JP2002196336A

JP2002196336A - 液晶表示装置

Info

Publication number: JP2002196336A
Application number: JP2000392815A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Suzaki; 剛須崎; Hiroyuki Kase; 裕之賀勢; Yoshitaka Mori; 善隆森; Shinichiro Tanaka; 慎一郎田中
Original assignee: Tokyo Sanyo Electric Co Ltd; Tottori Sanyo Electric Co Ltd; Sanyo Electric Co Ltd
Current assignee: Tokyo Sanyo Electric Co Ltd; Sanyo Electric Co Ltd
Priority date: 2000-12-25
Filing date: 2000-12-25
Publication date: 2002-07-12

Abstract

(57)【要約】【目的】製造工程を簡単にして１画素内に異なる配向
区分を有する液晶表示装置を提供することを目的とす
る。【構成】画素電極２が形成された第一基板１と、対向
電極７が形成された第二基板８と、両基板１、８上に積
層された垂直配向性を有する配向膜４、６と、基板１、
８間に封入された負の誘電率異方性を有する液晶層５と
を備え、画素電極２に線状の突起３が形成され、第二基
板８側の配向膜６には無偏光の紫外線を照射した後に突
起３と略平行な方向にラビング処理が施される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は広視野角な液晶表示
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置には薄型、軽量という特徴
があり、携帯端末から大型テレビに至るまで幅広く利用
されている。特にテレビなどに用いる場合には広視野角
が要求され、例えば１画素を複数の領域に分割し、領域
毎に異なる配向区分を形成して視野角を改善したものが
提案されている。このような液晶表示装置が特開平９−
６１８２５号公報に開示されている。これは垂直配向膜
を設けた一対の基板間に誘電率異方性が負の液晶を挟持
する。そして液晶層に電圧を印加しない時は液晶分子が
基板に対して垂直に配列し、電圧を印加した時は液晶分
子が１画素内で２以上の異なる傾斜方向に傾斜する。1
画素を２つ領域に分割し、互いに配向方向が逆方向なる
場合の配向処理を以下に説明する。まず垂直配向性の配
向膜にラビング法により１度目の配向処理を行う。この
ときの配向方向が第１の領域の配向方向になる。次に配
向膜上にレジスト膜をパターンニング形成する。これは
例えばポジ型レジストをスピンコート法によって全面塗
布し、露光及び現像を行って、第１の領域にレジストパ
ターンを形成する。そしてラビング法により２度目の配
向処理を行い、レジストパターンの存在しない第２の領
域の配向膜表面を配向処理する。第２の領域では第１の
領域の配向方向と逆方向になるため、２度目の配向処理
は１度目の配向処理方向と１８０度異なる方向にラビン
グする。配向処理後にはレジスト剥離を兼ねた洗浄を行
う。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の方
法では、第２の領域にそれぞれ異なる方向のラビング処
理を２度行うために均一な配向状態にすることが難し
く、生産性が良くなかった。また、ラビング処理は配向
膜をレーヨンなどの布で擦るため、クリーンルーム内に
粉塵が発生したり、静電気が発生してアクティブマトリ
クスのＴＦＴが破壊される問題があった。

【０００４】そこで本発明は、製造工程を簡単にして１
画素内に異なる配向区分を有する液晶表示装置を提供す
ることを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は、各画素毎に画素電極が形成された第一基板
と、対向電極が形成された第二基板と、両基板上に積層
された垂直配向性を有する配向膜と、基板間に封入され
た負の誘電率異方性を有する液晶層とを備え、前記基板
のどちらか一方には各画素に対応して線状の突起又はス
リットが形成され、他方の基板の配向膜には無偏光の紫
外線の照射処理と突起又はスリットの略平行方向に水平
配向処理が施されていることを特徴とする。

【０００６】また、画素電極が形成された基板と対向電
極が形成された基板との間に誘電率異方性が負の液晶を
封入し、両基板に垂直配向性を有する配向膜を積層した
液晶表示装置において、各画素を複数の領域に分割し、
各領域では、一方の基板の配向膜に無偏光の紫外線の照
射処理と水平配向処理を施し、他方の基板の配向膜に水
平配向処理を施し、電圧印加時に無偏光紫外線の照射処
理が施されていない配向膜によって液晶分子の傾斜方向
が規制されると共に隣接する領域の液晶分子の傾斜方向
が異なることを特徴とする。

