JP2006312751A - 樹脂組成物、プリプレグ及びそれを用いた銅張積層板 - Google Patents
樹脂組成物、プリプレグ及びそれを用いた銅張積層板 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006312751A JP2006312751A JP2006217978A JP2006217978A JP2006312751A JP 2006312751 A JP2006312751 A JP 2006312751A JP 2006217978 A JP2006217978 A JP 2006217978A JP 2006217978 A JP2006217978 A JP 2006217978A JP 2006312751 A JP2006312751 A JP 2006312751A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin composition
- resin
- prepreg
- inorganic filler
- copper
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 34
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 40
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 40
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims abstract description 19
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M cyanate Chemical compound [O-]C#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 21
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 claims description 15
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 claims description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 7
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 7
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 5
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 claims description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims 1
- -1 phosphorus compound Chemical class 0.000 abstract description 8
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 abstract description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 abstract 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 6
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 5
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 4
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 4
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 3
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 3
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N Nonylphenol Natural products CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- GEMHFKXPOCTAIP-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-n'-phenylcarbamimidoyl chloride Chemical compound CN(C)C(Cl)=NC1=CC=CC=C1 GEMHFKXPOCTAIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- RUEBPOOTFCZRBC-UHFFFAOYSA-N (5-methyl-2-phenyl-1h-imidazol-4-yl)methanol Chemical compound OCC1=C(C)NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 RUEBPOOTFCZRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVCUKHQDEZNNOC-UHFFFAOYSA-N 1,2-diazabicyclo[2.2.2]octane Chemical compound C1CC2CCN1NC2 QVCUKHQDEZNNOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003261 Durez Polymers 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUQQGGWZVKUCBD-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)-2-phenyl-1h-imidazol-5-yl]methanol Chemical compound N1C(CO)=C(CO)N=C1C1=CC=CC=C1 UUQQGGWZVKUCBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002013 dioxins Chemical class 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 1
- JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N glycolonitrile Natural products N#CC#N JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000007561 laser diffraction method Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N methylimidazole Natural products CC1=CNC=N1 XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- WSFQLUVWDKCYSW-UHFFFAOYSA-M sodium;2-hydroxy-3-morpholin-4-ylpropane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)CC(O)CN1CCOCC1 WSFQLUVWDKCYSW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003856 thermoforming Methods 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Reinforced Plastic Materials (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
【解決手段】硬化後の−65〜220℃の線膨張係数が10〜80ppmである熱硬化性樹脂と無機充填材とを必須成分として含有することを特徴とする樹脂組成物である。
【選択図】なし
Description
[実施例]
