JP2006524831A - 試料を結像する際の焦点位置を決定するための方法およびセット・アップ - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 51
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims abstract description 40
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 93
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 40
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 claims description 26
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 12
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 11
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 claims description 4
- 239000000428 dust Substances 0.000 claims description 2
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 claims 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000000018 DNA microarray Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004164 analytical calibration Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 1
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/24—Base structure
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/24—Base structure
- G02B21/241—Devices for focusing
- G02B21/244—Devices for focusing using image analysis techniques
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- G—PHYSICS
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/24—Base structure
- G02B21/241—Devices for focusing
- G02B21/245—Devices for focusing using auxiliary sources, detectors
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/28—Systems for automatic generation of focusing signals
- G02B7/30—Systems for automatic generation of focusing signals using parallactic triangle with a base line
- G02B7/32—Systems for automatic generation of focusing signals using parallactic triangle with a base line using active means, e.g. light emitter
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- Microscoopes, Condenser (AREA)
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Abstract
Description
三角測量法では、コリメートされたレーザ・ビームが反射されて、結像レンズの瞳面内に入り、結像光路に対するこのレーザ・ビームの進路から、試料によって反射されたレーザ光のZ位置が導き出される。
傾斜した共焦点アパーチャ・スロットを用いた位置決定では、アパーチャ・スロットが、照明光路の視野絞り面内に配置されて、試料上に結像される。試料によって反射された光は、アパーチャ・スロットに対して傾斜した状態で設けられたCCDラインに送られて、反射光が最大となるCCDラインの位置が決定される。この方法の場合のように、焦点位置の計算が、ライン上に単一の画像を用いて行なうことができ、焦点計算の結果が比較的短い時間で入手できる。
本発明によれば、前述した形式の方法において、試料上に視野絞りを結像し、画像に、光学格子を少なくとも部分的に重ね、視野絞りに対して傾斜した位置敏感型の受信装置を用いて、試料によって反射された光の強度値が決定される。これらの強度値は、受信装置内の位置に割り当てられ、位置に関係づけられた強度値から位置に関係づけられたコントラスト値が決定され、これらのコントラスト値を用いて、受信装置内のコントラスト・フォーカスの位置が、現在の焦点位置に相当する位置として決定される。
さらにより高い精度を要求する場合には、第1のステップにおいて、位置Pf’を、デフォルト最小値Iminよりも大きいすべてのコントラスト値I(yi)に対する関数、
好ましくは、視野絞りをアパーチャ・スロットとして、吸収格子を帯状マスクの形状の光学格子として、CCDラインを受信装置として使用する。この場合、位置xiは、CCDラインにおけるセンサ要素(以下、画素と呼ぶ)の連続的な番号によって特徴付けられる。すなわちCCDラインに2400画素がある場合、それらの位置は、x1〜x2400を用いて規定される。次に、CCDラインにおける2つの画素間の距離aを、画素の数を用いて表示し、aに対するデフォルト値は好ましくは10〜1000の範囲である。
−格子マスクが重ねられたギャップ開口部が照明光路中に配置され、
−結像光路から偏向された検出光路がCCDラインに向けられ、
−CCDラインは、検出光路の光軸とのα≠90°の角度を含み、
−CCDラインは、位置に関係づけられた強度値I(xi)と位置に関係づけられたコントラスト値I(yi)とを決定するための評価装置に接続され、
−評価装置は、現在の焦点位置に相当する位置として、CCDラインにおけるコントラスト・フォーカスの位置を決定する。
照明光路および結像光路は、ビーム・スプリッタ9の分割面8において、偏向されるかあるいは分裂する。
