JP2002040232A - 光学フィルム、偏光板及び表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 剥離ロールや搬送ロールに不着するといった
欠陥のない優れた紫外線吸収剤を採用した光学フィルム
を効率的に提供すること、又その光学フィルムを利用し
た偏光板、或いは表示装置を提供することにある。 【解決手段】 下記一般式１で示される紫外線吸収剤を
含有することを特徴とする光学フィルム。 【化１】 式中、Ｒ₁₁は酸素原子、窒素原子、硫黄原子、又はカル
ボニル基を介してベンゼン環上に置換する基を表し、Ｒ
₁₂は水素原子、脂肪族基、芳香族基、又はヘテロ環基を
表し、Ｒ₁₃〜Ｒ₁₆は各々、水素原子、脂肪族基、芳香族
基、又はヘテロ環基を表す。Ｒ₁₁〜Ｒ₁₆で示される基は
ハロゲン原子で置換されることはない。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学用途に利用さ
れる光学フィルムに関するものであり、特に液晶表示装
置等に用いられる偏光板用保護フィルム、位相差フィル
ム、視野角拡大フィルム、プラズマディスプレイに用い
られる反射防止フィルムなどの各種機能フィルム、又、
有機ＥＬディスプレイ等で使用される各種機能フィルム
等にも利用することができる光学フィルムに関するもの
である。更に詳しくは、特定のＵＶ吸収剤を含む、保存
時の着色が少なく生産性に優れた光学フィルムに関す
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、ノートパソコンの高精細化、薄型
軽量化の開発が進んでいる。それに伴って、液晶用偏光
板用の保護フィルムもますます高性能化、薄膜化の要求
が強くなってきている。偏光板用保護フィルムには、一
般的に透明性、屈折率などの理由から、セルロースエス
テルフィルムが広く使用されている。しかしながら、セ
ルロースエステルフィルムを単純に薄膜にすると、いろ
いろ問題が発生する。

【０００３】即ち、従来偏光板用保護フィルムに使用さ
れるセルロースエステルフィルムには、偏光子や液晶を
紫外線から守る目的で、紫外線吸収剤が使用されてい
る。このセルロースエステルフィルムを単純に薄膜化し
てしまうと、十分に紫外線をカットすることができず、
薄膜化された分だけ、紫外線吸収剤を増量しなければな
らない。

【０００４】紫外線吸収剤に関しては、特開平６−１３
０２２６号、同７−１１０５６号などが提案されてい
る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
に提案されている紫外線吸収剤を単純に増量すると、セ
ルロースエステルフィルム製膜工程で剥離ロールや搬送
ロールに紫外線吸収剤が付着し、故障の原因となり、生
産性を大きく低下させてしまうという、新たな問題を引
き起こすことが判明した。

【０００６】本発明は上記事情に鑑みてなされたもので
あり、その目的は偏光板用保護フィルムに不可欠な紫外
線吸収剤として、上記した剥離ロールや搬送ロールに不
着するという欠陥のない優れた紫外線吸収剤を採用した
光学フィルムを提供すること、又その光学フィルムを利
用した偏光板、或いは表示装置を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本願発明者らは、上記従
来の課題を解決することが出来る紫外線吸収剤を含む光
学フィルムについて鋭意検討した結果、その詳しい理由
は解明されてはいないが、特定の構造及び物性を有する
紫外線吸収剤を用いることにより、ロール汚れが改良で
きることを見出し、本発明を完成するに至った。即ち、
本発明の上記目的は以下の手段により達成される。

【０００８】１．上記一般式１で示される紫外線吸収剤
を含有することを特徴とする光学フィルム。

【０００９】２．３８０ｎｍに於けるモル吸光係数が１
０００以上であり、かつ３８０ｎｍに於けるモル吸光係
数に対する４００ｎｍに於けるモル吸光係数の比が２０
以上である紫外線吸収剤を含有することを特徴とする光
学フィルム。

【００１０】３．前記紫外線吸収剤がベンゾトリアゾー
ル系紫外線吸収剤であることを特徴とする２記載の光学
フィルム。

【００１１】４．前記ベンゾトリアゾール系紫外線吸収
剤が上記一般式２で示されることを特徴とする３記載の
光学フィルム。

【００１２】５．上記一般式３で示される紫外線吸収剤
を含有することを特徴とする光学フィルム。

【００１３】６．前記紫外線吸収剤が、３８０ｎｍに於
けるモル吸光係数が１０００以上であり、かつ３８０ｎ
ｍに於けるモル吸光係数に対する４００ｎｍに於けるモ
ル吸光係数の比が２０以上であることを特徴とする５記
載の光学フィルム。

【００１４】７．１次平均粒子径が３〜２０ｎｍであ
り、かつ見かけ比重が７０〜３００ｇ／リットルである
二酸化珪素微粒子を含有することを特徴とする１〜６の
何れか１項記載の光学フィルム。

【００１５】８．光学フィルムがセルロースエステルフ
ィルムであることを特徴とする１〜７の何れか１項記載
の光学フィルム。

【００１６】９．前記セルロースエステルフィルムがセ
ルロースアセテートプロピオネートフィルムであること
を特徴とする８記載の光学フィルム。

【００１７】１０．光学フィルムの膜厚が２０〜６５μ
ｍであることを特徴とする１〜９の何れか１項記載の光
学フィルム。

【００１８】１１．第１の光学フィルム、偏光子、第２
の光学フィルムを有する偏光板において、前記第１又は
第２の光学フィルムが１〜１０の何れか１項記載の光学
フィルムであることを特徴とする偏光板。

【００１９】１２．偏光板を用いる表示装置に於いて、
１１に記載の偏光板を用いることを特徴とする表示装
置。

【００２０】以下、本発明について更に詳しく説明す
る。 （紫外線吸収剤）一般式１、及び一般式３に於て、
Ｒ₁₁、Ｒ₃₁は酸素原子若しくは窒素原子、硫黄原子、カ
ルボニル基を介してベンゼン環上に置換する基を表す。

【００２１】酸素原子を介してベンゼン環上に置換する
基としては、ヒドロキシル基、アルコキシ基（例えばメ
トキシ基、エトキシ基、ｔ−ブトキシ基、２−エトキシ
エトキシ基等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ
基、２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ基、４−（４−
ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ基等）、複
素環オキシ基（例えば４−ピリジルオキシ基、２−ヘキ
サヒドロピラニルオキシ基等）、カルボニルオキシ基
（例えばアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキ
シ基、ピバロイルオキシ基等のアルキルカルボニルオキ
シ基、ベンゾイルオキシ基、ペンタフルオロベンゾイル
オキシ基等のアリールオキシ基等）、ウレタン基（例え
ばＮ，Ｎ−ジメチルウレタン基等のアルキルウレタン
基、Ｎ−フェニルウレタン基、Ｎ−（ｐ−シアノフェニ
ル）ウレタン基等のアリールウレタン基）、スルホニル
オキシ基（例えばメタンスルホニルオキシ基、トリフル
オロメタンスルホニルオキシ基、ｎ−ドデカンスルホニ
ルオキシ基等のアルキルスルホニルオキシ基、ベンゼン
スルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基
等のアリールスルホニルオキシ基）等が挙げられるが、
炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましく、特に炭素数２
〜４のアルコキシ基が好ましい。

