JP2007250797A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】ウエハをポッドから確実に取り出す。
【解決手段】ウエハ１をポッド２に出し入れするツィーザ５０を備えたウエハ移載装置４０において、ツィーザ５０はウエハ１を載置する基端側載置部５２、５２および先端側載置部５４、５４と、ウエハ１の周縁部を引っ掛ける基端側位置ずれ防止部５３、５３および先端側引っ掛け部５５、５５とを備えており、先端側引っ掛け部５５、５５は先端側載置部５４、５４の載置面との夾角Θｂが直角または鋭角に設計され、載置面からの高さｈがウエハ１の厚みｔの半分以上に設計されている。
【選択図】図５

Description

本発明は、基板処理装置に関し、特に、ワークである基板の搬送技術に係り、例えば、半導体集積回路装置（以下、ＩＣという。）の製造方法において、半導体素子を含む集積回路が作り込まれる半導体ウエハ（以下、ウエハという。）に酸化膜や窒化膜や金属膜および半導体膜を成膜するのに利用して有効なものに関する。

従来のこの種の基板処理装置に使用されるウエハキャリアとしては、互いに対向する一対の側壁が開口された略立方体形状の収納容器であるオープンカセットと、一つの側壁が開口された略立方体形状に形成され開口部にキャップが着脱自在に装着された収納容器であるＦＯＵＰ（front opening unified pod 。以下、ポッドという。）とがある。
ウエハキャリアとしてポッドが使用される場合には、ウエハが密封された状態で搬送される状態になるために、周囲の雰囲気にパーティクル等が存在したとしてもウエハの清浄度を維持することができる。
その結果、基板処理装置が設置されるクリーンルームの清浄度を緩和することにより、クリーンルームに要するコストを低減することができるので、最近の基板処理装置においてはウエハキャリアとしてはポッドが使用されて来ている。

ポッドからウエハを取り出す場合には、ウエハを掬い上げるツィーザをウエハ移載装置（wafer transfer equipment )によってポッド内に挿入し、三次元に移動させてウエハを掬い上げて取り出すようになっている。例えば、特許文献１参照。
特開２００５−９３８６８号公報

しかしながら、ポット内からウエハをツィーザによって取り出す際に、ツィーザがウエハを掬い上げようとする時に、ツィーザがウエハに対して滑ったりしてウエハを掬い上げることができないために、ポッド内からウエハを取り出すことができない場合がある。

本発明の目的は、基板を基板収納容器から確実に取り出すことができる基板処理装置を提供することにある。

前記した課題を解決するための手段のうち代表的なものは、次の通りである。
（１）基板を基板収納容器に出し入れする基板載置プレートを有した基板移載装置を備えている基板処理装置において、
前記基板載置プレートには、前記基板を載置するための載置部と、前記基板を前記基板収納容器内から取り出す際に前記基板の前記基板収納容器内の奥側の周縁部を引っ掛けるための引っ掛け部とが具備されており、
前記引っ掛け部は、前記載置部より先端側に配置され、前記載置部の載置面との夾角が直角または鋭角に設定されているとともに、前記載置部に対する高さが前記基板の厚みの半分以上に設定されていることを特徴とする基板処理装置。
（２）前記引っ掛け部は、前記基板収納容器内から前記基板を取り出す際に前記収納容器内の奥側の挟まれる箇所の近傍に位置するように配置されていることを特徴とする前記（１）に記載の基板処理装置。

前記（１）によれば、基板を基板収納容器から基板載置プレートによって取り出す際に、基板の周縁部の一部を引っ掛け部に引っ掛けることができるので、基板を基板収納容器から確実に取り出すことができる。

以下、本発明の一実施の形態を図面に即して説明する。

本実施の形態において、図１、図２および図３に示されているように、本発明に係る基板処理装置はＩＣの製造方法におけるＣＶＤ工程を実施するバッチ式縦形ホットウオール形ＣＶＤ装置（以下、ＣＶＤ装置という。）１０として構成されている。
このＣＶＤ装置においては、ウエハ１を搬送するウエハキャリアとしては、ポッド２が使用されている。