(実施例1)
ノボラック型シアネート樹脂(ロンザジャパン株式会社製PT60、数平均分子量800)63.5重量部(以下、部と略す)をメチルエチルケトンに常温で溶解し、球状溶融シリカSO−25R (株式会社アドマテックス製)35部を添加し、高速攪拌機を用いて10分攪拌した。調製したワニスをガラスクロス(厚さ200μm、日東紡績製、WEA−7628)に含浸し、120℃の加熱炉で2分乾燥してワニス固形分(プリプレグ中に樹脂とシリカの占める成分)が約50%のプリプレグを得た。このプリプレグを所定枚数重ね、両面に18μmの銅箔を重ねて、圧力4MPa、温度220℃で1時間加熱加圧成形を行い、250℃の乾燥機で窒素雰囲気下1時間後硬化することによって両面銅張積層板を得た。
(1)ガラス転移温度
厚さ0.6mmの両面銅張積層板を全面エッチングし、得られた積層板から10mm×60mmのテストピースを切り出し、TAインスツルメント社製動的粘弾性測定装置DMA983を用いて3℃/分で昇温し、tanδのピーク位置をガラス転移温度とした。
厚さ1.2mmの両面銅張積層板を全面エッチングし、得られた積層板から2mm×2mmのテストピースを切り出し、TMAを用いて厚み方向(Z方向)の線膨張係数を5℃/分で測定した。
UL−94規格に従い、1mm厚のテストピースを垂直法により測定した。
厚さ0.6mmの両面銅張積層板から50mm×50mmに切り出し、JIS6481に従い半面エッチングを行ってテストピースを作成した。125℃のプレッシャークッカーで処理した後、260℃のはんだ槽に銅箔面を下にして浮かべ、180秒後にフクレが発生する処理時間を計測した。
表1及び表2に示す配合にて、実施例1と同様の方法で両面銅張積層板を得た。評価方法も前述の通りである。
1)SO−25R:株式会社アドマテックス製
2)SO−32R:株式会社アドマテックス製
3)SFP−10X:電気化学工業株式会社製
4)FB−5SDX:電気化学工業株式会社製
5)MAC−2101:日本ユニカー株式会社製
6)A−187:日本ユニカー株式会社製
7)KR−46B:味の素テクノファイン株式会社製
8)PR−51714:住友デュレズ株式会社製
9)2P4MHZ:四国化成工業株式会社製
10)ナフテン酸コバルト:和光純薬工業株式会社製
11)ノニルフェノール:和光純薬工業株式会社製
12)Primaset PT−15:ロンザジャパン株式会社製
13)Primaset PT−30:ロンザジャパン株式会社製
14)Primaset PT−60:ロンザジャパン株式会社製
15)エピコート4275:ジャパンエポキシレジン株式会社製
16)エピコート5047B75:ジャパンエポキシレジン株式会社製
17)エピコート180S65:ジャパンエポキシレジン株式会社
18)ジシアンジアミド:日本カーバイド工業株式会社製
19)2MZ:四国化成工業株式会社製
20)AroCy B−30:旭化成エポキシ株式会社製
Claims (9)
- 硬化後の−65〜220℃の線膨張係数が10〜80ppmである熱硬化性樹脂と無機充填材とを必須成分として含有することを特徴とする樹脂組成物。
- ノボラック型シアネート樹脂及び/またはそのプレポリマーと無機充填材とを必須成分として含有することを特徴とする樹脂組成物。
- ノボラック型シアネート樹脂及び/またはそのプレポリマーが、数平均分子量260〜900のノボラック型シアネート樹脂及び/または数平均分子量260〜600のノボラック型シアネート樹脂のプレポリマーであることを特徴とする請求項2記載の樹脂組成物。
- 無機充填材が、平均粒径2μm以下の球状溶融シリカであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか記載の樹脂組成物。
- 無機充填材の含有量が、樹脂組成物中30〜80重量%であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか記載の樹脂組成物。
- フェノールノボラック樹脂を硬化促進剤として含有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか記載の樹脂組成物。
- エポキシシランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アミノシランカップリング剤及びシリコーンオイル型カップリング剤の中から選ばれる1種以上のカップリング剤を含有することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか記載の樹脂組成物。
- 請求項1乃至7のいずれか記載の樹脂組成物を基材に含浸、乾燥してなることを特徴とするプリプレグ。
- 請求項8記載のプリプレグを加熱成形してなることを特徴とする銅張積層板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006217978A JP2006312751A (ja) | 2006-08-10 | 2006-08-10 | 樹脂組成物、プリプレグ及びそれを用いた銅張積層板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006217978A JP2006312751A (ja) | 2006-08-10 | 2006-08-10 | 樹脂組成物、プリプレグ及びそれを用いた銅張積層板 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001086596A Division JP4132703B2 (ja) | 2001-03-26 | 2001-03-26 | 銅張積層板用プリプレグ及びそれを用いた銅張積層板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006312751A true JP2006312751A (ja) | 2006-11-16 |
JP2006312751A5 JP2006312751A5 (ja) | 2008-10-23 |
Family
ID=37534356
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006217978A Pending JP2006312751A (ja) | 2006-08-10 | 2006-08-10 | 樹脂組成物、プリプレグ及びそれを用いた銅張積層板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006312751A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008130796A (ja) * | 2006-11-21 | 2008-06-05 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 多層プリント配線板用絶縁樹脂組成物、基材付き絶縁シート、多層プリント配線板及び半導体装置 |
WO2009028493A1 (ja) * | 2007-08-28 | 2009-03-05 | Sumitomo Bakelite Company, Ltd. | 多層プリント配線板用絶縁樹脂組成物、基材付き絶縁樹脂シート、多層プリント配線板及び半導体装置 |
JP2009167268A (ja) * | 2008-01-15 | 2009-07-30 | Hitachi Chem Co Ltd | 低熱膨張性低誘電損失プリプレグ及びその応用品 |
JP2012054573A (ja) * | 2011-10-11 | 2012-03-15 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 多層プリント配線板用絶縁樹脂組成物、基材付き絶縁シート、多層プリント配線板及び半導体装置 |
JP2014111719A (ja) * | 2012-11-12 | 2014-06-19 | Panasonic Corp | 積層板、金属張積層板、プリント配線板、多層プリント配線板 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0484489A (ja) * | 1990-07-27 | 1992-03-17 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 表面平滑金属箔張積層板 |
JPH0786710A (ja) * | 1993-09-14 | 1995-03-31 | Hitachi Ltd | 積層板及び多層プリント回路板 |
