JP2003139932A - カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び、電子機器 - Google Patents
カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び、電子機器Info
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- JP2003139932A JP2003139932A JP2001334608A JP2001334608A JP2003139932A JP 2003139932 A JP2003139932 A JP 2003139932A JP 2001334608 A JP2001334608 A JP 2001334608A JP 2001334608 A JP2001334608 A JP 2001334608A JP 2003139932 A JP2003139932 A JP 2003139932A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 144
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 45
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 27
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims abstract description 27
- 238000004040 coloring Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 19
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 360
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 27
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 13
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 8
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 4
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 101001062854 Rattus norvegicus Fatty acid-binding protein 5 Proteins 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/201—Filters in the form of arrays
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- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 電気光学装置において反射性遮光層を形成し
た場合に、反射性遮光層の光反射を抑制しつつ、製造コ
ストを低減することができる構造を提供する。 【解決手段】 カラーフィルタ基板２１０には、画素領
域Ｐｒ，Ｐｇ，Ｐｂが設定され、これらの画素領域間に
それぞれ遮光領域ＢＲが設定されている。画素領域Ｐｒ
にはＲ（赤）の色相を呈する着色層２１３ｒが基板２１
１上に配置され、画素領域ＰｇにはＧ（緑）の色相を呈
する着色層２１３ｇが基板２１１上に配置され、画素領
域ＰｂにはＢ（青）の色相を呈する着色層２１３ｂが基
板２１１上に配置されている。また、遮光領域ＢＲに
は、基板２１１上に反射性遮光層２１２Ｂが配置され、
この上にさらに着色層２１３ｒ、２１３ｇ、２１３ｂが
積層配置されている。
た場合に、反射性遮光層の光反射を抑制しつつ、製造コ
ストを低減することができる構造を提供する。 【解決手段】 カラーフィルタ基板２１０には、画素領
域Ｐｒ，Ｐｇ，Ｐｂが設定され、これらの画素領域間に
それぞれ遮光領域ＢＲが設定されている。画素領域Ｐｒ
にはＲ（赤）の色相を呈する着色層２１３ｒが基板２１
１上に配置され、画素領域ＰｇにはＧ（緑）の色相を呈
する着色層２１３ｇが基板２１１上に配置され、画素領
域ＰｂにはＢ（青）の色相を呈する着色層２１３ｂが基
板２１１上に配置されている。また、遮光領域ＢＲに
は、基板２１１上に反射性遮光層２１２Ｂが配置され、
この上にさらに着色層２１３ｒ、２１３ｇ、２１３ｂが
積層配置されている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はカラーフィルタ基
板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置、電
気光学装置の製造方法、及び、電子機器に係り、特に、
表示装置における遮光部分の構造として好適な構成に関
する。
板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置、電
気光学装置の製造方法、及び、電子機器に係り、特に、
表示装置における遮光部分の構造として好適な構成に関
する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、液晶表示装置、エレクトロルミ
ネッセンス表示装置、プラズマディスプレイ等の各種の
電気光学装置においては、カラー表示を可能にするため
に、異なる色相を呈する複数の着色層を配列させたカラ
ーフィルタを備えている場合がある。カラーフィルタ
は、例えばＲ（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）の３色の着
色層を、公知のストライプ配列や斜めモザイク配列等の
所定の配列パターンにて平面的に配列させたものであ
る。
ネッセンス表示装置、プラズマディスプレイ等の各種の
電気光学装置においては、カラー表示を可能にするため
に、異なる色相を呈する複数の着色層を配列させたカラ
ーフィルタを備えている場合がある。カラーフィルタ
は、例えばＲ（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）の３色の着
色層を、公知のストライプ配列や斜めモザイク配列等の
所定の配列パターンにて平面的に配列させたものであ
る。
【０００３】図１０は、従来の反射半透過型の液晶表示
装置１００の構造を模式的に示す概略断面図である。こ
の液晶表示装置１００は、ガラス等で構成される基板１
１１を含む半透過構造の反射基板１１０と、基板１２１
を含む対向基板１２０と、反射基板１１０と対向基板１
２０との間に挟持された液晶層１３０と、対向基板１２
０の外面上に配置された偏光板１４１及び１／４波長板
１４２と、反射基板１１０の外面上に配置された偏光板
１４３及び１／４波長板１４４と、偏光板１４３の外面
上に配置されたバックライト１５０とを備えている。
装置１００の構造を模式的に示す概略断面図である。こ
の液晶表示装置１００は、ガラス等で構成される基板１
１１を含む半透過構造の反射基板１１０と、基板１２１
を含む対向基板１２０と、反射基板１１０と対向基板１
２０との間に挟持された液晶層１３０と、対向基板１２
０の外面上に配置された偏光板１４１及び１／４波長板
１４２と、反射基板１１０の外面上に配置された偏光板
１４３及び１／４波長板１４４と、偏光板１４３の外面
上に配置されたバックライト１５０とを備えている。
【０００４】反射基板１１０には、基板１１１上に形成
された反射層１１２と、反射層１１２上に形成された透
明な絶縁層１１３と、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）
等の透明導電体で構成された電極１１４と、配向膜１１
５とが設けられている。
された反射層１１２と、反射層１１２上に形成された透
明な絶縁層１１３と、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）
等の透明導電体で構成された電極１１４と、配向膜１１
５とが設けられている。
【０００５】一方、対向基板１２０には、基板１２１上
に形成された遮光層１２２と、画素領域Ｐｒ，Ｐｇ，Ｐ
ｂ毎に所定のパターンで配列された、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色
相を呈する着色層１２３Ｒ，１２３Ｇ，１２３Ｂと、着
色層の上に形成された透明な保護層１２４と、保護層１
２４上に透明導電体で構成された対向電極１２５と、対
向電極１２５上に形成された配向膜１２６とが設けられ
ている。
に形成された遮光層１２２と、画素領域Ｐｒ，Ｐｇ，Ｐ
ｂ毎に所定のパターンで配列された、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色
相を呈する着色層１２３Ｒ，１２３Ｇ，１２３Ｂと、着
色層の上に形成された透明な保護層１２４と、保護層１
２４上に透明導電体で構成された対向電極１２５と、対
向電極１２５上に形成された配向膜１２６とが設けられ
ている。
【０００６】この液晶表示装置１００は、画素領域Ｐ
ｒ，Ｐｇ，Ｐｂ毎に反射層１１２に開口部１１２ａが形
成され、この開口部１１２ａをバックライト１５０から
放出された光が透過することによって透過型表示を実現
することができ、また、画素領域Ｐｒ，Ｐｇ，Ｐｂ内の
反射層１１２によって観察側（図示上側）から入射した
外光が反射されることにより、反射型表示を実現するこ
とができる反射半透過型の液晶表示装置となっている。
ｒ，Ｐｇ，Ｐｂ毎に反射層１１２に開口部１１２ａが形
成され、この開口部１１２ａをバックライト１５０から
放出された光が透過することによって透過型表示を実現
することができ、また、画素領域Ｐｒ，Ｐｇ，Ｐｂ内の
反射層１１２によって観察側（図示上側）から入射した
外光が反射されることにより、反射型表示を実現するこ
とができる反射半透過型の液晶表示装置となっている。
【０００７】また、画素領域Ｐｒ，Ｐｇ，Ｐｂ間には基
板１２１上に形成された遮光層１２２が配置され、この
遮光層１２２は、観察側（図示上側）から視認したとき
に、外光を反射しにくく黒色に見えるように、例えばＣ
ｒで構成された薄膜と酸化クロムで構成された薄膜とが
積層された積層構造（２層構造若しくは３層構造）を備
えている。
板１２１上に形成された遮光層１２２が配置され、この
遮光層１２２は、観察側（図示上側）から視認したとき
に、外光を反射しにくく黒色に見えるように、例えばＣ
ｒで構成された薄膜と酸化クロムで構成された薄膜とが
積層された積層構造（２層構造若しくは３層構造）を備
えている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の液晶表示装置１００においては、観察側から視認し
た場合に遮光層１２２の光反射によってコントラストが
低下することを防止するために、遮光層１２２を積層構
造となるように構成する必要があることから工程数及び
製造コストが増加するという問題点があった。
来の液晶表示装置１００においては、観察側から視認し
た場合に遮光層１２２の光反射によってコントラストが
低下することを防止するために、遮光層１２２を積層構
造となるように構成する必要があることから工程数及び
製造コストが増加するという問題点があった。
【０００９】また、遮光層１２２においては、その遮光
性を高めるためにはＣｒ等の反射性素材の厚さを十分に
厚く形成する必要があることから、遮光層１２２を形成
する工程に必要な時間が長くなるので、生産効率の低下
と製造コストの増大を招くという問題もあった。
性を高めるためにはＣｒ等の反射性素材の厚さを十分に
厚く形成する必要があることから、遮光層１２２を形成
する工程に必要な時間が長くなるので、生産効率の低下
と製造コストの増大を招くという問題もあった。
【００１０】さらに、上記遮光層１２２は、観察側であ
る基板１２１側から視認した場合には黒色に見えるが、
それとは反対の基板１１１側から視認した場合には光を
反射するように構成されているので、遮光層による光反
射でコントラストが低下することを回避しようとする
と、上記構造とは逆に着色層と保護層からなるカラーフ
ィルタを反射基板１１０（或いは観察側とは反対側の基
