JP2008225477A

JP2008225477A - 感光性ペースト組成物、これを利用して製造されたプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法

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Publication number: JP2008225477A
Application number: JP2008063132A
Authority: JP
Inventors: Beom-Wook Lee; 範旭李; Shosho Sai; 鍾書崔; Kwi-Seok Choi; 龜錫崔; Myung-Dok Lim; 明徳林; Hoon-Bae Lee; 勳培李; Bun-Jin Chang; 範鎭張
Original assignee: Samsung SDI Co Ltd
Current assignee: Samsung SDI Co Ltd
Priority date: 2007-03-12
Filing date: 2008-03-12
Publication date: 2008-09-25
Also published as: US20080227033A1; KR20080083518A

Abstract

【課題】感光性ペースト組成物、これを利用して製造されたプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】無機成分および有機成分を含む感光性ペースト組成物であって、前記有機成分が、架橋剤、バインダー、光開始剤、溶剤および添加剤を含み、前記架橋剤が、前記架橋剤の総質量に対して５０〜１００質量％のモノ（メタ）アクリレート架橋物質を含み、前記架橋剤の含有量が、前記有機成分のうち溶剤を除外した総質量に対して３０〜５０質量％である、感光性ペースト組成物を提供する。これにより、焼成時にパターン膜の応力を最小化することによって、収縮による変形を最小化してパターンのねじれ、短絡（切れ）または脱落（浮き上がり）などの現象を抑制または根本的に防止できる。
【選択図】図１

Description

本発明は、感光性ペースト組成物、これを利用して製造されたプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法に関する。より具体的には、焼成時にパターン膜の応力を最小化することによって、収縮による変形を最小化してパターンのねじれ、短絡（切れ）または脱落（浮き上がり）などの現象を抑制または根本的に防止できる感光性ペースト組成物、これを利用して製造されたプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法に関する。

最近、ディスプレイ装置において、大型化、高密度化、高精密化、および高信頼性の要求が高まるにつれて、スクリーン印刷法、インクジェット法、オフセット法、ディスペンサー法またはフォトリソグラフィなどの様々な微細パターン加工技術およびこれに適した材料開発を通じた、微細パターンを形成しようとする研究が活発になされている。

プラズマディスプレイパネル（以下、“ＰＤＰ”とも称する）は、液晶パネルと比較すると、応答速度が速く、大型化が容易であって、現在多様な分野に利用されている。従来、このようなＰＤＰ上にパターン形成が要求される部分としては、アドレス、バス電極および隔壁を例として挙げることができる。現在、電極の場合、ほとんどフォトリソグラフィで形成する。その一方、隔壁は主にサンドブラスト法およびエッチング法を利用して形成しているが、一部、フォトリソグラフィを利用して隔壁を形成する方法が開示されている。かような微細パターンを形成する様々な方法のうち、大面積および高精密に適した工程が単純であるフォトリソグラフィへの関心が高まりつつある。

前記フォトリソグラフィは、一般的に、感光性ペースト組成物を印刷および乾燥して所望の厚さの膜を形成した後、フォトマスクが装着された紫外線露光装置を利用して露光した後、現像工程により非露光部を選択的に除去し、焼成工程を経ることによってパターンを製造する。

一般的な感光性ペースト組成物は、無機粉末と感光性有機組成物とで構成され、無機粉末は、感光性ペーストの使用用途によってその成分が決まる。例えば、電極パターンを形成する場合には、金、銀、ニッケル、銅、アルミニウムのような導電性（伝導性）に優れた金属物質の粉末を使用する。一方、絶縁層パターンを形成する場合には、ガラス粉末、セラミック粉末、酸化アルミニウム、酸化ケイ素のような無機酸化物やこれらの混合粉末を使用する。また、感光性有機組成物は、一般的にバインダー、光開始剤、架橋剤、添加剤および溶剤で構成されるが、それぞれの成分は、使われる用途および要求される特性によって設計される。

感光性ペースト組成物を利用したフォトリソグラフィにおいて、焼成工程は、感光性有機組成物の熱分解による除去と、無機粉末の焼結のために行なうものであり、このような焼成工程時に激しい収縮が引き起こされるが、収縮は、一般的に厚さ収縮率が幅収縮率に比べて大きいために発生する。

焼成工程時に発生するこのような収縮過程では、収縮が起きるパターンに応力が発生し、このような応力によりパターンがねじれるか、切れて短絡が発生するか、または基板からパターニングされた膜が浮き上がる脱落現象が発生する。特に、パターン形態がストライプよりはマトリックスのような複雑な構造である場合に、このような現象はさらに顕著に発生する。
特開第２００２−３２８４７０号公報

したがって、本発明は、前記従来技術の問題点を解決して、焼成時にパターン膜の応力を最小化にすることによって、収縮による変形を最小化してパターンのねじれ、短絡（切れ）または脱落（浮き上がり）などの現象を、抑制または根本的に防止できる感光性ペースト組成物、これを利用して製造されたプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法を提供することを目的とする。

本発明は、無機成分および有機成分を含む感光性ペースト組成物であって、前記有機成分が、架橋剤、バインダー、光開始剤、溶剤および添加剤を含み、前記架橋剤が、前記架橋剤の総質量に対して５０〜１００質量％のモノアクリレート架橋物質を含み、前記架橋剤の含有量が、前記有機成分のうち溶剤を除外した総質量に対して３０〜５０質量％である、感光性ペースト組成物を提供することにより、前記目的を達成する。

