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JP2007114222A - 光制御素子 - Google Patents

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JP2007114222A JP2005104307A JP2005104307A JP2007114222A JP 2007114222 A JP2007114222 A JP 2007114222A JP 2005104307 A JP2005104307 A JP 2005104307A JP 2005104307 A JP2005104307 A JP 2005104307A JP 2007114222 A JP2007114222 A JP 2007114222A
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control element
light control
light
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Toru Sugamata
徹 菅又
Satoru Oikawa
哲 及川
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Sumitomo Osaka Cement Co Ltd
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Abstract

【課題】
非導波光の光導波路への入射を抑制し、光変調特性などの光学特性に優れた光制御素子を提供すること。
【解決手段】
電気光学効果を有する材料で形成された基板と、該基板の表面又は裏面に形成された光導波路とを含む光制御素子において、該光導波路の伝搬定数β〜βは、部分的に異なる値に設定されていることを特徴とする。
また、好ましくは、光導波路の伝搬定数と、該光導波路外を伝搬する非導波光に係る伝搬定数が異なることを特徴とする。
【選択図】図4

Description

本発明は、光制御素子に関し、特に、電気光学効果を有する材料で形成された基板に光導波路を有する光制御素子に関する。
従来、光通信分野や光測定分野において、電気光学効果を有する基板上に光導波路や変調電極を形成した導波路型光変調器が多用されている。
特に、マルチメデアの発展に伴い情報伝達量も増加傾向にあり、光変調周波数の広帯域化を実現する必要がある。これらを実現するためにはLiNbO(以下、「LN」という。)変調器等による外部変調方式が多様化されている。しかし、LN変調器の広帯域の実現には、変調信号であるマイクロ波と光波との速度整合、及び駆動電圧の低減を図る必要がある。
前記課題の解決手段として、基板の厚みを薄くすることにより、マイクロ波と光波の速度との速度整合条件を満足させ、且つ駆動電圧の低減を同時に図ることが知られている。
以下の特許文献1又は2においては、30μm以下の厚みを有する薄い基板(以下、「第1基板」という。)に、光導波路並びに変調電極を組み込み、第1基板より誘電率の低い他の基板(以下、「第2基板」という。)を接合し、マイクロ波に対する実効屈折率を下げ、マイクロ波と光波との速度整合を図り且つ基板の機械的強度を維持することが行われている。
特開昭64−18121号公報 特開2003−215519号公報
特許文献1又は2では、主に、第1基板にはLNが利用され、第2基板には、石英、ガラス、アルミナなどLNより低誘電率の材料が使用されている。これらの材料の組合せでは、線膨張係数の違いにより、温度変化に伴う温度ドリフトやDCドリフトが発生することとなる。特許文献2においては、このような不具合を除去するため、第1基板と第2基板との接合を、第1基板に近い線膨張係数を有する接着剤を利用して行うことも開示されている。