板）に形成した構造を採用することができないという問
題点があった。
る基板１２１側から視認した場合には黒色に見えるが、
それとは反対の基板１１１側から視認した場合には光を
反射するように構成されているので、遮光層による光反
射でコントラストが低下することを回避しようとする
と、上記構造とは逆に着色層と保護層からなるカラーフ
ィルタを反射基板１１０（或いは観察側とは反対側の基
板）に形成した構造を採用することができないという問
題点があった。
【００１１】そこで本発明は上記問題点を解決するもの
であり、その課題は、工程数及び製造コストの増大を抑
制することのできるカラーフィルタ基板、電気光学装
置、並びにそれらの製造方法を提供することにある。ま
た、遮光構造を形成するための時間を短縮することがで
き、生産効率を向上させることのできるカラーフィルタ
基板、電気光学装置、並びにそれらの製造方法を提供す
ることにある。さらに、カラーフィルタを反射基板又は
観察側とは反対側の基板に形成しても、或いは、カラー
フィルタを備えた基板を反射基板又は観察側とは反対側
の基板として用いても、支障のないカラーフィルタ基
板、電気光学装置、並びにそれらの製造方法を提供する
ことにある。
であり、その課題は、工程数及び製造コストの増大を抑
制することのできるカラーフィルタ基板、電気光学装
置、並びにそれらの製造方法を提供することにある。ま
た、遮光構造を形成するための時間を短縮することがで
き、生産効率を向上させることのできるカラーフィルタ
基板、電気光学装置、並びにそれらの製造方法を提供す
ることにある。さらに、カラーフィルタを反射基板又は
観察側とは反対側の基板に形成しても、或いは、カラー
フィルタを備えた基板を反射基板又は観察側とは反対側
の基板として用いても、支障のないカラーフィルタ基
板、電気光学装置、並びにそれらの製造方法を提供する
ことにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明のカラーフィルタ基板は、基板上に反射性遮光
層及び異なる色相を呈する複数の着色層を有するカラー
フィルタ基板であって、前記反射性遮光層に対して相互
に異なる色相を呈する複数の前記着色層が共に平面的に
重なるように配置されていることを特徴とする。
に本発明のカラーフィルタ基板は、基板上に反射性遮光
層及び異なる色相を呈する複数の着色層を有するカラー
フィルタ基板であって、前記反射性遮光層に対して相互
に異なる色相を呈する複数の前記着色層が共に平面的に
重なるように配置されていることを特徴とする。
【００１３】この発明によれば、反射性遮光層に対し
て、相互に異なる色相を呈する複数の着色層が共に平面
的に重なるように配置されていることにより、特に複数
の着色層の側から視認した場合には、反射性遮光層で反
射された光が複数の異なる色相を呈する着色層によって
効率的に吸収されるので、光反射による表示コントラス
トの低下を抑制することができる。また、反射性遮光層
の側から視認する場合でも、反射性遮光層の反射率を低
下させることにより、同様にコントラストの低下を抑制
できる。この場合には、反射性遮光層の反射率を低下さ
せても、複数の着色層が存在することにより十分な遮光
性を得ることが可能である。
て、相互に異なる色相を呈する複数の着色層が共に平面
的に重なるように配置されていることにより、特に複数
の着色層の側から視認した場合には、反射性遮光層で反
射された光が複数の異なる色相を呈する着色層によって
効率的に吸収されるので、光反射による表示コントラス
トの低下を抑制することができる。また、反射性遮光層
の側から視認する場合でも、反射性遮光層の反射率を低
下させることにより、同様にコントラストの低下を抑制
できる。この場合には、反射性遮光層の反射率を低下さ
せても、複数の着色層が存在することにより十分な遮光
性を得ることが可能である。
【００１４】また、反射性遮光層に対して複数の着色層
を平面的に重ねて形成するだけでよいため、新たな工程
を導入する必要がなく、製造コストの増大を抑制するこ
とができる。さらに、反射性遮光層に対して複数の着色
層が平面的に重なっていることにより、反射性遮光層を
厚く形成しなくても十分な遮光性を得ることが可能にな
るので、反射性遮光層の形成工程の時間を短縮すること
が可能になり、生産性を向上させ、コスト削減を図るこ
とができる。しかも、反射基板又は観察側とは反対側の
基板にカラーフィルタを構成した場合でも光反射による
コントラスト低減を図ることができる。
を平面的に重ねて形成するだけでよいため、新たな工程
を導入する必要がなく、製造コストの増大を抑制するこ
とができる。さらに、反射性遮光層に対して複数の着色
層が平面的に重なっていることにより、反射性遮光層を
厚く形成しなくても十分な遮光性を得ることが可能にな
るので、反射性遮光層の形成工程の時間を短縮すること
が可能になり、生産性を向上させ、コスト削減を図るこ
とができる。しかも、反射基板又は観察側とは反対側の
基板にカラーフィルタを構成した場合でも光反射による
コントラスト低減を図ることができる。
【００１５】上記の反射性遮光層としては金属材料で構
成されたものであることが製造コストを低減でき、短時
間に形成することができる上で好ましい。金属材料とし
ては、Ａｌ、Ａｇ、Ｔａ、Ｎｉ又はＣｒ、或いは、これ
らの合金を用いることができる。
成されたものであることが製造コストを低減でき、短時
間に形成することができる上で好ましい。金属材料とし
ては、Ａｌ、Ａｇ、Ｔａ、Ｎｉ又はＣｒ、或いは、これ
らの合金を用いることができる。
【００１６】上記の着色層としては、例えば、原色系の
カラーフィルタを構成する場合、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、
Ｂ（青）の色相を呈する３種類の着色層を用いる。この
場合、これらの３色のうち少なくとも２色の着色層を反
射性遮光層に対して平面的に重ねる必要がある。ただ
し、本発明においては、全ての異なる色相の着色層（す
なわち上記例では３色の着色層）を反射性遮光層に対し
て平面的に重ねることが、反射性遮光層の反射光を低減
する上でより好ましい。
カラーフィルタを構成する場合、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、
Ｂ（青）の色相を呈する３種類の着色層を用いる。この
場合、これらの３色のうち少なくとも２色の着色層を反
射性遮光層に対して平面的に重ねる必要がある。ただ
し、本発明においては、全ての異なる色相の着色層（す
なわち上記例では３色の着色層）を反射性遮光層に対し
て平面的に重ねることが、反射性遮光層の反射光を低減
する上でより好ましい。
【００１７】本発明において、前記基板上に前記反射性
遮光層が配置され、前記反射性遮光層の上に相互に異な
る色相を呈する前記着色層が平面的に重なるように配置
されていることが好ましい。
遮光層が配置され、前記反射性遮光層の上に相互に異な
る色相を呈する前記着色層が平面的に重なるように配置
されていることが好ましい。
【００１８】この発明によれば、電気光学装置において
特に観察側とは反対側に配置される基板として用いる場
合に反射性遮光層の光反射を低減し、表示コントラスト
の低下を抑制することができる。
特に観察側とは反対側に配置される基板として用いる場
合に反射性遮光層の光反射を低減し、表示コントラスト
の低下を抑制することができる。
【００１９】本発明において、複数の前記着色層のうち
一の前記着色層のみが配置された領域に反射層が配置さ
れていることが好ましい。特に、前記反射性遮光層は、
前記反射層と一体に、若しくは、前記反射層と同材質
で、構成されていることが望ましい。
一の前記着色層のみが配置された領域に反射層が配置さ
れていることが好ましい。特に、前記反射性遮光層は、
前記反射層と一体に、若しくは、前記反射層と同材質
で、構成されていることが望ましい。
【００２０】この発明によれば、反射性遮光層が反射層
と一体に構成されているか、或いは、反射層と同材質で
構成されていることにより、反射性遮光層と反射層とを
同一工程で形成することができるため、工程数を低減
し、製造コストを抑制することができる。
と一体に構成されているか、或いは、反射層と同材質で
構成されていることにより、反射性遮光層と反射層とを
同一工程で形成することができるため、工程数を低減
し、製造コストを抑制することができる。
【００２１】本発明において、前記反射性遮光層に対し
て、赤色の前記着色層と青色の前記着色層とが共に平面
的に重なるように配置されていることが好ましい。
て、赤色の前記着色層と青色の前記着色層とが共に平面
的に重なるように配置されていることが好ましい。
【００２２】この発明によれば、反射性遮光層に対して
赤色の着色層と青色の着色層とが共に平面的に重なるよ
うに配置されていることにより、可視光領域のほぼ全体
について反射性遮光層の反射光を着色層にて吸収させる
ことができるので、光反射による表示コントラストの低
下を抑制することができる。
赤色の着色層と青色の着色層とが共に平面的に重なるよ
うに配置されていることにより、可視光領域のほぼ全体
について反射性遮光層の反射光を着色層にて吸収させる
ことができるので、光反射による表示コントラストの低
下を抑制することができる。
【００２３】本発明において、前記反射性遮光層の一側
には、複数の前記着色層のうち一の色相の前記着色層の
みが配置された領域が設けられ、前記反射性遮光層の他
側には、複数の前記着色層のうち他の色相の前記着色層
のみが配置された領域が設けられ、前記反射性遮光層に
対しては、前記一の色相の着色層と前記他の色相の着色
層とが共に伸びて重なるように配置されていることが好
ましい。
には、複数の前記着色層のうち一の色相の前記着色層の
みが配置された領域が設けられ、前記反射性遮光層の他
側には、複数の前記着色層のうち他の色相の前記着色層
のみが配置された領域が設けられ、前記反射性遮光層に
対しては、前記一の色相の着色層と前記他の色相の着色
層とが共に伸びて重なるように配置されていることが好
ましい。
【００２４】この発明によれば、反射性遮光層に対し
て、その一側と他側にそれぞれ隣接する領域内の着色層
が共に伸びて重なるように配置されていることにより、
着色層の配列パターンを簡略化することができ、容易に
製造することができる。ここで、一側と他側とは、相互
に異なる方向の側を言い、相互に反対側にある場合に限
られるものではない。
て、その一側と他側にそれぞれ隣接する領域内の着色層
が共に伸びて重なるように配置されていることにより、
着色層の配列パターンを簡略化することができ、容易に
製造することができる。ここで、一側と他側とは、相互
に異なる方向の側を言い、相互に反対側にある場合に限
られるものではない。
【００２５】次に、本発明のカラーフィルタ基板の製造
方法は、基板上に反射性遮光層及び異なる色相を呈する
複数の着色層を有するカラーフィルタ基板の製造方法で
あって、前記反射性遮光層に対して相互に異なる色相を
呈する複数の前記着色層が共に平面的に重なるように形
成することを特徴とする。
方法は、基板上に反射性遮光層及び異なる色相を呈する
複数の着色層を有するカラーフィルタ基板の製造方法で
あって、前記反射性遮光層に対して相互に異なる色相を
呈する複数の前記着色層が共に平面的に重なるように形
成することを特徴とする。
【００２６】この発明によれば、反射性遮光層に対し
て、相互に異なる色相を呈する複数の着色層が共に平面
的に重なるように形成することにより、複数の着色層の
側から視認した場合に、反射性遮光層で反射された光が
複数の異なる色相を呈する着色層によって効率的に吸収
されるので、光反射による表示コントラストの低下を抑
制することができる。また、反射性遮光層の側から視認
する場合でも、反射性遮光層の反射率を低下させること
により、同様にコントラストの低下を抑制できる。この
場合には、反射性遮光層の反射率を低下させても、複数
の着色層が存在することにより十分な遮光性を得ること
が可能である。
て、相互に異なる色相を呈する複数の着色層が共に平面
的に重なるように形成することにより、複数の着色層の
側から視認した場合に、反射性遮光層で反射された光が
複数の異なる色相を呈する着色層によって効率的に吸収
されるので、光反射による表示コントラストの低下を抑
制することができる。また、反射性遮光層の側から視認
する場合でも、反射性遮光層の反射率を低下させること
