KR101833245B1 - 위상측정 광선편향법을 이용한 표면 검사 장치의 교정 방법 및 시스템 - Google Patents
위상측정 광선편향법을 이용한 표면 검사 장치의 교정 방법 및 시스템 Download PDFInfo
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Abstract
스크린, 카메라 및 형상 측정 장치를 포함하며, 위상측정 광선편향법을 이용하여 측정 대상물의 표면 형상을 측정하는 표면 검사 장치의 교정 방법은, 이상적 격자 패턴(ideal grid pattern) 구조체를 이용하여 상기 카메라에 의하여 발생되는 오차 인자를 교정하는 카메라 교정 단계; 참조 기준면(reference flat)을 측정 위치에 배치하고, 상기 표면 검사 장치를 통해 상기 참조 기준면의 표면 형상을 측정하는 가-측정 단계; 상기 참조 기준면을 기초로 형상 측정 기준면(reference plane)을 정의하고, 상기 측정 대상물을 상기 측정 위치에 배치하여 상기 정의된 형상 측정 기준면에 따라 정렬하는 측정 대상물 정렬 단계; 상기 표면 검사 장치를 통해 상기 정렬된 측정 대상물의 표면 형상을 측정하는 실-측정 단계;를 포함한다.
Description
본 발명은 표면 형상 측정 기술에 관한 것으로, 위상측정 광선편향법(PMD, Phase Measuring Deflectometry)을 이용한 형상 측정 결과의 정확도를 보다 향상시킬 수 있는 위상측정 광선편향법을 이용한 표면 검사 장치의 교정 방법 및 시스템관한 것이다.
생산 공정에서 품질 평가를 위한 보다 정교한 3차원 형상 측정 공정은 필수적이며, 이러한 요구에 따라 다양한 3차원 형상 측정 기술이 활용되고 있다. 이들 중 광학적 측정 기술인 간섭계를 이용한 방법은 정확도 측면에서 우수한 성능을 보이나, 측정 면적이 제한됨에 따라 대면적의 대상물을 측정하는데 시간적인 한계가 있다. 또한, 특정 문양을 대상물에 조사하고, 조사된 문양의 변형 정도를 측정하여 3차원의 형상을 측정하는 방식인 모아레 방식은, 표면에 산란이 잘 일어나거나 또는 불투명한 소재 특성을 가지는 대상물에만 적용되어야 하는 한계가 있다.
이러한 종래의 기술들의 한계를 극복하기 위하여 제안된 3차원 형상 측정 방법으로 위상측정 광선편향법(PMD, Phase Measuring Deflectometry)이 제공되고 있다. 위상측정 광선편향법은 시료에서 반사되는 문양이 표면 형상에 영향을 받는다는 원리를 기초로, 특정 패턴광을 시료에 반사시키고 반사되는 패턴광을 카메라로 측정하여, 측정된 영상을 분석하여 3차원 형상 정보를 생성하는 방식이다. 이러한 방식의 측정법을 이용함으로써, 위상측정 광선편향법은 표면에서 산란이 거의 일어나지 않는 대면적의 측정 대상물을 보다 신속하게 측정할 수 있는 장점이 있다.
다만, 위상측정 광선편향법은 간섭계 방식과 비교하여 측정 정확도 측면에서 한계가 있어, 어느 정도의 오차 범위를 용인하는 대면적의 시료를 고속으로 측정하는데 주로 활용되고 있으며, 예를 들어, 자동차 제조 공정에서 단차 측정 등 외관 품질 검사 분야에 활용되고 있다.
즉, 위상측정 광선편향법은 고속 측정이라는 장점에도 불구하고, 대구경 렌즈 제조 공정 등 높은 측정 정확도를 요구하는 기술 분야에는 활용되고 있지 못하는 실정이다. 인공위성용 결상 광학계에 적용되는 렌즈는 직경이 1000mm 이상으로, 최근에는 2000mm급 대구경 렌즈에 대한 설계 요구가 나타나고 있다. 이 정도의 대구경 렌즈를 간섭계를 통하여 전 영역을 측정하는데는 시간적으로 한계가 있으므로, 고속 측정이라는 위상측정 광선편향법을 장점을 그대로 이용하되 간섭계에 근접하는 수준의 측정 정확도를 가질 수 있는 기술이 제공된다면, 광학계 설계 기술 분야에서 국가 경쟁력을 확보할 수 있을 것이다.
본 발명은 위상측정 광선편향법이 가지는 측정 정확도의 한계를 극복하여, 간섭계 측정 방식에 근접하는 수준의 측정 정확도를 가지는 동시에 대면적의 측정 대상물을 고속으로 측정할 수 있도록 하는, 위상측정 광선편향법을 이용한 표면 검사 장치의 교정 방법 및 시스템을 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 스크린, 카메라 및 형상 측정 장치를 포함하며, 위상측정 광선편향법을 이용하여 측정 대상물의 표면 형상을 측정하는 표면 검사 장치의 교정 방법은, 이상적 격자 패턴(ideal grid pattern) 구조체를 이용하여 상기 카메라에 의하여 발생되는 오차 인자를 교정하는 카메라 교정 단계; 참조 기준면(reference flat)을 측정 위치에 배치하고, 상기 표면 검사 장치를 통해 상기 참조 기준면의 표면 형상을 측정하는 가-측정 단계; 상기 참조 기준면을 기초로 형상 측정 기준면(reference plane)을 정의하고, 상기 측정 대상물을 상기 측정 위치에 배치하여 상기 정의된 형상 측정 기준면에 따라 정렬하는 측정 대상물 정렬 단계; 상기 표면 검사 장치를 통해 상기 정렬된 측정 대상물의 표면 형상을 측정하는 실-측정 단계;를 포함한다.
