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JP2001527578A - 有機材料の安定剤としての1−ヒドロカルビルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル基を有するブロックオリゴマー - Google Patents

有機材料の安定剤としての1−ヒドロカルビルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル基を有するブロックオリゴマー

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JP2001527578A
JP2001527578A JP50021299A JP50021299A JP2001527578A JP 2001527578 A JP2001527578 A JP 2001527578A JP 50021299 A JP50021299 A JP 50021299A JP 50021299 A JP50021299 A JP 50021299A JP 2001527578 A JP2001527578 A JP 2001527578A
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Abstract

(57)【要約】 次式(I): 〔式中、nは2ないし14の数を表し;R1は例えば炭素原子数1ないし18のアルキル基または炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基を表し;R2は例えば炭素原子数2ないし12のアルキレン基を表し;Aは例えばアセチル基、(炭素原子数1ないし4のアルコキシ)カルボニル基、(炭素原子数1ないし4のアルキル)アミノカルボニル基または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し;Bは−OR3基、−N(R4)(R5)基または次式: で表される基を表し;R3、R4およびR5は同一または相違して、例えば水素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基を表すか、または−N(R4)(R5)基はさらに次式: (式中、Yは−O−、−CH2−、−CH2CH2−または>N−CH3を表す)で表される基を表し;Xは−O−または>N−R6を表し;R6は例えば水素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基を表し;そしてRは好ましくは次式: で表される基を表すが;ただし式(I)中の個々の反復単位において、基B、R、R1およびR2の各々は同じか、または異なる意味を有する〕で表される化合物。上記化合物は有機材料、特に合成ポリマーのための光安定剤、熱安定剤および酸化安定剤として有用である。

Description

【発明の詳細な説明】 有機材料の安定剤としての1−ヒドロカルビルオキシ−2,2,6,6−テトラ メチル−4−ピペリジル基を有するブロックオリゴマー 本発明は1−ヒドロカルビルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピ ペリジル基を有するブロックオリゴマー、有機材料のための光安定剤、熱安定剤 および酸化安定剤としての上記化合物の使用、および安定化された有機材料に関 するものである。 2,2,6,6−テトラメチルピペリジンの誘導体での合成ポリマーの安定化 は、例えばUS−A−4086204号、US−A−4331586号、US− A−4335242号、US−A−4234707号、US−A−445939 5号、US−A−4492791号、US−A−5204473号、EP−A− 53775号、EP−A−357223号、EP−A−377324号、EP− A−462069号、EP−A−782994号およびGB−A−230110 6号に記載されている。 本発明は特に次式(I): 〔式中、nは2ないし14の数を表し、 基R1は互いに独立して水素原子またはヒドロカルビル基を表すか、または− O−R1はオキシル基を表し、 基R2は互いに独立して炭素原子数2ないし12のアルキレン基、炭素原子数 4ないし12のアルケニレン基、炭素原子数5ないし7のシクロアルキレン基、 炭素原子数5ないし7のシクロアルキレンジ(炭素原子数1ないし4のアルキレ ン)基、炭素原子数1ないし4のアルキレンジ(炭素原子数5ないし7のシクロ アルキレン)基、フェニレンジ(炭素原子数1ないし4のアルキレン)基または 1,4−ピペラジンジイル基、−O−もしくは>N−X1(X1は炭素原子数1な いし12のアシル基または(炭素原子数1ないし12のアルコキシ)カルボニル 基を表すか、または水素原子を除く下記のR4の定義の一つを有する)により中 断された炭素原子数4ないし12のアルキレン基を表すか、またはR2は次式( a)、(b)または(c): (式中、mは2または3を表し、 X2は炭素原子数1ないし18のアルキル基、非置換または1、2もしくは3 個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数5ないし1 2のシクロアルキル基;非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし 4のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基により置換された フェニル基;非置換またはフェニル基上で1、2もしくは3個の炭素原子数1な いし4のアルキル基により置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル 基を表し;そして 基X3は互いに独立して炭素原子数2ないし12のアルキレン基を表す)で表 される基を表し、 基Aは互いに独立して炭素原子数1ないし8のアシル基、(炭素原子数1ない し8のアルコキシ)カルボニル基、(炭素原子数5ないし12のシクロアルコキ シ)カルボニル基、(炭素原子数1ないし8のアルキル)アミノカルボニル基、 (炭素原子数5ないし12のシクロアルキル)アミノカルボニル基、(炭素原子 数7ないし9のフェニルアルキル)アミノカルボニル基、炭素原子数1ないし8 のアルキル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアル キル基により置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基;炭素原子 数3ないし6のアルケニル基、非置換またはフェニル基上で1、2もしくは3個 の炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数7ないし9の フェニルアルキル基;または−CH2CN基を表し、 Bは−OR3基、−N(R4)(R5)基または次式(II): で表される基を表し、 R3、R4およびR5は同一または相違して、水素原子、炭素原子数1ないし1 8のアルキル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のア ルキル基により置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基;炭素原 子数3ないし18のアルケニル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子 数1ないし4のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基により 置換されたフェニル基;非置換またはフェニル基上で1、2もしくは3個の炭素 原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数7ないし9のフェニ ルアルキル基;テトラヒドロフルフリル基または2、3もしくは4位で−OH基 、炭素原子数1ないし8のアルコキシ基、ジ(炭素原子数1ないし4のアルキル )アミノ基または次式(III): (式中、Yは−O−基、−CH2−基、−CH2CH2−基または>N−CH3基を 表す)で表される基により置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基を表す か、または−N(R4)(R5)基はさらに式(III)で表される基を表し、 Xは−O−基または>N−R6基を表し、 R6は水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし 18のアルケニル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4 のアルキル基により置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基;非 置換またはフェニル基上で1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアルキ ル基により置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基;テトラヒド ロフルフリル基または次式(IV): で表される基または2、3もしくは4位で−OH基、炭素原子数1ないし8のア ルコキシ基、ジ(炭素原子数1ないし4のアルキル)アミノ基または式(III )で表される基により置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基を表し、そ して 基Rは互いに独立してR6に対して定義された意味の一つを有するが、 ただし式(I)中の個々の反復単位において、基B、R、R1およびR2の各々 は同じか、または異なる意味を有する〕で表される化合物に関する。 式(I)中の個々の反復単位において、基B、R、R1およびR2の各々は好ま しくは同じ意味を有する。 式(I)中、基Rおよび次式: で表される基はランダム分布またはブロック分布を有し得る。 好ましくは炭素原子数1ないし18のヒドロカルビル基(hydrocarbyl)とし てのR1は例えば炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし1 8のアルケニル基、炭素原子数5ないし18のアルキニル基、非置換または炭素 原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数5ないし12のシク ロアルキル基;非置換または炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換され た炭素原子数5ないし12のシクロアルケニル基;炭素原子数6ないし10の二 環式または三環式ヒドロカルビル基、または非置換またはフェニル基上で炭素原 子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数7ないし9のフェニル アルキル基である。 炭素原子数18以下のアルキル基の例は、メチル基、エチル基、プロピル基、 イソプロピル基、ブチル基、2−ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、ペン チル基、2−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2−エチルヘ キシル基、第三オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、 トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基およびオクタデシル基である。 R1は好ましくは炭素原子数1ないし12のアルキル基、例えば炭素原子数6な いし12のアルキル基、特にヘプチル基またはオクチル基である。R6は好まし くは炭素原子数1ないし8のアルキル基、特に炭素原子数1ないし4のアルキル 基である。Aの好ましい意味の一つは炭素原子数1ないし4のアルキル基である 。 −OH基により置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基の例は2−ヒド ロキシエチル基である。 炭素原子数1ないし8のアルコキシ基、好ましくは炭素原子数1ないし4のア ルコキシ基、特にメトキシ基またはエトキシ基により置換された炭素原子数2な いし4のアルキル基の例は、2−メトキシエチル基、2−エトキシエチル基、3 −メトキシプロピル基、3−エトキシプロピル基、3−ブトキシプロピル基、3 −オクトキシプロピル基および4−メトキシブチル基である。 ジ(炭素原子数1ないし4のアルキル)アミノ基、好ましくはジメチルアミノ 基またはジエチルアミノ基により置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基 の例は、2−ジメチルアミノエチル基、2−ジエチルアミノエチル基、3−ジメ チルアミノプロピル基、3−ジエチルアミノプロビル基、3−ジブチルアミノプ ロピル基および4−ジエチルアミノブチル基である。 式(III)で表される基は好ましくは次式: で表されるものである。 式(III)で表される基により置換された炭素原子数2ないし4のアルキル 基の好ましい例は次式: で表される基である。次式: で表される基が特に好ましい。 非置換または1、2または3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により置 換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基の例は、シクロペンチル基 、メチルシクロペンチル基、ジメチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メ チルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、トリメチルシクロヘキシル 基、第三ブチルシクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロデシル基およびシ クロドデシル基である。非置換または置換されたシクロヘキシル基が好ましい。 炭素原子数6ないし10の二環式または三環式ヒドロカルビル基の好ましい例 は1,2,3,4−テトラヒドロナフテニル基である。 非置換または炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数 5ないし12のシクロアルケニル基の好ましい例はシクロヘキセニル基である。 炭素原子数18以下のアルケニル基の例は、アリル基、2−メチルアリル基、 ブテニル基、ヘキセニル基、ウンデセニル基およびオクタデセニル基である。1 位の炭素原子が飽和であるアルケニル基が好ましい。 炭素原子数5ないし18のアルキニル基の好ましい例はオクチニル基である。 1、2または3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基または炭素原子数1な いし4のアルコキシ基により置換されたフェニル基の例は、メチルフェニル基、 ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、第三ブチルフェニル基、ジ第三ブ チルフェニル基、3,5−ジ第三ブチル−4−メチルフェニル基、メトキシフェ ニル基、エトキシフェニル基およびブトキシフェニル基である。 非置換またはフェニル基上で1、2または3個の炭素原子数1ないし4のアル キル基により置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基の例は、ベ ンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、第 三ブチルベンジル基および2−フェニルエチル基である。ベンジル基が好ましい 。 炭素原子数12以下のアシル基(脂肪族,環状脂肪族または芳香族基)の例は 、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノニル基、ヘ キサノニル基、ヘプタノニル基、オクタノニル基およびベンゾイル基である。炭 素原子数1ないし8のアルカノイル基およびベンゾイル基が好ましい。アセチル 基が特に好ましい。 アルコキシカルボニル基の例は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル 基、プロポキシカルボニル基、プトキシカルボニル基、ペントキシカルボニル基 、ヘキソキシカルボニル基、ヘプトキシカルボニル基、オクトキシカルボニル基 、ノニルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、ウンデシルオキシカ ルボニル基およびドデシルオキシカルボニル基である。 (炭素原子数5ないし12のシクロアルコキシ)カルボニル基の特に好ましい 例はシクロヘキソキシカルボニル基である。(炭素原子数5ないし7のシクロア ルコキシ)カルボニル基が好ましい。 (炭素原子数1ないし8のアルキル)アミノカルボニル基の例は、メチルアミ ノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ブ チルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、ヘキシルアミノカルボ ニル基、ヘプチルアミノカルボニル基およびオクチルアミノカルボニル基である 。(炭素原子数1ないし4のアルキル)アミノカルボニル基が好ましい。 (炭素原子数5ないし12のシクロアルキル)アミノカルボニル基の特に好ま しい例は、シクロヘキシルアミノカルボニル基である。(炭素原子数5ないし7 のシクロアルキル)アミノカルボニル基が好ましい。 (炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル)アミノカルボニル基の特に好ま しい例はベンジルアミノカルボニル基である。 炭素原子数12以下のアルキレン基の例は、エチレン基、プロピレン基、トリ メチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタ メチレン基、デカメチレン基およびドデカメチレン基である。R2は例えば炭素 原子数2ないし8のアルキレン基または炭素原子数4ないし8のアルキレン基、 特に炭素原子数2ないし6のアルキレン基、好ましくはヘキサメチレン基である 。 炭素原子数4ないし12のアルケニレン基の例は3−ヘキセニレン基である。 炭素原子数5ないし7のシクロアルキレン基の例はシクロヘキシレン基である 。 1,4−ピペラジンジイル基により中断された炭素原子数4ないし12のアル キレン基の例は、次式: で表されるものである。 −O−、例えば1、2または3個の−O−により中断された炭素原子数4ない し12のアルキレン基の例は、3−オキサペンタン−1,5−ジイル基、4−オ キサヘプタン−1,7−ジイル基、3,6−ジオキサオクタン−1,8−ジイル 基、4,7−ジオキサデカン−1,10−ジイル基、4,9−ジオキサドデカン −1,12−ジイル基、3,6,9−トリオキサウンデカン−1,11−ジイル 基および4,7,10−トリオキサトリデカン−1,13−ジイル基である。 >N−X1により中断された炭素原子数4ないし12のアルキレン基の例は− CH2CH2CH2−N(X1)−CH2CH2−N(X1)−CH2CH2CH2−、特 に−CH2CH2CH2−N(CH3)−CH2CH2−N(CH3)−CH2CH2C H2−である。 炭素原子数5ないし7のシクロアルキレンジ(炭素原子数1ないし4のアルキ レン)基の例はシクロヘキシレンジメチレン基である。 炭素原子数1ないし4のアルキレンジ(炭素原子数5ないし7のシクロアルキ レン)基の例はメチレンジシクロヘキシレン基およびイソプロピリデンジシクロ ヘキシレン基である。 フェニレンジ(炭素原子数1ないし4のアルキレン)基の例はフェニレンジメ チレン基である。 変数nは好ましくは2ないし8、特に2ないし6の数である。 Rは好ましくは水素原子、炭素原子数1ないし10のアルキル基、シクロヘキ シル基または式(IV)で表される基、特に式(IV)で表される基である。 R1は好ましくは、水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原 子数5ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし18のアルキニル基、非 置換または炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数5な いし12のシクロアルキル基;非置換または炭素原子数1ないし4のアルキル基 により置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルケニル基;炭素原子を6 ないし10個有する二環式または三環式ヒドロカルビル基または非置換またはフ ェニル基上で炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数7 ないし9のフェニルアルキル基であるか、または−O−R1基はオキシルである 。 R1は特に水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、非置換またはメチ ル基により置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基;シクロヘキセ ニル基、α−メチルベンジル基または1,2,3,4−テトラヒドロナフテニル 基であり、例えばメチル基、オクチル基またはシクロヘキシル基である。 Aは好ましくはアセチル基、(炭素原子数1ないし4のアルコキシ)カルボニ ル基、(炭素原子数1ないし4のアルキル)アミノカルボニル基または炭素原子 数1ないし4のアルキル基であり、特にアセチル基または(炭素原子数1ないし 4のアルキル)アミノカルボニル基である。 基Bは好ましくは次式: で表される基である。 上記式(I)中、 R2が炭素原子数2ないし12のアルキレン基、炭素原子数5ないし7のシク ロアルキレン基、炭素原子数5ないし7のシクロアルキレンジ(炭素原子数1な いし4のアルキレン)基、炭素原子数1ないし4のアルキレンジ(炭素原子数5 ないし7のシクロアルキレン)基またはフェニレンジ(炭素原子数1ないし4の アルキレン)基を表し、 Aが炭素原子数1ないし8のアシル基、(炭素原子数1ないし8のアルコキシ )カルボニル基、(炭素原子数5ないし7のシクロアルコキシ)カルボニル基、 (炭素原子数1ないし4のアルキル)アミノカルボニル基、(炭素原子数5ない し7のシクロアルキル)アミノカルボニル基、ベンジルアミノカルボニル基、炭 素原子数1ないし6のアルキル基、炭素原子数5ないし7のシクロアルキル基、 アリル基またはベンジル基を表し、 R3、R4およびR5が同一または相違して、水素原子、炭素原子数1ないし1 2のアルキル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のア ルキル基により置換された炭素原子数5ないし7のシクロアルキル基;炭素原子 数3ないし12のアルケニル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数 1ないし4のアルキル基により置換されたフェニル基;非置換またはフェニル基 上で炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換されたベンジル基;テトラヒ ドロフルフリル基または2もしくは3位で−OH基、炭素原子数1ないし4のア ルコキシ基、ジ(炭素原子数1ないし4のアルキル)アミノ基もしくは式(II I)で表される基により置換された炭素原子数2もしくは3のアルキル基を表す か、または−N(R4)(R5)基がさらに式(III)で表される基を表し、そ して R6が水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル基、非置換または1、2 もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数 5ないし7のシクロアルキル基;非置換またはフェニル基上で1、2もしくは3 個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換されたベンジル基;テトラヒ ドロフルフリル基、式(IV)で表される基または2もしくは3位で−OH基、 炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、ジ(炭素原子数1ないし4のアルキル) アミノ基もしくは式(III)で表される基により置換された炭素原子数2もし くは3のアルキル基を表す化合物が好ましい。 