により、同様にコントラストの低下を抑制できる。この
場合には、反射性遮光層の反射率を低下させても、複数
の着色層が存在することにより十分な遮光性を得ること
が可能である。
【００２７】また、反射性遮光層に対して複数の着色層
を平面的に重ねて形成するだけでよいため、新たな工程
を導入する必要がなく、製造コストの増大を抑制するこ
とができる。さらに、反射性遮光層に対して複数の着色
層が平面的に重なっていることにより、反射性遮光層を
厚く形成しなくても十分な遮光性を得ることが可能にな
るので、反射性遮光層の形成工程の時間を短縮すること
が可能になり、生産性を向上させ、コスト削減を図るこ
とができる。しかも、反射基板又は観察側とは反対側の
基板上にカラーフィルタを構成した場合でも光反射によ
るコントラスト低減を図ることができる。
を平面的に重ねて形成するだけでよいため、新たな工程
を導入する必要がなく、製造コストの増大を抑制するこ
とができる。さらに、反射性遮光層に対して複数の着色
層が平面的に重なっていることにより、反射性遮光層を
厚く形成しなくても十分な遮光性を得ることが可能にな
るので、反射性遮光層の形成工程の時間を短縮すること
が可能になり、生産性を向上させ、コスト削減を図るこ
とができる。しかも、反射基板又は観察側とは反対側の
基板上にカラーフィルタを構成した場合でも光反射によ
るコントラスト低減を図ることができる。
【００２８】本発明において、前記基板上に前記反射性
遮光層を形成し、前記反射性遮光層の上に相互に異なる
色相を呈する前記着色層を平面的に重なるように形成す
ることが好ましい。
遮光層を形成し、前記反射性遮光層の上に相互に異なる
色相を呈する前記着色層を平面的に重なるように形成す
ることが好ましい。
【００２９】この発明によれば、電気光学装置において
観察側とは反対側に配置されるカラーフィルタ基板とし
て用いた場合に、反射性遮光層の光反射を低減し、表示
コントラストの低下を抑制することができる。
観察側とは反対側に配置されるカラーフィルタ基板とし
て用いた場合に、反射性遮光層の光反射を低減し、表示
コントラストの低下を抑制することができる。
【００３０】本発明において、複数の前記着色層のうち
一の前記着色層のみが配置された領域に反射層を形成
し、前記反射性遮光層を前記反射層と同時に同材質で形
成することが好ましい。
一の前記着色層のみが配置された領域に反射層を形成
し、前記反射性遮光層を前記反射層と同時に同材質で形
成することが好ましい。
【００３１】この発明によれば、反射性遮光層を反射層
と同時に同材質で形成することにより、工程数を低減
し、製造コストを抑制することができる。
と同時に同材質で形成することにより、工程数を低減
し、製造コストを抑制することができる。
【００３２】本発明において、前記反射性遮光層に対し
て、赤色の前記着色層と青色の前記着色層とが共に平面
的に重なるように形成することが好ましい。
て、赤色の前記着色層と青色の前記着色層とが共に平面
的に重なるように形成することが好ましい。
【００３３】この発明によれば、反射性遮光層に対して
赤色の着色層と青色の着色層とが共に平面的に重なるよ
うに形成することにより、可視光領域のほぼ全体につい
て反射性遮光層の反射光を着色層にて吸収させることが
できるので、光反射による表示コントラストの低下を抑
制することができる。
赤色の着色層と青色の着色層とが共に平面的に重なるよ
うに形成することにより、可視光領域のほぼ全体につい
て反射性遮光層の反射光を着色層にて吸収させることが
できるので、光反射による表示コントラストの低下を抑
制することができる。
【００３４】本発明において、前記反射性遮光層の一側
には、複数の前記着色層のうち一の色相の前記着色層の
みが配置された領域を形成し、前記反射性遮光層の他側
には、複数の前記着色層のうち他の色相の前記着色層の
みが配置された領域を形成し、前記反射性遮光層に対し
て前記一の色相の着色層と前記他の色相の着色層とが共
に伸びて重なるように形成することが好ましい。
には、複数の前記着色層のうち一の色相の前記着色層の
みが配置された領域を形成し、前記反射性遮光層の他側
には、複数の前記着色層のうち他の色相の前記着色層の
みが配置された領域を形成し、前記反射性遮光層に対し
て前記一の色相の着色層と前記他の色相の着色層とが共
に伸びて重なるように形成することが好ましい。
【００３５】この発明によれば、反射性遮光層に対し
て、その一側と他側にそれぞれ隣接する領域内の着色層
が共に伸びて重なるように形成されることにより、着色
層の配列パターンを簡略化することができ、容易に製造
することができる。
て、その一側と他側にそれぞれ隣接する領域内の着色層
が共に伸びて重なるように形成されることにより、着色
層の配列パターンを簡略化することができ、容易に製造
することができる。
【００３６】次に、本発明の電気光学装置は、電気光学
層、反射性遮光層及び異なる色相を呈する複数の着色層
を有する電気光学装置であって、前記反射性遮光層に対
して相互に異なる色相を呈する複数の前記着色層が共に
平面的に重なるように配置されていることを特徴とす
る。
層、反射性遮光層及び異なる色相を呈する複数の着色層
を有する電気光学装置であって、前記反射性遮光層に対
して相互に異なる色相を呈する複数の前記着色層が共に
平面的に重なるように配置されていることを特徴とす
る。
【００３７】この発明によれば、反射性遮光層に対し
て、相互に異なる色相を呈する複数の着色層が共に平面
的に重なるように配置されていることにより、複数の着
色層の側から視認した場合に、反射性遮光層で反射され
た光が複数の異なる色相を呈する着色層によって効率的
に吸収されるので、光反射による表示コントラストの低
下を抑制することができる。また、反射性遮光層の側か
ら視認する場合でも、反射性遮光層の反射率を低下させ
ることにより、同様にコントラストの低下を抑制でき
る。この場合には、反射性遮光層の反射率を低下させて
も、複数の着色層が存在することにより十分な遮光性を
得ることが可能である。
て、相互に異なる色相を呈する複数の着色層が共に平面
的に重なるように配置されていることにより、複数の着
色層の側から視認した場合に、反射性遮光層で反射され
た光が複数の異なる色相を呈する着色層によって効率的
に吸収されるので、光反射による表示コントラストの低
下を抑制することができる。また、反射性遮光層の側か
ら視認する場合でも、反射性遮光層の反射率を低下させ
ることにより、同様にコントラストの低下を抑制でき
る。この場合には、反射性遮光層の反射率を低下させて
も、複数の着色層が存在することにより十分な遮光性を
得ることが可能である。
【００３８】また、反射性遮光層に対して複数の着色層
を平面的に重ねて形成するだけでよいため、新たな工程
を導入する必要がなく、製造コストの増大を抑制するこ
とができる。さらに、反射性遮光層に対して複数の着色
層が平面的に重なっていることにより、反射性遮光層を
厚く形成しなくても十分な遮光性を得ることが可能にな
るので、反射性遮光層の形成工程の時間を短縮すること
が可能になり、生産性を向上させ、コスト削減を図るこ
とができる。しかも、反射基板又は観察側とは反対側の
基板上にカラーフィルタを構成した場合でも光反射によ
るコントラスト低減を図ることができる。
を平面的に重ねて形成するだけでよいため、新たな工程
を導入する必要がなく、製造コストの増大を抑制するこ
とができる。さらに、反射性遮光層に対して複数の着色
層が平面的に重なっていることにより、反射性遮光層を
厚く形成しなくても十分な遮光性を得ることが可能にな
るので、反射性遮光層の形成工程の時間を短縮すること
が可能になり、生産性を向上させ、コスト削減を図るこ
とができる。しかも、反射基板又は観察側とは反対側の
基板上にカラーフィルタを構成した場合でも光反射によ
るコントラスト低減を図ることができる。
【００３９】上記の反射性遮光層としては金属材料で構
成されたものであることが製造コストを低減でき、短時
間に形成することができる上で好ましい。金属材料とし
ては、Ａｌ、Ａｇ、Ｔａ、Ｎｉ又はＣｒ、或いは、これ
らの合金を用いることができる。
成されたものであることが製造コストを低減でき、短時
間に形成することができる上で好ましい。金属材料とし
ては、Ａｌ、Ａｇ、Ｔａ、Ｎｉ又はＣｒ、或いは、これ
らの合金を用いることができる。
【００４０】上記の着色層としては、例えば、原色系の
カラーフィルタを構成する場合、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、
Ｂ（青）の色相を呈する３種類の着色層を用いる。この
場合、これらの３色のうち少なくとも２色の着色層を反
射性遮光層に対して平面的に重ねる必要がある。ただ
し、本発明においては、全ての異なる色相の着色層（す
なわち上記例では３色の着色層）を反射性遮光層に対し
て平面的に重ねることが、反射性遮光層の反射光を低減
する上でより好ましい。
カラーフィルタを構成する場合、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、
Ｂ（青）の色相を呈する３種類の着色層を用いる。この
場合、これらの３色のうち少なくとも２色の着色層を反
射性遮光層に対して平面的に重ねる必要がある。ただ
し、本発明においては、全ての異なる色相の着色層（す
なわち上記例では３色の着色層）を反射性遮光層に対し
て平面的に重ねることが、反射性遮光層の反射光を低減
する上でより好ましい。
【００４１】なお、本発明においては、後述するよう
に、反射性遮光層が平面的に重なる複数の着色層に対し
て装置の観察側とは反対側に配置されていることが好ま
しいが、逆に、反射性遮光層が平面的に重なる複数の着
色層に対して装置の観察側に配置されている場合でも、
反射性遮光層と複数の着色層とが平面的に重なっている
ことにより、薄く構成すること等により反射性遮光層自
体の反射率を小さくしても十分な遮光を行うことが可能
になるので、反射性遮光層の光反射による表示コントラ
ストの低下を抑制することができる。
に、反射性遮光層が平面的に重なる複数の着色層に対し
て装置の観察側とは反対側に配置されていることが好ま
しいが、逆に、反射性遮光層が平面的に重なる複数の着
色層に対して装置の観察側に配置されている場合でも、
反射性遮光層と複数の着色層とが平面的に重なっている
ことにより、薄く構成すること等により反射性遮光層自
体の反射率を小さくしても十分な遮光を行うことが可能
になるので、反射性遮光層の光反射による表示コントラ
ストの低下を抑制することができる。
【００４２】本発明において、基板上に前記反射性遮光
層が配置され、前記反射性遮光層の上に相互に異なる色
相を呈する前記着色層が平面的に重なるように配置され
ていることが好ましい。
層が配置され、前記反射性遮光層の上に相互に異なる色
相を呈する前記着色層が平面的に重なるように配置され
ていることが好ましい。
【００４３】この発明によれば、着色層の側から視認す
る場合に、反射性遮光層の光反射を低減し、表示コント
ラストの低下を抑制することができるので、電気光学装
置において上記基板を観察側とは反対側の基板として用
いた場合にも、光反射を防止し、良好な遮光を行うこと
が可能になる。
る場合に、反射性遮光層の光反射を低減し、表示コント
ラストの低下を抑制することができるので、電気光学装
置において上記基板を観察側とは反対側の基板として用
いた場合にも、光反射を防止し、良好な遮光を行うこと
が可能になる。
【００４４】本発明において、複数の前記着色層のうち
一の前記着色層のみが配置された領域に反射層が配置さ
れていることが好ましい。この場合に、前記反射性遮光
層は、前記反射層と一体に、若しくは、前記反射層と同
材質で、構成されていることが望ましい。
一の前記着色層のみが配置された領域に反射層が配置さ
れていることが好ましい。この場合に、前記反射性遮光
層は、前記反射層と一体に、若しくは、前記反射層と同
材質で、構成されていることが望ましい。
【００４５】この発明によれば、反射性遮光層が反射層
と一体に構成されているか、或いは、反射層と同材質で
構成されていることにより、反射性遮光層と反射層とを
同一工程で形成することができ、工程数を低減し、製造
コストを抑制することができる。
と一体に構成されているか、或いは、反射層と同材質で
構成されていることにより、反射性遮光層と反射層とを
同一工程で形成することができ、工程数を低減し、製造
