JP2004127529A - 感光性導電ペースト及びそれを用いて電極形成したプラズマディスプレイパネル - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の感光性導電ペーストは、厚さ2μm以下の電極に用いる、(A)有機バインダー、(B)一次粒径が0.1〜0.8μmの銀粉末、(C)光重合性モノマー、(D)光重合開始剤、(E)有機溶剤を含有するペーストであって、前記銀粉末(B)は、ペースト中の含有量が40〜60質量%であり、前記有機溶剤(E)は、ペースト中の有機物に対して40質量%以上含有することを特徴とする。
【選択図】 なし
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、感光性導電ペースト及びプラズマディスプレイパネルに関し、特にプラズマディスプレイパネル(以下、PDPと略称する)の背面基板に高精細な電極回路を形成するために有用な、アルカリ現像型で感光性の導電ペースト及びそれを用いてアドレス電極を形成したプラズマディスプレイパネルに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
PDPは、プラズマ放電による発光を利用して映像や情報の表示を行う平面ディスプレイである。PDPによるカラー表示の原理は、リブ(隔壁)によって離間された前面ガラス基板と背面ガラス基板に形成された対向する両電極間のセル空間(放電空間)内でプラズマ放電を生じさせ、各セル空間内に封入されているHeやXe等のガスの放電により発生する紫外線で背面ガラス基板内面に形成された蛍光体を励起し、3原色の可視光を発生させるものである。現在主流となっているAC型PDPにおいては、各セル空間は基板面に平行に列設されたリブにより区画される。
【0003】
図1は、フルカラー表示3電極構造の面放電方式PDPの構造例を部分的に示した図である。この図において、前面ガラス基板1の下面には、放電のための透明電極3a又は3bと該透明電極のライン抵抗を下げるためのバス電極4a又は4bとからなる一対の表示電極2a、2bが、所定のピッチで多数列設されている。これらの表示電極2a、2bの上には、電荷を蓄積するための透明誘電体層5(低融点ガラス)が印刷、焼成によって形成され、その上に保護層(MgO)6が蒸着されている。この保護層6は、表示電極の保護、放電状態の維持等の役割を有している。
一方、背面ガラス基板11の上には、放電空間を区画するストライプ状のリブ(隔壁)12と各放電空間内に配されたアドレス電極(データ電極)13が所定のピッチで多数列設されている。また、各放電空間の内面には、赤(14a)、青(14b)、緑(14c)の3色の蛍光体膜が規則的に配されている。このようにフルカラー表示においては、赤、青、緑の3原色の蛍光体膜14a、14b、14cで1つの画素が構成される。
【0004】
このような構造のPDPにおいて、前記アドレス電極13は、基材上に銀ペースト等の導電ペーストをスクリーン印刷したのち焼成する方法で形成されるのが一般的であった。特に最近では、150μm以下の線幅を精度良く形成するために、感光性導電ペーストを塗布し、パターンマスクを通して露光した後、現像し、次いで焼成する方法が行われている。
【0005】
しかしながら、かかる感光性導電ペーストの一般的な組成では、銀粉などの金属粒子が高充填されているため、光透過性が乏しく、充分な光硬化が行えず、現像によるアンダーカットによりラインが欠損するといった問題があった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
そこで本発明は、従来技術が抱える上記課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、アンダーカットによるライン欠損を生じることなく、線幅20μm以下の細線パターンを形成し得るアドレス電極用の感光性導電ペーストを提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
発明者らは、上記目的を実現するために鋭意研究した結果、光の透過性を妨げる銀粉の配合量を導電性が損なわない最小限に抑え、かつアドレス電極における膜厚を薄くすれば、アンダーカットによるライン欠損を生じることなく、パターン露光で線幅20μm以下の細線パターンを有するアドレス電極を形成し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0008】
