JP2005063548A - メモリ及びその駆動方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 素子数の低減を図って、実装面積の縮小や歩留まりの向上を実現し、さらに、周辺回路の負担を低減したメモリ及びその駆動方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明は、ビット線とワード線が絶縁体を介して交差する領域に記憶素子を含むメモリセルと、カラムデコーダと、クロックドインバータを含むセレクタを有する。そして、前記クロックドインバータの入力ノードは前記ビット線に接続され、出力ノードはデータ線に接続され、前記クロックドインバータを構成する直列に接続された複数のトランジスタのうち、ソース又はドレインが高電位電源VDDに接続されたP型トランジスタのゲートと、ソース又はドレインが低電位電源VSSに接続されたN型トランジスタのゲートは、前記カラムデコーダに接続されることを特徴とする。
【選択図】 図1
【解決手段】 本発明は、ビット線とワード線が絶縁体を介して交差する領域に記憶素子を含むメモリセルと、カラムデコーダと、クロックドインバータを含むセレクタを有する。そして、前記クロックドインバータの入力ノードは前記ビット線に接続され、出力ノードはデータ線に接続され、前記クロックドインバータを構成する直列に接続された複数のトランジスタのうち、ソース又はドレインが高電位電源VDDに接続されたP型トランジスタのゲートと、ソース又はドレインが低電位電源VSSに接続されたN型トランジスタのゲートは、前記カラムデコーダに接続されることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
本発明は、メモリ及びその駆動方法に関し、より詳しくは、クロックドインバータを含むセレクタを具備したメモリ及びその駆動方法に関する。
近年、メモリは、コンピュータ、携帯端末、ICカード等の様々な分野に応用され、活発に研究が進められている。メモリは、マトリクス状に配列された複数のメモリセルと、出力回路を含む周辺回路を有する。
このメモリセルと出力回路との間には、クロックドインバータと、該クロックドインバータの入力ノードと出力ノードを短絡させて、両ノードの電位を中間電位にバランスし、データの伝送の開始時に両ノードの短絡を開放するトランジスタを含むものがある(例えば、特許文献1参照。)。また、各メモリセルから出力される信号を増幅する回路として、クロックドインバータを有するものがある(例えば、特許文献2参照。)。
このメモリセルと出力回路との間には、クロックドインバータと、該クロックドインバータの入力ノードと出力ノードを短絡させて、両ノードの電位を中間電位にバランスし、データの伝送の開始時に両ノードの短絡を開放するトランジスタを含むものがある(例えば、特許文献1参照。)。また、各メモリセルから出力される信号を増幅する回路として、クロックドインバータを有するものがある(例えば、特許文献2参照。)。
特許文献1では、メモリセルとクロックドインバータとの間に、メモリセル読出しアンプや、該クロックドインバータの入力ノードと出力ノードの短絡を開放するためのトランジスタを備えている。従って、素子数の増加により、実装面積の拡大や信頼性の低下が生じてしまう。
特許文献2では、センスアンプとして用いるクロックドインバータの制御は、外部から供給される入力選択信号で行っている。従って、周辺回路の負担が増加してしまう。
特許文献2では、センスアンプとして用いるクロックドインバータの制御は、外部から供給される入力選択信号で行っている。従って、周辺回路の負担が増加してしまう。
本発明は、素子数の低減を図って、実装面積の縮小や歩留まりの向上を実現し、さらに、周辺回路の負担を低減したメモリ及びその駆動方法を提供することを課題とする。
上述した従来技術の課題を解決するために、本発明においては以下の手段を講じる。
本発明のメモリ(ROM)は、ビット線とワード線が絶縁体を介して交差する領域に記憶素子を含むメモリセルと、カラムデコーダと、クロックドインバータを含むセレクタを有する。そして、前記クロックドインバータの入力ノードは前記ビット線に接続され、出力ノードはデータ線に接続され、前記クロックドインバータを構成する直列に接続された複数のトランジスタのうち、ソース又はドレインが高電位電源VDDに接続されたP型トランジスタのゲートと、ソース又はドレインが低電位電源VSSに接続されたN型トランジスタのゲートは、前記カラムデコーダに接続されることを特徴とする。
前記記憶素子は、1つ又は複数のトランジスタと、1つ又は複数の容量素子の一方又は両方により構成される。つまり、記憶素子は、1つ又は複数の素子により構成されるものであり、本発明では、メモリセルに配置される素子を総称して、記憶素子とよぶ。記憶素子の詳しい構成は、メモリの種類に依存する。
前記クロックドインバータは、2つのN型トランジスタと2つのP型トランジスタが、直列に接続された構成を有する。このクロックドインバータの構成について、図1(C)(D)を用いて説明する。
図1(C)はクロックドインバータのロジックシンボルを示しており、クロックドインバータは4つのノードを有し、具体的には、3つの入力ノードと1つの出力ノードを有する。ここでは、3つの入力ノードに、Va、Vb、Vcの信号が入力され、出力ノードからVoutという信号を出力する場合を示す。
図1(D)は、クロックドインバータの等価回路図を示し、ソース又はドレインが高電位電源VDDに接続されたP型トランジスタ16が一端に配置され、ソース又はドレインが低電位電源VSSに接続されたN型トランジスタ19が他端に配置されている。このように、一端に配置されたP型トランジスタ16のゲートと、他端に配置されたN型トランジスタ19のゲートは入力ノードに相当し、それぞれVb、Vcの信号が入力される。
そして、高電位電源と低電位電源の両電源に直接接続されないP型トランジスタ17及びN型トランジスタ18の両トランジスタの各ゲートは互いに接続されており、この互いに接続されたゲートは入力ノードに相当する。この入力ノードには、Vaの信号が入力される。また、P型トランジスタ17及びN型トランジスタ18の各ドレインは互いに接続されており、この互いに接続されたドレインは出力ノードに相当する。この出力ノードからは、Voutの信号を出力する。
図1(C)はクロックドインバータのロジックシンボルを示しており、クロックドインバータは4つのノードを有し、具体的には、3つの入力ノードと1つの出力ノードを有する。ここでは、3つの入力ノードに、Va、Vb、Vcの信号が入力され、出力ノードからVoutという信号を出力する場合を示す。
図1(D)は、クロックドインバータの等価回路図を示し、ソース又はドレインが高電位電源VDDに接続されたP型トランジスタ16が一端に配置され、ソース又はドレインが低電位電源VSSに接続されたN型トランジスタ19が他端に配置されている。このように、一端に配置されたP型トランジスタ16のゲートと、他端に配置されたN型トランジスタ19のゲートは入力ノードに相当し、それぞれVb、Vcの信号が入力される。
そして、高電位電源と低電位電源の両電源に直接接続されないP型トランジスタ17及びN型トランジスタ18の両トランジスタの各ゲートは互いに接続されており、この互いに接続されたゲートは入力ノードに相当する。この入力ノードには、Vaの信号が入力される。また、P型トランジスタ17及びN型トランジスタ18の各ドレインは互いに接続されており、この互いに接続されたドレインは出力ノードに相当する。この出力ノードからは、Voutの信号を出力する。