コストを抑制することができる。
【００４６】本発明において、前記反射性遮光層に対し
て、赤色の前記着色層と青色の前記着色層とが共に平面
的に重なるように配置されていることが好ましい。
て、赤色の前記着色層と青色の前記着色層とが共に平面
的に重なるように配置されていることが好ましい。
【００４７】この発明によれば、反射性遮光層に対して
赤色の着色層と青色の着色層とが共に平面的に重なるよ
うに配置されていることにより、可視光領域のほぼ全体
について反射性遮光層の反射光を着色層にて吸収させる
ことができるので、光反射による表示コントラストの低
下を抑制することができる。
赤色の着色層と青色の着色層とが共に平面的に重なるよ
うに配置されていることにより、可視光領域のほぼ全体
について反射性遮光層の反射光を着色層にて吸収させる
ことができるので、光反射による表示コントラストの低
下を抑制することができる。
【００４８】本発明において、前記反射性遮光層の一側
には、複数の前記着色層のうち一の色相の前記着色層の
みが配置された領域が設けられ、前記反射性遮光層の他
側には、複数の前記着色層のうち他の色相の前記着色層
のみが配置された領域が設けられ、前記反射性遮光層に
対しては、前記一の色相の着色層と前記他の色相の着色
層とが共に伸びて重なるように配置されていることが好
ましい。
には、複数の前記着色層のうち一の色相の前記着色層の
みが配置された領域が設けられ、前記反射性遮光層の他
側には、複数の前記着色層のうち他の色相の前記着色層
のみが配置された領域が設けられ、前記反射性遮光層に
対しては、前記一の色相の着色層と前記他の色相の着色
層とが共に伸びて重なるように配置されていることが好
ましい。
【００４９】この発明によれば、反射性遮光層に対し
て、その一側と他側にそれぞれ隣接する領域内の着色層
が共に伸びて重なるように配置されていることにより、
着色層の配列パターンを簡略化することができ、容易に
製造することができる。
て、その一側と他側にそれぞれ隣接する領域内の着色層
が共に伸びて重なるように配置されていることにより、
着色層の配列パターンを簡略化することができ、容易に
製造することができる。
【００５０】本発明において、前記反射性遮光層は、平
面的に重なるように配置された複数の前記着色層に対し
て、装置の観察側とは反対側に配置されていることが好
ましい。
面的に重なるように配置された複数の前記着色層に対し
て、装置の観察側とは反対側に配置されていることが好
ましい。
【００５１】この発明によれば、反射性遮光層が、平面
的に重なる複数の着色層に対して装置の観察側とは反対
側に配置されていることにより、表示画面において反射
性遮光層の光反射が視認されにくくなるので、表示のコ
ントラストの低下を防止することができる。
的に重なる複数の着色層に対して装置の観察側とは反対
側に配置されていることにより、表示画面において反射
性遮光層の光反射が視認されにくくなるので、表示のコ
ントラストの低下を防止することができる。
【００５２】次に、本発明の電気光学装置の製造方法
は、電気光学層、反射性遮光層及び異なる色相を呈する
複数の着色層を有する電気光学装置の製造方法であっ
て、前記反射性遮光層に対して相互に異なる色相を呈す
る複数の前記着色層を共に平面的に重なるように形成す
ることを特徴とする。
は、電気光学層、反射性遮光層及び異なる色相を呈する
複数の着色層を有する電気光学装置の製造方法であっ
て、前記反射性遮光層に対して相互に異なる色相を呈す
る複数の前記着色層を共に平面的に重なるように形成す
ることを特徴とする。
【００５３】この発明によれば、反射性遮光層に対し
て、相互に異なる色相を呈する複数の着色層が共に平面
的に重なるように形成することにより、複数の着色層の
側から視認した場合に、反射性遮光層で反射された光が
複数の異なる色相を呈する着色層によって効率的に吸収
されるので、光反射による表示コントラストの低下を抑
制することができる。また、反射性遮光層の側から視認
する場合でも、反射性遮光層の反射率を低下させること
により、同様にコントラストの低下を抑制できる。この
場合には、反射性遮光層の反射率を低下させても、複数
の着色層が存在することにより十分な遮光性を得ること
が可能である。
て、相互に異なる色相を呈する複数の着色層が共に平面
的に重なるように形成することにより、複数の着色層の
側から視認した場合に、反射性遮光層で反射された光が
複数の異なる色相を呈する着色層によって効率的に吸収
されるので、光反射による表示コントラストの低下を抑
制することができる。また、反射性遮光層の側から視認
する場合でも、反射性遮光層の反射率を低下させること
により、同様にコントラストの低下を抑制できる。この
場合には、反射性遮光層の反射率を低下させても、複数
の着色層が存在することにより十分な遮光性を得ること
が可能である。
【００５４】また、反射性遮光層に対して複数の着色層
を平面的に重ねて形成するだけでよいため、新たな工程
を導入する必要がなく、製造コストの増大を抑制するこ
とができる。さらに、反射性遮光層に対して複数の着色
層が平面的に重なっていることにより、反射性遮光層を
厚く形成しなくても十分な遮光性を得ることが可能にな
るので、反射性遮光層の形成工程の時間を短縮すること
が可能になり、生産性を向上させ、コスト削減を図るこ
とができる。しかも、反射基板又は観察側とは反対側の
基板上にカラーフィルタを構成した場合でも光反射によ
るコントラスト低減を図ることができる。
を平面的に重ねて形成するだけでよいため、新たな工程
を導入する必要がなく、製造コストの増大を抑制するこ
とができる。さらに、反射性遮光層に対して複数の着色
層が平面的に重なっていることにより、反射性遮光層を
厚く形成しなくても十分な遮光性を得ることが可能にな
るので、反射性遮光層の形成工程の時間を短縮すること
が可能になり、生産性を向上させ、コスト削減を図るこ
とができる。しかも、反射基板又は観察側とは反対側の
基板上にカラーフィルタを構成した場合でも光反射によ
るコントラスト低減を図ることができる。
【００５５】本発明において、基板上に前記反射性遮光
層を形成し、前記反射性遮光層の上に相互に異なる色相
を呈する前記着色層を平面的に重なるように形成するこ
とが好ましい。
層を形成し、前記反射性遮光層の上に相互に異なる色相
を呈する前記着色層を平面的に重なるように形成するこ
とが好ましい。
【００５６】この発明によれば、上記基板を観察側とは
反対側に配置されるカラーフィルタ基板として用いた場
合に、反射性遮光層の光反射を低減し、表示コントラス
トの低下を抑制することができる。
反対側に配置されるカラーフィルタ基板として用いた場
合に、反射性遮光層の光反射を低減し、表示コントラス
トの低下を抑制することができる。
【００５７】本発明において、複数の前記着色層のうち
一の前記着色層のみが配置された領域に反射層を形成
し、前記反射性遮光層を前記反射層と同時に同材質で形
成することが好ましい。
一の前記着色層のみが配置された領域に反射層を形成
し、前記反射性遮光層を前記反射層と同時に同材質で形
成することが好ましい。
【００５８】この発明によれば、反射性遮光層を反射層
と同時に同材質で形成することにより、工程数を低減
し、製造コストを抑制することができる。
と同時に同材質で形成することにより、工程数を低減
し、製造コストを抑制することができる。
【００５９】本発明において、前記反射性遮光層に対し
て、赤色の前記着色層と青色の前記着色層とが共に平面
的に重なるように形成することが好ましい。
て、赤色の前記着色層と青色の前記着色層とが共に平面
的に重なるように形成することが好ましい。
【００６０】この発明によれば、反射性遮光層に対して
赤色の着色層と青色の着色層とが共に平面的に重なるよ
うに形成することにより、可視光領域のほぼ全体につい
て反射性遮光層の反射光を着色層にて吸収させることが
できるので、光反射による表示コントラストの低下を抑
制することができる。
赤色の着色層と青色の着色層とが共に平面的に重なるよ
うに形成することにより、可視光領域のほぼ全体につい
て反射性遮光層の反射光を着色層にて吸収させることが
できるので、光反射による表示コントラストの低下を抑
制することができる。
【００６１】本発明において、前記反射性遮光層の一側
には、複数の前記着色層のうち一の色相の前記着色層の
みが配置された領域を形成し、前記反射性遮光層の他側
には、複数の前記着色層のうち他の色相の前記着色層の
みが配置された領域を形成し、前記反射性遮光層に対し
て前記一の色相の着色層と前記他の色相の着色層とが共
に伸びて重なるように形成することが好ましい。
には、複数の前記着色層のうち一の色相の前記着色層の
みが配置された領域を形成し、前記反射性遮光層の他側
には、複数の前記着色層のうち他の色相の前記着色層の
みが配置された領域を形成し、前記反射性遮光層に対し
て前記一の色相の着色層と前記他の色相の着色層とが共
に伸びて重なるように形成することが好ましい。
【００６２】この発明によれば、反射性遮光層に対し
て、その一側と他側にそれぞれ隣接する領域内の着色層
が共に伸びて重なるように形成されることにより、着色
層の配列パターンを簡略化することができ、容易に製造
することができる。
て、その一側と他側にそれぞれ隣接する領域内の着色層
が共に伸びて重なるように形成されることにより、着色
層の配列パターンを簡略化することができ、容易に製造
することができる。
【００６３】次に、本発明の電子機器は、上記いずれか
に記載の電気光学装置と、該電気光学装置を制御する制
御手段とを有することを特徴とする。本発明を各種の電
子機器に適用することにより、電気光学装置による表示
部を、遮光性を確保しつつ光反射を低減し、表示のコン
トラストの低下を抑制した視認しやすいものとすること
ができる。また、製造コストの上昇を抑制できるので、
電子機器を安価に供給できる。特に、本発明は、携帯電
話、携帯型情報端末などの携帯型電子機器に適用するこ
とが望ましい。
に記載の電気光学装置と、該電気光学装置を制御する制
御手段とを有することを特徴とする。本発明を各種の電
子機器に適用することにより、電気光学装置による表示
部を、遮光性を確保しつつ光反射を低減し、表示のコン
トラストの低下を抑制した視認しやすいものとすること
ができる。また、製造コストの上昇を抑制できるので、
電子機器を安価に供給できる。特に、本発明は、携帯電
話、携帯型情報端末などの携帯型電子機器に適用するこ
とが望ましい。
【００６４】
【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して本発明
に係るカラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造
方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び、
電子機器の実施形態について詳細に説明する。
に係るカラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造
方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び、
電子機器の実施形態について詳細に説明する。
【００６５】［第１実施形態］最初に、カラーフィルタ
基板の第１実施形態について図１を参照して説明する。
この第１実施形態のカラーフィルタ基板２１０には、ガ
ラスやプラスチック等で構成される基板２１１上に、反
射性遮光層２１２Ｂ、着色層２１３ｒ，２１３ｇ，２１
３ｂ、及び、保護層２１４が配置されている。また、こ
のカラーフィルタ基板２１０には、画素領域Ｐｒ，Ｐ
ｇ，Ｐｂが設定され、これらの画素領域間にそれぞれ遮
光領域ＢＲが設定されている。画素領域ＰｒにはＲ
（赤）の色相を呈する着色層２１３ｒが基板２１１上に
配置され、画素領域ＰｇにはＧ（緑）の色相を呈する着
色層２１３ｇが基板２１１上に配置され、画素領域Ｐｂ
にはＢ（青）の色相を呈する着色層２１３ｂが基板２１
１上に配置されている。また、遮光領域ＢＲには、基板
２１１上に反射性遮光層２１２Ｂが配置され、この上に
さらに着色層２１３ｒ、２１３ｇ、２１３ｂが積層配置
されている。
基板の第１実施形態について図１を参照して説明する。
この第１実施形態のカラーフィルタ基板２１０には、ガ
ラスやプラスチック等で構成される基板２１１上に、反