上記式(I)中、 R2が炭素原子数2ないし8のアルキレン基を表し、 Aが炭素原子数1ないし8のアシル基、(炭素原子数1ないし8のアルコキシ )カルボニル基、シクロヘキソキシカルボニル基、(炭素原子数1ないし4のア ルキル)アミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、ベンジルア ミノカルボニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基、シクロヘキシル基、ア リル基またはベンジル基を表し、 R3、R4およびR5が同一または相違して、水素原子、炭素原子数1ないし 8のアルキル基、非置換またはメチル基により置換されたシクロヘキシル基、炭 素原子数3ないし8のアルケニル基、非置換またはメチル基により置換されたフ ェニル基、ベンジル基、テトラヒドロフルフリル基または2もしくは3位で−O H基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミ ノ基もしくは4−モルホリニル基により置換された炭素原子数2もしくは3のア ルキル基を表すか、または−N(R4)(R5)基がさらに4−モルホリニル基を 表し、そして R6が水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、非置換またはメチル基 により置換されたシクロヘキシル基、ベンジル基、テトラヒドロフルフリル基、 式(IV)で表される基または2もしくは3位で−OH基、炭素原子数1ないし 4のアルコキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基もしくは4−モルホリ ニル基により置換された炭素原子数2もしくは3のアルキル基を表す化合物もま た好ましい。 式(I)で表される他の好ましい化合物は、式中、 nが2ないし6の数を表し、 Rが式(IV)で表される基を表し、 R2が炭素原子数2ないし6のアルキレン基を表し、 Aが炭素原子数1ないし8のアシル基、(炭素原子数1ないし8のアルコキシ )カルボニル基、(炭素原子数1ないし4のアルキル)アミノカルボニル基、炭 素原子数1ないし4のアルキル基またはアリル基を表し、 Bが−N(R4)(R5)基または式(II)で表される基を表し、 R4およびR5が同一または相違して、水素原子、炭素原子数1ないし8のアル キル基、2−ヒドロキシエチル基または2−メトキシエチル基を表すか、または −N(R4)(R5)基がさらに4−モルホリニル基を表し、 Xが>NR6基を表し、そして R6が炭素原子数1ないし4のアルキル基を表すものである。 式(I)で表される特に好ましい化合物は、式中、 nが2ないし6の数を表し、 Rが式(IV)で表される基を表し、 R1がメチル基、オクチル基またはシクロヘキシル基を表し、 R2が炭素原子数2ないし6のアルキレン基を表し、 Aが炭素原子数1ないし8のアシル基、(炭素原子数1ないし8のアルコキシ )カルボニル基、(炭素原子数1ないし4のアルキル)アミノカルボニル基また は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し、 Bが−N(R4)(R5)基または式(II)で表される基を表し、 R4およびR5が同一または相違して、炭素原子数1ないし8のアルキル基を表 すか、または−N(R4)(R5)基がさらに4−モルホリニル基を表し、 Xが>NR6基を表し、そして R6炭素原子数1ないし4のアルキル基を表すものである。 式(I)式中、 nが2ないし6の数を表し、 Rが式(IV)で表される基を表し、 R1がメチル基、オクチル基またはシクロヘキシル基を表し、 R2が炭素原子数2ないし6のアルキレン基を表し、 Aが炭素原子数1ないし8のアシル基または(炭素原子数1ないし4のアルキ ル)アミノカルボニル基を表し、 Bが式(II)で表される基を表し、 Xが>NR6基を表し、そして R6が炭素原子数1ないし4のアルキル基を表す化合物もまた特に好ましい。 多分散性(多分散度,polydispersity)はポリマー化合物の分子量分散を示す 。本出願において、多分散性は重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn) の比である。Mw/Mnの値が1であることは、その化合物が単分散性であり、 そして1つの分子量のみを有し、かつ分子量分散がないことを意味する。狭い分 子量分散は1に近似する多分散性Mw/Mnにより特徴づけられる。 一般に、本発明の化合物は多分散性Mw/Mnにより制限されない。 式(I)に相当する化合物は、多分散性Mw/Mnが1で、かつnが2、3、 4、5、6、7、8、9、10、11、12、13または14である単分散性化 合物であっても、分子量分散を有する多分散性化合物であってもよい。そのよう な多分散性化合物は例えば変数nによってのみ異なる上記式(I)で表される少 なくとも3種の異なる単分散性化合物を含有する混合物に相当する。該混合物の 多分散性Mw/Mnは例えば1.1ないし1.7、1.1ないし1.65、1. 1ないし1.6、1.1ないし1.55または1.1ないし1.5である。nは この混合物において好ましくは2、4および6である。 多分散性Mw/Mnに対するその他の例は1.2ないし1.7、例えば1.2 ないし1.65、1.2ないし1.6、1.2ないし1.55または1.2ない し1.5である。 本発明の化合物は例えば以下の方法によって製造され得る。 方法1):次式(IV): で表される基を既に有する出発物質を使用する。 方法2):出発物質として次式(I−0): (式中、n、AおよびR2は上記と同じ意味を有し、そしてR*およびB*は本明 細書で下に定義される意味を表す)で表されるブロックオリゴマーを使用し、そ して該ブロックオリゴマーに存在する次式(IV−0): で表される基を式(IV)で表される基に変える。 上記混合物は方法1)に従って以下のように調製され得る: 1)次式(α): で表される化合物を次式(β): で表される化合物と化学量論的比率で反応させて次式(γ): で表される化合物を得、 2)式(γ)で表される化合物を式(β)で表される化合物と1:2ないし1: 3、好ましくは1:2ないし1:2.5のモル比で、特に1:2のモル比で反応 させて、nが2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13または 14であるか、または2、3、4、5、6、7、8、9、10、11または12 であるか、好ましくは2、3、4、5、6、7、8、9または10であるか、ま たは好ましくは2、3、4、5、6、7または8、特に2、4および6である次 式(δ):で表される少なくとも3種の異なる単分散性化合物からなる混合物を得、 3)2)で得られた混合物を次式(ε): A’−X’ (ε) で表される化合物と、または次式(ζ): A”−NCO (ζ) で表される化合物と、およそ化学量論的比率で反応させて、所望の混合物を得る 。 上記各式において、 基R、R1、R2およびBは上で定義したものと同じ意味を表し、 X’は脱離基、例えばハロゲン原子、特に塩素原子を表し、 A’は炭素原子数1ないし8のアシル基、(炭素原子数1ないし8のアルコキ シ)カルボニル基、(炭素原子数5ないし12のシクロアルコキシ)カルボニル 基、炭素原子数1ないし8のアルキル基、非置換または1、2または3個の炭素 原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数5ないし12のシク ロアルキル基、炭素原子数3ないし6のアルケニル基、非置換またはフェニル基 上で1、2または3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭 素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、または−CH2CN基を表し、そし て A”は炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロ アルキル基または炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表す。 反応1)ないし3)は無機塩基の存在下、有機溶媒中で行われるが、ただし反応 3)において式(ζ)で表される化合物が適用される場合、反応3)は無機塩基 なしで行われる。 Aが炭素原子数1ないし8のアシル基を表す場合、反応3)はまた、式(ε) で表される化合物の代わりに試薬として対応する酸無水物を用いて行われてもよ い。 Aがメチル基を表す場合、式(I)で表される化合物はまた、ホルムアルデヒ ド/ギ酸の混合物を式(δ)で表される化合物と、例えばUS−A−51304 29号またはUS−A−3898303号に記載されるように反応させることに より製造されてもよい。 適当な有機溶媒の例は、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、イソプロ ピルベンゼン、ジイソプロピルベンゼン、そして特に水溶性有機ケトン、例えば メチルイソブチルケトンである。キシレンが好ましい。 無機塩基の例は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウムおよび 炭酸カリウムである。水酸化ナトリウムが好ましい。式(α)中の基BがXが酸 素原子である式(II)で表される基である場合、反応1)および2)において 無機塩基として炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウムを使用することが適当である 。 反応1)は例えば40℃ないし70℃、好ましくは50℃ないし60℃の温度 で行われる。 反応2)は例えば110℃ないし180℃、好ましくは140℃ないし160 ℃の温度で行われる。 式(ε)で表される反応物が反応3)で使用される場合、該反応3)は、必要 に応じて密閉容器内で例えば60℃ないし180℃、好ましくは146℃ないし 160℃の温度で行われる。 式(ζ)で表される反応物が反応3)で使用される場合、該反応3)は、例え ば0℃ないし60℃、好ましくは0℃ないし25℃の温度で行われる。 可能性のある副生成物は次式(Id)および(Ie):で表される化合物である。 これらの化合物の各々は全体の混合物に対して例えば30モル%まで、好まし くは20モル%まで、10モル%まで、または8モル%までの量で混合物中に存 在し得る。 式(α)で表される化合物は、例えば塩化シアヌルを化合物B−Hと化学量論 的比率で有機溶媒および無機塩基の存在下に反応させることにより製造され得る 。 式(α)で表される化合物の製造は、上記反応1)ないし3)におけるものと 同じ溶媒および同じ無機塩基を用いることが適当である。 一般に、上記の方法において使用される出発物質は公知である。それらが市販 されていない場合、公知方法と同様にして製造され得る。 Bが式(II)で表される基である式(α)で表される出発物質の製造のため に、ならびに式(β)で表される出発物質の製造のために、例えば次式(S−I ): で表される化合物を使用することが適当である。 式(S−I)で表される化合物は例えば1−オキシル−2,2,6,6−テト ラメチル−4−ピペリドンをヒドロペルオキシド、好ましくは第三ブチルヒドロ ペルオキシドと、ペルオキシド分解触媒、例えばMoO3の存在下、炭化水素溶 媒中で反応させることにより製造され得る。R1の意味は使用される炭化水素溶 媒に依存する。例えば、R1がシクロヘキシル基である場合、使用される炭化水 素溶媒はシクロヘキサンである。一般に、式(S−I)で表される化合物の製造 は参照により本明細書により編入されるUS−A−4921962号に記載され るものと類似の方法で行われてもよい。 1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリドンを炭化水素ラ ジカルとカップリングすることにより式(S−I)で表される化合物を製造する こともできる。そのような反応の原理は例えばR.L.Kinney等によってJ.Am.C hem.Soc.,1978,100,7902-7915(ヨウ化アルキルとトリn−ブチルスズヒド リドとの反応)に、およびD.W.Grattan等によってJ.Polym.Degrad.and Sta bility 1979,69(ジ第三ブチルペルオキシドおよびシクロヘキサンの溶液の光 分解)に記載されている。上記の反応は例えばUS−A−5021577号(実 施例5および16)ならびにUS−A−5204473号(実施例7ないし10 )に開示され、そして適当な出発物質を使用することにより式(S−I)で表さ れる化合物の製造に適用され得る。 R1がメチル基を表す場合、式(S−I)で表される化合物の製造は1−オキ シル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリドンを過酸化水素と、ジメチ ルスルホキシド中の硫酸鉄七水和物の存在下で反応させることにより、例えばU S−A−5374729号に開示されるように好都合に行われる。 1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリドンの製造は例え ばNature 196,472-474,Chemical Abstracts 58:56264およびBeilstein BIII/I V 21 3279に記載されている。 以下の例S−AおよびS−Bは式(S−I)で表される化合物の製造をより詳 細に説明する。 例S−A(出発物質): 1−メトキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリドンの製造 5.0リットルの4つ口機械的攪拌フラスコに1−オキシル−2,2,6,6 −テトラメチル−4−ピペリドン(300g,1.76モル)、硫酸鉄七水和物 (513.7g,1.85モル)およびジメチルスルホキシド(1450g)を 仕込む。過酸化水素30%(279.2g,2.46モル)を1時間45分かけ て添加する。温度を29−32℃に維持する。内容物を25−30℃でさらに3 0分間攪拌し、そして次に10℃未満に冷却する。水(1250ml)を添加し 、そして混合物を酢酸エチル750mlで4回に分けて抽出する。一緒にした抽 出物を2×1.0LのH2O、次に1×500mlの飽和NaClで洗浄し、次 いで無水のMgSO4で乾燥する。酢酸エチルを蒸発させ、生成物を蒸留する( 82−84℃/0.33×10-2bar)と、淡黄色油状物254gが得られる (収率:理論値の78%;IRスペクトル:ケトンカルボニル,1710cm-1 )。 例S−B(出発物質): 1−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリドンの 製造 シクロヘキサン(215ml,2.0モル)、第三ブチルヒドロペルオキシド 70%水溶液(77.1g,0.6モル)、三酸化モリブデン(1.44g,0 .01モル)および1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリ ドン(34g,0.2モル)の混合物を、バレットトラップを備えた500ml フラスコに仕込む。混合物をそれ以上水が収集されなくなるまで還流下(80℃ )で2時間攪拌する。次に、混合物を重力により加圧ビン中に濾過し、そして三 酸化モリブデン(1.44g,0.01モル)を添加する。次に混合物を攪拌下 に105℃(2.34bar)まで加熱し、そして色が濃い橙色から淡い黄色に 変化するまで5時間保持する。混合物を濾過し、そして透明な溶液を亜硫酸ナト リウム10%水溶液(100ml)で、次に水(2×50ml)で洗浄する。得 られた透明溶液を硫酸ナトリウムで乾燥させ、そして次に濃縮して目的物質50 gを透明黄色油状物として得る(マススペクトル:m/e=253)。 より詳細には、Bが式(II)で表される基である式(α)で表される出発物 質は次式: に相当する。 Xが基>N−R6である場合、そのような化合物は例えば下記のようにスキー ム1に従って製造され得る。 スキーム1: スキーム1の反応a)は例えばEP−A−309402号(特に実施例45お よび46)に記載の方法と同様に行われ得、そしてスキーム1の反応b)はUS −A−4086204号に記載された方法と同様に行われ得る。 Xが酸素原子である式(α−I)で表される化合物は、例えば下記のようにス キーム2に従って製造され得る。 スキーム2: Lは例えばアルカリ金属塩、例えばリチウム、ナトリウムまたはカリウムであ る。反応は不活性有機溶媒、例えばトルエン、キシレンまたはトリメチルベンゼ ン中−20℃ないし70℃、好ましくは0℃ないし60℃の温度で、適当なモル 比の反応物を用いて行われ得る。 式(S−II)で表される化合物は、例えば適当な4−ヒドロキシピペリジン 誘導体をアルカリアルコレートまたはアルカリ金属と、不活性有機溶媒、例えば トルエン、キシレンまたはトリメチルベンゼン中、還流温度で処理し、同時に反 応の間に形成されたアルコールを留去することにより得られ得る。4−ヒドロキ シピペリジン誘導体の製造はEP−A−309402号(特に実施例12)に記 載の方法と同様に行われ得る。 Rが例えば式(IV)で表される基である式(β)で表される出発物質は例え ばスキーム3に従って製造され得る: スキーム3: 反応物は例えばEP−A−309402号(特に実施例45)に記載の方法と 同様に行われ得る。式(β−1)で表される化合物は公知であり、そしてそれら の多くが市販されて利用可能である。式(β−1)で表されるいくつかの化合物 はWO−A−95/21157号、US−A−4316837号およびUS−A −4743688号に記載されている。 多分散性Mw/Mnが1の式(I)で表される化合物は上記化合物を着実に構 築することにより製造され得る。そのような操作の代表的な例を以下に示す: nが2である式(δ)で表される中間体は次式: に相当し、そして式(γ)で表される化合物を式(β)で表される化合物とモル 比1:10ないし1:50、好ましくは1:20ないし1:40、特に1:20 ないし1:35で反応させることにより製造され得る。反応は例えば有機溶媒中 または溶媒なしでそのまま、無機塩基の存在下で行われてもよい。溶媒および/ または式(β)で表される過剰な反応物は適当な条件での蒸留により除去され得 る。有機溶媒の例はトルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、イソプロピルベ ンゼンおよびジイソプロピルベンゼンである。キシレンが好ましい。無機塩基の 例は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウム である。水酸化ナトリウムが好ましい。反応は例えば110℃ないし180℃、 好ましくは140℃ないし160℃の温度で行われる。 続いて、得られた中間体を上記反応3)の条件に従ってアシル化剤またはアル キル化剤と好都合に反応させる。 特定の多分散性により特徴づけられない式(I)で表される化合物は、例えば 式(α)で表される化合物を10モル%まで過剰な式(β)で表される化合物と 分子の構築を制御せずに反応させることにより製造され得る。引続き、得られた 生成物を上記の式(ε)または(ζ)で表される化合物と反応させてもよい。 