【００２２】窒素原子を介してベンゼン環上に置換する
基としては、ニトロ基、アミノ基（例えばジメチルアミ
ノ基、シクロヘキシルアミノ基、ｎ−ドデシルアミノ基
等のアルキルアミノ基、アニリノ基、ｐ−ｔ−オクチル
アニリノ基等のアリールアミノ基等）、スルホニルアミ
ノ基（例えばメタンスルホニルアミノ基、ヘプタフルオ
ロプロパンスルホニルアミノ基、ヘキサデシルスルホニ
ルアミノ基等のアルキルスルホニルアミノ基、ｐ−トル
エンスルホニルアミノ基、ペンタフルオロベンゼンスル
ホニルアミノ等のアリールスルホニルアミノ基）、スル
ファモイルアミノ基（例えばＮ，Ｎ−ジメチルスルファ
モイルアミノ基等のアルキルスルファモイルアミノ基、
Ｎ−フェニルスルファモイルアミノ基等のアリールスル
ファモイルアミノ基）、アシルアミノ基（例えばアセチ
ルアミノ基、ミリストイルアミノ基等のアルキルカルボ
ニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等アリールカルボニ
ルアミノ基）、ウレイド基（例えばＮ，Ｎ−ジメチルア
ミノウレイド基等のアルキルウレイド基、Ｎ−フェニル
ウレイド基、Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）ウレイド基等
のアリールウレイド基）等が挙げられるが、アシルアミ
ノ基が好ましい。

【００２３】硫黄原子を介してベンゼン環上に置換する
基としては、アルキルチオ基（例えばメチルチオ基、ｔ
−オクチルチオ基等）、アリールチオ基（例えばフェニ
ルチオ基等）、複素環チオ基（例えば１−フェニルテト
ラゾール−５−チオ基、５−メチル−１，３，４−オキ
サジアゾール−２−チオ基等）、スルフィニル基（例え
ばメタンスルフィニル基、トリフルオロメタンスルフィ
ニル基等のアルキルスルフィニル基、及びｐ−トルエン
スルフィニル基等のアリールスルフィニル基）、スルホ
ニル基（例えばメタンスルホニル基、トリフルオロメタ
ンスルホニル基等のアルキルスルホニル基、及びｐ−ト
ルエンスルホニル基等のアリールスルホニル基）、スル
ファモイル基（例えばジメチルスルファモイル基、４−
（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）ブチルアミノス
ルホニル基等のアルキルスルファモイル基、フェニルス
ルファモイル基等のアリールスルファモイル基）が挙げ
られるが、スルフィニル基が好ましく、特に炭素数４〜
１２のアルキルスルフィニル基が好ましい。

【００２４】カルボニル基を介してベンゼン環上に置換
する基としては、カルボニル基（例えばアセチル基、ト
リフルオロアセチル基、ピバロイル基等のアルキルカル
ボニル基、ベンゾイル基、ペンタフルオロベンゾイル
基、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾイ
ル基等のアリールカルボニル基等）、オキシカルボニル
基（例えばメトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキ
シカルボニル基、ｎ−ドデシルオキシカルボニル基等の
アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、
２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシカルボニル基、１−
ナフチルオキシカルボニル基等のアリールオキシカルボ
ニル基、及び２−ピリジルオキシカルボニル基、１−フ
ェニルピラゾリル−５−オキシカルボニル基などの複素
環オキシカルボニル基等）、カルバモイル基（例えばジ
メチルカルバモイル基、４−（２，４−ジ−ｔ−アミル
フェノキシ）ブチルアミノカルボニル基等のアルキルカ
ルバモイル基、フェニルカルバモイル基、１−ナフチル
カルバモイル基等のアリールカルバモイル基）が挙げら
れる。

【００２５】一般式１、及び一般式３に於いて、Ｒ₁₁、
Ｒ₃₁で示される基としては、酸素原子を介してベンゼン
環上に置換する基が好ましく、特に炭素数１〜１２のア
ルコキシ基が好ましく、更に炭素数２〜６のアルコキシ
基が好ましい。

【００２６】一般式１、及び一般式３に於いて、Ｒ₁₂、
Ｒ₃₂は水素原子、脂肪族基（例えばアルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基等）、芳香族基（例えばフェニル
基、ｐ−クロロフェニル基等）、ヘテロ環基（例えば２
−テトラヒドロフリル基、２−チオフェニル基、４−イ
ミダゾリル基、インドリン−１−イル基、及び２−ピリ
ジル基等）を表す。Ｒ₁₂、Ｒ₃₂としては水素原子及びア
ルキル基が好ましい。

【００２７】一般式１及び一般式３に於いて、ｎは１〜
４迄の整数を表すが、１及び２が好ましい。

【００２８】一般式１に於いて、Ｒ₁₃〜Ｒ₁₆は各々独立
に、水素原子、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基を表
し、具体的な置換基としてはＲ₁₂で例示した基が挙げら
れる。又Ｒ₁₃及びＲ₁₅としては水素原子若しくは、炭素
数１〜１２のアルキル基が好ましく、特にｉ−プロピル
基、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基の様な分岐アルキル基
が好ましい。一方Ｒ₁₄及びＲ₁₆としては水素原子が好ま
しい。

【００２９】本願発明者らは、上記一般式１で示される
様な分子内にハロゲン原子を有さず、かつＲ₁₁〜Ｒ₁₆で
示される特定の置換基を有する構造の紫外線吸収剤を用
いることにより、搬送時のロール汚れを改良できること
を見出したが、更に鋭意検討を進めた結果、特定の構造
に係らず以下のような性質を有する紫外線吸収剤を用い
ることにより、一般式１で示される紫外線吸収剤と同様
に搬送時のロール汚れを改良できることも見出した。

【００３０】即ち、３８０ｎｍに於けるモル吸光係数が
１０００以上であり、かつ３８０ｎｍに於けるモル吸光
係数に対する４００ｎｍに於けるモル吸光係数の比が２
０以上である紫外線吸収剤を少なくとも１種含有するこ
とによっても、搬送時のロール汚れを改良でき、押され
故障の少ない光学フィルムが得られる。

【００３１】ここで押され故障とは、光学フィルムの表
面にある３０〜５００μｍ程度の凹状の故障で、通常の
異物故障と違いフィルムを顕微鏡などで観察しても故障
の核が見られないものである。

【００３２】３８０ｎｍに於けるモル吸光係数が１００
０以上である場合、紫外線吸収性能が良好であることを
示し、紫外光を遮断しうるのに充分な効果が得られ、よ
って光学フィルム自身が黄色く着色してしまう等の問題
も改善され、光学フィルム自身の透明性は向上する。

【００３３】本発明に於ける紫外線吸収剤としては、３
８０ｎｍに於けるモル吸光係数が４０００以上、好まし
くは８０００以上、更に好ましくは１００００以上のも
のを使用するのが良い。尚、３８０ｎｍに於けるモル吸
光係数が１０００未満の場合、所望のＵＶ吸収性能を得
るために多量の添加が必要となり、ヘイズの上昇或いは
紫外線吸収剤の析出等により透明性の低下が著しく、フ
ィルム強度が低下する傾向となる。

【００３４】上記紫外線吸収剤としては、例えばサリチ
ル酸系紫外線吸収剤（フェニルサリシレート、ｐ−ｔｅ
ｒｔ−ブチルサリシレート等）或いはベンゾフェノン系
紫外線吸収剤（２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、
２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾ
フェノン等）、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（２
−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’
−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−
ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２
−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ア
ミル−フェニル）ベンゾトリアゾール等）、シアノアク
リレート系紫外線吸収剤（２’−エチルへキシル−２−
シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、エチル−２
−シアノ−３−（３’，４’−メチレンジオキシフェニ
ル）−アクリレート等）、トリアジン系紫外線吸収剤
（２−（２’−ヒドロキシ−４’−へキシルオキシフェ
ニル）−４，６−ジフェニルトリアジン等）或いは特開
昭５８−１８５６７７号、同５９−１４９３５０号記載
の化合物等が知られている。

