｎ₂×ｄとなる。反射表示領域Ｒにおける反射光の位相差値と透過表示領域Ｔの透過光の位相差値をほぼ同等とする場合、すなわち、２Δｎ₁×ｘ＝Δｎ₂×ｄとする場合、ｘ＝（Δｎ₂／２Δｎ₁）ｄとなる。第１液晶層５０ａの層厚ｘを第２液晶層５０ｂの層厚ｄに比べて小さくすることにより、第１液晶層５０ａを構成する第１の液晶５１の複屈折率Δｎ₁と第２液晶層５０ｂを構成する第２の液晶５２の複屈折率Δｎ₂とを近づけることが可能となる。

したがって、光学特性における温度依存性などの特性が類似した液晶材料の群の中から第１の液晶５１と第２の液晶５２とを選定することが可能となる。よって、液晶材料の選定における自由度が高まると共に、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとの光学特性を合わせやすい。

また、図８（ｂ）に示すように、各フィルタエレメント２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂの色に対応して、液晶層厚調整層２５の厚みを異ならせることも可能である。これにより、各フィルタエレメント２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂの吸収波長に応じて、反射表示における光学的な色補正が可能となる。この場合、緑色（Ｇ）のフィルタエレメント２２Ｇに対する液晶層厚調整層２５Ｇを基準として、赤色（Ｒ）のフィルタエレメント２２Ｒに対する液晶層厚調整層２５Ｒをより薄く、青色（Ｂ）のフィルタエレメント２２Ｂに対する液晶層厚調整層２５Ｂをより厚く設定している。
なお、各液晶層厚調整層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂの層厚を互いに異ならせなくてもよい。少なくとも１色のフィルタエレメントに対する液晶層厚調整層２５の層厚を他のフィルタエレメントに対する液晶層厚調整層２５の層厚と異ならせることにより、相応の効果を得ることができる。

＜他の液晶装置の製造方法＞
次に、実施形態２の液晶装置の製造方法について図を参照して説明する。図９は、実施形態２の液晶装置の製造方法を示すフローチャートである。
図９に示すように、本実施形態の液晶装置２００の製造方法は、隔壁部形成工程（ステップＳ１１）と、カラーフィルタ形成工程（ステップＳ１２）と、液晶層厚調整層形成工程（ステップＳ１３）と、配向膜形成工程（ステップＳ１４）とを備えている。また、第１の液晶を充填する工程（ステップＳ１５）と、第２の液晶を充填する工程（ステップＳ１６）と、一対の基板である素子基板１０と対向基板２０とを接合して液晶層５０を挟持するように組み立てる組立工程（ステップＳ１７）とを備えている。上記実施形態１の液晶装置１００の製造方法と同じ内容の製造工程については、説明を省略する。

図１０（ａ）〜（ｄ）は、実施形態２の液晶装置の製造方法を示す概略断面図である。

図９のステップＳ１１は、隔壁部形成工程である。ステップＳ１１では、上記実施形態１のステップＳ１と同様に、サブ画素ＳＧを区画して開口すると共に、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとを仕切るように隔壁部２１を形成する（図６（ａ）参照）。そして、ステップＳ１２へ進む。

図９のステップＳ１２は、カラーフィルタ形成工程である。ステップＳ１２では、上記実施形態１のステップＳ２と同様に、フィルタエレメント形成材料を含む３色の液状体４Ｒ，４Ｇ，４Ｂをそれぞれ所望の開口部２１ａ（サブ画素領域）に塗布し、塗布された液状体４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを乾燥させることにより３色のフィルタエレメント２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂを形成する（図６（ｂ）および（ｃ）参照）。そして、ステップＳ１３へ進む。

図９のステップＳ１３は、液晶層厚調整層形成工程である。ステップＳ１３では、図１０（ａ）に示すように、まず、液晶層厚調整層形成材料を含む液状体７を隔壁部２１で区画された反射表示領域Ｒに塗布する。この場合も液滴吐出法（インクジェット法）を用い、上記液状体７を吐出ヘッド１に充填し、吐出ヘッド１と対向基板２０とを相対的に走査することにより、吐出ヘッド１に設けられた複数のノズル２から液滴として吐出する。

