JP2006255499A - フッ素含有排水の処理方法及び処理装置 - Google Patents
フッ素含有排水の処理方法及び処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006255499A JP2006255499A JP2005072593A JP2005072593A JP2006255499A JP 2006255499 A JP2006255499 A JP 2006255499A JP 2005072593 A JP2005072593 A JP 2005072593A JP 2005072593 A JP2005072593 A JP 2005072593A JP 2006255499 A JP2006255499 A JP 2006255499A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sludge
- fluorine
- water
- containing wastewater
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Separation Of Suspended Particles By Flocculating Agents (AREA)
- Removal Of Specific Substances (AREA)
Abstract
【解決手段】フッ素含有排水にカルシウム化合物とリン酸又はその水溶性塩を添加してpH5〜10で反応させる反応工程、反応工程後の水に高分子凝集剤を添加する凝集工程、凝集工程後の凝集フロックを含有する水を固液分離する工程、及び、固液分離された汚泥の一部を反応工程に返送する汚泥返送工程を有するフッ素含有排水の処理方法において、あらかじめ汚泥返送工程の返送汚泥にカルシウム化合物とアルカリを添加して反応工程に返送するフッ素含有排水の処理方法、並びに、反応槽、リン供給手段、凝集槽、固液分離装置、混合槽及び汚泥返送路を有するフッ素含有排水の処理装置。
【選択図】図1
Description
(1)フッ素含有排水にカルシウム化合物とリン酸又はその水溶性塩を添加してpH5〜10で反応させる反応工程、反応工程後の水に高分子凝集剤を添加する凝集工程、凝集工程後の凝集フロックを含有する水を固液分離する工程、及び、固液分離された汚泥の一部を反応工程に返送する汚泥返送工程を有するフッ素含有排水の処理方法において、あらかじめ汚泥返送工程の返送汚泥にカルシウム化合物とアルカリを添加して反応工程に返送することを特徴とするフッ素含有排水の処理方法、
(2)フッ素含有排水をカルシウム化合物で処理してフッ素をフッ化カルシウムとして除去する工程、該工程の一次処理水にカルシウム化合物とリン酸又はその水溶性塩を添加してpH5〜10で反応させる反応工程、反応工程後の水に高分子凝集剤を添加する凝集工程、凝集工程後の凝集フロックを含有する水を固液分離する工程、及び、固液分離された汚泥の一部を反応工程に返送する汚泥返送工程を有するフッ素含有排水の処理方法において、あらかじめ汚泥返送工程の返送汚泥にカルシウム化合物とアルカリを添加して反応工程に返送することを特徴とするフッ素含有排水の処理方法、
(3)反応工程の汚泥濃度を0.1〜5重量%とする(1)又は(2)記載のフッ素含有排水の処理方法、
(4)反応槽にあらかじめ種晶を添加する(1)ないし(3)のいずれか1項に記載のフッ素含有排水の処理方法、
(5)種晶が、アパタイト構造を有するカルシウムのリン酸塩である(4)記載のフッ素含有排水の処理方法、及び、
(6)フッ素含有排水を導入し、排水中のフッ素をフルオロアパタイトにする反応槽、反応槽にリン酸又はその水溶性塩を添加するリン供給手段、反応槽流出水に高分子凝集剤を添加して凝集処理する凝集槽、凝集フロックを含有する凝集槽流出水を処理水と汚泥とに固液分離する固液分離装置、固液分離された汚泥の一部にカルシウム化合物とアルカリを混合する混合槽、及び、混合槽の混合汚泥を反応槽に返送する汚泥返送路を有するフッ素含有排水の処理装置、
を提供するものである。
汚泥返送比 = (返送汚泥の量)/(沈殿池から抜き出した汚泥の量−返送汚泥の量)
反応工程の汚泥濃度が0.1重量%未満であると、カルシウムが表面に吸着される懸濁物質粒子の量が少なく、フルオロアパタイトを生成する反応が汚泥粒子の表面で局在化して起こらず、ゲル中への水の巻き込みが多くなるおそれがある。反応工程の汚泥濃度が5重量%を超えると、結晶性が進みすぎ、汚泥の粒子が小さくなってしまうために、沈殿池で十分に固液分離することができない微細結晶が増加するとともに、汚泥を返送するための消費動力が過大になるおそれがある。
なお、実施例及び比較例において、フッ化物イオン濃度は、JIS K 0102 34.2にしたがい、イオンメーター[(株)堀場製作所、F−23]を用いて測定した。リン濃度は、JIS K 0102 46.3.1にしたがい、ペルオキソ二硫酸カリウム分解法により測定した。汚泥含水率は、汚泥約10gを秤取し、遠心分離機[(株)コクサン、H−103N]を用いて、3,000rpmで60秒脱水して上澄水を取り除き、得られたケーキを汚泥乾燥機[栗田工業(株)、クリケット]を用いて110℃で1時間乾燥し、乾燥重量を測定して算出した。