JPH10173097A (ja) * | 1996-10-09 | 1998-06-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 熱伝導基板用シート状物とその製造方法及びそれを用いた熱伝導基板とその製造方法 |
JPH11124433A (ja) * | 1997-10-22 | 1999-05-11 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | フェノールノボラック型シアン酸エステルプレポリマー |
-
2006
- 2006-08-10 JP JP2006217978A patent/JP2006312751A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0484489A (ja) * | 1990-07-27 | 1992-03-17 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 表面平滑金属箔張積層板 |
JPH0786710A (ja) * | 1993-09-14 | 1995-03-31 | Hitachi Ltd | 積層板及び多層プリント回路板 |
JPH10173097A (ja) * | 1996-10-09 | 1998-06-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 熱伝導基板用シート状物とその製造方法及びそれを用いた熱伝導基板とその製造方法 |
JPH11124433A (ja) * | 1997-10-22 | 1999-05-11 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | フェノールノボラック型シアン酸エステルプレポリマー |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008130796A (ja) * | 2006-11-21 | 2008-06-05 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 多層プリント配線板用絶縁樹脂組成物、基材付き絶縁シート、多層プリント配線板及び半導体装置 |
WO2009028493A1 (ja) * | 2007-08-28 | 2009-03-05 | Sumitomo Bakelite Company, Ltd. | 多層プリント配線板用絶縁樹脂組成物、基材付き絶縁樹脂シート、多層プリント配線板及び半導体装置 |
JP2009167268A (ja) * | 2008-01-15 | 2009-07-30 | Hitachi Chem Co Ltd | 低熱膨張性低誘電損失プリプレグ及びその応用品 |
JP2012054573A (ja) * | 2011-10-11 | 2012-03-15 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 多層プリント配線板用絶縁樹脂組成物、基材付き絶縁シート、多層プリント配線板及び半導体装置 |
JP2014111719A (ja) * | 2012-11-12 | 2014-06-19 | Panasonic Corp | 積層板、金属張積層板、プリント配線板、多層プリント配線板 |
KR20170094111A (ko) * | 2012-11-12 | 2017-08-17 | 파나소닉 아이피 매니지먼트 가부시키가이샤 | 적층판, 금속박 적층판, 인쇄 배선판, 다층 인쇄 배선판 |
KR101865286B1 (ko) * | 2012-11-12 | 2018-06-07 | 파나소닉 아이피 매니지먼트 가부시키가이샤 | 적층판, 금속박 적층판, 인쇄 배선판, 다층 인쇄 배선판 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101502653B1 (ko) | 적층판, 회로판 및 반도체 장치 | |
JP4132703B2 (ja) | 銅張積層板用プリプレグ及びそれを用いた銅張積層板 | |
JP3821728B2 (ja) | プリプレグ | |
JP5303826B2 (ja) | 樹脂組成物、プリプレグ及びそれを用いたプリント配線板 | |
JP4322463B2 (ja) | 銅張積層板用プリプレグおよび銅張積層板 | |
JP2006312751A (ja) | 樹脂組成物、プリプレグ及びそれを用いた銅張積層板 | |
WO2015072261A1 (ja) | 樹脂層付きキャリア材料、積層体、回路基板および電子装置 | |
JP4132755B2 (ja) | 樹脂組成物、プリプレグ及びそれを用いたプリント配線板 | |
JP2004277671A (ja) | プリプレグおよびそれを用いたプリント配線板 | |
JP2003213019A (ja) | プリプレグ及びそれを用いたプリント配線板 | |
JP2007043184A (ja) | 多層プリント配線板用銅箔付き絶縁シートおよびそれを用いたプリント配線板 | |
JP5428212B2 (ja) | 樹脂組成物、プリプレグおよびそれを用いたプリント配線板 | |
JP2007002071A (ja) | プリプレグ、回路基板および半導体装置 | |
JP2002299834A (ja) | 多層プリント配線板用銅箔付き絶縁シートおよびそれを用いたプリント配線板 | |
JP4714970B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物、プリプレグ及びそれを用いた銅張積層板 | |
JP4639439B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物、プリプレグ及びそれを用いた銅張積層板 | |
JP2005209489A (ja) | 絶縁シート | |
JP5448414B2 (ja) | 樹脂組成物、プリプレグ、積層板、多層プリント配線板、及び半導体装置 | |
JP4150178B2 (ja) | 樹脂組成物、プリプレグ及びそれを用いたプリント配線板 | |
JP5476772B2 (ja) | プリプレグおよび積層板 | |
JP2002060468A (ja) | エポキシ樹脂組成物、プリプレグ及びそれを用いた銅張積層板 | |
JP4501475B2 (ja) | 絶縁層付き金属箔及び多層プリント配線板 | |
JP4156180B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物、プリプレグ及びそれを用いた銅張積層板 | |
JP4517699B2 (ja) | 樹脂組成物、プリプレグおよび積層板 | |
JP5835401B2 (ja) | プリプレグ、回路基板および半導体装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20080318 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080905 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110622 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20110809 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111011 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111129 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111227 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120313 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20120612 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20120622 |
|
A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Effective date: 20120803 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130917 |