射性遮光層２１２Ｂ、着色層２１３ｒ，２１３ｇ，２１
３ｂ、及び、保護層２１４が配置されている。また、こ
のカラーフィルタ基板２１０には、画素領域Ｐｒ，Ｐ
ｇ，Ｐｂが設定され、これらの画素領域間にそれぞれ遮
光領域ＢＲが設定されている。画素領域ＰｒにはＲ
（赤）の色相を呈する着色層２１３ｒが基板２１１上に
配置され、画素領域ＰｇにはＧ（緑）の色相を呈する着
色層２１３ｇが基板２１１上に配置され、画素領域Ｐｂ
にはＢ（青）の色相を呈する着色層２１３ｂが基板２１
１上に配置されている。また、遮光領域ＢＲには、基板
２１１上に反射性遮光層２１２Ｂが配置され、この上に
さらに着色層２１３ｒ、２１３ｇ、２１３ｂが積層配置
されている。
【００６６】このカラーフィルタ基板２１０を製造する
場合には、最初に、基板２１１上に反射性材料、例え
ば、Ａｌ、Ａｇ、Ｔａ、Ｎｉ又はＣｒ、或いは、これら
の合金などの金属材料、を蒸着法やスパッタリング法等
の気相成膜法により被着させ、これをパターニングする
ことによって反射性遮光層２１２Ｂを形成する。反射性
遮光層２１２Ｂの厚さは、５００〜３０００Å、好まし
くは２０００Å程度とする。
場合には、最初に、基板２１１上に反射性材料、例え
ば、Ａｌ、Ａｇ、Ｔａ、Ｎｉ又はＣｒ、或いは、これら
の合金などの金属材料、を蒸着法やスパッタリング法等
の気相成膜法により被着させ、これをパターニングする
ことによって反射性遮光層２１２Ｂを形成する。反射性
遮光層２１２Ｂの厚さは、５００〜３０００Å、好まし
くは２０００Å程度とする。
【００６７】次に、透明樹脂中に顔料や染料等の着色材
を分散させた感光性樹脂を基板２１１上に塗布し、露
光、現像して所定のパターンに着色層２１３ｒ，２１３
ｇ，２１３ｂを順次形成していく。このとき、着色層２
１３ｒは上記画素領域Ｐｒと遮光領域ＢＲに共に形成さ
れ、着色層２１３ｇは画素領域Ｐｇと遮光領域ＢＲに共
に形成され、着色層２１３ｂは画素領域Ｐｂと遮光領域
ＢＲに共に形成される。着色層の厚さは０．５〜２μ
ｍ、好ましくは１μｍ程度である。
を分散させた感光性樹脂を基板２１１上に塗布し、露
光、現像して所定のパターンに着色層２１３ｒ，２１３
ｇ，２１３ｂを順次形成していく。このとき、着色層２
１３ｒは上記画素領域Ｐｒと遮光領域ＢＲに共に形成さ
れ、着色層２１３ｇは画素領域Ｐｇと遮光領域ＢＲに共
に形成され、着色層２１３ｂは画素領域Ｐｂと遮光領域
ＢＲに共に形成される。着色層の厚さは０．５〜２μ
ｍ、好ましくは１μｍ程度である。
【００６８】上記のようにして着色層２１３ｒ，２１３
ｇ，２１３ｂが形成された後に、これらを全て覆うよう
に保護層２１４を形成する。保護層２１４は、アクリル
樹脂等の透明な素材で構成され、着色層を保護するとと
もにカラーフィルタ基板２１０の表面を平坦化するため
に形成される。
ｇ，２１３ｂが形成された後に、これらを全て覆うよう
に保護層２１４を形成する。保護層２１４は、アクリル
樹脂等の透明な素材で構成され、着色層を保護するとと
もにカラーフィルタ基板２１０の表面を平坦化するため
に形成される。
【００６９】本実施形態では、反射性遮光層２１２Ｂに
対して複数の着色層２１３ｒ，２１３ｇ，２１３ｂが平
面的に重なるように配置されているので、遮光領域ＢＲ
において十分な遮光性を得ることができる。特に、図示
上方からカラーフィルタ基板２１０を視認した場合に
は、反射性遮光層２１２Ｂにて反射された光が複数の着
色層によって吸収されるので、反射性遮光層２１２Ｂの
光反射による視認性の低下を抑制することができる。ま
た、図示下方からカラーフィルタ基板２１０を視認した
場合でも、反射性遮光層２１２Ｂを薄く形成する、反射
率の低い素材で形成するなどの方法によって光反射を低
減することができる。この場合、遮光領域ＢＲには複数
の着色層が重なり合っているので、反射性遮光層の反射
率を低くしても、十分な遮光性を得ることが可能であ
る。
対して複数の着色層２１３ｒ，２１３ｇ，２１３ｂが平
面的に重なるように配置されているので、遮光領域ＢＲ
において十分な遮光性を得ることができる。特に、図示
上方からカラーフィルタ基板２１０を視認した場合に
は、反射性遮光層２１２Ｂにて反射された光が複数の着
色層によって吸収されるので、反射性遮光層２１２Ｂの
光反射による視認性の低下を抑制することができる。ま
た、図示下方からカラーフィルタ基板２１０を視認した
場合でも、反射性遮光層２１２Ｂを薄く形成する、反射
率の低い素材で形成するなどの方法によって光反射を低
減することができる。この場合、遮光領域ＢＲには複数
の着色層が重なり合っているので、反射性遮光層の反射
率を低くしても、十分な遮光性を得ることが可能であ
る。
【００７０】［第２実施形態］次に、図２を参照して、
本発明に係る第２実施形態のカラーフィルタ基板３１０
について説明する。このカラーフィルタ基板３１０にお
いては、上記第１実施形態と同じ基板３１１、反射性遮
光層３１２Ｂ、着色層３１３ｒ，３１３ｇ，３１３ｂ及
び保護層３１４を有しているので、これらの個々の説明
は省略する。
本発明に係る第２実施形態のカラーフィルタ基板３１０
について説明する。このカラーフィルタ基板３１０にお
いては、上記第１実施形態と同じ基板３１１、反射性遮
光層３１２Ｂ、着色層３１３ｒ，３１３ｇ，３１３ｂ及
び保護層３１４を有しているので、これらの個々の説明
は省略する。
【００７１】本実施形態のカラーフィルタ基板３１０に
おいては、遮光領域ＢＲにおいて、反射性遮光層３１２
Ｂ上にＲ（赤）の色相を呈する着色層３１３ｒと、Ｂ
（青）の色相を呈する着色層３１３ｂとが平面的に重な
るように配置されている。すなわち、第１実施形態のよ
うに３つの着色層が積層されているのではなく、２つの
着色層３１３ｒ、３１３ｂのみが反射性遮光層３１２Ｂ
に対して積層されている。
おいては、遮光領域ＢＲにおいて、反射性遮光層３１２
Ｂ上にＲ（赤）の色相を呈する着色層３１３ｒと、Ｂ
（青）の色相を呈する着色層３１３ｂとが平面的に重な
るように配置されている。すなわち、第１実施形態のよ
うに３つの着色層が積層されているのではなく、２つの
着色層３１３ｒ、３１３ｂのみが反射性遮光層３１２Ｂ
に対して積層されている。
【００７２】本実施形態では、Ｒ（赤）の色相を呈する
着色層３１３ｒによって可視光領域の長波長側の光が吸
収され、Ｂ（青）の色相を呈する着色層３１３ｂによっ
て可視光領域の短波長側の光が吸収されるので、着色層
３１３ｒと着色層３１３ｂとを平面的に重ねることによ
って可視光領域にあるほとんど全ての波長域の光を十分
に吸収することができる。したがって、反射性遮光層３
１２Ｂに対して２つの着色層３１３ｒ、３１３ｂのみを
重ね合わせているだけで十分な光反射の低減と遮光性を
得ることができる。そして、このようにすると、着色層
の重ね合わせ部分が相対的に薄くなるので、第１実施形
態のカラーフィルタ基板２１０よりも厚さを低減するこ
とができるとともに、その表面（保護層２１４の表面）
をより平坦に形成することが可能になる。
着色層３１３ｒによって可視光領域の長波長側の光が吸
収され、Ｂ（青）の色相を呈する着色層３１３ｂによっ
て可視光領域の短波長側の光が吸収されるので、着色層
３１３ｒと着色層３１３ｂとを平面的に重ねることによ
って可視光領域にあるほとんど全ての波長域の光を十分
に吸収することができる。したがって、反射性遮光層３
１２Ｂに対して２つの着色層３１３ｒ、３１３ｂのみを
重ね合わせているだけで十分な光反射の低減と遮光性を
得ることができる。そして、このようにすると、着色層
の重ね合わせ部分が相対的に薄くなるので、第１実施形
態のカラーフィルタ基板２１０よりも厚さを低減するこ
とができるとともに、その表面（保護層２１４の表面）
をより平坦に形成することが可能になる。
【００７３】［第３実施形態］次に、図３を参照して、
本発明に係るカラーフィルタ基板の第３実施形態につい
て説明する。本実施形態のカラーフィルタ基板４１０
は、上記各実施形態と同様の基板４１１、反射性遮光層
４１２Ｂ、着色層４１３ｒ，４１３ｇ，４１３ｂ、及
び、保護層４１４を備えているので、これらの個々の説
明は省略する。
本発明に係るカラーフィルタ基板の第３実施形態につい
て説明する。本実施形態のカラーフィルタ基板４１０
は、上記各実施形態と同様の基板４１１、反射性遮光層
４１２Ｂ、着色層４１３ｒ，４１３ｇ，４１３ｂ、及
び、保護層４１４を備えているので、これらの個々の説
明は省略する。
【００７４】カラーフィルタ基板４１０においては、各
画素領域Ｐｒ，Ｐｇ，Ｐｂにおいてそれぞれ配置されて
いる着色層４１３ｒ，４１３ｇ，４１３ｂが、その両側
に存在する遮光領域ＢＲにまで伸びるように形成されて
おり、その結果、各遮光領域ＢＲにおいては、その両側
に存在する画素領域に形成された異なる色の２つの着色
層が伸びて、反射性遮光層４１２Ｂと平面的に重なるよ
うに構成されている。したがって、遮光領域ＢＲにおい
て積層される着色層の組合せとしては、図示例の場合、
Ｒ（赤）の色相を呈する着色層４１３ｒとＧ（緑）の色
相を呈する着色層４１３ｇ、着色層４１３ｇとＢ（青）
の色相を呈する着色層４１３ｂ、着色層４１３ｂと着色
層４１３ｒ、の計３つの組合せがある。
画素領域Ｐｒ，Ｐｇ，Ｐｂにおいてそれぞれ配置されて
いる着色層４１３ｒ，４１３ｇ，４１３ｂが、その両側
に存在する遮光領域ＢＲにまで伸びるように形成されて
おり、その結果、各遮光領域ＢＲにおいては、その両側
に存在する画素領域に形成された異なる色の２つの着色
層が伸びて、反射性遮光層４１２Ｂと平面的に重なるよ
うに構成されている。したがって、遮光領域ＢＲにおい
て積層される着色層の組合せとしては、図示例の場合、
Ｒ（赤）の色相を呈する着色層４１３ｒとＧ（緑）の色
相を呈する着色層４１３ｇ、着色層４１３ｇとＢ（青）
の色相を呈する着色層４１３ｂ、着色層４１３ｂと着色
層４１３ｒ、の計３つの組合せがある。
【００７５】本実施形態では、第２実施形態と同様にカ
ラーフィルタ基板を薄く構成したり、表面の平坦性を高
めたりすることができる上に、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ
（青）の３色についてそれぞれの着色層のパターンを画
素領域Ｐｒ，Ｐｇ，Ｐｂよりも一回り大きくして遮光領
域ＢＲを含むように形成するだけでよいので、パターン
形状が簡易なものとなり、容易に着色層を形成すること
ができるようになる。
ラーフィルタ基板を薄く構成したり、表面の平坦性を高
めたりすることができる上に、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ
（青）の３色についてそれぞれの着色層のパターンを画
素領域Ｐｒ，Ｐｇ，Ｐｂよりも一回り大きくして遮光領
域ＢＲを含むように形成するだけでよいので、パターン
形状が簡易なものとなり、容易に着色層を形成すること
ができるようになる。
【００７６】［第４実施形態］次に、図４を参照して、
本発明に係るカラーフィルタ基板の第４実施形態につい
て説明する。本実施形態のカラーフィルタ基板５１０
は、上記各実施形態と同様の基板５１１、反射性遮光層
５１２Ｂ、着色層５１３ｒ，５１３ｇ，５１３ｂ、及
び、保護層５１４を備えているので、これらの個々の説
明は省略する。
本発明に係るカラーフィルタ基板の第４実施形態につい
て説明する。本実施形態のカラーフィルタ基板５１０
は、上記各実施形態と同様の基板５１１、反射性遮光層
５１２Ｂ、着色層５１３ｒ，５１３ｇ，５１３ｂ、及
び、保護層５１４を備えているので、これらの個々の説
明は省略する。
【００７７】カラーフィルタ基板５１０においては、基
板５１１上に上記各実施形態の反射性遮光層と同様の金
属材料等で構成された反射性層が一体に形成されてお
り、画素領域Ｐｒ，Ｐｇ，Ｐｂ内にある部分は反射層５
１２Ｒとなり、遮光領域ＢＲ内にある部分は反射性遮光
層５１２Ｂとなっている。そして、これらの反射層５１
２Ｒ及び反射性遮光層５１２Ｂの上には第１実施形態と
ほぼ同じ構造を有するカラーフィルタ（着色層５１３
ｒ，５１３ｇ，５１３ｂ及び保護層５１４）が形成され
ている。
板５１１上に上記各実施形態の反射性遮光層と同様の金
属材料等で構成された反射性層が一体に形成されてお
り、画素領域Ｐｒ，Ｐｇ，Ｐｂ内にある部分は反射層５
１２Ｒとなり、遮光領域ＢＲ内にある部分は反射性遮光
層５１２Ｂとなっている。そして、これらの反射層５１
２Ｒ及び反射性遮光層５１２Ｂの上には第１実施形態と