【０００７】また、各画素毎に画素電極が形成された第
一基板と、対向電極が形成された第二基板と、前記両基
板上に積層された垂直配向性を有する配向膜と、前記基
板間に封入された負の誘電率異方性を有する液晶層とを
備え、前記基板のどちらか一方には各画素に対応して線
状の突起又はスリットが形成され、他方の基板の配向膜
には直線偏光の紫外線をその振幅方向をずらしながら複
数回照射する処理と前記突起又は前記スリットの略平行
方向に水平配向処理が施されていることを特徴とする。

【０００８】また、画素電極が形成された基板と対向電
極が形成された基板との間に誘電率異方性が負の液晶を
封入し、両基板に垂直配向性を有する配向膜を積層した
液晶表示装置において、各画素を複数の領域に分割し、
各領域では、一方の基板の配向膜に直線偏光の紫外線を
その振幅方向をずらしながら複数回照射する処理と水平
配向処理を施し、他方の基板の配向膜に水平配向処理を
施し、電圧印加時に直線偏光の紫外線の照射処理が施さ
れていない配向膜によって液晶分子の傾斜方向が規制さ
れると共に隣接する領域の液晶分子と傾斜方向が異なる
ことを特徴とする。

【０００９】こうして１画素を複数の領域に分割し、各
領域で液晶分子の傾斜方向を異ならせて視野角を向上さ
せた液晶表示装置を、１基板に対して１度のラビング処
理で実現でき、歩留まりを向上させることができる。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の第１の実施形態を
図に基づいて説明する。図１は液晶表示装置の概略断面
を示し、図１（ａ）は電圧無印加時、図１（ｂ）は電圧
印加時の液晶の配列状態を示す。

【００１１】１はアレイ基板であり、例えばガラス基板
上に画素電極２とスイッチング素子であるＴＦＴを各画
素に対応してマトリクス状に形成している。ＴＦＴのゲ
ート電極には走査線が、ソース電極には信号線が、ドレ
イン電極には画素電極２がそれぞれ接続され、走査線に
ゲート信号を供給してＴＦＴをオンさせ、映像信号をソ
ース電極に信号線を介して供給する。このとき映像信号
に応じた電圧が画素電極２に印加され、ＴＦＴがオフに
なっても保持容量によって画素電極２では電圧印加状態
が維持される。画素電極２上には直線状の突起３が形成
され、この突起３によって電圧印加時の液晶分子５の配
列方向を規制している。突起３は画素電極２の中央部分
を通過すると共にほぼ長方形である画素電極２の長辺と
平行に配置され、画素電極２をほぼ均等に２つの領域
（Ａ、Ｂ）に分割している。１画素をほぼ均等に分割す
ることで、均一な視野角の補償が行える。この画素電極
２及び突起３には後述する配向膜４が積層されている。

【００１２】８はアレイ基板１に対向配置されたカラー
フィルタ基板（以下ＣＦ基板という）であり、例えばガ
ラス基板上にカラーフィルタが各画素に応じて形成され
ている。ＣＦ基板８上には対向電極７が形成され、電圧
印加時に画素電極２との間で電界を発生させる。対向電
極７上には後述する配向膜６が積層されている。

【００１３】アレイ基板１には表示領域の周囲にシール
材を塗布し、表示領域にスペーサを散布する。ＣＦ基板
８をアレイ基板１に位置を合わせて対向配置し、シール
材を硬化させて、アレイ基板１とＣＦ基板８がスペーサ
の大きさ分の間隔を有して貼り合わされる。注入口より
アレイ基板１とＣＦ基板８の間に液晶を注入し、注入口
を塞いで液晶セルを形成する。液晶５には負の誘電率異
方性を有し、カイラル材が添加されたものを用いる。こ
の実施形態ではカイラル材によって基板１、８の法線方
向から観察した際に、アレイ基板１からＣＦ基板８の方
向に対して液晶分子５が時計回りに捩れる。

