JP2008137306A - 金型とその製造方法及びそれを用いて作製した成型品 - Google Patents
金型とその製造方法及びそれを用いて作製した成型品 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008137306A JP2008137306A JP2006326659A JP2006326659A JP2008137306A JP 2008137306 A JP2008137306 A JP 2008137306A JP 2006326659 A JP2006326659 A JP 2006326659A JP 2006326659 A JP2006326659 A JP 2006326659A JP 2008137306 A JP2008137306 A JP 2008137306A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- mold
- substance
- fluorocarbon
- mainly composed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 25
- 238000000465 moulding Methods 0.000 title abstract description 32
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 183
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical group FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 105
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 claims description 84
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 77
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 69
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 69
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 69
- -1 methylsilyl group Chemical group 0.000 claims description 48
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 claims description 40
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims description 36
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims description 36
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 claims description 34
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 23
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 23
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 23
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 125000005373 siloxane group Chemical group [SiH2](O*)* 0.000 claims description 23
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 21
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 16
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 9
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 8
- 238000007865 diluting Methods 0.000 claims description 7
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 3
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 23
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910003455 mixed metal oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 5
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 abstract description 5
- 239000005871 repellent Substances 0.000 abstract description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 abstract description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 115
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 72
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 20
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 8
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 7
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 7
