JP2003301012A - オレフィン重合用触媒 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 【解決手段】 一般式（１） （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は、水素、置換されていてもよ
い炭素数１〜１０のアルキル基、置換されていてもよい
炭素数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭
素数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭
素数１〜１０のアルコキシ基、置換されていてもよい炭
素数６〜２０のアリールオキシ基、置換されていてもよ
い炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基、等）で示され
る化合物を塩基と反応させた後、一般式（２） （式中、Ｍは第４族の遷移金属原子、Ｒ⁴〜Ｒ⁸は、水
素、置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル
基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリール
基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のアラルキル
基、等で示される遷移金属化合物を反応させて得られる
遷移金属錯体を触媒成分とする触媒。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、重合用触媒および
それを用いる重合体の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】メタロセン錯体を用いるオレフィン重合
体の製造法については多くの報告がなされている。例え
ば、特開昭５８−１９３０９号公報において、メタロセ
ン錯体とアルミノキサンを用いたオレフィン重合体の製
造方法に関して報告されている。モノシクロペンタジエ
ニル基と架橋したアミド基を有する錯体を用いる重合触
媒としては、特開平３−１６３０８８号公報が報告され
ている。当該錯体は、高活性を有するものの、調製に多
段階を要する上、架橋原子にケイ素原子を用いており、
水分に対し不安定なケイ素-窒素結合を含んでおり、取
り扱いが困難である。また、架橋されていないモノシク
ロペンタジエニル基を有する錯体を用いる重合触媒とし
ては、特開平１０−３３８７０６号公報が報告されてい
る。当該錯体は、酸素に不安定で取り扱いの困難なトリ
アルキルホスフィンを配位子の構成原料として用いてお
り、より簡便な構造で、取り扱いの容易な配位の開発が
望まれていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、調製が簡便
な配位子を用いる重合用触媒成分およびそれを用いる重
合体の製造方法を提供することを目的とするものであ
る。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討した結果、新規な重合用触媒
を見出し、本発明に至った。

【０００５】すなわち、本発明は、一般式（１） （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は同一または相異なり、水素原
子、置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル
基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリール
基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のアラルキル
基、置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルコキシ
基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリールオ
キシ基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のアラル
キルオキシ基、炭素数１〜２０の炭化水素置換シリル基
または炭素数１〜２０の炭化水素置換アミノ基を示し、
Ａ¹、Ａ²は元素の周期律表の第１５族の原子を示し、隣
接するＲ ¹、Ｒ²、Ｒ³は任意に結合して環を形成してい
てもよく、Ａ²、Ｒ²、Ｒ³からなる二重結合部分は単
一、もしくは異性体の混合物であってもよい。）で示さ
れる化合物を塩基と反応させた後、一般式（２） （式中、Ｍは元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を
示し、Ｒ⁴〜Ｒ⁸は同一または相異なり、水素原子、置換
されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、置換さ
れていてもよい炭素数６〜２０のアリール基、置換され
ていてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基、置換され
ていてもよい炭素数１〜１０のアルコキシ基、置換され
ていてもよい炭素数６〜２０のアリールオキシ基、置換
されていてもよい炭素数７〜２０のアラルキルオキシ
基、炭素数１〜２０の炭化水素置換シリル基または炭素
数１〜２０の炭化水素置換アミノ基を示し、Ｘ¹〜Ｘ³は
同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原子、置換さ
れていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、置換され
ていてもよい炭素数１〜１０のアルコキシ基、置換され
ていてもよい炭素数６〜２０のアリール基、置換されて
いてもよい炭素数６〜２０のアリールオキシ基、置換さ
れていてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基、置換さ
れていてもよい炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基、
炭素数１〜２０の炭化水素置換シリル基または炭素数１
〜２０の炭化水素置換アミノ基を示し、隣接するＸ¹〜
Ｘ³は、結合して環を形成していてもよく、隣接するＲ⁵
〜Ｒ⁸は結合して環を形成していてもよい。）で示され
る遷移金属化合物とを反応させて得られる遷移金属錯体
および下記化合物（Ａ）；あるいは該錯体、下記化合物
（Ａ）および下記化合物（Ｂ）を組み合わせてなること
を特徴とするオレフィン重合用触媒；ならびに該触媒を
用いるオレフィン重合体の製造方法を提供するものであ
る。。） （Ａ）： 下記化合物（Ａ１）〜（Ａ３）のいずれか、
あるいはそれらの２〜３種の混合物 （Ａ１）： 一般式 Ｅ1 a Ａｌ（Ｚ）3-a で示される
有機アルミニウム化合物 （Ａ２）: 一般式 ｛−Ａｌ（Ｅ2 ）−Ｏ−｝b で示
される構造を有する環状のアルミノキサン （Ａ３）： 一般式 Ｅ3 ｛−Ａｌ（Ｅ3 ）−Ｏ−｝c
Ａｌ（Ｅ3） 2 で示される構造を有する線状のアルミノ
キサン （式中、Ｅ1 〜Ｅ3 は同一または相異なり、炭素原子数
１〜８の炭化水素基であり、Ｚは同一または相異なり、
水素原子またはハロゲン原子を表し、ａは１、２または
３で、ｂは２以上の整数を、ｃは１以上の整数を表
す。） （Ｂ）: 下記化合物（Ｂ１）〜（Ｂ３）のいずれか、
あるいはそれらの２〜３種の混合物 （Ｂ１）： 一般式 ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 で示されるホウ素
化合物 （Ｂ２）： 一般式 Ｚ+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で
示されるホウ素化合物 （Ｂ３）： 一般式（Ｌ−Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4
）- で示されるホウ素化合物 （式中、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ
1 〜Ｑ4 は同一または相異なり、ハロゲン原子、炭素原
子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロ
ゲン化炭化水素基、炭素原子数１〜２０の置換シリル
基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基または炭素原子
数２〜２０の２置換アミノ基を示す。）

【０００６】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。一般式（１）で示される化合物において、Ａ¹、
Ａ²として示される元素の周期律表の第１５族の原子と
しては、例えば窒素原子、リン原子、ヒ素原子などが挙
げられ、好ましくは窒素原子が挙げられる。

【０００７】一般式（１）および一般式（２）で示され
る化合物において、Ｒ¹〜Ｒ⁸、Ｘ¹〜Ｘ³における置換さ
れていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基の置換基と
しては、ハロゲン原子等が挙げられ、置換されていても
よい炭素数１〜１０のアルキル基の具体例としては、メ
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、
ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル
基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基 、ｎ
−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、フルオ
ロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル
基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフル
オロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオ
ロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブ
チル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシ
ル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロデシル
基、トリクロロメチル基などが例示され、好ましくは、
メチル基、エチル基、イソプロピル基、 ｔｅｒｔ−ブ
チル基、アミル基等が挙げられる。