すなわち、本発明の感光性導電ペーストは、厚さ2μm以下の電極に用いる、(A)有機バインダー、(B)一次粒径が0.1〜0.8μmの銀粉末、(C)光重合性モノマー、(D)光重合開始剤、(E)有機溶剤を含有するペーストであって、前記銀粉末(B)は、ペースト中の含有量が40〜60質量%であり、前記有機溶剤(E)は、ペースト中の有機物に対して40質量%以上含有することを特徴とする。
【0009】
【発明の実施の形態】
本発明の感光性導電ペーストは、電極(特にアドレス電極)の薄膜化と高精細化を同時に実現するために、銀粉末の一次粒径を0.1〜0.8μmとしてペースト中に40〜60質量%の割合で配合し、有機溶剤の配合量をペースト中の有機物に対して40質量%以上とした点に特徴がある。
これにより、上記電極は、2μm以下という薄膜化が実現でき、その結果、アンダーカットの発生を最小限に抑え、十分な基板への密着力を確保し、現像時にラインが欠損するのを防止することができる。また、焼成後の電極皮膜が緻密で優れた導電性を有する電極を形成することができる。
【0010】
このような本発明の感光性導電ペーストにおいて、有機バインダー(A)としては、酸価が80〜300mgKOH/g、好ましくは100〜250mgKOH/gで、重量平均分子量が15,000〜100,000、好ましくは15,000〜60,000の樹脂を用いることが好ましい。
この理由は、分子量が15,000より小さいと、現像時にラインの密着性が損なわれ細線の形成が難しくなり、一方、分子量が100,000を超えると、アルカリ現像時の溶解スピードが低下し現像不良が生じ易いので好ましくない。 特に、焼成後の電極厚さが2μm以下となるように10μm以下の乾燥膜厚を容易に得るためには、分子量を15,000〜60,000とすることが望ましい。なお、この分子量の好適範囲は、後述する有機溶剤による希釈量とのバランスから決まる。
また、酸価については、80mgKOH/gより低いと、アルカリ現像時の溶解スピードが低下し現像不良が生じ易く、一方、酸価が300mgKOH/gより大きいと、アンダーカットが生じやすく解像性の低下を招き、さらに焼成後のラインがエッジカールしてしまうといった問題が生じるので好ましくない。
【0011】
この有機バインダー(A)としては、カルボキシル基を有する樹脂、具体的にはそれ自体がエチレン性不飽和二重結合を有するカルボキシル基含有感光性樹脂及びエチレン性不飽和二重結合を有さないカルボキシル基含有樹脂のいずれも使用可能である。好適に使用できる樹脂(オリゴマー及びポリマーのいずれでもよい)としては、以下のようなものが挙げられる。
(1)(a)不飽和カルボン酸と(b)不飽和二重結合を有する化合物を共重合させることによって得られるカルボキシル基含有樹脂
(2)(a)不飽和カルボン酸と(b)不飽和二重結合を有する化合物の共重合体にエチレン性不飽和基をペンダントとして付加させることによって得られるカルボキシル基含有感光性樹脂
(3)(c)エポキシ基と不飽和二重結合を有する化合物と(b)不飽和二重結合を有する化合物の共重合体に、(a)不飽和カルボン酸を反応させ、生成した2級の水酸基に(d)多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂
(4)(e)不飽和二重結合を有する酸無水物と(b)不飽和二重結合を有する化合物の共重合体に、(f)水酸基を有する化合物を反応させて得られるカルボキシル基含有樹脂
(5)(e)不飽和二重結合を有する酸無水物と(b)不飽和二重結合を有する化合物の共重合体に、(f)水酸基と不飽和二重結合を有する化合物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂
(6)(g)多官能エポキシ化合物と(h)不飽和モノカルボン酸を反応させ、生成した2級の水酸基に(d)多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂
(7)(b)不飽和二重結合を有する化合物とグリシジル(メタ)アクリレートの共重合体のエポキシ基に、(i)1分子中に1つのカルボキシル基を有し、エチレン性不飽和結合を持たない有機酸を反応させ、生成した2級の水酸基に(d)多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有樹脂
(8)(j)水酸基含有ポリマーに(d)多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有樹脂
(9)(j)水酸基含有ポリマーに(d)多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有樹脂に、(c)エポキシ基と不飽和二重結合を有する化合物をさらに反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂
【0012】
本発明の感光性導電ペーストは、電極(特にアドレス電極)の薄膜化と高精細化を同時に実現するために、有機溶剤(E)をペースト中の有機物に対して40質量%以上の割合で配合する。
この理由は、厚さ2μm以下の電極を得るためには、スクリーン印刷法による塗膜厚の薄膜化に限界があるため、乾燥による収縮量を大きくする必要性があるからである。しかし、単にこの有機溶剤の配合量を多くすると、粘度が低くなりすぎて塗布性が悪化するので、前記有機バインダー(A)の重量平均分子量と酸価によるタック性や現像性とかかる有機溶剤による塗布性とのバランスから、好ましくは前記有機バインダー(A)100質量部に対して100〜300質量部の範囲内で適宜調整することが好ましい。
【0013】
このような有機溶剤(E)としては、具体的には、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類;トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類;セロソルブ、メチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどの酢酸エステル類;エタノール、プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルコール類;オクタン、デカンなどの脂肪族炭化水素;石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサなどの石油系溶剤、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールモノイソブチレート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジイソブチレート、テルピネオール等が挙げられ、これらを単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
【0014】
本発明の感光性導電ペーストにおいて、銀粉末(B)は、一次粒径が0.1〜0.8μmのものを用いる。この一次粒径が0.1μmより小さいと、銀粉末が光の透過の妨げとなり十分な解像性が得られ難く、一方、一次粒径が0.8μmを超えると、焼成後に導電被膜にピンホールや隙間が発生し易く十分な導電性が得られ難くなるので好ましくない。なお、本発明において、銀粉末の一次粒径とは、電子顕微鏡(SEM)を用いて10,000倍にて観察したランダムな10個の銀粉末の平均粒径を意味する。
また、銀粉末(B)は、比表面積が0.6〜5.0m2/gのものを用いることが好ましい。この比表面積が0.6m2/g未満では、保存時に沈降を起こすなどの問題があり、一方、比表面積が5.0m2/gを超えると、吸油量が大きくなりペーストの流動性が損なわれるため好ましくない。
なお、銀粉末(B)は、球状、フレーク状、デンドライト状など種々の形状のものを用いることができるが、光特性や分散性を考慮すると、球状のものを用いることが好ましい。
なお、本発明の感光性導電ペーストは、必要に応じて、銀粉末以外の導電性粉末を配合することができる。
【0015】
本発明の感光性導電ペーストにおいて、このような銀粉末(B)は、ペースト中に40〜60質量%の割合で配合する。本発明のペースト成分組成において、ペースト中の銀粉末が40質量%より少ないと、焼成後の電極がポーラスな状態となり充分な導電性が得られ難くなり、一方、銀粉末が60質量%を超えると、光の透過の妨げとなり高解像のパターンが得られ難くなるので好ましくない。
【0016】
以上説明したように本発明の感光性導電ペーストは、銀粉末の一次粒径を0.1〜0.8μmとしてペースト中に40〜60質量%の割合で配合し、有機溶剤の配合量をペースト中の有機物に対して40質量%以上、好ましくは有機バインダー(A)100質量部に対して100〜300質量部の範囲内とすることによって初めて、電極(特にアドレス電極)の薄膜化と高精細化を同時に実現することができるのである。
【0017】
本発明の感光性導電ペーストにおいて、光重合性モノマー(C)は、組成物の光硬化性の促進及び現像性を向上させるために用いる。