また、本発明は、本発明に係る感光性ペースト組成物を基板上に塗布する工程と、前記基板上に塗布された感光性ペースト組成物を乾燥させる工程と、前記乾燥された感光性ペースト組成物上に、フォトマスクが装着された露光装置を利用して光を照射する工程と、アルカリ現像液で現像して未露光部位を除去することによってパターンを形成する工程と、焼成および焼結過程を通じて前記感光性ペースト組成物中の有機成分を除去し、無機成分を焼結する工程と、を含む、プラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することにより、前記目的を達成する。

本発明によれば、焼成時にパターン膜の応力を最小化することによって、収縮による変形を最小化して、パターンのねじれ、短絡（切れ）または脱落（浮き上がり）などの現象を根本的に防止できる感光性ペースト組成物、これを利用して製造されたプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法を提供できる。

以下、本発明についてさらに詳細に説明する。

本発明に係る感光性ペースト組成物は、無機成分および有機成分を含む感光性ペースト組成物であって、前記有機成分が、架橋剤、バインダー、光開始剤、溶剤および添加剤を含み、前記架橋剤が、前記架橋剤の総質量に対して５０〜１００質量％のモノアクリレート架橋物質を含み、前記架橋剤の含有量が、前記有機成分のうち溶剤を除外した総質量に対して３０〜５０質量％である。

本発明者らは、従来の感光性ペースト組成物を焼成する工程の際に生じる、ねじれ、短絡または脱落現象は、感光性ペースト組成物中の架橋剤成分およびその含有量に非常に大きく影響されるという事実を見出だし、かような知見に基づいて、本発明を完成するに至った。

すなわち、フォトリソグラフィによる焼成工程でパターニングされた膜に応力が発生して、ねじれ、短絡または脱落などの現象が発生するが、このような応力の程度は、露光工程時に、架橋反応を引き起こす架橋剤の成分および含有量により決定される。

一方、焼成工程時に応力を最小化すれば、ねじれ、短絡または脱落のような問題を最小化するか、または抑制もしくは防止できるので、本発明者らは、様々な架橋剤成分および様々な含有量による反復実験による鋭意検討の結果、架橋剤成分のうちモノアクリレート架橋物質の比率が高く、有機成分のうち架橋剤成分の含有量比率が低いと、ねじれ、短絡、または脱落などの現象が抑制または防止する事実を見出した。

このようなメカニズムは明らかではないが、（１）モノアクリレート架橋物質は、露光工程時に架橋反応により低いガラス転移温度を有する熱可塑性樹脂になって、焼成工程時に温度が上昇する。その際に、流動性を表すため、応力が最小化されるのではないかと予想される。（２）また、架橋剤が架橋反応を起こして生成された化合物は、感光性有機成分のうち溶剤を除いて、流動性が最も低いものである。そのため、有機成分全体のうち架橋剤全体の含有量が低いほど流動性が増大する。よって、架橋剤の含有量を一定量に制御することで、応力を最小化することができる。ただし、上記メカニズムは、本発明者らの推測に過ぎず、かようなメカニズムに拘束されないことは言うまでもない。

本発明に係る感光性ペースト組成物において、モノアクリレート架橋物質の含有量は、架橋剤の総質量に対して５０〜１００質量％であり、より好ましくは６０〜１００質量％、特に好ましくは、７０〜１００質量％である。その含有量が、前記範囲未満である場合には、焼成時にパターニングされた膜のねじれ、短絡または脱落が起こる問題が発生する。

感光性ペースト組成物における前記有機成分は、バインダー、光開始剤、溶剤および添加剤をさらに含む。

また、架橋剤の総含有量は、溶剤を除外した有機成分の総質量に対して３０〜５０質量％であり、より好ましくは３０〜４９．５質量％、特に好ましくは、３４〜３８質量％である。これは、架橋剤の総含有量が、前記範囲未満である場合には露光感度が落ちる問題が発生し、前記範囲を超える場合には、焼成時にパターニングされた膜のねじれ、短絡または脱落する問題が発生するからである。

前記モノ（メタ）アクリレート架橋物質としては、特に制限されないが、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートおよびアミノエチル（メタ）アクリレートからなる群から選択される少なくとも１種が挙げられる。

中でも、メトキシジエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレートがより好ましい。

本発明に係る感光性ペースト組成物において、架橋剤としては、上述のモノ（メタ）アクリレートが単独または混合物の形態で使われることもあるが、前記架橋剤が１００質量％のモノ（メタ）アクリレート架橋物質から構成されなければ、露光感度の向上のため、さらに多官能アクリレートが混合されて用いられてもよい。

このような多官能アクリレートとしては、これらに制限されるものではないが、１，６−へキサンジオールジアクリレート、１，６−へキサンジオール（エトキシレート）ジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、ビスフェノールＡ−ジアクリレートおよびテトラエチレングリコールジアクリレートからなる群から選択されるジアクリレート；トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパン（エトキシレート）トリアクリレート、グリセリン（プロキシレート）トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびトリメチロールプロパン（プロキシレート）３−トリアクリレートからなる群から選択されるトリアクリレート；ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールプロパンテトラアクリレートおよびペンタエリスリトールテトラアクリレートからなる群から選択されるテトラアクリレート；ジペンタエリスリトールペンタアクリレートからなる群から選択されるペンタアクリレート；ならびにジペンタエリスリトールヘキサアクリレートからなる群から選択されるヘキサアクリレート；からなる群から選択される少なくとも１種が用いられうる。中でも、ビスフェノールＡ−ジアクリレート、トリメチロールプロパン（エトキシレート）トリアクリレートがより好ましい。