【０００８】Ｒ¹〜Ｒ⁸、Ｘ¹〜Ｘ³における置換されてい
てもよい炭素数６〜２０のアリール基としては、フェニ
ル基、ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられ、そ
の置換基としては、アルキル基、フッ素原子等が挙げら
れ、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリール基
の具体例としては、例えば、フェニル基、２−トリル
基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キシリル
基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６
−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル
基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−
トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニ
ル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５
−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−テトラメチ
ルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチルフェニル
基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタ
メチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフ
ェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニ
ル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェニル基、 ｎ−ペンチルフェニル基、 ネオペンチルフ
ェニル基、 ｎ−ヘキシルフェニル基、 ｎ−オクチルフ
ェニル基、 ｎ−デシルフェニル基、 ｎ−ドデシルフェ
ニル基、 ｎ−テトラデシルフェニル基、ナフチル基、
アントラセニル基およびこれらのフッ素原子置換アリー
ル基が例示され、好ましくはフェニル基が挙げられる。

【０００９】Ｒ¹〜Ｒ⁸、Ｘ¹〜Ｘ³における置換されてい
てもよい炭素数７〜２０のアラルキル基としては、ベン
ジル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基、
ジフェニルメチル基等が挙げられ、その置換基として
は、例えばアルキル基フッ素原子等が挙げられる。置換
されていてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基の具体
例としては、例えば、ベンジル基、（２−メチルフェニ
ル）メチル基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４
−メチルフェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェ
ニル）メチル基、（２，４−ジメチルフェニル）メチル
基、（２，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，６
−ジメチルフェニル）メチル基、（３，４−ジメチルフ
ェニル）メチル基、（２，３，４−トリメチルフェニ
ル）メチル基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メ
チル基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メチル
基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メチル基、
（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基、（２，
３，４，５−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，
３，４，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，
３，５，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（ペン
タメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチ
ル基、（ｎ−プロピルフェニル）メチル基、（イソプロ
ピルフェニル）メチル基、（ｎ−ブチルフェニル）メチ
ル基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェニル）メチル基、（ｎ−ペンチルフェニ
ル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、
（ｎ−ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ−オクチルフ
ェニル）メチル基、（ｎ−デシルフェニル）メチル基、
（ｎ−ドデシルフェニル）メチル基、（ｎ−テトラデシ
ルフェニル）メチル基、ナフチルメチル基、アントラセ
ニルメチル基、ジフェニルメチル基およびこれらのフッ
素原子置換アラルキル基が挙げられ、好ましくはベンジ
ル基が挙げられる。

【００１０】Ｒ¹〜Ｒ⁸、Ｘ¹〜Ｘ³おける置換されていて
もよい炭素数１〜１０のアルコキシ基の置換基として
は、ハロゲン原子等が挙げられ、具体例としては、メト
キシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキ
シ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ
−ブトキシ基、ｎ−ペントキシ基、ネオペントキシ基、
ｎ−ヘキソキシ基、ｎ−オクトキシ基、ｎ−デキソキシ
基、およびこれらのフッ素原子置換アルコキシ基が挙げ
られ、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、 ｔｅｒ
ｔ−ブトキシ基が挙げられる。

【００１１】Ｒ¹〜Ｒ⁸、Ｘ¹〜Ｘ³における置換されてい
てもよい炭素数６〜２０のアリールオキシ基としては、
フェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基等が
挙げられ、その置換基としては、アルキル基、フッ素原
子等が挙げられる。置換されていてもよい炭素数６〜２
０のアリールオキシ基の具体例としてはフェノキシ基、
２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、４
−メチルフェノキシ基、２，３−ジメチルフェノキシ
基、２，４−ジメチルフェノキシ基、２，５−ジメチル
フェノキシ基、２，６−ジメチルフェノキシ基、３，４
−ジメチルフェノキシ基、３，５−ジメチルフェノキシ
基、２，３，４−トリメチルフェノキシ基、２，３，５
−トリメチルフェノキシ基、２，３，６−トリメチルフ
ェノキシ基、２，４，５−トリメチルフェノキシ基、
２，４，６−トリメチルフェノキシ基、３，４，５−ト
リメチルフェノキシ基、２，３，４，５−テトラメチル
フェノキシ基、２，３，４，６−テトラメチルフェノキ
シ基、２，３，５，６−テトラメチルフェノキシ基、ペ
ンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ｎ−プ
ロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、ｎ−
ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ−ブチルフェノキシ基、ｔ
ｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、ｎ−ヘキシルフェノキシ
基、ｎ−オクチルフェノキシ基、ｎ−デシルフェノキシ
基、ｎ−テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基、ア
ントラセノキシ基、およびこれらのフッ素置換アリール
オキシ基が挙げられる。

【００１２】Ｒ¹〜Ｒ⁸、Ｘ¹〜Ｘ³における置換されてい
てもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基の置
換基としては、アルキル基、ハロゲン原子等が挙げら
れ、具体例としては、ベンジルオキシ基、（２−メチル
フェニル）メトキシ基、（３−メチルフェニル）メトキ
シ基、（４−メチルフェニル）メトキシ基、（２，３−
ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，４−ジメチルフ
ェニル）メトキシ基、（２，５−ジメチルフェニル）メ
トキシ基、（２，６−ジメチルフェニル）メトキシ基、
（３，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，５−
ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４−トリメ
チルフェニル）メトキシ基、（２，３，５−トリメチル
フェニル）メトキシ基、（２，３，６−トリメチルフェ
ニル）メトキシ基、（２，４，５−トリメチルフェニ
ル）メトキシ基、（２，４，６−トリメチルフェニル）
メトキシ基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メト
キシ基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メ
トキシ基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）
メトキシ基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニ
ル）メトキシ基、（ペンタメチルフェニル）メトキシ
基、（エチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−プロピルフ
ェニル）メトキシ基、（イソプロピルフェニル）メトキ
シ基、（ｎ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｓｅｃ−
ブチルフェニル）メトキシ基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェ
ニル）メトキシ基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メトキシ
基、（ｎ−オクチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−デシ
ルフェニル）メトキシ基、（ｎ−テトラデシルフェニ
ル）メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニル
メトキシ基などが挙げられ、好ましくはベンジルオキシ
基である。これらのアラルキルオキシ基はいずれもフッ
素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲ
ン原子で置換されていてもよい。