本発明の好ましい態様は以下のように行われる方法2)により得られる生成物 に関する: 式(I−0): に相当するブロックオリゴマーに存在する次式(IV−0): で表される基を式(IV): (式中、R1はヒドロカルビル基を表すか、または−O−R1はオキシル基を表す )で表される基に変更するが、 該変更は炭化水素溶媒中、過酸化物分解触媒の存在下で式(I−0)に相当する ブロックオリゴマーとヒドロペルオキシドとの反応により行われ; 上記式中、 nは2ないし14の数を表し、 基R2は互いに独立して炭素原子数2ないし12のアルキレン基、炭素原子数 4ないし12のアルケニレン基、炭素原子数5ないし7のシクロアルキレン基、 炭素原子数5ないし7のシクロアルキレンジ(炭素原子数1ないし4のアルキレ ン)基、炭素原子数1ないし4のアルキレンジ(炭素原子数5ないし7のシクロ アルキレン)基、フェニレンジ(炭素原子数1ないし4のアルキレン)基または 1,4−ピペラジンジイル基、−O−もしくは>N−X1(X1は炭素原子数1な いし12のアシル基または(炭素原子数1ないし12のアルコキシ)カルボニル 基を表すか、または下記のR4の定義の一つを有する)により中断された炭素原 子数4ないし12のアルキレン基を表すか、またはR2は次式(a)、(b)ま たは(c): (式中、mは2または3を表し、 X2は炭素原子数1ないし18のアルキル基、非置換または1、2もしくは3 個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数5ないし1 2のシクロアルキル基;非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし 4のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基により置換された フェニル基;非置換またはフェニル基上で1、2もしくは3個の炭素原子数1な いし4のアルキル基により置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル 基;そして 基X3は互いに独立して炭素原子数2ないし12のアルキレン基を表す)で表 される基を表し、 基Aは互いに独立して炭素原子数1ないし8のアシル基、(炭素原子数1ない し8のアルコキシ)カルボニル基、(炭素原子数5ないし12のシクロアルコキ シ)カルボニル基、(炭素原子数1ないし8のアルキル)アミノカルボニル基、 (炭素原子数5ないし12のシクロアルキル)アミノカルボニル基、(炭素原子 数7ないし9のフェニルアルキル)アミノカルボニル基、炭素原子数1ないし8 のアルキル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアル キル基により置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基;炭素原子 数3ないし6のアルケニル基、非置換またはフェニル基上で1、2もしくは3個 の炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数7ないし9の フェニルアルキル基;または−CH2CN基を表し、 B*は−OR3基、−N(R4)(R5)基または次式(II−0): で表される基を表し、 R3、R4およびR5は同一または相違して、炭素原子数1ないし18のアルキ ル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基 により置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基;炭素原子数3な いし18のアルケニル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ない し4のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基により置換され たフェニル基;非置換またはフェニル基上で1、2もしくは3個の炭素原子数1 ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキ ル基;テトラヒドロフルフリル基または2、3もしくは4位で−OH基、炭素原 子数1ないし8のアルコキシ基、ジ(炭素原子数1ないし4のアルキル)アミノ 基または次式(III): (式中、Yは−O−基、−CH2−基、−CH2CH2−基または>N−CH3基を 表す)で表される基により置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基を表し 、そしてR3はさらに水素原子を表すか、または−N(R4)(R5)基はさらに 式(III)で表される基を表し、 X*は−O−基または>N−R6 *基を表し、 R6 *は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアル ケニル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアルキル 基により置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基;非置換または フェニル基上で1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により 置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基;テトラヒドロフルフリ ル基または式(IV−0)で表される基または2、3もしくは4位で−OH基、 炭素原子数1ないし8のアルコキシ基、ジ(炭素原子数1ないし4のアルキル) アミノ基または式(III)で表される基により置換された炭素原子数2ないし 4のアルキル基を表し、そして 基R*は互いに独立してR6 *に対して定義された意味の一つを有するが、 ただし式(I−0)中の個々の反復単位において、基B*、R*およびR2の各 々は同じか、または異なる意味を有する。 本発明の好ましい態様は方法2)により得られる下記の生成物に関し、該生成 物は式中、 R2が炭素原子数2ないし12のアルキレン基、炭素原子数5ないし7のシク ロアルキレン基、炭素原子数5ないし7のシクロアルキレンジ(炭素原子数1な いし4のアルキレン)基、炭素原子数1ないし4のアルキレンジ(炭素原子数5 ないし7のシクロアルキレン)基、フェニレンジ(炭素原子数1ないし4のアル キレン)基、または−O−もしくは>N−X1(X1は炭素原子数1ないし12の アシル基または(炭素原子数1ないし12のアルコキシ)カルボニル基を表すか 、またはR4の定義の一つを有する)により中断された炭素原子数4ないし12 のアルキレン基を表すか、またはR2が式(b)で表される基を表し、 R3、R4およびR5が同一または相違して、炭素原子数1ないし18のアルキ ル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基に より置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基;非置換または1、 2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基もしくは炭素原子数1ない し4のアルコキシ基により置換されたフェニル基:非置換またはフェニル基上で 1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素 原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表し、そしてR3がさらに水素原子を 表すか、または−N(R4)(R5)基がさらに式(III)で表される基を表し 、 R6 *が炭素原子数1ないし18のアルキル基、非置換または1、2もしくは3 個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数5ないし1 2のシクロアルキル基;非置換またはフェニル基上で1、2もしくは3個の炭素 原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数7ないし9のフェニ ルアルキル基、または式(IV−0)で表される基を表す。 本発明の別の好ましい態様は方法2)により得られる生成物に関し、該生成物 は式中、 R2が炭素原子数2ないし10のアルキレン基、シクロヘキシレン基、シクロ ヘキシレンジ(炭素原子数1ないし4のアルキレン)基、炭素原子数1ないし4 のアルキレンジシクロヘキシレン基またはフェニレンジ(炭素原子数1ないし4 のアルキレン)基を表し、 R3、R4およびR5が同一または相違して、炭素原子数1ないし12のアルキ ル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基に より置換された炭素原子数5ないし7のシクロアルキル基;非置換または1、2 もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換されたフェニル基 ;非置換またはフェニル基上で炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換さ れたベンジル基を表すか、または−N(R4)(R5)基がさらに式(III)で 表される基を表し、そして R6 *が炭素原子数1ないし12のアルキル基、非置換または1、2もしくは3 個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数5ないし7 のシクロアルキル基;非置換またはフェニル基上で1、2もしくは3個の炭素原 子数1ないし4のアルキル基により置換されたベンジル基、または式(IV−0 )で表される基を表す。 本発明の別の好ましい態様はまた、方法2)により得られる生成物に関し、該 生成物は式中、 R2が炭素原子数2ないし6のアルキレン基を表し、 B*が−N(R4)(R5)基または式(II−0)で表される基を表し、 R4およびR5が同一または相違して、炭素原子数1ないし8のアルキル基を表 すか、または−N(R4)(R5)基がさらに4−モルホリニル基を表し、 X*が>NR6 *基を表し、 R6 *が炭素原子数1ないし8のアルキル基を表す。 R*は好ましくは式(IV−0)で表される基であり、そしてB*は好ましくは X*が>N−(炭素原子数1ないし4のアルキル)基である式(II−0)で表 される基である。 式(IV−0)で表される基の式(IV)で表される基への変更は例えば参照 により本明細書に編入されるUS−A−4921962号に記載されるものと類 似の方法で行われてもよい。 R1の意味は使用される炭化水素溶媒によって決まる。R1は好ましくは炭素原 子数5ないし18のヒドロカルビル基である。 R1は特に炭素原子数5ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし18の アルケニル基、炭素原子数5ないし18のアルキニル基、非置換または炭素原子 数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数5ないし12のシクロア ルキル基、非置換または炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭 素原子数5ないし12のシクロアルケニル基、炭素原子数6ないし10の二環式 または三環式ヒドロカルビル基または非置換またはフェニル基上で炭素原子数1 ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキ ル基であり、そして 炭化水素溶媒はR1に応じて炭素原子数5ないし18のアルカン、炭素原子数 5ないし18のアルケン、炭素原子数5ないし18のアルキン、非置換または炭 素原子数1ないし4のアルキルにより置換された炭素原子数5ないし12のシク ロアルカン、非置換または炭素原子数1ないし4のアルキルにより置換された炭 素原子数5ないし12のシクロアルケン、炭素原子数6ないし10の二環式また は三環式炭化水素または非置換またはフェニル基上で炭素原子数1ないし4のア ルキル基により置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルカンである。 R1はまた好ましくは、ヘプチル基、オクチル基、シクロヘキシル基、メチル シクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロヘキセニル基、α−メチルベンジ ル基または1,2,3,4−テトラヒドロナフテニル基であり、そして炭化水素 溶媒は従ってR1に対応してヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシク ロヘキサン、シクロオクタン、シクロヘキセン、エチルベンゼンまたはテトラリ ンである。 本発明の他の好ましい態様によれば、R1はシクロヘキシル基またはオクチル 基であり、そして炭化水素溶媒はR1に応じてシクロヘキサンまたはオクタンで ある。 −O−R1がオキシル基である場合、炭化水素溶媒は不活性有機溶媒が好都合 であり、好ましくはトルエンまたは1,2−ジクロロエタンである。 ペルオキシド分解触媒は、例えば金属カルボニル、金属酸化物、金属アセチル アセトネートまたは金属アルコキシドであり、上記金属は周期表のIVb、Vb 、VIb、VIIbおよびVIII族から選択され、好ましくはバナジウム(I II)アセチルアセトネート、コバルトカルボニル、酸化クロム(VI)、チタ ン(IV)イソプロポキシド、チタンテトラブトキシド、モリブデンヘキサカル ボニル、三酸化モリブデン等である。最も好ましい触媒はMoO3である。 適当なヒドロペルオキシドは第三ブチルヒドロペルオキシド、第三アミルヒド ロペルオキシド、第三ヘキシルヒドロペルオキシド、第三オクチルヒドロペルオ キシド、エチルベンゼンヒドロペルオキシド、テトラリンヒドロペルオキシドま たはクメン(=イソプロピルベンゼン)ヒドロペルオキシドである。最も好まし いヒドロペルオキシドは第三ブチルヒドロペルオキシドである。 2ないし8モル、好ましくは3ないし6モルのヒドロペルオキシド、0.00 1ないし0.1モル、好ましくは0.005ないし0.05モルのペルオキシド 分解触媒および5ないし30モル、好ましくは10ないし20モルの炭化水素溶 媒が、例えば式(I−0)に相当するブロックオリゴマーに存在する次式(IV −0): で表されるヒンダードアミン部分1モルあたり適用される。 式(IV−0)で表されるヒンダードアミン部分の次式: で表される基への変更(転移)は例えば75℃ないし160℃、好ましくは10 0℃ないし150℃で行われる。 式(IV−0)で表されるヒンダードアミン部分が水性ヒドロペルオキシドと 不活性有機溶媒中ペルオキシド分解触媒の存在下で最初に処理される場合(例え ばUS−A−4691015号に記載された方法と同様に)、比較的短時間で得 られる初期反応生成物は、強く着色され、かつそれ自体が単離され得る対応する N−オキシル中間体(−OR1=オキシル基)である。 有機溶媒が不安定な水素原子を有する炭化水素である場合、アミンを対応する N−オキシル誘導体に変換するのに必要とされる量以上の十分にモル過剰なヒド ロペルオキシドが残留する場合、および反応混合物が適度な温度(好ましくは1 00℃ないし150℃)でさらに加熱される場合、さらなる反応がN−オキシル 誘導体(最初のアミンからその場で製造されるものか、または工程中に初期の開 始中間体として使用されるもののいずれか)と炭化水素溶媒との間で生じて対応 するN−ヒドロカルビルオキシ誘導体が得られる。 最初の反応混合物は無色であるが、N−オキシル中間体が形成されるにつれ強 く着色されてくる。この色はN−オキシル化合物が無色のN−ヒドロカルビルオ キシ生成物に変換されると消失する。従って、本質的にこの方法は反応の程度を 示す内蔵の(ビルトイン)呈色指示薬を有する。反応混合物が無色になったとき 、着色N−オキシル中間体がN−ヒドロカルビルオキシ生成物に完全に変換され たことを示す。 本発明の態様はまた、方法2)により得られる生成物に水素添加することによ り得られる生成物であり、該生成物は式(IV)中の−OR1がオキシル基であ り、次式(IV−1): で表される基を有する生成物が得られる。 水素添加は公知方法、例えば有機溶媒、例としてメタノールまたはエタノール 中、水素添加触媒、好ましくは、例えばUS−A−4691015号に記載され ているような炭素上のパラジウムまたはPtO2の存在下で行われる。 米国特許出願第08/994977号およびEP特許出願第97810989 .0号に記載されている式(I−0)に相当するブロックオリゴマー出発物質は 、多分散性Mw/Mnが1で、かつnが例えば2、3、4、5、6、7、8、9 、10、11、12、13または14である単分散性化合物であっても、分子量 分散を有する多分散性化合物であってもよい。好ましくは上記ブロックオリゴマ ー出発物質は、例えば、変数nによってのみ異なる式(I−0)で表される少な くとも3種の異なる単分散性化合物を含有する混合物を意味する多分散性化合物 であり、該混合物は例えば1ないし1.7、例として1.1ないし1.65、1 .1ないし1.6、1.1ないし1.55または1.1ないし1.5または1. 2ないし1.7、例として1.2ないし1.65、1.2ないし1.6、1.2 ないし1.55または1.2ないし1.5の多分散性Mw/Mnを有する。 例えば多分散性Mw/Mnが1より大きく1.7までの値を有する式(I−0 )に相当する多分散性ブロックオリゴマー出発物質は例えば以下のように製造さ れ得る: 1*)次式(α*): で表される化合物を次式(β*): で表される化合物と化学量論的比率で反応させて次式(γ*): で表される化合物を得、 2*)式(γ*)で表される化合物を式(β*)で表される化合物と1:2ないし 1:3、好ましくは1:2のモル比で反応させて、nが2、3、4、5、6、7 、8、9、10、11、12、13または14であるか、特に2、4および6で ある次式(δ*): で表される少なくとも3種の異なる単分散性化合物からなる混合物を得、 3*)2*)で得られた混合物を次式(ε): A’−X’ (ε) で表される化合物と、または次式(ζ): A”−NCO (ζ) で表される化合物と、およそ化学量論的比率で反応させて、所望の混合物を得る 。 上記各式において、 R*、R2およびB*は上記式(I−0)において定義したものと同じ意味を表 し、 X’は脱離基、例えばハロゲン原子、特に塩素原子を表し、 A’は炭素原子数1ないし8のアシル基、(炭素原子数1ないし8のアルコキ シ)カルボニル基、(炭素原子数5ないし12のシクロアルコキシ)カルボニル 基、炭素原子数1ないし8のアルキル基、非置換または1、2または3個の炭素 原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数5ないし12のシク ロアルキル基、炭素原子数8ないし6のアルケニル基、非置換またはフェニル基 上で1、2または3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭 素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、または−CH2CN基を表し、そし て A”は炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロ アルキル基または炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表す。 反応1*)ないし3*)は無機塩基の存在下、有機溶媒中で行われるが、ただし反 応3*)において式(ζ)で表される化合物が適用される場合、該反応3*)は無 機塩基なしで行われる。 反応1)ないし3)に対して方法1)に上で示した注意事項は反応1*)ない し3*)にも当てはまる。 式(I−0)に相当する特に好ましいブロックオリゴマー出発物質は、例えば 1.1ないし1.7のMw/Mnを有する多分散性化合物である。そのような多 分散性化合物は例えば少なくとも3種の異なる単分散性化合物を含有する混合物 である。該単分散性化合物は反復単位の数においてのみ異なり、そして a)次式(SM−Ia): で表される化合物 b)次式(SM−Ib): で表される化合物、および c)次式(SM−Ic): で表される化合物 (式中、A、B*、R*およびR2は上記と同じ意味を表し、そして式(SM−I a)の化合物:(SM−Ib)の化合物:(SM−Ic)の化合物のモル比は2 :2:1.5ないし2:0.5:0.05、好ましくは2:1.5:1ないし2 :0.5:0.08、特に2:1:0.5ないし2:0.5:0.08である) である。 式(SM−Ia)で表される化合物、(SM−Ib)で表される化合物および 式(SM−Ic)で表される化合物を含有する上記混合物を方法2)に従う出発 物質として使用する場合、 a)次式(Ia): で表される化合物、 b)次式(Ib): で表される化合物、および c)次式(Ic): で表される化合物を含有する混合物が得られ、該混合物は本発明の別な態様であ る。式(Ia)、式(Ib)および式(Ic)で表される化合物は反復単位の数 においてのみ相違し、式(Ia)の化合物:式(Ib)の化合物:式(Ic)の 化合物のモル比は2:2:1.5ないし2:0.5:0.05、好ましくは2: 1.5:1ないし2:0.5:0.08、特に2:1:0.5ないし2:0.5 :0.08であり、そして 基R1は水素原子またはヒドロカルビル基を表すか、または−O−R1基はオキ シルを表し、 基R2は炭素原子数2ないし12のアルキレン基、炭素原子数4ないし12の アルケニレン基、炭素原子数5ないし7のシクロアルキレン基、炭素原子数5な いし7のシクロアルキレンジ(炭素原子数1ないし4のアルキレン)基、炭素原 子数1ないし4のアルキレンジ(炭素原子数5ないし7のシクロアルキレン)基 、フェニレンジ(炭素原子数1ないし4のアルキレン)基または1,4−ピペラ ジンジイル基、−O−もしくは>N−X1(X1は炭素原子数1ないし12のア シル基または(炭素原子数1ないし12のアルコキシ)カルボニル基を表すか、 または下記のR4の定義の一つを有する)により中断された炭素原子数4ないし 12のアルキレン基を表すか、またはR2は次式(a)、(b)または(c): (式中、mは2または3を表し、 X2は炭素原子数1ないし18のアルキル基、非置換または1、2もしくは3 個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数5ないし1 2のシクロアルキル基;非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし 4のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基により置換された フェニル基;非置換またはフェニル基上で1、2もしくは3個の炭素原子数1な いし4のアルキル基により置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル 基を表し、そして 基X3は互いに独立して炭素原子数2ないし12のアルキレン基を表す)で表 される基を表し、 Aは炭素原子数1ないし8のアシル基、(炭素原子数1ないし8のアルコキシ )カルボニル基、(炭素原子数5ないし12のシクロアルコキシ)カルボニル基 、(炭素原子数1ないし8のアルキル)アミノカルボニル基、(炭素原子数5な いし12のシクロアルキル)アミノカルボニル基、(炭素原子数7ないし9のフ ェニルアルキル)アミノカルボニル基、炭素原子数1ないし8のアルキル基、非 置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換 された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基;炭素原子数3ないし6のア ルケニル基、非置換またはフェニル基上で1、2もしくは3個の炭素原子数1な いし4のアルキル基により置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル 基;または−CH2CN基を表し、 Bは−OR3基、−N(R4)(R5)基または次式(II): で表される基を表し、 R3、R4およびR5は同一または相違して、炭素原子数1ないし18のアルキ ル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基に より置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基;炭素原子数3ない し18のアルケニル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし 4のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基により置換された フェニル基;非置換またはフェニル基上で1、2もしくは3個の炭素原子数1な いし4のアルキル基により置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル 基;テトラヒドロフルフリル基または2、3もしくは4位で−OH基、炭素原子 数1ないし8のアルコキシ基、ジ(炭素原子数1ないし4のアルキル)アミノ基 または次式(III): (式中、Yは−O−基、−CH2−基、−CH2CH2−基または>N−CH3基を 表す)で表される基により置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基を 表し、そしてR3はさらに水素原子を表すか、または−N(R4)(R5)基はさ らに式(III)で表される基を表し、 Xは−O−基または>N−R6基を表し、 R6は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアル ケニル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアルキル 基により置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基;非置換または フェニル基上で1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により 置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基;テトラヒドロフルフリ ル基または次式(IV): で表される基または2、3もしくは4位で−OH基、炭素原子数1ないし8のア ルコキシ基、ジ(炭素原子数1ないし4のアルキル)アミノ基もしくは式(II I)で表される基により置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基を表し、 そして RはR6に対して定義された意味の一つを有する。 