液晶層厚調整層形成材料としては、例えば、光硬化型のアクリル系樹脂材料を用いる。液状体７は、３色のフィルタエレメント２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂ上において成膜後に膜厚が異なるように、対応する開口部２１ａに塗布する塗布量を異ならせる。

次に、図１０（ｂ）に示すように、紫外線を照射して硬化させ、液晶層厚調整層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂをそれぞれ形成する。液晶層厚調整層２５Ｒ，２５Ｂの層厚は、液晶層厚調整層２５Ｇを基準として設定されている。なお、液晶層厚調整層形成材料は、光硬化型のアクリル系樹脂材料に限らず、透明性と等方性とが確保できれば、熱硬化型の樹脂材料でもよい。そして、ステップＳ１４へ進む。

図９のステップＳ１４は、配向膜形成工程である。ステップＳ１４では、図１０（ｃ）に示すように、上記実施形態１のステップＳ３と同様にして、隔壁部２１と液晶層厚調整層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂとを覆うように配向膜２３を形成する。成膜化した配向膜２３は、その表面を一定の方向にラビング処理する。そして、ステップＳ１５へ進む。

図９のステップＳ１５は、第１の液晶充填工程である。ステップＳ１５では、図１０（ｄ）に示すように、上記実施形態１のステップＳ４と同様にして、第１の液晶５１を吐出ヘッド１Ａに充填し、隔壁部２１で区画された反射表示領域Ｒに複数のノズル２から第１の液晶５１を液滴として吐出する。そして、ステップＳ１６へ進む。

図９のステップＳ１６は、第２の液晶充填工程である。ステップＳ１６では、図１０（ｄ）に示すように、上記実施形態１のステップＳ５と同様にして、第２の液晶５２を吐出ヘッド１Ｂに充填し、隔壁部２１で区画された透過表示領域Ｔに複数のノズル２から第２の液晶５２を液滴として吐出する。

上記ステップＳ１５およびステップＳ１６では、フィルタエレメント２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂの色ごとに、液晶材料の塗布量を異ならせる。そして、ステップＳ１７へ進む。

図９のステップＳ１７は、組立工程である。ステップＳ１７では、上記実施形態１のステップＳ６と同様にして、第１の液晶５１と第２の液晶５２とが塗布された対向基板２０と素子基板１０とを接合して組み立てる。そして、できあがった液晶セルの表裏面に上偏光板２４と下偏光板１４とを貼り付ける。これにより、図８（ａ）および（ｂ）に示した液晶装置２００ができあがる。

このような液晶装置２００の製造方法によれば、上記実施形態１の効果に加えて、液晶層厚調整層２５（２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂ）をさらに設けることにより、第１の液晶５１および第２の液晶５２の選択における自由度を高めることができる。また、液晶層厚調整層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂごとの膜厚を異ならせることにより、反射表示における表示色の色補正を行うことができる。

（実施形態３）
＜電子機器＞
次に、本実施形態の電子機器としての携帯型電話機について説明する。図１１は、電子機器としての携帯型電話機を示す概略斜視図である。

図１１に示すように、本実施形態の携帯型電話機３００は、操作用の入力部と表示部３０１とを備えた本体を有する。表示部３０１には、上記液晶装置１００または上記液晶装置２００と、これを照明する照明装置とが組み込まれている。したがって、照明装置からの透過光を利用した透過表示と、外光などの入射光を利用した反射表示とにより、表示された情報を確認することが可能である。すなわち、屋外など十分な明るさの環境下では、照明装置を駆動せず、反射表示により情報を確認することができる。すなわち、省電力化を実現し、長い電池寿命を有する携帯型電話機３００を実現している。