上述のように、本発明に係る感光性ペースト組成物において、前記有機成分は、架橋剤に加えて、バインダー、光開始剤、溶剤および添加剤をさらに含む。

有機成分のうちバインダーは、現像工程に使われる現像液によって構成成分が決まる。現像液が純水である場合、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド系などの水溶性樹脂が使われうる。また、現像液がアルカリ水溶液である場合、カルボキシル基を有するアクリル系樹脂が使われうる。ただ、現在は組成変化による特性調節が容易な理由で、カルボキシル基を有するアクリル系樹脂が一般的に使われうる。

前記カルボキシル基を有するアクリル系樹脂は、ペーストを製造する場合にペーストに適当な粘度を持たせる役割を行い、またアルカリ水溶液に現像させる役割を行う。また、前記カルボキシル基を有するアクリル系樹脂（すなわち、バインダー）は、カルボキシル基を有するモノマーと、少なくとも１種のエチレン性不飽和モノマーと、の共重合体であると好ましい。

前記カルボキシル基を有するモノマーとしては、特に制限されないが、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、マレイン酸、ビニル酢酸およびこれらの無水物からなる群から選択される少なくとも１種が挙げられる。中でも、アクリル酸、メタクリル酸が好ましい。

前記エチレン性不飽和モノマーとしては、特に制限されないが、例えば、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、アミノエチル（メタ）アクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、α−２−ジメチルスチレン、３−メチルスチレンおよび４−メチルスチレンからなる群から選択される少なくとも１種が挙げられる。中でも、メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、スチレンが好ましい。なお、本発明において、上記共重合体を構成するカルボキシル基を有するモノマーとエチレン性不飽和モノマーとは、異なるものである。

なお、上記バインダーとしては、具体的に、メチルメタクリレートとメタクリル酸との共重合体、スチレンとブチルアクリレートとメタクリル酸との共重合体、スチレンとブチルアクリレートとメタクリル酸との共重合体が好ましい。

なお、カルボキシル基を有するモノマー由来の構成単位と、エチレン性不飽和モノマー由来の構成単位との比が、好ましくは９：１〜１：９である。

また、バインダーとしては、前記共重合体が、前記共重合体中のカルボキシル基と、グリシジルメタクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートおよび３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレートからなる群から選択されるエチレン性不飽和モノマーと、の反応によって形成される架橋性基を含む、ものを使用してもよい。

また、バインダーは、前述した共重合体を単独で使用してもよいが、膜レベリング特性や揺変特性を向上させる目的で、セルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースおよびカルボキシエチルメチルセルロースからなる群から選択される少なくとも１種をさらに含んでもよい。

なお、本発明に用いられる共重合体（バインダー）を構成する繰り返し単位の結合形式は、特に制限されず、ランダム、ブロックのいずれの形態で付加されていてもよい。

前記有機成分における前記バインダーの含有量は、前記架橋剤の総質量に対して、好ましくは１００〜２００質量％、より好ましくは１２０〜１８０質量％、さらに好ましくは１５０〜１６０質量％であると好ましい。
バインダーの含有量が、前記範囲未満である場合にはペーストの印刷性が落ちる虞があり、前記範囲を超える場合には、露光感度の低下により所望の形状のパターンを得られなくなる虞があり、好ましくない。

また、前記共重合体の重量平均分子量は、好ましくは５，０００〜１００，０００、より好ましくは９,０００〜１００,０００である。酸価は、好ましくは５０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ、より好ましくは５０〜１００ｍｇＫＯＨ／ｇである。なお、酸価は、共重合体１ｇに含まれるカルボキシル基を中和するのに必要な水酸化カリウムのｍｇで示され、単位は、ｍｇＫＯＨ／ｇである。

共重合体の分子量が、５，０００未満である場合には、ペーストを製造した場合にペーストの粘度が低すぎ、印刷性が落ちる虞がある。一方、１００，０００を超える場合には、現像工程で現像速度があまりにも遅いか、現像されない虞があり、好ましくない。他方、前記共重合体の酸価が、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満である場合には、現像性が落ちる虞があり、２５０ｍｇＫＯＨ／ｇを超える場合には、露光された部分まで現像される虞があり、好ましくない。

なお、本発明に用いられるバインダー（共重合体）の分子量は、ガスクロマトグラフィやゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）などのクロマトグラフィ、ＭＳスペクトル、静的光散乱法、粘度測定法などの公知の分子量の測定方法を用いて測定できる。なお、本発明の分子量は、高分子の一般の分子量測定方法であるＧＰＣで測定された。

本発明に係る感光性ペースト組成物に含まれる光開始剤としては、これらに制限されないが、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノフェニル−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニルフェニル）−１−ブタノン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２、４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２，４−ジエチルチオキサントンおよびビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシドからなる群から選択される少なくとも１種を挙げることができる。中でも、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２，４−ジエチルチオキサントン、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシドが好ましい。

前記有機成分における前記光開始剤の含有量が、前記架橋剤の総質量に対して、好ましくは１〜５０質量％、より好ましくは１〜２０質量％、さらに好ましくは１〜１０質量％である。光開始剤の含有量が、前記範囲未満である場合には、露光感度が落ちる虞があり、前記範囲を超える場合には、非露光部まで現像されない虞があり、好ましくない。

本発明に係る感光性ペースト組成物に含まれる溶剤としては、バインダーおよび光開始剤を溶解させることができ、架橋剤およびその他添加剤との混合が容易であり、沸騰点が１５０℃以上のものが使われうる。