【００３５】このような公知の様々なタイプの紫外線吸
収剤のうち、３８０ｎｍに於けるモル吸光係数が１００
０以上であり、かつ３８０ｎｍに於けるモル吸光係数に
対する４００ｎｍに於けるモル吸光係数の比が２０以上
である紫外線吸収剤が、本発明の効果を有する光学フィ
ルム用の紫外線吸収剤として好適に用いられる。この比
が２０未満の場合、着色が大きく光学フィルム用途に適
さない。

【００３６】即ちより可視域に近い、４００ｎｍ付近の
光の吸収を抑え、所望のＵＶ吸収性能を得るためには、
可能な限り紫外光を吸収しうる性能を有する紫外線吸収
剤を含有することが本発明においては好ましい。

【００３７】本発明に用いられる紫外線吸収剤として
は、それ自身の安定性の点でベンゾトリアゾール系紫外
線吸収剤が好ましく、特に一般式２で示される紫外線吸
収剤が好ましい。

【００３８】一般式２に於いて、Ｒ₂₁はハロゲン原子
（例えば塩素原子、臭素原子等）、酸素原子、窒素原
子、又は硫黄原子を介してベンゼン環上に置換する基を
表す。酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子を介してベン
ゼン環上に置換する基としては、一般式１のＲ₁₁で説明
した基と同様の基が例示される。Ｒ₂₁がハロゲン原子の
場合、塩素原子が好ましい。Ｒ₂₁の好ましいものとして
は炭素数１〜１２、更に好ましくは２〜６のアルコキシ
基である。

【００３９】Ｒ₂₂は水素原子、脂肪族基、芳香族基、又
はヘテロ環基を表す。Ｒ₂₂としては水素原子、又はアル
キル基が好ましい。

【００４０】一般式２に於いて、ｎは１〜４迄の整数を
表す。ｎの数によってＲ₂₁又はＲ₂₂が複数存在する場
合、複数のＲ₂₁及びＲ₂₂は同じであっても、異なってい
ても良い。好ましくはｎは１又は２である。

【００４１】一般式２及び一般式３に於いて、Ｒ₂₃、Ｒ
₂₅、Ｒ₂₆、Ｒ₃₃、Ｒ₃₅、Ｒ₃₆は各々独立に水素原子、又
はベンゼン環上に置換可能な基を表す。Ｒ₂₃、Ｒ₂₅、Ｒ
₃₃、Ｒ₃₅としては水素原子、又は炭素数１〜１２のアル
キル基が好ましく、特にｉ−プロピル基、ｔ−ブチル
基、ｔ−アミル基の様な分岐アルキル基が好ましい。Ｒ
₂₆、Ｒ₃₆としては水素原子が好ましい。

【００４２】一般式２及び一般式３に於いて、Ｒ₂₄、Ｒ
₃₄は酸素原子又は窒素原子を介してベンゼン環上に置換
する基を表す。Ｒ₂₄、Ｒ₃₄の具体的置換基としては一般
式１のＲ₁₁で示した酸素原子又は窒素原子を介してベン
ゼン環上に置換する基と同様の置換基が挙げられる。Ｒ
₂₄、Ｒ₃₄が酸素原子を介してベンゼン環上に置換する基
である場合、炭素数１〜１２のアルコキシ基が好まし
く、特にｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、２−エチ
ルへキシルオキシ基等の分岐アルコキシ基が好ましい。
Ｒ₂₄、Ｒ₃₄が窒素原子を介してベンゼン環上に置換する
基で有る場合、アシルアミノ基が好ましく、特にＮ−ア
ルキルアシルアミノ基が好ましい。

【００４３】上記一般式３で示される様な分子内にハロ
ゲン原子を有さず、かつＲ₃₁〜Ｒ₃₆で示されるような特
定の置換基を有した構造の紫外線吸収剤を用いることに
より、特に搬送時のロール汚れが改良される。更に驚く
べきことに上記一般式３で示される紫外線吸収剤を用い
ると、光学フィルム自身の耐久性も改良される。

【００４４】光学フィルムへの上記紫外線吸収剤の添加
方法は直接添加してもよいが、生産性の優れるインライ
ン添加が好ましい。インライン添加は、予め有機溶剤
（例えばメタノール、メチレンクロライドなど）に溶解
したものに、少量のセルロースエステルを添加、溶解し
た後、インラインのミキサーでドープ組成中に添加する
のがよい。好ましいセルロースエステルの量は、溶剤１
００質量部に対して１〜１０質量部、より好ましくは、
３〜５質量部である。セルロースエステルを添加する
と、紫外線吸収剤含有液の粘度が高くなり、インライン
で多く添加することが容易になる。

【００４５】上記紫外線吸収剤の使用量は化合物の種
類、使用条件などにより一様ではないが、通常は光学フ
ィルム１ｍ²当り０．２ｇ〜２．０ｇが好ましく、０．
４ｇ〜１．５ｇが更に好ましく、０．６ｇ〜１．０ｇが
特に好ましい。

【００４６】以下に本発明に好ましく用いられる紫外線
吸収剤の代表例を例示するが、これらに限定されるもの
ではない。

【００４７】

【化４】

【００４８】

【化５】

【００４９】

【化６】

【００５０】

【化７】

【００５１】

【化８】

【００５２】

【化９】

【００５３】

【化１０】

【００５４】本発明に用いられる紫外線吸収剤及びその
中間体は公知の文献を参照して合成することが出来る。
例えば米国特許第３，０７２，５８５号、同４，０２
８，３３１号、同５，６８３，８６１号；ヨーロッパ特
許第８６，３００，４１６号；特開昭６３−２２７５７
５号、同６３−１８５９６９号、Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｂｕ
ｌｌｅｔｉｎ．Ｖ．２０（２），１６９−１７６及びＣ
ｈｅｍｉｃａｌ Ａｂｓｔｒａｃｔｓ Ｖ．１０９，Ｎ
ｏ．１９１３８９等を参照して合成することが出来る。

【００５５】（セルロースエステル）本発明の光学フィ
ルムに用いられるセルロースエステルは、セルロースの
低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロース
の低級脂肪酸エステルに於ける低級脂肪酸とは炭素原子
数が６以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセ
テート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレ
ート等や、特開平１０−４５８０４号、同８−２３１７
６１号、米国特許第２，３１９，０５２号等に記載され
ているようなセルロースアセテートプロピオネート、セ
ルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステル
を用いることが出来る。上記の中でも、特に好ましく用
いられるセルロースの低級脂肪酸エステルはセルロース
トリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート
である。

【００５６】セルローストリアセテートの場合には、フ
ィルム強度の観点から、特に重合度２５０〜４００、平
均酢化度（結合酢酸量）５４．０〜６２．５％のものが
好ましく用いられ、更に好ましいのは、平均酢化度が５
８．０〜６２．５％のセルローストリアセテートであ
る。

