JP2003292521A - 遷移金属錯体を触媒成分とするオレフィン重合用触媒 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 遷移金属錯体を提供すること。 【解決手段】 一般式（１） （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴は同一または相異な
り、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６
〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、
炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリ
ールオキシ基、炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基、
炭素数１〜２０の炭化水素置換シリル基または炭素数１
〜２０の炭化水素置換アミノ基を示し、Ａは元素の周期
律表の第１５族の原子を示す。）で示される化合物と一
般式（２） （式中、Ｍは元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を
示し、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、、Ｘ⁴は同一または相異なり、ハ
ロゲン原子等を示す。）で示される遷移金属化合物とを
反応させて得られる遷移金属錯体を触媒成分とするオレ
フィン重合用触媒。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、重合用触媒および
それを用いる重合体の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】メタロセン錯体を用いるオレフィン重合
体の製造法については多くの報告がなされている。例え
ば、特開昭５８−１９３０９号公報において、メタロセ
ン錯体とアルミノキサンを用いたオレフィン重合体の製
造方法に関して報告されている。ＷＯ９６２３０１０号
公報において、ジイミン‐ニッケル錯体、ＷＯ９８２７
１２４号公報において、ピリジン架橋ジイミン‐鉄錯
体、特開平１１−３１５１０９号公報において、フェノ
キシイミン‐ジルコニウム錯体が報告されている。これ
らの錯体は、メタロセン錯体に比べ、安価である、新規
なポリマーの製造の可能性がある、など次世代触媒とし
ての可能性があるとされているものの、活性、ポリマー
の実用性、重合プロセスへの適用性等の点で改良が必要
な上、より入手の容易な配位子を用いた遷移金属錯体で
のポリマーの製造が望まれていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、調製が簡便
な配位子を用いる新規な重合用触媒成分およびそれを用
いる重合体の製造方法を提供しようとするものである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため鋭意検討した結果、新規な遷移金属錯体
を見出し、本発明に至った。

【０００５】すなわち、本発明は一般式（１） （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴は同一または相異な
り、水素原子、置換されていてもよい炭素数１〜１０の
アルキル基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のア
リール基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のアラ
ルキル基、置換されていてもよい炭素数１〜１０のアル
コキシ基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリ
ールオキシ基、置換されていてもよい炭素数７〜２０の
アラルキルオキシ基、炭素数１〜２０の炭化水素置換シ
リル基または炭素数１〜２０の炭化水素置換アミノ基を
示し、Ａは元素の周期律表の第１５族の原子を示す。）
で示される化合物と一般式（２） （式中、Ｍは元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を
示し、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、、Ｘ⁴は同一または相異なり、ハ
ロゲン原子、置換されていてもよい炭素数１〜１０のア
ルキル基、置換されていてもよい炭素数１〜１０のアル
コキシ基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリ
ール基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリー
ルオキシ基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のア
ラルキル基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のア
ラルキルオキシ基、炭素数１〜２０の炭化水素置換シリ
ル基または炭素数１〜２０の炭化水素置換アミノ基を示
し、ｍは０または１を示す。）で示される遷移金属化合
物とを反応させて得られる遷移金属錯体および下記化合
物（Ａ）；あるいは下記化合物（Ａ）および下記化合物
（Ｂ）を組み合わせてなることを特徴とするオレフィン
重合用触媒；ならびに該触媒を用いるオレフィン重合体
の製造方法を提供するものである。 （Ａ）： 下記化合物（Ａ１）〜（Ａ３）のいずれか、
あるいはそれらの２〜３種の混合物 （Ａ１）： 一般式 Ｅ1 a Ａｌ（Ｚ）3-a で示される
有機アルミニウム化合物 （Ａ２）: 一般式 ｛−Ａｌ（Ｅ2 ）−Ｏ−｝b で示
される構造を有する環状のアルミノキサン （Ａ３）： 一般式 Ｅ3 ｛−Ａｌ（Ｅ3 ）−Ｏ−｝c
Ａｌ（Ｅ3） 2 で示される構造を有する線状のアルミノ
キサン （式中、Ｅ1 〜Ｅ3 は同一または相異なり、炭素原子数
１〜８の炭化水素基であり、Ｚは同一または相異なり、
水素原子またはハロゲン原子を表し、ａは１、２または
３で、ｂは２以上の整数を、ｃは１以上の整数を表
す。） （Ｂ）: 下記化合物（Ｂ１）〜（Ｂ３）のいずれか、
あるいはそれらの２〜３種の混合物 （Ｂ１）： 一般式 ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 で示されるホウ素
化合物 （Ｂ２）： 一般式 Ｚ+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で
示されるホウ素化合物 （Ｂ３）： 一般式（Ｌ−Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4
）- で示されるホウ素化合物 （式中、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ
1 〜Ｑ4 は同一または相異なり、ハロゲン原子、炭素原
子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロ
ゲン化炭化水素基、炭素原子数１〜２０の置換シリル
基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基または炭素原子
数２〜２０の２置換アミノ基を示す。）

【０００６】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。一般式（１）で示される化合物において、Ａの元
素の周期律表の第１５族の原子としては、例えば窒素原
子、リン原子、ヒ素原子などが挙げられ、好ましくは窒
素原子が挙げられる。

【０００７】一般式（１）で示される化合物および一般
式（２）で示される遷移金属錯体において、Ｒ¹、Ｒ²、
Ｒ³、Ｒ⁴、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴における置換されていて
もよい炭素数１〜１０のアルキル基の置換基としては、
ハロゲン原子等が挙げられ、置換されていてもよい炭素
数１〜１０のアルキル基の具体例としては、メチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチ
ル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペ
ンチル基、ネオペンチル基、アミル基 、ｎ−ヘキシル
基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、フルオロメチル
基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フル
オロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチ
ル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル
基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、
パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パ
ーフルオロオクチル基、パーフルオロデシル基、トリク
ロロメチル基などが例示され、好ましくは、メチル基、
エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、アミ
ル基等が挙げられる。

【０００８】Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴
における置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリー
ル基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニ
ル基等が挙げられ、その置換基としては、アルキル基、
フッ素原子等が挙げられ、置換されていてもよい炭素数
６〜２０のアリール基の具体例としては、例えば、フェ
ニル基、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、
２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キ
シリル基、２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、
３，５−キシリル基、２，３，４−トリメチルフェニル
基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−
トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニ
ル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，
４，５−テトラメチルフェニル基、２，３，４，６−テ
トラメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチル
フェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル
基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル
基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル
基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、 ｎ−ペンチルフェ
ニル基、 ネオペンチルフェニル基、 ｎ−ヘキシルフェ
ニル基、 ｎ−オクチルフェニル基、 ｎ−デシルフェニ
ル基、 ｎ−ドデシルフェニル基、 ｎ−テトラデシルフ
ェニル基、ナフチル基、アントラセニル基およびこれら
のフッ素原子置換アリール基が例示され、好ましくはフ
ェニル基が挙げられる。

【０００９】Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴
における置換されていてもよい炭素数７〜２０のアラル
キル基としては、ベンジル基、ナフチルメチル基、アン
トラセニルメチル基、ジフェニルメチル基等が挙げら
れ、その置換基としては、例えばアルキル基、フッ素原
子等が挙げられる。置換されていてもよい炭素数７〜２
０のアラルキル基の具体例としては、例えば、ベンジル
基、（２−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフ
ェニル）メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、
（２，３−ジメチルフェニル）メチル基、（２，４−ジ
メチルフェニル）メチル基、（２，５−ジメチルフェニ
ル）メチル基、（２，６−ジメチルフェニル）メチル
基、（３，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，
３，４−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５
−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６−トリ
メチルフェニル）メチル基、（３，４，５−トリメチル
フェニル）メチル基、（２，４，６−トリメチルフェニ
ル）メチル基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニ
ル）メチル基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニ
ル）メチル基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニ
ル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、
（エチルフェニル）メチル基、（ｎ−プロピルフェニ
ル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、
（ｎ−ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ−ブチルフ
ェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メチ
ル基、（ｎ−ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペン
チルフェニル）メチル基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メ
チル基、（ｎ−オクチルフェニル）メチル基、（ｎ−デ
シルフェニル）メチル基、（ｎ−ドデシルフェニル）メ
チル基、（ｎ−テトラデシルフェニル）メチル基、ナフ
チルメチル基、アントラセニルメチル基、ジフェニルメ
チル基およびこれらのフッ素原子置換アラルキル基が挙
げられ、好ましくはベンジル基が挙げられる。

【００１０】Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴
おける置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルコキ
シ基の置換基としては、フッ素原子等が挙げられ、具体
例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ
基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブト
キシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペントキシ基、ネ
オペントキシ基、ｎ−ヘキソキシ基、ｎ−オクトキシ
基、ｎ−デキソキシ基、およびこれらのフッ素原子置換
アルコキシ基が挙げられ、好ましくは、メトキシ基、エ
トキシ基、 ｔｅｒｔ−ブトキシ基が挙げられる。

【００１１】Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴
における置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリー
ルオキシ基としては、フェノキシ基、ナフトキシ基、ア
ントラセノキシ基等が挙げられ、その置換基としては、
アルキル基、フッ素原子等が挙げられる。置換されてい
てもよい炭素数６〜２０のアリールオキシ基の具体例と
してはフェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、３−メ
チルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、２，３−
ジメチルフェノキシ基、２，４−ジメチルフェノキシ
基、２，５−ジメチルフェノキシ基、２，６−ジメチル
フェノキシ基、３，４−ジメチルフェノキシ基、３，５
−ジメチルフェノキシ基、２，３，４−トリメチルフェ
ノキシ基、２，３，５−トリメチルフェノキシ基、２，
３，６−トリメチルフェノキシ基、２，４，５−トリメ
チルフェノキシ基、２，４，６−トリメチルフェノキシ
基、３，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，
４，５−テトラメチルフェノキシ基、２，３，４，６−
テトラメチルフェノキシ基、２，３，５，６−テトラメ
チルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチル
フェノキシ基、ｎ−プロピルフェノキシ基、イソプロピ
ルフェノキシ基、ｎ−ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ−ブ
チルフェノキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、ｎ
−ヘキシルフェノキシ基、ｎ−オクチルフェノキシ基、
ｎ−デシルフェノキシ基、ｎ−テトラデシルフェノキシ
基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基、およびこれら
のフッ素置換アリールオキシ基が挙げられる。

【００１２】Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴
における置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のア
ラルキルオキシ基の置換基としては、アルキル基、ハロ
ゲン原子等が挙げられ、アラルキルオキシ基の具体例と
しては、ベンジルオキシ基、（２−メチルフェニル）メ
トキシ基、（３−メチルフェニル）メトキシ基、（４−
メチルフェニル）メトキシ基、（２，３−ジメチルフェ
ニル）メトキシ基、（２，４−ジメチルフェニル）メト
キシ基、（２，５−ジメチルフェニル）メトキシ基、
（２，６−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，４−
ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，５−ジメチルフ
ェニル）メトキシ基、（２，３，４−トリメチルフェニ
ル）メトキシ基、（２，３，５−トリメチルフェニル）
メトキシ基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メト
キシ基、（２，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ
基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、
（３，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、
（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メトキシ
基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メトキ
シ基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メト
キシ基、（ペンタメチルフェニル）メトキシ基、（エチ
ルフェニル）メトキシ基、（ｎ−プロピルフェニル）メ
トキシ基、（イソプロピルフェニル）メトキシ基、（ｎ
−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｓｅｃ−ブチルフェ
ニル）メトキシ基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メト
キシ基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−
オクチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−デシルフェニ
ル）メトキシ基、（ｎ−テトラデシルフェニル）メトキ
シ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基
などが挙げられ、好ましくはベンジルオキシ基である。
これらのアラルキルオキシ基はいずれもフッ素原子、塩
素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置
換されていてもよい。

【００１３】Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴
における炭素数１〜２０の炭化水素置換シリル基とは、
炭素数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基であ
って、ここでの炭化水素基としては、例えば、メチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−
ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ
−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基 、ｎ−ヘキ
シル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシ
ル基などの炭素原子数１〜１０のアルキル基、フェニル
基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントラセニ
ル基などの炭素原子数６〜２０のアリール基等が挙げら
れる。かかる炭素数１〜２０の炭化水素置換シリル基と
しては、例えば、メチルシリル基、エチルシリル基、フ
ェニルシリル基などの１置換シリル基、ジメチルシリル
基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基などの２置
換シリル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル
基、トリ−ｎ−プロピルシリル基、トリ−イソプロピル
シリル基、トリ−ｎ−ブチルシリル基、トリ−ｓｅｃ−
ブチルシリル基、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルシリル基、ト
リ−イソブチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リル基、トリ−ｎ−ペンチルシリル基、トリ−ｎ−ヘキ
シルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェ
ニルシリル基などの３置換シリル基等が挙げられ、好ま
しくはトリメチルシリル基、 ｔｅｒｔ−ブチルジメチ
ルシリル基、トリフェニルシリル基が挙げられる。これ
らの置換シリル基はいずれもがその炭化水素基がフッ素
原子で置換されていてもよい。

【００１４】Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴
における炭素数１〜２０の炭化水素置換アミノ基とは２
つの炭化水素基で置換されたアミノ基であって、ここで
の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅ
ｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、
ネオペンチル基、アミル基 、ｎ−ヘキシル基、シクロ
ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基などの炭素
原子数１〜１０のアルキル基、フェニル基、トリル基、
キシリル基、ナフチル基、アントラセニル基などの炭素
原子数６〜２０のアリール基等が挙げられる。かかる炭
素数１〜２０の炭化水素置換アミノ基としては、例え
ば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プ
ロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブ
チルアミノ基、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ジ−ｔｅ
ｒｔ−ブチルアミノ基、ジ−イソブチルアミノ基、 ｔ
ｅｒｔ−ブチルイソプロピルアミノ基、 ジ−ｎ−ヘキ
シルアミノ基、ジ−ｎ−オクチルアミノ基、ジ−ｎ−デ
シルアミノ基、ジフェニルアミノ基等が挙げられ、好ま
しくはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等が挙げら
れる。

【００１５】Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴は任意に結合して
環を形成していてもよい。また、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³および
Ｒ⁴は任意に結合して環を形成していてもよい。

【００１６】一般式（２）で示される遷移金属化合物に
おいて、Ｍの遷移金属原子とは、元素の周期律表（ＩＵ
ＰＡＣ無機化学命名法改定版１９８９）の第４族の遷移
金属原子であり、例えばチタン原子、ジルコニウム原
子、ハフニウム原子などが挙げられ、好ましくはチタン
原子が挙げられる。

【００１７】Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴におけるハロゲン原子
としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子
などが例示され、好ましくは塩素原子が挙げられる。

【００１８】ｎは０または１の整数であって、好ましく
は１である。

【００１９】一般式（１）で示される化合物としては、
Ｎ−フェニルメチレン−Ｎ−ベンジルアミン、Ｎ−フェ
ニルエチリデン−Ｎ−ベンジルアミン、Ｎ−フェニルベ
ンジリデン−Ｎ−ベンジルアミン、Ｎ−フェニルメチレ
ン−Ｎ−ジフェニルメチルアミン、Ｎ−フェニルエチリ
デン−Ｎ−ジフェニルメチルアミン、Ｎ−フェニルベン
ジリデン−Ｎ−ジフェニルメチルアミン、Ｎ−フェニル
メチレン−Ｎ−α−フェニルエチルアミン、Ｎ−フェニ
ルエチリデン−Ｎ−α−フェニルエチルアミン、Ｎ−フ
ェニルベンジリデン−Ｎ−α−フェニルエチルアミン、
Ｎ−フェニルメチレン−Ｎ−ｐ−トリルメチルアミン、
Ｎ−フェニルエチリデン−Ｎ−ｐ−トリルメチルアミ
ン、Ｎ−フェニルベンジリデン−Ｎ−ｐ−トリルメチル
アミン、Ｎ−フェニルメチレン−Ｎ−（ジ−ｐ−トリ
ル）メチルアミン、Ｎ−フェニルエチリデン−Ｎ−（ジ
−ｐ−トリル）メチルアミン、Ｎ−フェニルベンジリデ
ン−Ｎ−（ジ−ｐ−トリル）メチルアミン、Ｎ−フェニ
ルメチレン−Ｎ−α−（ｐ−トリル）エチルアミン、Ｎ
−フェニルエチリデン−Ｎ−α−（ｐ−トリル）エチル
アミン、Ｎ−フェニルベンジリデン−Ｎ−α−（ｐ−ト
リル）エチルアミン

【００２０】Ｎ−フェニルメチレン−Ｎ−（２，６−ジ
イソプロピルフェニル）メチルアミン、Ｎ−フェニルエ
チリデン−Ｎ−（２，６−ジイソプロピルフェニル）メ
チルアミン、Ｎ−フェニルベンジリデン−Ｎ−（２，６
−ジイソプロピルフェニル）メチルアミン、Ｎ−フェニ
ルメチレン−Ｎ−ビス（２，６−ジイソプロピルフェニ
ル）メチルアミン、Ｎ−フェニルエチリデン−Ｎ−ビス
（２，６−ジイソプロピルフェニル）メチルアミン、Ｎ
−フェニルベンジリデン−Ｎ−ビス（２，６−ジイソプ
ロピルフェニル）メチルアミン、Ｎ−フェニルメチレン
−Ｎ−α−（２，６−ジイソプロピルフェニル）エチル
アミン、Ｎ−フェニルエチリデン−Ｎ−α−（２，６−
ジイソプロピルフェニル）エチルアミン、Ｎ−フェニル
ベンジリデン−Ｎ−α−（２，６−ジイソプロピルフェ
ニル）エチルアミン

【００２１】Ｎ−フェニルメチレン−Ｎ−（２，４，６
−トリメチルフェニル）メチルアミン、Ｎ−フェニルエ
チリデン−Ｎ−（２，４，６−トリメチルフェニル）メ
チルアミン、Ｎ−フェニルベンジリデン−Ｎ−（２，
４，６−トリメチルフェニル）メチルアミン、Ｎ−フェ
ニルメチレン−Ｎ−ビス（２，４，６−トリメチルフェ
ニル）メチルアミン、Ｎ−フェニルエチリデン−Ｎ−ビ
ス（２，４，６−トリメチルフェニル）メチルアミン、
Ｎ−フェニルベンジリデン−Ｎ−ビス（２，４，６−ト
リメチルフェニル）メチルアミン、Ｎ−フェニルメチレ
ン−Ｎ−α−（２，４，６−トリメチルフェニル）エチ
ルアミン、Ｎ−フェニルエチリデン−Ｎ−α−（２，
４，６−トリメチルフェニル）エチルアミン、Ｎ−フェ
ニルベンジリデン−Ｎ−α−（２，４，６−トリメチル
フェニル）エチルアミン

【００２２】Ｎ−フェニルメチレン−Ｎ−（１−ナフチ
ル）メチルアミン、Ｎ−フェニルエチリデン−Ｎ−（１
−ナフチル）メチルアミン、Ｎ−フェニルベンジリデン
−Ｎ−（１−ナフチル）メチルアミン、Ｎ−フェニルメ
チレン−Ｎ−ビス（１−ナフチル）メチルアミン、Ｎ−
フェニルエチリデン−Ｎ−ビス（１−ナフチル）メチル
アミン、Ｎ−フェニルベンジリデン−Ｎ−ビス（１−ナ
フチル）メチルアミン、Ｎ−フェニルメチレン−Ｎ−α
−（１−ナフチル）エチルアミン、Ｎ−フェニルエチリ
デン−Ｎ−α−（１−ナフチル）エチルアミン、Ｎ−フ
ェニルベンジリデン−Ｎ−α−（１−ナフチル）エチル
アミン

【００２３】Ｎ−フェニルメチレン−Ｎ−（２−ナフチ
ル）メチルアミン、Ｎ−フェニルエチリデン−Ｎ−（２
−ナフチル）メチルアミン、Ｎ−フェニルベンジリデン
−Ｎ−（２−ナフチル）メチルアミン、Ｎ−フェニルメ
チレン−Ｎ−ビス（２−ナフチル）メチルアミン、Ｎ−
フェニルエチリデン−Ｎ−ビス（２−ナフチル）メチル
アミン、Ｎ−フェニルベンジリデン−Ｎ−ビス（２−ナ
フチル）メチルアミン、Ｎ−フェニルメチレン−Ｎ−α
−（２−ナフチル）エチルアミン、Ｎ−フェニルエチリ
デン−Ｎ−α−（２−ナフチル）エチルアミン、Ｎ−フ
ェニルベンジリデン−Ｎ−α−（２−ナフチル）エチル
アミン

【００２４】Ｎ−（１−ナフチル）メチレン−Ｎ−ベン
ジルアミン、Ｎ−（１−ナフチル）エチリデン−Ｎ−ベ
ンジルアミン、Ｎ−（１−ナフチル）ベンジリデン−Ｎ
−ベンジルアミン、Ｎ−（１−ナフチル）メチレン−Ｎ
−ジフェニルメチルアミン、Ｎ−（１−ナフチル）エチ
リデン−Ｎ−ジフェニルメチルアミン、Ｎ−（１−ナフ
チル）ベンジリデン−Ｎ−ジフェニルメチルアミン、Ｎ
−（１−ナフチル）メチレン−Ｎ−α−フェニルエチル
アミン、Ｎ−（１−ナフチル）エチリデン−Ｎ−α−フ
ェニルエチルアミン、Ｎ−（１−ナフチル）ベンジリデ
ン−Ｎ−α−フェニルエチルアミン

【００２５】Ｎ−（１−ナフチル）メチレン−Ｎ−ｐ−
トリルメチルアミン、Ｎ−（１−ナフチル）エチリデン
−Ｎ−ｐ−トリルメチルアミン、Ｎ−（１−ナフチル）
ベンジリデン−Ｎ−ｐ−トリルメチルアミン、Ｎ−（１
−ナフチル）メチレン−Ｎ−（ジ−ｐ−トリル）メチル
アミン、Ｎ−（１−ナフチル）エチリデン−Ｎ−（ジ−
ｐ−トリル）メチルアミン、Ｎ−（１−ナフチル）ベン
ジリデン−Ｎ−（ジ−ｐ−トリル）メチルアミン、Ｎ−
（１−ナフチル）メチレン−Ｎ−α−（ｐ−トリル）エ
チルアミン、Ｎ−（１−ナフチル）エチリデン−Ｎ−α
−（ｐ−トリル）エチルアミン、Ｎ−（１−ナフチル）
ベンジリデン−Ｎ−α−（ｐ−トリル）エチルアミン

【００２６】Ｎ−（１−ナフチル）メチレン−Ｎ−
（２，６−ジイソプロピルフェニル）メチルアミン、Ｎ
−（１−ナフチル）エチリデン−Ｎ−（２，６−ジイソ
プロピルフェニル）メチルアミン、Ｎ−（１−ナフチ
ル）ベンジリデン−Ｎ−（２，６−ジイソプロピルフェ
ニル）メチルアミン、Ｎ−（１−ナフチル）メチレン−
Ｎ−ビス（２，６−ジイソプロピルフェニル）メチルア
ミン、Ｎ−（１−ナフチル）エチリデン−Ｎ−ビス
（２，６−ジイソプロピルフェニル）メチルアミン、Ｎ
−（１−ナフチル）ベンジリデン−Ｎ−ビス（２，６−
ジイソプロピルフェニル）メチルアミン、Ｎ−（１−ナ
フチル）メチレン−Ｎ−α−（２，６−ジイソプロピル
フェニル）エチルアミン、Ｎ−（１−ナフチル）エチリ
デン−Ｎ−α−（２，６−ジイソプロピルフェニル）エ
チルアミン、Ｎ−（１−ナフチル）ベンジリデン−Ｎ−
α−（２，６−ジイソプロピルフェニル）エチルアミン

【００２７】Ｎ−（１−ナフチル）メチレン−Ｎ−
（２，４，６−トリメチルフェニル）メチルアミン、Ｎ
−（１−ナフチル）エチリデン−Ｎ−（２，４，６−ト
リメチルフェニル）メチルアミン、Ｎ−（１−ナフチ
ル）ベンジリデン−Ｎ−（２，４，６−トリメチルフェ
ニル）メチルアミン、Ｎ−（１−ナフチル）メチレン−
Ｎ−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）メチルア
ミン、Ｎ−（１−ナフチル）エチリデン−Ｎ−ビス
（２，４，６−トリメチルフェニル）メチルアミン、Ｎ
−（１−ナフチル）ベンジリデン−Ｎ−ビス（２，４，
６−トリメチルフェニル）メチルアミン、Ｎ−（１−ナ
フチル）メチレン−Ｎ−α−（２，４，６−トリメチル
フェニル）エチルアミン、Ｎ−（１−ナフチル）エチリ
デン−Ｎ−α−（２，４，６−トリメチルフェニル）エ
チルアミン、Ｎ−（１−ナフチル）ベンジリデン−Ｎ−
α−（２，４，６−トリメチルフェニル）エチルアミン

【００２８】Ｎ−（１−ナフチル）メチレン−Ｎ−（１
−ナフチル）メチルアミン、Ｎ−（１−ナフチル）エチ
リデン−Ｎ−（１−ナフチル）メチルアミン、Ｎ−（１
−ナフチル）ベンジリデン−Ｎ−（１−ナフチル）メチ
ルアミン、Ｎ−（１−ナフチル）メチレン−Ｎ−ビス
（１−ナフチル）メチルアミン、Ｎ−（１−ナフチル）
エチリデン−Ｎ−ビス（１−ナフチル）メチルアミン、
Ｎ−（１−ナフチル）ベンジリデン−Ｎ−ビス（１−ナ
フチル）メチルアミン、Ｎ−（１−ナフチル）メチレン
−Ｎ−α−（１−ナフチル）エチルアミン、Ｎ−（１−
ナフチル）エチリデン−Ｎ−α−（１−ナフチル）エチ
ルアミン、Ｎ−（１−ナフチル）ベンジリデン−Ｎ−α
−（１−ナフチル）エチルアミン

【００２９】Ｎ−（１−ナフチル）メチレン−Ｎ−（２
−ナフチル）メチルアミン、Ｎ−（１−ナフチル）エチ
リデン−Ｎ−（２−ナフチル）メチルアミン、Ｎ−（１
−ナフチル）ベンジリデン−Ｎ−（２−ナフチル）メチ
ルアミン、Ｎ−（１−ナフチル）メチレン−Ｎ−ビス
（２−ナフチル）メチルアミン、Ｎ−（１−ナフチル）
エチリデン−Ｎ−ビス（２−ナフチル）メチルアミン、
Ｎ−（１−ナフチル）ベンジリデン−Ｎ−ビス（２−ナ
フチル）メチルアミン、Ｎ−（１−ナフチル）メチレン
−Ｎ−α−（２−ナフチル）エチルアミン、Ｎ−（１−
ナフチル）エチリデン−Ｎ−α−（２−ナフチル）エチ
ルアミン、Ｎ−（１−ナフチル）ベンジリデン−Ｎ−α
−（２−ナフチル）エチルアミン

【００３０】Ｎ−（２−ナフチル）メチレン−Ｎ−ベン
ジルアミン、Ｎ−（２−ナフチル）エチリデン−Ｎ−ベ
ンジルアミン、Ｎ−（２−ナフチル）ベンジリデン−Ｎ
−ベンジルアミン、Ｎ−（２−ナフチル）メチレン−Ｎ
−ジフェニルメチルアミン、Ｎ−（２−ナフチル）エチ
リデン−Ｎ−ジフェニルメチルアミン、Ｎ−（２−ナフ
チル）ベンジリデン−Ｎ−ジフェニルメチルアミン、Ｎ
−（２−ナフチル）メチレン−Ｎ−α−フェニルエチル
アミン、Ｎ−（２−ナフチル）エチリデン−Ｎ−α−フ
ェニルエチルアミン、Ｎ−（２−ナフチル）ベンジリデ
ン−Ｎ−α−フェニルエチルアミン

【００３１】Ｎ−（２−ナフチル）メチレン−Ｎ−ｐ−
トリルメチルアミン、Ｎ−（２−ナフチル）エチリデン
−Ｎ−ｐ−トリルメチルアミン、Ｎ−（２−ナフチル）
ベンジリデン−Ｎ−ｐ−トリルメチルアミン、Ｎ−（２
−ナフチル）メチレン−Ｎ−（ジ−ｐ−トリル）メチル
アミン、Ｎ−（２−ナフチル）エチリデン−Ｎ−（ジ−
ｐ−トリル）メチルアミン、Ｎ−（２−ナフチル）ベン
ジリデン−Ｎ−（ジ−ｐ−トリル）メチルアミン、Ｎ−
（２−ナフチル）メチレン−Ｎ−α−（ｐ−トリル）エ
チルアミン、Ｎ−（２−ナフチル）エチリデン−Ｎ−α
−（ｐ−トリル）エチルアミン、Ｎ−（２−ナフチル）
ベンジリデン−Ｎ−α−（ｐ−トリル）エチルアミン

【００３２】Ｎ−（２−ナフチル）メチレン−Ｎ−
（２，６−ジイソプロピルフェニル）メチルアミン、Ｎ
−（２−ナフチル）エチリデン−Ｎ−（２，６−ジイソ
プロピルフェニル）メチルアミン、Ｎ−（２−ナフチ
ル）ベンジリデン−Ｎ−（２，６−ジイソプロピルフェ
ニル）メチルアミン、Ｎ−（２−ナフチル）メチレン−
Ｎ−ビス（２，６−ジイソプロピルフェニル）メチルア
ミン、Ｎ−（２−ナフチル）エチリデン−Ｎ−ビス
（２，６−ジイソプロピルフェニル）メチルアミン、Ｎ
−（２−ナフチル）ベンジリデン−Ｎ−ビス（２，６−
ジイソプロピルフェニル）メチルアミン、Ｎ−（２−ナ
フチル）メチレン−Ｎ−α−（２，６−ジイソプロピル
フェニル）エチルアミン、Ｎ−（２−ナフチル）エチリ
デン−Ｎ−α−（２，６−ジイソプロピルフェニル）エ
チルアミン、Ｎ−（２−ナフチル）ベンジリデン−Ｎ−
α−（２，６−ジイソプロピルフェニル）エチルアミン

【００３３】Ｎ−（２−ナフチル）メチレン−Ｎ−
（２，４，６−トリメチルフェニル）メチルアミン、Ｎ
−（２−ナフチル）エチリデン−Ｎ−（２，４，６−ト
リメチルフェニル）メチルアミン、Ｎ−（２−ナフチ
ル）ベンジリデン−Ｎ−（２，４，６−トリメチルフェ
ニル）メチルアミン、Ｎ−（２−ナフチル）メチレン−
Ｎ−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）メチルア
ミン、Ｎ−（２−ナフチル）エチリデン−Ｎ−ビス
（２，４，６−トリメチルフェニル）メチルアミン、Ｎ
−（２−ナフチル）ベンジリデン−Ｎ−ビス（２，４，
６−トリメチルフェニル）メチルアミン、Ｎ−（２−ナ
フチル）メチレン−Ｎ−α−（２，４，６−トリメチル
フェニル）エチルアミン、Ｎ−（２−ナフチル）エチリ
デン−Ｎ−α−（２，４，６−トリメチルフェニル）エ
チルアミン、Ｎ−（２−ナフチル）ベンジリデン−Ｎ−
α−（２，４，６−トリメチルフェニル）エチルアミン

【００３４】Ｎ−（２−ナフチル）メチレン−Ｎ−（１
−ナフチル）メチルアミン、Ｎ−（２−ナフチル）エチ
リデン−Ｎ−（１−ナフチル）メチルアミン、Ｎ−（２
−ナフチル）ベンジリデン−Ｎ−（１−ナフチル）メチ
ルアミン、Ｎ−（２−ナフチル）メチレン−Ｎ−ビス
（１−ナフチル）メチルアミン、Ｎ−（２−ナフチル）
エチリデン−Ｎ−ビス（１−ナフチル）メチルアミン、
Ｎ−（２−ナフチル）ベンジリデン−Ｎ−ビス（１−ナ
フチル）メチルアミン、Ｎ−（２−ナフチル）メチレン
−Ｎ−α−（１−ナフチル）エチルアミン、Ｎ−（２−
ナフチル）エチリデン−Ｎ−α−（１−ナフチル）エチ
ルアミン、Ｎ−（２−ナフチル）ベンジリデン−Ｎ−α
−（１−ナフチル）エチルアミン

【００３５】Ｎ−（２−ナフチル）メチレン−Ｎ−（２
−ナフチル）メチルアミン、Ｎ−（２−ナフチル）エチ
リデン−Ｎ−（２−ナフチル）メチルアミン、Ｎ−（２
−ナフチル）ベンジリデン−Ｎ−（２−ナフチル）メチ
ルアミン、Ｎ−（２−ナフチル）メチレン−Ｎ−ビス
（２−ナフチル）メチルアミン、Ｎ−（２−ナフチル）
エチリデン−Ｎ−ビス（２−ナフチル）メチルアミン、
Ｎ−（２−ナフチル）ベンジリデン−Ｎ−ビス（２−ナ
フチル）メチルアミン、Ｎ−（２−ナフチル）メチレン
−Ｎ−α−（２−ナフチル）エチルアミン、Ｎ−（２−
ナフチル）エチリデン−Ｎ−α−（２−ナフチル）エチ
ルアミン、Ｎ−（２−ナフチル）ベンジリデン−Ｎ−α
−（２−ナフチル）エチルアミン等が例示され、イミン
結合の二重結合に異性体がある場合は、単一であって
も、混合物であってもよい。

【００３６】一般式（２）で示される遷移金属化合物と
しては、三塩化チタン、四塩化チタン、四臭化チタン、
四ヨウ化チタンなどのハロゲン化チタン、テトラキス
（ジメチルアミノ）チタン、ジクロロビス（ジメチルア
ミノ）チタン、トリクロロ（ジメチルアミノ）チタニウ
ム、テトラキス（ジエチルアミノ）チタンなどのアミド
チタン、テトライソプロポキシチタン、テトラ−ｎ−ブ
トキシチタン、ジクロロジイソプロポキシチタン、トリ
クロロイソプロポキシチタン、テトラキス（ベンジル）
チタン、ジクロロビス（ベンジル）チタンなどのアルキ
ルチタン、などのアルコキシチタンおよび上記各化合物
のチタンをジルコニウム、ハフニウムに変更した化合物
などが挙げられ、その使用量は一般式（１）で示される
化合物に対して通常０．３〜３モル倍、好ましくは０．
４〜０．６モル倍の範囲である。

【００３７】一般式（１）で示される化合物と一般式
（２）で示される遷移金属化合物とを反応させることに
より得られる遷移金属錯体の製造は、例えば、窒素、ア
ルゴンなどの不活性雰囲気下において、溶媒の存在下に
実施することができる。

【００３８】一般式（１）で示される化合物と一般式
（２）で示される遷移金属化合物との反応は、塩基の存
在下において好ましく実施される。反応の方法は特に限
定されないが、一般式（１）で示される化合物に塩基を
反応させた後、一般式（２）で示される遷移金属化合物
を反応させることにより好ましく実施される。かかる塩
基としては、リチウムジイソプロピルアミド、リチウム
ヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシ
ラジド、カリウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウム
ヒドリド、カリウムヒドリドなどの求核力の弱い強塩基
が挙げられる。

【００３９】塩基の仕込量は一般式（１）で示される化
合物に対し、通常、０．１〜１０モル倍であり、好まし
くは０．５〜２モル倍である。

【００４０】反応に用いる溶媒は特に限定されないが、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の
脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシ
チレン等の芳香族炭化水素、ジエチルエーテル、ジブチ
ルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、テトラヒド
ロフラン等のエーテル類およびこれらの混合物が例示さ
れる。

【００４１】その使用量は、 通常、一般式（１）で示
される化合物の１〜２００重量倍であり、好ましくは３
〜３０重量倍である。

【００４２】反応温度としては、通常は−100℃〜溶媒
の沸点において実施され、好ましくは−80〜30℃程度で
ある。

【００４３】反応後、金属塩が副生する場合はこれをろ
別し、その後、溶媒を留去することにより遷移金属錯体
を得ることができる。必要に応じ、再結晶、昇華など通
常の方法により精製することができる。かかる遷移金属
錯体の具体例としては、前記一般式（１）で示される化
合物と一般式（２）で示される遷移金属化合物に対応す
る遷移金属錯体を挙げることができる。

【００４４】かくして製造される遷移金属錯体は、下記
化合物（Ａ）、あるいはさらに下記化合物（Ｂ）を、重
合時に任意の順序で投入し使用することができるが、ま
たそれらの任意の化合物の組合せを予め接触させて得ら
れた反応物を用いることもできる。

【００４５】〔化合物（Ａ）〕本発明において用いられ
る化合物（Ａ）としては、公知の有機アルミニウム化合
物が使用できる。好ましくは、下記化合物（Ａ１）〜
（Ａ３）のいずれか、あるいはそれらの２〜３種の混合
物が挙げられる。 （Ａ１）： 一般式 Ｅ1 a Ａｌ（Ｚ）3-a で示される
有機アルミニウム化合物 （Ａ２）: 一般式 ｛−Ａｌ（Ｅ2 ）−Ｏ−｝b で示
される構造を有する環状のアルミノキサン （Ａ３）： 一般式 Ｅ3 ｛−Ａｌ（Ｅ3 ）−Ｏ−｝c
Ａｌ（Ｅ3） 2 で示される構造を有する線状のアルミノ
キサン （式中、Ｅ1 〜Ｅ3 は同一または相異なり、炭素原子数
１〜８の炭化水素基であり、Ｚは同一または相異なり、
水素原子またはハロゲン原子を表し、ａは１、２または
３で、ｂは２以上の整数を、ｃは１以上の整数を表
す。）

【００４６】一般式 Ｅ1 a ＡｌＺ3-a で示される有機
アルミニウム化合物（Ａ１）の具体例としては、トリメ
チルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロ
ピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ
ヘキシルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム；
ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウ
ムクロライド、ジプロピルアルミニウムクロライド、ジ
イソブチルアルミニウムクロライド、ジヘキシルアルミ
ニウムクロライド等のジアルキルアルミニウムクロライ
ド；メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニ
ウムジクロライド、プロピルアルミニウムジクロライ
ド、イソブチルアルミニウムジクロライド、ヘキシルア
ルミニウムジクロライド等のアルキルアルミニウムジク
ロライド；ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチ
ルアルミニウムハイドライド、ジプロピルアルミニウム
ハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライ
ド、ジヘキシルアルミニウムハイドライド等のジアルキ
ルアルミニウムハイドライド等を例示することができ
る。好ましくは、トリアルキルアルミニウムであり、よ
り好ましくは、トリエチルアルミニウム、トリイソブチ
ルアルミニウムが挙げられる。

【００４７】一般式 ｛−Ａｌ（Ｅ2 ）−Ｏ−｝b で示
される構造を有する環状のアルミノキサン（Ａ２）、一
般式 Ｅ3 ｛−Ａｌ（Ｅ3 ）−Ｏ−｝c Ａｌ（Ｅ3） 2
で示される構造を有する線状のアルミノキサン（Ａ３）
における、Ｅ2 、Ｅ3 の具体例としては、メチル基、エ
チル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマ
ルブチル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基、ネオ
ペンチル基等のアルキル基を例示することができる。ｂ
は２以上の整数であり、ｃは１以上の整数である。好ま
しくは、Ｅ2 及びＥ3 はメチル基、イソブチル基であ
り、ｂは２〜４０、ｃは１〜４０の整数である。

【００４８】上記のアルミノキサンは各種の方法で作ら
れる。その方法については特に制限はなく、公知の方法
に準じて作ればよい。例えば、トリアルキルアルミニウ
ム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を適当な有
機溶剤（ベンゼン、脂肪族炭化水素など）に溶かした溶
液を水と接触させて作る。また、トリアルキルアルミニ
ウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を結晶水
を含んでいる金属塩（例えば、硫酸銅水和物など）に接
触させて作る方法が例示できる。

【００４９】〔化合物Ｂ〕本発明において化合物（Ｂ）
としては、（Ｂ１）一般式ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 で示されるホ
ウ素化合物、（Ｂ２）一般式Ｚ+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4
）- で示されるホウ素化合物、（Ｂ３）一般式（Ｌ−
Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で示されるホウ素化合
物のいずれか、あるいはそれらの２〜３種の混合物を用
いる。

【００５０】一般式 ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 で示されるホウ素
化合物（Ｂ１）において、Ｂは３価の原子価状態のホウ
素原子であり、Ｑ1 〜Ｑ3 はハロゲン原子、１〜２０個
の炭素原子を含む炭化水素基、１〜２０個の 炭素原子
を含むハロゲン化炭化水素基、１〜２０個の炭素原子を
含む置換シリル基、１〜２０個の炭素原子を含むアルコ
キシ基または２〜２０個の炭素原子を含む２置換アミノ
基であり、それらは同じであっても異なっていても良
い。好ましいＱ1 〜Ｑ3 はハロゲン原子、１〜２０個の
炭素原子を含む炭化水素基、１〜２０個の炭素原子を含
むハロゲン化炭化水素基である。

【００５１】（Ｂ１）の具体例としては、トリス（ペン
タフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，５，６
−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，
４，５−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス
（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボラン、トリス
（２，３，４−トリフルオロフェニル）ボラン、フェニ
ルビス（ペンタフルオロフェニル）ボラン等が挙げられ
るが、好ましくは、トリス（ペンタフルオロフェニル）
ボランである。

【００５２】一般式Ｚ+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で示
されるホウ素化合物（Ｂ２）において、Ｚ+ は無機また
は有機のカチオンであり、Ｂは３価の原子価状態のホウ
素原子であり、Ｑ1 〜Ｑ4 は上記の（Ｂ１）におけるＱ
1 〜Ｑ3 と同様のものが挙げられるる。

【００５３】一般式 Ｚ+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で
示される化合物の具体例としては、無機のカチオンであ
るＺ+ には、フェロセニウムカチオン、アルキル置換フ
ェロセニウムカチオン、銀陽イオンなどが、有機のカチ
オンであるＺ+ には、トリフェニルメチルカチオンなど
が挙げられる。（ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- には、テトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラキス
（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボレー
ト、テトラキス（２，３，４，５−テトラフルオロフェ
ニル）ボレート、テトラキス（３，４，５−トリフルオ
ロフェニル）ボレート、テトラキス（２，２，４ートリ
フルオロフェニル）ボレート、フェニルビス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレ−ト、テトラキス（３，５−ビス
トリフルオロメチルフェニル）ボレートなどが挙げられ
る。

【００５４】これらの具体的な組み合わせとしては、フ
ェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レート、１，１'−ジメチルフェロセニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、銀テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメ
チルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
トリフェニルメチルテトラキス（３，５−ビストリフル
オロメチルフェニル）ボレートなどを挙げることができ
るが、好ましくは、トリフェニルメチルテトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレートが挙げられる。

【００５５】また、一般式（Ｌ−Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ
3 Ｑ4 ）- で示されるホウ素化合物（Ｂ３）において
は、Ｌは中性ルイス塩基であり、（Ｌ−Ｈ）+ はブレン
ステッド酸であり、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子
であり、Ｑ1 〜Ｑ4 は上記の（Ｂ１）におけるＱ1 〜Ｑ
3 と同様である。

【００５６】一般式（Ｌ−Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4
）- で示される化合物の具体例としては、ブレンステ
ッド酸である（Ｌ−Ｈ）+ には、トリアルキル置換アン
モニウム、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム、ジアルキ
ルアンモニウム、トリアリールホスホニウムなどが挙げ
られ、（ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- には、前述と同様のも
のが挙げられる。

【００５７】これらの具体的な組み合わせとしては、ト
リエチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ノルマル
ブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウム
テトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニ
ル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジエ
チルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニ
リニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（３，５
−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、ジイソ
プロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニ
ルホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）
ボレート、トリ（メチルフェニル）ホスホニウムテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ジメ
チルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）ボレートなどを挙げることができるが、好
ましくは、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート等が挙げられる。

【００５８】各触媒成分の使用量は、化合物（Ａ）／遷
移金属錯体のモル比が０．１〜１００００で、好ましく
は５〜２０００、化合物（Ｂ）／遷移金属錯体のモル比
が０．０１〜１００で、好ましくは０．５〜１０の範囲
にあるように、各成分を用いることが望ましい。各触媒
成分を溶液状態で使う場合の濃度については、遷移金属
錯体が、０．０００１〜５ミリモル／リットルで、好ま
しくは、０．００１〜１ミリモル／リットル、化合物
（Ａ）が、Ａｌ原子換算で、０．０１〜５００ミリモル
／リットルで、好ましくは、０．１〜１００ミリモル／
リットル、化合物（Ｂ）は、０．０００１〜５ミリモル
／リットルで、好ましくは、０．００１〜１ミリモル／
リットルの範囲にあるように、各成分を用いることが望
ましい。

【００５９】本発明において、重合に使用するモノマー
は、炭素原子数２〜２０個からなるオレフィン、ジオレ
フィン等のいずれをも用いることができ、同時に２種類
以上のモノマーを用いることもできる。かかるモノマー
を以下に例示するが、本発明においては下記化合物に限
定されるものではない。かかるオレフィンの具体例とし
ては、エチレン、プロピレン、ブテン−１、ペンテン−
１、ヘキセン−１、ヘプテン−１、オクテン−１、ノネ
ン−１、デセン−１、５−メチル−２−ペンテン−１、
ビニルシクロヘキセン等が例示される。ジオレフィン化
合物としては、炭化水素化合物の共役ジエン、非共役ジ
エンが挙げられ、かかる化合物の具体例としては、非共
役ジエン化合物の具体例として、１，５−ヘキサジエ
ン、１，４−ヘキサジエン、１，４−ペンタジエン、
１，７−オクタジエン、１，８−ノナジエン、１，９−
デカジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−
メチル−１，４−ヘキサジエン、７−メチル−１，６−
オクタジエン、５−エチリデン−２−ノルボルネン、ジ
シクロペンタジエン、５−ビニル−２−ノルボルネン、
５−メチル−２−ノルボルネン、ノルボルナジエン、５
−メチレン−２−ノルボルネン、１，５−シクロオクタ
ジエン、５，８−エンドメチレンヘキサヒドロナフタレ
ン等が例示され、共役ジエン化合物の具体例としては、
１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ヘキサジエ
ン、１，３−オクタジエン、１，３−シクロオクタジエ
ン、１，３−シクロヘキサジエン等を例示することがで
きる。共重合体を構成するモノマーの具体例としては、
エチレンとプロピレン、エチレンとブテン−１、エチレ
ンとヘキセン−１、プロピレンとブテン−１等、および
それらにさらに５−エチリデン−２−ノルボルネンを使
用する組み合わせ等が例示されるが、本発明は、上記化
合物に限定されるものではない。

【００６０】本発明では、モノマーとして芳香族ビニル
化合物も用いることができる。芳香族ビニル化合物の具
体例としては、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メ
チルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ，ｐ−ジメチル
スチレン、ｏ−エチルスチレン、ｍ−エチルスチレン、
ｐ−エチルスチレン、ｏ−クロロスチレン、ｐ−クロロ
スチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン等が
挙げられる。

【００６１】重合方法も、特に限定されるべきものでは
ないが、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン
等の芳香族炭化水素、またはメチレンジクロライド等の
ハロゲン化炭化水素を溶媒として用いる溶媒重合、また
はスラリー重合、ガス状のモノマー中での気相重合等が
可能であり、また、連続重合、回分式重合のどちらでも
可能である。

【００６２】重合温度は、−５０℃〜２００℃の範囲を
とり得るが、特に、−２０℃〜１００℃程度の範囲が好
ましく、重合圧力は、常圧〜６ＭＰａ（６０ｋｇ／ｃｍ
２ Ｇ）が好ましい。重合時間は、一般的に、目的とす
るポリマーの種類、反応装置により適宜決定されるが、
１分間〜２０時間の範囲をとることができる。また、本
発明は共重合体の分子量を調節するために水素等の連鎖
移動剤を添加することもできる。

【００６３】

【発明の効果】本発明により、得られる遷移金属錯体
は、高活性な重合触媒成分となり、オレフィンの重合反
応において高分子量のポリマーを与える。

【００６４】

【実施例】以下、実施例をあげて、本発明をより詳しく
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。

【００６５】実施例1 Ｎ−ジフェニルメチレン−Ｎ−ベンジルアミン（０．５
０ｇ、２．５７ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液
（１１．８ｍＬ）に、−７８℃にてｎ―ブチルリチウム
１．５５Ｍヘキサン溶液（３．３３ｍL）を滴下し、室
温まで昇温し１時間攪拌した。反応混合液を、−７８℃
にて、四塩化チタニウムテトラヒドロフラン（１：２）
錯体（０．４３g、２．５０mmol）のテトラヒドロフラ
ン溶液（１１．８mL）に滴下し、室温で２０時間攪拌し
た。溶媒を減圧留去後、トルエン（２０．０mL）を加
え、不溶物を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮すること
により黒色固体を得た。

【００６６】実施例2 オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mLを仕込
み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａ
まで加圧し安定させた。ここに、メチルアルミノキサン
（１００μmol）、実施例１で得られた固体（０．０５
ｍｇ）を加え、３０分間重合した。重合の結果、ポリマ
ーを触媒１ｇ当たり、1時間当たり、９．８６×１０²ｇ
製造した。

【００６７】実施例3 メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアル
ミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化
学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏ
ｌ）を用いた以外は実施例２と同様に重合を行った。重
合の結果、ポリマーを触媒１ｇ当たり、1時間当たり、
１．９７×１０²ｇ製造した。

【００６８】実施例4 メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアル
ミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化
学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以
外は実施例２と同様に重合を行った。重合の結果、ポリ
マーを触媒１ｇ当たり、1時間当たり、７．８９×１０²
ｇ製造した。

【００６９】実施例5 メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアル
ミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化
学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外
は実施例２と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマ
ーを触媒１ｇ当たり、1時間当たり、１．１８×１０³ｇ
製造した。

【００７０】実施例6 オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘ
キセン（０．５０μL）を仕込み、４０℃で安定させた
後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。
ここに、メチルアルミノキサン（１００μmol）、実施
例１で得られた固体（０．０６ｍｇ）を加え、３０分間
重合した。重合の結果、ポリマーを触媒１ｇ当たり、1
時間当たり、５．９１×１０²ｇ製造した。

【００７１】実施例7 メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアル
ミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化
学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏ
ｌ）を用いた以外は実施例６と同様に重合を行った。重
合の結果、ポリマーを触媒１ｇ当たり、1時間当たり、
１．９７×１０²ｇ製造した。

【００７２】実施例8 メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアル
ミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化
学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以
外は実施例６と同様に重合を行った。重合の結果、ポリ
マーを触媒１ｇ当たり、1時間当たり、３．９４×１０²
ｇ製造した。

【００７３】実施例9 メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアル
ミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化
学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外
は実施例６と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマ
ーを触媒１ｇ当たり、1時間当たり、９．８６×１０²ｇ
製造した。

【００７４】実施例10 Ｎ−ジフェニルメチレン−Ｎ−ベンジルアミン（０．７
０ｇ、２．５７ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液
（１１．８ｍＬ）に、−７８℃にてｎ―ブチルリチウム
１．５５Ｍヘキサン溶液（３．３３ｍL）を滴下し、室
温まで昇温し１時間攪拌した。反応混合液を、−７８℃
にて、四塩化チタニウムテトラヒドロフラン（１：２）
錯体（０．４３g、２．５０mmol）のテトラヒドロフラ
ン溶液（１１．８mL）に滴下し、室温で２０時間攪拌し
た。溶媒を減圧留去後、トルエン（２０．０mL）を加
え、不溶物を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮すること
により黒色固体を得た。

【００７５】実施例11 オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘ
キセン（０．５０μL）を仕込み、４０℃で安定させた
後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。
ここに、メチルアルミノキサン（１００μmol）、実施
例１０で得られた固体（０．０６ｍｇ）を加え、３０分
間重合した。重合の結果、ポリマーを触媒１ｇ当たり、
1時間当たり、１．５１×１０²ｇ製造した。

【００７６】実施例12 メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアル
ミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化
学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏ
ｌ）を用いた以外は実施例１０と同様に重合を行った。
重合の結果、ポリマーを触媒１ｇ当たり、1時間当た
り、１．２１×１０³ｇ製造した。

【００７７】実施例13 メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアル
ミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化
学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以
外は実施例１０と同様に重合を行った。重合の結果、ポ
リマーを触媒１ｇ当たり、1時間当たり、１．５１×１
０²ｇ製造した。

【００７８】実施例14 メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアル
ミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化
学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外
は実施例１０と同様に重合を行った。重合の結果、ポリ
マーを触媒１ｇ当たり、1時間当たり、１．９７×１０²
ｇ製造した。

【００７９】実施例15 Ｎ−ジフェニルメチレン−Ｎ−ジフェニルメチルアミン
（０．６０ｇ、２．５７ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラ
ン溶液（１１．８ｍＬ）に、−７８℃にてｎ―ブチルリ
チウム１．５５Ｍヘキサン溶液（３．３３ｍL）を滴下
し、室温まで昇温し１時間攪拌した。反応混合液を、−
７８℃にて、四塩化チタニウムテトラヒドロフラン
（１：２）錯体（０．４３g、２．５０mmol）のテトラ
ヒドロフラン溶液（１１．８mL）に滴下し、室温で２０
時間攪拌した。溶媒を減圧留去後、トルエン（２０．０
mL）を加え、不溶物を濾別した後、濾液を減圧下で濃縮
することにより黒色固体を得た。

【００８０】実施例16 オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘ
キセン（０．５０μL）を仕込み、４０℃で安定させた
後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。
ここに、メチルアルミノキサン（１００μmol）、実施
例１５で得られた固体（０．０８ｍｇ）を加え、３０分
間重合した。重合の結果、ポリマーを触媒１ｇ当たり、
1時間当たり、６．０６×１０²ｇ製造した。

【００８１】実施例17 メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアル
ミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化
学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏ
ｌ）を用いた以外は実施例２０と同様に重合を行った。
重合の結果、ポリマーを触媒１ｇ当たり、1時間当た
り、１．５２×１０²ｇ製造した。

【００８２】実施例18 メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアル
ミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化
学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以
外は実施例２０と同様に重合を行った。重合の結果、ポ
リマーを触媒１ｇ当たり、1時間当たり、３．０４×１
０²ｇ製造した。

【００８３】実施例19 メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアル
ミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化
学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外
は実施例２０と同様に重合を行った。重合の結果、ポリ
マーを触媒１ｇ当たり、1時間当たり、４．５５×１０²
ｇ製造した。

フロントページの続き (72)発明者 東井 隆行 大阪府高槻市塚原２丁目10番１号 住友化 学工業株式会社内 Ｆターム(参考） 4J128 AA01 AB00 AB01 AC01 AC04 AC05 AC06 AC08 AC09 AC15 AC24 AC25 AC26 AC27 AC29 AE07 BA00A BA01B BA02B BA03B BA04B BA05B BB00A BB01B BB02B BB03B BC12B BC13B BC15B BC16B BC17B BC25B BC27B CB61A CB86A CB97A EB07 EB08 EB09 EB12 EB13 EB14 EB16 EB17 EB18 EB21 EC01 EC02 ED01 ED02 ED03 FA02 FA04 FA06 GB01

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式（１） （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴は同一または相異な
   り、水素原子、置換されていてもよい炭素数１〜１０の
   アルキル基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のア
   リール基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のアラ
   ルキル基、置換されていてもよい炭素数１〜１０のアル
   コキシ基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリ
   ールオキシ基、置換されていてもよい炭素数７〜２０の
   アラルキルオキシ基、炭素数１〜２０の炭化水素置換シ
   リル基または炭素数１〜２０の炭化水素置換アミノ基を
   示し、Ａは元素の周期律表の第１５族の原子を示す。）
   で示される化合物と一般式（２） （式中、Ｍは元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を
   示し、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、、Ｘ⁴は同一または相異なり、ハ
   ロゲン原子、置換されていてもよい炭素数１〜１０のア
   ルキル基、置換されていてもよい炭素数１〜１０のアル
   コキシ基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリ
   ール基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリー
   ルオキシ基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のア
   ラルキル基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のア
   ラルキルオキシ基、炭素数１〜２０の炭化水素置換シリ
   ル基または炭素数１〜２０の炭化水素置換アミノ基を示
   し、ｍは０または１を示す。）で示される遷移金属化合
   物とを反応させて得られる遷移金属錯体および下記化合
   物（Ａ）を組み合わせてなることを特徴とするオレフィ
   ン重合用触媒。 （Ａ）： 下記化合物（Ａ１）〜（Ａ３）のいずれか、
   あるいはそれらの２〜３種の混合物 （Ａ１）： 一般式 Ｅ1 a Ａｌ（Ｚ）3-a で示される
   有機アルミニウム化合物 （Ａ２）: 一般式 ｛−Ａｌ（Ｅ2 ）−Ｏ−｝b で示
   される構造を有する環状のアルミノキサン （Ａ３）： 一般式 Ｅ3 ｛−Ａｌ（Ｅ3 ）−Ｏ−｝c
   Ａｌ（Ｅ3） 2 で示される構造を有する線状のアルミノ
   キサン （式中、Ｅ1 〜Ｅ3 は同一または相異なり、炭素原子数
   １〜８の炭化水素基であり、Ｚは同一または相異なり、
   水素原子またはハロゲン原子を表し、ａは１、２または
   ３で、ｂは２以上の整数を、ｃは１以上の整数を表
   す。）
2. 【請求項２】請求項１に記載の遷移金属錯体と下記化合
   物（Ａ）および（Ｂ）を組み合わせてなることを特徴と
   するオレフィン重合用触媒。 （Ａ）： 下記化合物（Ａ１）〜（Ａ３）のいずれか、
   あるいはそれらの２〜３種の混合物 （Ａ１）： 一般式 Ｅ1 a Ａｌ（Ｚ）3-a で示される
   有機アルミニウム化合物 （Ａ２）: 一般式 ｛−Ａｌ（Ｅ2 ）−Ｏ−｝b で示
   される構造を有する環状のアルミノキサン （Ａ３）： 一般式 Ｅ3 ｛−Ａｌ（Ｅ3 ）−Ｏ−｝c
   Ａｌ（Ｅ3） 2 で示される構造を有する線状のアルミノ
   キサン （式中、Ｅ1 〜Ｅ3 は同一または相異なり、炭素原子数
   １〜８の炭化水素基であり、Ｚは同一または相異なり、
   水素原子またはハロゲン原子を表し、ａは１、２または
   ３で、ｂは２以上の整数を、ｃは１以上の整数を表
   す。） （Ｂ）: 下記化合物（Ｂ１）〜（Ｂ３）のいずれか、
   あるいはそれらの２〜３種の混合物 （Ｂ１）： 一般式 ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 で示されるホウ素
   化合物 （Ｂ２）： 一般式 Ｚ+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で
   示されるホウ素化合物 （Ｂ３）： 一般式（Ｌ−Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4
   ）- で示されるホウ素化合物 （式中、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ
   1 〜Ｑ4 は同一または相異なり、ハロゲン原子、炭素原
   子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロ
   ゲン化炭化水素基、炭素原子数１〜２０の置換シリル
   基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基または炭素原子
   数２〜２０の２置換アミノ基を示す。）
3. 【請求項３】一般式（１）で示される化合物と一般式
   （２）で示される遷移金属化合物とを塩基の存在下に反
   応させることを特徴とする請求項１または２に記載のオ
   レフィン重合用触媒。
4. 【請求項４】一般式（１）で示される化合物において、
   Ａが窒素原子である請求項１から３のいずれかに記載の
   オレフィン重合用触媒。
5. 【請求項５】一般式（２）で示される遷移金属化合物に
   おいて、Ｍがチタンまたはジルコニウムである請求項１
   から４のいずれかに記載のオレフィン重合用触媒。
6. 【請求項６】一般式（２）で示される化合物において、
   Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴がそれぞれハロゲン原子である
   請求項１から６のいずれかに記載のオレフィン重合用触
   媒。
7. 【請求項７】一般式（１）で示される化合物と一般式
   （２）で示される遷移金属化合物の比率が、１対０．３
   から１対３である請求項１から６のいずれかに記載のオ
   レフィン重合用触媒。
8. 【請求項８】一般式（１）で示される化合物において、
   Ｒ¹とＲ²、の少なくと１個、Ｒ³とＲ⁴の少なくとも１個
   が置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリール基で
   ある請求項１から７のいずれかに記載のオレフィン重合
   用触媒。
9. 【請求項９】請求項１から８に記載のオレフィン重合用
   触媒を用いることを特徴とするオレフィン重合体の製造
   方法。