しかしながら、光導波路を形成した光制御素子、例えばマッハツェンダー型LN光変調器においては、図1(a)に示すように、光ファイバと光変調器との結合部で、光変調器内の光導波路と結合しない入射光10が非結合光(デカップリング光)として、光導波路外の基板内を伝搬したり、光導波路や特にY分岐部における散乱光11や放射光12が同様に基板内を伝搬するという問題を有している。また、図1(b)に示すように、分岐光導波路などの隣接した光導波路間では伝搬光の一部13が他の光導波路に移行するクロストークなどの問題が生じている。
このような非結合光,散乱光又はクロストーク光など(以下、「非導波光」という)は、光導波路に入射し、例えば、光変調器の変調曲線(理想的にはcosθの関数系。)が歪むなどの不具合を生じる。
特に、光導波路を形成した基板の厚さが、30μm以下又は導波光のモードフィールド径の2倍以下になると、以下の現象が特に顕著となることを本発明者らは見出した。
(1)導波光モード径が縦方向(基板表面に垂直な方向)と比較して横方向(基板表面に平行な方向)に広がり始め、非結合光や各種の散乱光が増加すると共に、導波路間のクロストークが増大する。
(2)非結合光などの非導波光が基板中をあたかも導波光にように伝搬し、後段の導波路に再結合する。
これらの現象に起因して、変調曲線が大きく歪むため、光変調器の消光比が劣化したり、変調曲線の最大透過光量が異なるなど、光変調器の特性や制御に大きな問題が発生する。
上述した基板の厚みを薄くした場合の影響について、図2(a)に示すマッハツェンダー型光導波路を有する光変調器の場合を例に説明する。一点鎖線A又はBで切断した場合の断面の様子を図2(b)又は(c)に示す。2つの分岐光導波路部分3,4を通過する光波の断面形状23は、図2(b)に示すように、基板1の横方向に広がった形状となる。また、分岐光導波路部分が合流するY分岐部から放射される光波12も、図2(c)のように横方向に広がった形状を示し、光導波路5を伝搬する光波24と極めて近接した構成となる。このような状況では、放射光12である非導波光と光導波路5を伝搬する光波24との再結合が発生し易く、光変調器の変調特性が劣化する大きな原因となる。なお、図2(a)では明示されていないが、21は変調電極、22は接地電極、20は基板1と補強板21とを接合する接着層を示している。
図3に、基板の厚みの変化の影響を明確にするため、基板の厚みを変化させた場合の光導波路のモード径の偏平度変化の様子を示す。図3では、LN基板の下側に誘電体(屈折率n=1.45)を配置し、上側には空気層を配置した状態を想定し、さらに、Tiの熱拡散により導波路幅6μm、成膜時のTi厚を500Åと900Åの場合を想定した。光導波路のモード径の偏平度は、横方向の径をx、縦方向の径yとし、x/yの値を偏平度として表した。これにより、LN基板の厚みが、Ti厚500Åの場合には30μm以下から、Ti厚900Åの場合には15μm以下となると、急激に偏平度が変化している様子が理解される。
本発明が解決しようとする課題は、上述した問題を解決し、非導波光の光導波路への入射を抑制し、光変調特性などの光学特性に優れた光制御素子を提供することである。
上記課題を解決するため、請求項1に係る発明では、電気光学効果を有する材料で形成された基板と、該基板の表面又は裏面に形成された光導波路とを含む光制御素子において、該光導波路の伝搬定数は、部分的に異なる値に設定されていることを特徴とする。
本発明における「伝搬定数」とは、2πn/λ(nは屈折率、λは波長を表わす)で定義される、伝搬する光の位相を表す定数を意味する。
請求項2に係る発明では、請求項1に記載の光制御素子において、該光導波路が隣接する複数の光導波路部分を有し、該隣接する光導波路部分は、互いに異なる伝搬定数を有するように設定された部分を有することを特徴とする。
請求項3に係る発明では、請求項2に記載の光制御素子において、該隣接する光導波路部分は、マッハツェンダー型光導波路の分岐光導波路部分であることを特徴とする。