上記のメモリにおいて、セレクタはインバータを含んだ構成でもよい。その場合、P型トランジスタのゲート及びN型トランジスタのゲートの一方は前記カラムデコーダに直接接続され、他方は前記インバータを介して前記カラムデコーダに接続される。
本発明のメモリ(RAM)は、ビット線とワード線が絶縁体を介して交差する領域に記憶素子を含むメモリセルと、カラムデコーダと、第1のスイッチ(好適にはアナログスイッチ)及びクロックドインバータを含むセレクタと、第2及び第3のスイッチ(好適にはアナログスイッチ)を含むリードライト回路を有する。
そして、前記ビット線は、前記クロックドインバータ及び前記第2のスイッチ、又は前記第1及び前記第3のスイッチを介して、データ線に接続される。
さらに、前記第1のスイッチが含む1つ又は複数のトランジスタの各ゲートは前記カラムデコーダに接続され、前記第2のスイッチが含む1つ又は複数のトランジスタの各ゲートはリードイネーブル信号線に電気的に接続され、前記第3のスイッチが含む1つ又は複数のトランジスタの各ゲートはライトイネーブル信号線に電気的に接続されることを特徴とする。
そして、前記ビット線は、前記クロックドインバータ及び前記第2のスイッチ、又は前記第1及び前記第3のスイッチを介して、データ線に接続される。
さらに、前記第1のスイッチが含む1つ又は複数のトランジスタの各ゲートは前記カラムデコーダに接続され、前記第2のスイッチが含む1つ又は複数のトランジスタの各ゲートはリードイネーブル信号線に電気的に接続され、前記第3のスイッチが含む1つ又は複数のトランジスタの各ゲートはライトイネーブル信号線に電気的に接続されることを特徴とする。
前記リードライト回路(Read/Write回路)とは、データの入出力(書き込み/読み出し)を制御する回路である。リードイネーブル(RE、Read enable)信号線とはリードイネーブル信号(RE信号)を伝達する配線に相当し、データの出力(読み出し)を制御する信号線である。ライトイネーブル(WE、Write enable)信号線とはライトイネーブル信号(WE信号)を伝達する配線に相当し、データの入力(書き込み)を制御する信号線である。
上記構成において、リードライト回路は、第1及び第2の論理回路(好適にはNOR)を含んだ構成でもよい。前記第1の論理回路が含む2つの入力ノードは、一方はリードイネーブル信号線に接続され、他方はチップイネーブル(CE、Chip Enable)信号線に接続され、出力ノードは第2のスイッチに接続される。また、前記第2の論理回路が含む2つの入力ノードは、一方はライトイネーブル信号線に接続され、他方は前記チップイネーブル信号線に接続され、出力ノードは第3のスイッチに接続される。チップイネーブル信号線とはチップイネーブル信号(CE信号)を伝達する配線に相当し、このメモリの選択/非選択(動作/非動作)を制御する信号線である。
上記構成を有する本発明は、セレクタやリードライト回路等の周辺回路がクロックドインバータを有し、該クロックドインバータの入力ノードがビット線に接続されている点を特徴とする。また、クロックドインバータの一端と他端に配置されたトランジスタのゲートがカラムデコーダに接続されている点を特徴とする。換言すると、クロックドインバータを構成する複数のトランジスタのうち、ソース又はドレインが高電位電源に接続されたトランジスタと、ソース又はドレインが低電位電源に接続されたトランジスタの両トランジスタのゲートがカラムデコーダに接続されている点を特徴とする。
本発明のメモリ(ROM)の駆動方法は、前記P型トランジスタ及び前記N型トランジスタの各ゲートに、前記カラムデコーダから信号を入力して、前記クロックドインバータを動作状態にし、前記ビット線を介して、前記メモリセルから前記クロックドインバータの入力ノードにデータ信号が入力され、なおかつ前記データ信号を増幅した信号が前記クロックドインバータの出力ノードから出力されることを特徴とする。
本発明のメモリ(RAM)の駆動方法は、前記クロックドインバータを構成する複数のトランジスタのうち、ソース又はドレインが高電位電源に接続されたP型トランジスタのゲートと、ソース又はドレインが低電位電源に接続されたN型トランジスタのゲートと、前記第1のスイッチとに前記カラムデコーダから信号を入力して、前記クロックドインバータを動作状態にし、前記第1のスイッチを導通状態にすることを特徴とする。この状態にすると、選択されたメモリセルの読み出し又は書き込みを行うことができる。
読み出しを行う場合は、リードイネーブル信号を入力して第2のスイッチを導通状態にし、ライトイネーブル信号を入力して第3のスイッチを非導通状態にする。前記ビット線を介して、前記メモリセルから前記クロックドインバータの入力ノードにデータ信号が入力され、なおかつ前記データ信号を増幅した信号が前記クロックドインバータの出力ノードから出力されることを特徴とする。
書き込みを行う場合は、リードイネーブル信号を入力して第2のスイッチを非導通状態にし、ライトイネーブル信号を入力して第3のスイッチを導通状態にする。前記第1及び前記第3のスイッチ並びに前記ビット線を介して、データ線から前記メモリセルにデータ信号が入力されることを特徴とする。
読み出しを行う場合は、リードイネーブル信号を入力して第2のスイッチを導通状態にし、ライトイネーブル信号を入力して第3のスイッチを非導通状態にする。前記ビット線を介して、前記メモリセルから前記クロックドインバータの入力ノードにデータ信号が入力され、なおかつ前記データ信号を増幅した信号が前記クロックドインバータの出力ノードから出力されることを特徴とする。
書き込みを行う場合は、リードイネーブル信号を入力して第2のスイッチを非導通状態にし、ライトイネーブル信号を入力して第3のスイッチを導通状態にする。前記第1及び前記第3のスイッチ並びに前記ビット線を介して、データ線から前記メモリセルにデータ信号が入力されることを特徴とする。
上記の駆動方法を有する本発明は、カラムデコーダから供給される信号により、クロックドインバータの状態が制御される。そして、クロックドインバータが非動作状態(ハイインピーダンス状態、不定状態、フローティング状態)から動作状態に切り替わると、該クロックドインバータの入力ノードに接続されたビット線が選択される。また、メモリセルから出力される信号は、クロックドインバータにより増幅される。従って、ビット線の選択と、メモリセルから供給される信号の増幅を、クロックドインバータにより同時に行うことができる。
ビット線の選択と、メモリセルから供給される信号の増幅を、クロックドインバータにより同時に行う本発明では、メモリの読み出し速度が格段に向上する。また、メモリの増幅回路として多くの場合に用いられるセンスアンプと比較すると、素子数が少ないクロックドインバータを用いる本発明は、歩留まりの向上を実現する。また、素子数の低減により実装面積の縮小を実現し、小型化、軽量化を実現する。さらに、2入力必要なセンスアンプを用いる場合と比較すると、1入力のクロックドインバータを用いる本発明は、制御する信号の低減により、周辺回路の負担が低減し、例えば、引き回し配線の本数を削減することができる。
本発明の実施の形態について、図面を用いて詳細に説明する。但し、本発明は以下の説明に限定されず、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は以下に示す実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。
(実施の形態1)