일 실시예에서, 상기 카메라 교정 단계는 상기 이상적 격자 패턴 구조체를 상기 카메라로 촬영하고, 촬영된 격자 패턴의 왜곡 정보를 기초로 상기 카메라의 반경 수차(radial distortion)을 교정하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 카메라 교정 단계는 상기 이상적 격자 패턴 구조체를 기설정된 거리만큼 위치 이동시키고, 상기 상기 이상적 격자 패턴 구조체의 위치 이동에 따른 격자 패턴의 위치 정보를 기초로, 상기 카메라의 각 화소로 입사하는 광선의 방향 벡터 및 상기 측정 대상물의 스케일 인자(scale factor) 중 적어도 하나를 교정하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 표면 검사 장치의 교정 방법은 상기 카메라 교정 단계 이후에, 기정의된 배율의 현미경을 이용하여 상기 스크린을 구성하는 복수의 픽셀들을 확대 촬영하고, 확대 촬영 결과를 기초로 상기 스크린을 구성하는 복수의 픽셀들의 피치(pitch)를 교정하는 단계를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 가-측정 단계는 상기 참조 기준면을 상기 측정 위치에 배치하고, 상기 참조 기준면을 이용한 크로스헤어 패턴(crosshair pattern) 정렬을 통해 상기 스크린, 카메라 및 참조 기준면 중 적어도 하나에 대한 방향 또는 변위를 정렬한 이후, 위상측정 광선편향법을 이용하여 상기 참조 기준면의 표면 형상을 측정하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 참조 기준면의 표면 형상을 측정하는 단계는 상기 스크린을 이용해, 기정의된 패턴광을 위상 천이하여 상기 참조 기준면으로 출력하는 단계; 상기 카메라를 이용해, 상기 참조 기준면으로부터 반사되는 반사광을 측정하는 단계; 및 상기 형상 측정 장치를 이용해, 상기 측정된 반사광을 기초로 상기 참조 기준면의 표면 형상 정보를 생성하는 단계;를 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 표면 검사 장치의 교정 방법은 상기 참조 기준면의 이상적 표면 형상 정보를 획득하고, 상기 가-측정에 의한 참조 기준면의 표면 형상 정보와 상기 이상적 표면 형상 정보의 차분값(difference)을 기초로, 상기 실-측정에 의한 상기 측정 대상물의 표면 형상 정보를 보정하는 단계를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 일 측면에 따르면, 표면 검사 장치의 교정 시스템은 기정의된 패턴광을 위상 천이하여 측정 대상물로 출력하는 스크린, 상기 측정 대상물로부터 반사되는 반사광을 측정하는 카메라 및 상기 측정된 반사광을 기초로 상기 측정 대상물의 표면 형상 정보를 생성하는 형상 측정 장치를 포함하며, 위상측정 광선편향법을 이용해 상기 측정 대상물의 표면 형상을 측정하는 표면 검사 장치; 및 상기 표면 검사 장치를 통한 표면 형상 측정 과정에서 발생하는 오차 인자를 교정하는 교정 장치;를 포함한다.
일 실시예에서, 상기 교정 장치는 이상적 격자 패턴(ideal grid pattern) 구조체를 이용하여 상기 카메라에 의하여 발생되는 오차 인자를 교정하는 카메라 교정부를 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 표면 검사 장치는 참조 기준면(reference flat)이 측정 위치에 배치되면, 상기 참조 기준면의 표면 형상을 측정하는 가-측정을 수행할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 교정 장치는 상기 참조 기준면을 기초로 형상 측정 기준면(reference plane)을 정의하고, 상기 측정 대상물을 상기 측정 위치에 배치하여 상기 정의된 형상 측정 기준면에 따라 정렬하는 정렬부를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 표면 검사 장치는 상기 정렬된 측정 대상물의 표면 형상을 측정하는 실-측정을 수행할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 교정 장치는 상기 참조 기준면의 이상적 표면 형상 정보를 획득하고, 상기 가-측정에 의한 참조 기준면의 표면 형상 정보와 상기 이상적 표면 형상 정보의 차분값(difference)을 기초로, 상기 실-측정에 의한 상기 측정 대상물의 표면 형상 정보를 보정하는 표면 형상 정보 보정부를 더 포함할 수 있다.
본 발명에 따르면, 위상측정 광선편향법이 가지는 측정 정확도의 한계를 극복하여, 간섭계 측정 방식에 근접하는 수준의 측정 정확도를 가지는 동시에 대면적의 측정 대상물을 고속으로 측정할 수 있도록 한다.
도 1은 위상측정 광선편향법을 이용한 표면 검사 기술을 설명하기 위한 참고도이다.
도 2는 종래의 위상측정 광선편향법을 이용한 표면 검사 과정에서 발생될 수 있는 오차 인자를 설명하기 위한 참고도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 위상측정 광선편향법을 이용한 표면 검사 장치의 교정 장치를 설명하기 위한 블록도이다.