【００１３】Ｒ¹〜Ｒ⁸、Ｘ¹〜Ｘ³における炭素数１〜２
０の炭化水素置換シリル基とは、炭素数１〜２０の炭化
水素基で置換されたシリル基であって、ここでの炭化水
素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロ
ピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチ
ル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペン
チル基、アミル基 、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル
基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基などの炭素原子数１
〜１０のアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル
基、ナフチル基、アントラセニル基などの炭素原子数１
〜２０のアリール基等が挙げられる。かかる炭素数１〜
２０の炭化水素置換シリル基としては、例えば、メチル
シリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基などの１
置換シリル基、ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、
ジフェニルシリル基などの２置換シリル基、トリメチル
シリル基、トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロピルシ
リル基、トリ−イソプロピルシリル基、トリ−ｎ−ブチ
ルシリル基、トリ−ｓｅｃ−ブチルシリル基、トリ−ｔ
ｅｒｔ−ブチルシリル基、トリ−イソブチルシリル基、
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリ−ｎ−ペンチ
ルシリル基、トリ−ｎ−ヘキシルシリル基、トリシクロ
ヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基などの３置換
シリル基等が挙げられ、好ましくはトリメチルシリル
基、 ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリフェニ
ルシリル基が挙げられる。これらの置換シリル基はいず
れもがその炭化水素基がフッ素原子で置換されていても
よい。

【００１４】Ｒ¹〜Ｒ⁸、Ｘ¹〜Ｘ³における炭素数１〜２
０の炭化水素置換アミノ基とは２つの炭化水素基で置換
されたアミノ基であって、ここでの炭化水素基として
は、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イ
ソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅ
ｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、ア
ミル基 、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−オ
クチル基、ｎ−デシル基などの炭素原子数１〜１０のア
ルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチ
ル基、アントラセニル基などの炭素原子数１〜２０のア
リール基等が挙げられる。かかる炭素数１〜２０の炭化
水素置換アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ
基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジ
イソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−
ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ
基、ジ−イソブチルアミノ基、 ｔｅｒｔ −ブチルイソ
プロピルアミノ基、 ジ−ｎ−ヘキシルアミノ基、ジ−
ｎ−オクチルアミノ基、ジ−ｎ−デシルアミノ基、ジフ
ェニルアミノ基等が挙げられ、好ましくはジメチルアミ
ノ基、ジエチルアミノ基等が挙げられる。

【００１５】隣接するＸ¹〜Ｘ³、隣接するＲ¹〜Ｒ³、隣
接するＲ⁴〜Ｒ⁸はそれぞれ結合して環を形成していても
よい。一般式（２）で示される遷移金属化合物におい
て、Ｍで示される遷移金属原子とは、元素の周期律表
（ＩＵＰＡＣ無機化学命名法改定版１９８９）の第４族
の遷移金属原子であり、例えばチタン原子、ジルコニウ
ム原子、ハフニウム原子などが挙げられ、好ましくはチ
タン原子が挙げられる。

【００１６】Ｘ¹〜Ｘ³におけるハロゲン原子としてはフ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが例示
され、好ましくは塩素原子が挙げられる。

【００１７】一般式（１）で示される化合物としては、
ベンズアルデヒド ヒドラゾン、ベンズアルデヒド メ
チルヒドラゾン、ベンズアルデヒド フェニルヒドラゾ
ン、ベンズアルデヒド ４−メチルフェニルヒドラゾ
ン、ベンズアルデヒド １−ナフチルヒドラゾン、ベン
ズアルデヒド ２−ナフチルヒドラゾン、ベンズアルデ
ヒド ２，６−ジイソプロピルフェニルヒドラゾン

【００１８】アセトフェノン ヒドラゾン、アセトフェ
ノン メチルヒドラゾン、アセトフェノン フェニルヒ
ドラゾン、アセトフェノン ４−メチルフェニルヒドラ
ゾン、アセトフェノン １−ナフチルヒドラゾン、アセ
トフェノン ２−ナフチルヒドラゾン、アセトフェノン
２，６−ジイソプロピルフェニルヒドラゾン

【００１９】ベンゾフェノン ヒドラゾン、ベンゾフェ
ノン メチルヒドラゾン、ベンゾフェノン フェニルヒ
ドラゾン、ベンゾフェノン ４−メチルフェニルヒドラ
ゾン、ベンゾフェノン １−ナフチルヒドラゾン、ベン
ゾフェノン ２−ナフチルヒドラゾン、ベンゾフェノン
２，６−ジイソプロピルフェニルヒドラゾン

【００２０】１−ナフタレンアルデヒド ヒドラゾン、
１−ナフタレンアルデヒド メチルヒドラゾン、１−ナ
フタレンアルデヒド フェニルヒドラゾン、１−ナフタ
レンアルデヒド ４−メチルフェニルヒドラゾン、１−
ナフタレンアルデヒド １−ナフチルヒドラゾン、１−
ナフタレンアルデヒド ２−ナフチルヒドラゾン、１−
ナフタレンアルデヒド ２，６−ジイソプロピルフェニ
ルヒドラゾン

【００２１】２−ナフタレンアルデヒド ヒドラゾン、
２−ナフタレンアルデヒド メチルヒドラゾン、２−ナ
フタレンアルデヒド フェニルヒドラゾン、２−ナフタ
レンアルデヒド ４−メチルフェニルヒドラゾン、２−
ナフタレンアルデヒド １−ナフチルヒドラゾン、２−
ナフタレンアルデヒド ２−ナフチルヒドラゾン、２−
ナフタレンアルデヒド ２，６−ジイソプロピルフェニ
ルヒドラゾン

【００２２】１−ナフタレンメチルケトン ヒドラゾ
ン、１−ナフタレンメチルケトン メチルヒドラゾン、
１−ナフタレンメチルケトン フェニルヒドラゾン、１
−ナフタレンメチルケトン ４−メチルフェニルヒドラ
ゾン、１−ナフタレンメチルケトン １−ナフチルヒド
ラゾン、１−ナフタレンメチルケトン ２−ナフチルヒ
ドラゾン、１−ナフタレンメチルケトン ２，６−ジイ
ソプロピルフェニルヒドラゾン

【００２３】２−ナフタレンメチルケトン ヒドラゾ
ン、２−ナフタレンメチルケトン メチルヒドラゾン、
２−ナフタレンメチルケトン フェニルヒドラゾン、２
−ナフタレンメチルケトン ４−メチルフェニルヒドラ
ゾン、２−ナフタレンメチルケトン １−ナフチルヒド
ラゾン、２−ナフタレンメチルケトン ２−ナフチルヒ
ドラゾン、２−ナフタレンメチルケトン ２，６−ジイ
ソプロピルフェニルヒドラゾン

【００２４】１−ナフタレンフェニルケトン ヒドラゾ
ン、１−ナフタレンフェニルケトンメチルヒドラゾン、
１−ナフタレンフェニルケトン フェニルヒドラゾン、
１−ナフタレンフェニルケトン ４−メチルフェニルヒ
ドラゾン、１−ナフタレンフェニルケトン １−ナフチ
ルヒドラゾン、１−ナフタレンフェニルケトン ２−ナ
フチルヒドラゾン、１−ナフタレンフェニルケトン
２，６−ジイソプロピルフェニルヒドラゾン