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 5
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 5
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 5
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 4
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HGQSXVKHVMGQRG-UHFFFAOYSA-N dioctyltin Chemical compound CCCCCCCC[Sn]CCCCCCCC HGQSXVKHVMGQRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 2
- 239000011356 non-aqueous organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- ZBBLRPRYYSJUCZ-GRHBHMESSA-L (z)-but-2-enedioate;dibutyltin(2+) Chemical compound [O-]C(=O)\C=C/C([O-])=O.CCCC[Sn+2]CCCC ZBBLRPRYYSJUCZ-GRHBHMESSA-L 0.000 description 1
- NVSXSBBVEDNGPY-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2-pentafluorobutane Chemical compound CCC(F)(F)C(F)(F)F NVSXSBBVEDNGPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJAGRJAFLCPABV-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methylpentan-2-ylideneamino)-n-[2-(4-methylpentan-2-ylideneamino)ethyl]ethanamine Chemical compound CC(C)CC(C)=NCCNCCN=C(C)CC(C)C CJAGRJAFLCPABV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOJHYEMRGGBHOI-UHFFFAOYSA-N 2-(butan-2-ylideneamino)-n-[2-(butan-2-ylideneamino)ethyl]ethanamine Chemical compound CCC(C)=NCCNCCN=C(C)CC NOJHYEMRGGBHOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLSFJOSFPTTYLQ-UHFFFAOYSA-N 2-(methylideneamino)-n-[2-(methylideneamino)ethyl]ethanamine Chemical compound C=NCCNCCN=C CLSFJOSFPTTYLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPHDXPRLWRPJNS-UHFFFAOYSA-N 2-(propan-2-ylideneamino)-n-[2-(propan-2-ylideneamino)ethyl]ethanamine Chemical compound CC(C)=NCCNCCN=C(C)C FPHDXPRLWRPJNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MMGVVYCBXBYXRR-UHFFFAOYSA-L 2-acetyl-3-oxobutanoate;dibutyltin(2+) Chemical compound CCCC[Sn+2]CCCC.CC(=O)C(C(C)=O)C([O-])=O.CC(=O)C(C(C)=O)C([O-])=O MMGVVYCBXBYXRR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZHJFAUWFPQHZFH-UHFFFAOYSA-L 2-ethylhex-2-enoate iron(2+) Chemical compound [Fe+2].CCCC=C(CC)C([O-])=O.CCCC=C(CC)C([O-])=O ZHJFAUWFPQHZFH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- COAUHYBSXMIJDK-UHFFFAOYSA-N 3,3-dichloro-1,1,1,2,2-pentafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(Cl)Cl COAUHYBSXMIJDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical group C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQQXCSFSYHAZOO-UHFFFAOYSA-L [acetyloxy(dioctyl)stannyl] acetate Chemical compound CCCCCCCC[Sn](OC(C)=O)(OC(C)=O)CCCCCCCC CQQXCSFSYHAZOO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QASXJOGGAHCHBO-UHFFFAOYSA-L [dimethyl(2-sulfanylpropanoyloxy)stannyl] 2-sulfanylpropanoate Chemical compound C[Sn+2]C.CC(S)C([O-])=O.CC(S)C([O-])=O QASXJOGGAHCHBO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XQBCVRSTVUHIGH-UHFFFAOYSA-L [dodecanoyloxy(dioctyl)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC XQBCVRSTVUHIGH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZGVVCOOWYSSGB-UHFFFAOYSA-L but-2-enedioate;dioctyltin(2+) Chemical compound CCCCCCCC[Sn]1(CCCCCCCC)OC(=O)C=CC(=O)O1 PZGVVCOOWYSSGB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N chloro(fluoro)methane Chemical compound F[C]Cl KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000007033 dehydrochlorination reaction Methods 0.000 description 1
- JQZRVMZHTADUSY-UHFFFAOYSA-L di(octanoyloxy)tin Chemical compound [Sn+2].CCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCC([O-])=O JQZRVMZHTADUSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PNOXNTGLSKTMQO-UHFFFAOYSA-L diacetyloxytin Chemical compound CC(=O)O[Sn]OC(C)=O PNOXNTGLSKTMQO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N dibutyl(oxo)tin Chemical compound CCCC[Sn](=O)CCCC JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N dibutyltin Chemical compound CCCC[Sn]CCCC AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- DKCFPRIRHWNCIX-UHFFFAOYSA-L dioctyltin(2+);2-octyl-2-sulfanyldecanoate Chemical compound CCCCCCCC[Sn+2]CCCCCCCC.CCCCCCCCC(S)(C([O-])=O)CCCCCCCC.CCCCCCCCC(S)(C([O-])=O)CCCCCCCC DKCFPRIRHWNCIX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-M dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC([O-])=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005003 food packaging material Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 description 1
- 150000004658 ketimines Chemical class 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940070765 laurate Drugs 0.000 description 1
- GIWKOZXJDKMGQC-UHFFFAOYSA-L lead(2+);naphthalene-2-carboxylate Chemical compound [Pb+2].C1=CC=CC2=CC(C(=O)[O-])=CC=C21.C1=CC=CC2=CC(C(=O)[O-])=CC=C21 GIWKOZXJDKMGQC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000002075 main ingredient Substances 0.000 description 1
- 229940127554 medical product Drugs 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- GEMHFKXPOCTAIP-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-n'-phenylcarbamimidoyl chloride Chemical compound CN(C)C(Cl)=NC1=CC=CC=C1 GEMHFKXPOCTAIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- RVZRBWKZFJCCIB-UHFFFAOYSA-N perfluorotributylamine Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)N(C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F RVZRBWKZFJCCIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
【課題を解決するための手段】
本発明の金型は、ナノレベルで膜厚が均一で、且つ表面エネルギーを制御した撥水撥油性のフッ化炭素系化学吸着膜を、離型膜として金型表面に形成したものである。このことにより、ナノメートルレベルの超微細形状を有していても、成型物の流動性や入り込み性に優れ、高精度の成形を行えるようになる。さらに離型剤塗布が不要となり、離型剤が成型品に付着するのを防止できる。
【選択図】図2
Description
また、フッ化炭素基と炭化水素基を主成分とする長鎖物質とフッ化炭素基と炭化水素基とシリル基を主成分とする短鎖物質が、シロキサン基を主成分とする物質よりなるシリカ膜中で前記シリル基を介して前記シリカ膜および/または金型表面に結合固定されていると、成形耐久性を向上できて都合がよい。