また、汚泥返送比Rは、(返送汚泥のSS量)/(原SS量) により算出した。返送汚泥のSS量は、(返送汚泥量)×(返送汚泥のSS濃度) である。原SS量は、返送汚泥なしで発生するSS量であり、返送汚泥がないときの (反応槽出口のSS濃度)×(原水流量) である。
図1に示す装置を用いて、半導体製造工場から排出されるフッ化物イオン濃度15.0mgF-/L、pH6.4、電気伝導率30mS/mのフッ素含有排水の処理を行った。フッ素含有排水の通水量3L/hで装置に供給し、各槽の液量は、反応槽1L、凝集槽1L、混合槽0.3Lとし、沈殿池の水面積負荷は1mとした。
供給するフッ素含有排水1Lに対し、反応槽において、リン酸320mg/Lを添加し、凝集槽において、高分子凝集剤[栗田工業(株)、アニオンポリマーPA311]3mg/Lを添加した。汚泥返送比2で処理を行い、混合槽において、水酸化カルシウム350mg/Lを添加して返送汚泥と混合した。なお、反応槽に塩酸を添加してpHを8.0に調整した。定常状態に達したとき、反応槽の汚泥濃度は0.10重量%であり、処理水のフッ化物イオン濃度は0.3mgF-/L、リン濃度は0.4mgP/Lであり、汚泥含水率は55重量%であった。
実施例2
汚泥返送比を20とし、反応槽のpHを8.1に調整した以外は、実施例1と同様にしてフッ素含有排水を処理した。定常状態に達したとき、反応槽の汚泥濃度は0.96重量%であり、処理水のフッ化物イオン濃度は0.1mgF-/L未満、リン濃度は0.2mgP/Lであり、汚泥含水率は48重量%であった。
実施例3
汚泥返送比を50とし、反応槽のpHを8.2に調整した以外は、実施例1と同様にしてフッ素含有排水を処理した。定常状態に達したとき、反応槽の汚泥濃度は2.40重量%であり、処理水のフッ化物イオン濃度は0.1mgF-/L未満、リン濃度は0.2mgP/Lであり、汚泥含水率は50重量%であった。
汚泥返送比を100とした以外は、実施例1と同様にしてフッ素含有排水を処理した。定常状態に達したとき、反応槽の汚泥濃度は4.80重量%であり、処理水のフッ化物イオン濃度は0.2mgF-/L、リン濃度は0.2mgP/Lであり、汚泥含水率は50重量%であった。
実施例5
汚泥返送比を150とし、反応槽のpHを8.2に調整した以外は、実施例1と同様にしてフッ素含有排水を処理した。定常状態に達したとき、反応槽の汚泥濃度は7.20重量%であり、処理水のフッ化物イオン濃度は0.6mgF-/L、リン濃度は0.5mgP/Lであり、汚泥含水率は50重量%であった。
実施例6
汚泥返送比を50とし、反応槽のpHを5.2に調整した以外は、実施例1と同様にしてフッ素含有排水を処理した。定常状態に達したとき、反応槽の汚泥濃度は2.40重量%であり、処理水のフッ化物イオン濃度は0.1mgF-/L未満、リン濃度は9.8mgP/Lであり、汚泥含水率は48重量%であった。
実施例7
汚泥返送比を50とし、反応槽のpHを9.8に調整した以外は、実施例1と同様にしてフッ素含有排水を処理した。定常状態に達したとき、反応槽の汚泥濃度は2.40重量%であり、処理水のフッ化物イオン濃度は0.5mgF-/L、リン濃度は0.1mgP/L未満であり、汚泥含水率は56重量%であった。
汚泥の返送を行わず、反応槽に水酸化カルシウム350mg/Lを添加した以外は、実施例1と同様にしてフッ素含有排水を処理した。定常状態に達したとき、反応槽の汚泥濃度は0.05重量%であり、処理水のフッ化物イオン濃度は1.0mgF-/L、リン濃度は0.2mgP/Lであり、汚泥含水率は62重量%であった。
比較例2
汚泥返送比を50とし、反応槽のpHを4.8に調整した以外は、実施例1と同様にしてフッ素含有排水を処理した。定常状態に達したとき、反応槽の汚泥濃度は2.40重量%であり、処理水のフッ化物イオン濃度は0.3mgF-/L、リン濃度は13.0mgP/Lであり、汚泥含水率は52重量%であった。
比較例3
汚泥返送比を50とし、反応槽のpHを10.1に調整した以外は、実施例1と同様にしてフッ素含有排水を処理した。定常状態に達したとき、反応槽の汚泥濃度は2.40重量%であり、処理水のフッ化物イオン濃度は0.8mgF-/L、リン濃度は0.1mgP/L未満であり、汚泥含水率は60重量%であった。
比較例4
図4に示す装置を用いて、実施例1と同じ半導体製造工場から排出されるフッ素含有排水の処理を行った。原水槽26よりフッ素含有排水を通水量3L/hで装置に供給し、各槽の液量は、第一反応槽27が1L、第二反応槽28が1L、凝集槽29が1Lとし、沈殿池30の水面積負荷は1mとした。
供給するフッ素含有排水1Lに対し、第一反応槽に水酸化カルシウム350mg/L、第二反応槽にリン酸1,060mg/Lを添加し、凝集槽において、高分子凝集剤[栗田工業(株)、アニオンポリマーPA311]3mg/Lを添加した。また、第二反応槽に塩酸を添加してpHを8.1に調整し、沈殿池からの汚泥を汚泥返送比20で第一反応槽に返送した。定常状態に達したとき、反応槽の汚泥濃度は1.02重量%であり、処理水のフッ化物イオン濃度は0.2mgF-/L、リン濃度は0.2mgP/Lであり、汚泥含水率は63重量%であった。
実施例1〜7及び比較例1〜4の結果を、第1表に示す。