請求項4に係る発明では、請求項3に記載の光制御素子において、該分岐光導波路部分における該分岐光導波路部分を伝搬する光波に対する実効的伝搬定数の平均値が、各分岐光導波路部分で同じとなるように設定されていることを特徴とする。
請求項5に係る発明では、請求項1に記載の光制御素子において、該光導波路の入射側光導波路部分と出射側光導波路部分とでは、光導波路の伝搬定数が異なることを特徴とする。
請求項6に係る発明では、請求項1乃至5のいずれかに記載の光制御素子において、該光導波路の伝搬定数と、該光導波路外を伝搬する非導波光に係る伝搬定数が異なることを特徴とする。
請求項7に係る発明では、請求項1乃至6のいずれかに記載の光制御素子において、光導波路の伝搬定数の調整は、該光導波路の幅を変化させることにより行うことを特徴とする。
請求項8に係る発明では、請求項7に記載の光制御素子において、隣接した分岐光導波路部分の各幅w,wは、両者の和w+wが一定となるように各幅を変化させることを特徴とする。
請求項9に係る発明では、請求項1乃至8のいずれかに記載の光制御素子において、伝搬定数の調整は、光導波路中又は光導波路近傍あるいは光導波路上に、伝搬定数を変化させる物質を拡散又は装荷することを特徴とする。
請求項10に係る発明では、請求項9に記載の光制御素子において、伝搬定数を変化させる物質は、MgO,SiO、TiO又はZnOの少なくとも一つを含むことを特徴とする。
請求項11に係る発明では、請求項1乃至10のいずれかに記載の光制御素子において、該光導波路の入射側光導波路部分は、該光導波路を伝播する光波の伝搬定数が、シングルモード条件を満足することを特徴とする。
請求項12に係る発明では、請求項1乃至11のいずれかに記載の光制御素子において、光導波路の伝搬定数が異なる部分の直前又は直後には、伝搬定数の変化が徐々に変化する領域を形成することを特徴とする。
請求項13に係る発明では、請求項1乃至12のいずれかに記載の光制御素子において、該基板の光導波路が形成された領域の少なくとも一部の厚みが、30μm以下又は導波光のモードフィールド径幅の0.3〜2.0倍であることを特徴とする。
本発明における「モードフィールド径幅」とは、光強度が1/eのなる幅を意味する。
請求項1に係る発明により、電気光学効果を有する材料で形成された基板と、該基板の表面又は裏面に形成された光導波路とを含む光制御素子において、該光導波路の伝搬定数は、部分的に異なる値に設定されているため、非導波光が光導波路に再結合することが抑制され、光制御素子の光学特性を安定化させることが可能となる。
請求項2に係る発明により、光導波路が隣接する複数の光導波路部分を有し、該隣接する光導波路部分は、互いに異なる伝搬定数を有するように設定された部分を有するため、非導波光のうち、特に隣接する光導波路部分間のクロストークが抑制され、光制御素子の光学特性を改善することが可能となる。
請求項3に係る発明により、隣接する光導波路部分は、マッハツェンダー型光導波路の分岐光導波路部分であるため、該分岐光導波路部分間のクロストークが防止され、極めて安定した変調特性を実現することが可能となる。
請求項4に係る発明により、分岐光導波路部分における該分岐光導波路部分を伝搬する光波に対する実効的伝搬定数の平均値が、各分岐光導波路部分で同じとなるように設定されているため、各分岐光導波路部分における光波の伝搬時間を一致させることが可能となり、各分岐光導波路部分を伝搬する光波の位相を調整する機構を不要又は簡略化させることが可能となり、光制御素子の複雑化や製造コストの増加を抑制することも可能となる。
請求項5に係る発明により、光導波路の入射側光導波路部分と出射側光導波路部分とでは、光導波路の伝搬定数が異なるため、特に入射側光導波路部分から放射される散乱光(例えばY分岐部における散乱光)が、出射側光導波路部分に再結合するのを防止することが可能となる。