図2から明らかなように、このアパーチャ・セット・アップ11はすなわち、画像領域を規定する四角形のアパーチャ開口部12を示している。しかしながら、アパーチャ開口部12の外側には、円形の制限13によって特徴付けられる照明光路の内側に、アパーチャ・スロットのギャップ開口部14が配置され、規則的な格子15に重ねられている。
本発明によれば、吸収された放射の強度値I(xi)が、画素20の各位置xiに対して決定される。この結果、図4に表わされるように、CCDライン19に渡る強度曲線が得られる。図4に明らかなように、画素x700〜x1200の範囲における結像放射の強度は、残りの範囲の強度よりもはるかに高い。
本発明によれば、コントラスト・フォーカスを、他のステップにおいて、コントラスト値I(yi)から、デフォルト最小値Iminよりも大きいすべてのコントラスト値I(yi)に対する関数、
実際には、使用するCCDラインにおける異なる画素間の距離dは、精度原因に対する測定によって決定され、測定結果によってセット・アップは校正されて、校正された状態で試料評価に使用される。
これまで示した本発明によるセット・アップの構成においては、アパーチャ12およびギャップ開口部14の両方とも、アパーチャ・セット・アップのコンポーネントとして、照明光路の光軸2に対して垂直に配置されている。この結果、表面の散乱が軽微な程度のみである試料4を評価する際に、優れた測定結果が得られる。
これまで示した構成例と同様に、図9の構成においても、視野絞り面10に配置されたアパーチャ・セット・アップ11は、ギャップ開口部14およびアパーチャ12を示す。この場合も、ギャップ開口部14を用いて焦点位置を決定し、アパーチャ12を用いて試料4における画像の細部の周囲長さおよびサイズを規定する。
この場合には、例外として、ギャップ開口部14は光軸2に対する角度を含み、その角度は、CCDライン19が検出光路の光軸33に対して傾斜している量に等しい。しかしながら、アパーチャ12は、依然として、照明光路の光軸2に対して垂直に配置されている。
すなわち、このようなアパーチャ・セット・アップ11は、ギャップ開口部14を有するアパーチャ部分11.1と、アパーチャ12を有するアパーチャ部分11.2とを別個に製造し、後に結合することによって、技術的に実現することができる。
図10に示すセット・アップと図1に示すセット・アップとの間の違いは、試料4に向かうように向けられた第2の照明光路24を発生させる第2の照明源23が設けられていることにある。照明光路24は、さらなるビーム・スプリッタ26の分割層25において試料4に向かうように偏向され、ビーム・スプリッタ9において、照明源1から発生する照明光路の光軸2と融合する。
図1に示すセット・アップの場合のような傾斜されたCCDライン19は、この場合は必要ない。試料4から来る結像光がレンズ3、ビーム・スプリッタ9、視野レンズ7、およびビーム・スプリッタ26を通過した後に、アパーチャ・セット・アップ28が、受信装置6内のCCDマトリックス上に結像される。
画素ライン31内の格子構造を含むギャップ開口部29のそれぞれは、CCDマトリックス上に結像されて、各画素の信号出力において利用可能な強度信号I(xi)を生成する。これは、格子構造を含むCCDマトリックスのうちの1つの画素ライン32上にそれぞれ結像されるギャップ開口部30にも適用される。
2つの変数m1およびm2が設定点値、好ましくは値「ゼロ」に対応するまで、試料4の面を意図的に傾斜した場合、傾斜は補正される。
Claims (17)
- 試料(4)を結像する際の焦点位置を決定するための方法であって、
前記試料(4)上に視野絞りを結像して、前記試料(4)上の前記視野絞りの結像に、光学格子の結像を少なくとも部分的に重ね、
前記試料(4)によって反射された光の強度値I(xi)を、前記視野絞りに対して傾斜した位置敏感型の受信装置を用いて取得して、前記受信装置内の位置に対する割当てを可能にし、
前記強度値I(xi)から、位置に関係づけられたコントラスト値を決定し、
現在の焦点位置に相当する位置として、前記受信装置内のコントラスト・フォーカスの位置を決定する、
方法。 - 請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法において、
ギャップ開口部(14)を有する視野絞り、帯状マスクの形状の光学格子としての規則的な格子(15)、および受信装置としてのCCDライン(19)を使用し、
位置iを、前記CCDライン(19)の画素(20)の連続的な番号によって特徴付け、
距離aは、a=10…1000の範囲において事前に設定される画素(20)の数である、方法。 - 請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法において、前記受信装置内で測定される距離bであって、位置Pfと前記受信装置内の理想的な焦点位置に対応する位置Pf’’との間の距離であるbから、好ましくは前記試料(4)と結像オプティクスとの間の距離Δzを変化させることによって、自動フォーカシングに対する入力信号を生成する、方法。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法において、
前記視野絞りとしての矩形アパーチャと、
前記受信装置としてのCCDマトリックスと、
格子面内で互いに傾斜する2つの格子マスクからなる光学格子であって、該格子マスクはそれぞれ、互いに平行に進む複数の帯状マスクを示す、光学格子と、
を使用し、
前記試料上に前記帯状マスクのそれぞれの画像を生成し、請求項2〜4に記載されるように、結像された各マスクに対するコントラスト・フォーカスの位置を、前記CCDマトリックス内の現在の焦点位置に相当する位置として決定し、
前記コントラスト・フォーカスにより2本の接続ラインの進路および傾斜を決定し、
結果として、前記CCDマトリックスの受信表面に関係づけられた焦点面の傾斜角度を決定する、方法。 - 請求項7に記載の方法において、前記傾斜角度を補正するために、前記受信表面の面に関係づけられた焦点面の前記傾斜角度から入力信号を導き出す、方法。
- 請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法において、試料の選択された一片の反射能力および/または擾乱性の散乱光もしくは反射光の強度によって、光学格子のギャップ長を決定し、コントラスト・フォーカスおよび相応する現在の焦点位置を決定する際の精度を高めるために、前記試料の一片の反射能力が低いほど、あるいは前記擾乱性の散乱光または反射光が強いほど、前記ギャップ長を小さく事前設定する、方法。
- 請求項1〜9のいずれか1項に記載の方法において、
前記受信装置の隣接する画素(20)の強度値を、結像される格子の周期に渡って平均化し、
得られた強度信号Iist(実際の値)のデフォルト強度信号Isoll(設定点値)からのずれを決定し、