実施例1〜7の中では、汚泥濃度0.96〜2.40重量%で処理した実施例2〜3において、特に良好な結果が得られている。汚泥返送比が大きく、汚泥濃度が7.20重量%の実施例5では、フッ化物イオン濃度、リン酸イオン濃度ともにやや高くなる。pH5.2で処理した実施例6では、フッ化物イオン濃度が低く、リン酸イオン濃度が高い。pH9.8で処理した実施例7では、フッ化物イオン濃度がやや高く、リン酸イオン濃度が低い。したがって、求める処理水の水質に応じて、最適なpHを選択し得ることが分かる。
図1に示す装置を用いて、半導体製造工場から排出されるフッ化物イオン濃度50.0mgF-/L、pH2.8、電気伝導率380mS/mのフッ素含有排水の処理を行った。フッ素含有排水の通水量3L/hで装置に供給し、各槽の液量は、反応槽1L、凝集層1L、混合槽0.3Lとし、沈殿池の水面積負荷は1mとした。
供給するフッ素含有排水1Lに対し、反応槽において、リン酸1,060mg/Lを添加し、凝集槽において、高分子凝集剤[栗田工業(株)、アニオンポリマーPA311]3mg/Lを添加した。汚泥返送比10で処理を行い、混合槽において、水酸化カルシウム1,330mg/Lを添加して返送汚泥と混合した。なお、反応槽に塩酸を添加してpHを8.0に調整した。定常状態に達したとき、反応槽の汚泥濃度は1.33重量%であり、処理水のフッ化物イオン濃度は0.2mgF-/L、リン濃度は0.2mgP/Lであり、汚泥の含水率は50重量%、汚泥の発生量はフッ素含有排水1Lあたり2,600mgであった。
実施例9
図2に示す装置を用いて、実施例8と同じフッ素含有排水の処理を行った。フッ素含有排水の通水量3L/hで装置に供給し、各槽の液量は、前段の反応槽1L、凝集槽1L、混合槽0.3Lとし、後段の反応槽1L、凝集槽1L、混合槽0.3Lとし、2つの沈殿池の水面積負荷はいずれも1mとした。
前段の処理においては、汚泥返送比300とし、供給するフッ素含有排水1Lに対し、混合槽において、水酸化カルシウム400mg/Lを添加し、凝集槽において、高分子凝集剤[栗田工業(株)、アニオンポリマーPA311]3mg/Lを添加した。また、反応槽に塩酸を添加してpHを6.5に調整した。定常状態に達したとき、沈殿池から上澄水として流出する一次処理水のフッ化物イオン濃度は12.5mgF-/Lであった。
後段の処理においては、前段に供給したフッ素含有排水1Lに対し、反応槽において、リン酸280mg/Lを添加し、凝集槽において、高分子凝集剤[栗田工業(株)、アニオンポリマーPA311]3mg/Lを添加した。汚泥返送比40で処理を行い、混合槽において、水酸化カルシウム300mg/Lを添加して返送汚泥と混合した。なお、反応槽に塩酸を添加してpHを8.0に調整した。定常状態に達したとき、反応槽の汚泥濃度は1.35重量%であり、処理水のフッ化物イオン濃度は0.1mgF-/L、リン濃度は0.2mgP/Lであった。
前段の沈殿池で発生した汚泥と、後段の沈殿池で発生した汚泥を混合して、汚泥の発生量と含水率を測定した。フッ素含有排水1Lあたりの汚泥の発生量は785mgであり、汚泥の含水率は48重量%であった。
実施例8〜9の結果を、第2表に示す。
2 反応槽
3 凝集槽
4 沈殿池
5 混合槽
6 原水槽
7 反応槽
8 凝集槽
9 沈殿池
10 混合槽
11 一次処理水槽
12 反応槽
13 凝集槽
14 沈殿池
15 混合槽
16 原水槽
17 反応槽
18 リン酸貯槽
19 混合槽
20 汚泥返送路
21 pH調整剤槽
22 凝集槽
23 凝集剤槽
24 固液分離装置
25 水酸化カルシウム槽
26 原水槽
27 第一反応槽
28 第二反応槽
29 凝集槽
30 沈殿池
Claims (6)
- フッ素含有排水にカルシウム化合物とリン酸又はその水溶性塩を添加してpH5〜10で反応させる反応工程、反応工程後の水に高分子凝集剤を添加する凝集工程、凝集工程後の凝集フロックを含有する水を固液分離する工程、及び、固液分離された汚泥の一部を反応工程に返送する汚泥返送工程を有するフッ素含有排水の処理方法において、あらかじめ汚泥返送工程の返送汚泥にカルシウム化合物とアルカリを添加して反応工程に返送することを特徴とするフッ素含有排水の処理方法。
- フッ素含有排水をカルシウム化合物で処理してフッ素をフッ化カルシウムとして除去する工程、該工程の一次処理水にカルシウム化合物とリン酸又はその水溶性塩を添加してpH5〜10で反応させる反応工程、反応工程後の水に高分子凝集剤を添加する凝集工程、凝集工程後の凝集フロックを含有する水を固液分離する工程、及び、固液分離された汚泥の一部を反応工程に返送する汚泥返送工程を有するフッ素含有排水の処理方法において、あらかじめ汚泥返送工程の返送汚泥にカルシウム化合物とアルカリを添加して反応工程に返送することを特徴とするフッ素含有排水の処理方法。
- 反応工程の汚泥濃度を0.1〜5重量%とする請求項1又は請求項2記載のフッ素含有排水の処理方法。
- 反応槽にあらかじめ種晶を添加する請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載のフッ素含有排水の処理方法。
- 種晶が、アパタイト構造を有するカルシウムのリン酸塩である請求項4記載のフッ素含有排水の処理方法。