さらにまた、複合膜形成前にあらかじめ金型表面にシリカ膜を形成しておくこを、離型性複合膜の密度を向上できて都合がよい。
また、複合膜形成後、さらにメチルシリル基を含んだ物質を溶かした溶液で処理すると、成形物流動性を制御する上で都合がよい。
参考として、実施例1に於いて、有機含フッ素エーテル基、または有機含フッ素ポリエーテル基およびアルコキシシリル基を含む物質(1)を含めず、フッ化炭素基と炭化水素基とアルコキシシリル基を主成分とする物質(2)がCF3−(CF2)7−(CH2)2−Si(OCH3)3であり、アルコキシシリルキ基を主成分とする物質(3)がSi(OCH3)4であり、フッ化炭素基と炭化水素基とアルコキシシリル基を主成分とする物質(2)とアルコキシシリルキ基を主成分とする物質(3)の濃度をそれぞれ0.01と0.003M/Lとし、他の条件は実施例1と全て同条件で試作した場合の被膜の耐摩耗試験における水滴接触角変化の結果を図3に比較して示す。
さらに、実施例1に於いて、有機含フッ素エーテル基、または有機含フッ素ポリエーテル基およびアルコキシシリル基を含む物質(1)とアルコキシシリルキ基を主成分とする物質(3)を含めず、フッ化炭素基と炭化水素基とアルコキシシリル基を主成分とする物質(2)がCF3−(CF2)7−(CH2)2−Si(OCH3)3であり、他の条件は実施例1と全て同条件で試作した場合の被膜の耐摩耗試験における水滴接触角変化の結果を図3に比較して示す。
また、有機含フッ素エーテル基、または有機含フッ素ポリエーテル基およびアルコキシシリル基を含む物質(1)とアルコキシシリルキ基を主成分とする物質(3)の両方を除けば、さらに耐摩耗性が大幅に劣化することが判る。
また、メトキシ基の代わりにエトキシ基、あるいは反応は異なるがClやNCO基でもほぼ同様に製膜できた。
この場合、やはり有機含フッ素エーテル基、または有機含フッ素ポリエーテル基とシリル基を主成分とする物質とシロキサン基を主成分とする物質を含む膜厚が略5nmの複合膜が前記ステンレス製の金型表面に形成できた。
この場合、当然有機含フッ素エーテル基、または有機含フッ素ポリエーテル基とシリル基を主成分とする物質とフッ化炭素基と炭化水素基とシリル基を主成分とする物質を含む膜厚が略4nmの複合膜が前記ステンレス製の金型表面に形成できた。
なお、この被膜は、離型性は優れていたが、実施例1で得た複合膜に比べて、金型内での成型物流動性と入り込み性が多少悪くなることが判明した。
具体的には、実施例1に置いて上述のシラノール縮合触媒濃度を半分にして、上述のケチミン化合物(例えば、S340)を等モル混合した場合(1:1)、反応時間を20分まで短縮できた。
(2) CF3(CH2)2Si(CH3)2(CH2 )15Si(OCH3)3
(3) CF3(CH2)6Si(CH3)2(CH2 )9 Si(OCH3)3
(4) CF3COO(CH2)15Si(OCH3)3
(5) CF3(CF2)7(CH2)2Si(OCH3)3
(6) CF3(CF2)5(CH2)2Si(OCH3)3
(7) CF3(CF2)7C6H4Si(OCH3)3
(8) CF3CH2O(CH2)15Si(OC2H5)3
(9) CF3(CH2)2Si(CH3)2(CH2 )15Si(OC2H5)3
(10) CF3(CH2)6Si(CH3)2(CH2 )9 Si(OC2H5)3
(11) CF3COO(CH2)15Si(OC2H5)3
(12) CF3(CF2)7(CH2)2Si(OC2H5)3
(13) CF3(CF2)5(CH2)2Si(OC3H7)3
(14) CF3(CF2)7C6H4Si(OC2H5)3
(15) (CF3(CF2)7(CH2)2)2Si(OCH3)2
(16) (CF3(CF2)5(CH2)2)2Si(OCH3)2
(17) (CF3(CF2)7(CH2)2)3SiOCH3
(18) (CF3(CF2)5(CH2)2)3SiOCH3
(2)SiH(OCH3)3
(3)SiH2(OCH3)2
(4)(CH3O)3Si(OSi(OCH3)2)mOCH3
(5)Si(OC2H5)3
(6)SiH(OC2H5)3
(7)SiH2(OC2H5)2
(8)(H5C2O)3Si(OSi(OC2H5)2)mOC2H5
ここで、mは、1〜6整数を表す。
2 塗布された離型剤
3 本発明の離型膜
4 有機含フッ素エーテル基、または有機含フッ素ポリエーテル基とシリル基を主成分とする物質(1)
5 フッ化炭素基および炭化水素基およびアルコキシシリル基を主成分とする物質(2)
6 アルコキシシリル基を主成分とする物質(3)
7 離型性の複合膜
8 シリカ膜
Claims (24)
- 表面に高耐久性の離型性複合膜が形成された金型であって、前記被膜が、フッ化炭素基と炭化水素基を主成分とする長鎖物質とフッ化炭素基と炭化水素基とシリル基を主成分とする短鎖物質とシロキサン基を主成分とする物質を含む複合膜であることを特徴とする離型性金型。
- フッ化炭素基と炭化水素基を主成分とする長鎖物質の分子長がフッ化炭素基と炭化水素基とシリル基を主成分とする短鎖物質の分子長の2倍以上であることを特徴とする請求項1に記載の離型性金型。
- フッ化炭素基と炭化水素基を主成分とする長鎖物質がフッ化炭素基と炭化水素基を含む側鎖を持っていることを特徴とする請求項1および2に記載の離型性金型。
- フッ化炭素基と炭化水素基を主成分とする長鎖物質とフッ化炭素基と炭化水素基とシリル基を主成分とする短鎖物質が、シロキサン基を主成分とする物質よりなるシリカ膜中で前記シリル基を介して前記シリカ膜および/または金型表面に結合固定されていることを特徴とする請求項1乃至3に記載の離型性金型。
- フッ化炭素基と炭化水素基を主成分とする長鎖物質とフッ化炭素基と炭化水素基とシリル基を主成分とする短鎖物質とシロキサン基を主成分とする物質が、それぞれシリル基およびシロキサン基を介して互いにまたは個々に金型表面に結合固定されていることを特徴とする請求項1乃至3に記載の離型性金型。
- 離型性複合膜に含まれるフッ化炭素基と炭化水素基を主成分とする長鎖物質とフッ化炭素基と炭化水素基とシリル基を主成分とする短鎖物質とシロキサン基を主成分とする物質の分子組成比が、1:10:10〜1:0.1:0.1であることを特徴とする請求項1乃至5に記載の離型性金型。
- 表面に離型性複合膜が形成された金型であって、前記被膜が、少なくともフッ化炭素基と炭化水素基を主成分とする長鎖物質を含み前記被膜の臨界表面エネルギーが5〜20mN/mに制御されていることを特徴とする請求項1乃至6に記載の離型性金型。