好ましいのは式中、 Rが次式(IV):で表される基を表し、 R1がオクチル基またはシクロヘキシル基を表し、 R2が炭素原子数2ないし6のアルキレン基を表し、 Aが炭素原子数1ないし8のアシル基または(炭素原子数1ないし4のアルキ ル)アミノカルボニル基を表し、 Bが次式(II): で表される基を表し、 Xが>NR6基を表し、そして R6が炭素原子数1ないし4のアルキル基を表す、混合物である。 ブロックオリゴマー出発物質(式(SM−Ia)、式(SM−Ib)および式 (SM−Ic)で表される化合物を含有する混合物)に存在する次式(IV−0 ): で表される基を次式(IV):で表される基に変換した後、式(Ia)の化合物:式(Ib)の化合物:式(I c)の化合物の比率は、上記最初の式(SM−Ia)の化合物:式(SM−Ib )の化合物:式(SM−Ic)の化合物の比率に相当する。それはこれらの化合 物の骨格が反応の間に影響を受けないためである。 本発明に係る混合物において、基R1は式(Ia)、式(Ib)および/また は(Ic)で表される2またはそれ以上のブロックオリゴマーの間の連結基とし て作用し得る。この場合、次式(L−I): で表される橋が上記ブロックオリゴマー間に形成される。 R1 *の意味はR1の意味から誘導され得る。これらの2種類の基間の唯一の相 違は、R1 *が1または2の追加の原子価を有していることである。従って、シク ロヘキシル基R1はシクロヘキサンジイル基またはシクロヘキサントリイル基R1 * に対応し、そしてオクチル基R1はオクタンジイル基またはオクタントリイル基 R1 *に対応する。 本発明の生成物ならびに上記混合物は、有機材料、特に合成ポリマーおよびコ ポリマーの耐光性、耐熱性および酸化耐性の改良において非常に有効である。特 に低い顔料相互作用ならびに非常に良好な色彩がポリプロピレン、特にポリプロ ピレン繊維において、とりわけ難燃剤の存在下ならびに農業用途のための低密度 ポリエチレン(LDPE)フィルムにおいて観察される。さらに本発明の生成物 はそれ自身が難燃剤であることは注目すべきことである。 安定化され得る有機材料の例は以下のとおりである: 1.モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポ リイソブチレン、ポリブテン−1、ポリ−4−メチルペンテン−1、ポリイソプ レンまたはポリブタジエン、並びにシクロオレフィン例えばシクロペンテンまた はノルボルネンのポリマー、ポリエチレン(非架橋でも架橋されていてもよい) 、例えば高密度ポリエチレン(HDPE)、高密度高分子量ポリエチレン(HD PE−HMW)、高密度超高分子量ポリエチレン(HDPE−UHMW)、中密 度ポリエチレン(MDPE)、低密度ポリエチレン(LDPE)、線状低密度ポ リエチレン(LLDPE)、(VLDPE)および(ULDPE)。 ポリオレフィン、すなわち前項に例示したモノオレフィンのポリマー、好まし くはポリエチレンおよびポリプロピレンは異なる方法、特に以下の方法により製 造され得る: a)ラジカル重合(通常、高温高圧下)。 b)周期表のIVb、Vb、VIbまたはVIII族の金属1種以上を通常含有 する触媒を用いる接触重合。これらの金属は通常1以上の配位子、典型的にはπ (パイ)−またはσ(シグマ)−配位されていてよい酸化物、ハロゲン化物、ア ルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよび/また はアリールを有する。これらの金属錯体は遊離体であっても、または基質、典型 的には活性化塩化マグネシウム、塩化チタン(III)、アルミナまたは酸化ケ イ素に固定されていてもよい。これらの触媒は重合化媒体に可溶性であっても、 不溶性であってもよい。触媒は重合においてそれ自体が使用され得、またその他 の活性化剤、典型的には金属アルキル、金属水素化物、金属アルキルハロゲン化 物、金属アルキル酸化物または金属アルキルオキサンが使用され得る(上記金属 は周期表のIa、IIaおよび/またはIIIa族の元素である)。活性化剤は その他のエステル、エーテル、アミンまたはシリルエーテル基で変性されてもよ い。上記触媒系は通常フィリップス、スタンダード・オイル・インディアナ、チ ーグラー(−ナッタ)、TNZ(デュポン)、メタロセンまたはシングルサイト 触媒(SSC)と呼ばれている。 2.前項1.に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブ チレンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物(例えばPP/H DPE,PP/LDPE)および異なる種類のポリエチレンの混合物(例えばL DPE/HDPE)。 3.モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニルモノマーとのコポリマ ー、例えばエチレン/プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン(LLD PE)およびこれと低密度ポリエチレン(LDPE)との混合物、プロピレン/ ブテン−1コポリマー、プロピレン/イソブチレンコポリマー、エチレン/ブテ ン−1コポリマー、エチレン/ヘキセンコポリマー、エチレン/メチルペンテン コポリマー、エチレン/ヘプテンコポリマー、エチレン/オクテンコポリマー、 プロピレン/ブタジエンコポリマー、イソブチレン/イソプレンコポリマー、エ チレン/アルキルアクリレートコポリマー、エチレン/アルキルメタクリレート コポリマー、エチレン/酢酸ビニルコポリマーおよびそれらの一酸化炭素とのコ ポリマーまたはエチレン/アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類(アイオノ マー)、並びにエチレンとプロピレンとジエン例えばヘキサジエン、ジシクロペ ンタジエンまたはエチリデンノルボルネンとのターポリマー;および上記コポリ マー相互の、および項1.に記載のポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン /エチレン−プロピレンコポリマー、LDPE/エチレン−酢酸ビニルコポリマ ー(EVA)、LDPE/エチレン−アクリル酸コポリマー(EAA)、LLD PE/EVA、LLDPE/EAAおよび交互またはランダムポリアルキレン/ 一酸化炭素コポリマー、およびそれらとその他のポリマー例えばポリアミドとの 混合物。 4.炭化水素樹脂(例えば炭素原子数5ないし9のもの)およびそれらの水素化 変性体(例えば粘着付与剤)およびポリアルキレンとデンプンとの混合物。 5.ポリスチレン、ポリ(p−メチルスチレン)、ポリ(α−メチルスチレン) 。 6.スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたはアクリル誘導体とのコポ リマー、例えばスチレン/ブタジエン、スチレン/アクリロニトリル、スチレン /アルキルメタクリレート、スチレン/ブタジエン/アルキルアクリレート、ス チレン/ブタジエン/アルキルメタクリレート、スチレン/無水マレイン酸、ス チレン/アクリロニトリル/メチルアクリレート;スチレンコポリマーと別のポ リマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン/プロピレン /ジエンターポリマーの高耐衝撃性混合物;およびスチレンのブロックコポリマ ー例えばスチレン/ブタジエン/スチレン、スチレン/イソプレン/スチレン、 スチレン/エチレン/ブチレン/スチレンまたはスチレン/エチレン/プロピレ ン/スチレン。 7.スチレンまたはα−メチルスチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタ ジエンにスチレン、ポリブタジエン/スチレンまたはポリブタジエン/アクリロ ニトリルコポリマーにスチレン、ポリブタジエンにスチレンおよびアクリロニト リル(またはメタクリロニトリル);ポリブタジエンにスチレン、アクリロニト リルおよびメチルメタアクリレート;ポリブタジエンにスチレンおよび無水マレ イン酸;ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸ま たはマレイン酸イミド;ポリブタジエンにスチレンおよびマレイン酸イミド、ポ リブタジエンにスチレンおよびアルキルアクリレートまたはメタクタレート;エ チレン/プロピレン/ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル; ポリアルキルアクリレートまたはポリアルキルメタクリレートにスチレンおよび アクリロニトリル、アクリレート/ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアク リロニトリル、並びにこれらと項6.に列挙したコポリマーとの混合物、例えば ABS、MBS、ASAまたはAESポリマーとして知られているコポリマー混 合物。 8.ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩素化ゴム、イソブチレ ン−イソプレンの塩素化および臭素化コポリマー(ハロブチルゴム)、塩素化ま たはスルホ塩素化ポリエチレン、エチレンと塩素化エチレンとのコポリマー、エ ピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、特にハロゲン含有ビニル化合物のポ リマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリ フッ化ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩化ビニル/塩化ビニリデ ン、塩化ビニル/酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン/酢酸ビニルコポリマー。 9.α,β−不飽和酸およびその誘導体から誘導されるポリマー、例えばポリア クリレートおよびポリメタアクリレート;ブチルアクリレートで耐衝撃性に変性 されたポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニト リル。 10.前項9.に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和モノマーとのコポリマ ー、例えばアクリロニトリル/ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル/アル キルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル/アルコキシアルキルアクリレ ートまたはアクリロニトリル/ハロゲン化ビニルコポリマーまたはアクリロニト リル/アルキルメタアクリレート/ブタジエンターポリマー。 11.不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのアシル誘導体もしくはアセ タールから誘導されるポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル 、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、 ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン;並び にこれらと項1.に記載したオレフィンとのコポリマー。 12.環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、例えばポリアルキレング リコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス グリシジルエーテルとのコポリマー。 13.ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン、およびコモノマーとしてエ チレンオキシドを含むポリオキシメチレン;熱可塑性ポリウレタン、アクリレー トまたはMBSで変性されたポリアセタール。 14.ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド、およびポリフェニレンオキシ ドとスチレンポリマーまたはポリアミドとの混合物。 15.一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエーテル、ポリエステルま たはポリブタジエンと他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネート とから誘導されるポリウレタン、並びにそれらの前駆体。 16.ジアミンおよびジカルボン酸および/またはアミノカルボン酸または相当 するラクタムから誘導されたポリアミドおよびコポリアミド、例えばポリアミド 4、ポリアミド6、ポリアミド6/6、6/10、6/9、6/12、4/6、 12/12、ポリアミド11、ポリアミド12、m−キシレン、ジアミンおよび アジピン酸から出発する芳香族ポリアミド;ヘキサメチレンジアミンとイソフタ ル酸および/またはテレフタル酸とから、場合により変性剤としてエラストマー を添加して製造されたポリアミド、例えばポリ−2,4,4−トリメチルヘキサ メチレンテレフタルアミドまたはポリ−m−フェニレンイソフタルアミド。上記 ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマーまたは化学 結合化もしくはグラフト化エラストマーとの、またはポリエーテル、例えばポリ エチレングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリ コールとのブロックコポリマー;並びにEPDMまたはABSで変性させたポリ アミドまたはコポリアミド;および加工の間に縮合したポリアミド(RIMポリ アミド系)。 17.ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエ ステルイミド、ポリヒダントインおよびポリベンズイミダゾール。 18.ジカルボン酸およびジオールおよび/またはヒドロキシカルボン酸から誘 導されたポリエステルまたは相当するラクトン、例えばポリエチレンテレフタレ ート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1,4−ジメチロールシクロヘキサ ンテレフタレート、ポリヒドロキシベンゾエート、並びにヒドロキシ末端ポリエ ーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル;およびポリカーボネー トまたはMBSで変性されたポリエステル。 19.ポリカーボネートおよびポリエステルカーボネート。 20.ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリエーテルケトン。 21.一方の成分としてアルデヒドおよび他方の成分としてフェノール、尿素お よびメラミンから誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール−ホルムアルデヒ ド樹脂、尿素−ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン−ホルムアルデヒド樹脂。 22.乾性および不乾性アルキド樹脂。 23.飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとのコポリエステルおよ び架橋剤としてのビニル化合物から誘導された不飽和ポリエステル樹脂、および 容易に燃焼しないそれらのハロゲン含有変性物。 24.置換アクリレート、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート またはポリエステルアクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。 25.メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネート、イソシアヌレート、ポリイソ シアネートまたはエポキシ樹脂と架橋されたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂お よびアクリレート樹脂。 26.脂肪族、環状脂肪族、複素環式または芳香族グリシジル化合物から誘導さ れた架橋エポキシ樹脂、例えばビスフェノールAおよびビスフェノールFのジグ リシジルエーテルの生成物であって、慣用の硬化剤、例えば無水物またはアミン で、そして促進剤を用いて、または用いずに架橋されたもの。 27.天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム、ゼラチンおよびこれらの化学的 に変性させた重合同族体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースおよ び酪酸セルロースまたはセルロースエーテル例えばメチルセルロース;並びにロ ジンおよびそれらの誘導体。 28.前記したポリマーの混合物(ポリブレンド)、例えばPP/EPDM、ポ リアミド/EPDMまたはABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PVC/ MBS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC/ASA、PC/PBT、PV C/CPE、PVC/アクリレート、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑性 PUR、POM/アクリレート、POM/MBS、PPO/HIPS、PPO/ PA6.6およびコポリマー、PA/HDPE、PA/PP、PA/PPO、P BT/PC/ABSまたはPBT/PET/PC。 29.純単量体化合物または該化合物の混合物である天然および合成有機材料、 例えば鉱油、動物および植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成エステル( 例えばフタレート、アジペート、ホスフェートまたはトリメリテート)をベース としたオイル、脂肪およびワックス、並びにあらゆる重量比にある合成エステル と鉱油との混合物で、それらは典型的には紡績用組成物として、並びにこのよう な材料の水性エマルジョンとして使用される。 30.天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例えばカルボキシル化スチレン /ブタジエンコポリマーの天然ラテックス。 従って本発明はまた、光、熱または酸化により誘導される分解を受けやすい有 機材料と本発明に係る生成物または混合物とを含有する組成物に関する。 有機材料は好ましくは合成ポリマー、特に上記の群から選択される1種である 。ポリオレフィンが好ましく、そしてポリエチレンおよびポリプロピレンが特に 好ましい。 本発明の別の態様は、本発明に係る生成物または混合物を有機材料に配合する ことからなる、前記有機材料を光、熱または酸化により誘導される分解から安定 化する方法である。 本発明に係る生成物または混合物は、安定化されるべき材料の性質に応じて種 々の比率で最終使用時および他の添加剤の存在時に使用され得る。 一般に、安定化されるべき材料の重量に対して本発明に係る生成物または混合 物を例えば0.01ないし5重量%、好ましくは0.05ないし2重量%、特に 0.05ないし1重量%使用することが適当である。 本発明に係る生成物または混合物は、例えば、上記ポリマー有機材料に、該材 料の重合もしくは架橋前、重合もしくは架橋中または重合もしくは架橋後に添加 され得る。さらに、それは、そのままの形態またはワックス、オイルもしくはポ リマー中にカプセル化されてポリマー材料中に配合され得る。 一般に、本発明に係る生成物または混合物は種々の方法、例えば粉末の形態で の乾式混合、または溶液または懸濁液の形態またはマスターバッチの形態での湿 式混合によりポリマー材料中に配合され得(この場合、本発明に係る生成物また は混合物を2.5ないし25重量%の濃度で含有する)、そのような操作におい て、上記ポリマーは粉末、顆粒、溶液、懸濁液の形態、またはラテックスの形態 で使用され得る。 本発明に係る生成物または混合物で安定化された材料は成形品、フィルム、テ ープ、単繊維、繊維、表面コーティング等の製造のために使用され得る。 所望するならば、合成ポリマーのために慣用の他の添加剤、例えば酸化防止剤 、UV吸収剤、ニッケル安定剤、顔料、充填剤、可塑剤、腐食防止剤および金属 不活性化剤が本発明に係る生成物または混合物を含有する有機材料に添加され得 る。 上記慣用の添加剤の特定の例は以下のとおりである: 1.酸化防止剤 1.1.アルキル化モノフェノールの例 2,6−ジ−第三ブチル−4−メチルフェノール、2−第三ブチル−4,6−ジ メチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−4−エチルフェノール、2,6− ジ−第三ブチル−4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−4−イ ソブチルフェノール、2,6−ジシクロペンチル−4−メチルフェノール、2− (α−メチルシクロヘキシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオク タデシル−4−メチルフェノール、2,4,6−トリシクロヘキシルフェノール 、2,6−ジ−第三ブチル−4−メトキシメチルフェノール、側鎖が線状でも分 岐していてもよいノニルフェノール、例えば2,6−ジノニル−4−メチルフェ ノール、2,4−ジメチル−6−(1’−メチルウンデシ−1’−イル)フェノ ール、2,4−ジメチル−6−(1’−メチルヘプタデシ−1’−イル)フェノ ール、2,4−ジメチル−6−(1’−メチルトリデシ−1’−イル)フェノー ルおよびその混合物。 1.2.アルキルチオメチルフェノールの例 2,4−ジオクチルチオメチル−6−第三ブチルフェノール、2,4−ジオクチ ルチオメチル−6−メチルフェノール、2,4−ジオクチルチオメチル−6−エ チルフェノール、2,6−ジドデシルチオメチル−4−ノニルフェノール。 1.3.ヒドロキノンおよびアルキル化ヒドロキノンの例 2,6−ジ第三ブチル−4−メトキシフェノール、2,5−ジ第三ブチルヒドロ キノン、2,5−ジ第三アミルヒドロキノン、2,6−ジフェニル−4−オクタ デシルオキシフェノール、2,6−ジ第三ブチルヒドロキノン、2,5−ジ−第 三ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ アニソール、3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルステアレート、ビ ス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)アジペート。 