- フッ素含有排水を導入し、排水中のフッ素をフルオロアパタイトにする反応槽、反応槽にリン酸又はその水溶性塩を添加するリン供給手段、反応槽流出水に高分子凝集剤を添加して凝集処理する凝集槽、凝集フロックを含有する凝集槽流出水を処理水と汚泥とに固液分離する固液分離装置、固液分離された汚泥の一部にカルシウム化合物とアルカリを混合する混合槽、及び、混合槽の混合汚泥を反応槽に返送する汚泥返送路を有するフッ素含有排水の処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005072593A JP5157040B2 (ja) | 2005-03-15 | 2005-03-15 | フッ素含有排水の処理方法及び処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005072593A JP5157040B2 (ja) | 2005-03-15 | 2005-03-15 | フッ素含有排水の処理方法及び処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006255499A true JP2006255499A (ja) | 2006-09-28 |
JP5157040B2 JP5157040B2 (ja) | 2013-03-06 |
Family
ID=37095294
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005072593A Expired - Lifetime JP5157040B2 (ja) | 2005-03-15 | 2005-03-15 | フッ素含有排水の処理方法及び処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5157040B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009240912A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Mitsubishi Materials Corp | アスベスト含有物の無害化処理方法およびセメントの製造方法 |
JP2010234300A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Kurita Water Ind Ltd | 無機イオン含有排水の処理方法 |
CN104623932A (zh) * | 2014-12-30 | 2015-05-20 | 广东新明珠陶瓷集团有限公司 | 原料废渣水回收利用系统及回收方法 |
CN107698092A (zh) * | 2017-11-25 | 2018-02-16 | 昆明有色冶金设计研究院股份公司 | 一种可移动式含氟废水处理方法及装置 |
CN108328844A (zh) * | 2018-04-19 | 2018-07-27 | 天脊煤化工集团股份有限公司 | 一种深度净化处理含氟煤气水的工艺及系统 |
CN111646591A (zh) * | 2020-06-08 | 2020-09-11 | 苏州晟德水处理有限公司 | 一种半导体含氟废水的处理方法 |
CN117003359A (zh) * | 2023-07-19 | 2023-11-07 | 大庆师范学院 | 一种降低石墨烯废水处理产渣量的高效处理装置及应用方法 |
WO2025086544A1 (zh) * | 2023-10-26 | 2025-05-01 | 矿冶科技集团有限公司 | 一种污泥回流诱导结晶法废水深度除氟工艺 |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5199853A (ja) * | 1975-02-28 | 1976-09-03 | Hitachi Ltd | |
JPS5473465A (en) * | 1977-11-24 | 1979-06-12 | Kyowa Kakou Kk | Method of removing fluorine from waste water |
JPS5678680A (en) * | 1979-12-03 | 1981-06-27 | Kurita Water Ind Ltd | Treatment for water containing fluoride ion |
JPS62125894A (ja) * | 1985-11-26 | 1987-06-08 | Hitachi Zosen Corp | フツ素含有排水の処理方法 |
JPH0592187A (ja) * | 1991-10-01 | 1993-04-16 | Kurita Water Ind Ltd | フツ素含有水の処理方法 |
JPH06343977A (ja) * | 1993-06-04 | 1994-12-20 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 廃水の処理方法 |
JPH10202271A (ja) * | 1997-01-17 | 1998-08-04 | Kurita Water Ind Ltd | フッ素、リン酸及び有機物含有廃水の処理方法 |