携帯型電話機３００は、上記実施形態１の液晶装置１００または上記実施形態２の液晶装置２００、あるいは上記液晶装置１００の製造方法を用いて製造された液晶装置１００または上記液晶装置２００の製造方法を用いて製造された液晶装置２００を搭載している。したがって、見映えのよい表示品質を有し、コストパフォーマンスに優れた携帯型電話機３００を提供することができる。

上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。

（変形例１）上記実施形態１の液晶装置１００において、隔壁部２１の配置は、これに限定されない。図１２（ａ）および（ｂ）は、隔壁部の配置を示す概略平面図である。上記実施形態１においては、図１２（ａ）に示すように、隔壁部２１を格子状に設け、各サブ画素ＳＧ（実質的には各フィルタエレメント２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂ）を区画すると共に、Ｙ軸方向（同色のフィルタエレメントがストライプ状に配列する方向）において反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとを区切った。これに対して、同図（ｂ）に示すように、Ｙ軸方向に直交するＸ軸方向において、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとを区切るように構成してもよい。このように、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとを隔壁部２１によってどのように区切るかは、サブ画素ＳＧの形状や視角特性などを考慮してより効果的な反射表示領域Ｒおよび透過表示領域Ｔの配置を決定すればよい。この他にも、サブ画素ＳＧ内において、島状に反射表示領域Ｒを孤立させて設けることも可能である。

（変形例２）上記実施形態２の液晶装置２００において、隔壁部２１、液晶層厚調整層２５の配置は、これに限定されない。例えば、図８（ａ）および（ｂ）において、対向基板２０側にカラーフィルタ２２を設け、素子基板１０側に、隔壁部２１と隔壁部２１で区画された液晶層厚調整層２５を配置してもよい。このような構成としても同様な効果が得られる。また、対向基板２０側の構成が簡素になるので、カラーフィルタ２２を備えた原材料基板として、外部メーカーから調達が可能となる。

（変形例３）上記実施形態１の液晶装置１００において、反射表示領域Ｒを実現するサブ画素ＳＧの構成は、光反射性を有する反射共通電極１９ｒに限定されない。例えば、透明共通電極１９ｔを平面視で画素電極９と同じ大きさで設け、透明共通電極１９ｔの下層に光反射性を有する反射層を形成してもよい。反射層の形成方法は、例えば複数の凹凸を有する樹脂層上にＡｌ、Ａｇなどの金属薄膜を成膜する方法が挙げられる。このような反射層は反射表示領域Ｒに対応して形成する。これによれば、反射層で反射した光の指向性を低減してより明るい反射表示を実現できる。

（変形例４）上記実施形態１の液晶装置１００において、３色のフィルタエレメント２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂの配置は、ストライプ方式に限定されない。例えば、モザイク方式の配置、デルタ方式の配置においても、上記実施形態１の液晶層５０の構成を適用することができる。なお、カラーフィルタ２２は、３色に限定されず、Ｒ，Ｇ，Ｂ以外の色を加えた多色構成としてもよい。また、カラーフィルタ２２を設けず、所謂白黒表示のみの半透過反射型の液晶パネルにおいても適用可能である。

（変形例５）上記実施形態１の液晶装置１００および上記実施形態２の液晶装置２００は、ＦＦＳ方式の半透過反射型に限定されない。例えば、ＩＰＳ方式、ＶＡ（Vertical Alignment）方式の半透過反射型の液晶パネルにも適用可能である。また、スイッチング素子は、ＴＦＴ３０に限らず、ＴＦＤ（Thin Film Diode）素子でもよい。さらには、スイッチング素子を備えたアクティブ方式に限定されず、単純マトリクス方式の液晶装置にも適用可能である。

（変形例６）上記実施形態１の液晶装置１００の製造方法において、カラーフィルタ２２の形成方法は、液滴吐出法を用いることに限定されない。フォトリソグラフィ法でカラーフィルタ２２を形成した後に、隔壁部２１をカラーフィルタ２２上に形成してもよい。