沸騰点が１５０℃未満である場合には、組成物の製造過程、特に３ロールミル工程で揮発される傾向が大きく問題となる虞があり、また印刷時に溶剤があまりにも速く揮発して印刷状態が悪くなる虞があり好ましくない。

なお、３−ロールミル（ｒｏｌｌｍｉｌｌ）工程とは、高粘度ペーストを精密分散及びミキシング処理である。

かような条件を満足させる溶剤としては、これらに制限されないが、例えば、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、テキサノール、テルピン油、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテートおよびトリプロピレングリコールからなる群から選択される少なくとも１種を挙げることができる。中でも、テキサノール、γ−ブチロラクトンが好ましい。

前記有機成分における前記溶剤の含有量は、前記架橋剤の総質量に対して、好ましくは１００〜３００質量％、より好ましくは１００〜２００質量％、さらに好ましくは１２０〜１８０質量％である。溶剤の含有量が、前記範囲未満である場合には、ペーストの粘度が高すぎ、印刷が正常になされない虞があり、前記範囲を超えると、ペーストの粘度低下による印刷性不良が発生する虞があり好ましくない。

本発明による感光性ペースト組成物は、各種添加剤をさらに含む。前記添加剤としては、感度を向上させる増感剤、組成物の保存性を向上させる重合禁止剤および酸化防止剤、解像度を向上させる紫外線吸光剤、組成物内の気泡を減らす消泡剤、分散性を向上させる分散剤、印刷時に膜の平坦性を向上させるレべリング剤、印刷特性を向上させる可塑剤および揺変特性を付与する揺変剤、マロン酸、ベンゾトリアゾールなどの保存安定剤（貯蔵安定剤）などが挙げられる。

前記有機成分における前記添加剤の含有量は、前記架橋剤の総質量に対して、好ましくは１〜５０質量％、より好ましくは１〜２０質量％、さらに好ましくは１〜１０質量％である。

本発明に用いることのできる無機成分には、特に制限はないが、電極パターンを形成する場合には、金、銀、ニッケル、銅、アルミニウムのような導電性（伝導性）に優れた金属物質の粉末が挙げられる。一方、絶縁層パターンを形成する場合には、ガラス粉末、セラミック粉末、酸化アルミニウム、酸化ケイ素のような無機酸化物やこれらの混合粉末が挙げられる。

本発明による「有機成分」と「無機成分」の混合比は、好ましくは２０：０．０５、より好ましくは１０：０．１、さらに好ましくは４：１である。

本発明による感光性ペースト組成物は下記のような方法によって製造されうる。ただし下記に記載の方法はあくまで感光性ペースト組成物の製造方法の一態様を挙げたに過ぎず、この方法には制限されない。

まず、溶剤をブレンディングタンクに入れて光開始剤、添加剤を入れた後に攪拌して溶かす。次いで、ブレンディングタンクにバインダー溶液（樹脂（バインダー）が溶解された溶液）を入れて攪拌させて混合した後、架橋剤を入れて攪拌させて混合する。混合が完了すれば、混合された溶液を、ＳＵＳメッシュ＃６００でフィルタリングして、感光性ペースト組成物の有機成分を製造する。前記製造過程により製造された有機成分を無機成分と混合してペーストを製造する。

ペーストの製造方法は、無機粉末をＰＬＭ（ｐｌａｎｅｔａｒｙｍｉｘｅｒ）に入れて、有機成分を徐々に投入させながら攪拌する。混合が完了すれば、３ロールミルを３〜５回実施して機械的に混合する。３ロールミルの作業が終われば、ＳＵＳメッシュ＃４００でフィルタリングした後、真空ポンプを利用して脱泡（ｄｅｇａｓｓｉｎｇ）して本発明による感光性ペースト組成物を製造する。

本発明はまた、本発明に係る感光性ペースト組成物を利用して製造されたＰＤＰを提供する。

本発明に係る感光性ペースト組成物は、ＰＤＰの導電性パターンまたは絶縁性パターンを形成するために使われ、例えば、基板上に電極パターンを形成するか、隔壁パターンを形成するところにいずれも使用可能である。

図１には、本発明による感光性ペースト組成物を利用して製造されたパターンを含むＰＤＰの具体的な構造が図示されている。

本発明によるＰＤＰは、前方パネル１１０および後方パネル１２０を備える構造になっている。前記前方パネル１１０は、前面基板１１１、前記前面基板の背面１１１ａに形成されたＹ電極１１２とＸ電極１１３とを備えた維持電極対１１４、前記維持電極対を覆う前方誘電体層１１５、および前記前方誘電体層を覆う保護膜１１６を備える。前記Ｙ電極１１２とＸ電極１１３それぞれは、ＩＴＯで形成された透明電極１１２ｂ、１１３ｂ、明暗向上のための黒色電極（図示せず）および導電性を付与する白色電極（図示せず）で構成されるバス電極１１２ａ、１１３ａを備える。前記バス電極１１２ａ、１１３ａは、ＰＤＰの左右側に配置された連結ケーブルと連結される。

前記後方パネル１２０は、背面基板１２１、背面基板の前面１２１ａに前記維持電極対と交差して形成されたアドレス電極１２２、前記アドレス電極を覆う後方誘電体層１２３、前記後方誘電体層上に形成されて発光セル１２６を区画する隔壁１２４、および前記発光セル内に配置された蛍光体層１２５を備える。前記アドレス電極１２２は、ＰＤＰの上下側に配置された連結ケーブルと連結される。