【００２５】２−ナフタレンフェニルケトン ヒドラゾ
ン、２−ナフタレンフェニルケトンメチルヒドラゾン、
２−ナフタレンフェニルケトン フェニルヒドラゾン、
２−ナフタレンフェニルケトン ４−メチルフェニルヒ
ドラゾン、２−ナフタレンフェニルケトン １−ナフチ
ルヒドラゾン、２−ナフタレンフェニルケトン ２−ナ
フチルヒドラゾン、２−ナフタレンフェニルケトン
２，６−ジイソプロピルフェニルヒドラゾンおよび窒素
原子をリン原子あるいはヒ素原子に置換した化合物等が
例示され、二重結合に異性体がある場合は、単一であっ
ても、混合物であってもよい。

【００２６】一般式（２）で示される遷移金属化合物と
しては、シクロペンタジエニルチタニウムトリクロライ
ド、メチルシクロペンタジエニルチタニウムトリクロラ
イド、１，２−ジメチルシクロペンタジエニルチタニウ
ムトリクロライド、１，３−ジメチルシクロペンタジエ
ニルチタニウムトリクロライド、１，２，３−トリメチ
ルシクロペンタジエニルチタニウムトリクロライド、
１，２，４−トリメチルシクロペンタジエニルチタニウ
ムトリクロライド、１，２，３，４−テトラメチルシク
ロペンタジエニルチタニウムトリクロライド、ペンタメ
チルシクロペンタジエニルトリクロライド、イソプロピ
ルシクロペンタジエニルチタニウムトリクロライド、
１，２−ジイソプロピルシクロペンタジエニルチタニウ
ムトリクロライド、１，３−ジイソプロピルシクロペン
タジエニルチタニウムトリクロライド、n−ブチルシク
ロペンタジエニルチタニウムトリクロライド、１，２−
ジ−n−ブチルシクロペンタジエニルチタニウムトリク
ロライド、１，３−ジ−n−ブチルシクロペンタジエニ
ルチタニウムトリクロライド、tert−ブチルシクロペン
タジエニルチタニウムトリクロライド、１，２−ジ−te
rt−ブチルシクロペンタジエニルチタニウムトリクロラ
イド、１，３−ジ−tert−ブチルシクロペンタジエニル
チタニウムトリクロライド、フェニルシクロペンタジエ
ニルチタニウムトリクロライド、１，２−ジフェニルシ
クロペンタジエニルチタニウムトリクロライド、１，３
−ジフェニルシクロペンタジエニルチタニウムトリクロ
ライド、１，２−ジメチル−３−tert−ブチルシクロペ
ンタジエニルチタニウムトリクロライド、１，２−ジメ
チル−３−tert−ブチルシクロペンタジエニルチタニウ
ムトリクロライド、１，２−ジメチル−４−tert−ブチ
ルシクロペンタジエニルチタニウムトリクロライド、
１，２−ジメチル−３−ｎ−ブチルシクロペンタジエニ
ルチタニウムトリクロライド、１，２−ジメチル−４−
ｎ−ブチルシクロペンタジエニルチタニウムトリクロラ
イド、１，２−ジメチル−３−sec−ブチルシクロペン
タジエニルチタニウムトリクロライド、１，２−ジメチ
ル−４−sec−ブチルシクロペンタジエニルチタニウム
トリクロライド、１，２−ジメチル−３−イソブチルシ
クロペンタジエニルチタニウムトリクロライド、１，２
−ジメチル−４−イソブチルシクロペンタジエニルチタ
ニウムトリクロライド、１，２−ジメチル−３−イソプ
ロピルシクロペンタジエニルチタニウムトリクロライ
ド、１，２−ジメチル−４−イソプロピルシクロペンタ
ジエニルチタニウムトリクロライド、１，２−ジメチル
−３−フェニルシクロペンタジエニルチタニウムトリク
ロライド、１，２−ジメチル−４−フェニルシクロペン
タジエニルチタニウムトリクロライド、インデニルチタ
ニウムトリクロライド、１−メチルインデニルチタニウ
ムトリクロライド、２−メチルインデニルチタニウムト
リクロライド、１−フェニルインデニルチタニウムトリ
クロライド、２−フェニルインデニルチタニウムトリク
ロライド、１−ジメチルアミノインデニルチタニウムト
リクロライド、２−ジメチルアミノインデニルチタニウ
ムトリクロライド、１−（１−ピロリジル）−インデニ
ルチタニウムトリクロライド、２−（１−ピロリジル）
−インデニルチタニウムトリクロライド、フルオレニル
チタニウムトリクロライド等が例示され、チタニウムを
ジルコニウム、ハフニウムに変更した化合物、クロライ
ドをブロマイド、フルオライド、メチル、ベンジル、ジ
メチルアミド、ジエチルアミド、メトキシド、イソプロ
ポキシド、tert−ブトキシドに変更した化合物なども同
様に挙げられる。

【００２７】一般式（１）で示される化合物、一般式
（２）で示される遷移金属化合物からなる、遷移金属錯
体の製造は、例えば、窒素、アルゴンなどの不活性雰囲
気下において、溶媒の存在下に実施することができる。

【００２８】一般式（１）示される化合物との反応に用
いられる塩基としては、リチウムジイソプロピルアミ
ド、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキ
サメチルジシラジド、カリウムヘキサメチルジシラジ
ド、ナトリウムヒドリド、カリウムヒドリドなどの求核
力の弱い強塩基が挙げられる。

【００２９】塩基の仕込量は一般式（１）で示される化
合物に対し、通常、０．１〜１０モル倍であり、好まし
くは０．５〜２モル倍である。

【００３０】一般式（２）で示される遷移金属錯体に対
する一般式（１）で示される化合物の仕込み量は通常、
０．１〜１０モル倍であり、好ましくは０．５〜２モル
倍である。

【００３１】反応に用いる溶媒は特に限定されないが、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の
脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシ
チレン等の芳香族炭化水素、ジエチルエーテル、ジブチ
ルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、テトラヒド
ロフラン等のエーテル類およびこれらの混合物が例示さ
れる。その使用量は、 通常、一般式（１）で示される
化合物の１〜２００重量倍であり、好ましくは３〜３０
重量倍である。

【００３２】反応温度としては、通常は−１００℃〜溶
媒の沸点において実施され、好ましくは−８０〜３０℃
程度である。

【００３３】反応後、金属塩が副生する場合はこれをろ
別し、その後、溶媒を留去することにより遷移金属錯体
を得ることができる。必要に応じ、再結晶、昇華など通
常の方法により精製することができる。かかる遷移金属
錯体の具体例としては、前記一般式（１）で示される化
合物と、一般式（２）で示される遷移金属化合物に対応
する遷移金属錯体を挙げることができる。