【００５７】最も好ましいセルロースの低級脂肪酸エス
テルは炭素原子数２〜４のアシル基を置換基として有
し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基又は
ブチリル基の置換度をＹとした時、下記式（Ｉ）及び
（II）を同時に満たすセルロースエステルを含むセルロ
ースエステルである。

【００５８】式（Ｉ） ２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０ 式（II） ０≦Ｘ≦２．５ この内特にセルロースアセテートプロピオネートが好ま
しく用いられ、中でも１．９≦Ｘ≦２．５であり、０．
１≦Ｙ≦０．９であることが好ましい。アシル基で置換
されていない部分は通常水酸基として存在しているのも
のである。これらは公知の方法で合成することができ
る。

【００５９】セルロースエステルは綿花リンター、木材
パルプ、ケナフ等を原料として合成されたセルロースエ
ステルを単独或いは混合して用いることができる。ベル
トやドラムからの剥離性がもし問題になれば、ベルトや
ドラムからの剥離性が良い綿花リンターから合成された
セルロースエステルを多く使用すれば生産性が高く好ま
しい。木材パルプから合成されたセルロースエステルを
混合し用いた場合、綿花リンターから合成されたセルロ
ースエステルの比率が４０質量％以上で剥離性の効果が
顕著になるため好ましく、６０質量％以上が更に好まし
く、剥離性の効果という点では綿花リンター単独で使用
することが最も好ましい。

【００６０】本発明に用いられる偏光板の主たる構成要
素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す
素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリ
ビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニル
アルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色
性染料を染色させたものがある。これらは、ポリビニル
アルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色
するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ
素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。
該偏光膜の面上に偏光板用保護フィルムとして、本発明
の光学フィルムである透明なプラスチックフィルムが張
り合わされて偏光板を形成する。

【００６１】光学フィルムの製造方法について説明す
る。本発明の光学フィルムは、主としてセルロースエス
テルを用い、紫外線吸収剤を含有する溶液とセルロース
エステルが溶解しているドープ液とがインラインで混
合、攪拌されたものを製膜することで得られる。

【００６２】本発明に於いてセルロースエステルが溶解
しているドープ液とは、セルロースエステルが溶剤（溶
媒）に溶解している状態にある溶液であり、前記ドープ
液には可塑剤、必要によりこの他の添加剤を加えること
も出来る。該ドープ液中のセルロースエステルの濃度と
しては１０〜３０質量％が好ましく、更に好ましくは、
１８〜２０質量％である。

【００６３】本発明で用いられる溶剤は単独でも併用で
もよいが、良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが生
産効率の点で好ましく、更に好ましくは、良溶剤と貧溶
剤の混合比率は良溶剤の７０〜９５質量％に対し、貧溶
剤は３０〜５質量％である。

【００６４】本発明に用いられる良溶剤、貧溶剤とは、
使用するセルロースエステルを単独で溶解するものを良
溶剤、単独で膨潤するか又は溶解しないものを貧溶剤と
定義している。そのため、セルロースエステルの結合酢
酸量によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばアセ
トンを溶剤として用いるときには、セルロースエステル
の結合酢酸量５５％では良溶剤になり、結合酢酸量６０
％では貧溶剤となってしまう。

【００６５】本発明に用いられる良溶剤としては、メチ
レンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン
類が挙げられる。セルロースエステルの結合酢酸量によ
っては、良溶剤にも、貧溶剤にもなる溶剤としては、ア
セトン、酢酸メチル、酢酸エチルなどが挙げられる。

【００６６】本発明に用いられる貧溶剤としては、例え
ば、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、シクロ
ヘキサン等が好ましく用いられる。

【００６７】上記のドープ液を調製する時の、セルロー
スエステルの溶解方法としては一般的な方法を用いるこ
とができるが、好ましい方法としては、セルロースエス
テルを貧溶剤と混合し、湿潤或いは膨潤させ、更に良溶
剤と混合する方法が挙げられる。このとき加圧下、溶剤
の常温での沸点以上、かつ溶剤が沸騰しない範囲の温度
で加熱し、攪拌しながら溶解する方法が、ゲルやママコ
と呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止できるため、より
好ましい。

【００６８】加圧は窒素ガスなどの不活性気体を圧入す
る方法や、加熱による溶剤の蒸気圧の上昇によって行っ
てもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えば
ジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好
ましい。

【００６９】溶剤を添加しての加熱温度は、使用溶剤の
沸点以上、かつ該溶剤が沸騰しない範囲の温度が好まし
く、例えば６０℃以上、特に７０〜１１０℃の範囲に設
定するのが好適である。又、圧力は設定温度で、溶剤が
沸騰しないように調整される。

【００７０】次に、このセルロースエステル溶液を濾紙
などの適当な濾過材を用いて濾過する。本発明に於ける
濾過材としては、不溶物などを除去するために絶対濾過
精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さすぎ
ると濾過材の目詰まりが発生しやすいという問題点あ
る。このため絶対濾過精度０．００８ｍｍ以下の濾材が
好ましく、０．００１〜０．００８ｍｍの範囲の濾材が
より好ましく、０．００３〜０．００６ｍｍの範囲の濾
材が更に好ましい。

【００７１】濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材
を使用することが出来るが、ポリプロピレン、テフロン
（登録商標）等のプラスチック製の濾材やステンレス等
の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。

【００７２】ドープ液の濾過は通常の方法で行うことが
出来るが、加圧下、溶剤の常圧での沸点以上でかつ溶剤
が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法
が、濾過材前後の差圧（以下、濾圧とすることがある）
の上昇が小さく、好ましい。好ましい温度範囲は４５〜
１２０℃であり、４５〜７０℃がより好ましく、４５〜
５５℃の範囲であることが更に好ましい。

【００７３】濾圧は小さい方が好ましく、１．６×１０
⁶Ｐａ以下であることが好ましく、１．２×１０⁶Ｐａ以
下であることがより好ましく、１．０×１０⁶Ｐａ以下
であることが更に好ましい。

【００７４】溶解後は冷却しながら容器から取り出す
か、又は容器からポンプ等で抜き出して熱交換器などで
冷却し、これを製膜に供する。このときの冷却温度は常
温まで冷却してもよいが、沸点より５〜１０℃低い温度
まで冷却し、その温度のままキャスティングを行うほう
が、ドープ液の粘度を低減できるためより好ましい。

【００７５】流延（キャスト）工程に於ける支持体はベ
ルト状もしくはドラム状のステンレスを鏡面仕上げした
支持体が好ましく用いられる。キャスト工程の支持体の
温度は一般的な温度範囲０℃〜溶剤の沸点未満の温度で
流延することができるが、０〜３０℃の支持体上に流延
するほうが、ドープをゲル化させ剥離限界時間を短くで
きるため好ましく、５〜１５℃の支持体上に流延するこ
とが更に好ましい。剥離限界時間とは透明で平面性の良
好な光学フィルムを連続的に得られる流延速度の限界に
於いて、流延されたドープ液が支持体上にある時間をい
う。剥離限界時間は短い方が生産性に優れていて好まし
い。

【００７６】流延（キャスト）される側の支持体の表面
温度は１０〜５５℃、溶液の温度は２５〜６０℃が好ま
しく、更に溶液の温度を支持体の温度と同じ又はそれ以
上の温度にすることが好ましく、５℃以上の温度に設定
することが更に好ましい。