- フッ化炭素基と炭化水素基を主成分とする長鎖物質が有機含フッ素エーテル基または有機含フッ素ポリエーテル基を主成分とする長鎖物質であることを特徴とする請求項1乃至7に記載の離型性金型。
- 離型性複合膜がシリカ膜を介して形成されていることを特徴とする請求項1乃至9に記載の離型性金型。
- 複合膜がさらにメチルシリル基を含んでいることを特徴とする請求項1乃至10に記載の離型性金型。
- 少なくともフッ化炭素基と炭化水素基を主成分とし且つアルコキシシリル基を含む長鎖物質(1)とフッ化炭素基および炭化水素基およびアルコキシシリル基を主成分とする短鎖物質(2)とアルコキシシリル基を主成分とする物質(3)とシラノール縮合触媒とを有機溶媒で希釈した複合膜形成溶液に金型表面を接触させて反応させ離型性複合膜を形成する工程を含むことを特徴とする離型性金型の製造方法。
- 少なくともフッ化炭素基と炭化水素基を主成分とし且つアルコキシシリル基を含む長鎖物質(1)とフッ化炭素基および炭化水素基およびアルコキシシリル基を主成分とする短鎖物質(2)とアルコキシシリル基を主成分とする物質(3)とシラノール縮合触媒とを有機溶媒で希釈した複合膜形成溶液に金型表面を接触させて反応させ被膜を形成する工程と、前記金型表面の余分な溶液を有機溶媒を用いて洗浄除去またはふき取り除去する工程とを含むことを特徴とする離型性金型の製造方法。
- フッ化炭素基と炭化水素基を主成分とし且つアルコキシシリル基を含む長鎖物質(1)とフッ化炭素基および炭化水素基およびアルコキシシリル基を主成分とする短鎖物質(2)とアルコキシシリル基を主成分とする物質(3)の分子混合比を、1:10:10〜1:0.1:0.1にしておくことを特徴とする請求項12および13に記載の離型性金型の製造方法。
- 少なくともフッ化炭素基と炭化水素基を主成分とし且つアルコキシシリル基を含む長鎖物質(1)として有機含フッ素エーテル基または有機含フッ素ポリエーテル基およびアルコキシシリル基を含む長鎖物質を用いることを特徴とする請求項12乃至14に記載の離型性金型の製造方法。
- シラノール縮合触媒の代わりに、ケチミン化合物、又は有機酸、アルジミン化合物、エナミン化合物、オキサゾリジン化合物、アミノアルキルアルコキシシラン化合物、あるいはTiO2等の金属酸化物を用いることを特徴とする請求項12乃至17に記載の離型性金型の製造方法。
- シラノール縮合触媒にケチミン化合物、又は有機酸、アルジミン化合物、エナミン化合物、オキサゾリジン化合物、アミノアルキルアルコキシシラン化合物および/あるいはTiO2等の金属酸化物を混合して用いることを特徴とする請求項12乃至17に記載の離型性金型の製造方法。
- 有機溶媒としてフッ化炭素系有機溶媒を用いることを特徴とする請求項12乃至19に記載の離型性金型の製造方法。
- 複合膜形成前にあらかじめ金型表面にシリカ膜を形成しておくことを特徴とする請求項12乃至20に記載の離型性金型の製造方法。
- 複合膜形成後、250〜450℃で加熱することを特徴とする請求項12乃至21に記載の離型性金型の製造方法。
- 複合膜形成後、さらにメチルシリル基を含んだ物質を溶かした溶液で処理することを特徴とする請求項12乃至21に記載の離型性金型の製造方法。
- 請求項1乃至11の金型を用いて作製した離型剤が付着してない成型品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006326659A JP5233006B2 (ja) | 2006-12-04 | 2006-12-04 | 金型とその製造方法及びそれを用いて作製した成型品 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006326659A JP5233006B2 (ja) | 2006-12-04 | 2006-12-04 | 金型とその製造方法及びそれを用いて作製した成型品 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012260510A Division JP5391497B2 (ja) | 2012-11-29 | 2012-11-29 | 金型とそれを用いた成型品の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008137306A true JP2008137306A (ja) | 2008-06-19 |
JP5233006B2 JP5233006B2 (ja) | 2013-07-10 |
Family
ID=39599273
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006326659A Expired - Fee Related JP5233006B2 (ja) | 2006-12-04 | 2006-12-04 | 金型とその製造方法及びそれを用いて作製した成型品 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5233006B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008195662A (ja) * | 2007-02-14 | 2008-08-28 | Nof Corp | 含フッ素(メタ)アクリル酸エステル、その製造方法及び防汚塗料 |
WO2009029435A1 (en) * | 2007-08-27 | 2009-03-05 | 3M Innovative Properties Company | Silicone mold and use thereof |
WO2010023714A1 (ja) * | 2008-08-30 | 2010-03-04 | 有限会社かがわ学生ベンチャー | 金型及びその製造方法 |
JP2010214859A (ja) * | 2009-03-18 | 2010-09-30 | Dainippon Printing Co Ltd | ナノインプリント用モールドおよびその製造方法 |
JP2010234575A (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-21 | Fujifilm Corp | インプリント用モールド構造体、インプリント用モールド構造体の製造方法、インプリント方法、及び磁気記録媒体の製造方法 |