【００３４】かくして製造される遷移金属錯体は、下記
化合物（Ａ）、あるいはさらに下記化合物（Ｂ）を、重
合時に任意の順序で投入し使用することができるが、ま
たそれらの任意の化合物の組合せを予め接触させて得ら
れた反応物を用いることもできる。

【００３５】〔化合物（Ａ）〕本発明において用いられ
る化合物（Ａ）としては、公知の有機アルミニウム化合
物が使用できる。好ましくは、化合物（Ａ）としては、
公知の有機アルミニウム化合物が使用でき、好ましく
は、下記化合物（Ａ１）〜（Ａ３）のいずれか、あるい
はそれらの２〜３種の混合物が挙げられる。 （Ａ１）：一般式Ｅ¹ _aＡｌ（Ｚ）_3-aで示される有機ア
ルミニウム化合物 （Ａ２）：一般式｛−Ａｌ（Ｅ²）−Ｏ−｝_bで示される
構造を有する環状のアルミノキサン （Ａ３）：一般式Ｅ³｛−Ａｌ（Ｅ³ ）−Ｏ−｝_cＡｌ
（Ｅ³）₂で示される構造を有する線状のアルミノキサン （式中、Ｅ¹〜Ｅ³は同一または相異なり、炭素原子数１
〜８の炭化水素基であり、Ｚは同一または相異なり、水
素原子またはハロゲン原子を表わし、ａは１、２または
３で、ｂは２以上の整数を、ｃは１以上の整数を表わ
す。）

【００３６】一般式 Ｅ¹ _aＡｌＺ_3-aで示される有機ア
ルミニウム化合物（Ａ１）の具体例としては、トリメチ
ルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピ
ルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘ
キシルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム；ジ
メチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウム
クロライド、ジプロピルアルミニウムクロライド、ジイ
ソブチルアルミニウムクロライド、ジヘキシルアルミニ
ウムクロライド等のジアルキルアルミニウムクロライ
ド；メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニ
ウムジクロライド、プロピルアルミニウムジクロライ
ド、イソブチルアルミニウムジクロライド、ヘキシルア
ルミニウムジクロライド等のアルキルアルミニウムジク
ロライド；ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチ
ルアルミニウムハイドライド、ジプロピルアルミニウム
ハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライ
ド、ジヘキシルアルミニウムハイドライド等のジアルキ
ルアルミニウムハイドライド等を例示することができ
る。好ましくは、トリアルキルアルミニウムであり、よ
り好ましくは、トリエチルアルミニウム、トリイソブチ
ルアルミニウムである。

【００３７】一般式｛−Ａｌ（Ｅ²）−Ｏ−｝_bで示され
る構造を有する環状のアルミノキサン（Ａ２）、一般式
Ｅ³｛−Ａｌ（Ｅ³）−Ｏ−｝_cＡｌ（Ｅ³）₂で示される
構造を有する線状のアルミノキサン（Ａ３）における、
Ｅ²、Ｅ³の具体例としては、メチル基、エチル基、ノル
マルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、
イソブチル基、ノルマルペンチル基、ネオペンチル基等
のアルキル基を例示することができる。ｂは２以上の整
数であり、ｃは１以上の整数である。好ましくは、Ｅ2
及びＥ3 はメチル基、イソブチル基であり、ｂは２〜４
０、ｃは１〜４０である。

【００３８】上記のアルミノキサンは各種の方法で造ら
れる。その方法については特に制限はなく、公知の方法
に準じて造ればよい。例えば、トリアルキルアルミニウ
ム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を適当な有
機溶剤（ベンゼン、脂肪族炭化水素など）に溶かした溶
液を水と接触させて造る。また、トリアルキルアルミニ
ウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を結晶水
を含んでいる金属塩（例えば、硫酸銅水和物など）に接
触させて造る方法が例示できる。

【００３９】〔化合物Ｂ〕本発明において化合物（Ｂ）
としては、（Ｂ１）一般式ＢＱ¹Ｑ²Ｑ³で表されるホウ
素化合物、（Ｂ２）一般式Ｚ⁺（ＢＱ¹Ｑ²Ｑ³Ｑ⁴）^-で表
されるホウ素化合物、（Ｂ３）一般式（Ｌ−Ｈ）⁺（Ｂ
Ｑ¹Ｑ²Ｑ³Ｑ⁴）^-で表されるホウ素化合物のいずれか、
あるいはそれらの２〜３種の混合物を用いる。

【００４０】一般式 ＢＱ¹Ｑ²Ｑ³で表されるホウ素化
合物（Ｂ１）において、Ｂは３価の原子価状態のホウ素
原子であり、Ｑ¹〜Ｑ³はハロゲン原子、１〜２０個の炭
素原子を含む炭化水素基、１〜２０個の 炭素原子を含
むハロゲン化炭化水素基、１〜２０個の炭素原子を含む
置換シリル基、１〜２０個の炭素原子を含むアルコキシ
基または２〜２０個の炭素原子を含む２置換アミノ基で
あり、それらは同じであっても異なっていても良い。好
ましいＱ¹〜Ｑ³はハロゲン原子、１〜２０個の炭素原子
を含む炭化水素基、１〜２０個の炭素原子を含むハロゲ
ン化炭化水素基である。

【００４１】（Ｂ１）の具体例としては、トリス（ペン
タフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，５，６
−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，
４，５−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス
（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボラン、トリス
（２，３，４−トリフルオロフェニル）ボラン、フェニ
ルビス（ペンタフルオロフェニル）ボラン等が挙げられ
るが、好ましくは、トリス（ペンタフルオロフェニル）
ボランである。

【００４２】一般式Ｚ⁺（ＢＱ¹Ｑ²Ｑ³Ｑ⁴）^-で表される
ホウ素化合物（Ｂ２）において、Ｚ⁺は無機または有機
のカチオンであり、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子
であり、Ｑ¹〜Ｑ⁴は上記の（Ｂ１）におけるＱ¹〜Ｑ³と
同様である。

【００４３】一般式 Ｚ⁺（ＢＱ¹Ｑ²Ｑ³Ｑ⁴）^-で表され
る化合物の具体例としては、無機のカチオンであるＺ+
には、フェロセニウムカチオン、アルキル置換フェロセ
ニウムカチオン、銀陽イオンなどが、有機のカチオンで
あるＺ+ には、トリフェニルメチルカチオンなどが挙げ
られる。（ＢＱ¹Ｑ²Ｑ³Ｑ⁴）^-には、テトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，
５，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、テトラキ
ス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ボレー
ト、テトラキス（３，４，５−トリフルオロフェニル）
ボレート、テトラキス（２，２，４ートリフルオロフェ
ニル）ボレート、フェニルビス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレ−ト、テトラキス（３，５−ビストリフルオロ
メチルフェニル）ボレートなどが挙げられる。