本発明はまた、本発明に係る感光性ペースト組成物を基板上に塗布する工程と、前記基板上に塗布された感光性ペースト組成物を乾燥させる工程と、前記乾燥された感光性ペースト組成物上に、フォトマスクが装着された露光装置を利用して光を照射する工程と、アルカリ現像液で現像して未露光部位を除去することによってパターンを形成する工程と、焼成および焼結過程を通じて前記感光性ペースト組成物中の有機成分を除去し、無機成分を焼結する工程と、を含む、プラズマディスプレイパネルの製造方法、を提供する。

図２には、本発明によるＰＤＰの製造方法の一例についての製造工程図を概略的に図示した。

図２を参照すると、本発明に係る感光性ペースト組成物を利用して、ＰＤＰ隔壁を形成する過程は、本発明に係る感光性ペースト組成物２２０をスクリーン印刷やテーブルコーターなどを利用して、アドレス電極と誘電体とが形成されているＰＤＰ下板などの基板２１０上に塗布し、ドライオーブンまたは赤外線（ＩＲ）オーブンで８０〜１５０℃の温度で、５〜６０分間乾燥させて溶剤を実質的に除去して、乾燥膜２３０を形成する。その後、形成されたペースト乾燥膜上にフォトマスク２４０が装着された紫外線露光装置を利用して、所定の光量を照射する。すると、紫外線を受けた部分が架橋反応を起こすことによって現像液に対して不溶状態になり、現像工程で純水に希釈されたＮａ_２ＣＯ_３溶液、ＫＯＨ溶液、ＴＭＡＨ溶液（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド溶液）またはモノエタノールアミン溶液のような適当なアルカリ現像液で３０℃前後の温度で現像して、未露光部位を除去してパターンを得ることによってパターン膜２５０を得る。また、電気炉などで５００〜６００℃で５〜６０分間焼成することで残存する有機物を除去し、無機粉末を焼結させて所望の焼成膜２６０を形成できる。

以下、本発明を、実施例を通じてさらに詳細に説明するが、本発明の技術的範囲が下記実施例に限定されるものではない。

下記に記載の「分子量」との用語は、すべて「重量平均分子量」を意味する。

［実施例１］
（１）感光性有機成分Ａの製造
バインダー１（メチルメタクリレートとメタクリル酸との共重合体）、分子量１２，０００、酸価１４０ｍｇＫＯＨ／ｇ）１５．０ｇ、なお、「メチルメタクリレート」と「メタクリル酸」の重合比は、７５：２５である、
バインダー２（ヒドロキシプロピルセルロース、平均分子量（Ｍｗ）＝１００，０００）１．０ｇ、
光開始剤１（２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン）０．５ｇ、
光開始剤２（２，４−ジエチルチオキサントン）０．５ｇ、
架橋剤１（モノアクリレート；メトキシジエチレングリコールアクリレート）７．０ｇ、
架橋剤２（トリアクリレート；トリメチロールプロパンエトキシレートトリアクリレート）３．０ｇ、
保存安定剤（マロン酸）０．５ｇ、
溶剤（テキサノール）１２．０ｇの組成を有する感光性有機成分Ａを、下記有機成分の製造方法により製造した。

つまり、まず、溶剤をブレンディングタンクに入れて光開始剤、添加剤を入れた後に攪拌して溶かした。次いで、ブレンディングタンクにバインダー溶液（バインダーが溶解された溶液）を入れて攪拌させて混合した後、架橋剤を入れて攪拌させて混合した。混合が完了した後、混合された溶液を、ＳＵＳメッシュ＃６００でフィルタリングして、感光性ペースト組成物の有機成分を製造した。なお、保存安定剤は、架橋剤混合後に添加した。バインダーの溶液は、テキサノールを使用した。

（２）感光性ペーストＡ（導電性ペースト）の製造
前記製造された感光性有機成分Ａ７９．５体積％、銀粉末（球形、平均粒径＝１．８μｍ）１９．０体積％、無機質系バインダー（無定形、ＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−Ａｌ_２Ｏ_３系、平均粒径１．５μｍ）１．５体積％で構成された感光性導電ペーストＡを前述したペースト製造方法により製造した。

つまり、無機粉末を、無機質系バインダーに混合させ、ＰＬＭ（ｐｌａｎｅｔａｒｙｍｉｘｅｒ）に入れて、前記製造された感光性有機成分Ａを徐々に投入させながら攪拌した。混合が完了した後、３ロールミルを４回実施して機械的に混合した。３ロールミルの作業が終わった後、ＳＵＳメッシュ＃４００でフィルタリングした後、真空ポンプを利用して脱泡（ｄｅｇａｓｓｉｎｇ）して感光性ペースト組成物を製造した。

［実施例２］
（１）感光性有機成分Ｂの製造
バインダー（スチレンとブチルアクリレートとメタクリル酸との共重合体）、分子量９，０００、酸価１７０ｍｇＫＯＨ／ｇ）１５．０ｇ、なお、「スチレン」と「ブチルアクリレート」と「メタクリル酸」の重合比は、５０：２０：３０である、
光開始剤（２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニルフェニル）−１−ブタノン）３．０ｇ、
架橋剤（モノアクリレート；フェノキシエチルアクリレート）１０．０ｇ、
保存安定剤（ベンゾトリアゾール）１．０ｇ、
溶剤（γ−ブチロラクトン）１８．０ｇの組成を有する感光性有機成分Ｂを、バインダーの溶液としてγ−ブチロラクトンを使用した以外は、前述した感光性有機成分製造方法により製造した。