【００１４】次に配向膜４、６の配向処理について説明
する。配向膜４は垂直配向性を有し、配向膜６は垂直配
向性と水平配向性を有するものを用いる。つまり配向膜
４には垂直配向性を有する配向膜をそのまま用い、配向
膜６には垂直配向性を有する配向膜に水平配向処理を施
している。図２は配向膜６の配向方向を示す平面図であ
り、図３は配向膜６の配向処理の手順を示す図である。
図２はＣＦ基板８の法線方向から見たときの１画素分に
相当し、突起３で区切られている左側が領域Ａ、右側が
領域Ｂに該当する。また図３は図２の矢印ａから見たと
きの配向膜６を示している。ＣＦ基板８に垂直配向性を
有する配向膜６を積層した後、図３（ａ）に示すように
配向膜６に対してＣＦ基板８の法線方向から無偏光の紫
外線を照射する。無偏光の紫外線を照射すると水平配向
時のチルト角を小さくすることができる。例えば偏光さ
れた紫外線を基板８の法線方向に対して斜めに照射する
と、配向膜６の主鎖や副鎖のうち偏光方向と同一方向の
ものだけ切断され、一方向に配向方向が生じる。しかし
本発明では液晶分子５が水平配列したときに全体的にチ
ルト角が小さくなるようにするため、無偏光の紫外線を
配向膜６表面の垂直方向から照射する。なお、図１及び
図３において配向膜６の斜線部は無偏光の紫外線を照射
した部分を示している。その後、図３（ｂ）に示すよう
に配向膜６にラビング処理を行う。このラビング方向は
図２に示すように突起３と平行方向に設定する。

【００１５】そして電圧無印加時は図１（ａ）に示すよ
うに、配向膜４、６の垂直配向性に影響されて配向膜
４、６表面に対して液晶分子５が垂直配列し、基板１、
８間の液晶分子５も基板１、８の法線方向に沿って垂直
配列する。このとき突起３付近に位置する液晶分子５だ
けは突起３表面に対して垂直に配列するため、基板１、
８の法線方向に対しては斜め方向に配列する。また電圧
印加時は画素電極２と対向電極７の間に電界が発生し、
その電界方向の垂直方向に液晶分子５が傾斜する。この
ときアレイ基板１側の液晶分子５は突起３によって２つ
の傾斜方向に規制される。つまり図１（ｂ）のように、
領域Ａでは液晶分子５が突起３の左側傾斜面の垂直方向
に傾くため左上がりに傾斜し、領域Ｂでは液晶分子５が
突起３の右側傾斜面の垂直方向に傾くため領域Ａとは逆
の右上がりに傾斜する。液晶５にはカイラル材が添加さ
れているためＣＦ基板８側に進むに従って基板１、８の
法線方向における時計回りに捩れながら水平配列する。
このとき配向膜６には突起３と平行に水平配向処理が施
されているため、基板１、８間で液晶分子５は９０度捩
れることになる。配向膜４表面の液晶分子５は完全な水
平配列ではなく所定のチルト角で傾斜し、領域Ａ、Ｂの
液晶分子５は傾斜方向が逆になるため、配向膜６側の液
晶分子５も領域Ａ、Ｂで傾斜方向が逆になってしまう。
この場合、従来例のように領域Ａ、Ｂでそれぞれ逆方向
に配向処理しなければ、液晶分子５の配列状態が乱れて
しまう。しかし本発明では配向膜６に無偏光の紫外線を
照射することで水平配向時のチルト角を小さくしている
ため、配向膜６表面の液晶分子５はほぼ水平方向に配列
し、アレイ基板１からＣＦ基板８に対して液晶分子５が
徐々に水平方向に傾斜しながら配列することになる。従
って配向膜６表面では領域Ａと領域Ｂにおける液晶分子
５の傾斜方向がほぼ同じになり、液晶分子５の配列状態
が乱れない。なお、配向膜６のチルト角は０度である方
が好ましいが、電圧印加時の液晶分子５の配列がＣＦ基
板６側で乱れない範囲であれば、小さいチルト角を有し
ても構わない。

【００１６】この液晶セルを一対の偏光板で挟み込むと
き、偏光板を直交ニコルにし、偏光板の透過軸を配向膜
４、６表面の液晶分子５の配向方向に設定すると、電圧
無印加時に黒表示、電圧印加時に白表示になるノーマリ
ブラックモードになる。また、偏光板を平行ニコルに
し、一方の偏光板の透過軸を配向膜４、６表面の液晶分
子５の配向方向に設定すると、電圧無印加時に白表示、
電圧印加時に黒表示になるノーマリホワイトモードにな
る。