請求項6に係る発明により、光導波路の伝搬定数と、該光導波路外を伝搬する非導波光に係る伝搬定数が異なるため、非導波光の光導波路への再結合を効果的に防止することが可能となる。
請求項7に係る発明により、光導波路の伝搬定数の調整は、該光導波路の幅を変化させることにより行うため、光導波路の形成工程を利用して、容易に伝搬定数の調整が可能となる。
請求項8に係る発明により、隣接した分岐光導波路部分の各幅w,wは、両者の和w+wが一定となるように各幅を変化させるため、隣接した分岐光導波路部分間においてのクロストークを防止するだけでなく、光制御素子の温度変化に伴う光学特性の変化を抑制することが可能となる。
請求項9に係る発明により、伝搬定数の調整は、光導波路中又は光導波路近傍あるいは光導波路上に、伝搬定数を変化させる物質を拡散又は装荷するため、光導波路部分だけでなく、光導波路以外の基板領域においても、伝搬定数の調整が可能となる。また、伝搬定数を変化させる物質を拡散又は装荷は、光制御素子の製造工程の一部を変更するだけで行うことが可能であり、伝搬定数の調整を容易に実現できる。
請求項10に係る発明により、伝搬定数を変化させる物質は、MgO,SiO、TiO又はZnOの少なくとも一つを含むため、熱拡散や膜形成により、容易に伝搬定数の調整を行うことが可能となる。
請求項11に係る発明により、光導波路の入射側光導波路部分は、該光導波路を伝播する光波の伝搬定数が、シングルモード条件を満足するため、光制御素子とシングルモードの光ファイバとの結合性を向上することが可能となる。
請求項12に係る発明により、光導波路の伝搬定数が異なる部分の直前又は直後には、伝搬定数の変化が徐々に変化する領域を形成するため、伝搬定数の調整箇所での光波の反射や散乱を抑制し、光学特性の劣化を防止することが可能となる。
請求項13に係る発明により、基板の光導波路が形成された領域の少なくとも一部の厚みが、30μm以下又は導波光のモードフィールド径幅の0.3〜2.0倍であるため、特に非導波光の再結合やクロストークが危惧される光制御素子において、効果的にこれらの不具合を防止し、光学特性の優れた光制御素子を提供することが可能となる。
以下、本発明の好適例を用いて詳細に説明する。
本発明は、電気光学効果を有する材料で形成された基板と、該基板の表面又は裏面に形成された光導波路とを含む光制御素子において、該光導波路の伝搬定数は、部分的に異なる値に設定されていることを特徴とする。
図4は、本発明の光制御素子に係る実施例1を示す概略図である。
以下の説明では、光導波路としてマッハツェンダー型光導波路を中心に説明するが、本発明は、これらの形状の光導波路に限定されるものではない。
図4は、マッハツェンダー型光導波路のみを示した図であり、光導波路は、入射側光導波路部分2、Y分岐部を経て2つに分岐された分岐光導波路部分3,4、及び合波部となるY分岐部を経て配置される出射側光導波路部分5から構成されている。
実施例1においては、分岐光導波路部分3及び4におけるクロストークを防止するため、光導波路の各領域における該光導波路内を伝搬する光波の伝搬定数β〜βを変化させている。
具体的には、分岐光導波路部分を3つの領域(CからD,DからE,EからFの3つの領域。以下では、CからDの領域を「CD領域」のように表現する。)に分け、各領域の長さをL,L,Lで表している。各領域において、隣接する分岐光導波路部分で、伝搬定数が一致しないように、伝搬定数の選択が行われている。例えば、CD領域では、分岐光導波路部分3の伝搬定数はβであるが、他方の分岐光導波路部分4の伝搬定数はβであり、両者の伝搬定数は異なっている。このように隣接する分岐光導波路間で伝搬定数を異ならせることにより、両者間におけるクロストークの発生を効果的に防止することが可能となる。その他のDE領域及びEF領域においても同様である。
また、実施例1においては、各伝搬定数βに各領域の長さLを掛けた実効的伝搬定数β・Lの平均値が、各分岐光導波路部分において等しくなるよう設定されている。具体的には、各分岐光導波路部分における実効的伝搬定数の総和が以下の式を満足する。