【００７７】溶液温度、支持体温度は高いほど溶媒の乾
燥速度が速くできるので好ましいが、あまり高すぎると
発泡したり、平面性が劣化する場合がある。

【００７８】前記支持体温度の更に好ましい範囲は２０
〜４０℃、溶液温度の更に好ましい範囲は３５〜４５℃
である。

【００７９】又、剥離する際の支持体温度を１０〜４０
℃、更に好ましくは１５〜３０℃にすることで光学フィ
ルムと支持体との密着力を低減できるので好ましい。

【００８０】製造時の光学フィルムが良好な平面性を示
すためには、支持体から剥離する際の残留溶媒量は１０
〜１５０％が好ましく、更に好ましくは８０〜１５０％
であり、特に好ましくは、１００〜１３０％である。残
留溶剤中に含まれる良溶剤の比率は５０〜９０％が好ま
しく、更に好ましくは６０〜９０％であり、特に好まし
くは７０〜８０％である。

【００８１】残留溶剤量はヘッドスペースサンプラーを
接続したガスクロマトグラフィーで測定することができ
る。本発明では、ヒューレット・パッカード社製ガスク
ロマトグラフィー５８９０型ＳＥＲＩＳIIとヘッドスペ
ースサンプラーＨＰ７６９４型を使用し、以下の測定条
件で行った。

【００８２】ヘッドスペースサンプラー加熱条件：１２
０℃、２０分 ＧＣ導入温度：１５０℃ 昇温：４０℃、５分間保持後、１００℃（８℃／分）へ カラム：Ｊ＆Ｗ社製ＤＢ−ＷＡＸ（内径０．３２ｍｍ、
長さ３０ｍ） 本発明に於いては、残留溶媒量は下記式で定義される。

【００８３】残留溶剤量＝（光学フィルムに含まれる溶
剤質量）／（加熱処理後の光学フィルム質量）×１００
％ 尚、残留溶剤量を測定する際の加熱処理とは、ガスクロ
マトグラフィーで測定後の光学フィルムを更に１１５℃
で１時間の加熱処理を行うことを表す。

【００８４】前記支持体と光学フィルムを剥離する際の
剥離張力は、通常１９６〜２４５Ｎ／ｍで剥離が行われ
るが、セルロースエステルの単位質量当たりの紫外線吸
収剤の含有量が多く、且つ、従来よりも薄膜化されてい
る本発明の光学フィルムは、剥離の際にシワが入りやす
いため、剥離できる最低張力から１６７Ｎ／ｍ以内の力
で剥離することが好ましく、更に好ましくは、最低張力
から１３７Ｎ／ｍ以内の力で剥離することである。

【００８５】又、光学フィルムの乾燥工程に於いては、
支持体より剥離した光学フィルムを更に乾燥し、残留溶
媒量を３質量％以下にすることが好ましく、更に好まし
くは、０．５質量％以下である。

【００８６】光学フィルム乾燥工程では一般にロール懸
垂方式、又はピンテンター方式で該フィルムを搬送しな
がら乾燥する方式が採られる。液晶表示部材用として
は、ピンテンター方式で幅を保持しながら乾燥させるこ
とが、寸法安定性を向上させるために好ましい。特に支
持体より剥離した直後の残留溶剤量の多いところで幅保
持を行うことが、寸法安定性向上効果をより発揮するた
め特に好ましい。

【００８７】光学フィルムを乾燥させる手段は特に制限
なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波
等で行う。簡便さの点で熱風で行うのが好ましい。乾燥
温度は４０〜１５０℃の範囲で３〜５段階の温度に分け
て、段々高くしていくことが好ましく、８０〜１４０℃
の範囲で行うことが寸法安定性を良くするため更に好ま
しい。

【００８８】本発明に於いて、上記のようにして製膜さ
れた光学フィルムの面内方向に於けるレターデーション
Ｒ₀（ｎｍ）は小さいほど好ましい。本発明の光学フィ
ルムは用途により１０００ｎｍ未満ものが適宜用いられ
る。偏光板保護フィルムとしては、Ｒ₀が２０ｎｍ未満
のものが好ましく、更に好ましくは１０ｎｍ未満である
ことが望まれる。特に好ましくは０〜５ｎｍのものが用
いられる。

【００８９】本発明の光学フィルムでは、製膜方向（長
手方向に相当する）と、フィルムの遅相軸とのなす角度
θが０度（長手方向）或いは９０度（幅手方向）に近い
ほど好ましい。ただし、θは製膜方向と遅相軸とがなす
狭い角度である。

【００９０】好ましくはθと面内方向のレターデーショ
ンＲ₀が下記の関係にあることがより好ましい。

【００９１】Ｐ≦１−ｓｉｎ²（２πθ／１８０）・ｓ
ｉｎ²（πＲ₀／λ） Ｐは０．９９９、λはＲ₀及びθを求めるための三次元
屈折率測定の際の光の波長５９０ｎｍである。更に好ま
しくはＰが０．９９９５であるときにθとＲ₀が上式を
満たすことが好ましく、更に好ましくはＰが０．９９９
８であるときにθとＲ₀が上式を満たすことが好まし
い。

【００９２】又、本発明のセルロースエステルフィルム
では厚み方向のリターデーションＲｔは０〜３００ｎｍ
であるものが好ましく、更に３０〜１５０ｎｍのものが
好ましく、特に４０〜１２０ｎｍであるものが特に好ま
しく用いられる。Ｒｔは液晶表示装置の設計に合わせ
て、適宜好ましい値のものが用いられる。

【００９３】尚、Ｒ₀、Ｒｔ、θは下記の方法で求める
ことができる。レターデーション値（Ｒｔ、Ｒ₀）及び
遅相軸角度の測定自動複屈折率計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤ
Ｈ（王子計測機器（株）製）を用いて試料を２３℃、５
５％ＲＨの環境下で、５９０ｎｍの波長に於いて３次元
屈折率測定を行い、遅相軸角θ及び屈折率Ｎｘ、Ｎｙ、
Ｎｚを求める。下記式（１）及び（２）に従って厚み方
向のレターデーション値Ｒｔと面内方向のレターデーシ
ョン値Ｒ₀を算出する。

【００９４】式（１） Ｒｔ値＝（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ）×ｄ 式（２） Ｒ₀値＝（Ｎｘ−Ｎｙ）×ｄ 式中、Ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、Ｎｙ
はフィルム面内の進相軸方向の屈折率、Ｎｚはフィルム
の厚み方向の屈折率、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）をそ
れぞれ表す。

【００９５】本発明の光学フィルムを位相差板（例えば
１／４λ板、１／２λ板等）として利用する場合は、Ｒ
₀が１００〜５００ｎｍのものが好ましく用いられ、θ
は約０度（長尺方向）、約４５度、約９０度（幅手方
向）であるものが用途或いは使用方法に応じて適宜選択
される。例えば、２枚の偏光板保護フィルムで偏光子を
サンドイッチして作られる偏光板に於いて、一方の偏光
板保護フィルムを１／４λ板とし、偏光子の透過軸方向
と１／４λ板の遅相軸方向とが約４５°となるように配
置されることによって円偏光板を得ることができる。

【００９６】本発明の光学フィルムには、セルロースエ
ステル以外のポリマーを含有させることが好ましい。本
発明に用いられるポリマーとは、モノマーを重合してな
るＭｗが４００〜５０００の高分子であり、オリゴマー
と呼ばれるものも含んでいる。重量平均分子量Ｍｗは４
００〜３０００であることがより好ましく、４００〜２
０００が更に好ましい。