この光重合性モノマー(C)としては、例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート,2−ヒドロキシプロピルアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリウレタンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキサイド変性トリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート及び上記アクリレートに対応する各メタクリレート類;フタル酸、アジピン酸、マレイン酸、イタコン酸、こはく酸、トリメリット酸、テレフタル酸等の多塩基酸とヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートとのモノ−、ジ−、トリ−又はそれ以上のポリエステルなどが挙げられるが、特定のものに限定されるものではなく、またこれらを単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの光重合性モノマーの中でも、1分子中に2個以上のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。
【0018】
このような光重合性モノマー(C)の配合量は、前記有機バインダー(カルボキシル基含有感光性樹脂及び/又はカルボキシル基含有樹脂)(A)100質量部当り20〜100質量部が適当である。光重合性モノマー(C)の配合量が上記範囲よりも少ない場合、組成物の充分な光硬化性が得られ難くなり、一方、上記範囲を超えて多量になると、皮膜の深部に比べて表面部の光硬化が早くなるため硬化むらを生じ易くなる。
【0019】
本発明の感光性導電ペーストにおいて、前記光重合開始剤(D)としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインとベンゾインアルキルエーテル類;アセトフェノン、2,2−ジメトキシー2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシー2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノン等のアセトフェノン類;2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1ーオン等のアミノアセトフェノン類;2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、1−クロロアントラキノン等のアントラキノン類;2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類;アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類;ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類;又はキサントン類;(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−ペンチルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、エチル−2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルフォスフィネイト等のフォスフィンオキサイド類;各種パーオキサイド類などが挙げられ、これら公知慣用の光重合開始剤を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの光重合開始剤(D)の配合割合は、前記有機バインダー(A)100質量部当り1〜30質量部が適当であり、好ましくは、5〜20質量部である。
【0020】
また、上記のような光重合開始剤(D)は、N,N−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、N,N−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ペンチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等の三級アミン類のような光増感剤の1種あるいは2種以上と組み合わせて用いることができる。さらに、より深い光硬化深度を要求される場合、必要に応じて、可視領域でラジカル重合を開始するチバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製イルガキュア784等のチタノセン系光重合開始剤、ロイコ染料等を硬化助剤として組み合わせて用いることができる。
【0021】
本発明の感光性導電ペーストは、焼成後導体回路の密着性向上のため、必要に応じてガラス転移点(Tg)300〜500℃、軟化点(Ts)400〜600℃の低融点ガラス粉末を、銀粉末(B)100質量部当り30質量部以下、好ましくは20質量部以下の割合で配合することができる。