ほぼ同じ構造を有するカラーフィルタ（着色層５１３
ｒ，５１３ｇ，５１３ｂ及び保護層５１４）が形成され
ている。
【００７８】この実施形態では、画素領域内の反射層５
１２Ｒと、遮光領域ＢＲ内の反射性遮光層５１２Ｂとが
一体に構成されているので、反射型のカラーフィルタ基
板として機能させることができる。遮光領域ＢＲには、
反射性遮光層５１２Ｂと平面的に重なるように３つの着
色層５１３ｒ，５１３ｇ，５１３ｂが積層されている。
１２Ｒと、遮光領域ＢＲ内の反射性遮光層５１２Ｂとが
一体に構成されているので、反射型のカラーフィルタ基
板として機能させることができる。遮光領域ＢＲには、
反射性遮光層５１２Ｂと平面的に重なるように３つの着
色層５１３ｒ，５１３ｇ，５１３ｂが積層されている。
【００７９】なお、本実施形態では、反射層５１２Ｒと
反射性遮光層５１２Ｂとが一体に構成されているが、異
なる階層において別々に反射層と反射性遮光層とを相互
に分離した状態で形成しても構わない。また、本実施形
態では第１実施形態の基本構造に反射層を付加した構成
となっているが、上記第２実施形態又は第３実施形態と
同じ基本構造に反射層を付加した構成としてもよい。
反射性遮光層５１２Ｂとが一体に構成されているが、異
なる階層において別々に反射層と反射性遮光層とを相互
に分離した状態で形成しても構わない。また、本実施形
態では第１実施形態の基本構造に反射層を付加した構成
となっているが、上記第２実施形態又は第３実施形態と
同じ基本構造に反射層を付加した構成としてもよい。
【００８０】［第５実施形態］次に、図５を参照して、
本発明に係るカラーフィルタ基板の第５実施形態につい
て説明する。このカラーフィルタ基板６１０は、上記第
４実施形態と同様の、基板６１１、反射層６１２Ｒ、反
射性遮光層６１２Ｂ、着色層６１３ｒ，６１３ｇ，６１
３ｂ、保護層６１４を備えているので、これらの個々の
説明については省略する。
本発明に係るカラーフィルタ基板の第５実施形態につい
て説明する。このカラーフィルタ基板６１０は、上記第
４実施形態と同様の、基板６１１、反射層６１２Ｒ、反
射性遮光層６１２Ｂ、着色層６１３ｒ，６１３ｇ，６１
３ｂ、保護層６１４を備えているので、これらの個々の
説明については省略する。
【００８１】カラーフィルタ基板６１０において、反射
層６１２Ｒには画素領域Ｐｒ，Ｐｇ，Ｐｂ毎にそれぞれ
開口部６１２ａが形成され、これらの開口部６１２ａを
光が透過するように構成されている。この構造によって
カラーフィルタ基板６１０は反射半透過型のカラーフィ
ルタとして機能するようになっている。
層６１２Ｒには画素領域Ｐｒ，Ｐｇ，Ｐｂ毎にそれぞれ
開口部６１２ａが形成され、これらの開口部６１２ａを
光が透過するように構成されている。この構造によって
カラーフィルタ基板６１０は反射半透過型のカラーフィ
ルタとして機能するようになっている。
【００８２】このカラーフィルタ基板６１０の遮光領域
ＢＲでは、上記第４実施形態と全く同様に、反射性遮光
層６１２Ｂに対して着色層６１３ｒ，６１３ｇ，６１３
ｂが全て平面的に重なるように積層されている。この場
合にも、上記第２実施形態や第３実施形態と同様のカラ
ーフィルタ構造を採用しても構わない。
ＢＲでは、上記第４実施形態と全く同様に、反射性遮光
層６１２Ｂに対して着色層６１３ｒ，６１３ｇ，６１３
ｂが全て平面的に重なるように積層されている。この場
合にも、上記第２実施形態や第３実施形態と同様のカラ
ーフィルタ構造を採用しても構わない。
【００８３】［第６実施形態］次に、図６を参照して、
本発明に係るカラーフィルタ基板の第６実施形態につい
て説明する。このカラーフィルタ基板７１０は、上記第
１実施形態と同様の、基板７１１、反射層７１２Ｒ、反
射性遮光層７１２Ｂ、着色層７１３ｒ，７１３ｇ，７１
３ｂ、保護層７１４を備えているので、これらの個々の
説明については省略する。
本発明に係るカラーフィルタ基板の第６実施形態につい
て説明する。このカラーフィルタ基板７１０は、上記第
１実施形態と同様の、基板７１１、反射層７１２Ｒ、反
射性遮光層７１２Ｂ、着色層７１３ｒ，７１３ｇ，７１
３ｂ、保護層７１４を備えているので、これらの個々の
説明については省略する。
【００８４】本実施形態のカラーフィルタ基板７１０で
は、基板７１１上に着色層７１３ｒ，７１３ｇ，７１３
ｂが形成され、遮光領域ＢＲにおいては複数の着色層が
積層された構造とされている。そして、遮光領域ＢＲ内
における複数の遮光層の積層部分上に、反射性遮光層７
１２Ｂを選択的に形成してある。
は、基板７１１上に着色層７１３ｒ，７１３ｇ，７１３
ｂが形成され、遮光領域ＢＲにおいては複数の着色層が
積層された構造とされている。そして、遮光領域ＢＲ内
における複数の遮光層の積層部分上に、反射性遮光層７
１２Ｂを選択的に形成してある。
【００８５】本実施形態では、図示下方から視認した場
合には、上記各実施形態と同様に反射性遮光層７１２Ｂ
からの光反射が抑制される。また、図示上方から視認し
た場合でも、反射性遮光層７１２Ｂを薄く形成する、反
射率の低い素材で形成するなどの方法により光反射を低
減することが可能である。この場合、反射性遮光層７１
２Ｂの反射率が低くても、その下方に複数の着色層が重
なるように配置されているので、十分な遮光性を得るこ
とが可能である。
合には、上記各実施形態と同様に反射性遮光層７１２Ｂ
からの光反射が抑制される。また、図示上方から視認し
た場合でも、反射性遮光層７１２Ｂを薄く形成する、反
射率の低い素材で形成するなどの方法により光反射を低
減することが可能である。この場合、反射性遮光層７１
２Ｂの反射率が低くても、その下方に複数の着色層が重
なるように配置されているので、十分な遮光性を得るこ
とが可能である。
【００８６】なお、この実施形態のカラーフィルタ基板
７１０は、図１０に示す従来構造の液晶表示パネルの対
向基板として用いることもできる。
７１０は、図１０に示す従来構造の液晶表示パネルの対
向基板として用いることもできる。
【００８７】［第７実施形態］次に、図７を参照して、
本発明に係る電気光学装置である第７実施形態について
説明する。この実施形態は、上記の第５実施形態のカラ
ーフィルタ基板６１０と、対向基板６２０とを図示しな
いシール材等を介して貼り合わせ、両基板間に液晶６３
０を封入した液晶セルを含む液晶表示パネル６００であ
る。
本発明に係る電気光学装置である第７実施形態について
説明する。この実施形態は、上記の第５実施形態のカラ
ーフィルタ基板６１０と、対向基板６２０とを図示しな
いシール材等を介して貼り合わせ、両基板間に液晶６３
０を封入した液晶セルを含む液晶表示パネル６００であ
る。
【００８８】この液晶表示パネル６００において、カラ
ーフィルタ基板６１０には、上記第５実施形態にて示し
た構造の上にさらにＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等
の透明導電体で構成された電極６１５が所定パターンに
（例えばストライプ状に）形成され、さらにその上に、
ポリイミド樹脂等で構成された配向膜６１６が形成され
ている。配向膜６１６にはラビング処理等の配向処理が
施される。
ーフィルタ基板６１０には、上記第５実施形態にて示し
た構造の上にさらにＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等
の透明導電体で構成された電極６１５が所定パターンに
（例えばストライプ状に）形成され、さらにその上に、
ポリイミド樹脂等で構成された配向膜６１６が形成され
ている。配向膜６１６にはラビング処理等の配向処理が
施される。
【００８９】一方、対向基板６２０には、ガラスやプラ
スチック等で構成される基板６２１上に、上記と同様の
透明導電体で構成された対向電極６２２が所定パターン
に（例えば上記電極６１５と直交する方向に伸びるスト
ライプ状に）形成され、さらにその上に、上記と同様の
配向膜６２３が形成されている。
スチック等で構成される基板６２１上に、上記と同様の
透明導電体で構成された対向電極６２２が所定パターン
に（例えば上記電極６１５と直交する方向に伸びるスト
ライプ状に）形成され、さらにその上に、上記と同様の
配向膜６２３が形成されている。
【００９０】また、対向基板６２０の外面上には偏光板
６４１及び１／４波長板６４２が配置され、カラーフィ
ルタ基板６１０の外面上には偏光板６４３及び１／４波
長板６４４が配置される。さらに、偏光板６４３の外面
下には、バックライト６５０が配置される。
６４１及び１／４波長板６４２が配置され、カラーフィ
ルタ基板６１０の外面上には偏光板６４３及び１／４波
長板６４４が配置される。さらに、偏光板６４３の外面
下には、バックライト６５０が配置される。
【００９１】本実施形態の液晶表示パネル６００は、周
囲が明るい場合には、バックライト６５０を消灯させる
ことにより、外光がパネル内に入射して画素領域Ｐｒ，
Ｐｇ，Ｐｂの反射板６１２で反射されてなる反射光によ
って表示が視認可能になる。このとき、外光は遮光領域
ＢＲにも入射するが、この遮光領域ＢＲにおいては、反
射性遮光層６１２Ｂの手前に複数の着色層６１２ｒ，６
１２ｇ，６１２ｂが積層配置されているので、反射性遮
光層６１２Ｂの光反射によって表示のコントラストが低
下するといったことを防止することができる。
囲が明るい場合には、バックライト６５０を消灯させる
ことにより、外光がパネル内に入射して画素領域Ｐｒ，
Ｐｇ，Ｐｂの反射板６１２で反射されてなる反射光によ
って表示が視認可能になる。このとき、外光は遮光領域
ＢＲにも入射するが、この遮光領域ＢＲにおいては、反
射性遮光層６１２Ｂの手前に複数の着色層６１２ｒ，６
１２ｇ，６１２ｂが積層配置されているので、反射性遮
光層６１２Ｂの光反射によって表示のコントラストが低
下するといったことを防止することができる。
【００９２】一方、周囲が暗い場合には、バックライト
６５０を点灯させることにより、バックライト６５０か
ら照射された光が開口部６１２ａを通過するので、この
透過光によって表示が視認可能になる。
６５０を点灯させることにより、バックライト６５０か
ら照射された光が開口部６１２ａを通過するので、この
透過光によって表示が視認可能になる。
【００９３】なお、本実施形態において、反射層６１２
Ｒに開口部を設ける代りに、反射層６１２Ｒを薄く形成
したり半透過性の素材で形成したりすることによって、
光を反射するとともに透過する半透過性の光学特性を備
えたものとすることができる。この場合に、反射層６１
２Ｒと反射性遮光層６１２Ｂとを同時に同材質で形成す
ると、反射性遮光層６１２Ｂもまた半透過性となるが、
遮光領域ＢＲにおいては複数の着色層が重なるように配
置されているので、十分な遮光性を有するように構成す
ることが可能になる。
Ｒに開口部を設ける代りに、反射層６１２Ｒを薄く形成
したり半透過性の素材で形成したりすることによって、
光を反射するとともに透過する半透過性の光学特性を備
えたものとすることができる。この場合に、反射層６１
２Ｒと反射性遮光層６１２Ｂとを同時に同材質で形成す
ると、反射性遮光層６１２Ｂもまた半透過性となるが、
遮光領域ＢＲにおいては複数の着色層が重なるように配
置されているので、十分な遮光性を有するように構成す
ることが可能になる。
【００９４】本実施形態は、上記第５実施形態のカラー
フィルタ基板を用いて液晶表示パネルを構成した例を示
したが、第１実施形態乃至第４実施形態、或いは、第６
実施形態のカラーフィルタ基板を用いて液晶表示パネル
を構成してもよい。
フィルタ基板を用いて液晶表示パネルを構成した例を示
したが、第１実施形態乃至第４実施形態、或いは、第６
実施形態のカラーフィルタ基板を用いて液晶表示パネル
を構成してもよい。
【００９５】［第８実施形態］次に、図８及び図９を参
照して、上記第７実施形態の液晶表示パネル６００を用
いた電子機器の構成を第８実施形態として説明する。
照して、上記第７実施形態の液晶表示パネル６００を用
いた電子機器の構成を第８実施形態として説明する。
【００９６】図８は、本実施形態の表示系の構成を示す
概略構成図である。ここに示す電子機器は、上記と同様
の液晶表示パネル６００と、これを駆動するための駆動
回路８００と、駆動回路８００を制御する制御手段９０
０とを有する。液晶パネル６００には例えば半導体ＩＣ
等で構成される駆動回路８００が実装される場合（ＣＯ
Ｇ構造とされる場合）もある。また、制御手段９００
は、表示情報出力源９０１と、表示処理回路９０２と、