前記ずれを補償および平衡化するために、光路中の粉塵または他の無秩序に起因して乱されたコントラスト値I(yi)を補正する、方法。 - 前記方法のステップにより焦点位置を決定するための、特に顕微鏡に対するセット・アップであって、該顕微鏡は、
照明光路を発生させるための照明源(1)と、
前記照明光路を試料(4)に向けるために用いられる結像オプティクスと、
結像光路内のカメラ・セット・アップと、を含み、
格子マスクが重ねられたギャップ開口部(14)が、前記照明光路において配置され、
前記光路から偏向された検出光路が、該検出光路の光軸(33)とのα≠90°の角度を含むCCDライン(19)に向けられ、
前記CCDライン(19)は、位置に関係づけられた強度値I(xi)と位置に関係づけられたコントラスト値I(yi)とを決定するための評価装置(21)に接続され、
現在の焦点位置に相当する位置として、前記CCDライン(19)におけるコントラスト・フォーカスの位置を決定するために前記評価装置(21)は形成されることを特徴とするセット・アップ。 - 請求項12に記載のセット・アップにおいて、
前記ギャップ開口部(14)は、前記試料4における画像の細部の周囲長さおよびサイズを規定するアパーチャ(12)とともに、視野絞り面において配置され、
前記アパーチャ(12)は前記照明光路の光軸(2)の中心に配置され、前記ギャップ開口部(14)は前記照明光路の周囲に配置されることを特徴とするセット・アップ。 - 請求項13に記載のセット・アップにおいて、
前記アパーチャ(12)は、前記照明光路の前記光軸(2)に対して垂直に配置され、
前記ギャップ開口部(14)は前記光軸(2)との角度を含み、該角度は、前記CCDライン(19)が前記検出光路の前記光軸(33)に対して傾斜する角度に対応し、
前記試料(4)と前記ギャップ開口部(14)との間の光路長は、前記試料(4)と前記CCDライン(19)との間の光路長に等しいことを特徴とするセット・アップ。 - 請求項12〜14のいずれか1項に記載のセット・アップにおいて、
前記評価装置(21)が、
位置に関係づけられたコントラスト値I(yi)を決定する差分形成器であって、前記CCDライン(19)内の位置iに割り当てられた強度値I(xi)と、隣接する位置i+nに割り当てられた強度値I(xi+n)(好ましくはn=1…20)との差である関数、
現在の焦点位置に相当する位置として、コントラスト・フォーカスを決定するための算出回路であって、デフォルト最小値Iminよりも大きいすべてのコントラスト値I(yi)に対する関数、
を含むことを特徴とするセット・アップ。 - 請求項12〜15のいずれか1項に記載のセット・アップにおいて、
算出回路が、位置Pfと、前記CCDライン(19)内の理想的な焦点位置に対応する位置Pf’’との間の距離bを決定するために前記評価装置内に設けられ、
前記評価装置(21)は、前記試料(4)と前記結像オプティクスとの間の距離Δzを変化させるための位置決め装置(22)に接続されることを特徴とするセット・アップ。 - 請求項12〜16のいずれか1項に記載のセット・アップにおいて、格子周波数が、前記結像オプティクスの光学分解能限界に適合され、好ましくは、それぞれの場合において前記CCDライン(19)の5つの画素(20)が1つの格子周期に対応するセット・アップ。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10319182A DE10319182B4 (de) | 2003-04-29 | 2003-04-29 | Verfahren und Anordnung zur Bestimmung der Fokusposition bei der Abbildung einer Probe |
PCT/EP2004/004427 WO2004097493A1 (de) | 2003-04-29 | 2004-04-27 | Verfahren und anordnung zur bestimmung der fokusposition bei der abbildung einer probe |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006524831A true JP2006524831A (ja) | 2006-11-02 |
Family
ID=33393954
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006505285A Pending JP2006524831A (ja) | 2003-04-29 | 2004-04-27 | 試料を結像する際の焦点位置を決定するための方法およびセット・アップ |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7488924B2 (ja) |
EP (1) | EP1618426B1 (ja) |
JP (1) | JP2006524831A (ja) |
KR (1) | KR20060004963A (ja) |
CN (1) | CN100353204C (ja) |
AT (1) | ATE500531T1 (ja) |
DE (2) | DE10319182B4 (ja) |
WO (1) | WO2004097493A1 (ja) |
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ATE500531T1 (de) | 2011-03-15 |
DE502004012258D1 (de) | 2011-04-14 |
CN1781049A (zh) | 2006-05-31 |
KR20060004963A (ko) | 2006-01-16 |
DE10319182B4 (de) | 2008-06-12 |
EP1618426A1 (de) | 2006-01-25 |
CN100353204C (zh) | 2007-12-05 |
DE10319182A1 (de) | 2004-12-23 |
US20070102620A1 (en) | 2007-05-10 |
EP1618426B1 (de) | 2011-03-02 |
WO2004097493A1 (de) | 2004-11-11 |
US7488924B2 (en) | 2009-02-10 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A601 | Written request for extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
A02 | Decision of refusal |
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