【００４４】これらの具体的な組み合わせとしては、フ
ェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レート、１，１'−ジメチルフェロセニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、銀テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメ
チルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
トリフェニルメチルテトラキス（３，５−ビストリフル
オロメチルフェニル）ボレートなどを挙げることができ
るが、好ましくは、トリフェニルメチルテトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレートが挙げられる。

【００４５】また、一般式（Ｌ−Ｈ）⁺（ＢＱ¹Ｑ²Ｑ³Ｑ
⁴）^-で表されるホウ素化合物（Ｂ３）においては、Ｌは
中性ルイス塩基であり、（Ｌ−Ｈ）⁺はブレンステッド
酸であり、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、
Ｑ¹〜Ｑ⁴は上記の（Ｂ１）におけるＱ¹〜Ｑ³と同様であ
る。

【００４６】一般式（Ｌ−Ｈ）⁺（ＢＱ¹Ｑ²Ｑ³Ｑ⁴）^-で
表される化合物の具体例としては、ブレンステッド酸で
ある（Ｌ−Ｈ）⁺には、トリアルキル置換アンモニウ
ム、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム、ジアルキルアン
モニウム、トリアリールホスホニウムなどが挙げられ、
（ＢＱ¹Ｑ²Ｑ³Ｑ⁴）^-には、前述と同様のものが挙げら
れる。

【００４７】これらの具体的な組み合わせとしては、ト
リエチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ノルマル
ブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウム
テトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニ
ル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジエ
チルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニ
リニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（３，５
−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、ジイソ
プロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニ
ルホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）
ボレート、トリ（メチルフェニル）ホスホニウムテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ジメ
チルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）ボレートなどを挙げることができるが、好
ましくは、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレートが挙げられる。

【００４８】各触媒成分の使用量は、化合物（Ａ）／遷
移金属錯体のモル比が０．１〜１００００で、好ましく
は５〜２０００、化合物（Ｂ）／遷移金属錯体のモル比
が０．０１〜１００で、好ましくは０．５〜１０の範囲
にあるように、各成分を用いることが望ましい。各触媒
成分を溶液状態で使う場合の濃度については、遷移金属
錯体が、０．０００１〜５ミリモル／リットルで、好ま
しくは、０．００１〜１ミリモル／リットル、化合物
（Ａ）が、Ａｌ原子換算で、０．０１〜５００ミリモル
／リットルで、好ましくは、０．１〜１００ミリモル／
リットル、化合物（Ｂ）は、０．０００１〜５ミリモル
／リットルで、好ましくは、０．００１〜１ミリモル／
リットルの範囲にあるように、各成分を用いることが望
ましい。

【００４９】本発明において、重合に使用するモノマー
は、炭素原子数２〜２０個からなるオレフィン、ジオレ
フィン等のいずれをも用いることができ、同時に２種類
以上のモノマーを用いることもできる。かかるモノマー
を以下に例示するが、本発明は下記化合物に限定される
ものではない。かかるオレフィンの具体例としては、エ
チレン、プロピレン、ブテン−１、ペンテン−１、ヘキ
セン−１、ヘプテン−１、オクテン−１、ノネン−１、
デセン−１、５−メチル−２−ペンテン−１、ビニルシ
クロヘキセン等が例示される。ジオレフィン化合物とし
ては、炭化水素化合物の共役ジエン、非共役ジエンが挙
げられ、かかる化合物の具体例としては、非共役ジエン
化合物の具体例として、１，５−ヘキサジエン、１，４
−ヘキサジエン、１，４−ペンタジエン、１，７−オク
タジエン、１，８−ノナジエン、１，９−デカジエン、
４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，
４−ヘキサジエン、７−メチル−１，６−オクタジエ
ン、５−エチリデン−２−ノルボルネン、ジシクロペン
タジエン、５−ビニル−２−ノルボルネン、５−メチル
−２−ノルボルネン、ノルボルナジエン、５−メチレン
−２−ノルボルネン、１，５−シクロオクタジエン、
５，８−エンドメチレンヘキサヒドロナフタレン等が例
示され、共役ジエン化合物の具体例としては、１，３−
ブタジエン、イソプレン、１，３−ヘキサジエン、１，
３−オクタジエン、１，３−シクロオクタジエン、１，
３−シクロヘキサジエン等を例示することができる。共
重合体を構成するモノマーの具体例としては、エチレン
とプロピレン、エチレンとブテン−１、エチレンとヘキ
セン−１、プロピレンとブテン−１等、およびそれらに
さらに５−エチリデン−２−ノルボルネンを使用する組
み合わせ等が例示されるが、本発明は、上記化合物に限
定されるものではない。

【００５０】本発明では、モノマーとして芳香族ビニル
化合物も用いることができる。芳香族ビニル化合物の具
体例としては、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メ
チルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ，ｐ−ジメチル
スチレン、ｏ−エチルスチレン、ｍ−エチルスチレン、
ｐ−エチルスチレン、ｏ−クロロスチレン、ｐ−クロロ
スチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン等が
挙げられる。

【００５１】重合方法も、特に限定されるべきものでは
ないが、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン
等の芳香族炭化水素、またはメチレンジクロライド等の
ハロゲン化炭化水素を溶媒として用いる溶媒重合、また
はスラリー重合、ガス状のモノマー中での気相重合等が
可能であり、また、連続重合、回分式重合のどちらでも
可能である。

【００５２】重合温度は、−５０℃〜２００℃の範囲を
とり得るが、特に、−２０℃〜１００℃程度の範囲が好
ましく、重合圧力は、常圧〜６ＭＰａ（６０ｋｇ／ｃｍ
² Ｇ）が好ましい。重合時間は、一般的に、目的とす
るポリマーの種類、反応装置により適宜決定されるが、
１分間〜２０時間の範囲をとることができる。また、本
発明は共重合体の分子量を調節するために水素等の連鎖
移動剤を添加することもできる。

【００５３】

【発明の効果】本発明により、得られる遷移金属錯体
は、高活性な重合触媒成分となり、オレフィンの重合反
応により高分子量のポリマーを与える。

【００５４】

【実施例】以下、実施例を挙げて、本発明をさらに詳し
く説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるもの
ではない。