本発明の感光性導電ペーストでは、燃焼性の良好なアルカリ可溶性の有機バインダーが用いられ、ガラスフリットが溶融する前に脱バインダーが完了するように組成されているものの、ガラス粉末の軟化点が400℃より低いと、これよりも低い温度で溶融が生じて有機バインダーを包み込み易くなり、残存する有機バインダーが分解することによって組成物中にブリスターが生じ易くなるので好ましくない。
【0022】
このような低融点ガラス粉末としては、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛又は、アルカリ金属系ガラスを主成分とするガラス粉末が好適に使用できる。
酸化鉛を主成分とするガラス粉末の好ましい例としては、酸化物基準の質量%で、PbOが48〜82%、B2O3が0.5〜22%、SiO2が3〜32%、Al2O3が0〜12%、BaOが0〜10%、ZnOが0〜15%、TiO2が0〜2.5%、Bi2O3が0〜25%の組成を有し、軟化点が420〜590℃であるフリットが挙げられる。
【0023】
酸化ビスマスを主成分とするガラス粉末の好ましい例としては、酸化物基準の質量%で、Bi2O3が35〜88%、B2O3が5〜30%、SiO2が0〜20%、Al2O3が0〜5%、BaOが1〜25%、ZnOが1〜20%の組成を有し、軟化点が420〜590℃であるフリットが挙げられる。
【0024】
酸化亜鉛を主成分とするガラス粉末の好ましい例としては、酸化物基準の質量%で、ZnOが25〜60%、K2Oが2〜15%、B2O3が25〜45%、SiO2が1〜7%、Al2O3が0〜10%、BaOが0〜20%、MgOが0〜10%の組成を有し、軟化点が420〜590℃であるフリットが挙げられる。
アルカリ金属系ガラスとしてはLi2O、Na2O、K2Oを含有し、軟化点が420〜590℃であるフリットが挙げられる。
【0025】
本発明の感光性導電ペーストは、焼成時の銀粉末やガラス粉末の焼結を緩和し、線幅収縮やラインのうねりを低減させるために、必要に応じて、合成アモルファスシリカを配合することができる。
このような合成アモルファスシリカは、アーク法、火炎加水分解、プラズマ法、ゾルゲル法、沈降法等のいずれの方法で合成されたものであってもよく、粉末シリカはもちろんコロイダルシリカや水性シリカゾル、オルガノシリカゾル等の液状のものを用いることができる。
また、この合成アモルファスシリカは、一次粒径が1〜80nm、比表面積が50〜500m2/gであることが好ましく、前記銀粉末(B)100質量部に対して5質量部以下の割合で配合することが好ましい。5質量部を超える配合量では、導電性が低下するので好ましくない。
【0026】
このような本発明の感光性導電ペーストにおいて、多量の銀粉末や低融点ガラス粉末を配合した場合、得られる組成物の保存安定性が悪く、ゲル化や流動性の低下により塗布作業性が悪くなる傾向があり、組成物の保存安定性向上のため、銀粉末や低融点ガラスの成分である金属との錯体化あるいは塩形成などに効果のある化合物を、安定剤として添加することが好ましい。
この安定剤としては、無機酸、有機酸、リン酸化合物(無機リン酸、有機リン酸)などの酸が挙げられる。
このような安定剤は、前記の低融点ガラス粉末や導電性粉末100質量部当り0.1〜10質量部の割合で添加することが好ましい。
【0027】
また、本発明の感光性導電ペーストは、さらに必要に応じて、シリコーン系、アクリル系等の消泡・レベリング剤、皮膜の密着性向上のためのシランカップリング剤、等の他の添加剤を配合することもできる。さらにまた、必要に応じて、導電性金属粉の酸化を防止するための公知慣用の酸化防止剤や、保存時の熱的安定性を向上させるための熱重合禁止剤、焼成時における基板との結合成分としての金属酸化物、ケイ素酸化物、ホウ素酸化物などの微粒子を添加することもできる。
【0028】
以上説明したような本発明の感光性導電ペーストは、スクリーン印刷法、バーコーター、ブレードコーターなど適宜の塗布方法で、基板、例えばPDPの背面基板となるガラス基板に塗布し、次いで指触乾燥性を得るために熱風循環式乾燥炉、遠赤外線乾燥炉等で例えば約60〜120℃で5〜40分程度乾燥させて有機溶剤を蒸発させ、タックフリーの塗膜を得る。その後、選択的露光、現像、焼成を行って所定のパターンの電極回路を形成する。
【0029】
露光工程としては、所定の露光パターンを有するネガマスクを用いた接触露光及び非接触露光が可能である。露光光源としては、ハロゲンランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、ブラックランプ、無電極ランプなどが使用される。露光量としては50〜1000mJ/cm2程度が好ましい。
【0030】