【００９７】該ポリマーのＭｗ／Ｍｎは特に限定されな
いが、１〜５の範囲にあることが好ましく、２〜５の範
囲がより好ましく、３〜５の範囲が更に好ましい。

【００９８】該ポリマーのＭｚ／Ｍｗは特に限定されな
いが、１〜３の範囲にあることが好ましく、１〜２．５
の範囲がより好ましい。

【００９９】Ｍｗ、Ｍｎ、ＭｚはＧＰＣ（Ｇｅｌ Ｐｅ
ｒｍｅａｔｉｏｎ Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ）を
用いて通常の方法で測定することが出来る。

【０１００】該ポリマーの添加量は特に限定されない
が、セルロースエステルに対して１５〜５０質量％含有
することが好ましく、１５〜４５質量％がより好まし
く、２０〜４０質量％が更に好ましい。

【０１０１】本発明に用いられるポリマーの種類は特に
限定されないが、ポリエステル、ポリエステルエーテ
ル、ポリエステルウレタン、ポリウレタン、ビニルポリ
マー、アクリル酸ポリマー、メタクリル酸ポリマー、及
びこれらの共重合体などが挙げられる。これらのポリマ
ーの中でも、ポリエステル、ポリエステルエーテル、ビ
ニルポリマーが特に好ましい。

【０１０２】ポリエステルの種類は特に限定されない
が、例えば以下のようなものを好ましく用いることが出
来る。好ましい多塩基性酸としてはアジピン酸、セバシ
ン酸、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、トリメ
リット酸、ピロメリット酸、１，４−シクロヘキサンジ
カルボン酸、又はそれらの組み合わせ物などを挙げるこ
とが出来る。好ましい多価アルコールの例としては、エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、１，２−プ
ロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、
１，２−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコ
ール、１，４−ブチレングリコール、１，５−ペンタン
ジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シクロ
ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノー
ル、又はそれらの組み合わせなどを挙げることが出来
る。ポリマーの末端は１価の酸又は１価のアルコールで
修飾しても良い。

【０１０３】ポリエステルエーテルの種類は特に限定さ
れないが、例えば上記ポリエステルとエーテル単位を組
み合わせたものや、上記二塩基性酸とエーテル単位を重
合したポリエステルエーテルなどを好ましく用いること
が出来る。エーテル単位としては特に限定されないが、
例えばポリテトラメチレンエーテルグリコール、ポリエ
チレンエーテルグリコール、又はそれらの組み合わせな
どを挙げることが出来る。ポリマーの末端は１価の酸又
は１価のアルコールで修飾しても良い。

【０１０４】ビニルポリマーの種類は特に限定されない
が、例えば酢酸ビニルを含むビニルポリマーを好ましく
用いることが出来る。酢酸ビニルを含むビニルポリマー
は酢酸ビニルのホモポリマーでも良いし、他のモノマー
と共重合しても良い。共重合に用いられるモノマーは特
に限定されないが、例えばマレイン酸エステル、フマル
酸エステル、塩化ビニル、ビニルアルコール、ビニルア
ルコールエステル、アクリル酸エステル、メタクリル酸
エステルなどを挙げることが出来る。各モノマーは、炭
素数１〜４のアルキル基、又はベンゼン環を有する酸又
はアルコールでエステル化されていることが好ましい。

【０１０５】本発明に於いて、ポリマー以外に低分子の
可塑剤を添加してもよい。本発明に用いることのできる
低分子の可塑剤としては特に限定されないが、例えばリ
ン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、グ
リコレート系可塑剤などを好ましく用いることが出来
る。リン酸エステル系可塑剤では、トリフェニルホスフ
ェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニ
ルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジ
フェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフ
ェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル
系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチル
フタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレー
ト、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタ
レート、ブチルベンジルフタレート、ジベンジルフタレ
ート、グリコレート系可塑剤ではブチルフタリルブチル
グリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メ
チルフタリルエチルグリコレート等を好ましく用いるこ
とができる。これらの可塑剤は単独或いは２種以上混合
して用いることができる。

【０１０６】低分子可塑剤の使用量は、フィルム性能、
加工性等の点で、セルロースエステルに対して０〜２０
質量％が好ましい。液晶表示部材用としては、寸法安定
性の観点から１〜１５質量％が更に好ましく、特に好ま
しくは、２〜１２質量％である。

【０１０７】加工性とはベースフィルムや液晶表示部材
をスリット加工や打ち抜き加工する際の加工のしやすさ
のことで、加工性が悪いと切断面がノコギリ状になり切
り屑が発生し、製品に付着して異物故障となるため好ま
しくない。

【０１０８】本発明の光学フィルムは、高い寸法安定
性、良好な紫外線カット性能から液晶表示用部材に用い
られるのが好ましい。液晶表示用部材とは液晶表示装置
に使用される部材のことで、例えば、偏光板、偏光板用
保護フィルム、位相差板、反射板、視野角拡大フィル
ム、防眩フィルム、無反射フィルム、反射防止フィル
ム、帯電防止フィルム、輝度向上フィルム等が挙げられ
る。上記記載の中でも、寸法安定性に対しても厳しい要
求のある偏光板、偏光板用保護フィルム、位相差板、視
野角拡大フィルムに於いて、本発明の光学フィルムは更
に好ましく用いられる。

【０１０９】本発明に用いられる光学フィルムには、必
要ならばマット剤として微粒子を加えてもよい。本発明
に使用される微粒子の内、無機化合物の例として、二酸
化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコ
ニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、ク
レイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸
カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム
及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子は
ケイ素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に
二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平
均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０
ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次平均粒子
径は５〜１６ｎｍが好ましく、更に５〜１２ｎｍが好ま
しい。１次粒子の平均径が小さい方がヘイズが低く好ま
しい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットルが好まし
く、１００〜２００ｇ／リットルが更に好ましい。見か
け比重が大きい程高濃度の分散液を作ることが可能にな
り、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。

【０１１０】マット剤の添加量は１ｍ²当たり０．０１
〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ま
しく、０．０４〜０．１ｇが最も好ましい。

【０１１１】二酸化珪素の微粒子は、例えばアエロジル
Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、
２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００
（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されて
おり、使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒
子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上
日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、
使用することができる。

【０１１２】ポリマーの例として、シリコーン樹脂、弗
素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができるが、シリ
コーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有する
ものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０
５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同
２４０（以上東芝シリコーン（株）製）の商品名で市販
されており、使用することができる。

【０１１３】これらの中でアエロジル２００Ｖ、アエロ
ジルＲ９７２Ｖが光学フィルムの濁度を低く保ちなが
ら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましい。

【０１１４】（３）偏光板の作製方法 偏光板は、一般的な方法で作製することができる。例え
ば、本発明の光学フィルムをアルカリケン化処理し、沃
素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の両面に、完全
ケン化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わ
せる方法がある。アルカリケン化処理とは、このときの
水系接着剤の濡れを良くし、接着性を向上させるため
に、セルロースエステルフィルムを高温の強アルカリ液
中に浸ける処理のことをいう。

【０１１５】特に前記偏光板としては、第１の光学フィ
ルム、偏光子、第２の光学フィルムで形成され、前記第
１又は第２の光学フィルムが上述した本発明の光学フィ
ルムであることが好ましい。第１の光学フィルム又は第
２の光学フィルムを本発明の光学フィルムにすることに
よって、偏光膜を紫外線から保護することができる。更
に本発明の光学フィルムから作られた偏光板を液晶表示
装置に使用することによって、液晶セルを紫外線から保
護することができるため好ましい。