도 4는 본 발명에 따른 위상측정 광선편향법을 이용한 표면 검사 장치의 교정 방법을 설명하기 위한 흐름도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 카메라 교정 과정을 설명하기 위한 참고도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 가-측정 과정을 설명하기 위한 참고도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 측정 대상물 정렬 과정을 설명하기 위한 참고도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 실-측정 과정을 설명하기 위한 참고도이다.
도 2는 종래의 위상측정 광선편향법을 이용한 표면 검사 과정에서 발생될 수 있는 오차 인자를 설명하기 위한 참고도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 위상측정 광선편향법을 이용한 표면 검사 장치의 교정 장치를 설명하기 위한 블록도이다.
도 4는 본 발명에 따른 위상측정 광선편향법을 이용한 표면 검사 장치의 교정 방법을 설명하기 위한 흐름도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 카메라 교정 과정을 설명하기 위한 참고도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 가-측정 과정을 설명하기 위한 참고도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 측정 대상물 정렬 과정을 설명하기 위한 참고도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 실-측정 과정을 설명하기 위한 참고도이다.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
이하, 도 1 내지 8을 참조하여 본 발명에 따른 위상측정 광선편향법을 이용한 표면 검사 장치의 교정 기술에 대하여 상세하게 설명하며, 우선적으로 도 1 및 2를 참조하여, 위상측정 광선편향법에 의한 표면 검사 기술을 설명한다.
도 1은 위상측정 광선편향법을 이용한 표면 검사 기술을 설명하기 위한 참고도이고, 도 2는 종래의 위상측정 광선편향법을 이용한 표면 검사 과정에서 발생될 수 있는 오차 인자를 설명하기 위한 참고도이다.
도 1a 및 도 1b를 참조하면, 위상측정 광선편향법을 이용한 표면 검사 시스템(10)은, 위상측정 광선편향법을 이용해 3차원 표면 형상 정보를 생성하여 표면 검사를 수행하는 표면 검사 장치(100)와, 표면 검사 대상인 측정 대상물(200)을 포함한다.
여기에서, 표면 검사 장치(100)는 기정의된 패턴광을 위상 천이하여 측정 대상물(200)로 출력하는 스크린(110), 측정 대상물(200)로부터 반사되는 반사광을 측정하는 카메라(120) 및 측정된 반사광을 기초로 측정 대상물(200)의 표면 형상 정보를 생성하는 형상 측정 장치(130)를 포함한다.
한편, 형상 측정 장치(130)는 카메라(120)로부터 획득된 영상을 수신하여, 기정의된 알고리즘에 따라 측정 대상물(200)의 3차원 표면 형상 정보를 생성하는 컴퓨팅 장치로서, 그 종류 및 동작에 한정되지 않는 것으로 해석되어야 한다. 본 발명에서 기술하는 표면 검사 시스템(10)은 위상측정 광선편향법을 이용하여 측정 대상물(200)의 표면 검사를 수행하기 위한 목적에 따라, 하드웨어 및 소프트웨어의 조합에 의해 구성될 수 있으며, 이러한 목적에 따라 구성되는 시스템이라면 본 발명에서 기술하는 표면 검사 시스템(10)에 해당하는 것으로 보아야 할 것이다.
이하, 위상측정 광선편향법을 이용한 형상 측정 과정에 대하여 상세하게 설명한다.
위상측정 광선편향법은 스크린(110)에서 발생하는 광선이 측정하고자 하는 측정대상물(200)의 표면에서 반사되는 반사각을 기초로, 특정 위치에서의 측정 대상물(200) 표면 기울기를 측정하고 이를 적분함으로써 측정대상물(200)의 표면 형상을 측정하는 방식이다.
이러한 위상측정 광선편향법은 기존의 광학적 측정방법인 레이저 간섭계에 비하여 매우 넓은 측정영역을 갖고 다양한 형상의 측정 대상물(200)에 대해 적용이 가능하며, 스크린(110)의 크기에 대응하여 대면적의 측정이 가능하다.
도 1c 및 1d를 참조하면, 측정 대상물(200)에서 반사되는 반사광을 측정하기 위한 셋업은 일정한 패턴광(패턴 영상)을 생성할 수 있는 스크린(110)과 카메라(120)로 구성될 수 있다. 여기에서, 카메라(120)에 입사되는 반사광은 카메라(120)에 구성되는 광학렌즈의 화각(field-of-view) 및 카메라(120)의 화소에 따라, 3차원 공간 상에서 특정한 방향으로 퍼져나가는 방향 벡터의 매트릭스 맵으로 표현될 수 있으며, 예를 들어, 하기 수학식 1과 같이 표현될 수 있다.
위상측정 광선편향법에 따르면, 스크린(110)에서 생성하는 패턴광(패턴 영상)의 위상천이를 발생시킴으로써, 측정 대상물(200) 표면 상의 특정한 지점에서 반사되는 광선이 생성된 위치를 스크린(110) 상에서 측정할 수 있으며, 위치정보는 반사된 패턴광의 초기 위상의 형태로 정량적으로 획득될 수 있다.
또한, P1 및 P2 두 개의 기정의된 지점에서 광선의 위상 측정을 수행함으로써, 스크린(110)에서 측정 대상물(200)로 진행하는 광선의 방향 벡터를 정량적으로 측정할 수 있으며, 예를 들어, 하기 수학식 2와 같이 표현될 수 있다.