（２）感光性ペーストＢ（絶縁性ペースト）の製造
前記製造された感光性有機成分Ｂ５０体積％、ガラス粉末（無定形、ＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−Ａｌ_２Ｏ_３系、平均粒径３．２μｍ）４５体積％、高融点フィラー（無定形、ＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＣａＯ系、平均粒径３．４μｍ）５体積％で構成された感光性絶縁ペーストＢを、前述したペースト製造方法により製造した。

［実施例３］
（１）感光性有機成分Ｃの製造
バインダー（スチレンとブチルアクリレートとメタクリル酸との共重合体）、分子量９，０００、酸価１７０ｍｇＫＯＨ／ｇ）１５．０ｇ、なお、「スチレン」と「ブチルアクリレート」と「メタクリル酸」の重合比は、５０：２０：３０である、
光開始剤（ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド）０．５ｇ、
架橋剤１（モノアクリレート；フェノキシエチルアクリレート）７．０ｇ、
架橋剤２（ジアクリレート；ビスフェノールＡ−ジアクリレート）３．０ｇ、
保存安定剤（ベンゾトリアゾール）１．０ｇ、
溶剤（γ−ブチロラクトン）１８．０ｇの組成を有する感光性有機成分Ｃを、バインダーの溶液としてγ−ブチロラクトンを使用した以外は、上記感光性有機成分製造方法により製造した。

（２）感光性ペーストＣ（絶縁性ペースト）の製造
前記製造された感光性有機成分Ｃ５０体積％、ガラス粉末（無定形、ＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−Ａｌ_２Ｏ_３系、平均粒径３．２μｍ）４５体積％、高融点フィラー（無定形、ＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＣａＯ系、平均粒径３．４μｍ）５体積％で構成された感光性絶縁ペーストＣを、前述したペースト製造方法により製造した。

［比較例１］
（１）感光性有機成分Ｄの製造
バインダー１（メチルメタクリレートとメタクリル酸との共重合体）、分子量１２，０００、酸価１４０ｍｇＫＯＨ／ｇ）１５．０ｇ、「メチルメタクリレート」と「メタクリル酸」の重合比は、７５：２５である、
バインダー２（ヒドロキシプロピルセルロース、平均分子量（Ｍｗ）＝１００，０００）１．０ｇ、
光開始剤１（２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン）０．５ｇ、
光開始剤２（２，４−ジエチルチオキサントン）０．５ｇ、
架橋剤（トリアクリレート；トリメチロールプロパン（エトキシレート）トリアクリレート）１０．０ｇ、
保存安定剤（マロン酸）０．５ｇ、
溶剤（テキサノール）１２．０ｇの組成を有する感光性有機成分を、前述した感光性有機成分製造方法により製造した。

（２）感光性ペーストＤ（導電性ペースト）の製造
前記製造された感光性有機成分Ｄ７９．５体積％、銀粉末（球形、平均粒径＝１．８μｍ）１９体積％、無機質系バインダー（無定形、ＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−Ａｌ_２Ｏ_３系、平均粒径１．５μｍ）１．５体積％で構成された感光性導電ペーストＤを、前述したペースト製造方法により製造した。

［比較例２］
（１）感光性有機成分Ｅの製造
バインダー（スチレンとブチルアクリレートとメタクリル酸との共重合体）、分子量９，０００、酸価１７０ｍｇＫＯＨ／ｇ）１５．０ｇ、「スチレン」と「ブチルアクリレート」と「メタクリル酸」の重合比は、５０：２０：３０である、
光開始剤（２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニルフェニル）−１−ブタノン）３．０ｇ、
架橋剤（トリアクリレート；トリメチロールプロパンエトキシレートトリアクリレート）１０．０ｇ、
保存安定剤（ベンゾトリアゾール）１．０ｇ、
溶剤（γ−ブチロラクトン）１８．０ｇの組成を有する感光性有機成分を、前述した感光性有機成分製造方法により製造した。

（２）感光性ペーストＥ（絶縁性ペースト）の製造
前記製造された感光性有機成分Ｅ５０体積％、ガラス粉末（無定形、ＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−Ａｌ_２Ｏ_３系、平均粒径３．２μｍ）４５体積％、高融点フィラー（無定形、ＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＣａＯ系、平均粒径３．４μｍ）５体積％で構成された感光性絶縁ペーストＥを、前述したペースト製造方法により製造した。

［比較例３］
（１）感光性有機成分Ｆの製造
バインダー（スチレンとブチルアクリレートとメタクリル酸との共重合体）、分子量９，０００、酸価１７０ｍｇＫＯＨ／ｇ）１５．０ｇ、「スチレン」と「ブチルアクリレート」と「メタクリル酸」の重合比は、５０：２０：３０である、
光開始剤（ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド）０．５ｇ、
架橋剤１（モノアクリレート；フェノキシエチルアクリレート）３．０ｇ、
架橋剤２（ビスフェノールＡ−ジアクリレート）７．０ｇ、
保存安定剤（ベンゾトリアゾール）１．０ｇ、
溶剤（γ−ブチロラクトン）１８．０ｇの組成を有する感光性有機成分を、前述した感光性有機成分製造方法により製造した。