1.4.トコフェロールの例 α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェ ロールおよびそれらの混合物(ビタミンE) 1.5.ヒドロキシル化チオジフェニルエーテルの例 2,2’−チオビス(6−第三ブチル−4−メチルフェノール)、2,2’−チ オビス(4−オクチルフェノール)、4,4’−チオビス(6−第三ブチル−3 −メチルフェノール)、4,4’−チオビス(6−第三ブチル−2−メチルフェ ノール)、4,4’−チオビス(3,6−ジ第二アミルフェノール)、4,4’ −ビス(2,6−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ジスルフィド。 1.6.アルキリデンビスフェノールの例 2,2’−メチレンビス(6−第三ブチル−4−メチルフェノール)、2,2’ −メチレンビス(6−第三ブチル−4−エチルフェノール)、2,2’−メチレ ンビス〔4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)フェノール〕、2,2 ’−メチレンビス(4−メチル−6−シクロヘキシルフェノール)、2,2’− メチレンビス(6−ノニル−4−メチルフェノール)、2,2’−メチレンビス (4,6−ジ−第三ブチルフェノール)、2,2’−エチリデンビス(4,6− ジ−第三ブチルフェノール)、2,2’−エチリデンビス(6−第三ブチル−4 −イソブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス〔6−(α−メチルベンジ ル)−4−ノニルフェノール〕、2,2’−メチレンビス〔6−(α,α−ジメ チルベンジル)−4−ノニルフェノール〕、4,4’−メチレンビス(2,6− ジ−第三ブチルフェノール)、4,4’−メチレンビス(6−第三ブチル−2− メチルフェノール)、1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メ チルフェニル)ブタン、2,6−ビス(3−第三ブチル−5−メチル−2−ヒド ロキシベンジル)−4−メチルフェノール、1,1,3−トリス(5−第三ブチ ル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、1,1−ビス(5−第三ブ チル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−3−n−ドデシルメルカプトブ タン、エチレングリコールービス〔3,3−ビス(3’−第三ブチル−4’−ヒ ドロキシフェニル)ブチレート〕、ビス(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5 −メチルフェニル)ジシクロペンタジエン、ビス〔2−(3’−第三ブチル−2 ’−ヒドロキシ−5’−メチルベンジル)−6−第三ブチル−4−メチルフェニ ル〕テレフタレート、1,1−ビス(3,5−ジメチル−2−ヒドロキシフェニ ル)ブタン、2,2−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル )プロパン、2,2−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェ ニル)−4−n−ドデシルメルカプトブタン、1,1,5,5−テトラ(5−第 三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ペンタン。 1.7.O−,N−およびS−ベンジル化合物の例 3,5,3’,5’−テトラ第三ブチル−4,4’−ジヒドロキシジベンジルエ ーテル、オクタデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジルメルカプト アセテート、トリデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチルベンジルメル カプトアセテート、トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル) アミン、ビス(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル) ジチオテレフタレート、ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル )スルフィド、イソオクチル−3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル メルカプトアセテート。 1.8.ヒドロキシベンジル化マロネートの例 ジオクタデシル−2,2−ビス(3,5−ジ第三ブチル−2−ヒドロキシベンジ ル)マロネート、ジオクタデシル−2−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5 −メチルベンジル)マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−2,2−ビス( 3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロネート、ビス〔4−(1 ,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニル〕−2,2−ビス(3,5−ジ第 三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロネート。 1.9.芳香族ヒドロキシベンジル化合物の例 1,3,5−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2, 4,6−トリメチルベンゼン、1,4−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒド ロキシベンジル)−2,3,5,6−テトラメチルベンゼン、2,4,6−トリ ス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)フェノール。 1.10.トリアジン化合物の例 2,4−ビス(オクチルメルカプト)−6−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒド ロキシアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2−オクチルメルカプト−4,6 −ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5−トリ アジン、2−オクチルメルカプト−4,6−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4− ヒドロキシフェノキシ)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(3, 5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)−1,2,3−トリアジン、1 ,3,5−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシア ヌレート、1,3,5−トリス(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジ メチルベンジル)イソシアヌレート、2,4,6−トリス(3,5−ジ第三ブチ ル−4−ヒドロキシフェニルエチル)−1,3,5−トリアジン、1,3,5− トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサ ヒドロ−1,3,5−トリアジン、1,3,5−トリス(3,5−ジシクロヘキ シル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート。 1.11.ベンジルホスホネートの例 ジメチル−2,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエ チル−3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタ デシル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタ デシル5−第三ブチル−4−ヒドロキシ3−メチルベンジルホスホネート、3, 5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルの カルシウム塩。 1.12.アシルアミノフェノールの例 4−ヒドロキシラウリン酸−アニリド、4−ヒドロキシステアリン酸−アニリド 、N−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)カルバミン酸オク チルエステル。 1.13.β−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン 酸と以下の一価または多価アルコールとのエステル アルコールの例:メタノール、エタノール、n−オクタノール、イソオクタノー ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、 エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チ オジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペ ンタエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’ −ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チアペ ンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4− ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ〔2.2. 2〕オクタン。 1.14.β−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロ ピオン酸と以下の一価または多価アルコールとのエステル アルコールの例:メタノール、エタノール、n−オクタノール、イソオクタノー ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、 エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チ オジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペ ンタエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’ −ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チアペ ンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4− ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ〔2.2. 2〕オクタン。 1.15.β−(3,5−ジシクロシクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル) プロピオン酸と以下の一価または多価アルコールとのエステル アルコールの例:メタノール、エタノール、n−オクタノール、イソオクタノー ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、 エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チ オジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペ ンタエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’ −ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チアペ ンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4− ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ〔2.2. 2〕オクタン。 1.16.3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル酢酸と以下の一価ま たは多価アルコールとのエステル アルコールの例:メタノール、エタノール、n−オクタノール、イソオクタノー ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、 エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チ オジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペ ンタエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’ −ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チアペ ンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールブロパン、4− ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ〔2.2. 2〕オクタン。 1.17.β−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン 酸のアミドの例 N,N’−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニ ル)ヘキサメチレンジアミド、N,N’−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4− ヒドロキシフェニルプロピオニル)トリメチレンジアミド、N,N’−ビス(3 ,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジド、N ,N’−ビス〔2−(3−〔3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル 〕プロピオニルオキシ)エチル〕オキサミド〔ナウガード(登録商標,Naugard )XL−1,ユニロイヤルにより供給される〕。 1.18.アスコルビン酸(ビタミンC) 1.19.アミン酸化防止剤の例 N,N’−ジイソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジ第二ブチル −p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(1,4−ジメチルペンチル)−p −フェニレンジアミン、N,N’−ビス(1−エチル−3−メチルペンチル)− p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(1−メチルヘプチル)−p−フェニ レンジアミン、N,N’−ジシクロヘキシル−p−フェニレンジアミン、N,N ’−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(2−ナフチル)− p−フェニレンジアミン、N−イソプロピル−N’−フェニル−p−フェニレン ジアミン、N−(1,3−ジメチルブチル)−N’−フェニル−p−フェニレン ジアミン、N−(1−メチルヘプチル)−N’−フェニル−p−フェニレンジア ミン、N−シクロヘキシル−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、4−( p−トルエンスルファモイル)ジフェニルアミン、N,N’−ジメチル−N,N ’−ジ第二ブチル−p−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、N−アリルジ フェニルアミン、4−イソプロポキシジフェニルアミン、N−フェニル−1−ナ フチルアミン、N−(4−第三オクチルフェニル)−1−ナフチルアミン、N− フェニル−2−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばp,p’ −ジ第三オクチルジフェニルアミン、4−n−ブチルアミノフェノール、4−ブ チリルアミノフェノール、4−ノナノイルアミノフェノール、4−ドデカノイル アミノフェノール、4−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス(4−メトキ シフェニル)アミン、2,6−ジ第三ブチル−4−ジメチルアミノメチルフェノ ール、2,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルメ タン、N,N,N’,N’−テトラメチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタ ン、1,2−ビス〔(2−メチルフェニル)アミノ〕エタン、1,2−ビス(フ ェニルアミノ)プロパン、(o−トリル)ビグアニド、ビス〔4−(1’,3’ −ジメチルブチル)フェニル〕アミン、第三オクチル化N−フェニル−1−ナフ チルアミン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル/第三オクチルジフェニルア ミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モ ノ−およびジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジア ルキル化イソプロピル/イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−および ジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、2,3−ジヒドロ−3,3 −ジメチル−4H−1,4−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−およびジ アルキル化第三ブチル/第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−およびジ アルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、N−アリルフェノチアジン、 N,N,N’,N’−テトラフェニル−1,4−ジアミノブテ−2−エン、N, N−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジニ−4−イル)ヘキサメチ レンジアミン、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジニ−4−イル) セバケート、2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジン−4−オン、2,2, 6,6−テトラメチルピペリジン−4−オール。 2.UV吸収剤および光安定剤 2.1.2−(2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾールの例 2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−( 3’,5’−ジ第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、 2−(5’−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2 −(2’−ヒドロキシ−5’−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニ ル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ第三ブチル−2’−ヒドロキシ フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’− ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−( 3’−第二ブチル−5’−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリ アゾール、2−(2’−ヒドロキシ−4’−オクチルオキシフェニル)ベンゾト リアゾール、2−(3’,5’−ジ第三アミル−2’−ヒドロキシフェニル)ベ ンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ビス(α,α−ジメチルベンジル)−2 ’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’ −ヒドロキシ−5’−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)−5 −クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−5’−〔2−(2−エ チルヘキシルオキシ)カルボニルエチル〕−2’−ヒドロキシフェニル)−5− クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’ −(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾー ル、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキシカルボ ニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’− ヒドロキシ−5’−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)ベンゾ トリアゾール、2−(3’−第三ブチル−5’−〔2−(2−エチルヘキシルオ キシ)カルボニルエチル〕−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、 2−(3’−ドデシル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリ アゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−イソオク チルオキシカルボニルエチル)フェニルベンゾトリアゾール、2,2’−メチレ ンビス〔4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−ベンゾトリアゾー ル−2−イルフェノール〕;2−〔3’−第三ブチル−5’−(2−メトキシカ ルボニルエチル)−2’−ヒドロキシフェニル〕−2H−ベンゾトリアゾールと ポリエチレングリコール300とのエステル交換体;次式:〔R−CH2CH2− COO−CH2CH2−〕2(式中、Rは3’−第三ブチル−4’−ヒドロキシ− 5’−2H−ベンゾトリアゾール−2−イルフェニル基を表す)で表される化合 物、2−〔2’−ヒドロキシ−3’−(α,α−ジメチルペンジル)−5’−( 1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニル〕ベンゾトリアゾール;2−〔 2’−ヒドロキシ−3’−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−5’−( α,α−ジメチルベンジル)フェニル〕ベンゾトリアゾール。 