즉, 도 1c에 도시된 바와 같이, 스크린(110)은 P1 위치에서 수평 패턴 영상(111) 및/또는 수직 패턴 영상(112)을 측정 대상물(200)을 향해 출력하되, 각각의 패턴 영상을 위상 천이시키며 출력하고, 이후 스크린(110)은 P2 위치로 이동되어 동일한 방식으로 패턴 영상을 위상 천이시키며 출력할 수 있다. 이를 통해, 스크린(110)에서 측정 대상물(200)로 진행하는 광선의 방향 벡터를 정량적으로 측정할 수 있으며, 카메라(120)에서 측정되는 반사광(121, 122)을 통해 카메라(120)로 입사되는 광선의 방향 벡터를 정량적으로 측정할 수 있는 것이다.
도 1d를 참조하면, 스넬의 반사 법칙(Snell’s law of reflection)에 의해 스크린(110)에서 발생한 패턴광이 측정 대상물(200)에서 반사될 때, 입사광 및 반사광의 방향벡터인 w 및 v 벡터와 반사면의 법선벡터인 N 사이에 하기 수학식 3과 같은 관계가 성립되며, 이를 기초로 측정 대상물(200) 표면의 법선벡터를 매트릭스 맵의 형태로 정량적으로 획득이 가능하다.
상기와 같은 방법으로 획득된 측정 대상물(200)의 표면에 대한 법선 벡터 정보를 기초로, 다양한 2차원 적분법을 적용하여 도 1e와 같은 측정 대상물(200)의 표면 형상을 획득할 수 있다. 대표적으로 Southwell’s integration 또는 Simpson integration 등의 방법이 사용 가능하며, 이러한 적분법은 수학적 혹은 공학적 매트릭스 해석 분야에서 널리 이용되고 있는 방법이다. 한편, 측정 대상물(200)의 표면에 대한 법선 벡터 정보를 기초로 표면 형상 정보를 생성하는 구성은 본 발명의 핵심적인 기술적 사상의 범위를 벗어나는 것으로 자세한 설명은 생략한다.
위상측정 광선편향법은 다양한 형상(예를 들어, 자유 곡면 등)을 가지는 측정 대상물(200)에 적용 가능한 방법이지만, 측정의 기준이 모호하고 측정 시에 발생할 수 있는 오차 인자를 제거하는 것이 매우 어려운 특징이 있다. 이에, 현재까지 제공되고 있는 위상측정 광선편향법을 이용한 형상 측정 기술은, 상술한 바와 같이 어느 정도의 오차 범위를 용인하는 대면적의 시료를 고속으로 측정하는데 주로 활용되고 있는 실정이다.
본 출원인은 위상측정 광선편향법을 이용한 형상 측정 기술의 오랜 연구 끝에, 형상 측정 결과의 품질을 저하시키는 오차 인자들을 도출하였으며, 이러한 오차 인자를 모두 제거(또는 최소화)할 수 있는 교정 기술을 안출하였다.
도 2를 참조하면, 위상측정 광선편향법을 이용한 형상 측정 과정에서 나타날 수 있는 오차 인자는 하기와 같다.
① 카메라(120)의 왜곡(distortion) 및 기타 수차(aberrations)
② 카메라(120)의 초점 심도(depth of focus)로 인한 이미지 품질 저하(blurred image)
③ 스크린(110)의 화소 배치 불규칙성(irregularity)
④ 스크린(110)의 방향(orientation) 및 정렬 오차
⑤ 스크린(110)을 P1에서 P2로 이동할 때의 변위 오차(크기, 방향)
⑥ 측정 대상물(200)의 방향 및 정렬오차
⑦ 카메라(120)의 화각에 따른 측정 대상물(200)의 스케일 인자(scale factor) 오차
위상측정 광선편향법을 이용하여 형상 측정을 수행하는 과정에서, 간편한 셋업을유지하는 동시에 상기 ① 내지 ⑦의 오차 인자들을 모두 제거(또는 최소화)할 수 있는 기술이 제공된다면, 위상측정 광선편향법으로도 높은 정확도를 가지며 대면적의 시료를 고속으로 측정할 수 있을 것이다.
이하, 도 3 내지 8을 참조하여 본 발명에 따른 위상측정 광선편향법을 이용한 표면 검사 장치(이하, 표면 검사 장치)의 교정 기술에 대하여 상세하게 설명한다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 표면 검사 장치의 교정 장치를 설명하기 위한 블록도이고, 도 4는 본 발명에 따른 표면 검사 장치의 교정 방법을 설명하기 위한 흐름도이다.
본 발명에 따른 표면 검사 장치의 교정 시스템은 위상측정 광선편향법을 이용해 측정 대상물(200)의 표면 형상을 측정하는 표면 검사 장치(100) 및 표면 검사 장치(100)를 통한 표면 형상 측정 과정에서 발생하는 오차 인자를 교정하는 교정 장치(300)를 포함하여 구성된다.
한편, 본 발명에서 기술하는 교정 장치(300)는 이하 설명되는 카메라(120) 교정 과정, 변위 정렬 과정 및 표면 형상 정보 교정 과정을 수행하기 위한 목적에 따라, 하드웨어 및 소프트웨어의 조합으로 구성될 수 있으며, 이러한 목적에 따라 구성되어 동작하는 객체라면 본 발명에서 기술하는 교정 장치(300)에 해당하는 것으로 보아야 할 것이다.