本発明のメモリとして、まず読み出し専用メモリ(代表的にはROM)の構成について、図1(A)を用いて説明する。
本発明のメモリとして、まず読み出し専用メモリ(代表的にはROM)の構成について、図1(A)を用いて説明する。
本発明のメモリは、メモリセル30がマトリクス状(行列状)に設けられたメモリセルアレイ31を具備する。また、ロウデコーダ34、カラムデコーダ35、セレクタ36及び出力回路37を具備し、これらの回路は、メモリセル30の動作を制御する。
ロウデコーダ34には、チップイネーブル信号(以下、CE信号又はCEと表記)とAy信号が入力される。カラムデコーダ35にはCE信号とAx信号が入力される。なお、図示しないが、両デコーダにはリードイネーブル信号(以下、RE信号又はREと表記)が入力されていてもよい。
セレクタ36は、インバータ11及びクロックドインバータ15を具備する。このインバータ11及びクロックドインバータ15は、各ビット線33に対応して各列に設けられる。
クロックドインバータ15は、2つのN型トランジスタと2つのP型トランジスタが直列に接続されたものであり、一端に配置されたN型トランジスタのゲートはインバータ11の入力ノードに接続され、ソース又はドレインは低電位電源VSS(図示せず)に接続される。他端に配置されたP型トランジスタのゲートはインバータ11の出力ノードに接続され、ソース又はドレインは高電位電源VDD(図示せず)に接続される。また、クロックドインバータ15の入力ノードはビット線33に接続され、出力ノードはデータ線39に接続される。このクロックドインバータ15の詳しい構成は図1(C)(D)に図示するので、適宜参考にするとよい。
出力回路37には、CE信号及びRE信号と、データ線39を介してデータ信号が入力される。
ロウデコーダ34には、チップイネーブル信号(以下、CE信号又はCEと表記)とAy信号が入力される。カラムデコーダ35にはCE信号とAx信号が入力される。なお、図示しないが、両デコーダにはリードイネーブル信号(以下、RE信号又はREと表記)が入力されていてもよい。
セレクタ36は、インバータ11及びクロックドインバータ15を具備する。このインバータ11及びクロックドインバータ15は、各ビット線33に対応して各列に設けられる。
クロックドインバータ15は、2つのN型トランジスタと2つのP型トランジスタが直列に接続されたものであり、一端に配置されたN型トランジスタのゲートはインバータ11の入力ノードに接続され、ソース又はドレインは低電位電源VSS(図示せず)に接続される。他端に配置されたP型トランジスタのゲートはインバータ11の出力ノードに接続され、ソース又はドレインは高電位電源VDD(図示せず)に接続される。また、クロックドインバータ15の入力ノードはビット線33に接続され、出力ノードはデータ線39に接続される。このクロックドインバータ15の詳しい構成は図1(C)(D)に図示するので、適宜参考にするとよい。
出力回路37には、CE信号及びRE信号と、データ線39を介してデータ信号が入力される。
各メモリセル30は、ワード線32とビット線33が交差する領域に記憶素子を有する。記憶素子は、1つ又は複数のトランジスタと、1つ又は複数の容量素子の一方又は両方に相当する。各メモリセル30は様々な構成を有し、例えばROMであれば、各メモリセル30は、記憶素子として、1つのトランジスタ38を具備する。製造工程で記憶内容をメモリに作り込むマスクROMの場合、トランジスタが存在するセルと存在しないセルとで、「0」と「1」を区別するため、トランジスタが存在しないメモリセルもある。この場合は、ビット線33をVDD/2よりも高い電位にプリチャージする必要がある。
なお、マスクROMの場合、製造工程で記憶内容をメモリに作り込む上述の方法とは別の方法として、トランジスタを低電位電源VSSと高電位電源VDDのどちらかに接続し、「0」と「1」を区別する方法もある。また、メモリの構成は、上記の記載に限定されず、配線の電位を予め設定するプリチャージ回路や、信号の電位差を増幅するレベルシフタ、入力する信号の電位差を増幅するインプットバッファ等を具備していてもよい。
本発明のメモリは、クロックドインバータを構成する複数のトランジスタのうち、ソース又はドレインが高電位電源に接続されたP型トランジスタのゲートと、ソース又はドレインが低電位電源に接続されたN型トランジスタのゲートが、直接又はインバータ11を介して、カラムデコーダ35に接続されている点、ビット線33がクロックドインバータ15の入力ノードに接続されている点を特徴とする。この2点の特徴により、ビット線の選択と、メモリセルから出力される信号の増幅とを1つのクロックドインバータで行うことを可能とする。
次に、上記構成を有するメモリのデータの読み出し時における動作について、説明する。ここでは、(x、y)座標に配置されたメモリセル30の読み出し時における動作について説明する。x、yは自然数とする。
なお、図1(A)において、x列目に対応したカラムデコーダ35の出力ノードの電位をAxとする。y行目に対応したロウデコーダ34の出力ノードの電位をAyとする。カラムデコーダ35の出力ノードと、インバータ11の入力ノードと、クロックドインバータ15の一端に配置され、ソース又はドレインが高電位電源に接続されたN型トランジスタの入力ノードとは互いに接続されており、これらの電位をVin1とする。
インバータ11の出力ノードと、クロックドインバータの他端に配置され、ソース又はドレインが高電位電源に接続されたP型トランジスタの入力ノードとは互いに接続されており、これらの電位をVin2とする。さらに、データ線39の電位をDataとする。上述のAx、Ay、CE、RE、Vin1、Vin2、Dataの時間変化を示したタイミングチャートを図1(B)に示し、以下には、メモリセル30からデータの読み出しが行われる期間T2と、それ以外の期間T1における動作について説明する。
なお、図1(A)において、x列目に対応したカラムデコーダ35の出力ノードの電位をAxとする。y行目に対応したロウデコーダ34の出力ノードの電位をAyとする。カラムデコーダ35の出力ノードと、インバータ11の入力ノードと、クロックドインバータ15の一端に配置され、ソース又はドレインが高電位電源に接続されたN型トランジスタの入力ノードとは互いに接続されており、これらの電位をVin1とする。
インバータ11の出力ノードと、クロックドインバータの他端に配置され、ソース又はドレインが高電位電源に接続されたP型トランジスタの入力ノードとは互いに接続されており、これらの電位をVin2とする。さらに、データ線39の電位をDataとする。上述のAx、Ay、CE、RE、Vin1、Vin2、Dataの時間変化を示したタイミングチャートを図1(B)に示し、以下には、メモリセル30からデータの読み出しが行われる期間T2と、それ以外の期間T1における動作について説明する。
期間T1において、カラムデコーダ35から、x列目のインバータ11の入力ノードに、Lレベルの信号が供給される。ロウデコーダ34から、y行目のワード線32にLレベルの信号が供給される。
Lレベルの信号がインバータ11の入力ノードに入力されると、インバータ11の出力ノード(Vin2)からHレベルの信号が出力される。
Vin1がLレベル、Vin2がHレベルであることから、クロックドインバータ15の一端に配置されたP型トランジスタと、他端に配置されたN型トランジスタは両者ともオフして、クロックドインバータ15はハイインピーダンス状態(不定状態、フローティング状態)となる。このように、クロックドインバータ15がハイインピーダンス状態である列では、当該列に配置されたメモリセル30からの信号の読み出しは行われない。