図１〜図３に示されているように、ＣＶＤ装置１０は型鋼や鋼板等によって直方体の箱形状に構築された筐体１１を備えている。筐体１１の正面壁にはポッド搬入搬出口１２が筐体１１の内外を連通するように開設されており、ポッド搬入搬出口１２はフロントシャッタ１３によって開閉されるようになっている。
ポッド搬入搬出口１２の手前にはポッドステージ１４が設置されており、ポッドステージ１４はポッド２を載置されて位置合わせを実行するように構成されている。ポッド２はポッドステージ１４の上に工程内搬送装置（図示せず）によって搬入され、かつまた、ポッドステージ１４の上から搬出されるようになっている。

筐体１１内の前後方向の略中央部における上部には、回転式ポッド棚１５が設置されており、回転式ポッド棚１５は複数個のポッド２を保管するように構成されている。
すなわち、回転式ポッド棚１５は垂直に立設されて水平面内で間欠回転される支柱１６と、支柱１６に上中下段の各位置において放射状に支持された複数枚の棚板１７とを備えており、複数枚の棚板１７はポッド２を複数個宛それぞれ載置した状態で保持するように構成されている。
筐体１１内におけるポッドステージ１４と回転式ポッド棚１５との間には、ポッド搬送装置１８が設置されており、ポッド搬送装置１８はポッドステージ１４と回転式ポッド棚１５との間および回転式ポッド棚１５とポッドオープナ２１との間で、ポッド２を搬送するように構成されている。

筐体１１内の前後方向の略中央部における下部には、サブ筐体１９が後端にわたって構築されている。サブ筐体１９の正面壁にはウエハ１をサブ筐体１９内に対して搬入搬出するためのウエハ搬入搬出口２０が一対、垂直方向に上下二段に並べられて開設されており、上下段のウエハ搬入搬出口２０、２０には一対のポッドオープナ２１、２１がそれぞれ設置されている。
ポッドオープナ２１はポッド２を載置する載置台２２と、ポッド２のキャップを着脱するキャップ着脱機構２３とを備えている。ポッドオープナ２１は載置台２２に載置されたポッド２のキャップをキャップ着脱機構２３によって着脱することにより、ポッド２のウエハ出し入れ口を開閉するように構成されている。
ポッドオープナ２１の載置台２２に対してはポッド２がポッド搬送装置１８によって搬入および搬出されるようになっている。

サブ筐体１９内の前側領域には移載室２４が形成されており、移載室２４にはウエハ１をボート２５に対して装填（チャージング）および脱装（ディスチャージング）するウエハ移載装置（後記する）が設置されている。
サブ筐体１９内の後側領域には、ボートを収容して待機させる待機室２６が形成されている。待機室２６にはボート２５を昇降させるためのボートエレベータ２７が設置されている。ボートエレベータ２７はモータ駆動の送りねじ軸装置やベローズ等によって構成されている。
ボートエレベータ２７の昇降台に連結されたアーム２８にはシールキャップ２９が水平に据え付けられており、シールキャップ２９はボート２５を垂直に支持するように構成されている。
ボート２５は複数本の保持部材を備えており、複数枚（例えば、５０枚程度〜１５０枚程度）のウエハ１をその中心を揃えて垂直方向に整列させた状態で、それぞれ水平に保持するように構成されている。

図３に示されているように、筐体１１の天井壁には反応炉用開口が設けられている。
筐体１１の反応炉用開口の位置には、反応炉（ｒｅａｃｏｒ）３０が同心円状に設置されている。反応炉３０は互いに同心円状に配置されたアウタチューブ３１とインナチューブ３２とを備えている。
アウタチューブ３１は炭化シリコンまたは石英等の耐熱性材料が使用されて、上端が閉塞し下端が開放した円筒形状に形成されている。
インナチューブ３２は石英または炭化シリコン等の耐熱性材料が使用されて、上下両端が開放した円筒形状に形成されている。インナチューブ３２の円筒中空部によって反応炉３０の処理室３３が形成されている。
アウタチューブ３１とインナチューブ３２との間が形成した筒状空間は、ガスが流れるガス通路３４を形成している。

アウタチューブ３１およびインナチューブ３２の下端にはマニホールド３５が設置されており、マニホールド３５はステンレス鋼等が使用されて円筒形状に形成されている。
マニホールド３５には排気ライン３６の一端が接続されており、排気ライン３６の他端は真空ポンプ等から構成された排気装置（図示せず）が接続されている。排気ライン３６はアウタチューブ３１とインナチューブ３２との間のガス通路３４を流れるガスを排気するようになっている。
ガスは処理室３３の下方に設けられたガス供給ライン３７によって処理室３３に供給されるようになっている。