（２）感光性ペーストＦ（絶縁性ペースト）の製造
前記製造された感光性有機成分Ｆ５０体積％、ガラス粉末（無定形、ＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−Ａｌ_２Ｏ_３系、平均粒径３．２μｍ）４５体積％、高融点フィラー（無定形、ＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＣａＯ系、平均粒径３．４μｍ）５体積％で構成された感光性絶縁ペーストＦを、前述したペースト製造方法により製造した。

［比較例４］
（１）感光性有機成分Ｇの製造
バインダー（スチレンとブチルアクリレートとメタクリル酸との共重合体）、分子量９，０００、酸価１７０ｍｇＫＯＨ／ｇ）１０．０ｇ、「スチレン」と「ブチルアクリレート」と「メタクリル酸」の重合比は、５０：２０：３０である、
光開始剤（ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド）０．５ｇ、
架橋剤１（モノアクリレート；フェノキシエチルアクリレート）１０．０ｇ、
架橋剤２（ビスフェノールＡ−ジアクリレート）５．０ｇ、
保存安定剤（ベンゾトリアゾール）１．０ｇ、
溶剤（γ−ブチロラクトン）１８．０ｇの組成を有する感光性有機成分を、前述した感光性有機成分製造方法により製造した。

（２）感光性ペーストＧ（絶縁性ペースト）の製造
前記製造された感光性有機成分Ｇ５０体積％、ガラス粉末（無定形、ＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−Ａｌ_２Ｏ_３系、平均粒径３．２μｍ）４５体積％、高融点フィラー（無定形、ＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＣａＯ系、平均粒径３．４μｍ）５体積％で構成された感光性絶縁ペーストＧを、前述したペースト製造方法により製造した。

［感光性ペーストの評価］
＜評価方法＞
前記製造された実施例１〜３および比較例１〜４による感光性ペースト組成物についての特性を、下記の方法により評価した。

まず、感光性導電ペーストＡおよびペーストＤ（実施例１および比較例１）をそれぞれ利用して、６”ガラス（横及び縦の長さがそれぞれ６）基板上にスクリーン印刷機を利用して印刷した後、ドライオーブンに入れて１００℃で１５分乾燥させた。乾燥後、フォトマスクが装着された高圧水銀ランプ紫外線露光装置を利用して４００〜７００ｍＪ／ｃｍ^２で照射した。照射されたガラス基板は、３０℃の０．４％炭酸ナトリウム水溶液をノズル圧力１．５ｋｇｆ／ｃｍ^３で４０秒間噴射して現像した後、常温の純水をノズル圧力１．５ｋｇｆ／ｃｍ^３で２０秒間噴射して洗浄した。以後、エアーナイフを利用して乾燥させた後、電気焼成炉に入れて５６０℃で１５分間焼成し、焼成された膜を得た。以後、光学顕微鏡を利用して焼成されたパターン膜の特性を評価した。

感光性絶縁ペーストＢ、ペーストＣおよびペーストＥ〜ペーストＧ（実施例２、３および比較例２〜４）は、下記のように評価した。まず、感光性絶縁ペーストそれぞれを６”ガラス基板上にコーターを利用して塗布した後、ドライオーブンに入れて１００℃で３０分間乾燥させた。以後、フォトマスクが装着された高圧水銀ランプ紫外線露光装置を利用して５００〜１０００ｍＪ／ｃｍ^２で照射した。照射されたガラス基板は、３０℃の０．４％炭酸ナトリウム水溶液をノズル圧力１．５ｋｇｆ／ｃｍ^３で１２０秒間噴射して現像した後、常温の純水をノズル圧力１．５ｋｇｆ／ｃｍ^３で３０秒間噴射して洗浄した。以後、エアーナイフを利用して乾燥させた後、電気焼成炉に入れて５７０℃で１０分間焼成し、焼成された膜を得た。以後、光学顕微鏡を利用して焼成されたパターン膜の特性を評価した。

＜評価結果＞
（１）感光性導電ペーストの評価結果
感光性導電ペーストの評価結果を下記の表１に表した。

下記表１の結果を参照すると、ペーストＡの場合、焼成時の厚さ収縮率がペーストＤに比べて大きい一方、幅収縮率はかえって小さく現れることが分かる。これは、ペーストＡの場合、架橋反応を起こした成分が熱可塑特性を持っていて、焼成時に温度が上昇しつつ軟化して流動性を有することによって、厚さ収縮率は大きく現れた一方、幅収縮率は小さく現れたものと解釈される。このような結果で、焼成膜の緻密性および膜のねじれや脱落などでさらに良好な結果を表した。

（２）感光性絶縁ペーストの評価結果
感光性絶縁ペーストの評価結果を下記の表２に表した。

下記の表２の結果を参照すると、ペーストＢとペーストＣの場合、感光性導電ペーストＡと同じ理由で、ペーストＥ、ペーストＦおよびペーストＧに比べて焼成時の厚さ収縮率は大きい。一方、幅収縮率はかえって小さく現れ、また焼成膜特性の良好な結果を表した。

ペーストＥ、ペーストＦおよびペーストＧの場合、焼成膜の緻密性をはじめとしてねじれ、短絡、および脱落特性が悪い結果となった。ペーストＥの場合、架橋剤成分のうち、モノアクリレート成分が全く存在せず、すべてトリアクリレート成分で構成されているものであるため、焼成膜特性が最も悪い特性を表し、ペーストＦは、架橋剤成分中モノアクリレートの比率が５０質量％以下である場合であり、ペーストＧの場合、架橋剤成分中モノアクリレート比率が５０質量％よりは多いが、全体架橋剤含有量が溶剤を除外した有機成分の総質量に比べて５０質量％を超えた場合であり、焼成時膜特性がよくない結果となった。