2.2.2−ヒドロキシベンゾフェノンの例 4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オクチルオキシ−、4−デシルオキシ −、4−ドデシルオキシ−、4−ベンジルオキシ−、4,2’,4’−トリヒド ロキシ−および2’−ヒドロキシ−4,4’−ジメトキシ誘導体。 2.3.非置換および置換された安息香酸のエステルの例 4−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニ ルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス(4−第三ブチルベンゾイ ル)レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4−ジ−第三ブチルフェ ニル3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル3, 5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル3,5−ジ− 第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−メチル−4,6−ジ第三ブチル フェニル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート。 2.4.アクリレートの例 エチルα−シアノ−β,β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ −β,β−ジフェニル−アクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート 、メチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシシンナメート、ブチルα−シア ノ−β−メチル−p−メトキシシンナメート、メチルα−カルボメトキシ−p− メトキシシンナメートおよびN−(β−カルボメトキシ−β−シアノビニル)− 2−メチルインドリン。 2.5 ニッケル化合物の例 2,2’−チオビス−〔4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノー ル〕のニッケル錯体、例えば1:1または1:2錯体であって、所望によりn− ブチルアミン、トリエタノールアミンもしくはN−シクロヘキシルジエタノール アミンのような他の配位子を伴うもの、ニッケルジブチルジチオカルバメート、 4−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエス テル、例えばメチルもしくはエチルエステルのニッケル塩、ケトキシム例えば2 −ヒドロキシ−4−メチルフェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、1− フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシ−ピラゾールのニッケル錯体であっ て、所望により他の配位子を伴うもの。 2.6 立体障害性アミンの例 ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(2 ,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)スクシネート、ビス(1,2, 2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1−オクチル オキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス( 1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)n−ブチル−3,5−ジ 第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロネート、1−(2−ヒドロキシエチル )−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との 縮合生成物、N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル )ヘキサメチレンジアミンと4−第三オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1, 3,5−トリアジンとの線状または環状縮合生成物、トリス(2,2,6,6− テトラメチル−4−ピペリジル)ニトリロトリアセテート、テトラキス(2,2 ,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカ ルボキシレート、1,1’−(1,2−エタンジイル)−ビス(3,3,5,5 −テトラメチルピペラジノン)、4−ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチ ルピペリジン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ ン、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−2−n−ブチル− 2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチルベンジル)マロネート、3−n− オクチル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ〔4. 5〕デカン−2,4−ジオン、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テ トラメチルピペリジル)セバケート、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6, 6−テトラメチルピペリジル)スクシネート、N,N’−ビス(2,2,6,6 −テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−モルホリノ− 2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンとの線状または環状縮合生成物、2 −クロロ−4,6−ビス(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチ ルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピル アミノ)エタンとの縮合生成物、2−クロロ−4,6−ジ(4−n−ブチルアミ ノ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジン と1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンとの縮合生成物、8−アセ チル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザス ピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオン、3−ドデシル−1−(2,2,6,6 −テトラメチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン、3−ドデシル −1−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2 ,5−ジオン、4−ヘキサデシルオキシおよび4−ステアロイルオキシ−2,2 ,6,6−テトラメチルピペリジンの混合物、N,N’−ビス(2,2,6,6 −テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンおよび4−シクロヘ キシルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンの縮合生成物、1, 2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンおよび2,4,6−トリクロロ− 1,3,5−トリアジンの縮合生成物、ならびに4−ブチルアミノ−2,2,6 ,6−テトラメチルピペリジン(CAS Reg.No.〔136504−96 −6〕);N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−n−ドデ シルスクシンイミド、N−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジ ル)−n−ドデシルスクシンイミド、2−ウンデシル−7,7,9,9−テトラ メチル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキソースピロ〔4.5〕デカン、 7,7,9,9−テトラメチル−2−シクロウンデシル−1−オキサ−3,8− ジアザ−4−オキソスピロ〔4.5〕デカンおよびエピクロロヒドリンの反応生 成物、1,1−ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルオキ シカルボニル)−2−(4−メトキシフェニル)エタン、N,N’−ビスホルミ ル−N.N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサ メチレンジアミン、4−メトキシメチレンマロン酸と1,2,2,6,6−ペン タメチル−4−ヒドロキシピペリジンのジエステル、ポリ〔メチルプロピル−3 −オキシ−4−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)〕シロキサ ン、無水マレイン酸−α−オレフィンコポリマーと2,2,6,6−テトラメチ ル−4−アミノピペリジンまたは1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−アミ ノピペリジンとの反応生成物。 2.7.オキサミドの例 4,4’−ジオクチルオキシオキサニリド、2,2’−ジエトキシオキサニリド 、2,2’−ジオクチルオキシ−5,5’−ジ第三ブトキサニリド、2,2’− ジドデシルオキシ−5,5’−ジ第三ブチルオキサニリド、2−エトキシ−2’ −エチルオキサニリド、N,N’−ビス(3−ジメチルアミノプロピル)オキサ ミド、2−エトキシ−5−第三ブチル−2’−エトキサニリドおよび該化合物と 2−エトキシ−2’−エチル−5,4’−ジ第三ブチルオキサニリドとの混合物 、o−およびp−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物およびo−およびp− エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。 2.8.2−(2−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジンの例 2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−1,3 ,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4 ,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2 ,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)− 1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキシ フェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2 −(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(4−メチ ルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ドデシル オキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5− トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−トリデシルオキシフェニル)−4,6 −ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−〔2−ヒ ドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ブチルオキシプロポキシ)フェニル〕− 4,6−ビス(2,4−ジメチル)−1,3,5−トリアジン、2−〔2−ヒド ロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−オクチルオキシプロピルオキシ)フェニル 〕−4,6−ビス(2,4−ジメチル)−1,3,5−トリアジン、2−〔4− (ドデシルオキシ/トリデシルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)−2−ヒド ロキシフェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5− トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ドデシルオキ シプロポキシ)フェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1, 3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシ)フェニル− 4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−メ トキシフェニル)−4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン、2,4,6 −トリス〔2−ヒドロキシ−4−(3−ブトキシ−2−ヒドロキシ−プロポキシ )フェニル〕−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシフェニル)−4 −(4−メトキシフェニル)−6−フェニル−1,3,5−トリアジン、2−{ 2−ヒドロキシ−4−〔3−(2−エチルヘキシル−1−オキシ)−2−ヒドロ キシプロピルオキシ〕フェニル}−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル) −1,3,5−トリアジン。 3.金属不活性化剤の例 N,N’−ジフェニルオキサミド、N−サリチラル−N’−サリチロイルヒドラ ジン、N,N’−ビス(サリチロイル)ヒドラジン、N,N’−ビス(3,5− ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン、3−サリチ ロイルアミノ−1,2,4−トリアゾール、ビス(ベンジリデン)オキサリルジ ヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェ ニルヒドラジド、N,N’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、N,N’−ビ ス(サリチロイル)オキサリルジヒドラジド、N,N’−ビス(サリチロイル) チオプロピオニルジヒドラジド。 4.ホスフィットおよびホスホナイトの例 トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアル キルホスフィット、トリス(ノニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホス フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトール ジホスフィット、トリス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)ホスフィット、ジイ ソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4−ジ第三ブチルフ ェニル)ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,6−ジ第三ブチル− 4−メチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルオキ シペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4−ジ第三ブチル−6−メ チルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4,6−トリ ス(第三ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリ ルソルビトールトリホスフィット、テトラキス(2,4−ジ第三ブチルフェニル )4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、6−イソオクチルオキシ−2,4, 8,10−テトラ第三ブチル−12H−ジベンズ〔d,g〕−1,3,2−ジオ キサホスホシン、6−フルオロ−2,4,8,10−テトラ第三ブチル−12− メチル−ジベンズ〔d,g〕−1,3,2−ジオキサホスホシン、ビス(2,4 −ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)メチルホスフィット、ビス(2,4−ジ 第三ブチル−6−メチルフェニル)エチルホスフィット、2,2’,2”−ニト リロ〔トリエチルトリス(3,3’,5,5’−テトラ第三ブチル−1,1’− ビフェニル−2,2’−ジイル)ホスフィット、2−エチルヘキシル(3,3’ ,5,5’−テトラ第三ブチル−1,1’−ビフェニル−2,2’−ジイル)ホ スフィット。 5.ヒドロキシアミンの例 N,N−ジベンジルヒドロキシアミン、N,N−ジエチルヒドロキシアミン、N ,N−ジオクチルヒドロキシアミン、N,N−ジラウリルヒドロキシアミン、N ,N−ジテトラデシルヒドロキシアミン、N,N−ジヘキサデシルヒドロキシア ミン、N,N−ジオクタデシルヒドロキシアミン、N−ヘキサデシル−N−オク タデシルヒドロキシアミン、N−ヘプタデシル−N−オクタデシルヒドロキシア ミン、水素化タロウ脂肪アミンから誘導されるN,N−ジアルキルヒドロキシア ミン。 6.ニトロンの例 N−ベンジル−α−フェニル−ニトロン、N−エチル−α−メチル−ニトロン、 N−オクチル−α−ヘプチル−ニトロン、N−ラウリル−α−ウンデシル−ニト ロン、N−テトラデシル−α−トリデシル−ニトロン、N−ヘキサデシル−α− ペンタデシル−ニトロン、N−オクタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、N −ヘキサデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、N−オクタデシル−α−ペンタ デシル−ニトロン、N−ヘプタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、N−オク タデシル−α−ヘキサデシル−ニトロン、水素化タロウ脂肪アミンから誘導され るN,N−ジアルキルヒドロキシアミンから誘導されるニトロン。 7.チオ相乗剤(チオシンエルジスト)の例 ジラウリルチオジプロピオネートまたはジステアリルチオジプロピオネート。 8.過酸化物スカベンジヤーの例 β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ステアリル、ミリスチル またはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール、または2−メルカ プトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタ デシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス(β−ドデシルメルカプ ト)プロピオネート。 9.ポリアミド安定剤の例 ヨウ化物および/またはリン化合物と組合せた銅塩および二価マンガンの塩。 10.塩基性補助安定剤の例 メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート 、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂 肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばカルシウムステアレー ト、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウムステアレート、 ナトリウムリシノレートおよびカリウムパルミテート、アンチモンピロカテコレ ートまたは亜鉛ピロカテコレート。 11.核剤の例 無機物質、例えばタルク、金属酸化物、例として二酸化チタンまたは酸化マグネ シウム、好ましくはアルカリ土類金属のリン酸塩、炭酸塩または硫酸塩;有機化 合物、例えばモノ−またはポリカルボン酸およびそれらの塩、例えば4−第三ブ チル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウムまたは安息香 酸ナトリウム;ポリマー化合物、例えばイオン性コポリマー(アイオノマー)。 12.充填剤および強化剤の例 炭酸カルシウム、ケイ酸塩(シリケート)、ガラス繊維、ガラスバルブ、アスベ スト、タルク、カオリン、雲母(マイカ)、硫酸バリウム、金属酸化物および水 酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉およびその他の天然材料の粉末 または繊維、合成繊維。 13.その他の添加剤の例 可塑剤、滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、流れ調整剤、光沢剤、 難燃剤、静電防止剤および発泡剤。 14.ベンゾフラノンおよびインドリノンの例 US−A−4325863号、US−A−4338244号、US−A−517 5312号、US−A−5216052号、US−A−5252643号、DE −A−4316611号、DE−A−4316622号、DE−A−43168 76号、EP−A−0589839号またはEP−A−0591102号に開示 された化合物または3−〔4−(2−アセトキシエトキシ)フェニル〕−5,7 −ジ第三ブチルベンゾフラン−2−オン、5,7−ジ第三ブチル−3−〔4−( 2−ステアロイルオキシエトキシ)フェニル〕ベンゾフラン−2−オン、3,3 ’−ビス〔5,7−ジ第三ブチル−3−(4−〔2−ヒドロキシエトキシ〕−フ ェニル)ベンゾフラン−2−オン〕、5,7−ジ第三ブチル−3−(4−エトキ シフェニル)ベンゾフラン−2−オン、3−(4−アセトキシ−3,5−ジメチ ルフェニル)−5,7−ジ第三ブチルベンゾフラン−2−オン、3−(3,5− ジメチル−4−ピバロイルオキシフェニル)−5,7−ジ第三ブチルベンゾフラ ン−2−オン、3−(3,4−ジメチルフェニル)−5,7−ジ第三ブチルベン ゾフラン−2−オン、3−(2,3−ジメチルフェニル)−5,7−ジ第三ブチ ルベンゾフラン−2−オン。 