JP2001009471A (ja) * | 1999-06-29 | 2001-01-16 | Kurita Water Ind Ltd | フッ素除去装置 |
JP2001009468A (ja) * | 1999-06-25 | 2001-01-16 | Kurita Water Ind Ltd | フッ素除去方法および装置 |
JP2001038368A (ja) * | 1999-08-02 | 2001-02-13 | Kurita Water Ind Ltd | フッ素含有水の処理方法 |
JP2002370093A (ja) * | 2001-01-26 | 2002-12-24 | Shimonoseki Mitsui Chemicals Inc | フッ素化合物含有液体の高度処理方法 |
JP2004122059A (ja) * | 2002-10-04 | 2004-04-22 | Kurita Water Ind Ltd | フッ素含有水の処理方法 |
-
2005
- 2005-03-15 JP JP2005072593A patent/JP5157040B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5199853A (ja) * | 1975-02-28 | 1976-09-03 | Hitachi Ltd | |
JPS5473465A (en) * | 1977-11-24 | 1979-06-12 | Kyowa Kakou Kk | Method of removing fluorine from waste water |
JPS5678680A (en) * | 1979-12-03 | 1981-06-27 | Kurita Water Ind Ltd | Treatment for water containing fluoride ion |
JPS62125894A (ja) * | 1985-11-26 | 1987-06-08 | Hitachi Zosen Corp | フツ素含有排水の処理方法 |
JPH0592187A (ja) * | 1991-10-01 | 1993-04-16 | Kurita Water Ind Ltd | フツ素含有水の処理方法 |
JPH06343977A (ja) * | 1993-06-04 | 1994-12-20 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 廃水の処理方法 |
JPH10202271A (ja) * | 1997-01-17 | 1998-08-04 | Kurita Water Ind Ltd | フッ素、リン酸及び有機物含有廃水の処理方法 |
JP2001009468A (ja) * | 1999-06-25 | 2001-01-16 | Kurita Water Ind Ltd | フッ素除去方法および装置 |
JP2001009471A (ja) * | 1999-06-29 | 2001-01-16 | Kurita Water Ind Ltd | フッ素除去装置 |
JP2001038368A (ja) * | 1999-08-02 | 2001-02-13 | Kurita Water Ind Ltd | フッ素含有水の処理方法 |
JP2002370093A (ja) * | 2001-01-26 | 2002-12-24 | Shimonoseki Mitsui Chemicals Inc | フッ素化合物含有液体の高度処理方法 |
JP2004122059A (ja) * | 2002-10-04 | 2004-04-22 | Kurita Water Ind Ltd | フッ素含有水の処理方法 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009240912A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Mitsubishi Materials Corp | アスベスト含有物の無害化処理方法およびセメントの製造方法 |
JP2010234300A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Kurita Water Ind Ltd | 無機イオン含有排水の処理方法 |
CN104623932A (zh) * | 2014-12-30 | 2015-05-20 | 广东新明珠陶瓷集团有限公司 | 原料废渣水回收利用系统及回收方法 |
CN107698092A (zh) * | 2017-11-25 | 2018-02-16 | 昆明有色冶金设计研究院股份公司 | 一种可移动式含氟废水处理方法及装置 |
CN108328844A (zh) * | 2018-04-19 | 2018-07-27 | 天脊煤化工集团股份有限公司 | 一种深度净化处理含氟煤气水的工艺及系统 |
CN111646591A (zh) * | 2020-06-08 | 2020-09-11 | 苏州晟德水处理有限公司 | 一种半导体含氟废水的处理方法 |