（変形例７）上記実施形態２の液晶装置２００の製造方法において、液晶層厚調整層２５を表示色ごとに膜厚を異ならせる構成は、これに限定されない。例えば、液晶層厚調整層２５の膜厚が、表示色に関わらず同一としてもよい。これによれば、製造工程における膜厚の調整過程を除いて、より簡素化できる。

（変形例８）上記実施形態３において、液晶装置１００または液晶装置２００を備えた電子機器は、携帯型電話機３００に限定されない。例えば、ノート型パーソナルコンピュータ、電子手帳、映像情報を表示するビューワーやＤＶＤプレーヤ、携帯型情報端末などの電子機器に搭載すれば、好適である。

液晶装置の電気的な構成を示す等価回路図。 画素の構造を示す概略平面図。 （ａ）は図２のＡ−Ａ'線で切った液晶装置の構造を示す断面図、（ｂ）は、図２のＢ−Ｂ'線で切った液晶装置の構造を示す断面図。 液晶装置の光学設計条件を示す概略図。 液晶装置の製造方法を示すフローチャート。 （ａ）〜（ｅ）は液晶装置の製造方法を示す概略断面図。 （ｆ）〜（ｇ）は液晶装置の製造方法を示す概略断面図。 （ａ）および（ｂ）は実施形態２の液晶装置の構造を示す概略断面図 実施形態２の液晶装置の製造方法を示すフローチャート。 （ａ）〜（ｄ）は実施形態２の液晶装置の製造方法を示す概略断面図。 電子機器としての携帯型電話機を示す概略斜視図。 （ａ）および（ｂ）は隔壁部の配置を示す概略平面図。

符号の説明

４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ…フィルタエレメント形成材料を含む液状体、７…液晶層厚調整層形成材料を含む液状体、１０…素子基板、２０…一対の基板のうちの一方の基板としての対向基板、２１…隔壁部、２１ａ…隔壁部により区画された画素領域としての開口部、２２…カラーフィルタ、２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂ…フィルタエレメント、２３…配向膜、２５，２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂ…液晶層厚調整層、５０…液晶層、５０ａ…第１液晶層、５０ｂ…第２液晶層、５１…第１の液晶、５２…第２の液晶、１００…液晶装置、２００…液晶装置、３００…電子機器としての携帯型電話機、Ｒ…反射表示領域、ＳＧ…サブ画素、Ｔ…透過表示領域。

Claims (16)