アウタチューブ３１の外周にはヒータユニット３８が同心円状に設置されており、ヒータユニット３８はアウタチューブ３１内の温度を所定の温度に加熱するように構成されている。
アウタチューブ３１内には温度検出器としての温度センサ３９が設置されている。ヒータユニット３８と温度センサとには温度制御部（図示せず）が接続されており、温度センサ３９によって検出された温度情報に基づいてヒータユニット３８への通電具合を調整することにより、処理室３３内の温度が所望の温度分布となるように所望のタイミングにて制御するように構成されている。

図４に示されているように、ウエハ移載装置４０はロータリーアクチュエータ４１を備えており、ロータリーアクチュエータ４１は上面に設置されたリニアアクチュエータ４３を、ロータリーアクチュエータ４１の水平方向中心部Ｏを中心として、水平面内で回転させるように構成されている。
リニアアクチュエータ４３の上面には移動台４４が設置されており、リニアアクチュエータ４３は移動台４４を水平移動させるように構成されている。
移動台４４にはウエハ１を下から保持する基板載置プレートとしてのツィーザ５０が複数枚（本実施の形態では５枚）、取付ブロック４５を介して等間隔に配置されて水平に取り付けられている。
ウエハ移載装置４０は送りねじ装置等によって構成されたエレベータ（図示せず）により昇降されるように構成されている。

図５に示されているように、ツィーザ５０はウエハ１を掬い取って下から支持し得る二股のフォーク形のプレート（板体）形状に形成されている。
ツィーザ５０の上面にはウエハ１の位置ずれ防止のための座ぐり５１が円形の穴形状に没設されており、座ぐり５１の立ち上がり面が構成する円弧面の直径Ｄａは、ウエハ１の直径Ｄｗよりも若干大きめに設定されている。
例えば、ウエハ１の直径Ｄｗが３００ｍｍの場合には、座ぐり５１の直径Ｄａはウエハ１の直径Ｄｗより若干大きく例えば２〜５ｍｍ程度大きく設定されている。

座ぐり５１の周縁部であって、ツィーザ５０の基端部側には、両側端に一箇所ずつ一対となるように基端側載置部５２、５２が突設されている。両基端側載置部５２、５２には、それぞれ座ぐり５１の基端側の立ち上がり面と同じ面となるように一箇所ずつ基端側位置ずれ防止部５３、５３が一対となるように構成されている。
両基端側位置ずれ防止部５３、５３と基端側載置部５２の載置面である上面となす夾角Θａは、鈍角に設定されている。図示例においては、夾角Θａは１２０度に設定されている。
なお、基端側位置ずれ防止部５３、５３は立ち上がり面と同じ面とせず、立ち上がり面を基端側位置ずれ防止部５３、５３より窪ませてもよい。
座ぐり５１の周縁部であってツィーザ５０の一対の先端部のそれぞれには、ツィーザ外側端は一箇所ずつ一対となるように先端側載置部５４、５４が突設されている。両先端側載置部５４、５４がそれぞれ座ぐり５１の立ち上がり面と同じ面となるように一箇所ずつ先端側引っ掛け部５５、５５が一対となるように構成されており、両先端側引っ掛け部５５、５５と先端側載置部５４の載置面である上面となす夾角Θｂは、直角または鋭角に設定されている。本実施の形態においては、夾角Θｂは直角に設定されている。

両基端側載置部５２、５２の上面と両先端側載置部５４、５４の上面とは、ウエハ１をガタツキなく載置するように同一の平面を構成している。両基端側載置部５２、５２の上面と両先端側載置部５４、５４の上面とは、座ぐり５１の底面からウエハ１を浮かせて支持することにより、ウエハ１との接触面積を減少させてウエハ１への異物の付着を防止している。
両先端側引っ掛け部５５、５５の高さｈは、ウエハ１の厚みｔの半分以上になるように設定されている。すなわち、ｈ≧ｔ／２、を満足するように設定されている。
本実施の形態においては、ｈ＝ｔ×５／７、に設計されている。
両先端側引っ掛け部５５、５５は、ポッド２内から取り出す際にウエハ１のポッド２内の奥側の挟まれる箇所の近傍に位置するように配置されている。