本発明は、ＰＤＰ関連の技術分野に好適に用いられる。

本発明によるＰＤＰの一態様についての構造を図示した部分切開斜視図である。本発明によるＰＤＰの製造方法の一態様についての製造工程図である。

符号の説明

１１０前方パネル、
１１１前面基板、
１１２Ｙ電極、
１１３Ｘ電極、
１１４維持電極対、
１１５前方誘電体層、
１１６保護膜、
１２０後方パネル、
１２１背面基板、
１２２アドレス電極、
１２３後方誘電体層、
１２４隔壁、
１２５蛍光体層、
１２６発光セル、
２１０基板、
２２０感光性ペースト組成物、
２３０乾燥膜、
２４０フォトマスク、
２５０現像後パターン膜、
２６０焼成膜。

Claims

無機成分および有機成分を含む感光性ペースト組成物であって、
前記有機成分が、架橋剤、バインダー、光開始剤、溶剤および添加剤を含み、
前記架橋剤が、前記架橋剤の総質量に対して５０〜１００質量％のモノ（メタ）アクリレート架橋物質を含み、
前記架橋剤の含有量が、前記有機成分のうち溶剤を除外した総質量に対して３０〜５０質量％である、感光性ペースト組成物。
前記モノ（メタ）アクリレート架橋物質が、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートおよびアミノエチル（メタ）アクリレートからなる群から選択される少なくとも１種である、請求項１に記載の感光性ペースト組成物。
前記架橋剤が、多官能アクリレート架橋物質をさらに含む、請求項１または２に記載の感光性ペースト組成物。
前記多官能アクリレート架橋物質が、１，６−へキサンジオールジアクリレート、１，６−へキサンジオール（エトキシレート）ジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、ビスフェノールＡ−ジアクリレートおよびテトラエチレングリコールジアクリレートからなる群から選択されるジアクリレート；
トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパン（エトキシレート）トリアクリレート、グリセリン（プロキシレート）トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびトリメチロールプロパン（プロキシレート）３−トリアクリレートからなる群から選択されるトリアクリレート；
ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールプロパンテトラアクリレートおよびペンタエリスリトールテトラアクリレートからなる群から選択されるテトラアクリレート；
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートからなる群から選択されるペンタアクリレート；ならびに
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートからなる群から選択されるヘキサアクリレート；
からなる群から選択される少なくとも１種である、請求項３に記載の感光性ペースト組成物。
前記バインダーが、カルボキシル基を有するモノマーと、少なくとも１種のエチレン性不飽和モノマーと、の共重合体である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の感光性ペースト組成物。
前記カルボキシル基を有するモノマーが、アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、マレイン酸、ビニル酢酸およびこれらの無水物からなる群から選択される少なくとも１種であり、
前記エチレン性不飽和モノマーが、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、アミノエチル（メタ）アクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、α−２−ジメチルスチレン、３−メチルスチレンおよび４−メチルスチレンからなる群から選択される少なくとも１種である、請求項５に記載の感光性ペースト組成物。
前記共重合体が、前記共重合体のカルボキシル基と、グリシジルメタクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートおよび３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレートからなる群から選択されるエチレン性不飽和化合物と、の反応によって形成される架橋性基を含む、請求項５または６に記載の感光性ペースト組成物。
前記共重合体の重量平均分子量が、５，０００〜１００，０００であり、
酸価が、５０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇである、請求項５〜７のいずれか１項に記載の感光性ペースト組成物。
前記バインダーが、セルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースおよびカルボキシエチルメチルセルロースからなる群から選択される少なくとも１種をさらに含む、請求項５に記載の感光性ペースト組成物。
前記光開始剤が、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノフェニル−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニルフェニル）−１−ブタノン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２、４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２，４−ジエチルチオキサントンおよびビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシドからなる群から選択される少なくとも１種である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の感光性ペースト組成物。
前記溶剤が、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、テキサノール、テルピン油、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテートおよびトリプロピレングリコールからなる群から選択される少なくとも１種である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の感光性ペースト組成物。
前記有機成分における前記バインダーの含有量が、前記架橋剤の総質量に対して、１００〜２００質量％であり、
前記有機成分における前記光開始剤の含有量が、前記架橋剤の総質量に対して、１〜５０質量％であり、
前記有機成分における前記溶剤の含有量が、前記架橋剤の総質量に対して、１００〜３００質量％である、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の感光性ペースト組成物。
前記添加剤が、保存安定剤、増感剤、重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸光剤、消泡剤、分散剤、レべリング剤、可塑剤および揺変剤からなる群から選択される少なくとも１種である、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の感光性ペースト組成物。
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の感光性ペースト組成物を利用して製造されたパターンを含む、プラズマディスプレイパネル。
前記パターンが、導電性パターンまたは絶縁性パターンである、請求項１４に記載のプラズマディスプレイパネル。
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の感光性ペースト組成物を基板上に塗布する工程と、
前記基板上に塗布された感光性ペースト組成物を乾燥させる工程と、
前記乾燥された感光性ペースト組成物上に、フォトマスクが装着された露光装置を利用して光を照射する工程と、
アルカリ現像液で現像して未露光部位を除去することによってパターンを形成する工程と、
焼成および焼結過程を通じて前記感光性ペースト組成物中の有機成分を除去し、無機成分を焼結する工程と、
を含む、プラズマディスプレイパネルの製造方法。
前記パターンが、導電性パターンまたは絶縁性パターンである、請求項１６に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。