本発明に係る生成物または混合物:慣用の添加剤の重量比は例えば1:0.5 ないし1:5であってよい。 本発明の生成物はまた、例えばリサーチ・ディスクロージャー1990,31 429(474ないし480頁)に記載されるような写真再生および他の再生技 術の分野において公知のほとんど全ての材料のための安定剤として、特に光安定 剤として使用され得る。 本発明は以下の実施例によりさらに詳細に説明される。特記しない限り、全て の部は重量を基準とする。 以下の実施例S−1およびS−2は出発物質の製造の代表的なものである。実 施例1ないし4は本発明に係る生成物の製造の代表的なものであり、そして特定 の好ましい態様に関する。 GPC(ゲル透過クロマトグラフィー)は分子を大きさの違いにより分離する ための分析方法として使用され、そして分子量平均(Mw,Mn)またはポリマ ーの分子量分布に関する情報を得るために使用される。 上記の技術は十分に公知であり、そして例えばW.W.Yan等による“Modern Si ze-Bxclusion Liquid Chromatography”,J.Wiley & Sons発行,N.Y.,USA,19 79,4-8,249-283および315-340に記載されている。 狭い分子量分布は1に近い多分散性(Mw/Mn)により特徴づけられる。 以下の実施例S−1およびS−2に示されたGPC分析は、パーキン−エルマ ー(登録商標,Perkin-Elmer)RI検出器LC30およびパーキン−エルマー( 登録商標,Perkin-Elmer)オーブンLC101を備えたGPCクロマトグラフ・ パーキン−エマルー(登録商標,Perkin-Elmer)LC250を用いて行われる。 全ての分析はPLGEL3μmミックストE300mm長さ×7.5mmi. d.(英国シュロップシアのポリマーズ・ラボラトリーズ・リミテッド製)の3 本のカラムを用いて45℃で行われる。 テトラヒドロフランは溶離剤として使用され(流速0.40ml/分)、そし て試料はテトラヒドロフラン中に溶解される(2%)(%w/v)。 以下の実施例に示す構造式において、n’はその分子中に反復単位があり、そ して得られた生成物が均一でないことを示す。 実施例S−1:次式: に相当する生成物の製造 水30ml中のN−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)− n−ブチルアミン37.1g(0.175モル)の溶液を0℃で、キシレン25 0ml中の塩化シアヌル32.2g(0.175モル)の溶液にゆっくり添加し 、その添加の間およびさらに1時間温度を維持する。 室温で2時間後、混合物を0℃まで冷却し、そして水25ml中の水酸化ナト リウム7.3g(0.18モル)の水溶液を添加する。 0℃で1/2時間および室温でさらに2時間後、この水溶液を分離し、そして N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)−1,6 −ヘキサンジアミン34.6g(0.087モル)を添加する。 この混合物を50℃まで1時間加熱し、炭酸カリウム粉末24.2g(0.1 75モル)を添加し、そして60℃まで4時間加熱する。 水で洗浄後、有機相を60−70℃/10mbarで真空下に濃縮してキシレ ン125mlを回収する。 N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)−1, 6−ヘキサンジアミン69g(0.175モル)を添加し、そして混合物を15 0℃まで2時間加熱し、再び冷却し、そして水酸化ナトリウム粉末7g(0.1 75モル)を添加する。 混合物を140℃までさらに4時間加熱して、反応の残留水を共沸除去し、そ して160℃でさらに4時間加熱する。 60℃まで冷却した後、混合物をキシレン130mlで希釈し、濾過し、そし てエチレングリコール50mlで3回洗浄する。 60℃/10mbarで真空下に濃縮した後、無水酢酸7.5g(0.073 モル)を添加する。室温で1/2時間後、混合物を130℃まで5時間加熱する 。室温まで冷却した後、炭酸カリウム粉末20.2g(0.146モル)を添加 し、そして混合物を130℃まで2時間加熱する。 次に混合物を50℃まで冷却し、濾過し、そして140℃/1mbarで真空 下に濃縮する。 乾燥後、融点128−134℃の固体が得られる。 Mn(GPCによる)=2712g/モル Mw/Mn=1.41 GPC分析は図1のようなクロマトグラムを示す。 3種の主な単一成分の比率(得られた多分散性生成物の(n’=2):(n’ =4):(n’=6))はモル%で2:0.93:0.4である。 実施例S−2:次式: に相当する生成物の製造 この生成物が実施例S−1に記載した操作に従い適当な試薬を用いて製造され る。 融点122−130℃を有する固体が得られる。 Mn(GPCによる)=2810g/モル Mw/Mn=1.42 GPC分析は図2のようなクロマトグラムを示す。 3種の主な単一成分の比率(得られた多分散性生成物の(n’=2):(n’ =4):(n’=6))はモル%で2:0.84:0.32である。 実施例1:次式: に相当する生成物の製造 ディーン−スターク(登録商標,Dean-Stark)トラップを備え磁力で攪拌され る200mlの4つ口フラスコに実施例S−1の生成物7.0g(0.0317 モル)、シクロヘキサン60mlおよびMoO30.1gを仕込む。内容物を加 熱して還流する。次に70%第三ブチルヒドロペルオキシド20.4g(0.1 58モル)を、取りつけられた滴下ロートに入れ、そして30分間で添加する。 還流をさらに30分間継続する。反応混合物を磁力で攪拌されるフィッシャー− ポーター(登録商標,Fisher-Porter)圧力ビンに追加のMoO30.1gと一緒 に移す。内容物を120℃で3時間加熱し、その時点でニトロキシル中間体の赤 色が消失し薄い黄色となる。MoO3を濾過し、そして濾液を蒸発させて黄色ガ ラス状物とする。収量は10.1gで、定量的である。 1H−NMR:0.84−2.5ppm(ブロード,複雑な混合物);3.2 −3.44ppm(s,ブロード,NCH2);3.54−3.70ppm(s ,ブロード,NOCH);4.76−5.4ppm(ブロード,NCH)。 3.2,3.54および4.76ppmでの積分の比率:2:1:1。13 C−NMR:81.9ppm(NOC);165ppm(トリアジンC)。 実施例2:次式: に相当する生成物の製造 ディーン−スターク(登録商標)トラップおよび滴下ロートを備え磁力で攪拌 される200mlの4つ口フラスコに実施例S−1の生成物5.7g(0.02 58モル)、n−オクタン50mlおよびMoO30.20gを仕込む。内容物 を加熱して還流する。滴下ロートに70%第三ブチルヒドロペルオキシド16. 6g(0.129モル)を入れ、それを30分間かけて添加する。還流をさらに 30分間継続した後、反応混合物を磁力で攪拌されるフィッシャー−ポーター( 登録商標)圧力ビンに移す。次に追加のMoO30.1gを添加する。内容物を 真空下に125℃で3時間加熱し、その時点でニトロキシル中間体の赤色が消失 し薄い黄色となる。MoO3を濾過し、そして濾液を蒸発させて薄い黄色のガラ ス状物とする。収量は10.1gである(理論値の91%)。 1H−NMR:0.8−2.5ppm(ブロード,複雑な混合物);3.2− 3.5ppm(s,ブロード,NCH2);3.65−3.96ppm(ブロー ド,NOCH);4.9−5.4ppm(s,ブロード,NCH)。 3.2,3.65および4.76ppmでの積分の比率は2:1:1である。13 C−NMR:78.7ppm,81.9ppmおよび83.2ppm(NOC ,C817の異性体混合物);165ppm(トリアジンC)。 実施例3:次式:に相当する生成物の製造 実施例S−2の生成物7.0g(0.0303モル)、シクロヘキサン60m lおよびMoO30.20gをディーン−スターク(登録商標)トラップ、冷却 器および滴下ロートを備え磁力で攪拌される200mlの4つ口フラスコに仕込 む。内容物を加熱して還流する。滴下ロートに70%第三ブチルヒドロペルオキ シド19.5g(0.152モル)を入れる。上記ロートの内容物を30分間か けて添加する。ニトロキシル中間体の赤色が観察される。還流を1時間継続する 。反応混合物を磁力で攪拌されるフィッシャー−ポーター(登録商標)ビンに追 加のMoO30.10gと一緒に移す。内容物を真空下に125℃で2時間加熱 すると、その時点でニトロキシル中間体の赤色が消失する。MoO3を加圧濾過 し、そして淡黄色濾液を蒸発させてガラス状物とする。収量は9.3gである( 理論値の93%)。 1H−NMR:0.80−2.2ppm(ブロード,複雑な混合物);3.1 −3.5ppm(s,ブロード,NCH2);3.54−3.70ppm(s, ブロード,NOCH);4.90−5.4ppm(ブロード,NCH)。 3.2,3.54および4.76ppmでの積分の比率:2:1:1。13 C−NMR:81.8ppm(NOC);165ppm(トリアジンC)。 実施例4:次式:に相当する生成物の製造 実施例S−2の生成物6.2g(0.0268モル)、n−オクタン50ml およびMoO30.10gをディーン−スターク(登録商標)トラップ、冷却器 および滴下ロートを備え磁力で攪拌される200mlの4つ口フラスコに仕込む 。内容物を加熱して還流する。滴下ロートに70%第三ブチルヒドロペルオキシ ド17.3g(0.134モル)を入れる。上記ロートの内容物を30分間かけ て添加する。ニトロキシル中間体の赤色が観察される。還流を1時間継続する。 反応混合物を磁力で攪拌されるフィッシャー−ポーター(登録商標)ビンに追加 のMoO30.10gと一緒に移す。内容物を真空下に125℃で2時間加熱す ると、その時点でニトロキシル中間体の赤色が消失する。MoO3を加圧濾過し 、そして淡黄色濾液を蒸発させてガラス状物とする。収量は8.4gである(理 論値の88%)。 1H−NMR:0.6−2.5ppm(ブロード,複雑な混合物);3.1− 3.5ppm(s,ブロード,NCH2);3.56−3.94ppm(ブロー ド,NOCH);4.9−5.4ppm(s,ブロード,NCH)。 3.1,3.56および4.9ppmでの積分の比率は2:1:1である。13 C−NMR:78.5ppm,81.8ppmおよび83.2ppm(NOC ,C817の異性体混合物);165ppm(トリアジンC)。 実施例A: ポリオレフィンブレンド〔エチレンプロピレンコポリマーを含有するポリプロ ピレン;エイ.シュルマン・インコーポレイテッド(米国オハイオ州アクロン) からのポリトロープ(登録商標,Polytrope)TPP518−08〕を下記の添 加剤と一般的な全圧スクリュー(24:1 L/D)を有するスーぺリオール( 登録商標,Superior)/MPM 1”一軸スクリュー押出機中、200℃で混合 し、水浴で冷却し、そしてペレット化することにより、顔料を配合した熱可塑性 オレフィン(TPO)ペレットを製造する。押出および成形に先立ち、添加剤を タンブルドライヤー中でドライブレンドする。 添加剤: *)ポリオレフィンブレンドに基づいた重量% 得られたペレットは厚さ1.524mmで2”×2”のプラックに約190℃ にてボーイ(登録商標,BOY)30M射出成形機で成形する。 試験プラックを金属枠に取りつけ、そしてアトラス(登録商標,Atlas)Ci 65キセノンアークウエザロメーターで、70℃ブラックパネル温度、340ナ ノメータで0.55W/m2および50%相対湿度にて、断続的な明/暗サイク ルおよび水噴霧を行いながら露光する〔ソサイアティ・オブ・オートモーティブ ・エンジニアーズ(登録商標,Society of Automotive Bngineers)−SAE J1960試験法−屋外自動車条件〕。 ASTM D2244−79に準拠する反射率方式によりアプライド・カラー ・システムズ分光光度計で色測定を行うことにより、試験片を約625キロジュ ール毎に試験する。光沢測定はASTM D523に準拠してBYK−ガードナ ー・ヘイズ/グロス・メータ(登録商標,BYK-GARDNBR Haze/Gloss Meter)で行 う。 安定化された試料はUV露光を行っても良好な光沢保持および色変化に対する 良好な抵抗性を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR, NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,KE,L S,MW,SD,SZ,UG,ZW),EA(AM,AZ ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM),AL ,AM,AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BR, BY,CA,CH,CN,CU,CZ,DE,DK,E E,ES,FI,GB,GE,GH,GM,GW,HU ,ID,IL,IS,JP,KE,KG,KP,KR, KZ,LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV,M D,MG,MK,MN,MW,MX,NO,NZ,PL ,PT,RO,RU,SD,SE,SG,SI,SK, SL,TJ,TM,TR,TT,UA,UG,US,U Z,VN,YU,ZW (72)発明者 ギッツァルジ,ファブリチオ イタリー国 40128 ボローニャ ビア ガベージャ 1 【要約の続き】 −または>N−R6を表し;R6は例えば水素原子または 炭素原子数1ないし18のアルキル基を表し;そしてR は好ましくは次式: で表される基を表すが;ただし式(I)中の個々の反復 単位において、基B、R、R1およびR2の各々は同じ か、または異なる意味を有する〕で表される化合物。上 記化合物は有機材料、特に合成ポリマーのための光安定 剤、熱安定剤および酸化安定剤として有用である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.次式(I): 〔式中、nは2ないし14の数を表し、 基R1は互いに独立して水素原子またはヒドロカルビル基を表すか、または− O−R1はオキシル基を表し、 基R2は互いに独立して炭素原子数2ないし12のアルキレン基、炭素原子数 4ないし12のアルケニレン基、炭素原子数5ないし7のシクロアルキレン基、 炭素原子数5ないし7のシクロアルキレンジ(炭素原子数1ないし4のアルキレ ン)基、炭素原子数1ないし4のアルキレンジ(炭素原子数5ないし7のシクロ アルキレン)基、フェニレンジ(炭素原子数1ないし4のアルキレン)基または 1,4−ピペラジンジイル基、−O−もしくは>N−X1(X1は炭素原子数1な いし12のアシル基または(炭素原子数1ないし12のアルコキシ)カルボニル 基を表すか、または水素原子を除く下記のR4の定義の一つを有する)により中 断された炭素原子数4ないし12のアルキレン基を表すか、またはR2は次式( a)、(b)または(c): (式中、mは2または3を表し、 X2は炭素原子数1ないし18のアルキル基、非置換または1、2もしくは3 個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数5ないし1 2のシクロアルキル基;非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし 4のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基により置換された フェニル基;非置換またはフェニル基上で1、2もしくは3個の炭素原子数1な いし4のアルキル基により置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル 基を表し;そして 基X3は互いに独立して炭素原子数2ないし12のアルキレン基を表す)で表 される基を表し、 基Aは互いに独立して炭素原子数1ないし8のアシル基、(炭素原子数1ない し8のアルコキシ)カルボニル基、(炭素原子数5ないし12のシクロアルコキ シ)カルボニル基、(炭素原子数1ないし8のアルキル)アミノカルボニル基、 (炭素原子数5ないし12のシクロアルキル)アミノカルボニル基、(炭素原子 数7ないし9のフェニルアルキル)アミノカルボニル基、炭素原子数1ないし8 のアルキル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアル キル基により置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基;炭素原子 数3ないし6のアルケニル基、非置換またはフェニル基上で1、2もしくは3個 の炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数7ないし9の フェニルアルキル基;または−CH2CN基を表し、 Bは−OR3基、−N(R4)(R5)基または次式(II): で表される基を表し、 R3、R4およびR5は同一または相違して、水素原子、炭素原子数1ないし1 8のアルキル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のア ルキル基により置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基;炭素原 子数3ないし18のアルケニル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子 数1ないし4のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基により 置換されたフェニル基;非置換またはフェニル基上で1、2もしくは3個の炭素 原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数7ないし9のフェニ ルアルキル基;テトラヒドロフルフリル基または2、3もしくは4位で−OH基 、炭素原子数1ないし8のアルコキシ基、ジ(炭素原子数1ないし4のアルキル )アミノ基または次式(III): (式中、Yは−O−基、−CH2−基、−CH2CH2−基または>N−CH3基を 表す)で表される基により置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基を表す か、または−N(R4)(R5)基はさらに式(III)で表される基を表し、 Xは−O−基または>N−R6基を表し、 R6は水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし 18のアルケニル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4 のアルキル基により置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基;非 置換またはフェニル基上で1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアルキ ル基により置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基;テトラヒド ロフルフリル基または次式(IV): で表される基または2、3もしくは4位で−OH基、炭素原子数1ないし8のア ルコキシ基、ジ(炭素原子数1ないし4のアルキル)アミノ基もしくは式(II I)で表される基により置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基を表し、 そして 基Rは互いに独立してR6に対して定義された意味の一つを有するが、 ただし式(I)中の個々の反復単位において、基B、R、R1およびR2の各々 は同じか、または異なる意味を有する〕で表される化合物。 2.Rが式(IV)で表される基を表す請求項1記載の式(I)で表される化合 物。 3.R1が水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数5ない し18のアルケニル基、炭素原子数5ないし18のアルキニル基、非置換または 炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数5ないし12の シクロアルキル基;非置換または炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換 された炭素原子数5ないし12のシクロアルケニル基;炭素原子を6ないし10 個有する二環式または三環式ヒドロカルビル基または非置換またはフェニル基上 で炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数7ないし9の フェニルアルキル基を表すか、または−O−R1がオキシル基を表す請求項1記 載の式(I)で表される化合物。 4.R1が水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、非置換またはメチル 基により置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基;シクロヘキセニ ル基、α−メチルベンジル基または1,2,3,4−テトラヒドロナフテニル基 を表す請求項1記載の式(I)で表される化合物。 5.R1がメチル基、オクチル基またはシクロヘキシル基を表す請求項1記載の 式(I)で表される化合物。 6.Aがアセチル基、(炭素原子数1ないし4のアルコキシ)カルボニル基、( 炭素原子数1ないし4のアルキル)アミノカルボニル基または炭素原子数1ない し4のアルキル基を表す請求項1記載の式(I)で表される化合物。 