なお、ポッド２は図６に示されているように構成されている。
すなわち、ポッド２は一つの側壁に略正方形の開口部であるウエハ出し入れ口４を有する略立方体の箱形状に形成された本体３と、ウエハ出し入れ口４に着脱自在に装着されるキャップ７とを備えている。
本体３のウエハ出し入れ口４に隣接した上下左右の側壁のうち左右の側壁の内面には、複数段の保持部片５が等間隔に配置されて側面に直角に突設されており、各段の保持部片５は同一の平面を構成してウエハ１を水平に保持するように設定されている。
また、左右の側壁の内面には一対の奥側位置決め部６、６が形成されており、両奥側位置決め部６、６は保持部片５に保持されたウエハ１の外周の二箇所にそれぞれ当接することによってウエハ１の奥側の位置を規制するように設定されている。
キャップ７の内面の中央には前側位置決め部８が装備されており、前側位置決め部８は保持部片５に保持されたウエハ１の外周の一箇所に当接してウエハ１の前側の位置を規制することにより、両奥側位置決め部６、６と協働してウエハ１のガタツキを防止するように設定されている。
キャップ７には錠前９が装着されており、錠前９は本体３のウエハ出し入れ口４の一部に係合することによりキャップ７を本体３にロックするように構成されている。

前記構成に係るＣＶＤ装置によるＩＣの製造方法におけるＣＶＤ工程を説明する。

図１および図２に示されているように、ポッド２がポッドステージ１４に供給されると、ポッド搬入搬出口１２がフロントシャッタ１３によって開放され、ポッドステージ１４の上のポッド２はポッド搬送装置１８によって筐体１１の内部へポッド搬入搬出口１２から搬入される。
搬入されたポッド２は回転式ポッド棚１５の指定された棚板１７へポッド搬送装置１８によって自動的に搬送されて受け渡され、その棚板１７に一時的に保管される。
保管されたポッド２はポッド搬送装置１８によって一方のポッドオープナ２１に搬送されて載置台２２に移載される。
この際、ポッドオープナ２１のウエハ搬入搬出口２０はキャップ着脱機構２３によって閉じられており、移載室２４には窒素ガスが流通されることによって充満されている。

載置台２２に載置されたポッド２はその開口側端面がサブ筐体１９の正面におけるウエハ搬入搬出口２０の開口縁辺部に押し付けられるとともに、そのキャップがキャップ着脱機構２３によって取り外され、ウエハ出し入れ口を開放される。
ポッド２に収納された複数枚のウエハ１はウエハ移載装置４０のツィーザ５０によって掬い取られ、ウエハ搬入搬出口２０から移載室２４を通じて待機室２６へ搬入され、ボート２５に装填（チャージング）される。
ボート２５にウエハ１を受け渡したウエハ移載装置４０はポッド２に戻り、次のウエハ１をボート２５に装填する。
なお、ウエハ移載装置４０はポッド２側からボート２５側への回転動作はウエハ１をツィーザ５０の両先端側載置部５４、５４と両基端側載置部５２、５２とに載置した状態で、図４（ｂ）に示す位置までツィーザ５０および移動台４４を水平移動させ、その後、ロータリーアクチュエータ４１により回転させることで行う。
すなわち、ウエハ１はツィーザ５０の両先端側載置部５４、５４は両基端側載置部５２、５２より回転中心から離れた位置で回転することとなる。

以上の作動が繰り返されることにより、一方のポッドオープナ２１の載置台２２の上のポッド２の全てのウエハ１がボート２５に順次装填されて行く。

この一方（上段または下段）のポッドオープナ２１におけるウエハ移載装置４０によるウエハのボート２５への装填作業中に、他方（下段または上段）のポッドオープナ２１には回転式ポッド棚１５から別のポッド２がポッド搬送装置１８によって搬送されて移載され、ポッドオープナ２１によるポッド２の開放作業が同時進行される。

予め指定された枚数のウエハ１がボート２５に装填されると、ウエハ１群を保持したボート２５はシールキャップ２９がボートエレベータ２７によって上昇されることにより、インナチューブ３２の処理室３３に搬入（ボートローディング）されて行く。
図３に示されているように、上限に達すると、シールキャップ２９はマニホールド３５に押接することにより、アウタチューブ３１の内部をシールした状態になる。ボート２５はシールキャップ２９に支持されたままの状態で、処理室３３に存置される。