β・L+β・L+β・L=β・L+β・L+β・L
このように実効的伝搬定数の平均値を等しくすることにより、各分岐光導波路部分における光波の伝搬時間を一致させることが可能となり、各分岐光導波路部分を伝搬する光波の位相を調整する機構を不要又は簡略化させることが可能となり、光制御素子の複雑化や製造コストの増加を抑制することも可能となる。
実施例1においては、分岐光導波路部分を3つの領域に分けた例を示したが、本発明においては、これに限るものではなく、隣接する分岐光導波路部分で、伝搬定数が一致しないようにした領域が1つ以上であれば、少なくともクロストーク現象は抑制される。また、光波の伝播時間を調整する機能も付加するには、少なくとも2つ以上の領域に分けて伝搬定数を設定することが好ましい。
図5は、実施例1の伝搬定数の具体的な調整方法を図示したものである。伝搬定数を調整するには、図5(a)の符号30又は31で示すように、光導波路上に伝搬定数を変化させる物質30を装荷したり、光導波路中に伝搬定数を変化させる物質31を拡散する。
伝搬定数を変化させる物質としては、MgO,SiO、TiO又はZnOなどが使用可能であり、これらのうち少なくとも一つの材料を基板上に装荷又は基板内に拡散することで、伝搬定数が調整される。
特に伝搬定数を変化させる物質30を装荷させる場合には、SiOが好ましく、光導波路中に拡散させる場合には、MgOやTiO、さらにはZnOなどがより好適に使用される。
また、図5(b)に示すように、光導波路の近傍に伝搬定数を変化させる物質を拡散又は装荷することでも、光導波路の伝搬定数を調整することができる。図5(b)では、分岐光導波路部分を、GH領域とHI領域の2つの領域に分けた例を示す。
符号40は、伝搬定数を変化させる物質を拡散又は装荷したものであり、場合によっては、溝を形成することでも伝搬定数を調整することが可能である。
図6では、伝搬定数を調整する他の方法を示す。
図6(a)は、実施例1の伝搬定数の調整に使用可能な、3つの領域に対応して伝搬定数を変化させたものである。ここでの伝搬定数の調整は、分岐光導波路の幅を通常の光導波路の幅に加えて、w〜wの3種類の幅で変化させることにより行っている。
具体的には、CD領域では、分岐光導波路部分3の幅はwであり、他方の分岐光導波路部分4の幅はwとなるように設定されている。以下同様にして、DE領域及びEF領域においても、隣接する分岐光導波路部分の幅が異なることにより伝搬定数を異なる値とすることが可能となり、両者間でのクロストークを防止することが可能となる。
図6(b)は、分岐光導波路部分3の一部のみを図示したものである。図6(a)に示すように、各領域で伝搬定数を異ならせる場合に、光導波路の幅を急激に変化させると、光導波路内を伝搬する光波が反射又は散乱されるという新たな問題を生ずることとなる。このため、図6(b)に示すように、各領域間では、光導波路の幅が徐々に変化する移行領域50を設けている。このような移行領域50は、図5に示す伝搬定数を変化させる物質を使用する場合にも適用することが可能であり、その場合には、当該物質の密度や形状(幅や高さ)を空間的に徐々に変化するよう構成する。
さらに図6(c)では、光導波路の幅を、JL領域において連続的に変化させる場合の例を示している。分岐光導波路部分3においては幅wからwに、また分岐光導波路部分4においては幅wからwへと連続的に変化させている。図6(c)においては、各分岐光導波路部分の最小幅と最大幅を等しくしているが、これに限るものではない。
また、JL領域の途中(点線K)における各分岐光導波路部分の幅wとwについては、常に両者の和w+wが一定となるように設定することで、隣接した分岐光導波路部分間においてのクロストークを防止するだけでなく、光制御素子の温度変化に伴う光学特性の変化を抑制することが可能となる。