【００５５】（実施例１）反応は窒素下にておこなっ
た。ジイソプロピルアミン０．２２ｇ（２．２ミリモ
ル）を６ｍＬのテトラヒドロフランに溶解し、０℃に冷
却した。この溶液にｎ−ブチルリチウム １．３８ｍＬ
（２．２ミリモル、１．５９モル／Ｌヘキサン溶液）を
加え、１時間攪拌した。この溶液を−７８℃に冷却し、
ベンゾフェノンフェニルヒドラゾン０．５５ｇ（２．０
ミリモル）のテトラヒドロフラン溶液（６ｍＬ）を滴下
した。この溶液を−７８℃で１時間攪拌後、キャニュラ
ーを用いて−７８℃に冷却したペンタメチルシクロペン
タジエニルチタニウムトリクロライド０．７０ｇ（２．
４ミリモル）のテトラヒドロフラン溶液（３ｍＬ）に滴
下した。反応溶液を徐々に室温まで昇温し、室温で３時
間攪拌後、濃縮した。グローブボックス中でトルエンに
溶解し、不溶分をろ過で除き、ろ液を濃縮したところ、
０．５９ｇの触媒成分を得た。

【００５６】（実施例２）窒素雰囲気下、オートクレー
ブにトルエン５．０ｍＬを仕込み、４０℃で安定させた
後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。
ここに、メチルアルミノキサン（１００μモル）、実施
例１で得た触媒成分０．０５ｍｇを加え、３０分間重合
した。重合の結果、ポリエチレンを触媒成分１ｇ当た
り、１時間当たり、１．７９×１０⁴ｇ製造した。

【００５７】（実施例３）メチルアルミノキサンの代わ
りに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４
０μＬ、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニ
ルボラン（０．３０μモル）を用いた以外は実施例２と
同様に重合を行った。重合の結果、ポリエチレンを触媒
成分１ｇ当たり、１時間当たり、２．０９×１０⁴ｇ製
造した。

【００５８】（実施例４）メチルアルミノキサンの代わ
りに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４
０μＬ、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウム
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．
３０μモル）を用いた以外は実施例２と同様に重合を行
った。重合の結果、ポリエチレンを触媒成分１ｇ当た
り、１時間あたり、１．２２×１０⁴ｇ製造した。

【００５９】（実施例５）メチルアルミノキサンの代わ
りに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４
０μＬ、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３
０μモル）を用いた以外は実施例２と同様に重合を行っ
た。重合の結果、ポリエチレンを触媒成分１ｇあたり、
１時間あたり、９．３３×１０³ｇ製造した。

【００６０】（実施例６）窒素雰囲気下、オートクレー
ブにトルエン５．０ｍＬ、１−ヘキセン（０．５０μ
Ｌ）を仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．
６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、メチルアル
ミノキサン（１００μモル）、実施例１で得た触媒成分
０．０５ｍｇを加え、３０分間重合した。重合の結果、
分子量（Ｍｗ）＝５００００００、分子量分布（Ｍｗ／
Ｍｎ）＝３．４、融点が１１０．３℃のエチレン−ヘキ
セン−１共重合体を触媒成分１ｇあたり、１時間当た
り、１．１０×１０⁴ｇ製造した。

【００６１】（実施例７）メチルアルミノキサンの代わ
りに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４
０μＬ、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニ
ルボラン（０．３０μモル）を用いた以外は実施例６と
同様に重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝３
４０００００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝２．４、融
点が１０５．９℃のエチレン−ヘキセン−１共重合体を
触媒成分１ｇあたり、１時間当たり、３．２２×１０⁴
ｇ製造した。

【００６２】（実施例８）メチルアルミノキサンの代わ
りに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４
０μＬ、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウム
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．
３０μモル）を用いた以外は実施例６と同様に重合を行
った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝３２０００００、
分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝５．３、融点が１１０．４
℃のエチレン−ヘキセン−１共重合体を触媒成分１ｇあ
たり、１時間当たり、１．２４×１０⁴ｇ製造した。

【００６３】（実施例９）メチルアルミノキサンの代わ
りに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４
０μＬ、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３
０μモル）を用いた以外は実施例６と同様に重合を行っ
た。重合の結果、、融点が１０９．５℃のエチレン−ヘ
キセン−１共重合体を触媒成分１ｇあたり、１時間当た
り、８．３８×１０³ｇ製造した。

【００６４】（実施例１０）窒素雰囲気下、オートクレ
ーブにトルエン５．０ｍＬ、１−ヘキセン（０．５０μ
Ｌ）を仕込み、７０℃で安定させた後、エチレンを０．
６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、メチルアル
ミノキサン（１００μモル）、実施例１で得た触媒成分
０．０５ｍｇを加え、３０分間重合した。重合の結果、
分子量（Ｍｗ）＝２１０００００、分子量分布（Ｍｗ／
Ｍｎ）＝２．９、融点が１１３．０℃のエチレン−ヘキ
セン−１共重合体を触媒成分１ｇあたり、１時間当た
り、６．９１×１０⁴ｇ製造した。

【００６５】（実施例１１）メチルアルミノキサンの代
わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液
（４０μＬ、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフ
ェニルボラン（０．３０μモル）を用いた以外は実施例
１０と同様に重合を行った。重合の結果、融点が１１
２．８℃のエチレン−ヘキセン−１共重合体を触媒成分
１ｇあたり、１時間当たり、２．０２×１０⁵ｇ製造し
た。

【００６６】（実施例１２）メチルアルミノキサンの代
わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液
（４０μＬ、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニ
ウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート
（０．３０μモル）を用いた以外は実施例１０と同様に
重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝７４００
００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝５．４、融点が１０
９．２℃のエチレン−ヘキセン−１共重合体を触媒成分
１ｇあたり、１時間当たり、２．２８×１０⁵ｇ製造し
た。

【００６７】（実施例１３）メチルアルミノキサンの代
わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液
（４０μＬ、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチ
ルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート
（０．３０μモル）を用いた以外は実施例１０と同様に
重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝８３００
００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝７．０、融点が１１
０．４℃のエチレン−ヘキセン−１共重合体を触媒成分
１ｇあたり、１時間当たり、５．５４×１０⁴ｇ製造し
た。

【００６８】（実施例１４）窒素雰囲気下、オートクレ
ーブにトルエン５．０ｍＬ、１−ヘキセン（０．５０μ
Ｌ）を仕込み、１３０℃で安定させた後、エチレンを
０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、メチル
アルミノキサン（１０μモル）、実施例１で得た触媒成
分０．０５ｍｇを加え、３０分間重合した。重合の結
果、エチレン−ヘキセン−１共重合体を触媒成分１ｇあ
たり、１時間当たり、５．７０×１０²ｇ製造した。

【００６９】（実施例１５）メチルアルミノキサンの代
わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液
（４μＬ、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウ
ムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート
（０．３０μモル）を用いた以外は実施例１４と同様に
重合を行った。重合の結果、エチレン−ヘキセン−１共
重合体を触媒成分１ｇあたり、１時間当たり、３．８１
×１０²ｇ製造した。