【００１７】この実施形態では垂直配向膜６に無偏光の
紫外線を照射してからラビング処理を行うため、配向膜
６のラビング処理が一回で済み、ラビング処理による不
具合が低減できる。また、アレイ基板１側は突起３によ
って電圧印加時の液晶分子５の傾斜方向を規制するた
め、静電気などの問題が生じるラビング処理をアレイ基
板１は省略でき、不具合が低減して生産性が向上する。

【００１８】この実施形態では画素電極２に突起３を形
成した場合を説明したが、突起３の代わりにスリットを
形成してもよい。このときスリットの配置や配向方向と
の関係などは突起３を設けた場合と同様の条件にする。

【００１９】次に本発明の第２の実施形態を図に基づい
て説明する。図４は液晶表示装置の概略断面を示し、図
４（ａ）は電圧無印加時、図４（ｂ）は電圧印加時の液
晶の配列状態を示す。第２の実施形態は第１の実施形態
と突起３及び配向膜の点で異なるが、その他の構成は同
じである。従って第１の実施形態と同じ構成部分には同
一の符号を付け、説明を省略する。また配向膜９、１０
の斜線部は無偏光の紫外線を照射した部分を示す。

【００２０】この実施形態では画素電極２上に突起３は
ないが、第１の実施形態と同様に１画素をほぼ左右均等
に２分割している。この実施形態では図４に示すよう
に、画素電極２の中央部を境にして左側を領域Ａ、右側
を領域Ｂとする。アレイ基板１の画素電極２上には配向
膜９を、ＣＦ基板８の対向電極７上には配向膜１０をそ
れぞれ積層する。この配向膜９、１０は垂直配向性を有
する配向膜に無偏光の紫外線を照射し、その後に水平配
向処理を施したものであり、その配向方向を図５に、配
向処理の手順を図６にそれぞれ示す。図５はＣＦ基板８
の法線方向から見たときの１画素分に相当し、点線で仕
切られている左側がＡ領域、右側が領域Ｂに該当する。
また図６は図５の矢印ａから見たときの配向膜９、１０
を示している。図６（ａ）に示すように基板１、８上に
垂直配向性を有する配向膜９、１０を積層した後、所定
のパターンのマスク１１を介して基板１、８の法線方向
から無偏光の紫外線を照射する。ここで紫外線が照射さ
れる部分は、配向膜９では領域Ｂであり、配向膜１０で
は領域Ａに該当する。その後、図６（ｂ）に示すように
各配向膜９、１０にラビング処理を１度だけ施す。図５
の矢印１はアレイ基板１の配向膜９のラビング処理を示
し、矢印２はＣＦ基板８の配向膜１０のラビング処理を
示す。この矢印の向きは、液晶分子５が配向膜９、１０
表面で所定のチルト角で傾斜した際に、配向膜９、１０
に近接する液晶分子５の端部から配向膜９、１０と遠ざ
かる液晶分子５の端部の方向を示している。ＣＦ基板８
の配向膜１０には、アレイ基板１の配向膜９表面の液晶
分子５が時計回りに９０度捩れならが水平配列した際の
配向膜１０表面に位置する液晶分子の配向方向（矢印
３）と１８０度ずらした方向（矢印２）にラビング処理
が施されている。ラビング処理は領域Ａ、Ｂの両方に施
されるが、無偏光の紫外線が照射されていない領域（配
向膜９の領域Ａ、配向膜１０の領域Ｂ）のみ液晶分子が
所定のチルト角で水平配列するように作用する。