Lレベルの信号がインバータ11の入力ノードに入力されると、インバータ11の出力ノード(Vin2)からHレベルの信号が出力される。
Vin1がLレベル、Vin2がHレベルであることから、クロックドインバータ15の一端に配置されたP型トランジスタと、他端に配置されたN型トランジスタは両者ともオフして、クロックドインバータ15はハイインピーダンス状態(不定状態、フローティング状態)となる。このように、クロックドインバータ15がハイインピーダンス状態である列では、当該列に配置されたメモリセル30からの信号の読み出しは行われない。
期間T2において、カラムデコーダ35から、x列目のインバータ11の入力ノードに、Hレベルの信号が供給される。ロウデコーダ34から、y行目のワード線32に、Hレベルの信号が供給される。そうすると、y行目に配置されたワード線32が選択される。
Hレベルの信号がインバータ11の入力ノードに入力されると、インバータ11の出力ノード(Vin2)からLレベルの信号が出力される。
Vin1がHレベル、Vin2がLレベルであることから、クロックドインバータ15の一端に配置されたP型トランジスタと、他端に配置されたN型トランジスタは両者ともオンして、クロックドインバータ15は動作状態となる。ここで、動作状態とは、ハイインピーダンス状態と反対の状態を意味し、入力ノードに信号が入力されると、出力ノードから信号が出力される状態に相当する。この状態になると、(x、y)座標に配置されたメモリセル30から信号の読み出しが行われる。
Hレベルの信号がインバータ11の入力ノードに入力されると、インバータ11の出力ノード(Vin2)からLレベルの信号が出力される。
Vin1がHレベル、Vin2がLレベルであることから、クロックドインバータ15の一端に配置されたP型トランジスタと、他端に配置されたN型トランジスタは両者ともオンして、クロックドインバータ15は動作状態となる。ここで、動作状態とは、ハイインピーダンス状態と反対の状態を意味し、入力ノードに信号が入力されると、出力ノードから信号が出力される状態に相当する。この状態になると、(x、y)座標に配置されたメモリセル30から信号の読み出しが行われる。
メモリセル30から読み出されたデータ信号がHレベル(「1」)の場合、データ線39にはLレベルの信号が出力される。メモリセル30から読み出されたデータ信号がLレベル(「0」)の場合、データ線39にはHレベルの信号が出力される。このように、動作状態にあるクロックドインバータは、単なるインバータとして機能するため、HレベルとLレベルの変化は確実に行われる。つまり、トランジスタの特性バラツキは、出力に著しく反映されない。
また、クロックドインバータ15から出力される信号の高さは、高電位電源VDD又は低電位電源VSSと同じ高さとなる。つまり、メモリセル30から供給されるデータ信号は、クロックドインバータ15を介することにより増幅されて、この増幅されたデータ信号が出力回路37に出力される。
また、クロックドインバータ15から出力される信号の高さは、高電位電源VDD又は低電位電源VSSと同じ高さとなる。つまり、メモリセル30から供給されるデータ信号は、クロックドインバータ15を介することにより増幅されて、この増幅されたデータ信号が出力回路37に出力される。
本発明では、カラムデコーダ35から供給される信号により、クロックドインバータ15の状態(不定状態又は動作状態)が制御される。そして、クロックドインバータ15が不定状態から動作状態に切り替わると、該クロックドインバータ15の入力ノードに接続されたビット線33が選択される。また、メモリセル30から出力される信号は、クロックドインバータ15により増幅されて、出力回路37に出力される。
つまり、本発明では、ビット線の選択と、メモリセルから供給される信号の増幅は、1つのクロックドインバータ15で行うことを特徴とする。多くの場合において、カラムデコーダはビット線を選択するためだけに具備され、さらに増幅回路としてセンスアンプ等が設けられる。従って、ビット線の選択と、メモリセルから供給される信号の増幅を、クロックドインバータにより同時に行う本発明では、メモリの読み出し速度が格段に向上する。
また、メモリの増幅回路として、多くの場合に用いられるセンスアンプと比較すると、素子数が少ないクロックドインバータを用いる本発明は、歩留まりの向上が実現する。また、素子数の低減により実装面積の縮小が実現される。
さらに、2入力必要なセンスアンプを用いる場合と比較すると、1入力のクロックドインバータを用いる本発明は、制御する信号の低減により、周辺回路の負担が低減する。例えば、引き回し配線の本数を削減することができるため、信頼性の向上が実現する。
つまり、本発明では、ビット線の選択と、メモリセルから供給される信号の増幅は、1つのクロックドインバータ15で行うことを特徴とする。多くの場合において、カラムデコーダはビット線を選択するためだけに具備され、さらに増幅回路としてセンスアンプ等が設けられる。従って、ビット線の選択と、メモリセルから供給される信号の増幅を、クロックドインバータにより同時に行う本発明では、メモリの読み出し速度が格段に向上する。
また、メモリの増幅回路として、多くの場合に用いられるセンスアンプと比較すると、素子数が少ないクロックドインバータを用いる本発明は、歩留まりの向上が実現する。また、素子数の低減により実装面積の縮小が実現される。
さらに、2入力必要なセンスアンプを用いる場合と比較すると、1入力のクロックドインバータを用いる本発明は、制御する信号の低減により、周辺回路の負担が低減する。例えば、引き回し配線の本数を削減することができるため、信頼性の向上が実現する。
なお、図1(B)のタイミングチャートにおいて、クロックドインバータ15が不定状態から動作状態に切り替わると同時に、データ線39の電位のHレベルからLレベルへの立ち下がり、又はLレベルからHレベルへの立ち上がりが行われている。しかしながら、実際には、カラムデコーダ35から供給される信号の遅延や、出力回路37を構成する一部の回路が不定状態から動作状態になるまでの遅延が生じる。
また、メモリセル30から出力される信号は、クロックドインバータ15を介することによって反転しまう。このように反転した信号は、出力回路37に設けられたインバータ(図示せず)を介することによって、論理を合わせている。
また、メモリセル30から出力される信号は、クロックドインバータ15を介することによって反転しまう。このように反転した信号は、出力回路37に設けられたインバータ(図示せず)を介することによって、論理を合わせている。
(実施の形態2)
本発明のメモリとして、読み出しと書き込みが可能なメモリ(代表的にはRAM)の構成について、図2を用いて簡単に説明する。
本発明のメモリとして、読み出しと書き込みが可能なメモリ(代表的にはRAM)の構成について、図2を用いて簡単に説明する。
本発明のメモリは、メモリセル30がマトリクス状に設けられたメモリセルアレイ31、ロウデコーダ34、カラムデコーダ35、セレクタ36及びリードライト回路(以下、R/W回路と表記)40を具備する。セレクタ36は、クロックドインバータ41及びスイッチ42を具備する。このクロックドインバータ41及びスイッチ42は、各ビット線33に対応して各列に設けられる。つまり、クロックドインバータ41及びスイッチ42を1つの単位回路とすると、各ビット線に対応させて1つの単位回路が設けられることになるので、各列で2本のビット線(一方がビット線、他方がビットバー線)が設けられる場合は、各列で2つの単位回路が設けられる。