【００７０】（実施例１６）メチルアルミノキサンの代
わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液
（４μＬ、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチル
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．
３０μモル）を用いた以外は実施例１０と同様に重合を
行った。重合の結果、エチレン−ヘキセン−１共重合体
を触媒成分１ｇあたり、１時間当たり、１．５２×１０
³ｇ製造した。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 東井 隆行 大阪府高槻市塚原２丁目10番１号 住友化 学工業株式会社内 Ｆターム(参考） 4J128 AA01 AB01 AC01 AC10 AC28 AD01 AD11 AD13 AD16 AD19 BA00A BA01B BA02B BA03B BA04B BA05B BB00A BB01B BB02B BB03B BC12B BC13B BC15B BC16B BC17B BC25B BC27B CB70A CB86A CB91A CB97A EA01 EB07 EB08 EB09 EB12 EB13 EB14 EB16 EB17 EB18 EB21 EC01 EC02 ED01 ED02 ED03 FA02 FA04 FA06 GA01 GA06 GA19 GB01

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式（１） （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は同一または相異なり、水素原
   子、置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル
   基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリール
   基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のアラルキル
   基、置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルコキシ
   基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリールオ
   キシ基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のアラル
   キルオキシ基、炭素数１〜２０の炭化水素置換シリル基
   または炭素数１〜２０の炭化水素置換アミノ基を示し、
   Ａ¹、Ａ²は元素の周期律表の第１５族の原子を示し、隣
   接するＲ ¹、Ｒ²、Ｒ³は任意に結合して環を形成してい
   てもよく、Ａ²、Ｒ²、Ｒ³からなる二重結合部分は単
   一、もしくは異性体の混合物であってもよい。）で示さ
   れる化合物を塩基と反応させた後、一般式（２） （式中、Ｍは元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を
   示し、Ｒ⁴〜Ｒ⁸は同一または相異なり、水素原子、置換
   されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、置換さ
   れていてもよい炭素数６〜２０のアリール基、置換され
   ていてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基、置換され
   ていてもよい炭素数１〜１０のアルコキシ基、置換され
   ていてもよい炭素数６〜２０のアリールオキシ基、置換
   されていてもよい炭素数７〜２０のアラルキルオキシ
   基、炭素数１〜２０の炭化水素置換シリル基または炭素
   数１〜２０の炭化水素置換アミノ基を示し、Ｘ¹〜Ｘ³は
   同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原子、置換さ
   れていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、置換され
   ていてもよい炭素数１〜１０のアルコキシ基、置換され
   ていてもよい炭素数６〜２０のアリール基、置換されて
   いてもよい炭素数６〜２０のアリールオキシ基、置換さ
   れていてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基、置換さ
   れていてもよい炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基、
   炭素数１〜２０の炭化水素置換シリル基または炭素数１
   〜２０の炭化水素置換アミノ基を示し、隣接するＸ¹〜
   Ｘ³は、結合して環を形成していてもよく、隣接するＲ⁵
   〜Ｒ⁸は結合して環を形成していてもよい。）で示され
   る遷移金属化合物を反応させて得られる遷移金属錯体お
   よび下記化合物（Ａ）を組み合わせてなることを特徴と
   するオレフィン重合用触媒。 （Ａ）： 下記化合物（Ａ１）〜（Ａ３）のいずれか、
   あるいはそれらの２〜３種の混合物 （Ａ１）： 一般式 Ｅ1 a Ａｌ（Ｚ）3-a で示される
   有機アルミニウム化合物 （Ａ２）: 一般式 ｛−Ａｌ（Ｅ2 ）−Ｏ−｝b で示
   される構造を有する環状のアルミノキサン （Ａ３）： 一般式 Ｅ3 ｛−Ａｌ（Ｅ3 ）−Ｏ−｝c
   Ａｌ（Ｅ3） 2 で示される構造を有する線状のアルミノ
   キサン （式中、Ｅ1 〜Ｅ3 は同一または相異なり、炭素原子数
   １〜８の炭化水素基であり、Ｚは同一または相異なり、
   水素原子またはハロゲン原子を表し、ａは１、２または
   ３で、ｂは２以上の整数を、ｃは１以上の整数を表
   す。）
2. 【請求項２】請求項１に記載の遷移金属錯体と下記化合
   物（Ａ）および（Ｂ）を組み合わせてなることを特徴と
   するオレフィン重合用触媒。 （Ａ）： 下記化合物（Ａ１）〜（Ａ３）のいずれか、
   あるいはそれらの２〜３種の混合物 （Ａ１）： 一般式 Ｅ1 a Ａｌ（Ｚ）3-a で示される
   有機アルミニウム化合物 （Ａ２）: 一般式 ｛−Ａｌ（Ｅ2 ）−Ｏ−｝b で示
   される構造を有する環状のアルミノキサン （Ａ３）： 一般式 Ｅ3 ｛−Ａｌ（Ｅ3 ）−Ｏ−｝c
   Ａｌ（Ｅ3） 2 で示される構造を有する線状のアルミノ
   キサン （式中、Ｅ1 〜Ｅ3 は同一または相異なり、炭素原子数
   １〜８の炭化水素基であり、Ｚは同一または相異なり、
   水素原子またはハロゲン原子を表し、ａは１、２または
   ３で、ｂは２以上の整数を、ｃは１以上の整数を表
   す。） （Ｂ）: 下記化合物（Ｂ１）〜（Ｂ３）のいずれか、
   あるいはそれらの２〜３種の混合物 （Ｂ１）： 一般式 ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 で示されるホウ素
   化合物 （Ｂ２）： 一般式 Ｚ+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で
   示されるホウ素化合物 （Ｂ３）： 一般式（Ｌ−Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4
   ）- で示されるホウ素化合物 （式中、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ
   1 〜Ｑ4 は同一または相異なり、ハロゲン原子、炭素原
   子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロ
   ゲン化炭化水素基、炭素原子数１〜２０の置換シリル
   基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基または炭素原子
   数２〜２０の２置換アミノ基を示す。）
3. 【請求項３】一般式（１）で示される化合物において、
   Ａ¹およびＡ²が窒素原子である請求項１または２に記載
   のオレフィン重合用触媒。
4. 【請求項４】一般式（２）で示される遷移金属化合物の
   Ｍがチタン、ジルコニウム、またはハフニウムである請
   求項１から３のいずれかに記載のオレフィン重合用触
   媒。
5. 【請求項５】一般式（２）で示される遷移金属化合物に
   おいて、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³がそれぞれハロゲン原子である
   請求項１から４のいずれかに記載の重合用触媒。
6. 【請求項６】一般式（１）で示される化合物と一般式
   （２）で示される遷移金属化合物の比率が、１対０．３
   から１対３であることを特徴とする請求項１から５のい
   ずれかに記載のオレフィン重合用触媒。
7. 【請求項７】請求項１から６に記載のオレフィン重合用
   触媒を用いることを特徴とするオレフィン重合体の製造
   方法。