【００２１】そして電圧無印加時は配向膜９、１０の垂
直配向性に影響されて配向膜９、１０表面の液晶分子５
が垂直配列し、基板１、８間の液晶分子５も垂直配列す
る。電圧印加時は画素電極２と対向電極７の間に電界が
発生し、液晶分子５は電界方向の垂直方向に傾斜する。
このとき領域Ａの配向膜９表面と領域Ｂの配向膜１０表
面の液晶分子５は強い影響を受けて所定のチルト角で傾
斜するが、無偏光紫外線を照射した領域Ｂの配向膜９表
面と領域Ａの配向膜１０表面の液晶分子５はチルト角が
小さくほぼ水平方向に配列する。従って領域Ａの液晶分
子５はアレイ基板１からＣＦ基板８に対して徐々に水平
方向に倒れながら時計回りに９０度捩れ、領域Ｂの液晶
分子５はＣＦ基板８からアレイ基板１に対して徐々に水
平方向に倒れながら反時計回りに９０度捩れる。領域Ａ
の配向膜１０表面と領域Ｂの配向膜９表面ではラビング
方向が本来の液晶分子５の傾斜方向とは逆方向になる
が、無偏光紫外線の照射処理を行っているためチルト角
が小さくなり、表示不良の原因となるような液晶分子５
の配列の乱れは発生しない。領域Ａと領域Ｂでは液晶分
子５が共に基板１、８の法線方向に対する時計回りに捩
るが、傾斜方向が互いに逆になるため視野角を補償し合
うことになり、広視野角になる。

【００２２】この実施形態では垂直配向膜９、１０に無
偏光の紫外線を照射してからラビング処理を行うため、
それぞれ配向膜９、１０のラビング処理が一回で済み、
ラビング処理による不具合が低減できる。

【００２３】なお本発明は上記の実施形態に限定される
ものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において
種々の変更を加えることが可能である。例えば、１画素
を２つ以上の領域に分割したものにも有効である。

【００２４】また予め決まった領域に無偏光の紫外線を
照射することで水平配向したときの液晶分子のチルト角
が小さくなるように設定したが、無偏光の紫外線を照射
する代わりに直線偏光の紫外線をその振幅方向をずらし
ながら複数回に別けて照射してもよい。このとき配向膜
には紫外線の振幅方向と同一方向の主鎖又は副鎖が切断
されるものを用いる。さらに第１及び第２の実施形態に
おける無偏光の紫外線を照射する工程を直線偏光の紫外
線を複数回照射する工程に代えるだけで、液晶表示装置
の構成やその他の工程は同一のものを用いる。

【００２５】

【発明の効果】本発明によれば、垂直配向性を有する配
向膜に無偏光の紫外線の照射処理と水平配向処理を施す
ので、この配向膜付近の液晶分子は電圧無印加時に垂直
配列し、電圧印加時にほぼチルト角がない状態で水平配
列するため、少ないラビング処理で１画素内に異なる配
向区分を有する液晶表示装置を製造することができる。

【００２６】また、画素電極に線状の突起又はスリット
を設け、対向電極上の配向膜に無偏光紫外線の照射処理
と突起又はスリットとほぼ平行方向にラビング処理を行
うので、画素電極側のラビング処理を省くことができ、
ラビング処理時の静電気によるスイッチング素子の破壊
を防止することができる。

【００２７】また、１画素を複数の領域に分割し、各領
域では、一方の基板の配向膜に無偏光紫外線の照射処理
と水平配向処理を、他方の基板の配向膜に水平配向処理
をそれぞれ施し、電圧印加時に隣接する領域の液晶分子
の傾斜方向が異なるようにしすることで、各基板のラビ
ング処理が１回になり、歩留まりを向上させることがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態である液晶表示装置の
断面概略図である。

【図２】第１の実施形態である液晶表示装置の配向膜の
水平配向方向を示す図である。

【図３】第１の実施形態の配向膜の配向処理を説明する
図である。

【図４】本発明の第２の実施形態である液晶表示装置の
断面概略図である。

【図５】第２の実施形態である液晶表示装置の配向膜の
水平配向方向を示す図である。

【図６】第２の実施形態の配向膜の配向処理を説明する
図である。

【符号の説明】

１アレイ基板２画素電極３突起４、６、９、１０配向膜５液晶７対向電極８ＣＦ基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者賀勢裕之鳥取県鳥取市南吉方３丁目201番地鳥取三洋電機株式会社内 (72)発明者森善隆鳥取県鳥取市南吉方３丁目201番地鳥取三洋電機株式会社内 (72)発明者田中慎一郎鳥取県鳥取市南吉方３丁目201番地鳥取三洋電機株式会社内Ｆターム(参考） 2H090 HA05 JA03 JC03 KA04 LA01 MA01 MA02 MA11 MA15 MB01 MB14 2H092 GA13 GA17 JB05 NA01 PA02 5C094 AA03 AA31 AA42 AA43 BA03 BA43 CA19 CA24 EA04 EA07 ED02 ED14