この状態で、処理室３３の温度がヒータユニット３８により所定の処理温度に上昇され、かつ、処理室３３内の圧力が排気装置により所定の圧力に減圧されると、所定の処理ガスがガス供給ライン３７によって処理室３３に供給される。
処理ガスがウエハ１に接触することにより、ＣＶＤ膜がウエハ１上に堆積する。

反応炉３０の処理室３３内で成膜処理された後に、ボート２５がボートエレベータ２７によって搬出（ボートアンローディング）される。
次いで、ボート２５の処理済ウエハ１がウエハ移載装置４０のツィーザ５０によって脱装（ウエハディスチャージ）され、ポッド２に収納される。
以上の作動が繰り返されることにより、ＣＶＤ工程がウエハ１に実施される。

ところで、ポッド２での収納状態でのガタツキを防止する必要上、図６に示されているように、ウエハ１はキャップ７によって両奥側位置決め部６、６に押し付けられた状態になっているために、ウエハ移載装置４０のツィーザ５０によってウエハ１をポッド２内から取り出す際には、ウエハ１は両奥側位置決め部６、６に押接した状態になっている。
このようにウエハ１が両奥側位置決め部６、６に押接した状態になると、ウエハ１は両奥側位置決め部６、６によって両側から挟み込まれた状態になる。
前述したＣＶＤ工程の実施において、ポッド２内からウエハ１をウエハ移載装置のツィーザによって取り出すに際して、正常であれば、ポッド２に収納された複数枚のウエハ１のそれぞれの間にウエハ移載装置４０のツィーザ５０が取り出す対象となるウエハ１の下側に挿入され、その後、ウエハ１をツィーザ５０により掬い上げ、ツィーザ５０の両先端側載置部５４、５４と両基端側載置部５２、５２とにウエハ１を載置させる。次に、ウエハ１を載置させた状態で、ツィーザ５０を引き出すことにより、ポッド２内からツィーザ５０によってウエハ１を掬い取ることになる。
しかし、図７（ａ）に示されているように、夾角Θｂが鈍角（図示例では、１２０度）に形成された先端側引っ掛け部５５’を有するツィーザ５０’により、両奥側位置決め部６、６によって挟み込まれた状態のウエハ１を掬い上げようとすると、ポッド２内からウエハ１をツィーザ５０’によって引き出すことができない場合が発生する。
万一、先端側引っ掛け部５５’が引っ掛からずに、ウエハ１がツィーザ５０’の上に乗っかった状態で、ウエハ１がポッド２内から引き出された場合には、搬送の途中で、ウエハ１がツィーザ５０’の上から落下するために、ウエハ１を損傷する場合が発生する。

しかし、本実施の形態においては、図７（ｂ）に示されているように、先端側引っ掛け部５５の夾角Θｂが直角（９０°）に形成されていることにより、先端側引っ掛け部５５がウエハ１の奥側の周縁部に確実に引っ掛かるために、ポッド２内からウエハ１をツィーザ５０によって確実かつ適正に引き出すことができる。
両先端側引っ掛け部５５、５５がウエハ１の奥側の周縁部に確実に引っ掛かるために、ウエハ１がツィーザ５０の上に乗っかった状態で、ウエハ１がポッド２内から引き出してしまう事態の発生は未然に防止することができる。
しかも、ツィーザ５０によってウエハ１を引き出す際には、両先端側引っ掛け部５５、５５がポッド２内の両奥側位置決め部６、６の近傍に位置するようにそれぞれ配設されていることより、両先端側引っ掛け部５５、５５の作用力がウエハ１を挟み込んだ部位に外す力となって効果的に加わるために、ポッド２内からウエハ１をツィーザ５０によって確実に引き出すことができる。

前記実施の形態によれば、次の効果が得られる。

1) ツィーザの先端側引っ掛け部の載置部の載置面となす夾角を直角に形成することにより、先端側引っ掛け部がウエハの奥側の周縁部に確実に引っ掛かるために、ポッド内からウエハをツィーザによって確実かつ適正に引き出すことができる。
また、ツィーザの両先端側載置部５４、５４と両基端側載置部５２、５２とにウエハ１を載置した状態で、図４（ｂ）のように、ウエハ移載装置が回転動作しても、回転中心から離れている先端側引っ掛け部がウエハの周縁部に確実に引っ掛かるために、回転スピードを上げてもウエハ１が位置ずれをおこすことにならず、ウエハ移載スピードを向上させることができる。