도 3을 참조하면, 교정 장치(300)는 카메라 교정부(310), 정렬부(320), 표면 형상 정보 보정부(330) 및 제어부(340)를 포함한다. 제어부(340)는 카메라 교정부(310), 정렬부(320) 및 표면 형상 정보 보정부(330)의 동작을 제어한다.
카메라 교정부(310)는 이상적 격자 패턴(ideal grid pattern) 구조체를 이용하여 카메라(120)에 의하여 발생되는 오차 인자를 교정한다(단계 S410). 여기에서, 이상적 격자 패턴(311)은 도 5a 및 5b에 도시된 바와 같이, 기정의된 간격 및 크기를 가지는 격자 패턴이 새겨진 구조체에 해당할 수 있다.
일 실시예에서, 카메라 교정부(310)는 이상적 격자 패턴 구조체가 카메라(120)에의하여 촬영되면, 촬영된 격자 패턴의 왜곡 정보를 기초로 카메라(120)의 반경 수차(radial distortion)을 교정할 수 있다.
도 5c를 참조하면, 카메라 교정부(310)는 카메라(120)에 의하여 촬영된 영상이 (a)와 같은 형태로 나타나 negative radial distortion의 왜곡이 발생되는 경우, 또는 (c)와 같은 형태로 나타나 positive radial distortion의 왜곡이 발생되는 경우, 그 왜곡을 보정하여 (b)와 같은 형태의 영상(no distortion)이 출력되도록 카메라를 교정할 수 있다.
일 실시예에서, 카메라 교정부(310)는 이상적 격자 패턴 구조체(311)를 기설정된 거리만큼 위치 이동시키고, 상기 이상적 격자 패턴 구조체(311)의 위치 이동에 따른 격자 패턴의 위치 정보를 기초로, 카메라(120)의 각 화소로 입사하는 광선의 방향 벡터(v 벡터) 및 측정 대상물(200)의 스케일 인자(scale factor) 중 적어도 하나를 교정할 수 있다.
도 5d를 참조하면, 카메라 교정부(310)는 이상적 격자 패턴 구조체(311)를 linear stage를 통해 수평 방향으로 일정 거리만큼 이동시키며, 각 격자의 위치 이동에 따른 방향 벡터를 획득할 수 있다. 여기에서, 도출된 방향 벡터를 기초로 카메라(120)로 입사되는 광선의 방향 벡터(v 벡터)를 교정할 수 있으며, 촬영되는 격자의 면적을 기초로 하여 카메라(120)의 화각에 따른 스케일 인자를 교정할 수 있다.
일 실시예에서, 카메라 교정부(310)는 기정의된 배율의 현미경(미도시)을 이용하여 스크린(110)을 구성하는 복수의 픽셀들이 확대 촬영되면, 확대 촬영 결과를 기초로 스크린(110)을 구성하는 복수의 픽셀들의 피치(pitch)를 교정할 수 있다. (스크린(110)에 대한 교정 과정은 설명의 편의를 위하여 카메라 교정 과정에 포함하여 설명함)
도 5e는 현미경을 통하여 상이한 복수의 스크린을 확대촬영한 것으로, 각 스크린 마다 픽셀들이 상이하게 배치되는 것을 확인할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 스크린(110) 화소의 배치 불규칙성에 의한 영향을 배제하기 위하여, 현미경을 통해 표면 검사 장치(100)에 구성되는 스크린(110)을 확대촬영하고, 촬영 영상을 기초로 픽셀들의 피치를 보정할 수 있다.
이상에서 설명한 카메라(110) 및 스크린(120)의 교정 과정을 통하여, 상기 오차 인자들 중, ① 카메라(120)의 왜곡(distortion) 및 기타 수차(aberrations), ③ 스크린(110)의 화소 배치 불규칙성(irregularity) 및 ⑦ 카메라(120)의 화각에 따른 측정 대상물(200)의 스케일 인자(scale factor) 오차가 제거될 수 있다.
표면 검사 장치(100)는 참조 기준면(reference flat)이 측정 위치에 배치되면, 참조 기준면의 표면 형상을 측정하는 가-측정을 수행한다(단계 S420).
여기에서, 참조 기준면은 잘 정의된(well defined) 표면 프로파일을 가지는, 측정 대상물(200)과 구별되는 별도의 구조체에 형성되는 표면에 해당할 수 있다. 일 실시예에서, 참조 기준면은 기정의된 표면 형상 정보를 가지는 구조체의 표면 또는 기측정된 표면 형상 정보를 가지는 구조체의 표면에 해당할 수 있다.
한편, 이하 설명에서는 참조 기준면이 평면 구조체의 표면에 해당하는 것을 예시로서 설명하나, 이러한 예시는 본 발명의 권리범위를 한정하고자 하는 것은 아니다. 즉, 본 발명에서 기술하는 참조 기준면은 평면 이외에 곡면으로도 변경될 수 있으며, 기정의되거나 또는 기측정된 표면 형상 정보를 가지는 구조체의 표면이라면, 그 표면의 형상에 한정되지 않고 본 발명에 따른 참조 기준면에 해당하는 것으로 해석되어야 할 것이다.
도 6을 참조하면, 참조 기준면(500)은 측정 대상물(200)의 형상 측정 과정 이전에측정 위치에 배치되어 가-측정될 수 있다.