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】各画素毎に画素電極が形成された第一基
板と、対向電極が形成された第二基板と、前記両基板上
に積層された垂直配向性を有する配向膜と、前記基板間
に封入された負の誘電率異方性を有する液晶層とを備
え、前記基板のどちらか一方には各画素に対応して線状
の突起又はスリットが形成され、他方の基板の配向膜に
は無偏光の紫外線の照射処理と前記突起又は前記スリッ
トの略平行方向に水平配向処理が施されていることを特
徴とする液晶表示装置。
【請求項２】前記液晶層にはカイラル材が添加され、
液晶分子は電圧無印加時に垂直配列し、電圧印加時に前
記基板間で捩れながら水平配列することを特徴とする請
求項１記載の液晶表示装置。
【請求項３】前記突起又は前記スリットが前記画素電
極に形成されていることを特徴とする請求項１乃至請求
項２記載の液晶表示装置。
【請求項４】前記突起又は前記スリットにより各画素
をほぼ均等に２分割し、分割された領域の液晶分子は電
圧印加時に前記突起又は前記スリットによって傾斜方向
が規制されて他方の領域の液晶分子と異なる方向に傾斜
すると共に前記基板間で９０度捩れながら水平配列する
ことを特徴とする請求項１乃至請求項３記載の液晶表示
装置
【請求項５】前記水平配向処理がラビング処理である
ことを特徴とする請求項１乃至請求項４記載の液晶表示
装置。
【請求項６】画素電極が形成された基板と対向電極が
形成された基板との間に誘電率異方性が負の液晶を封入
し、両基板に垂直配向性を有する配向膜を積層した液晶
表示装置において、各画素を複数の領域に分割し、各領
域では、一方の基板の配向膜に無偏光の紫外線の照射処
理と水平配向処理を施し、他方の基板の配向膜に水平配
向処理を施し、電圧印加時に無偏光紫外線の照射処理が
施されていない配向膜によって液晶分子の傾斜方向が規
制されると共に隣接する領域の液晶分子と傾斜方向が異
なることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】前記液晶層にはカイラル材が添加され、
液晶分子は電圧無印加時に垂直配列し、電圧印加時に前
記基板間で９０度捩れながら水平配列することを特徴と
する請求項６記載の液晶表示装置。
【請求項８】各画素が２つの領域Ａ、Ｂに分割され、
一方の基板の領域Ａと他方の基板の領域Ｂには無偏光紫
外線の照射処理が施されると共に両基板には互いに直交
する方向にラビング処理が施され、電圧印加時に一方の
基板界面の液晶分子が他方の基板界面の液晶分子が９０
度捩れたときの傾斜方向と逆方向に傾斜するようにラビ
ング方向が設定されていることを特徴とする請求項６乃
至請求項７記載の液晶表示装置。
【請求項９】各画素毎に画素電極が形成された第一基
板と、対向電極が形成された第二基板と、前記両基板上
に積層された垂直配向性を有する配向膜と、前記基板間
に封入された負の誘電率異方性を有する液晶層とを備
え、前記基板のどちらか一方には各画素に対応して線状
の突起又はスリットが形成され、他方の基板の配向膜に
は直線偏光の紫外線をその振幅方向をずらしながら複数
回照射する処理と前記突起又は前記スリットの略平行方
向に水平配向処理が施されていることを特徴とする液晶
表示装置。
【請求項１０】画素電極が形成された基板と対向電極
が形成された基板との間に誘電率異方性が負の液晶を封
入し、両基板に垂直配向性を有する配向膜を積層した液
晶表示装置において、各画素を複数の領域に分割し、各
領域では、一方の基板の配向膜に直線偏光の紫外線をそ
の振幅方向をずらしながら複数回照射する処理と水平配
向処理を施し、他方の基板の配向膜に水平配向処理を施
し、電圧印加時に直線偏光の紫外線の照射処理が施され
ていない配向膜によって液晶分子の傾斜方向が規制され
ると共に隣接する領域の液晶分子と傾斜方向が異なるこ
とを特徴とする液晶表示装置。