ロウデコーダ34には、ライトイネーブル信号(以下、WE信号又はWEと表記)、リードイネーブル信号(以下、RE信号又はREと表記)、チップイネーブル信号(以下、CE信号又はCEと表記)及びAy信号が入力される。カラムデコーダ35には、WE信号、RE信号、CE信号及びAx信号が入力される。
R/W回路40は、論理回路43、46、スイッチ44、47を具備する。また、R/W回路40には、データ線51、ライトイネーブル信号線(以下、WE信号線と表記)52、リードイネーブル信号線(以下、RE信号線と表記)53、チップイネーブル信号線(以下、CE信号線と表記)54が配置される。データ線51は、各メモリセル30に書き込むデータ信号の伝達、各メモリセル30から読み出されたデータ信号の伝達を行う配線である。WE信号線52はWE信号の伝達、RE信号線53はRE信号の伝達、CE信号線54はCE信号の伝達を行う配線である。上記のWE信号、RE信号及びCE信号はカラムデコーダ35とロウデコーダ34にも入力される。
ロウデコーダ34には、ライトイネーブル信号(以下、WE信号又はWEと表記)、リードイネーブル信号(以下、RE信号又はREと表記)、チップイネーブル信号(以下、CE信号又はCEと表記)及びAy信号が入力される。カラムデコーダ35には、WE信号、RE信号、CE信号及びAx信号が入力される。
R/W回路40は、論理回路43、46、スイッチ44、47を具備する。また、R/W回路40には、データ線51、ライトイネーブル信号線(以下、WE信号線と表記)52、リードイネーブル信号線(以下、RE信号線と表記)53、チップイネーブル信号線(以下、CE信号線と表記)54が配置される。データ線51は、各メモリセル30に書き込むデータ信号の伝達、各メモリセル30から読み出されたデータ信号の伝達を行う配線である。WE信号線52はWE信号の伝達、RE信号線53はRE信号の伝達、CE信号線54はCE信号の伝達を行う配線である。上記のWE信号、RE信号及びCE信号はカラムデコーダ35とロウデコーダ34にも入力される。
論理回路43、46の2つの入力ノードは、一方はCE信号線54に接続され、他方はWE信号線52又はRE信号線53に接続される。この両論理回路43、46から出力される信号により、スイッチ44、47は一方が導通状態、他方が非導通状態になるように制御される。
各メモリセル30は、ワード線32とビット線33が交差する領域に1つ又は複数の記憶素子を有する。例えばDRAMであれば、酸化膜を用いた容量素子50と、該容量素子50に対するデータの書き込み又は読み出しを制御するトランジスタ49を具備する。図2では、メモリセル30の構成がDRAMの場合を例示する。
上記とは異なる構成として、フラッシュメモリであれば、各メモリセル30は、フローティングゲートとゲートの2つのゲートを有するトランジスタを具備する。FRAMであれば、各メモリセル30は、強誘電体を用いた容量素子とトランジスタを具備する。SRAMであれば、各メモリセル30は5つのトランジスタ、又は4つのトランジスタと1つの抵抗素子を有する。但し、SRAMであって、各列に2本のビット線(一方がビット線、他方がビットバー線)が配置される場合は、各メモリセル30は6つのトランジスタ、又は4つのトランジスタと2つの抵抗素子を有する。なお、各列に2本のビット線が配置される場合にも、セレクタ36内には、各ビット線33に対応してクロックドインバータ41及びスイッチ42が設けられる。
なお、メモリの構成は、上記の記載に限定されず、プリチャージ回路や、レベルシフタ、インプットバッファ等を具備していてもよい。
上記とは異なる構成として、フラッシュメモリであれば、各メモリセル30は、フローティングゲートとゲートの2つのゲートを有するトランジスタを具備する。FRAMであれば、各メモリセル30は、強誘電体を用いた容量素子とトランジスタを具備する。SRAMであれば、各メモリセル30は5つのトランジスタ、又は4つのトランジスタと1つの抵抗素子を有する。但し、SRAMであって、各列に2本のビット線(一方がビット線、他方がビットバー線)が配置される場合は、各メモリセル30は6つのトランジスタ、又は4つのトランジスタと2つの抵抗素子を有する。なお、各列に2本のビット線が配置される場合にも、セレクタ36内には、各ビット線33に対応してクロックドインバータ41及びスイッチ42が設けられる。
なお、メモリの構成は、上記の記載に限定されず、プリチャージ回路や、レベルシフタ、インプットバッファ等を具備していてもよい。
本発明のメモリの特徴としては、スイッチ42がカラムデコーダ35から供給される信号により制御される点、クロックドインバータ41の入力ノードがビット線33に接続されている点、スイッチ44、47がRE信号、WE信号及びCE信号により制御される点が挙げられる。このような特徴により、ビット線の選択と、メモリセルから出力される信号の増幅とを1つのクロックドインバータで行うことを可能としている。
次に、上記構成を有するメモリのデータの読み出し時と書き込み時のおける動作について、図3(A)(B)を用いて説明する。ここでは、(x、y)座標に配置されたメモリセル30の読み出し時と書き込み時における動作について説明する。
なお、図3(A)においては、スイッチ42、44、47としてアナログスイッチを適用し、また、これに伴って、インバータ45、48を新たに配置した場合を示す。また、論理回路43、46としてNORを適用した場合を示す。さらに、データ信号の論理を合わせるために、インバータ55を新たに配置した場合を示す。
また、図3(A)において、x列目に対応したカラムデコーダ35の出力ノードの電位をAxとする。y行目に対応したロウデコーダ34の出力ノードの電位をAyとする。クロックドインバータ41とアナログスイッチ42を構成する所定のトランジスタに入力される信号の電位をVin1、Vin2とする。Vin1とVin2は互いに逆の信号である。また、データ線51の電位をDataとする。上述のAx、Ay、CE、WE、RE、Vin1、Vin2、Dataの時間変化を示したタイミングチャートを図3(B)に示し、以下には、メモリセル30からデータの書き込みを行う期間T1と、データの読み出しを行う期間T2における動作について説明する。
なお、図3(A)においては、スイッチ42、44、47としてアナログスイッチを適用し、また、これに伴って、インバータ45、48を新たに配置した場合を示す。また、論理回路43、46としてNORを適用した場合を示す。さらに、データ信号の論理を合わせるために、インバータ55を新たに配置した場合を示す。
また、図3(A)において、x列目に対応したカラムデコーダ35の出力ノードの電位をAxとする。y行目に対応したロウデコーダ34の出力ノードの電位をAyとする。クロックドインバータ41とアナログスイッチ42を構成する所定のトランジスタに入力される信号の電位をVin1、Vin2とする。Vin1とVin2は互いに逆の信号である。また、データ線51の電位をDataとする。上述のAx、Ay、CE、WE、RE、Vin1、Vin2、Dataの時間変化を示したタイミングチャートを図3(B)に示し、以下には、メモリセル30からデータの書き込みを行う期間T1と、データの読み出しを行う期間T2における動作について説明する。
期間T1において、Vin1にはHレベルの信号が供給されており、Vin2にはLレベルの信号が供給されており、クロックドインバータ41とアナログスイッチ42を構成する所定のトランジスタに入力される。この時、アナログスイッチ42は導通状態となり、クロックドインバータ41は動作状態となる。