2) 先端側引っ掛け部がウエハの奥側の周縁部に確実に引っ掛かることにより、ウエハがツィーザの上に乗っかった状態で、ウエハをポッド内から引き出してしまう事態の発生を防止することができるので、ウエハがツィーザから落下して損傷が発生するのを未然に防止することができる。

3) ツィーザによってウエハを引き出す際には、両先端側引っ掛け部がポッド内の両奥側位置決め部の近傍に位置するように、両引っ掛け部をそれぞれ配設することにより、両先端側引っ掛け部の力をウエハを挟み込んだ部位に外す力として効果的に作用させることができるので、ツィーザによってポッド内からウエハをより一層確実に引き出すことができる。

なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々に変更が可能であることはいうまでもない。

例えば、先端側引っ掛け部の載置部の載置面となす夾角は、直角に形成するに限らず、鋭角に形成してもよい。

ツィーザの形状は二股のフォーク形のプレート形状に形成するに限らず、例えば、図８に示されたようなツィーザ５０Ｂの長方形のプレート形状に形成してもよいし、他のプレート形状に形成してもよい。

前記実施の形態ではＣＶＤ装置について説明したが、本発明は、酸化装置や拡散装置および熱処理装置等の基板処理装置全般に適用することができる。

また、ウエハを処理する場合について説明したが、液晶パネルや磁気ディスク、光ディスク等の基板全般について適用することができる。

本発明の一実施の形態であるＣＶＤ装置を示す一部省略斜視図である。 その側面断面図である。 反応炉を示す正面断面図である。 ウエハ移載装置を示しており、（ａ）は正面図、（ｂ）は平面図である。 ツィーザを示しており、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のｂ−ｂ線に沿う一部省略断面図、（ｃ）は（ｂ）のｃ部の詳細図である。 ポッドの平面断面図である。 先端側引っ掛け部の作用を説明する各模式図であり、（ａ）は比較例の場合を示しており、（ｂ）は本実施の形態の場合を示している。 ツィーザの他の実施の形態を示す平面図である。

符号の説明

１…ウエハ（基板）、２…ポッド（基板収納容器）、３…本体、４…ウエハ出し入れ口、５…保持部片、６…奥側位置決め部、７…キャップ、８…前側位置決め部、９…錠前、１０…ＣＶＤ装置（基板処理装置）、１１…筐体、１２…ポッド搬入搬出口、１３…フロントシャッタ、１４…ポッドステージ、１５…回転式ポッド棚、１６…支柱、１７…棚板、１８…ポッド搬送装置、１９…サブ筐体、２０…ウエハ搬入搬出口、２１…ポッドオープナ、２２…載置台、２３…キャップ着脱機構、２４…移載室、２５…ボート、２６…待機室、２７…ボートエレベータ、２８…アーム、２９…シールキャップ、３０…反応炉、３１…アウタチューブ、３２…インナチューブ、３３…処理室、３４…ガス通路、３５…マニホールド、３６…排気ライン、３７…ガス供給ライン、３８…ヒータユニット、３９…温度センサ、４０…ウエハ移載装置、４１…ロータリーアクチュエータ、４３…リニアアクチュエータ、４４…移動台、４５…取付ブロック、５０…ツィーザ（載置プレート）、５１…座ぐり、５２…基端側載置部、５３…基端側位置ずれ防止部、Θａ…基端側位置ずれ防止部の基端側載置部の上面となす夾角、５４…先端側載置部、５５…先端側引っ掛け部、Θｂ…先端側引っ掛け部の先端側載置部の上面となす夾角、ｈ…先端側引っ掛け部の高さ、ｔ…ウエハの厚み。

Claims (1)

1. 基板を基板収納容器に出し入れする基板載置プレートを有した基板移載装置を備えている基板処理装置において、
   前記基板載置プレートには、前記基板を載置するための載置部と、前記基板を前記基板収納容器内から取り出す際に前記基板の前記基板収納容器内の奥側の周縁部を引っ掛けるための引っ掛け部とが具備されており、
   前記引っ掛け部は、前記載置部より先端側に配置され、前記載置部の載置面との夾角が直角または鋭角に設定されているとともに、前記載置部に対する高さが前記基板の厚みの半分以上に設定されていることを特徴とする基板処理装置。

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