1. 一対の基板と、
   前記一対の基板に挟まれた領域を反射表示領域と透過表示領域とに区切る隔壁部と、
   １つの画素領域内に前記反射表示領域および前記透過表示領域を有する複数の画素と、
   を備え、
   前記一対の基板の間において、前記隔壁部により区画された前記反射表示領域に第１の液晶からなる第１液晶層が封入され、前記隔壁部により区画された前記透過表示領域に第２の液晶からなる第２液晶層が封入されており、前記第１液晶層における反射光の位相差値と前記第２液晶層における透過光の位相差値がほぼ同等であることを特徴とする液晶装置。
2. 前記第１液晶層の層厚と前記第２液晶層の層厚とがほぼ同等であり、
   前記第１の液晶の複屈折率が前記第２の液晶の複屈折率の半分の値であることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
3. 前記一対の基板のうち一方の基板は、前記反射表示領域に前記第１液晶層の厚みを調整する液晶層厚調整層を有しており、
   前記第１液晶層の層厚は前記第２液晶層の層厚より小さく、
   前記第１の液晶の複屈折率が前記第２の液晶の複屈折率より小さいことを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
4. 前記一対の基板のうち一方の基板は、前記隔壁部により区画された複数の前記画素領域に、複数色のフィルタエレメントを有するカラーフィルタを備えたことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の液晶装置。
5. 前記一対の基板のうち一方の基板は、前記隔壁部により区画された複数の前記画素領域に、複数色のフィルタエレメントを有するカラーフィルタと、前記反射表示領域に前記第１液晶層の厚みを調整する液晶層厚調整層とを有し、
   少なくとも１色のフィルタエレメントに対する前記液晶層厚調整層の厚みが、他の色のフィルタエレメントに対する前記液晶層厚調整層の厚みと異なることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の液晶装置。
6. 前記隔壁部が遮光性を有する材料からなることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の液晶装置。
7. 一対の基板と、１つの画素領域内に反射表示領域および透過表示領域を有する複数の画素とを有する液晶装置の製造方法であって、
   前記一対の基板のうち一方の基板に、前記複数の画素を区画すると共に、前記反射表示領域と前記透過表示領域とを区切るように隔壁部を形成する隔壁部形成工程と、
   前記一方の基板の前記隔壁部により区画された前記反射表示領域に第１の液晶を充填し、前記隔壁部により区画された前記透過表示領域に第２の液晶を充填して、前記一対の基板を接合することにより、前記第１の液晶からなる第１液晶層と、前記第２の液晶からなる第２液晶層とを狭持する組立工程と、を備え、
   前記第１液晶層における反射光の位相差値と前記第２液晶層における透過光の位相差値がほぼ同等となるように、前記第１の液晶および前記第２の液晶を選定することを特徴とする液晶装置の製造方法。
8. 前記隔壁部形成工程は、遮光性を有する材料を用いて前記隔壁部を形成することを特徴とする請求項７に記載の液晶装置の製造方法。
9. 前記組立工程は、前記第１液晶層の層厚と前記第２液晶層の層厚とがほぼ同等となるように、前記一対の基板を接合し、
   前記第１の液晶の複屈折率が、前記第２の液晶の複屈折率の半分の値であることを特徴とする請求項７または８に記載の液晶装置の製造方法。
10. 前記一方の基板の前記隔壁部により区画された前記反射表示領域に前記第１液晶層の厚みを調整する液晶層厚調整層を形成する液晶層厚調整層形成工程を備え、
    前記組立工程は、前記第２の液晶の複屈折率よりも小さい複屈折率を有する前記第１の液晶を前記反射表示領域に充填することを特徴とする請求項７または８に記載の液晶装置の製造方法。
11. 前記一方の基板の前記隔壁部により区画された複数の前記画素領域に、複数色のフィルタエレメントを有するカラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成工程を備えたことを特徴とする請求項７乃至１０のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法。
12. 前記一方の基板の前記隔壁部により区画された複数の前記画素領域に、複数色のフィルタエレメントを有するカラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成工程と、
    前記一方の基板の前記隔壁部により区画された前記反射表示領域に前記第１液晶層の厚みを調整する液晶層厚調整層を形成する液晶層厚調整層形成工程とをさらに備え、
    前記液晶層厚調整層形成工程は、少なくとも１色のフィルタエレメントに対する前記液晶層厚調整層の厚みが、他の色のフィルタエレメントに対する前記液晶層厚調整層の厚みと異なるように形成することを特徴とする請求項７または８に記載の液晶装置の製造方法。
13. 前記液晶層厚調整層形成工程は、液晶層厚調整層形成材料を含む液状体を液滴として前記反射表示領域に塗布する塗布工程と、
    塗布された前記液状体を乾燥させることにより、前記液晶層厚調整層を形成する成膜工程とを含むことを特徴とする請求項１０乃至１２のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法。
14. 前記カラーフィルタ形成工程は、フィルタエレメント形成材料を含む少なくとも３色の液状体を液滴として複数の前記画素領域に塗布する塗布工程と、
    塗布された前記液状体を固化して、少なくとも赤、青、緑、３色の前記フィルタエレメントを形成する成膜工程とを含むことを特徴とする請求項１１乃至１３のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法。
15. 前記組立工程は、前記第１の液晶を液滴として前記反射表示領域に吐出する第１吐出工程、前記第２の液晶を液滴として前記透過表示領域に吐出する第２吐出工程とを含むことを特徴とする請求項７乃至１４のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法。
16. 請求項１乃至６に記載の液晶装置、または請求項７乃至１５に記載の液晶装置の製造方法を用いて製造された液晶装置を搭載したことを特徴とする電子機器。

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