CN117003359A (zh) * | 2023-07-19 | 2023-11-07 | 大庆师范学院 | 一种降低石墨烯废水处理产渣量的高效处理装置及应用方法 |
WO2025086544A1 (zh) * | 2023-10-26 | 2025-05-01 | 矿冶科技集团有限公司 | 一种污泥回流诱导结晶法废水深度除氟工艺 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5157040B2 (ja) | 2013-03-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3169899B2 (ja) | フッ素含有排水の処理方法とその装置 | |
WO2000003952A1 (fr) | Procede et dispositif de traitement d'eaux residuaires contenant du fluor | |
JP5157040B2 (ja) | フッ素含有排水の処理方法及び処理装置 | |
JP4508600B2 (ja) | フッ素含有排水の処理方法及び処理装置 | |
JP2000084570A (ja) | フッ素含有廃水の処理方法及び処理装置 | |
JP4631425B2 (ja) | リン酸を含むフッ素含有排水の処理方法及び処理装置 | |
JP2011147847A (ja) | シリコンウエハエッチング排水の処理方法及び処理装置 | |
JP2002316173A (ja) | 砒素及び過酸化水素を含有する排水の処理方法 | |
JP4351867B2 (ja) | フッ素またはリン含有水処理装置 | |
JP3977757B2 (ja) | 排水の脱リン方法 | |
JP2010075928A (ja) | フッ素含有排水の処理方法及び処理装置 | |
JP2000140861A (ja) | 微細砥粒子分散研磨液を含む排水の処理方法 | |
WO2000046156A1 (fr) | Procede d'elimination de calcium a partir d'eau contenant une forte teneur en hydrogeno-carbonate de calcium | |
JP2004000846A (ja) | フッ素含有水の処理方法 | |
JP2001259656A (ja) | フッ素含有排水の処理方法 | |
JP2010017631A (ja) | リン酸含有水の処理方法及び処理装置 | |
JP2007260556A (ja) | リン酸含有排水の処理方法及び処理装置 | |
JP2000117265A (ja) | モリブデン含有排水の処理方法 | |
JP2007190516A (ja) | フッ素含有排水の処理方法 | |
JP3918294B2 (ja) | 弗素含有排水の処理方法及び装置 | |
JP3592175B2 (ja) | フッ素含有排水の処理方法 | |
JP2842384B2 (ja) | リン酸及びフッ素含有廃水の処理方法 | |
JP4524796B2 (ja) | フッ素含有排水の処理方法及び処理装置 | |
JPH10230282A (ja) | 弗素含有排水の処理方法 | |
JPH02164492A (ja) | 排水の脱リン方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080303 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090528 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110520 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110711 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120118 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120315 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120622 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120808 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20121022 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121113 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121126 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5157040 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151221 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |