JP2003268027A - 高分子ラジカル重合開始剤および共重合体の製造方法 - Google Patents
高分子ラジカル重合開始剤および共重合体の製造方法Info
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- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 146
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 title claims abstract description 72
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 title abstract description 34
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 92
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims abstract description 69
- -1 nitroxy radical Chemical class 0.000 claims description 55
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 53
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 48
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 claims description 34
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 31
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 23
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 claims description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 17
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 150000001723 carbon free-radicals Chemical class 0.000 claims description 12
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 12
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 11
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 10
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 9
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 8
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 claims description 7
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 abstract description 35
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 75
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 61
- 238000000034 method Methods 0.000 description 47
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 45
- 125000005262 alkoxyamine group Chemical group 0.000 description 32
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 24
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 17
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 15
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 15
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 11
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 11
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 11
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 11
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 9
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 8
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 8
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 8
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 8
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 6
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 5
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 5
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 5
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RDXWGNDDNXXUJU-UHFFFAOYSA-N 3,3,8,8,10,10-hexamethyl-9-[1-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]ethoxy]-1,5-dioxa-9-azaspiro[5.5]undecane Chemical compound C=1C=CC=C(OCC2OC2)C=1C(C)ON(C(C1)(C)C)C(C)(C)CC21OCC(C)(C)CO2 RDXWGNDDNXXUJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 3-chloroprop-1-enylbenzene Chemical compound ClCC=CC1=CC=CC=C1 IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl Chemical group [CH2]CCO QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N DEAEMA Natural products CCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 4
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 4
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 4
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- QLLUAUADIMPKIH-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(C=C)C(C=C)=CC=C21 QLLUAUADIMPKIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940058015 1,3-butylene glycol Drugs 0.000 description 3
- IYSVFZBXZVPIFA-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-(4-ethenylphenyl)benzene Chemical group C1=CC(C=C)=CC=C1C1=CC=C(C=C)C=C1 IYSVFZBXZVPIFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical group CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XRMBQHTWUBGQDN-UHFFFAOYSA-N [2-[2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)butoxymethyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)butyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(CC)COCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C XRMBQHTWUBGQDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 3
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 3
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 3
- 235000019437 butane-1,3-diol Nutrition 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000008204 material by function Substances 0.000 description 3
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940059574 pentaerithrityl Drugs 0.000 description 3
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001485 poly(butyl acrylate) polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NNNLYDWXTKOQQX-UHFFFAOYSA-N 1,1-di(prop-2-enoyloxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(CC)(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C NNNLYDWXTKOQQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQGLEEFGEZLSAJ-UHFFFAOYSA-N 1,5-dioxa-9-azaspiro[5.5]undecane Chemical compound O1CCCOC11CCNCC1 ZQGLEEFGEZLSAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 2
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 2
- 239000003708 ampul Substances 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 2
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 2
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920000205 poly(isobutyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- MCSAPFOVWPFBPN-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-tert-butylperoxy-2-oxoacetate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C(=O)OC(C)(C)C MCSAPFOVWPFBPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010257 thawing Methods 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N undecane Chemical compound CCCCCCCCCCC RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanobutan-2-yldiazenyl)-2-methylbutanenitrile Chemical compound CCC(C)(C#N)N=NC(C)(CC)C#N AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFHOSZAOXCYAGJ-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methoxy-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-4-methoxy-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound COC(C)(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)(C)OC PFHOSZAOXCYAGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- RTEZVHMDMFEURJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentan-2-yl 2,2-dimethylpropaneperoxoate Chemical compound CCCC(C)(C)OOC(=O)C(C)(C)C RTEZVHMDMFEURJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIZKZVQBLDHKCY-UHFFFAOYSA-N 3-azaspiro[5.5]undecane Chemical compound C1CCCCC21CCNCC2 LIZKZVQBLDHKCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNPIVQHCOVSGIX-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxy-2-methyl-2-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-yl)oxypentanenitrile Chemical compound OCCCC(C)(C#N)ON1C(C)(C)CCCC1(C)C CNPIVQHCOVSGIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLGSQQZGTPRVFD-UHFFFAOYSA-N 7,7,9,9-tetramethyl-8-[1-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]ethoxy]-1,4-dioxa-8-azaspiro[4.5]decane Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)ON(C(C1)(C)C)C(C)(C)CC21OCCO2 CLGSQQZGTPRVFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000206601 Carnobacterium mobile Species 0.000 description 1
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical class [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N abcn Chemical compound C1CCCCC1(C#N)N=NC1(C#N)CCCCC1 KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- YLFIGGHWWPSIEG-UHFFFAOYSA-N aminoxyl Chemical compound [O]N YLFIGGHWWPSIEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium peroxydisulfate Substances [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)OOS([O-])=O VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 150000005405 azaspiro[5.5]undecanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- SPTHWAJJMLCAQF-UHFFFAOYSA-M ctk4f8481 Chemical compound [O-]O.CC(C)C1=CC=CC=C1C(C)C SPTHWAJJMLCAQF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- NICWAKGKDIAMOD-UHFFFAOYSA-N ethyl 3,3-bis(2-methylbutan-2-ylperoxy)butanoate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)(OOC(C)(C)CC)OOC(C)(C)CC NICWAKGKDIAMOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 150000002605 large molecules Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N methacryloyl chloride Chemical compound CC(=C)C(Cl)=O VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N n-[2-(2-hydroxyethylamino)ethyl]-2-[[1-[2-(2-hydroxyethylamino)ethylamino]-2-methyl-1-oxopropan-2-yl]diazenyl]-2-methylpropanamide Chemical compound OCCNCCNC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)NCCNCCO QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZCOBXFFBQJQHH-UHFFFAOYSA-N octane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCS KZCOBXFFBQJQHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229920001490 poly(butyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L potassium sulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])(=O)=O OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052939 potassium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011151 potassium sulphates Nutrition 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- BWJUFXUULUEGMA-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl propan-2-yloxycarbonyloxy carbonate Chemical compound CC(C)OC(=O)OOC(=O)OC(C)C BWJUFXUULUEGMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007348 radical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 1
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Polymerization Catalysts (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
能な高分子ラジカル重合開始剤、および該開始剤を利用
する共重合体の製造方法を提供する。 【解決手段】 側鎖および/又は末端に一般式(1)ま
たは(2)で示される構造を有するビニル系重合体を高
分子ラジカル重合開始剤として用いる。
Description
することが可能なアルコキシアミン基を有する高分子ラ
ジカル重合開始剤、および該開始剤を利用して共重合体
(構造上安定なグラフト共重合体、ブロック共重合体
等)を効率良く製造する方法に関する。
開始剤は、共重合体の製造のみならず、樹脂組成物製造
時における粘度の調整にも利用することができる。更
に、本発明の高分子ラジカル重合開始剤の構成成分、お
よび/又は該開始剤を用いた重合における単量体の成分
を目的に応じて適宜選択することが可能であるため、こ
のような高分子ラジカル重合開始剤を用いて製造可能な
共重合体(例えばグラフト共重合体およびブロック共重
合体)は、エラストマー、相溶化剤、界面活性剤等の幅
広い機能性材料に好適に利用することができる。
ロキシラジカル(いわゆる「リビングラジカル」の一
種)を利用する重合が注目を集めている。このような安
定なニトロキシラジカルを利用することで工業的に多用
されているラジカル重合により、分子量、分子量分布及
び形態を含めて、ポリマーの分子構造を正確に調節でき
るからである。
子ラジカル重合開始剤を用い、このアルコキシアミン基
から生成する安定なニトロキシラジカルを得る方法(な
いしは、このような安定なニトロキシラジカルが関与す
るラジカル重合によりグラフトポリマーを得る方法)
は、既に特開昭60−89452号公報、特開平10−
60064号公報、特開平2001−64308号公報
等に開示されている。
ミン基を分子内に有する高分子ラジカル重合開始剤を得
る方法は、2種類に大別できる。その第1の方法は、高
分子量体の分子中に、ラジカル反応、あるいはイオン反
応によってアルコキシアミン基を導入し、高分子ラジカ
ル重合開始剤を得る方法である。また、第2の方法は、
同一分子内にラジカル重合性ビニル基およびアルコキシ
アミン基を有する化合物を製造した後、該アルコキシア
ミン基を有する化合物を他の単量体と共重合させること
により、アルコキシアミン基を分子内に有する高分子ラ
ジカル重合開始剤を得る方法である。上記の文献中にお
いては、これらの方法で得られた高分子ラジカル重合開
始剤を利用して、グラフト共重合体の合成が行われてい
る。
ミン基を導入する方法)は、特開昭60−89452号
公報、特開平10−60064号公報中に記載されてい
る。
公報には、ポリブタジエン又はポリイソブチルメタクリ
レート中にラジカルを発生させ、このラジカルと系中に
存在させたニトロキサイド化合物とを反応させることに
より、分子内にアルコキシアミンを有する高分子ラジカ
ル重合開始剤を得る方法が記載されている。
報には、光照射により高分子量体分子中にラジカルを発
生させ、系中に存在するニトロキサイド化合物を反応さ
せて、分子内にアルコキシアミン基を有する高分子ラジ
カル重合開始剤を得る方法が記載されている。
有する化合物を共重合する方法)は特開昭60−894
52号公報、特開2001−64308号公報中に記載
されている。
公報には、分子内に水酸基を有するアゾ系化合物を熱分
解して発生したラジカルとニトロキサイド化合物とを反
応させることにより、水酸基を有するニトロキサイド化
合物を得た後、該水酸基を(メタ)アクリル酸クロライ
ドとエステル化してビニル基を有するニトロキサイド化
合物を得て、これを他の単量体と反応させることによ
り、ラジカル重合開始剤を製造する方法が記載されてい
る。
は、特定のビニル基を有するニトロキサイド化合物を用
いて高分子ラジカル重合開始剤を合成し、該開始剤を利
用してグラフト共重合体を合成する方法が記載されてい
る。
を利用する重合を幅広い材料設計に利用するためには、
種々の単量体種から構成される共重合体が簡便に得られ
ることが重要である。しかしながら、上記した従来技術
に開示されている高分子ラジカル重合開始剤、あるいは
これらの開始剤を用いて合成されたグラフト共重合体に
は、以下のような問題があった。
ルコキシアミン基を導入する方法)により高分子ラジカ
ル重合開始剤を得る場合には、特開昭60−89452
号公報、特開平10−60064号公報等に記載された
技術におけるように、反応に用いられる高分子量体から
水素原子が選択的かつ容易に引き抜かれるか、あるいは
光照射や熱処理によって開裂してラジカルを生成し得る
高分子量体を注意深く選択する必要がある。したがっ
て、これらの方法に利用可能な高分子量体が限定される
ため実用的ではなかった。また、これらの方法において
は、重合体へのアルコキシアミン基の導入効率が低いと
いう問題もあった。
有する化合物を共重合する方法)により高分子ラジカル
開始剤を得る場合には、特開昭60−89452号公報
や特開2001−64308号公報記載の技術のよう
に、アルコキシアミン基を導入すべき単量体がかなり限
定される、あるいはアルコキシアミン基の導入効率が低
い等の問題があった。
る種々の問題点を解決することが可能な高分子ラジカル
重合開始剤、および該開始剤を利用する共重合体の製造
方法を提供することにある。
用いて構成することが可能な高分子ラジカル重合開始
剤、および該開始剤を利用する共重合体の製造方法を提
供することにある。
り高収率で得ることが可能な高分子ラジカル重合開始
剤、および該開始剤を利用して構造上安定な共重合体を
収率良く製造する方法を提供することにある。
来技術における問題点の解決を目指して鋭意検討した結
果、特定の反応基を有するニトロキサイド化合物を用い
ることにより、多様な単量体種を有することが可能な高
分子ラジカル重合開始剤が容易に得られることを見出し
た。加えて、本発明者らは、このような高分子ラジカル
重合開始剤は、簡便に高収率で得ることが可能であるこ
とも見出した。
を進めた結果、このような高分子ラジカル重合開始剤を
利用することにより、該開始剤の重合体部分と該開始剤
により新たに重合した重合体部分が安定な炭素−炭素結
合により結合した共重合体(例えばグラフト共重合体、
ブロック共重合体)を製造可能であることをも見出し
た。
および/又は末端に下記一般式(1)または(2)で示
される構造を有するビニル系重合体であって、ビニル系
単量体のアニオン重合により生成するカルボアニオンと
エポキシ基の反応により得られるビニル系重合体以外の
ビニル系重合体を含むことを特徴とする高分子ラジカル
重合開始剤に関する。
R10は、該化合物から生成し得るニトロキシラジカル
とラジカル重合性単量体から生成する炭素ラジカルとの
結合に立体障害および結合エネルギーの低下を与える鎖
長を有する同一又は異なる直鎖型もしくは分岐型のアル
キル基を示し、R3、R6、R11〜R14は、水素、
直鎖型もしくは分岐型のアルキル基を示し、互いに同一
でも異なっていてもよく、Y、Y’は一緒になって2価
基の−C(R15)(R16)−C(R17)
(R18)−、−C(R19)(R20)−C
(R21)(R22)−C(R 23)(R24)−のい
ずれか1つを形成し、R15〜R24は水素、アルキル
基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシロ
キシ基を示し、互いに同一でも異なっていてもよい。)
量体のアニオン重合によって得られるカルボアニオン以
外のビニル系重合体であって、且つ、エポキシ基と反応
可能な官能基を分子内に有するビニル系重合体(A)
と、下記一般式(3)または(4)で示されるエポキシ
基を有する化合物(B)を反応させて、上記した第一の
発明である高分子ラジカル重合開始剤を製造する方法に
関する。
化合物から生成し得るニトロキシラジカルとラジカル重
合性単量体から生成する炭素ラジカルとの結合に立体障
害および結合エネルギーの低下を与える鎖長を有する同
一又は異なる直鎖型もしくは分岐型のアルキル基を示
し、R3、R6、R11〜R14は、水素、直鎖型もし
くは分岐型のアルキル基を示し、互いに同一でも異なっ
ていてもよく、Y、Y’は一緒になって2価基の−C
(R15)(R16)−C(R17)(R18)−、−
C(R19)(R20)−C(R21)(R22)−C
(R2 3)(R24)−のいずれか1つを形成し、R
15〜R24は水素、アルキル基、カルボキシル基、ア
ルコキシカルボニル基、アシロキシ基を示し、互いに同
一でも異なっていてもよい。)
にエポキシ基と反応可能な官能基およびラジカル重合性
ビニル基を有する化合物(D)と一般式(3)または
(4)で表されるエポキシ基を有する化合物(B)との
反応物(E)と、他のラジカル重合性単量体(F)とを
共重合させて、上記した第一の発明である高分子ラジカ
ル重合開始剤を製造する方法に関する。
一の発明であるラジカル重合開始剤とラジカル重合性単
量体とを加熱することによってグラフト共重合体あるい
はブロック共重合体を製造する方法に関する。
する。以下の記載において量比を表す「部」および
「%」は、特に断らない限り質量基準とする。
鎖および/又は末端に一般式(1)または(2)で示さ
れる構造を有するビニル系重合体であって、ビニル系単
量体のアニオン重合により生成するカルボアニオンとエ
ポキシ基の反応により得られるビニル系重合体以外のビ
ニル系重合体を少なくとも含む。
上記一般式(1)または(2)の式中、R1、R2、R
4、R5、R7〜R10は、該化合物から生成し得るニ
トロキシラジカルとラジカル重合性単量体から生成する
炭素ラジカルとの結合に立体障害および結合エネルギー
の低下を与える鎖長を有する同一又は異なる直鎖型もし
くは分岐型のアルキル基を示す。R3、R6、R11〜
R14は、水素、直鎖型もしくは分岐型のアルキル基を
示し、互いに同一でも異なっていてもよい。Y、Y’は
一緒になって2価基の−C(R15)(R16)−C
(R17)(R1 8)−、−C(R19)(R20)−
C(R21)(R22)−C(R23)(R24)−の
いずれか1つを形成する基を示す。R15〜R24は水
素、アルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニ
ル基、アシロキシ基を示し、互いに同一でも異なってい
てもよい。
(2)の式中、R1、R2、R4、R5、R7〜R10
は、該化合物から生成し得るニトロキシラジカルとラジ
カル重合性単量体から生成する炭素ラジカルとの結合に
立体障害および結合エネルギーの低下を与える鎖長を有
する同一又は異なる直鎖型もしくは分岐型のアルキル基
である。ここに、「炭素ラジカルとの結合に立体障害お
よび結合エネルギーの低下を与える鎖長」とは、炭素数
1以上の基を言う。
式(1)または(2))の構造の例としては、下記式
(X)で表される構造が挙げられる。この一般式(1)
または(2)で示される構造は、本発明の高分子ラジカ
ル重合開始剤を構成するビニル系重合体の側鎖または末
端のいずれかにあってもよく、または側鎖と末端の両方
にあっても良い。
(1)または(2)の構造を有するビニル系重合体を与
える単量体である限り、特に限定されない。本発明にお
いて、一般式(1)または(2)の構造を有するビニル
系重合体を構成することが可能なビニル系単量体の例と
しては、例えば、メタクリル酸と3,3,8,8,1
0,10−ヘキサメチル−9−[1−(オキシラニルメ
トキシ−フェニル)−エトキシ]−1,5−ジオキサ−
9−アザスピロ[5.5]ウンデカンの反応物(例え
ば、下記式(Y)で表されるもの);スチレン、p−メ
チルスチレン、クロロメチルスチレン、α−メチルスチ
レン等のスチレン誘導体;アクリル酸、メタクリル酸、
イタコン酸、マレイン酸、フマル酸等のカルボキシル基
含有ビニル単量体;無水マレイン酸、無水イタコン酸等
の酸無水基含有ビニル単量体;アクリルアミド、メタク
リルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−
エチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メ
タ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピル
(メタ)アクリルアミド等のアミド基含有ビニル単量
体;(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エ
チル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル
酸ブチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、
(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)ア
クリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸
3−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸ヒドロキ
シブチル、(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)ア
クリル酸N,N−ジメチルアミノエチル、(メタ)アク
リル酸N,N−ジエチルアミノエチル、(メタ)アクリ
ル酸N−t−ブチルアミノエチル等のエステル基含有ビ
ニル単量体;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等
のニトリル基含有ビニル単量体;ジペンタエリストール
ヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリストールペ
ンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパン
テトラアクリレート、テトラメチロールメタンテトラ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、
トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサ
ンジオールジ(メタ)アクリレート、1,5−ペンタン
ジオールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブチレング
リコールジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス(4−
(メタ)アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシエトキシ
フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(3−(メ
タ)アクリロキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニ
ル)プロパン、1,2−ビス[3−(メタ)アクリロキ
シ−2−ヒドロキシプロポキシ]エタン、1,4−ビス
[3−(メタ)アクリロキシ−2−ヒドロキシプロポキ
シ]ブタン、ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、
ジビニルナフタレン等の多官能ビニル系単量体が挙げら
れる。本発明において、ビニル系重合体は、これらの単
量体単独から構成される重合体でもよく、また2種以上
の単量体から構成される重合体であってもよい。
(1)または(2)の構造を有する)の分子量は、高分
子ラジカル重合開始剤を利用して製造される共重合体
(例えばグラフト共重合体またはブロック共重合体)に
要求される物性により適宜決定することができる。例え
ばブロック共重合体をエラストマーとして使用する場合
には、機械的強度と成形性の点からは、高分子ラジカル
重合開始剤の数平均分子量は、1 ×103〜 50×
104程度、更には5×103〜 10×104程度で
あることが好ましい(数平均分子量は例えばGPCを用
いて測定することができる。
量体のアニオン重合によって得られるカルボアニオン以
外のビニル系重合体であって、且つ、エポキシ基と反応
可能な官能基を分子内に有するビニル系重合体(A)
と、上記した一般式(3)または(4)で示されるエポ
キシ基を有する化合物(B)を反応させて、第一の発明
である高分子ラジカル重合開始剤を製造する方法に関す
る。
シ基と反応可能な官能基が存在しているため、このビニ
ル系重合体(A)を、エポキシ基を有する化合物(B)
と反応させることができる。
シ基と反応可能な官能基としては、ビニル系単量体のア
ニオン重合またはアニオン共重合(以下、「アニオン
(共)重合」という)により得られるカルボアニオン以
外の官能基であれば特に限定はされない。このような
「カルボアニオン以外の官能基」の例としては、反応性
の点からは、カルボン酸基、アミノ基、水酸基等が好適
に使用可能である。エポキシ基と反応可能な官能基はビ
ニル系重合体(A)の側鎖、末端、もしくはその両方に
位置する。従って、上記のビニル系重合体(A)を構成
する単量体の一部に、これらの官能基を有する単量体が
配置されるように、ビニル系重合体(A)を構成する単
量体(ないしは、単量体の組合せ)を選択すれば良い。
基」を有する単量体としては特に限定されないが、反応
性の点からは、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル
酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒド
ロキシプロピル等が好適に使用可能である。また、これ
らのエポキシ基と反応可能な官能基を有しない単量体を
選択し、このような単量体を用いて重合体を構成しした
後に、何らかの方法で、該重合体中のこれらの単量体に
相当する部分にカルボン酸基、アミノ基、水酸基等を導
入することにより、ビニル系重合体(A)とすることも
可能である。
ニル系重合体(A)を構成するビニル系単量体は特に限
定されない。好適に使用可能なビニル系単量体の例とし
ては、例えば、スチレン、p−メチルスチレン、クロロ
メチルスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン誘導
体;アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン
酸、フマル酸等のカルボキシル基含有ビニル単量体;無
水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水基含有ビニル
単量体;アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチ
ル(メタ)アクリルアミド、N−エチル(メタ)アクリ
ルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、
N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミ
ド等のアミド基含有ビニル単量体;(メタ)アクリル酸
メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル
酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アク
リル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸2−ヒ
ドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプ
ロピル、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシプロピル、
(メタ)アクリル酸ヒドロキシブチル、(メタ)アクリ
ル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸N,N−ジメチル
アミノエチル、(メタ)アクリル酸N,N−ジエチルア
ミノエチル、(メタ)アクリル酸N−t−ブチルアミノ
エチル等のエステル基含有ビニル単量体;アクリロニト
リル、メタクリロニトリル等のニトリル基含有ビニル単
量体;ジペンタエリストールヘキサ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリストールペンタ(メタ)アクリレー
ト、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、テ
トラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、トリエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)
アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)ア
クリレート、1,5−ペンタンジオールジ(メタ)アク
リレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシポ
リエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−
(メタ)アクリロキシエトキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス(4−(3−(メタ)アクリロキシ−2−
ヒドロキシプロポキシ)フェニル)プロパン、1,2−
ビス[3−(メタ)アクリロキシ−2−ヒドロキシプロ
ポキシ]エタン、1,4−ビス[3−(メタ)アクリロ
キシ−2−ヒドロキシプロポキシ]ブタン、ジビニルベ
ンゼン、ジビニルビフェニル、ジビニルナフタレン等の
多官能ビニル系単量体が挙げられる。これらの単量体は
単独で用いてもよく、また2種以上を混合して用いても
よい。
する高分子ラジカル重合開始剤、および該開始剤を利用
して製造される共重合体(例えばグラフト共重合体また
はブロック共重合体)に要求される物性により適宜決定
することができる。この分子量は、開始剤濃度、あるい
は連鎖移動剤の添加等により調節することができる。例
えばブロック共重合体をエラストマーとして使用する場
合には、機械的強度と成形性の点からは、高分子ラジカ
ル重合開始剤の数平均分子量は、1 ×103〜 50
×104程度、更には5×103〜 10×104程度
であることが好ましい。
(A)と反応されるべきエポキシ基を有する化合物
(B)は、上記一般式(3)または(4)で表される。
(B)の例としては、3,3,8,8,10,10−ヘ
キサメチル−9−[1−(オキシラニルメトキシ−フェ
ニル)−エトキシ]−1,5−ジオキサ−9−アザスピ
ロ[5.5]ウンデカン、7,7,9,9−テトラメチ
ル−8−[1−(4−オキシラニルメトキシ−フェニ
ル)−エトキシ]−1,4−ジオキサ−8−アザスピロ
[4.5]デカンなどが挙げられる。
ビニル系重合体(A)中に存在する「エポキシ基と反応
可能な官能基」との反応方法は、高分子ラジカル重合開
始剤を与えることが可能である限り特に限定されない。
好適に使用可能な方法としては、例えば、室温下あるい
は加熱下においてアミノ基やカルボン酸基と溶液中で混
合することによって反応させる方法や、水酸化カリウム
等の触媒存在下において溶液中で水酸基と反応させる方
法等を挙げることができる。
にエポキシ基と反応可能な官能基およびラジカル重合性
ビニル基を有する化合物(D)と一般式(3)または
(4)で表されるエポキシ基を有する化合物(B)との
反応物(E)と、他のラジカル重合性単量体(F)を共
重合させて、第一の発明である高分子ラジカル重合開始
剤を製造する方法に関する。
れるべき化合物(D)は、カルボアニオン以外の「エポ
キシ基と反応可能な官能基」を有するビニル系単量体で
あれば特に限定はされない。反応性の点からは、このよ
うな化合物(D)として、例えば(メタ)アクリル酸、
(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)ア
クリル酸2−ヒドロキシプロピル等が好適に使用可能で
ある。また、これらの官能基を有しない単量体を選択
し、反応物(E)を構成した後に、何らかの方法で該反
応物(E)に、カルボン酸基、アミノ基、水酸基等を導
入することも可能である。
反応されるべき化合物(B)は、本発明の第2の面にお
いて前述した化合物(B)と同様である。
能な官能基と化合物(B)が有するエポキシ基との反応
は、反応物(E)を与える限り特に限定されない。室温
下あるいは加熱下においてアミノ基やカルボン酸基と反
応させる方法や、水酸化カリウム等の触媒存在下におい
て水酸基と反応させる方法等を好適に使用することがで
きる。
応物(E)としては、例えば、メタクリル酸と3,3,
8,8,10,10−ヘキサメチル−9−[1−(オキ
シラニルメトキシ−フェニル)−エトキシ]−1,5−
ジオキサ−9−アザスピロ[5.5]ウンデカンの反応
物(Y)(上記構造を有する)などが挙げられる。
カル重合性単量体(F)は、ビニル系単量体であれば特
に限定されない。例えばスチレン、p−メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン、α−メチルスチレン等のス
チレン誘導体;アクリル酸、メタクリル酸、クロトン
酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸等のカルボキシ
ル基含有ビニル単量体;無水マレイン酸、無水イタコン
酸等の酸無水基含有ビニル単量体;アクリルアミド、メ
タクリルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、
N−エチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル
(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロ
ピル(メタ)アクリルアミド等のアミド基含有ビニル単
量体;(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸
エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリ
ル酸ブチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、
(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)ア
クリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸
3−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸ヒドロキ
シブチル、(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)ア
クリル酸N,N−ジメチルアミノエチル、(メタ)アク
リル酸N,N−ジエチルアミノエチル、(メタ)アクリ
ル酸N−t−ブチルアミノエチル等のエステル基含有ビ
ニル単量体;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等
のニトリル基含有ビニル単量体;ジペンタエリストール
ヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリストールペ
ンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパン
テトラアクリレート、テトラメチロールメタンテトラ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、
トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサ
ンジオールジ(メタ)アクリレート、1,5−ペンタン
ジオールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブチレング
リコールジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス(4−
(メタ)アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシエトキシ
フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(3−(メ
タ)アクリロキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニ
ル)プロパン、1,2−ビス[3−(メタ)アクリロキ
シ−2−ヒドロキシプロポキシ]エタン、1,4−ビス
[3−(メタ)アクリロキシ−2−ヒドロキシプロポキ
シ]ブタン、ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、
ジビニルナフタレン等の多官能ビニル系単量体等が好適
に使用可能である。これらの単量体は単独で用いてもよ
く、また2種以上を混合して用いてもよい。
量体(F)の重合方法は、特に制限されない。このよう
な態様においては、例えば塊状重合、溶液重合、懸濁重
合、乳化重合等の公知の重合方法で行うことができる。
この際、単量体の種類、重合温度等によって適当な重合
方法を選択することができる。
重合性単量体(F)との重合に使用すべき開始剤は、重
合温度、重合溶媒等を考慮し、適当なラジカル開始剤を
選択して使用することができる。塊状重合、溶液重合、
懸濁重合で使用可能な開始剤の例としては、2,2’−
アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2
−メチルブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,
2−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス
(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、
1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニト
リル)等のアゾ系開始剤;ベンゾイルパーオキサイド、
ジ−t−ブチルハイドロパーオキサイド、t−ブチルハ
イドロパーオキサイド、クミルパーオキシド、クメンハ
イドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイド
ロパーオキサイド等の過酸化物系開始剤が挙げられる。
ルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、エチル
3,3−ジ(t−アミルペルオキシ)ブチレート、2,
2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)ジイヒドロク
ロリド、硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の水溶性
ラジカル開始剤が利用できる。
合には、単量体やラジカル開始剤の溶解性、および重合
温度等を考慮して適当な溶剤を選択し、その溶剤中で重
合を行うことができる。溶剤としては、ベンゼン、トル
エン、エチルベンゼン、キシレン、クロロベンゼン、メ
チルエチルケトン、乳酸エチル、イソプロピルアルコー
ル等を選択することができる。
ラジカル重合開始剤が分解し、且つ単量体に導入したア
ルコキシアミン基が分解しない温度範囲内で決定するこ
とができる。より具体的には、この重合温度は0℃から
100℃の範囲が好ましく、更に20℃から80℃がよ
り好ましい。0℃より低い温度では、重合速度が遅いた
めに重合時間が長くなり、100℃以上の温度では、化
合物(5)が有するアルコキシアミン基の分解が顕著に
なる傾向がある。
体、重合開始剤あるいは重合温度等により決定すること
ができる。
2の面および第3の面において記述した方法)は両者と
も反応効率が高く、高い収率で高分子ラジカル開始剤を
得ることができる。また、反応効率が良いことから、得
られる重合体中のアルコキシアミン基含有量は、ほぼ理
論値と一致し、例えば高分子ラジカル開始剤1分子あた
りのアルコキシアミンの個数は理論値から25%以上外
れない。
重合開始剤は保存安定性に優れており、例えば製造後一
週間空気中、室温(25℃程度)下で放置した該開始剤
を重合に利用しても、製造直後と開始剤能に実質的に差
は見られず、例えば同条件下で重合を行った場合は、再
現性が得られる。
ラジカル重合開始剤は、共重合体(例えばグラフト共重
合体およびブロック共重合体)を効率良く製造する目的
に好適に使用可能であるのみならず、樹脂組成物製造時
における粘度の調整にも利用することができる。
であるラジカル重合開始剤とラジカル重合性単量体とを
加熱することによって、グラフト共重合体あるいはブロ
ック共重合体を製造する方法に関する。
応して、グラフト共重合体およびブロック共重合体を製
造する際に利用可能なラジカル重合性単量体は特に制限
されない。ラジカル重合性単量体の例としては、スチレ
ン、p−メチルスチレン、クロロメチルスチレン、α−
メチルスチレン等のスチレン誘導体;アクリル酸、メタ
クリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマ
ル酸等のカルボキシル基含有ビニル単量体;無水マレイ
ン酸、無水イタコン酸等の酸無水基含有ビニル単量体;
アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチル(メ
タ)アクリルアミド、N−エチル(メタ)アクリルアミ
ド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N
−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド等の
アミド基含有ビニル単量体;(メタ)アクリル酸メチ
ル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プ
ロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル
酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロ
キシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピ
ル、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシプロピル、(メ
タ)アクリル酸ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸
グリシジル、(メタ)アクリル酸N,N−ジメチルアミ
ノエチル、(メタ)アクリル酸N,N−ジエチルアミノ
エチル、(メタ)アクリル酸N−t−ブチルアミノエチ
ル等のエステル基含有ビニル単量体;アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリル等のニトリル基含有ビニル単量
体を挙げることができる。これらの単量体は単独で用い
てもよく、また2種以上を混合して用いてもよい。
したグラフト共重合体およびブロック共重合体は、例え
ば、高分子ラジカル重合開始剤、ラジカル重合性単量体
を含む混合物を加熱することによって得ることができ
る。
開始剤分子中のアルコキシアミン基は、加熱により、重
合体に結合した炭素ラジカルと、安定なニトロキシラジ
カルとに開裂する。このようにして生成した炭素ラジカ
ルはラジカル重合性単量体の重合を開始し、一方の安定
なニトロキシラジカルは重合を開始することなく、炭素
ラジカルによって重合が開始された重合体の末端と結合
する。結合後に再び開裂し、その後結合と開裂を繰り返
しながら重合が進行していく場合には、生成する重合体
の分子量分布は狭く、いわゆる「リビングラジカル重
合」となり得る。
安定なニトロキシラジカルによる前記のような重合制御
が行われない場合には、通常のラジカル重合と同様な重
合挙動により重合体が生成する。また、安定なニトロキ
シラジカルの重合体末端への結合が再開裂しない場合に
は、重合は進行しない。すなわち、高分子ラジカル重合
開始剤を利用した二段目の重合に用いられる単量体は、
目的とする共重合体(例えばグラフト共重合体およびブ
ロック共重合体)の構成成分として適当であり、且つ高
分子開始剤中のアルコキシアミン基より重合が進行しう
る単量体を選択すればよい。
合体(例えばグラフト共重合体およびブロック共重合
体)を製造する際にも、塊状重合、溶液重合、懸濁重
合、乳化重合等の公知の重合方法で行うことができ、単
量体の種類、重合温度等によって適当な重合方法を選択
することができる。
子ラジカル重合開始剤が有するアルコキシアミン基が分
解して炭素ラジカルとニトロキシラジカルを生じさせる
のに必要な温度以上であることが好ましい。この重合温
度は、50℃から180℃の範囲が好ましく、更には7
0℃から150℃の範囲がより好ましい。重合温度が低
すぎる温度では、高分子ラジカル重合開始剤中のアルコ
キシアミン基の分解が起こりにくい傾向がある。他方、
重合温度が高すぎる温度では、重合速度の制御が困難に
なると同時に熱重合が生じる可能性が高くなるという傾
向がある。
量は、目的とする共重合体(グラフト共重合体、ブロッ
ク共重合体等)の物性等を考慮して決定することができ
る。例えば共重合体を熱可塑性エラストマーの用途で使
用する場合は、機械的強度の発現及び成形性の点から
は、この数平均分子量は、1×103〜 50×104
程度、更には 5×103〜 10×104程度である
ことが好ましい。
フト共重合体の製造に利用する場合における、開始剤一
分子中に導入するアルコキシアミン基の数は、目的とす
るグラフト共重合体の物性等により適宜決定することが
できる。グラフト共重合体の枝部分の分子量を上述の範
囲にするという点からは、この開始剤一分子中に導入す
べきアルコキシアミン基の数は開始剤を構成する単量体
100ユニットにつき、0.1〜50程度、更には1
〜 30程度であることが好ましい。
は、要求されるブロック共重合体の構造を考慮し、開始
剤の一端あるいは両端にアルコキシアミン基を導入させ
ればよい。
子ラジカル重合開始剤部分と、二段目の重合(すなわ
ち、該高分子ラジカル重合開始剤により開始された重
合)で生成した重合体との結合部分が炭素−炭素結合で
あることから、安定な構造を有している。また、本発明
の製造方法により、該高分子ラジカル重合開始剤以外に
重合開始剤が存在しないため、二段目の重合時におい
て、二段目に重合で用いる単量体から成る単独重合体を
生成することなく、高収率で共重合体(グラフト共重合
体、ブロック共重合体等)を得ることが可能である。
される共重合体が簡便に得られるため、ニトロキサイド
化合物を利用した重合を幅広い材料設計に利用すること
が可能となる。本発明においては、重合体に存在する官
能基とニトロキサイド化合物が有する官能基を反応させ
てアルコキシアミン基を有する高分子ラジカル重合開始
剤を得ることができ、したがってこのアルコキシアミン
基を重合開始点として、共重合体を合成することが可能
となる。この際、例えば、重合体の末端を開始点とすれ
ばブロック共重合体を得ることができ、また、重合体の
末端以外の点に単数または複数の開始点を持たせればグ
ラフト共重合体を合成することが可能となる。
は、高分子ラジカル重合開始剤の構成成分あるいは二段
目の重合で用いる単量体の成分を目的に応じて適宜選択
することが可能である。したがって、該共重合体は、エ
ラストマー、相溶化剤、界面活性剤、分離安定剤、顔料
分散剤、接着性改良剤、塗料等幅広い機能性材料に有用
に利用することができる。
2に記載)を示す。但し、本発明は、これらの実施例に
限定されるものではない。
した。
ters社製 HPLCポンプ 510、示差屈折計
R401、データ処理 ミレニアム2010クロマトグ
ラフィマネージャー) カラム:Shodex K−805L(内径8mm、長
さ300mm) カラム槽温度:35℃ 移動相:クロロホルム、流量1.0ml/min 標準サンプル:PMMA(Mn:330000、880
00、34500、10300、2990) 試料:濃度 2mg/ml、クロロホルム溶液 試料注入量:100μl
ル酸)ランダム共重合体と3,3,8,8,10,10
−ヘキサメチル−9−[1−(オキシラニルメトキシ−
フェニル)−エトキシ]−1,5−ジオキサ−9−アザ
スピロ[5.5]ウンデカンの反応[高分子ラジカル開
始剤の合成]
メチル/ポリメタクリル酸)ランダム共重合体(Aldric
h社製、Mw:34000、Mn:15000、メタク
リル酸:1.6mol%)と、3,3,8,8,10,
10−ヘキサメチル−9−[1−(オキシラニルメトキ
シ−フェニル)−エトキシ]−1,5−ジオキサ−9−
アザスピロ[5.5]ウンデカンとから成る溶液Aを作
製し、オイルバス温度80℃で8時間反応させた。反応
の完了は、ガスクロマトグラフィーで確認した。ヘキサ
ンで再沈した後、真空乾燥機にて1.3kPaまで圧力
を減じて70℃で24時間乾燥させて重合体Iを得た。
得られた重合体の物性は表1に示した。
n−ブチル)グラフト共重合体の合成
られた重合体Iを高分子ラジカル重合開始剤とする溶液
Bを得た。この溶液Bの全量を容量5mlのガラスアン
プルに注入し、二方コックで蓋をして真空ラインにつな
いだ後、液体窒素にて凍結させた。溶液Bが凍結したの
を確認して、真空ポンプで脱気し、二方コックを閉めて
真空ラインから外した。凍結させた二方コック付きガラ
スアンプルを室温の流水で解凍して凍結脱気した。凍結
から解凍までの作業を3回行い、3回目は解凍せずに二
方コックより下部でガスバーナーを用いて封管した後1
30℃で10時間重合を行った。重合終了後、重合体を
ヘキサンで洗浄した後真空乾燥機にて1.3kPaまで
圧力を減じて70℃で24時間乾燥させた。このように
して得られた重合体が(ポリメタクリル酸メチル/ポリ
アクリル酸n−ブチル)グラフト共重合体であること
が、NMRにより確認された。物性については表1に示
した。
ム共重合体の合成
機、冷却管、窒素導入管を備えた容量500mlの三口
フラスコに入れ、流量50ml/minにて窒素バブリ
ングした後、80℃で重合を行った。6時間後に温度を
下げて重合を停止し、得られた重合溶液を100mlの
メチルエチルケトンで希釈した後、攪拌している2リッ
トルのヘキサンにゆっくり投入して再沈した。真空乾燥
機にて1.3kPaまで圧力を減じて70℃で24時間
乾燥させて重合体IIを得た。重合体IIの物性は表1
に示した。
ム共重合体と3,3,8,8,10,10−ヘキサメチ
ル−9−[1−(オキシラニルメトキシ−フェニル)−
エトキシ]−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ[5.
5]ウンデカンの反応[高分子ラジカル開始剤の合成]
成した重合体IIと3,3,8,8,10,10−ヘキ
サメチル−9−[1−(オキシラニルメトキシ−フェニ
ル)−エトキシ]−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ
[5.5]ウンデカンとを含む溶液Dを作製し、実施例
1と同様の条件で重合体IIIを得た。重合体IIIの
物性は表1に示した。
酸n−ブチル)グラフト共重合体の合成
た重合体IIIを高分子ラジカル重合開始剤とする溶液
Eを作製し実施例2と同様の条件で重合体を得た。得ら
れた重合体が(ポリメタクリル酸メチル/ポリアクリル
酸n−ブチル)グラフト共重合体であることがNMRに
より確認された。このグラフト共重合体の物性について
は表1に示した。
ンダム共重合体の合成
施例3と同様の条件で重合体IVを得た。得られた重合
体IVの物性は表1に示した。
ンダム共重合体と3,3,8,8,10,10−ヘキサ
メチル−9−[1−(オキシラニルメトキシ−フェニ
ル)−エトキシ]−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ
[5.5]ウンデカンの反応[高分子ラジカル開始剤の
合成]
た重合体IVと3,3,8,8,10,10−ヘキサメ
チル−9−[1−(オキシラニルメトキシ−フェニル)
−エトキシ]−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ
[5.5]ウンデカンとを含む溶液Gを作製し、実施例
1と同様の条件で重合体Vを得た。この重合体Vの物性
は表1に示した。
重合体の合成
重合体Vを高分子ラジカル重合開始剤とする溶液Hを作
製し、実施例2と同様の条件で重合体を得た。NMRに
より得られた重合体が(ポリメタクリル酸イソブチル/
スチレン)グラフト共重合体であることが確認された。
0−ヘキサメチル−9−[1−(オキシラニルメトキシ
−フェニル)−エトキシ]−1,5−ジオキサ−9−ア
ザスピロ[5.5]ウンデカンの反応
3,3,8,8,10,10−ヘキサメチル−9−[1
−(オキシラニルメトキシ−フェニル)−エトキシ]−
1,5−ジオキサ−9−アザスピロ[5.5]ウンデカ
ンを含むトルエン/メチルエチルケトン混合溶液Iを作
製し、80℃で10時間反応させた。反応の終了はガス
クロマトグラフィーにより確認した。減圧蒸留を行い、
反応物の中から目的の生成物VIを取り出した。
ム共重合体の合成 [高分子ラジカル重合開始剤の合成]
た化合物VIとメタクリル酸メチルとを含む溶液Jを作
製し実施例3と同様の条件で重合体VIIを得た。
ル)グラフト共重合体の合成
れた重合体VIIを高分子ラジカル重合開始剤とする溶
液Kを作製し、実施例2と同様の条件で重合体を得た。
NMRにより得られた重合体が(ポリメタクリル酸メチ
ル/ポリアクリル酸n−ブチル)グラフト共重合体であ
ることを確認した。
50℃で3時間加熱し、その後反応混合物をメタノール
中に注いで目的物である重合体VIIIを得た。
合体VIIIを開始剤とする溶液Mを作製し、実施例2
と同様の条件で重合体を得た。NMRにより得られた重
合体が(ポリメタクリル酸イソブチル/スチレン)グラ
フト共重合体であることを確認した。
各成分を混合して得た溶液Oに加えた後、攪拌しながら
室温下で反応させた。1時間後にトリエチルアミンと水
を加え、更に1時間攪拌した後、ジエチルエーテル層を
飽和炭酸水素ナトリウム、水、塩水で洗浄を行った。無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過を行い溶媒を除去し
て目的物IXを得た。
合物IXとメタクリル酸メチルとを含む溶液Pを作製
し、冷却管、窒素導入管を備え、攪拌子を入れた容量1
00mlの3つ口フラスコに入れ、流量10ml/mi
nで30分窒素バブリングした後、35℃で20時間重
合を行った。メタノールで再沈した後、真空乾燥機にて
70℃で24時間乾燥して重合体Xを得た。
合体Xを高分子ラジカル重合開始剤とする溶液Qを作製
し、実施例2と同様にして130℃で10時間重合を行
った。重合終了後、ヘキサンで洗浄した後真空乾燥機に
て24時間70℃で乾燥させ、重合体を得た。により得
られた重合体が(ポリメタクリル酸メチル/ポリアクリ
ル酸メチル)グラフト共重合体であることを確認した。
300mlの四口フラスコに、ジビニルベンゼン(50
g)と、2−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン−1−オキシル(HO−TEMPO)8.