しかも、図6(c)に示すように、各分岐光導波路部分の最小幅wと最大幅wとを等しくする場合には、各分岐光導波路を伝搬する光波の伝搬時間や損失を等しくすることも可能となり、極めて光学特性の優れた光制御素子を提供することが可能となる。
図7は、本発明に係る実施例2を示す図である。
光導波路の入射側光導波路部分2と出射側光導波路部分5との伝搬定数β,βとを異なる値とすることにより、特に入射側光導波路部分から放射される散乱光(例えばY分岐部における散乱光)が、出射側光導波路部分に再結合するのを防止することが可能となる。
図8は、本発明に係る実施例3を示す図である。
図1に示すように、光ファイバと光変調器との結合部で、光変調器内の光導波路と結合しない入射光10が非結合光(デカップリング光)として、光導波路外の基板内を伝搬したり、光導波路や特にY分岐部における散乱光11や放射光12が同様に基板内を伝搬する。分岐光導波路などの隣接した光導波路間では伝搬光の一部が他の光導波路に移行するクロストーク光13が発生している。これらの非導波光が光導波路の各部分で再結合することを防止するため、非導波光の伝搬定数β,β,β及びβを、光導波路の伝搬定数β,β,β及びβと異なるような値に設定する。
図8における伝搬定数の調整方法は、図5及び6に示した各種の調整方法が採用でき、調整する対象も光導波路だけでなく、非導波光が伝搬する基板領域に伝搬定数の調整を施すことも可能である。
また、光制御素子の光学特性をより高性能に維持するためには、各分岐光導波路部分における伝搬定数の調整箇所が、両者の中心点に対して点対称となるように配置あるいは、非導波光に対する伝搬定数の調整箇所が光導波路に対して線対称となるように配置することにより、温度変化に伴う応力の影響を均等にすることが可能となる。
さらに、光制御素子と光ファイバーとの光学的結合効率を高め、非結合光を発生させないためには、光ファイバーのシングルモード条件に適合するように、光導波路の伝搬定数を設定することが好ましい。
本発明に係る光制御素子に使用される電気光学効果を有する材料としては、例えば、ニオブ酸リチウム、タンタル酸リチウム、PLZT(ジルコン酸チタン酸鉛ランタン)、及び石英系の材料及びこれらの組合わせが利用可能である。特に、電気光学効果の高いニオブ酸リチウム(LN)結晶が好適に利用される。
図2及び3に示すように、基板の光導波路が形成された領域の少なくとも一部の厚みが、30μm以下又は導波光のモードフィールド径幅の0.3〜2.0倍である場合には、特に導波光モード径が縦方向と比較して横方向に広がり始め、非結合光や各種の散乱光が増加すると共に、導波路間のクロストークが増大する。しかも、非結合光などの非導波光が基板中をあたかも導波光にように伝搬し、後段の導波路に再結合し易くなるなどの問題点が顕著となることから、これらの薄き基板部分を有する光制御素子には、本発明を適用することが好ましい。
図9に、本発明に係る光制御素子の変調曲線の結果を示す。図9(a)では、LN基板の厚みを10μmとし、図6に示す形状の光導波路を、分岐光導波路部分の伝搬定数の調整領域を2つに設定し(CD領域とDE領域の2つ)、入射側光導波路部分、出射側光導波路部分及び伝搬定数が調整された分岐光導波路部分3のCD領域(分岐光導波路部分4のDE領域)の各幅wは6μmとし、他の領域の幅wは7μmとした。また、各領域の長さは、L=L=15mmとした。
図9(b)においては、光導波路の幅を全て6μmとした以外は、図9(a)の場合と同様に作成した。
図9のグラフを見ると、従来の光変調器では、クロストークなどの非導波光の影響により、図9(b)のように変調曲線が大きく歪んでいるが、本発明を適用した光変調器では、図9(a)に示すように、変調曲線が極めて良好な状況に改善していることが理解される。
本発明は、上述した光制御素子に限定されるものではなく、例えば、分岐光導波路に係る内容を隣接する複数の光導波路に適用したり、上記の伝搬定数の調整方法も、物質の拡散や装荷と併せて光導波路の幅を調整するなど、適宜必要に応じて組合わせて行うことも可能であることは、言うまでもない。