また、LレベルのCE信号、LレベルのWE信号が入力されたNOR46は、Hレベルの信号を出力する。このHレベルの信号は、インバータ48とアナログスイッチ47の所定のトランジスタに入力され、該アナログスイッチ47は導通状態となる。
一方、LレベルのCE信号、HレベルのRE信号が入力されたNOR43は、Lレベルの信号を出力する。このLレベルの信号は、インバータ45とアナログスイッチ44の所定のトランジスタに入力され、該アナログスイッチ44は非導通状態となる。
また、ロウデコーダ34から、y行目に配置されたワード線32にHレベルの信号が入力され、y行目のワード線32が選択される。こうして、座標(x、y)に配置されたメモリセル30が選択される。
座標(x、y)に配置されたメモリセル30が含むトランジスタ49は、ワード線32の電位によりオンになり、データ線51からアナログスイッチ47、42、ビット線33を介して、容量素子50に対するデータの書き込みが行われる。ここでは、「1」の情報の書き込みが行われる場合を例示しているため、データ線51の電位はHレベルである。
また、LレベルのCE信号、LレベルのWE信号が入力されたNOR46は、Hレベルの信号を出力する。このHレベルの信号は、インバータ48とアナログスイッチ47の所定のトランジスタに入力され、該アナログスイッチ47は導通状態となる。
一方、LレベルのCE信号、HレベルのRE信号が入力されたNOR43は、Lレベルの信号を出力する。このLレベルの信号は、インバータ45とアナログスイッチ44の所定のトランジスタに入力され、該アナログスイッチ44は非導通状態となる。
また、ロウデコーダ34から、y行目に配置されたワード線32にHレベルの信号が入力され、y行目のワード線32が選択される。こうして、座標(x、y)に配置されたメモリセル30が選択される。
座標(x、y)に配置されたメモリセル30が含むトランジスタ49は、ワード線32の電位によりオンになり、データ線51からアナログスイッチ47、42、ビット線33を介して、容量素子50に対するデータの書き込みが行われる。ここでは、「1」の情報の書き込みが行われる場合を例示しているため、データ線51の電位はHレベルである。
期間T2において、期間T1と同様に、Vin1にはHレベルの信号が供給されており、Vin2にはLレベルの信号が供給されており、クロックドインバータ41とアナログスイッチ42を構成する所定のトランジスタに入力される。この時、アナログスイッチ42は導通状態となり、クロックドインバータ41は動作状態となる。
また、LレベルのCE信号、HレベルのWE信号が入力されたNOR46は、Lレベルの信号を出力する。このLレベルの信号は、インバータ48とアナログスイッチ47の所定のトランジスタに入力され、該アナログスイッチ47は非導通状態となる。
一方、LレベルのCE信号、LレベルのRE信号が入力されたNOR43は、Hレベルの信号を出力する。このHレベルの信号は、インバータ45とアナログスイッチ44の所定のトランジスタに入力され、該アナログスイッチ44は導通状態となる。
また、ロウデコーダ34から、y行目に配置されたワード線32にHレベルの信号が入力され、y行目のワード線32が選択される。こうして、座標(x、y)に配置されたメモリセル30が選択される。
座標(x、y)に配置されたメモリセル30が含むトランジスタ49は、ワード線32の電位によりオンになり、容量素子50から読み出されたデータは、ビット線33、クロックドインバータ41、インバータ55及びアナログスイッチ44を介して、データ線51に伝達される。ここでは、「1」の情報の読み出しが行われる場合を例示しているため、データ線51の電位はHレベルである。
また、LレベルのCE信号、HレベルのWE信号が入力されたNOR46は、Lレベルの信号を出力する。このLレベルの信号は、インバータ48とアナログスイッチ47の所定のトランジスタに入力され、該アナログスイッチ47は非導通状態となる。
一方、LレベルのCE信号、LレベルのRE信号が入力されたNOR43は、Hレベルの信号を出力する。このHレベルの信号は、インバータ45とアナログスイッチ44の所定のトランジスタに入力され、該アナログスイッチ44は導通状態となる。
また、ロウデコーダ34から、y行目に配置されたワード線32にHレベルの信号が入力され、y行目のワード線32が選択される。こうして、座標(x、y)に配置されたメモリセル30が選択される。
座標(x、y)に配置されたメモリセル30が含むトランジスタ49は、ワード線32の電位によりオンになり、容量素子50から読み出されたデータは、ビット線33、クロックドインバータ41、インバータ55及びアナログスイッチ44を介して、データ線51に伝達される。ここでは、「1」の情報の読み出しが行われる場合を例示しているため、データ線51の電位はHレベルである。
上記構成を有する本発明は、ビット線の選択と、メモリセルから供給される信号の増幅は、1つのクロックドインバータ15で行うことを特徴とし、本特徴により、メモリの読み出し速度が格段に向上する。また、素子数が少ないクロックドインバータを用いる本発明は、歩留まりの向上が実現する。また、素子数の低減により実装面積の縮小が実現される。さらに、1入力のクロックドインバータを用いる本発明は、制御する信号の低減により、周辺回路の負担が低減する。例えば、引き回し配線の本数を削減することができるため、信頼性の向上が実現する。
本発明を適用したマイクロプロセッサ(MPU)の構成の一例について、図4(A)を用いて説明する。図4(A)に示すMPUは、基板300上に、CPU301、メインメモリ303、クロックコントローラ304、キャッシュコントローラ305、シリアルインターフェース306、I/Oポート307、端子308、インターフェース309、キャッシュメモリ310等を具備する。本発明は、メインメモリ303及びキャッシュメモリ310の構成及びその駆動方法に適用される。
上記構成において、基板300は、シリコンウエハ、石英基板、ガラス基板、金属基板、ステンレス基板及びプラスチック基板等を用いるとよい。石英、ガラス、金属及びステンレス等材料からなる基板を用いる場合、基板上に非晶質半導体(a−Si)を形成後、所定の結晶化処理により形成された多結晶半導体を有する素子を用いて、各回路を構成するとよい。結晶化処理の方法として、連続発振レーザを用いると、結晶欠陥が少なく、大粒径の多結晶半導体を得ることができる。この多結晶半導体により形成した素子は、移動度や応答速度が良好なために高速駆動が可能で、従来よりも素子の動作周波数を向上させることができ、特性バラツキが少ないために高い信頼性を得ることができる。従って、安価なガラス基板上に非晶質半導体を形成後、連続発振レーザにより形成された多結晶半導体を有する素子を用いると、安価で且つ高速動作が可能であるために高品質なMPUを提供することができる。また、プラスチック等の耐熱性が低い材料からなる基板を用いる場合、剥離法により素子を貼り付けて形成するとよい。プラスチック基板を用いると、軽量でかつフレキシブルであるために様々な用途に適用することができる。
CPU301は単数に限られず、複数設けても良い。CPU301を複数設けて並列処理を行うと、動作速度の向上を図ることができる。その場合、CPU301間の処理速度が不揃いだと処理全体で見たときに不都合が起きる場合があるので、スレーブとなる各CPU301の処理速度のバランスを、マスターとなるCPUでとるようにすることが好適である。