7.R2が炭素原子数2ないし12のアルキレン基、炭素原子数5ないし7のシ クロアルキレン基、炭素原子数5ないし7のシクロアルキレンジ(炭素原子数1 ないし4のアルキレン)基、炭素原子数1ないし4のアルキレンジ(炭素原子数 5ないし7のシクロアルキレン)基またはフェニレンジ(炭素原子数1ないし4 のアルキレン)基を表し、 Aが炭素原子数1ないし8のアシル基、(炭素原子数1ないし8のアルコキシ )カルボニル基、(炭素原子数5ないし7のシクロアルコキシ)カルボニル基、 (炭素原子数1ないし4のアルキル)アミノカルボニル基、(炭素原子数5ない し7のシクロアルキル)アミノカルボニル基、ベンジルアミノカルボニル基、炭 素原子数1ないし6のアルキル基、炭素原子数5ないし7のシクロアルキル基、 アリル基またはベンジル基を表し、 R3、R4およびR5が同一または相違して、水素原子、炭素原子数1ないし1 2のアルキル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のア ルキル基により置換された炭素原子数5ないし7のシクロアルキル基;炭素原子 数3ないし12のアルケニル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数 1ないし4のアルキル基により置換されたフェニル基;非置換またはフェニル基 上で炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換されたベンジル基;テトラヒ ドロフルフリル基または2もしくは3位で−OH基、炭素原子数1ないし4のア ルコキシ基、ジ(炭素原子数1ないし4のアルキル)アミノ基もしくは式(II I)で表される基により置換された炭素原子数2もしくは3のアルキル基を表す か、または−N(R4)(R5)基がさらに式(III)で表される基を表し、そ して R6が水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル基、非置換または1、2 もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数 5ないし7のシクロアルキル基;非置換またはフェニル基上で1、2もしくは3 個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換されたベンジル基;テトラヒ ドロフルフリル基、式(IV)で表される基または2もしくは3位で−OH基、 炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、ジ(炭素原子数1ないし4のアルキル) アミノ基または式(III)で表される基により置換された炭素原子数2もしく は3のアルキル基を表す請求項1記載の式(I)で表される化合物。 8.R2が炭素原子数2ないし8のアルキレン基を表し、 Aが炭素原子数1ないし8のアシル基、(炭素原子数1ないし8のアルコキシ )カルボニル基、シクロヘキソキシカルボニル基、(炭素原子数1ないし4のア ルキル)アミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、ベンジルア ミノカルボニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基、シクロヘキシル基、ア リル基またはベンジル基を表し、 R3、R4およびR5が同一または相違して、水素原子、炭素原子数1ないし8 のアルキル基、非置換またはメチル基により置換されたシクロヘキシル基、炭素 原子数3ないし8のアルケニル基、非置換またはメチル基により置換されたフェ ニル基、ベンジル基、テトラヒドロフルフリル基または2もしくは3位で−OH 基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ 基もしくは4−モルホリニル基により置換された炭素原子数2もしくは3のアル キル基を表すか、または−N(R4)(R5)基がさらに4−モルホリニル基を表 し、そして R6が水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、非置換またはメチル基 により置換されたシクロヘキシル基、ベンジル基、テトラヒドロフルフリル基、 式(IV)で表される基または2もしくは3位で−OH基、炭素原子数1ないし 4のアルコキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基もしくは4−モルホリ ニル基により置換された炭素原子数2もしくは3のアルキル基を表す請求項1記 載の式(I)で表される化合物。 9.nが2ないし6の数を表し、 Rが式(IV)で表される基を表し、 R2が炭素原子数2ないし6のアルキレン基を表し、 Aが炭素原子数1ないし8のアシル基、(炭素原子数1ないし8のアルコキシ )カルボニル基、(炭素原子数1ないし4のアルキル)アミノカルボニル基、炭 素原子数1ないし4のアルキル基またはアリル基を表し、 Bが−N(R4)(R5)基または式(II)で表される基を表し、 R4およびR5が同一または相違して、水素原子、炭素原子数1ないし8のアル キル基、2−ヒドロキシエチル基または2−メトキシエチル基を表すか、または −N(R4)(R5)基がさらに4−モルホリニル基を表し、 Xが>NR6基を表し、そして R6が炭素原子数1ないし4のアルキル基を表す請求項1記載の式(I)で表 される化合物。 10.nが2ないし6の数を表し、 Rが式(IV)で表される基を表し、 R1がメチル基、オクチル基またはシクロヘキシル基を表し、 R2が炭素原子数2ないし6のアルキレン基を表し、 Aが炭素原子数1ないし8のアシル基、(炭素原子数1ないし8のアルコキシ )カルボニル基、(炭素原子数1ないし4のアルキル)アミノカルボニル基また は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し、 Bが−N(R4)(R5)基または式(II)で表される基を表し、 R4およびR5が同一または相違して、炭素原子数1ないし8のアルキル基を表 すか、または−N(R4)(R5)基がさらに4−モルホリニル基を表し、 Xが>NR6基を表し、そして R6が炭素原子数1ないし4のアルキル基を表す請求項1記載の式(I)で表 される化合物。 11.nが2ないし6の数を表し、 Rが式(IV)で表される基を表し、 R1がメチル基、オクチル基またはシクロヘキシル基を表し、 R2が炭素原子数2ないし6のアルキレン基を表し、 Aが炭素原子数1ないし8のアシル基または(炭素原子数1ないし4のアルキ ル)アミノカルボニル基を表し、 Bが式(II)で表される基を表し、 Xが>NR6基を表し、そして R6が炭素原子数1ないし4のアルキル基を表す請求項1記載の式(I)で表 される化合物。 12.次式(I−0):に相当するブロックオリゴマーに存在する次式(IV−0): で表される基を式(IV): (式中、R1はヒドロカルビル基を表すか、または−O−R1はオキシル基を表す )で表される基に変更することにより得られる生成物であって、 該変更は炭化水素溶媒中、過酸化物分解触媒の存在下で式(I−0)に相当す るブロックオリゴマーとヒドロペルオキシドとの反応により行われ; 上記式中、 nは2ないし14の数を表し、 基R2は互いに独立して炭素原子数2ないし12のアルキレン基、炭素原子数 4ないし12のアルケニレン基、炭素原子数5ないし7のシクロアルキレン基、 炭素原子数5ないし7のシクロアルキレンジ(炭素原子数1ないし4のアルキレ ン)基、炭素原子数1ないし4のアルキレンジ(炭素原子数5ないし7のシクロ アルキレン)基、フェニレンジ(炭素原子数1ないし4のアルキレン)基または 1,4−ピペラジンジイル基、−O−もしくは>N−X1(X1は炭素原子数1 ないし12のアシル基または(炭素原子数1ないし12のアルコキシ)カルボニ ル基を表すか、または下記のR4の定義の一つを有する)により中断された炭素 原子数4ないし12のアルキレン基を表すか、またはR2は次式(a)、(b) または(c): (式中、mは2または3を表し、 X2は炭素原子数1ないし18のアルキル基、非置換または1、2もしくは3 個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数5ないし1 2のシクロアルキル基;非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし 4のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基により置換された フェニル基;非置換またはフェニル基上で1、2もしくは3個の炭素原子数1な いし4のアルキル基により置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル 基を表し、そして 基X3は互いに独立して炭素原子数2ないし12のアルキレン基を表す)で表 される基を表し、 基Aは互いに独立して炭素原子数1ないし8のアシル基、(炭素原子数1ない し8のアルコキシ)カルボニル基、(炭素原子数5ないし12のシクロアルコキ シ)カルボニル基、(炭素原子数1ないし8のアルキル)アミノカルボニル基、 (炭素原子数5ないし12のシクロアルキル)アミノカルボニル基、(炭素原子 数7ないし9のフェニルアルキル)アミノカルボニル基、炭素原子数1ないし8 のアルキル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアル キル基により置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基;炭素原子 数3ないし6のアルケニル基、非置換またはフェニル基上で1、2もしくは3個 の炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数7ないし9の フェニルアルキル基;または−CH2CN基を表し、 B*は−OR3基、−N(R4)(R5)基または次式(II−0): で表される基を表し、 R3、R4およびR5は同一または相違して、炭素原子数1ないし18のアルキ ル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基に より置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基;炭素原子数3ない し18のアルケニル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし 4のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基により置換された フェニル基;非置換またはフェニル基上で1、2もしくは3個の炭素原子数1な いし4のアルキル基により置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル 基;テトラヒドロフルフリル基または2、3もしくは4位で−OH基、炭素原子 数1ないし8のアルコキシ基、ジ(炭素原子数1ないし4のアルキル)アミノ基 または次式(III): (式中、Yは−O−基、−CH2−基、−CH2CH2−基または>N−CH3 基を表す)で表される基により置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基を 表し、そしてR3はさらに水素原子を表すか、または−N(R4)(R5)基はさ らに式(III)で表される基を表し、 X*は−O−基または>N−R6 *基を表し、 R6 *は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアル ケニル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアルキル 基により置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基;非置換または フェニル基上で1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により 置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基;テトラヒドロフルフリ ル基または式(IV−0)で表される基または2、3もしくは4位で−OH基、 炭素原子数1ないし8のアルコキシ基、ジ(炭素原子数1ないし4のアルキル) アミノ基もしくは式(III)で表される基により置換された炭素原子数2ない し4のアルキル基を表し、そして 基R*は互いに独立してR6 *に対して定義された意味の一つを有するが、 ただし式(I−0)中の個々の反復単位において、基B*、R*およびR2の各 々は同じか、または異なる意味を有する、上記生成物。 13.式中、 R2が炭素原子数2ないし12のアルキレン基、炭素原子数5ないし7のシク ロアルキレン基、炭素原子数5ないし7のシクロアルキレンジ(炭素原子数1な いし4のアルキレン)基、炭素原子数1ないし4のアルキレンジ(炭素原子数5 ないし7のシクロアルキレン)基、フェニレンジ(炭素原子数1ないし4のアル キレン)基、または−O−もしくは>N−X1(X1は炭素原子数1ないし12の アシル基または(炭素原子数1ないし12のアルコキシ)カルボニル基を表すか 、またはR4の定義の一つを有する)により中断された炭素原子数4ないし12 のアルキレン基を表すか、またはR2が式(b)で表される基を表し、 R3、R4およびR5が同一または相違して、炭素原子数1ないし18のアルキ ル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基に より置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基;非置換または1、 2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基もしくは炭素原子数1な いし4のアルコキシ基により置換されたフェニル基;非置換またはフェニル基上 で1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭 素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表し、そしてR3がさらに水素原子 を表すか、または−N(R4)(R5)基がさらに式(III)で表される基を表 し、 R6 *が炭素原子数1ないし18のアルキル基、非置換または1、2もしくは3 個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数5ないし1 2のシクロアルキル基;非置換またはフェニル基上で1、2もしくは3個の炭素 原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数7ないし9のフェニ ルアルキル基、または式(IV−0)で表される基を表す請求項12記載の生成 物。 14.式(I−0)に相当するブロックオリゴマーが1ないし1.7の多分散性 Mw/Mnを有する請求項12記載の生成物。 15.式中、R1が炭素原子数5ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし 18のアルケニル基、炭素原子数5ないし18のアルキニル基、非置換または炭 素原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数5ないし12のシ クロアルキル基、非置換または炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換さ れた炭素原子数5ないし12のシクロアルケニル基、炭素原子数6ないし10の 二環式または三環式ヒドロカルビル基または非置換またはフェニル基上で炭素原 子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数7ないし9のフェニル アルキル基を表し、そして 炭化水素溶媒がR1に応じて炭素原子数5ないし18のアルカン、炭素原子数 5ないし18のアルケン、炭素原子数5ないし18のアルキン、非置換または炭 素原子数1ないし4のアルキルにより置換された炭素原子数5ないし12のシク ロアルカン、非置換または炭素原子数1ないし4のアルキルにより置換された炭 素原子数5ないし12のシクロアルケン、炭素原子数6ないし10の二環式また は三環式炭化水素または非置換またはフェニル基上で炭素原子数1ないし4のア ルキル基により置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルカンである請求 項12記載の生成物。 16.式中、基−O−R1がオキシル基を表し、そして 炭化水素溶媒が不活性有機溶媒である請求項12記載の生成物。 17.過酸化物分解触媒が金属カルボニル、金属酸化物、金属アセチルアセトネ ートまたは金属アルコキシドであり、上記金属が周期表のIVb、Vb、VIb 、VIIbおよびVIII族から選択される請求項12記載の生成物。 18.ヒドロペルオキシドが第三ブチルヒドロペルオキシドであり、そして 過酸化物分解触媒がMoO3である請求項12記載の生成物。 19.式(I−0)で表されるブロックオリゴマーに存在する次式(IV−0) で表される基1モルあたり、ヒドロペルオキシド2ないし8モル、過酸化物分解 触媒0.001ないし0.1モルおよび炭化水素溶媒5ないし30モルが適用さ れる請求項12記載の生成物。 20.式(IV)中の−OR1がオキシル基を表す請求項12記載の生成物を水 素化し、次式(IV−1): で表される基を有するブロックオリゴマーを得ることにより得られる生成物。 21.a)次式(Ia): で表される化合物、 b)次式(Ib): で表される化合物、および c)次式(Ic): で表される化合物を含有する混合物であって、 式(Ia)、式(Ib)および式(Ic)で表される化合物は反復単位の数に おいてのみ相違し、式(Ia)の化合物:式(Ib)の化合物:式(Ic)の化 合物のモル比は2:2:1.5ないし2:0.5:0.05であり、そして R1は水素原子またはヒドロカルビル基を表すか、または−O−R1はオキシル 基を表し、 R2は炭素原子数2ないし12のアルキレン基、炭素原子数4ないし12のア ルケニレン基、炭素原子数5ないし7のシクロアルキレン基、炭素原子数5ない し7のシクロアルキレンジ(炭素原子数1ないし4のアルキレン)基、炭素原子 数1ないし4のアルキレンジ(炭素原子数5ないし7のシクロアルキレン)基、 フェニレンジ(炭素原子数1ないし4のアルキレン)基または1,4−ピペラジ ンジイル基、−O−もしくは>N−X1(X1は炭素原子数1ないし12のアシル 基または(炭素原子数1ないし12のアルコキシ)カルボニル基を表すか、また は下記のR4の定義の一つを有する)により中断された炭素原子数4ないし12 のアルキレン基を表すか、またはR2は次式(a)、(b)または(c): (式中、mは2または3を表し、 X2は炭素原子数1ないし18のアルキル基、非置換または1、2もしくは3 個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換された炭素原子数5ないし1 2のシクロアルキル基;非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし 4のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基により置換された フェニル基;非置換またはフェニル基上で1、2もしくは3個の炭素原子数1な いし4のアルキル基により置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル 基;そして 基X3は互いに独立して炭素原子数2ないし12のアルキレン基を表す)で表 される基を表し、 Aは炭素原子数1ないし8のアシル基、(炭素原子数1ないし8のアルコキシ )カルボニル基、(炭素原子数5ないし12のシクロアルコキシ)カルボニル基 、(炭素原子数1ないし8のアルキル)アミノカルボニル基、(炭素原子数5な いし12のシクロアルキル)アミノカルボニル基、(炭素原子数7ないし9のフ ェニルアルキル)アミノカルボニル基、炭素原子数1ないし8のアルキル基、非 置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換 された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基;炭素原子数3ないし6のア ルケニル基、非置換またはフェニル基上で1、2もしくは3個の炭素原子数1な いし4のアルキル基により置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル 基;または−CH2CN基を表し、 Bは−OR3基、−N(R4)(R5)基または次式(II): で表される基を表し、 R3、R4およびR5は同一または相違して、炭素原子数1ないし18のアルキ ル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基に より置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基;炭素原子数3ない し18のアルケニル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし 4のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基により置換された フェニル基;非置換またはフェニル基上で1、2もしくは3個の炭素原子数1な いし4のアルキル基により置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル 基;テトラヒドロフルフリル基または2、3もしくは4位で−OH基、炭素原子 数1ないし8のアルコキシ基、ジ(炭素原子数1ないし4のアルキル)アミノ基 もしくは次式(III): (式中、Yは−O−基、−CH2−基、−CH2CH2−基または>N−CH3基を 表す)で表される基により置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基を表し 、そしてR3はさらに水素原子を表すか、または−N(R4)(R5)基はさらに 式(III)で表される基を表し、 Xは−O−基または>N−R6基を表し、 R6は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアル ケニル基、非置換または1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアルキル 基により置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基;非置換または フェニル基上で1、2もしくは3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により 置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基;テトラヒドロフルフリ ル基または次式(IV): で表される基または2、3もしくは4位で−OH基、炭素原子数1ないし8のア ルコキシ基、ジ(炭素原子数1ないし4のアルキル)アミノ基もしくは式(II I)で表される基により置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基を表し、 そして RはR6に対して定義された意味の一つを有する、上記混合物。 22.式中、 Rが次式(IV): で表される基を表し、 R1がオクチル基またはシクロヘキシル基を表し、 R2が炭素原子数2ないし6のアルキレン基を表し、 Aが炭素原子数1ないし8のアシル基または(炭素原子数1ないし4のアルキ ル)アミノカルボニル基を表し、 Bが次式(II):で表される基を表し、 Xが>NR6基を表し、そして R6が炭素原子数1ないし4のアルキル基を表す、請求項21記載の混合物。 23.光、熱または酸化により誘導される分解を受けやすい有機材料および請求 項1記載の化合物を含有する組成物。 24.有機材料が合成ポリマーである請求項23記載の組成物。 25.有機材料がポリエチレンまたはポリプロピレンである請求項23記載の組 成物。 26.光、熱または酸化により誘導される分解を受けやすい有機材料および請求 項12記載の生成物を含有する組成物。 27.有機材料に請求項1記載の生成物を配合することからなる、前記有機材料 を光、熱または酸化により誘導される分解から安定化する方法。
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