電源回路９０３と、タイミングジェネレータ９０４とを
有する。
概略構成図である。ここに示す電子機器は、上記と同様
の液晶表示パネル６００と、これを駆動するための駆動
回路８００と、駆動回路８００を制御する制御手段９０
０とを有する。液晶パネル６００には例えば半導体ＩＣ
等で構成される駆動回路８００が実装される場合（ＣＯ
Ｇ構造とされる場合）もある。また、制御手段９００
は、表示情報出力源９０１と、表示処理回路９０２と、
電源回路９０３と、タイミングジェネレータ９０４とを
有する。
【００９７】表示情報出力源９０１は、ＲＯＭ（Read O
nly Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）等から
なるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等か
らなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調
出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ９
０４によって生成された各種のクロック信号に基づい
て、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表
示情報処理回路９０２に供給するように構成されてい
る。
nly Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）等から
なるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等か
らなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調
出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ９
０４によって生成された各種のクロック信号に基づい
て、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表
示情報処理回路９０２に供給するように構成されてい
る。
【００９８】表示情報処理回路９０２は、シリアル−パ
ラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回
路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路
を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像
情報をクロック信号ＣＬＫと共に上記駆動回路８００へ
供給する。駆動回路８００は、走査線駆動回路、データ
線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路９０３
は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給す
る。
ラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回
路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路
を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像
情報をクロック信号ＣＬＫと共に上記駆動回路８００へ
供給する。駆動回路８００は、走査線駆動回路、データ
線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路９０３
は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給す
る。
【００９９】図９は、本発明に係る電子機器の一実施形
態である携帯電話１０００を示す。この携帯電話１００
０は、ケース体１０１０の内部に回路基板１００１が配
置され、この回路基板１００１に対して上述の液晶パネ
ル６００が実装されている。ケース体１０１０の前面に
は操作ボタン１０２０が配列され、また、一端部からア
ンテナ１０３０が出没自在に取り付けられている。受話
部１０４０の内部にはスピーカが配置され、送話部１０
５０の内部にはマイクが内蔵されている。
態である携帯電話１０００を示す。この携帯電話１００
０は、ケース体１０１０の内部に回路基板１００１が配
置され、この回路基板１００１に対して上述の液晶パネ
ル６００が実装されている。ケース体１０１０の前面に
は操作ボタン１０２０が配列され、また、一端部からア
ンテナ１０３０が出没自在に取り付けられている。受話
部１０４０の内部にはスピーカが配置され、送話部１０
５０の内部にはマイクが内蔵されている。
【０１００】ケース体１０１０内に設置された液晶パネ
ル６００は、表示窓１０６０を通して表示面を視認する
ことができるように構成されている。
ル６００は、表示窓１０６０を通して表示面を視認する
ことができるように構成されている。
【０１０１】尚、本発明の液晶装置及び電子機器は、上
述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要
旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ること
は勿論である。例えば、上記各実施形態に示す液晶パネ
ルは単純マトリクス型の構造を備えているが、ＴＦＴ
（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）等の
アクティブ素子（能動素子）を用いたアクティブマトリ
クス方式の液晶装置にも適用することができる。
述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要
旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ること
は勿論である。例えば、上記各実施形態に示す液晶パネ
ルは単純マトリクス型の構造を備えているが、ＴＦＴ
（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）等の
アクティブ素子（能動素子）を用いたアクティブマトリ
クス方式の液晶装置にも適用することができる。
【０１０２】
【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
反射性遮光層の光反射によるコントラストの低下を抑制
することができる。また、製造工程数の増加を抑制する
ことができ、工程時間を短縮できる等により製造コスト
を低減できる。
反射性遮光層の光反射によるコントラストの低下を抑制
することができる。また、製造工程数の増加を抑制する
ことができ、工程時間を短縮できる等により製造コスト
を低減できる。
【図１】 本発明に係るカラーフィルタ基板の第１実施
形態の構造を模式的に示す概略断面図である。
形態の構造を模式的に示す概略断面図である。
【図２】 本発明に係るカラーフィルタ基板の第２実施
形態の構造を模式的に示す概略断面図である。
形態の構造を模式的に示す概略断面図である。
【図３】 本発明に係るカラーフィルタ基板の第３実施
形態の構造を模式的に示す概略断面図である。
形態の構造を模式的に示す概略断面図である。
【図４】 本発明に係るカラーフィルタ基板の第４実施
形態の構造を模式的に示す概略断面図である。
形態の構造を模式的に示す概略断面図である。
【図５】 本発明に係るカラーフィルタ基板の第５実施
形態の構造を模式的に示す概略断面図である。
形態の構造を模式的に示す概略断面図である。
【図６】 本発明に係るカラーフィルタ基板の第６実施
形態の構造を模式的に示す概略断面図である。
形態の構造を模式的に示す概略断面図である。
【図７】 本発明に係る電気光学装置の第７実施形態の
構造を模式的に示す概略断面図である。
構造を模式的に示す概略断面図である。
【図８】 本発明に係る電子機器の実施形態における表
示系の構成を模式的に示す概略構成図である。
示系の構成を模式的に示す概略構成図である。
【図９】 同実施形態の一例としての携帯電話の概観を
示す概略斜視図である。
示す概略斜視図である。
【図１０】 従来の液晶表示装置の構成を示す概略断面
図である。
図である。
２１０，３１０，４１０，５１０，６１０，７１０ カ
ラーフィルタ基板 ６００ 液晶表示パネル ６２０ 対向基板 ６３０ 液晶 ６４１，６４３ 偏光板 ６４２，６４４ １／４波長板 ６５０ バックライト ８００ 駆動回路 ９００ 制御手段 １０００ 携帯電話
ラーフィルタ基板 ６００ 液晶表示パネル ６２０ 対向基板 ６３０ 液晶 ６４１，６４３ 偏光板 ６４２，６４４ １／４波長板 ６５０ バックライト ８００ 駆動回路 ９００ 制御手段 １０００ 携帯電話
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｇ０９Ｆ 9/00 ３４２ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３４２Ｚ
9/30 ３４９ 9/30 ３４９Ｂ
３４９Ｃ
9/35 9/35
Ｆターム(参考） 2H042 AA02 AA04 AA06 AA09 AA15
AA26 DA02 DA03 DA04 DA11
DA12 DA22 DC02 DE00
2H048 BA02 BA11 BA45 BB02 BB14
BB15 BB26 BB28 BB37 BB42
2H091 FA02Y FA34Y FA41Z FC01
FC02 GA13 KA10 LA12 LA17
5C094 AA06 AA08 AA11 CA24 ED03
ED15
5G435 AA02 AA04 AA17 BB12 CC12
FF13 GG12 KK05 KK07
Claims (22)
- 【請求項１】 基板上に反射性遮光層及び異なる色相を
呈する複数の着色層を有するカラーフィルタ基板であっ
て、 前記反射性遮光層に対して相互に異なる色相を呈する複
数の前記着色層が共に平面的に重なるように配置されて
いることを特徴とするカラーフィルタ基板。 - 【請求項２】 前記基板上に前記反射性遮光層が配置さ
れ、前記反射性遮光層の上に相互に異なる色相を呈する
前記着色層が平面的に重なるように配置されていること
を特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ基板。 - 【請求項３】 複数の前記着色層のうち一の前記着色層
のみが配置された領域に反射層が配置され、 前記反射性遮光層は、前記反射層と一体に、若しくは、
前記反射層と同材質で、構成されていることを特徴とす
る請求項１又は請求項２に記載のカラーフィルタ基板。 - 【請求項４】 前記反射性遮光層に対して、赤色の前記
着色層と青色の前記着色層とが共に平面的に重なるよう
に配置されていることを特徴とする請求項１乃至請求項
３のいずれか１項に記載のカラーフィルタ基板。 - 【請求項５】 前記反射性遮光層の一側には、複数の前
記着色層のうち一の色相の前記着色層のみが配置された
領域が設けられ、前記反射性遮光層の他側には、複数の
前記着色層のうち他の色相の前記着色層のみが配置され
た領域が設けられ、 前記反射性遮光層に対しては、前記一の色相の着色層と
前記他の色相の着色層とが共に伸びて重なるように配置
されていることを特徴とする請求項１乃至請求項４のい
ずれか１項に記載のカラーフィルタ基板。 - 【請求項６】 基板上に反射性遮光層及び異なる色相を
呈する複数の着色層を有するカラーフィルタ基板の製造
方法であって、 前記反射性遮光層に対して相互に異なる色相を呈する複
数の前記着色層が共に平面的に重なるように形成するこ
とを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。 - 【請求項７】 前記基板上に前記反射性遮光層を形成
し、前記反射性遮光層の上に相互に異なる色相を呈する
前記着色層を平面的に重なるように形成することを特徴
とする請求項６に記載のカラーフィルタ基板の製造方
法。 - 【請求項８】 複数の前記着色層のうち一の前記着色層
のみが配置された領域に反射層を形成し、 前記反射性遮光層を前記反射層と同時に同材質で形成す
ることを特徴とする請求項６又は請求項７に記載のカラ
ーフィルタ基板の製造方法。 - 【請求項９】 前記反射性遮光層に対して、赤色の前記