【０１１６】

【実施例】以下、実施例により本発明の態様を具体的に
説明するが、本発明はこれらにより限定されるものでは
ない。尚、以下の「部」は「質量部」を表す。

【０１１７】表１に実施例に使用される紫外線吸収剤の
分光吸収データを示す。

【０１１８】

【表１】

【０１１９】表１に於いて、ε（３８０ｎｍ）は３８０
ｎｍに於けるモル吸光係数を表し、ε（３８０ｎｍ）／
ε（４００ｎｍ）は３８０ｎｍに於けるモル吸光係数に
対する４００ｎｍに於けるモル吸光係数の比を表す。
尚、分光吸収の測定は塩化メチレン溶媒で行った。

【０１２０】表中の比較ＵＶ−１及び比較ＵＶ−２の構
造を下記に示す。

【０１２１】

【化１１】

【０１２２】 実施例１ 〈試料１〜１１の作製〉 （酸化珪素分散液） アエロジル２００Ｖ（日本アエロジル（株）製） １０部 （一次粒子の平均径１２ｎｍ、見掛け比重１００ｇ／リットル） エタノール ９０部 以上をディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、マント
ンゴーリンで分散を行った。分散後の液濁度は９３ｐｐ
ｍであった。

【０１２３】 （添加液Ａの作製） 紫外線吸収性ポリマー 比較ＵＶ−２（表１に記載） １０部 メチレンクロライド １００部 以上を密閉容器に投入し、加熱・撹拌しながら、完全に
溶解し、濾過した。これに酸化珪素分散液１０部を撹拌
しながら加えて、更に３０分間撹拌した後、濾過し、添
加液Ａを調製した。

【０１２４】 （ドープ液Ａの調製） リンター綿から合成されたセルローストリアセテート ８５部 木材パルプから合成されたセルローストリアセテート １５部 アジピン酸−１，３ブチレングリコールのポリエステル（Ｍｗ＝６００） １１．５部 メチレンクロライド ４７５部 エタノール ５０部 以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全
に溶解し、濾過し、ドープ液Ａを調製した。

【０１２５】（製膜工程）ドープ液Ａ１００部に対して
添加液Ａを２部を加えて、インラインミキサー（東レ静
止型管内混合機 Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ、ＳＷＪ）で十分混
合し、濾過した。次いで、ベルト流延装置を用い、温度
３３℃、１５００ｍｍ幅でステンレスバンド支持体に均
一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶媒量
が１００％になるまで溶媒を蒸発させ、剥離張力１２７
Ｎ／ｍでステンレスバンド支持体上から剥離した。剥離
したセルローストリアセテートフィルムを１３００ｍｍ
幅にスリットし、その後、ピンテンターで幅方向に１．
０５倍延伸し、その後、乾燥ゾーンを多数のロールで搬
送させながら乾燥を終了させ、１１００ｍｍ幅にスリッ
トし、セルローストリアセテートフィルム試料１を得
た。このときのセルローストリアセテートフィルムの膜
厚は４０μｍであった。

【０１２６】試料１の塗布液Ａの紫外線吸収剤比較ＵＶ
−２に換えて、表２に示すような紫外線吸収剤にした以
外は同様にして試料２〜１１を作製した。

【０１２７】〈評価〉得られた試料を下記に示す測定方
法に従って評価した。結果を下記の表２に示す。

【０１２８】《測定方法》 ・ＵＶ性能 Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ Ｕ−３２００
（日立製作所製）を用い、フィルムの分光吸収スペクト
ルを測定し、５００ｎｍと３８０ｎｍにおける透過率を
求め、以下のようにランク分けを行った。５００ｎｍの
透過率は高い程優れており、３８０ｎｍの透過率は低い
程優れている。 （５００ｎｍ透過率） Ａ・・・透過率９２％以上 Ｂ・・・透過率９０％以上９２％未満 Ｃ・・・透過率８５％以上９０％未満 Ｄ・・・透過率８５％未満 （３８０ｎｍ透過率） Ａ・・・透過率３％未満 Ｂ・・・透過率３％以上６％未満 Ｃ・・・透過率６％以上１０％未満 Ｄ・・・透過率１０％以上 ・輝点異物 偏光板２枚を直交状態（クロスニコル）に配置し、その
間に上記試料を置き、顕微鏡で２５ｍｍ²当たりの輝点
異物（白く抜けて見える異物）の数を１００ヶ所測定
し、その平均値を求めた。この時の顕微鏡の条件は倍率
３０倍で透過光源であった。輝点異物の数は少ないほど
良好な特性である。 ・耐久性 フィルム試料を８０℃、９０％ＲＨの高温高湿雰囲気下
に１０００時間放置前後のＹＩを評価し、ＹＩ変化を下
記のレベルにわけた。変化が少ないほど優れている。 （ＹＩ変化） ◎・・・変化が０．３未満 ○・・・変化が０．３以上０．６未満 △・・・変化が０．６以上１．０未満 ×・・・変化が１．０以上 尚、ＹＩの求め方は、Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔ
ｅｒ Ｕ−３２００（日立製作所製）を用い、ＪＩＳ
Ｋ７１０３に定められるフィルムのＹＩ（Ｙｅｌｌｏｗ
ｎｅｓｓ Ｉｎｄｅｘ：黄色みの指数）を下記式により
求める。

【０１２９】ＹＩ＝１００（１．２８Ｘ−１．０６Ｚ）
／Ｙ ここで、Ｘ、Ｙ、ＺはＪＩＳ Ｚ８７０１に定められた
光源色の三刺激値。

【０１３０】Ａ・・・１．０未満 Ｂ・・・１．０以上１．５未満 Ｃ・・・１．５以上 ・ロール汚れ １００００ｍのセルロースエステルフィルムを作製した
後、ステンレスバンド支持体から剥離したフィルムが接
する一本目のロールの汚れ具合を目視で観察し、以下の
ランクに分けて評価した。尚、Ａ〜Ｃは生産が続けられ
るレベルであり、Ｄは生産を中断してロールを清掃する
レベルである。

【０１３１】Ａ・・・ロールが汚れているのが全くわか
らない Ｂ・・・ロールが部分的に汚れているのがかすかにわか
る Ｃ・・・ロールが全面的に汚れているのがかすかにわか
る Ｄ・・・ロールが全面的に汚れているのがはっきりわか
る ・押され故障 １００００ｍのセルロースエステルフィルムを作製した
時点で、該フィルムをサンプリングし、得られたフィル
ム１ｍ²上に存在する３０μｍ以上の押され故障の数を
数えて求めた。 ・偏光板収率 １００００ｍセルロースエステルフィルムを作製した時
点で、１５００ｍ巻のセルロースエステルフィルム原反
を作製し、下記に記載するアルカリケン化処理、偏光板
の作製を行った。得られた偏光板を１５インチに打ち抜
き、１枚ずつ目視による外観検査を行った。外観検査は
偏光板１枚中に３０μｍ以上の欠陥が３個以上あった場
合に不良品とした。収率は下記の式で求めた。