現像工程としては、スプレー法や浸漬法等が用いられる。現像液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、珪酸ナトリウムなどの金属アルカリ水溶液や、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアミン水溶液、特に約1.5重量%以下の濃度の希アルカリ水溶液が好適に用いられるが、組成物中のカルボキシル基含有樹脂のカルボキシル基がケン化され、未硬化部(未露光部)が除去されればよく、上記のような現像液に限定されるものではない。また、現像後に不要な現像液の除去のため、水洗を行うことが好ましい。
【0031】
焼成工程においては、現像後の基板を空気中又は窒素雰囲気下で約400〜600℃の加熱処理を行い、所望の導体パターンを形成する。
【0032】
【実施例】
以下に実施例及び比較例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明が下記実施例に限定されるものでないことはもとよりである。なお、「部」及び「%」とあるのは、特に断りがない限り全て質量基準である。
【0033】
(合成例1)
温度計、攪拌機、滴下ロート、及び還流冷却器を備えたフラスコに、メチルメタクリレートとメタクリル酸を0.72:0.28のモル比で仕込み、溶媒としてトリプロピレングリコールモノメチルエーテルを加え、触媒としてアゾビスイソブチロニトリルを入れ、窒素雰囲気下、80℃で10時間攪拌し、樹脂溶液を得た。この樹脂溶液中の有機バインダーA(共重合樹脂)は、重量平均分子量が約35,000、酸価が156mgKOH/g、であった。
【0034】
(合成例2)
温度計、攪拌機、滴下ロート、及び還流冷却器を備えたフラスコに、メチルメタクリレートとメタクリル酸を0.69:0.31のモル比で仕込み、溶媒としてトリプロピレングリコールモノメチルエーテルを加え、触媒としてアゾビスイソブチロニトリルを入れ、窒素雰囲気下、80℃で13時間攪拌し、樹脂溶液を得た。この樹脂溶液中の有機バインダーB(共重合樹脂)は、重量平均分子量が約47,000、酸価が175mgKOH/g、であった。
【0035】
(合成例3)
温度計、攪拌機、滴下ロート、及び還流冷却器を備えたフラスコに、メチルメタクリレートとメタクリル酸を0.87:0.13のモル比で仕込み、溶媒としてトリプロピレングリコールモノメチルエーテルを加え、触媒としてアゾビスイソブチロニトリルを入れ、窒素雰囲気下、80℃で7時間攪拌し、樹脂溶液を得た。この樹脂溶液中の有機バインダーC(共重合樹脂)は、重量平均分子量が約10,000、酸価が72mgKOH/g、であった。
なお、得られた有機バインダーの重量平均分子量は、島津製作所製ポンプLC−6ADと昭和電工製カラムShodex(登録商標)KF−804、KF−803、KF−802を三本つないだ高速液体クロマトグラフィーを用いて測定した。
【0036】
このようにして得られた有機バインダーA,B,Cを用い、以下に示す組成比にて配合し、攪拌機により攪拌後、3本ロールミルにより練肉してペースト化を行い、感光性導電ペーストを作製した。
なお、低融点ガラス粉末としては、Bi2O3が50%、B203が15%、ZnOが15%、SiO2が6%、BaOが17%の組成で、熱膨張係数α300=85×10−7 /℃、ガラス転移点460℃であるガラスを粉砕し、平均粒径1.6μmとしたものを使用した。
【0037】
(組成物例1)
有機バインダーA 100.0部
トリメチロールプロパントリアクリレート 55.0部
2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)
−ブタン−1−オン 10.0部
イソプロピルチオキサントン 1.0部
トリプロピレングリコールモノメチルエーテル 100.0部
2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールモノイソブチレート 50.0部
銀粉末A (一次粒径 0.69μm 比表面積 0.8m2 /g) 350.0部
低融点ガラス粉末 35.0部
リン酸エステル 2.0部
AEROSIL50 (日本アエロシ゛ル製) 1.0部
BYK−354 (ヒ゛ックケミー・シ゛ャハ゜ン製) 1.0部
【0038】
(組成物例2)
銀粉末Aの配合量を450.0部としたこと以外は、組成物例1と同様にして感光性導電ペーストを作製した。
【0039】
(組成物例3)
銀粉末の種類を銀粉末B(一次粒径 0.44μm 比表面積 1.3m2/g)としたこと以外は、組成物例1と同様にして感光性導電ペーストを作製した。
【0040】
(組成物例4)