일 실시예에서, 가-측정 과정 이전에, 정렬부(320)는 스크린(110), 카메라(120) 및 참조 기준면(500) 중 적어도 하나에 대한 방향 또는 변위를 정렬할 수 있다.
일 실시예에서, 도 6a에 도시된 바와 같이, 정렬부(320)는 참조 기준면(500)이 측정 위치에 배치되면, 스크린(110)에 의하여 출력되는 패턴광의 중심과 참조 기준면(500)의 중심과 카메라(120)의 중심이 일치되도록 스크린(110), 카메라(120) 및 참조 기준면(500) 중 적어도 하나에 대한 방향 또는 변위를 정렬할 수 있다.
다른 일 실시예에서, 정렬부(320)는 참조 기준면(500)이 측정 위치에 배치되면 참조 기준면(500)을 이용한 크로스헤어 패턴(crosshair pattern) 정렬을 통해 각 구성 중 일부에 대한 방향 또는 변위를 정렬할 수 있다.
도 6b를 참조하면, (a)에 도시된 바와 같이, 스크린(110)은 크로스 헤어 패턴을 참조 기준면(500)을 향해 출력하고, 카메라(120)는 참조 기준면(500)을 촬영할 수 있다. 여기에서, (b)에 도시된 바와 같이, 정렬부(320)는 촬영 이미지를 기초로 크로스 해어 패턴 정렬을 수행하여 카메라 이미지의 중심(Center of camera image)과 반사된 크로스 헤어 패턴(reflected crosshair pattern)을 일치시키는 교정을 수행할 수 있다.
이상에서 설명한 정렬 과정을 통하여, 상기 오차 인자들 중, ④ 스크린(110)의 방향(orientation) 및 정렬 오차 및 ⑤ 스크린(110)을 P1에서 P2로 이동할 때의 변위 오차(크기, 방향)가 제거될 수 있다.
정렬부(320)에 의한 정렬 과정 이후, 표면 검사 장치(100)는 위상측정 광선편향법을 이용하여 참조 기준면(500)의 표면 형상을 측정하는 가-측정 과정을 수행할 수 있다.
도 6c를 참조하면, 스크린(110)은 P1 및 P2 각각의 위치에서 기정의된 패턴광을 위상 천이하여 참조 기준면(500)으로 출력할 수 있다. 이후, 카메라(120)는 참조 기준면(500)으로부터 반사되는 반사광을 측정(도 6c의 (a), (b))할 수 있다. 이후, 형상 측정 장치(130)는 측정된 반사광을 기초로 기정의된 알고리즘에 따라 참조 기준면(500)의 표면 형상 정보(도 6c의 (c))를 생성할 수 있다.
이후, 정렬부(320)는 형상 측정 기준면(reference plane)을 정의하고, 측정 대상물(200)을 측정 위치에 배치하여, 정의된 형상 측정 기준면에 따라 측정 대상물(200)을 정렬할 수 있다(단계 S430). 여기에서, 형상 측정 기준면은 가-측정 과정에서 참조 기준면(500)이 정렬된 위치 및 방향에 의하여 결정되는 기준면을 의미할 수 있다.
일 실시예에서, 도 7 a를 참조하면, 정렬부(320)는 측정 대상물(200)이 측정 위치에 배치되면, 스크린(110)에 의하여 출력되는 패턴광의 중심과 측정 대상물(200)의 중심과 카메라(120)의 중심이 일치되도록 스크린(110), 카메라(120) 및 측정 대상물(200) 중 적어도 하나에 대한 방향 또는 변위를 정렬할 수 있다.
다른 일 실시예에서, 정렬부(320)는 측정 대상물(200)이 측정 위치에 배치되면, 크로스헤어 패턴(crosshair pattern) 정렬을 통해 각 구성 중 일부에 대한 방향 또는 변위를 정렬할 수 있다.
도 7b를 참조하면, (a)에 도시된 바와 같이, 스크린(110)은 크로스 헤어 패턴을 측정 대상물(200)을 향해 출력하고, 카메라(120)는 측정 대상물(200)을 촬영할 수 있다. 여기에서, (b)에 도시된 바와 같이, 정렬부(320)는 촬영 이미지를 기초로 크로스 해어 패턴 정렬을 수행하여 카메라 이미지의 중심(Center of camera image)과 반사된 크로스 헤어 패턴(reflected crosshair pattern)을 일치시키는 교정을 수행할 수 있다.
이후, 표면 검사 장치(100)는 정렬된 측정 대상물(200)의 표면 형상을 측정하는 실-측정을 수행한다(단계 S440).
도 8을 참조하면, 스크린(110)은 P1 및 P2 각각의 위치에서 기정의된 패턴광을 위상 천이하여 측정 대상물(200)로 출력할 수 있다. 이후, 카메라(120)는 측정 대상물(200)로부터 반사되는 반사광을 측정(도 8의 (a), (b))할 수 있다. 이후, 형상 측정 장치(130)는 측정된 반사광을 기초로 기정의된 알고리즘에 따라 측정 대상물(200)의 표면 형상 정보(도 8의 (c))를 생성할 수 있다.