【０１３２】収率（％）＝（良品枚数／（良品枚数＋不
良品枚数））×１００ （アルカリケン化処理） ケン化工程 ２ｍｏｌ／Ｌ−ＮａＯＨ ５０℃ ９０秒 水洗工程 水 ３０℃ ４５秒 中和工程 １０質量％ＨＣｌ ３０℃ ４５秒 水洗工程 水 ３０℃ ４５秒 上記条件でフィルム試料をケン化、水洗、中和、水洗の
順に行い、次いで８０℃で乾燥を行った。 （偏光板の作製）厚さ１２０μｍのポリビニルアルコー
ルフィルムを、沃素１ｋｇ、ホウ酸４ｋｇを含む水溶液
１００ｋｇに浸漬し、５０℃で６倍に延伸して偏光膜を
作った。この偏光膜の両面にアルカリケン化処理を行っ
たセルロースエステルフィルム試料を完全ケン化型ポリ
ビニルアルコール５％水溶液を粘着剤として各々貼り合
わせ偏光板を作製した。 ・画質 １５型ＴＦＴ型カラー液晶ディスプレイＬＡ−１５２９
ＨＭ（ＮＥＣ製）の偏光板を剥がし、液晶セルを挟むよ
うにして、前記作製した偏光板２枚を偏光板の偏光軸が
元と変わらないように互いに直交するように貼り付け、
１５型ＴＦＴ型カラー液晶ディスプレイを作製した。こ
のうち偏光板の１枚の片面にはアンチグレア加工を行っ
た。アンチグレア加工はアクリル系紫外線硬化樹脂に
０．２μｍと３．０μｍの二酸化珪素を分散した加工液
を作製し、乾燥膜厚２μｍになるように塗布し、紫外線
ランプで硬化処理を行った。アンチグレア加工した面は
液晶ディスプレイの最表面になるように貼り付けた。

【０１３３】この液晶ディスプレイをホワイト表示にし
て以下の基準で目視による画質の評価を行った。

【０１３４】Ａ・・・アンチグレア加工のムラが無く、
画面が見やすい Ｂ・・・アンチグレア加工のムラがかすかにあり、画面
がやや見えにくい Ｃ・・・アンチグレア加工のムラがあり、画面が明らか
に見えにくい

【０１３５】

【表２】

【０１３６】表２から明らかなように、本発明に於ける
紫外線吸収剤を使用した試料は偏光板として使用しても
充分実用に適していることが分かる。即ち、紫外線吸収
性能が充分でありながら剥離ロールや搬送ロールに不着
するという欠陥のないという優れた効果を奏している。
又、これを偏光板として使用しても、更に液晶表示装置
として使用しても優れた効果が得られることは上記から
明白である。

【０１３７】

【発明の効果】本発明によれば、光学フィルム表面から
紫外線吸収剤が析出するなどして剥離ロールや搬送ロー
ルに不着するという欠陥のない優れた紫外線吸収剤を採
用したため、良好な光学フィルムを効率的に提供するこ
とができるという顕著に優れた効果を奏する。又その光
学フィルムを利用した場合には、偏光板、或いは液晶表
示装置についても優れたものを製造することが可能とな
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 5/30 Ｇ０２Ｂ 5/30 Ｆターム(参考） 2H048 CA04 CA13 CA17 CA27 2H049 BA06 BA25 BA27 BB03 BB13 BB14 BB43 BB49 BB51 BB66 BC03 BC14 BC22 4F071 AA09 AB26 AC12 AE05 AE17 AH12 BA03 BB02 BC01 BC12 4J002 AB021 BF022 BG042 BG052 CF032 CF092 CK022 DE097 DE137 DE147 DE237 DH047 DJ007 DJ017 DJ037 DJ047 EU176 FD017 FD020 FD056 GP00 GQ00

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式１で示される紫外線吸収剤を
   含有することを特徴とする光学フィルム。 【化１】 式中、Ｒ₁₁は酸素原子、窒素原子、硫黄原子、又はカル
   ボニル基を介してベンゼン環上に置換する基を表し、Ｒ
   ₁₂は水素原子、脂肪族基、芳香族基、又はヘテロ環基を
   表し、Ｒ₁₃〜Ｒ₁₆は各々、水素原子、脂肪族基、芳香族
   基、又はヘテロ環基を表す。Ｒ₁₁〜Ｒ₁₆で示される基は
   置換基を有しても良いが、ハロゲン原子で置換されるこ
   とはない。ｎは１から４迄の整数を表す。
2. 【請求項２】 ３８０ｎｍに於けるモル吸光係数が１０
   ００以上であり、かつ３８０ｎｍに於けるモル吸光係数
   に対する４００ｎｍに於けるモル吸光係数の比が２０以
   上である紫外線吸収剤を含有することを特徴とする光学
   フィルム。
3. 【請求項３】 前記紫外線吸収剤がベンゾトリアゾール
   系紫外線吸収剤であることを特徴とする請求項２記載の
   光学フィルム。
4. 【請求項４】 前記ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤
   が下記一般式２で示されることを特徴とする請求項３記
   載の光学フィルム。 【化２】 式中、Ｒ₂₁はハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、又は
   硫黄原子を介してベンゼン環上に置換する基を表し、Ｒ
   ₂₂は水素原子、脂肪族基、芳香族基、又はヘテロ環基を
   表し、Ｒ₂₃、Ｒ₂₅及びＲ₂₆は各々独立に水素原子、又は
   ベンゼン環上に置換可能な基を表し、Ｒ₂₄は酸素原子、
   又は窒素原子を介してベンゼン環上に置換する基を表
   す。ｎは１から４迄の整数を表す。
5. 【請求項５】 下記一般式３で示される紫外線吸収剤を
   含有することを特徴とする光学フィルム。 【化３】 式中、Ｒ₃₁は酸素原子、窒素原子、硫黄原子、又はカル
   ボニル基を介してベンゼン環上に置換する基を表し、Ｒ
   ₃₂は水素原子、脂肪族基、芳香族基、又はヘテロ環基を
   表し、Ｒ₃₃、Ｒ₃₅及びＲ₃₆は各々独立に水素原子、又は
   ベンゼン環上に置換可能な基を表し、Ｒ₃₄は酸素原子、
   又は窒素原子を介してベンゼン環上に置換する基を表
   す。ｎは１から４迄の整数を表す。
6. 【請求項６】 前記紫外線吸収剤が、３８０ｎｍに於け
   るモル吸光係数が１０００以上であり、かつ３８０ｎｍ
   に於けるモル吸光係数に対する４００ｎｍに於けるモル
   吸光係数の比が２０以上であることを特徴とする請求項
   ５記載の光学フィルム。
7. 【請求項７】 １次平均粒子径が３〜２０ｎｍであり、
   かつ見かけ比重が７０〜３００ｇ／リットルである二酸
   化珪素微粒子を含有することを特徴とする請求項１〜６
   の何れか１項記載の光学フィルム。
8. 【請求項８】 光学フィルムがセルロースエステルフィ
   ルムであることを特徴とする請求項１〜７の何れか１項
   記載の光学フィルム。
9. 【請求項９】 前記セルロースエステルフィルムがセル
   ロースアセテートプロピオネートフィルムであることを
   特徴とする請求項８記載の光学フィルム。
10. 【請求項１０】 光学フィルムの膜厚が２０〜６５μｍ
    であることを特徴とする請求項１〜９の何れか１項記載
    の光学フィルム。
11. 【請求項１１】 第１の光学フィルム、偏光子、第２の
    光学フィルムを有する偏光板において、前記第１又は第
    ２の光学フィルムが請求項１〜１０の何れか１項記載の
    光学フィルムであることを特徴とする偏光板。
12. 【請求項１２】 偏光板を用いる表示装置に於いて、請
    求項１１に記載の偏光板を用いることを特徴とする表示
    装置。