有機バインダーB:100.0部とし、有機溶剤として、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル:100.0部と2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールモノイソブチレート:100.0部を配合したこと以外は、組成物例1と同様にして感光性導電ペーストを作製した。
【0041】
(比較組成物例1)
銀粉末Aの配合量を600部としたこと以外は、組成物例1と同様にして感光性導電ペーストを作製した。
【0042】
(比較組成物例2)
有機バインダーC:100.0部とし、有機溶剤として、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールモノイソブチレートを配合せず、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル:90.0部を配合したこと以外は、組成物例1と同様にして感光性導電ペーストを作製した。
【0043】
(比較組成物例3)
銀粉末の種類を銀粉末C(一次粒径 1.4μm 比表面積 0.32m2/g)としたこと以外は、組成物例1と同様にして感光性導電ペーストを作製した。
【0044】
このようにして作製した組成物例1〜4、比較組成物例1〜2の各感光性導電ペーストについて、ライン欠損、解像性、膜厚、比抵抗値を評価した。その評価方法は以下のとおりである。
(試験片作成)
ガラス基板上に、評価用の各感光性導電ペーストを200メッシュのポリエステルスクリーンを用いて全面に塗布し、次いで、熱風循環式乾燥炉にて90℃で20分間乾燥して指触乾燥性の良好な塗膜を形成した。次に、光源としてショートアークランプを用い、ネガマスクを介して、乾燥塗膜上の積算光量が300mJ/cm2となるようにパターン露光した後、液温30℃の0.5wt%Na2CO3水溶液を用いて現像を行い、水洗した。そして、こうして塗膜パターンを形成した基板を、空気雰囲気下にて5℃/分で550℃まで昇温して550℃で30分間焼成し、導電体パターンを形成した試験片を作成した。
【0045】
(ライン欠損):
上記方法によって形成した30μm×3cmのパターンの欠損を顕微鏡観察にて評価した。
(解像性):
上記方法によって作成した試験片の最小ライン幅を評価した。
(膜厚):
上記方法によって形成した、幅100μmの導電体パターンの膜厚を、表面粗さ計にて測定した。
(比抵抗値):
上記方法によって形成した4mm×10cmのパターンを有する試験片を作成し、パターンの抵抗値と膜厚を測定して比抵抗値を算出した。
抵抗測定:ミリオームハイテスター
膜厚測定:表面粗さ計
(ピンホール):
上記方法によって形成した、幅100μmの導電体パターンを、光学顕微鏡を用いて下光源にて観察し、ピンホールの有無を評価した。
【0046】
これらの評価結果を表1に示す。
【表1】
【0047】
この表1に示す結果から明らかなように、本発明の感光性導電ペーストによれば、アンダーカットによるライン欠損を生じることなく、パターン露光で線幅20μm以下の導電体パターンを容易に形成できることが確認できた。
【0048】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、アンダーカットによるライン欠損を生じることなく、パターン露光で線幅20μm以下の細線パターンを有するアドレス電極を形成し得る感光性導電ペーストを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】面放電方式のAC型PDPの部分分解斜視図である。
【符号の説明】
1 前面ガラス基板
2a,2b 表示電極
3a,3b 透明電極
4a,4b バス電極
5 透明誘電体層
6 保護層
10 ブラックマトリックス
11 背面ガラス基板
12 リブ
13 アドレス電極
14a,14b,14c 蛍光体膜
Claims (2)
- 厚さ2μm以下の電極に用いる、(A)有機バインダー、(B)一次粒径が0.1〜0.8μmの銀粉末、(C)光重合性モノマー、(D)光重合開始剤、(E)有機溶剤を含有するペーストであって、前記銀粉末(B)は、ペースト中の含有量が40〜60質量%であり、前記有機溶剤(E)は、ペースト中の有機物に対して40質量%以上含有することを特徴とする感光性導電ペースト。
- 請求項1に記載の感光性導電ペーストを用いて厚さ2μm以下のアドレス電極を形成したことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
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