メインメモリ303には、低コスト化と大容量化に優れるメモリ(好適にはDRAM)を用い、キャッシュメモリ310には、高速な動作が可能なメモリ(好適にはSRAM)を用いることが好ましい。上記構成のように、キャッシュメモリ310を、CPU301とメインメモリ303との間に介在させると、CPU301はキャッシュメモリ310にアクセスするために、メインメモリ303のスピードによらず、高速で動作することができる。
メインメモリ303には、低コスト化と大容量化に優れるメモリ(好適にはDRAM)を用い、キャッシュメモリ310には、高速な動作が可能なメモリ(好適にはSRAM)を用いることが好ましい。上記構成のように、キャッシュメモリ310を、CPU301とメインメモリ303との間に介在させると、CPU301はキャッシュメモリ310にアクセスするために、メインメモリ303のスピードによらず、高速で動作することができる。
本発明は、MPUが具備するメモリにその用途が限られるわけではなく、例えば表示装置の駆動回路に用いられるビデオラムや、画像処理回路に必要となる大容量メモリとしての用途も好ましい。その他、様々なシステムLSIにおいても、大容量もしくは小型用途のメモリに適用することができる。
本実施例では、同一表面上に画素部及び該画素部を制御する駆動回路、並びにメモリ及びCPUを搭載したパネルについて、図4(B)(C)を用いて説明する。図4(B)は、パネルの上面図であり、図4(C)は図4(B)のA-A’における断面図である。
図4(B)はパネルの外観を示し、該パネルは、ガラス基板400上に複数の画素がマトリクス状に配置された画素部401と、該画素部401の周辺に信号線駆動回路402及び走査線駆動回路403を具備する。また、基板400上に、VRAM(画面表示専用メモリ)やRAM、ROMに相当するメモリ405と、CPU406を具備する。さらに、基板400上には、駆動回路402、403、メモリ405及びCPU406を制御する信号を供給するための入力端子部411を具備する。入力端子部411には、FPC412を介して、外部回路からビデオ信号等の信号が供給される。本発明は、メモリ405の構成とその駆動方法に適用される。
シール材(図示せず)は、画素部401と駆動回路402、403を囲むように設けられ、該シール材により基板400と対向基板409が貼り合わせられる。対向基板409は、画素部401及び駆動回路402、403上のみに設けてもよいし、全面に設けてもよい。但し、発熱する恐れがあるCPU406には、放熱板を接するように設けることが好適である。
シール材(図示せず)は、画素部401と駆動回路402、403を囲むように設けられ、該シール材により基板400と対向基板409が貼り合わせられる。対向基板409は、画素部401及び駆動回路402、403上のみに設けてもよいし、全面に設けてもよい。但し、発熱する恐れがあるCPU406には、放熱板を接するように設けることが好適である。
図4(C)はパネルの断面図を示す。基板400上には、画素部401、信号線駆動回路402及びメモリ405を具備する。画素部401はトランジスタ430と保持容量429を具備し、信号線駆動回路402はCMOS回路等からなる素子群431を具備し、メモリ405は周辺回路を構成するCMOS回路440と、メモリセルが含むトランジスタ441を具備する。
基板400と対向基板409の間には、スペーサ422が設けられる。画素部401上には、ラビング処理された配向膜435、液晶層423、配向膜424、対向電極425及びカラーフィルタ426を具備する。基板400と対向基板409には偏光板428、429が設けられる。
基板400上の回路を構成する素子は、非晶質半導体に比べて移動度等の特性が良好な多結晶半導体(ポリシリコン)により形成され、それ故に同一表面上におけるモノシリック化が実現される。特に、多結晶半導体でチャネル部を形成する薄膜トランジスタにより構成することが好適である。
また、同一の基板400上に画素部と駆動回路以外に、CPUやメモリなどの機能回路の一体形成も実現される。このようなパネルはシステムオンパネルとよばれ、システムの多機能化を図ることができる。
上記構成を有するパネルは、接続する外部ICの個数が減少するため、小型・軽量・薄型が実現される。これは、最近普及が急速に進んだ携帯端末に適用すると大変有効である。
また、同一の基板400上に画素部と駆動回路以外に、CPUやメモリなどの機能回路の一体形成も実現される。このようなパネルはシステムオンパネルとよばれ、システムの多機能化を図ることができる。
上記構成を有するパネルは、接続する外部ICの個数が減少するため、小型・軽量・薄型が実現される。これは、最近普及が急速に進んだ携帯端末に適用すると大変有効である。
なお、本実施例では、表示素子として液晶素子を用いたパネルを示したが、本発明はこれに限定されない。表示素子として、発光素子などの他の表示素子を用いたパネルに適用してもよい。
本発明を適用して作製される電子機器の一例として、デジタルカメラ、カーオーディオなどの音響再生装置、ノート型パーソナルコンピュータ、ゲーム機器、携帯情報端末、家庭用ゲーム機などの記録媒体を備えた画像再生装置などが挙げられる。これらの電子機器の具体例について、図5(A)〜(E)を用いて説明する。
図5(A)は携帯端末であり、本体9101、表示部9102等を含む。図5(C)はPDA(personal・digital・assistant)であり、本体9201、表示部9202等を含む。図5(D)は、ゴーグル型ディスプレイであり、本体9301、表示部9302等を含む。図5(E)は、携帯型ゲーム機器であり、本体9401、表示部9402等を含む。
表示部9102、9202、9302及び9402を含むパネルは、図5(B)に示すように駆動回路9104、CPUやメモリ等の機能回路9103を具備する。本発明は、機能回路9103が有するメモリの構成及びその駆動方法に適用される。このように、駆動回路だけでなく、機能回路が一体形成されたパネルを有する電子機器は、接続する外部ICの個数を減らすことができるため、小型・軽量・薄型が実現され、携帯端末には有効な構成である。
また、上記に挙げた電子機器において、表示部9102、9202、9302及び9402に設ける表示素子として、自発光型の発光素子を用いると、バックライトなどが必要ないため、液晶素子を用いる場合に比べて、薄型・小型・軽量が実現され、好適である。
また、上記に挙げた電子機器において、表示部9102、9202、9302及び9402に設ける表示素子として、自発光型の発光素子を用いると、バックライトなどが必要ないため、液晶素子を用いる場合に比べて、薄型・小型・軽量が実現され、好適である。
次に、ICカードの具体例について、図5(F)を用いて説明する。図5(F)は接触型ICカードであり、本体9601、ICチップ9602、モジュール端子9603を含む。ICチップ9602は、RAM9604、ROM9605、CPU9606及びEEPROM9607等を含む。本発明は、ICチップ9602の構成及びその駆動方法に適用される。
Claims (12)
- ビット線とワード線が絶縁体を介して交差する領域に記憶素子を含むメモリセルと、カラムデコーダと、クロックドインバータを含むセレクタを有するメモリであって、
前記クロックドインバータの入力ノードは前記ビット線に接続され、出力ノードはデータ線に接続され、
前記クロックドインバータを構成する直列に接続された複数のトランジスタのうち、ソース又はドレインが高電位電源に接続されたP型トランジスタのゲートと、ソース又はドレインが低電位電源に接続されたN型トランジスタのゲートは、前記カラムデコーダに接続されることを特徴とするメモリ。 - ビット線とワード線が絶縁体を介して交差する領域に記憶素子を含むメモリセルと、カラムデコーダと、インバータ及びクロックドインバータを含むセレクタを有するメモリであって、