일 실시예에서, 표면 형상 정보 보정부(330)는 참조 기준면(500)의 이상적 표면 형상 정보를 획득하고, 가-측정에 의한 참조 기준면(500)의 표면 형상 정보와 이상적 표면 형상 정보의 차분값(difference)을 도출할 수 있다. 여기에서, 표면 형상 정보 보정부(330)는 도출된 차분값을 기초로 실-측정에 의한 측정 대상물(200)의 표면 형상 정보를 보정할 수 있다.
본 발명에서 기술하는 참조 기준면(500)의 이상적 표면 형상 정보는 위상측정 광선편향법 보다 높은 정확도를 가지는 방식에 의하여 획득되는 3차원 표면 형상 정보를 의미하는 것으로, 예를 들어, 간섭계를 이용하여 획득된 참조 기준면(500)에 대한 3차원 표면 형상 정보를 의미할 수 있다. 즉, 가-측정에 의한 참조 기준면(500)의 표면 형상 정보와 이상적 표면 형상 정보의 차분값(difference)은 표면 검사 장치(100) 자체의 특성에 따른 오차를 나타내며, 실-측정에 의한 측정 대상물(200)의 표면 형상 정보에서, 참조 기준면(500)의 가-측정 결과 및 이상적 표면 형상 정보의 차분값을 제거하면, 표면 검사 장치(100) 자체의 특성에 따른 오차를 제거할 수 있는 것이다.
또한, 상술한 측정 대상물(200)의 정렬 과정 및 표면 형상 정보 보정 과정을 통하여, 상기 오차 인자들 중, ② 카메라(120)의 초점 심도(depth of focus)로 인한 이미지 품질 저하(blurred image) 및 ⑥ 측정 대상물(200)의 방향 및 정렬오차를 제거할 수 있다.
이상에서 설명한 위상측정 편향법을 이용한 표면 검사 장치(100)의 교정 기술은 상기에서 기술한 ① 내지 ⑦의 오차 인자를 제거할 수 있으며, 상술한 교정 방법을 반복하여 평균값을 도출하는 경우 측정 정확도를 더욱 높일 수 있을 것이다.
본 발명에 따르면, 위상측정 광선편향법이 가지는 측정 정확도의 한계를 극복하여, 마이크로미터 이하 수준의 해상도로 대면적의 측정 대상물을 고속으로 측정할 수 있어, 대면적 광학계의 설계 과정에서 충분히 활용될 수 있다.
상기한 본 발명의 바람직한 실시예는 예시의 목적을 위해 개시된 것이고, 본 발명에 대해 통상의 지식을 가진 당업자라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경, 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정, 변경 및 부가는 하기의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.
10 : 표면 검사 시스템
100: 표면 검사 장치
110: 스크린
120: 카메라
130: 형상 측정 장치
200: 측정 대상물
300: 교정 장치
310: 카메라 교정부
311: 이상적 격자 패턴 구조체
320: 정렬부
330: 표면 형상 정보 보정부
340: 제어부
500: 참조 기준면
100: 표면 검사 장치
110: 스크린
120: 카메라
130: 형상 측정 장치
200: 측정 대상물
300: 교정 장치
310: 카메라 교정부
311: 이상적 격자 패턴 구조체
320: 정렬부
330: 표면 형상 정보 보정부
340: 제어부
500: 참조 기준면
Claims (13)
- 스크린, 카메라 및 형상 측정 장치를 포함하며, 위상측정 광선편향법을 이용하여 측정 대상물의 표면 형상을 측정하는 표면 검사 장치의 교정 방법에 있어서,
이상적 격자 패턴(ideal grid pattern) 구조체를 이용하여 상기 카메라에 의하여 발생되는 오차 인자를 교정하는 카메라 교정 단계;
참조 기준면(reference flat)을 측정 위치에 배치하고, 상기 표면 검사 장치를 통해 상기 참조 기준면의 표면 형상을 측정하는 가-측정 단계;
상기 참조 기준면을 기초로 형상 측정 기준면(reference plane)을 정의하고, 상기 측정 대상물을 상기 측정 위치에 배치하여 상기 정의된 형상 측정 기준면에 따라 정렬하는 측정 대상물 정렬 단계; 및
상기 표면 검사 장치를 통해 상기 정렬된 측정 대상물의 표면 형상을 측정하는 실-측정 단계;
를 포함하는 표면 검사 장치의 교정 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 카메라 교정 단계는
상기 이상적 격자 패턴 구조체를 상기 카메라로 촬영하고, 촬영된 격자 패턴의 왜곡 정보를 기초로 상기 카메라의 반경 수차(radial distortion)을 교정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 검사 장치의 교정 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 카메라 교정 단계는
상기 이상적 격자 패턴 구조체를 기설정된 거리만큼 위치 이동시키고, 상기 상기 이상적 격자 패턴 구조체의 위치 이동에 따른 격자 패턴의 위치 정보를 기초로, 상기 카메라의 각 화소로 입사하는 광선의 방향 벡터 및 상기 측정 대상물의 스케일 인자(scale factor) 중 적어도 하나를 교정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 검사 장치의 교정 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 표면 검사 장치의 교정 방법은
상기 카메라 교정 단계 이후에, 기정의된 배율의 현미경을 이용하여 상기 스크린을 구성하는 복수의 픽셀들을 확대 촬영하고, 확대 촬영 결과를 기초로 상기 스크린을 구성하는 복수의 픽셀들의 피치(pitch)를 교정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 검사 장치의 교정 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 가-측정 단계는
상기 참조 기준면을 상기 측정 위치에 배치하고, 상기 참조 기준면을 이용한 크로스헤어 패턴(crosshair pattern) 정렬을 통해 상기 스크린, 카메라 및 참조 기준면 중 적어도 하나에 대한 방향 또는 변위를 정렬한 이후, 위상측정 광선편향법을 이용하여 상기 참조 기준면의 표면 형상을 측정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 검사 장치의 교정 방법.
- 제5항에 있어서, 상기 참조 기준면의 표면 형상을 측정하는 단계는
상기 스크린을 이용해, 기정의된 패턴광을 위상 천이하여 상기 참조 기준면으로 출력하는 단계;
상기 카메라를 이용해, 상기 참조 기준면으로부터 반사되는 반사광을 측정하는 단계; 및
상기 형상 측정 장치를 이용해, 상기 측정된 반사광을 기초로 상기 참조 기준면의 표면 형상 정보를 생성하는 단계;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 검사 장치의 교정 방법.
- 제6항에 있어서, 상기 표면 검사 장치의 교정 방법은
상기 참조 기준면의 이상적 표면 형상 정보를 획득하고, 상기 가-측정에 의한 참조 기준면의 표면 형상 정보와 상기 이상적 표면 형상 정보의 차분값(difference)을 기초로, 상기 실-측정에 의한 상기 측정 대상물의 표면 형상 정보를 보정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 검사 장치의 교정 방법.
- 기정의된 패턴광을 위상 천이하여 측정 대상물로 출력하는 스크린, 상기 측정 대상물로부터 반사되는 반사광을 측정하는 카메라 및 상기 측정된 반사광을 기초로 상기 측정 대상물의 표면 형상 정보를 생성하는 형상 측정 장치를 포함하며, 위상측정 광선편향법을 이용해 상기 측정 대상물의 표면 형상을 측정하는 표면 검사 장치; 및
상기 표면 검사 장치를 통한 표면 형상 측정 과정에서 발생하는 오차 인자를 교정하는 교정 장치;
를 포함하고,
상기 교정 장치는
이상적 격자 패턴(ideal grid pattern) 구조체를 이용하여 상기 카메라에 의하여 발생되는 오차 인자를 교정하는 카메라 교정부를 포함하며,
상기 표면 검사 장치는
참조 기준면(reference flat)이 측정 위치에 배치되면, 상기 참조 기준면의 표면 형상을 측정하는 가-측정을 수행하는 표면 검사 장치의 교정 시스템.
- 삭제
- 삭제
- 제8항에 있어서, 상기 교정 장치는
상기 참조 기준면을 기초로 형상 측정 기준면(reference plane)을 정의하고, 상기 측정 대상물을 상기 측정 위치에 배치하여 상기 정의된 형상 측정 기준면에 따라 정렬하는 정렬부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 검사 장치의 교정 시스템.
- 제11항에 있어서, 상기 표면 검사 장치는
상기 정렬된 측정 대상물의 표면 형상을 측정하는 실-측정을 수행하는 것을 특징으로 하는 표면 검사 장치의 교정 시스템.
- 제12항에 있어서, 상기 교정 장치는
상기 참조 기준면의 이상적 표면 형상 정보를 획득하고, 상기 가-측정에 의한 참조 기준면의 표면 형상 정보와 상기 이상적 표면 형상 정보의 차분값(difference)을 기초로, 상기 실-측정에 의한 상기 측정 대상물의 표면 형상 정보를 보정하는 표면 형상 정보 보정부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 검사 장치의 교정 시스템.
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113218625A (zh) * | 2021-03-05 | 2021-08-06 | 香港理工大学深圳研究院 | 一种基于几何相位超构表面的标准相位检测元件 |
| CN115164778A (zh) * | 2022-07-07 | 2022-10-11 | 四川大学 | 基于偏折术测量大口径光学元件重力形变的装置及方法 |
| KR20220154474A (ko) | 2021-05-13 | 2022-11-22 | (주)피아이이 | 3d 이미지 결함 측정 시스템 및 방법 |
| KR20230108619A (ko) * | 2022-01-11 | 2023-07-18 | 한국기초과학지원연구원 | 위상측정 광선편향법을 이용한 표면 검사 장치의 교정 방법 및 시스템 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009069135A (ja) * | 2007-09-14 | 2009-04-02 | Minoru Ito | 撮像系校正装置と記録媒体 |
-
2016
- 2016-11-10 KR KR1020160149670A patent/KR101833245B1/ko active Active
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009069135A (ja) * | 2007-09-14 | 2009-04-02 | Minoru Ito | 撮像系校正装置と記録媒体 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113218625A (zh) * | 2021-03-05 | 2021-08-06 | 香港理工大学深圳研究院 | 一种基于几何相位超构表面的标准相位检测元件 |
| CN113218625B (zh) * | 2021-03-05 | 2023-11-17 | 香港理工大学深圳研究院 | 一种基于几何相位超构表面的标准相位检测元件 |
| KR20220154474A (ko) | 2021-05-13 | 2022-11-22 | (주)피아이이 | 3d 이미지 결함 측정 시스템 및 방법 |
| KR20230108619A (ko) * | 2022-01-11 | 2023-07-18 | 한국기초과학지원연구원 | 위상측정 광선편향법을 이용한 표면 검사 장치의 교정 방법 및 시스템 |
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