6gの混合物を投入し窒素置換した。
−イソプロピルペルオキシジカーボネート12gを20
分かけて添加した。50℃で5時間反応させた後、ジビ
ニルベンゼンの大部分を減圧留去した。得られた化合物
をシリカゲルクロマトグラフィで精製した後1H−NM
R測定を行い、得られた化合物が2−イソプロピルオキ
シカルボニルオキシ−1−(4’−ヒドロキシ−2’,
2’,6’,6’−テトラメチル−1’−ピペリジニル
オキシ)−1−(3’−ビニルフェニル)エタンと2−
イソプロピルオキシカルボニルオキシ−1−(4’−ヒ
ドロキシ−2_,2_,6_,6’−テトラメチル−
1’−ピペリジニルオキシ)−1−(4’−ビニルフェ
ニル)エタンの混合物(化合物XI)であることを確認
した。
2と同様の方法で凍結脱気して60℃で6時間重合を行
った。その後、内容物をメタノールで再沈し、重合体X
IIを得た。
合体XIIを開始剤とする溶液Sを作製し、実施例2と
同様の条件で重合体を得た。NMRにより得られた重合
体が(ポリメタクリル酸メチル/アクリル酸n−ブチ
ル)グラフト共重合体であることを確認した。
果を、下記の表1および表2にまとめて示す。
キシアミン基を有する新規な高分子ラジカル重合開始剤
を簡便な方法で得ることが可能となる。更に、このよう
にして得られた高分子ラジカル重合開始剤を用いること
で、構造上安定なグラフト共重合体やブロック共重合体
を効率良く製造することが可能となる。
ジカル重合開始剤の構成成分あるいは二段目の重合で用
いる単量体の成分を目的に応じて適宜選択することが可
能であるため、得られた共重合体はエラストマー、相溶
化剤、界面活性剤、分離安定剤、顔料分散剤、接着性改
良剤、塗料等幅広い機能性材料に好適に利用することが
できる。
Claims (4)
- 【請求項1】 側鎖および/又は末端に下記一般式
(1)または(2)で示される構造を有するビニル系重
合体であって、ビニル系単量体のアニオン重合により生
成するカルボアニオンとエポキシ基の反応により得られ
るビニル系重合体以外のビニル系重合体を含むことを特
徴とする高分子ラジカル重合開始剤。 【化1】 (式中、R1、R2、R4、R5、R7〜R10は、該
化合物から生成し得るニトロキシラジカルとラジカル重
合性単量体から生成する炭素ラジカルとの結合に立体障
害および結合エネルギーの低下を与える鎖長を有する同
一又は異なる直鎖型もしくは分岐型のアルキル基を示
し、R3、R6、R11〜R14は、水素、直鎖型もし
くは分岐型のアルキル基を示し、互いに同一でも異なっ
ていてもよく、Y、Y’は一緒になって2価基の−C
(R15)(R16)−C(R17)(R18)−、−
C(R19)(R20)−C(R21)(R22)−C
(R2 3)(R24)−のいずれか1つを形成し、R
15〜R24は水素、アルキル基、カルボキシル基、ア
ルコキシカルボニル基、アシロキシ基を示し、互いに同
一でも異なっていてもよい。) - 【請求項2】 ビニル系単量体のアニオン重合によって
得られるカルボアニオン以外のビニル系重合体であっ
て、且つ、エポキシ基と反応可能な官能基を分子内に有
するビニル系重合体(A)と、下記一般式(3)または
(4)で示されるエポキシ基を有する化合物(B)を反
応させる請求項1記載の高分子ラジカル重合開始剤の製
造方法。 【化2】 (式中、R1、R2、R4、R5、R7〜R10は、該
化合物から生成し得るニトロキシラジカルとラジカル重
合性単量体から生成する炭素ラジカルとの結合に立体障
害および結合エネルギーの低下を与える鎖長を有する同
一又は異なる直鎖型もしくは分岐型のアルキル基を示
し、R3、R6、R11〜R14は、水素、直鎖型もし
くは分岐型のアルキル基を示し、互いに同一でも異なっ
ていてもよく、Y、Y’は一緒になって2価基の−C
(R15)(R16)−C(R17)(R18)−、−
C(R19)(R20)−C(R21)(R22)−C
(R2 3)(R24)−のいずれか1つを形成し、R
15〜R24は水素、アルキル基、カルボキシル基、ア
ルコキシカルボニル基、アシロキシ基を示し、互いに同
一でも異なっていてもよい。) - 【請求項3】 同一分子内にエポキシ基と反応可能な官
能基およびラジカル重合性ビニル基を有する化合物
(D)と、一般式(3)または(4)で表されるエポキ
シ基を有する化合物(B)との反応物(E)と、他のラ
ジカル重合性単量体(F)を共重合する請求項1記載の
高分子ラジカル重合開始剤の製造方法。 - 【請求項4】 ラジカル重合性単量体を、請求項1に記
載の高分子ラジカル重合開始剤の存在下で、加熱して重
合するグラフト共重合体またはブロック共重合体の製造
方法。
Priority Applications (1)
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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---|---|---|---|---|
WO2005118651A1 (en) * | 2004-05-27 | 2005-12-15 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Alkoxyamines containing a radically polymerizable group |
WO2019181870A1 (ja) * | 2018-03-23 | 2019-09-26 | 日本ゼオン株式会社 | 二次電池用バインダー組成物、二次電池電極用導電材ペースト、二次電池電極用スラリー組成物、二次電池電極用スラリー組成物の製造方法、二次電池用電極および二次電池 |
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