前記クロックドインバータの入力ノードは前記ビット線に接続され、出力ノードはデータ線に接続され、
前記クロックドインバータを構成する直列に接続された複数のトランジスタのうち、ソース又はドレインが高電位電源に接続されたP型トランジスタのゲートと、ソース又はドレインが低電位電源に接続されたN型トランジスタのゲートは、一方は前記カラムデコーダに接続され、他方は前記インバータを介して前記カラムデコーダに接続されることを特徴とするメモリ。 - 請求項1又は請求項2に記載の前記メモリは、ROM(Read Only Memory)であることを特徴とするメモリ。
- ビット線とワード線が絶縁体を介して交差する領域に記憶素子を含むメモリセルと、カラムデコーダと、第1のスイッチ及びクロックドインバータを含むセレクタと、第2及び第3のスイッチを含むリードライト回路を有するメモリであって、
前記ビット線は、前記クロックドインバータ及び前記第2のスイッチ、又は前記第1及び前記第3のスイッチを介して、データ線に接続され、
前記第1のスイッチが含む1つ又は複数のトランジスタの各ゲートは前記カラムデコーダに接続され、前記第2のスイッチが含む1つ又は複数のトランジスタの各ゲートはリードイネーブル信号線に電気的に接続され、前記第3のスイッチが含む1つ又は複数のトランジスタの各ゲートはライトイネーブル信号線に電気的に接続されることを特徴とするメモリ。 - ビット線とワード線が絶縁体を介して交差する領域に記憶素子を含むメモリセルと、カラムデコーダと、第1のスイッチ及びクロックドインバータを含むセレクタと、第2及び第3のスイッチ並びに第1及び第2の論理回路を含むリードライト回路を有するメモリであって、
前記ビット線は、前記クロックドインバータ及び前記第2のスイッチ、又は前記第1及び前記第3のスイッチを介して、前記データ線に接続され、
前記第1のスイッチが含む1つ又は複数のトランジスタの各ゲートは前記カラムデコーダに接続され、前記第2のスイッチが含む1つ又は複数のトランジスタの各ゲートは前記第1の論理回路の出力ノードに電気的に接続され、前記第3のスイッチが含む1つ又は複数のトランジスタの各ゲートは前記第2の論理回路の出力ノードに電気的に接続され、
前記第1の論理回路が含む2つの入力ノードは、一方はリードイネーブル信号線に接続され、他方はチップイネーブル信号線に接続され、前記第2の論理回路が含む2つの入力ノードは、一方はライトイネーブル信号線に接続され、他方は前記チップイネーブル信号線に接続されることを特徴とするメモリ。 - 請求項4又は請求項5に記載の前記第1乃至前記第3のスイッチは、アナログスイッチであることを特徴とするメモリ。
- 請求項5に記載の前記第1及び前記第2の論理回路は、NORであることを特徴とするメモリ。
- 請求項4乃至請求項7のいずれか一項に記載の前記メモリは、RAM(Random Access Memory)であることを特徴とするメモリ。
- ビット線とワード線が絶縁体を介して交差する領域に記憶素子を含むメモリセルと、カラムデコーダと、クロックドインバータを含むセレクタを有し、
前記クロックドインバータの入力ノードは前記ビット線に接続され、出力ノードはデータ線に接続され、
前記クロックドインバータを構成する直列に接続された複数のトランジスタのうち、ソース又はドレインが高電位電源に接続されたP型トランジスタのゲートと、ソース又はドレインが低電位電源に接続されたN型トランジスタのゲートは、前記カラムデコーダに接続されたメモリの駆動方法であって、
前記P型トランジスタ及び前記N型トランジスタの各ゲートに、前記カラムデコーダから信号を入力して、前記クロックドインバータを動作状態にし、
前記ビット線を介して、前記メモリセルから前記クロックドインバータの入力ノードにデータ信号が入力され、なおかつ前記データ信号を増幅した信号が前記クロックドインバータの出力ノードから出力されることを特徴とするメモリの駆動方法。 - ビット線とワード線が絶縁体を介して交差する領域に記憶素子を含むメモリセルと、カラムデコーダと、インバータ及びクロックドインバータを含むセレクタを有し、
前記クロックドインバータの入力ノードは前記ビット線に接続され、出力ノードはデータ線に接続され、
前記クロックドインバータを構成する直列に接続された複数のトランジスタのうち、ソース又はドレインが高電位電源に接続されたP型トランジスタのゲートと、ソース又はドレインが低電位電源に接続されたN型トランジスタのゲートは、一方は前記カラムデコーダに接続され、他方は前記インバータを介して前記カラムデコーダに接続されたメモリの駆動方法であって、
前記P型トランジスタ及び前記N型トランジスタの各ゲートに、前記カラムデコーダから信号を入力して、前記クロックドインバータを動作状態にし、
前記ビット線を介して、前記メモリセルから前記クロックドインバータの入力ノードにデータ信号が入力され、なおかつ前記データ信号を増幅した信号が前記クロックドインバータの出力ノードから出力されることを特徴とするメモリの駆動方法。 - ビット線とワード線が絶縁体を介して交差する領域に記憶素子を含むメモリセルと、カラムデコーダと、第1のスイッチ及びクロックドインバータを含むセレクタと、第2及び第3のスイッチを含むリードライト回路を有し、
前記ビット線は、前記クロックドインバータ及び前記第2のスイッチ、又は前記第1及び前記第3のスイッチを介して、データ線に接続されたメモリの駆動方法であって、
前記クロックドインバータを構成する複数のトランジスタのうち、ソース又はドレインが高電位電源に接続されたP型トランジスタのゲートと、ソース又はドレインが低電位電源に接続されたN型トランジスタのゲートと、前記第1のスイッチとに前記カラムデコーダから信号を入力して、前記クロックドインバータを動作状態にし、前記第1のスイッチを導通状態にして、
リードイネーブル信号を入力して第2のスイッチを導通状態にし、ライトイネーブル信号を入力して第3のスイッチを非導通状態にすると、前記ビット線を介して、前記メモリセルから前記クロックドインバータの入力ノードにデータ信号が入力され、なおかつ前記データ信号を増幅した信号が前記クロックドインバータの出力ノードから出力されることを特徴とするメモリの駆動方法。 - ビット線とワード線が絶縁体を介して交差する領域に記憶素子を含むメモリセルと、カラムデコーダと、第1のスイッチ及びクロックドインバータを含むセレクタと、第2及び第3のスイッチを含むリードライト回路を有し、
前記ビット線は、前記クロックドインバータ及び前記第2のスイッチ、又は前記第1及び前記第3のスイッチを介して、データ線に接続されたメモリの駆動方法であって、
前記クロックドインバータを構成する複数のトランジスタのうち、ソース又はドレインが高電位電源に接続されたP型トランジスタのゲートと、ソース又はドレインが低電位電源に接続されたN型トランジスタのゲートと、前記第1のスイッチとに前記カラムデコーダから信号を入力して、前記クロックドインバータを動作状態にし、前記第1のスイッチを導通状態にして、
リードイネーブル信号を入力して第2のスイッチを非導通状態にし、ライトイネーブル信号を入力して第3のスイッチを導通状態にすると、前記第1及び前記第3のスイッチ並びに前記ビット線を介して、データ線から前記メモリセルにデータ信号が入力されることを特徴とするメモリの駆動方法。
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