着色層と青色の前記着色層とが共に平面的に重なるよう
に形成することを特徴とする請求項６乃至請求項８のい
ずれか１項に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。 - 【請求項１０】 前記反射性遮光層の一側には、複数の
前記着色層のうち一の色相の前記着色層のみが配置され
た領域を形成し、前記反射性遮光層の他側には、複数の
前記着色層のうち他の色相の前記着色層のみが配置され
た領域を形成し、 前記反射性遮光層に対して前記一の色相の着色層と前記
他の色相の着色層とが共に伸びて重なるように形成する
ことを特徴とする請求項６乃至請求項９のいずれか１項
に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。 - 【請求項１１】 電気光学層、反射性遮光層及び異なる
色相を呈する複数の着色層を有する電気光学装置であっ
て、 前記反射性遮光層に対して相互に異なる色相を呈する複
数の前記着色層が共に平面的に重なるように配置されて
いることを特徴とする電気光学装置。 - 【請求項１２】 基板上に前記反射性遮光層が配置さ
れ、前記反射性遮光層の上に相互に異なる色相を呈する
前記着色層が平面的に重なるように配置されていること
を特徴とする請求項１１に記載の電気光学装置。 - 【請求項１３】 複数の前記着色層のうち一の前記着色
層のみが配置された領域に反射層が配置され、 前記反射性遮光層は、前記反射層と一体に、若しくは、
前記反射層と同材質で、構成されていることを特徴とす
る請求項１１又は請求項１２に記載の電気光学装置。 - 【請求項１４】 前記反射性遮光層に対して、赤色の前
記着色層と青色の前記着色層とが共に平面的に重なるよ
うに配置されていることを特徴とする請求項１１乃至請
求項１３のいずれか１項に記載の電気光学装置。 - 【請求項１５】 前記反射性遮光層の一側には、複数の
前記着色層のうち一の色相の前記着色層のみが配置され
た領域が設けられ、前記反射性遮光層の他側には、複数
の前記着色層のうち他の色相の前記着色層のみが配置さ
れた領域が設けられ、 前記反射性遮光層に対しては、前記一の色相の着色層と
前記他の色相の着色層とが共に伸びて重なるように配置
されていることを特徴とする請求項１１乃至請求項１４
のいずれか１項に記載の電気光学装置。 - 【請求項１６】 前記反射性遮光層は、平面的に重なる
ように配置された複数の前記着色層に対して、装置の観
察側とは反対側に配置されていることを特徴とする請求
項１１乃至請求項１５のいずれか１項に記載の電気光学
装置。 - 【請求項１７】 電気光学層、反射性遮光層及び異なる
色相を呈する複数の着色層を有する電気光学装置の製造
方法であって、 前記反射性遮光層に対して相互に異なる色相を呈する複
数の前記着色層を共に平面的に重なるように形成するこ
とを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 【請求項１８】 基板上に前記反射性遮光層を形成し、
前記反射性遮光層の上に相互に異なる色相を呈する前記
着色層を平面的に重なるように形成することを特徴とす
る請求項１７に記載の電気光学装置の製造方法。 - 【請求項１９】 複数の前記着色層のうち一の前記着色
層のみが配置された領域に反射層を形成し、 前記反射性遮光層を前記反射層と同時に同材質で形成す
ることを特徴とする請求項１７又は請求項１８に記載の
電気光学装置の製造方法。 - 【請求項２０】 前記反射性遮光層に対して、赤色の前
記着色層と青色の前記着色層とが共に平面的に重なるよ
うに形成することを特徴とする請求項１７乃至請求項１
９のいずれか１項に記載の電気光学装置の製造方法。 - 【請求項２１】 前記反射性遮光層の一側には、複数の
前記着色層のうち一の色相の前記着色層のみが配置され
た領域を形成し、前記反射性遮光層の他側には、複数の
前記着色層のうち他の色相の前記着色層のみが配置され
た領域を形成し、 前記反射性遮光層に対して前記一の色相の着色層と前記
他の色相の着色層とが共に伸びて重なるように形成する
ことを特徴とする請求項１７乃至請求項２０のいずれか
１項に記載の電気光学装置の製造方法。 - 【請求項２２】 請求項１１乃至請求項１６に記載の電
気光学装置と、該電気光学装置を制御する制御手段とを
有することを特徴とする電子機器。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001334608A JP2003139932A (ja) | 2001-10-31 | 2001-10-31 | カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び、電子機器 |
| US10/278,561 US6740457B2 (en) | 2001-10-31 | 2002-10-23 | Color filter substrate and method for making the same, electro-optical device and method for making the same, and electronic apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001334608A JP2003139932A (ja) | 2001-10-31 | 2001-10-31 | カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び、電子機器 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002330879A Division JP2003232915A (ja) | 2002-11-14 | 2002-11-14 | カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び、電子機器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003139932A true JP2003139932A (ja) | 2003-05-14 |
Family
ID=19149709
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001334608A Withdrawn JP2003139932A (ja) | 2001-10-31 | 2001-10-31 | カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び、電子機器 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6740457B2 (ja) |
| JP (1) | JP2003139932A (ja) |
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| JP2019174515A (ja) * | 2018-03-27 | 2019-10-10 | セイコーエプソン株式会社 | 表示装置 |
| CN113721382A (zh) * | 2021-08-30 | 2021-11-30 | 惠科股份有限公司 | 液晶显示面板和液晶显示装置 |
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| JP2003317971A (ja) | 2002-04-26 | 2003-11-07 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置およびその作製方法 |
| US7897979B2 (en) * | 2002-06-07 | 2011-03-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and manufacturing method thereof |
| JP4216008B2 (ja) | 2002-06-27 | 2009-01-28 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 発光装置およびその作製方法、ならびに前記発光装置を有するビデオカメラ、デジタルカメラ、ゴーグル型ディスプレイ、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、ｄｖｄプレーヤー、電子遊技機器、または携帯情報端末 |
| JP4373086B2 (ja) | 2002-12-27 | 2009-11-25 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 発光装置 |
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| TWI322910B (en) * | 2003-04-23 | 2010-04-01 | Innolux Display Corp | Black matrix, color filter and liquid crystal display device with the same |
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| KR20090066459A (ko) * | 2007-12-20 | 2009-06-24 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시 장치용 컬러 필터 기판 및 그 제조 방법 |
| TWI572908B (zh) * | 2014-10-09 | 2017-03-01 | 友達光電股份有限公司 | 彩色濾光膜及其製作方法及顯示面板 |
| CN104793390A (zh) * | 2015-01-31 | 2015-07-22 | 业鑫科技顾问股份有限公司 | 显示面板、薄膜晶体管基板、彩色滤光片基板及制作方法 |
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| KR102786570B1 (ko) * | 2018-10-31 | 2025-03-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 그 제조 방법 |
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-
2001
- 2001-10-31 JP JP2001334608A patent/JP2003139932A/ja not_active Withdrawn
-
2002
- 2002-10-23 US US10/278,561 patent/US6740457B2/en not_active Expired - Lifetime
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| JP7067185B2 (ja) | 2018-03-27 | 2022-05-16 | セイコーエプソン株式会社 | 表示装置 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20030082465A1 (en) | 2003-05-01 |
| US6740457B2 (en) | 2004-05-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040625 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040727 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Request for written amendment filed |
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|
| A02 | Decision of refusal |
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|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20051005 |