US9758435B2 (en) | 2011-03-17 | 2017-09-12 | 3M Innovative Properties Company | Dental ceramic article, process of production and use thereof |
EP3778202A4 (en) * | 2018-03-28 | 2021-04-28 | Mitsubishi Chemical Corporation | FIBER REINFORCED COMPOSITE MATERIAL MOLDING APPARATUS AND PROCESS FOR MANUFACTURING A MOLDED ARTICLE OF FIBER REINFORCED COMPOSITE MATERIAL |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04255307A (ja) * | 1991-02-06 | 1992-09-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 成形用部材およびその製造方法 |
JPH04258278A (ja) * | 1991-02-06 | 1992-09-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 食品成形用型およびその製造方法 |
JPH04353406A (ja) * | 1991-05-30 | 1992-12-08 | Olympus Optical Co Ltd | プラスチック成形型 |
JPH06327971A (ja) * | 1992-05-27 | 1994-11-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 化学吸着膜の製造方法 |
JPH08337654A (ja) * | 1995-06-14 | 1996-12-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 化学吸着膜の製造方法及びこれに用いる化学吸着液 |
JP2002086456A (ja) * | 2000-09-20 | 2002-03-26 | Seimi Chem Co Ltd | 離型剤組成物 |
JP2004225009A (ja) * | 2003-01-27 | 2004-08-12 | Daikin Ind Ltd | ケイ素含有有機含フッ素ポリエーテルおよびその用途 |
JP2005280020A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Kazufumi Ogawa | 金型とその製造方法及びそれを用いて作成した成型品 |
-
2006
- 2006-12-04 JP JP2006326659A patent/JP5233006B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04255307A (ja) * | 1991-02-06 | 1992-09-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 成形用部材およびその製造方法 |
JPH04258278A (ja) * | 1991-02-06 | 1992-09-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 食品成形用型およびその製造方法 |
JPH04353406A (ja) * | 1991-05-30 | 1992-12-08 | Olympus Optical Co Ltd | プラスチック成形型 |
JPH06327971A (ja) * | 1992-05-27 | 1994-11-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 化学吸着膜の製造方法 |
JPH08337654A (ja) * | 1995-06-14 | 1996-12-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 化学吸着膜の製造方法及びこれに用いる化学吸着液 |
JP2002086456A (ja) * | 2000-09-20 | 2002-03-26 | Seimi Chem Co Ltd | 離型剤組成物 |
JP2004225009A (ja) * | 2003-01-27 | 2004-08-12 | Daikin Ind Ltd | ケイ素含有有機含フッ素ポリエーテルおよびその用途 |
JP2005280020A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Kazufumi Ogawa | 金型とその製造方法及びそれを用いて作成した成型品 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008195662A (ja) * | 2007-02-14 | 2008-08-28 | Nof Corp | 含フッ素(メタ)アクリル酸エステル、その製造方法及び防汚塗料 |
WO2009029435A1 (en) * | 2007-08-27 | 2009-03-05 | 3M Innovative Properties Company | Silicone mold and use thereof |
US7891636B2 (en) | 2007-08-27 | 2011-02-22 | 3M Innovative Properties Company | Silicone mold and use thereof |
WO2010023714A1 (ja) * | 2008-08-30 | 2010-03-04 | 有限会社かがわ学生ベンチャー | 金型及びその製造方法 |
JP2010214859A (ja) * | 2009-03-18 | 2010-09-30 | Dainippon Printing Co Ltd | ナノインプリント用モールドおよびその製造方法 |
JP2010234575A (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-21 | Fujifilm Corp | インプリント用モールド構造体、インプリント用モールド構造体の製造方法、インプリント方法、及び磁気記録媒体の製造方法 |