以上説明したように、本発明によれば、非導波光の光導波路への入射を抑制し、光変調特性などの光学特性に優れた光制御素子を提供することが可能となる。
非導波光の様子を示す図である。 モードフィールド径幅が変化する様子などを模式的に示す図である。 基板の厚みに対する光導波路モード径の偏平度を示すグラフである。 本発明に係る光制御素子の実施例1を示す図である。 伝搬定数を変化させる物質を装荷又は拡散した光制御素子を示す図である。 光導波路の幅を調整して伝搬定数を変化させた光制御素子を示す図である。 本発明に係る光制御素子の実施例2を示す図である。 本発明に係る光制御素子の実施例3を示す図である。 光制御素子の変調曲線を本発明と従来例とで対比したグラフである。
符号の説明
1 基板
2 入射側光導波路部分
3,4 分岐光導波路部分
5 出射側光導波路部分
6,7 Y分岐部
10,11,12,13 非導波光
20 接着層
21 変調電極
22 接地電極
23,24 導波光
25 補強板
30,31,40 伝搬定数を変化させる物質

Claims (13)

  1. 電気光学効果を有する材料で形成された基板と、該基板の表面又は裏面に形成された光導波路とを含む光制御素子において、
    該光導波路の伝搬定数は、部分的に異なる値に設定されていることを特徴とする光制御素子。
  2. 請求項1に記載の光制御素子において、該光導波路が隣接する複数の光導波路部分を有し、該隣接する光導波路部分は、互いに異なる伝搬定数を有するように設定された部分を有することを特徴とする光制御素子。
  3. 請求項2に記載の光制御素子において、該隣接する光導波路部分は、マッハツェンダー型光導波路の分岐光導波路部分であることを特徴とする光制御素子。
  4. 請求項3に記載の光制御素子において、該分岐光導波路部分における該分岐光導波路部分を伝搬する光波に対する実効的伝搬定数の平均値が、各分岐光導波路部分で同じとなるように設定されていることを特徴とする光制御素子。
  5. 請求項1に記載の光制御素子において、該光導波路の入射側光導波路部分と出射側光導波路部分とでは、光導波路の伝搬定数が異なることを特徴とする光制御素子。
  6. 請求項1乃至5のいずれかに記載の光制御素子において、該光導波路の伝搬定数と、該光導波路外を伝搬する非導波光に係る伝搬定数が異なることを特徴とする光制御素子。
  7. 請求項1乃至6のいずれかに記載の光制御素子において、光導波路の伝搬定数の調整は、該光導波路の幅を変化させることにより行うことを特徴とする光制御素子。
  8. 請求項7に記載の光制御素子において、隣接した分岐光導波路部分の各幅w,wは、両者の和w+wが一定となるように各幅を変化させることを特徴とする光制御素子。
  9. 請求項1乃至8のいずれかに記載の光制御素子において、伝搬定数の調整は、光導波路中又は光導波路近傍あるいは光導波路上に、伝搬定数を変化させる物質を拡散又は装荷することを特徴とする光制御素子。
  10. 請求項9に記載の光制御素子において、伝搬定数を変化させる物質は、MgO,SiO、TiO又はZnOの少なくとも一つを含むことを特徴とする光制御素子。
  11. 請求項1乃至10のいずれかに記載の光制御素子において、該光導波路の入射側光導波路部分は、該光導波路を伝播する光波の伝搬定数が、シングルモード条件を満足することを特徴とする光制御素子。
  12. 請求項1乃至11のいずれかに記載の光制御素子において、光導波路の伝搬定数が異なる部分の直前又は直後には、伝搬定数の変化が徐々に変化する領域を形成することを特徴とする光制御素子。
  13. 請求項1乃至12のいずれかに記載の光制御素子において、該基板の光導波路が形成された領域の少なくとも一部の厚みが、30μm以下又は導波光のモードフィールド径幅の0.3〜2.0倍であることを特徴とする光制御素子。
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