US9758435B2 (en) | 2011-03-17 | 2017-09-12 | 3M Innovative Properties Company | Dental ceramic article, process of production and use thereof |
EP3778202A4 (en) * | 2018-03-28 | 2021-04-28 | Mitsubishi Chemical Corporation | FIBER REINFORCED COMPOSITE MATERIAL MOLDING APPARATUS AND PROCESS FOR MANUFACTURING A MOLDED ARTICLE OF FIBER REINFORCED COMPOSITE MATERIAL |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5233006B2 (ja) | 2013-07-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4444713B2 (ja) | 離型性金型とその製造方法、及び成型品の製造方法 | |
JP5233006B2 (ja) | 金型とその製造方法及びそれを用いて作製した成型品 | |
JP6881458B2 (ja) | 撥水膜形成用組成物、撥水膜、撥水膜付き基体及び物品 | |
WO2011016458A1 (ja) | 撥水膜形成用組成物、撥水膜付き基体およびその製造方法並びに輸送機器用物品 | |
JP2014503380A (ja) | 疎水性フッ素化コーティング | |
JP4746032B2 (ja) | チタン酸化物粒子の分散液、チタン酸化物薄膜、有機機能膜形成用溶液、有機機能膜形成基体及びその製造方法 | |
JP6073353B2 (ja) | 潤滑性添加剤を含むフッ素化コーティング | |
TW200804978A (en) | Treated substratum with hydrophilic region and water-repellent region and process for producing the same | |
WO2002030848A1 (en) | Compositions comprising fluorinated polyether silanes for rendering substrates oil and water repellent | |
JP2013213181A (ja) | 有機−無機透明ハイブリッド皮膜とその製造方法 | |
EP3312242B1 (en) | Protective coating composition with mixed functionalities | |
CN105199457A (zh) | 一种疏液涂层 | |
JP5526393B2 (ja) | 撥水撥油防汚性複合膜形成溶液とそれを用いた撥水撥油防汚性複合膜の製造方法とそれを用いた撥水撥油防汚性複合膜 | |
WO2009104235A1 (ja) | 金型とその製造方法及びそれを用いて作製した成型品 | |
JP5092130B2 (ja) | 撥水撥油防汚性ガラス板とその製造方法及びそれを用いた自動車 | |
EP2163607A1 (en) | Solvent for cleaning of organic thin film | |
JP6758725B1 (ja) | 含フッ素シラン化合物、表面処理剤、及び該表面処理剤を用いた物品 | |
JP2008297411A (ja) | 接着方法並びにそれを用いて作製したバイオケミカルチップ及び光学部品 | |
JP5422855B2 (ja) | 転写ロールとその製造方法およびそれを用いて製造したフィルムまたはシート | |
JP5391497B2 (ja) | 金型とそれを用いた成型品の製造方法 | |
JP2008279398A (ja) | 撥水撥油防汚性表面を有する部材とその撥水撥油防汚性表面の製造方法。 | |
JP5050190B2 (ja) | 微粒子とその製造方法 | |
KR20200125944A (ko) | 고체 표면의 개질 방법 | |
JP5589215B2 (ja) | 太陽エネルギー利用装置とその製造方法 | |
EP2638980B1 (en) | Process for producing organic thin film laminate using solid or oily material for organic thin film formation applications |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091202 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111209 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111220 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120111 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120911 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121129 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20121217 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130212 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130304 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5233006 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160405 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |