JP4366669B2 - 有機材料のための安定剤としての１−ヒドロカルビルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル基を含むブロックオリゴマー - Google Patents

Description

本発明は、１−ヒドロカルビルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル基を含む特別なブロックオリゴマー、有機材料、特に合成ポリマーのための光安定剤、熱安定剤および酸化安定剤としてのそれらの使用、並びにそのようにして安定化された有機材料に関する。本発明はさらに中間体生成物に関する。
２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの誘導体を用いる合成ポリマーの安定化は、例えばＵＳ−Ａ−４０８６２０４、ＵＳ−Ａ−４３３１５８６、ＵＳ−Ａ−４３３５２４２、ＵＳ−Ａ−４２３４７０７、ＵＳ−Ａ−４４５９３９５、ＵＳ−Ａ−４４９２７９１、ＵＳ−Ａ−５２０４４７３、ＥＰ−Ａ−５３７７５、ＥＰ−Ａ−３５７２２３、ＥＰ−Ａ−３７７３２４、ＥＰ−Ａ−４６２０６９、ＥＰ−Ａ−７８２９９４およびＧＢ−Ａ−２３０１１０６において記載されている。
本発明は特に、１）次式（α）

で表される化合物を次式（β）

で表される化合物と化学量論的比率で反応させて次式（γ）

で表される化合物を得て、
２）式（β）で表される化合物を式（γ）で表される化合物と０．４：１ないし０．７５：１、好ましくは０．５：１ないし０．７５：１、特に０．５：１のモル比で反応させ、
３）反応２）の生成物中に存在する次式（δ）

で表される末端基を次式（ε）
A-H （ε）
で表される化合物と２（末端基）：１．７ないし２：３、好ましくは２：２ないし２：２．６、特に２：２ないし２：２．４のモル比で反応させ、
４）反応３）の生成物中に存在する次式（Ｇ−Ｉ）

で表される基を次式（Ｇ−II）

で表される基に転換することによって得られる生成物であって、
前記反応１）ないし３）は有機溶媒中で無機塩基の存在下で行い、そして
前記転換は反応３）の生成物をヒドロペルオキシドと炭化水素溶媒中で過酸化物分解触媒の存在下で反応させることによって行い、
上記の各式中、
Ｒ₁はヒドロカルビル基を表すかまたは−Ｏ−Ｒ₁はオキシル基を表し、
Ｒ₂は炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数４ないし１２のアルケニレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基、フェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基または１，４−ピペラジンジイル基、−Ｏ−もしくは＞Ｎ−Ｘ₁［式中、Ｘ₁は炭素原子数１ないし１２のアシル基または（炭素原子数１ないし１２のアルコキシ）カルボニル基を表すか、または以下に与えられるＲ₄の定義の一つを有する。］で表される基によって中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基を表すか、またはＲ₂は次式（Ｉ−ａ）、（Ｉ−ｂ）または（Ｉ−ｃ）

［各式中、ｍは２または３を表し、
Ｘ₂は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、未置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、未置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基によって置換されたフェニル基、未置換またはフェニル基について１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し、そして
基Ｘ₃は互いに独立して炭素原子数２ないし１２のアルキレン基を表す。］で表される基を表し、
Ａは−ＯＲ₃、−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）または次式（II）

で表される基を表し、
Ｒ₃、Ｒ₄およびＲ₅は同一または異なって、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、未置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、未置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基によって置換されたフェニル基、未置換またはフェニル基について１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、テトラヒドロフルフリル基または２、３もしくは４位において−ＯＨ、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基もしくは次式（III）

［式中、Ｙは−Ｏ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−または＞Ｎ−ＣＨ₃を表す。］で表される基によって置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表し、またＲ₃はさらに水素原子を表すか、または−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）はさらに式（III）で表される基を表し、
Ｘは−Ｏ−または＞Ｎ−Ｒ₆を表し、
Ｒ₆は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、未置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、未置換またはフェニル基について１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、テトラヒドロフルフリル基、式（Ｇ−Ｉ）で表される基または２、３もしくは４位において−ＯＨ、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基もしくは式（III）で表される基によって置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表し、
ＲはＲ₆について与えられた意味の一つを有し、そして
ＢはＡについて与えられた意味の一つを有する生成物に関する。
式（Ｇ−Ｉ）で表される基の式（Ｇ−II）で表される基への転換は、例えば本明細書に引用文献として組み込まれるＵＳ−Ａ−４９２１９６２において記載された方法に類似して行い得る。
Ｒ₁の意味は反応４）において使用される炭化水素溶媒に依存する。Ｒ₁は好ましくは５ないし１８個の炭素原子を有するヒドロカルビル基を表す。
Ｒ₁は特に炭素原子数５ないし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし１８のアルケニル基、炭素原子数５ないし１８のアルキニル基、未置換または炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、未置換または炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルケニル基、６ないし１０個の炭素原子を有する二環式または三環式のヒドロカルビル基または未置換またはフェニル基について炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し、そして
反応４）における炭化水素溶媒は従ってＲ₁に依存して、炭素原子数５ないし１８のアルカン、炭素原子数５ないし１８のアルケン、炭素原子数５ないし１８のアルキン、未置換または炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルカン、未置換または炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルケン、６ないし１０個の炭素原子を有する二環式または三環式の炭化水素または未置換またはフェニル基について炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルカンである。
さらに好ましい態様に従うと、Ｒ₁はヘプチル基、オクチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロヘキセニル基、α−メチルベンジル基または１，２，３，４−テトラヒドロネフテニル基を表し、そして
反応４）における炭化水素溶媒はＲ₁に依存して、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シクロオクタン、シクロヘキセン、エチルベンゼンまたはテトラリンである。
特に好ましい態様に従うと、Ｒ₁はオクチル基またはシクロヘキシル基を表し、そして
反応４）における炭化水素溶媒はＲ₁に依存して、オクタンまたはシクロヘキサンである。
１８個以下の炭素原子を含むアルキル基の例はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、２−ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、ペンチル基、２−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、第三オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基およびオクタデシル基である。Ｒ₁は好ましくは炭素原子数６ないし１２のアルキル基、特にヘプチル基またはオクチル基を表す。Ｒ₄、Ｒ₅およびＲ₆は好ましくは炭素原子数１ないし８のアルキル基、特に炭素原子数１ないし４のアルキル基を表す。
−ＯＨによって置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基の例は２−ヒドロキシエチル基である。
炭素原子数１ないし８のアルコキシ基によって、好ましくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、特にメトキシ基またはエトキシ基によって置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基の例は２−メトキシエチル基、２−エトキシエチル基、３−メトキシプロピル基、３−エトキシプロピル基、３−ブトキシプロピル基、３−オクトキシプロピル基および４−メトキシブチル基である。
ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基によって、好ましくはジメチルアミノ基またはジエチルアミノ基によって置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基の例は２−ジメチルアミノエチル基、２−ジエチルアミノエチル基、３−ジメチルアミノプロピル基、３−ジエチルアミノプロピル基、３−ジブチルアミノプロピル基および４−ジエチルアミノブチル基である。
式（III）で表される基は好ましくは次式

で表される基である。
式（III）で表される基によって置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基の好ましい例は次式

で表される基である。次式

で表される基が特に好ましい。
未置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基の例はシクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、ジメチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、トリメチルシクロヘキシル基、第三ブチルシクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロデシル基およびシクロドデシル基である。未置換または置換されたシクロヘキシル基が好ましい。
６ないし１０個の炭素原子を有する二環式または三環式のヒドロカルビル基の好ましい例は１，２，３，４−テトラヒドロネフテニル基である。
未置換または炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルケニル基の好ましい例はシクロヘキセニル基である。
１８個以下の炭素原子を含むアルケニル基の例はアリル基、２−メチルアリル基、ブテニル基、ヘキセニル基、ウンデセニル基およびオクタデセニル基である。１位における炭素原子が飽和しているアルケニル基が好ましく、またアリル基が特に好ましい。
アルキニル基の例はペンチニル基またはオクチニル基である。
１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基または炭素原子数１ないし４のアルコキシ基によって置換されたフェニル基の例はメチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、第三ブチルフェニル基、ジ−第三ブチルフェニル基、３，５−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基およびブトキシフェニル基である。
未置換またはフェニル基について１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基の例はベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、第三ブチルベンジル基および２−フェニルエチル基である。ベンジル基が好ましい。
１２個以下の炭素原子を含むアシル基（脂肪族、環式脂肪族または芳香族）の例はホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基およびベンゾイル基である。炭素原子数１ないし８のアルカノイル基およびベンゾイル基が好ましい。アセチル基が特に好ましい。
（炭素原子数１ないし１２のアルコキシ）カルボニル基の例はメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペントキシカルボニル基、ヘキソキシカルボニル基、ヘプトキシカルボニル基、オクトキシカルボニル基、ノニルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、ウンデシルオキシカルボニル基およびドデシルオキシカルボニル基である。
１２個以下の炭素原子を含むアルキレン基の例はエチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基およびドデカメチレン基である。Ｒ₂は例えば炭素原子数２ないし８のアルキレン基または炭素原子数４ないし８のアルキレン基、特に炭素原子数２ないし６のアルキレン基、好ましくはヘキサメチレン基を表す。
炭素原子数４ないし１２のアルケニレン基の例は３−ヘキセニレン基である。
炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基の例はシクロヘキシレン基である。
１，４−ピペラジンジイル基によって中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基の例は次式

または次式

で表される基である。
−Ｏ−例えば１、２または３個の−Ｏ−によって中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基の例は３−オキサペンタン−１，５−ジイル基、４−オキサヘプタン−１，７−ジイル基、３，６−ジオキサオクタン−１，８−ジイル基、４，７−ジオキサデカン−１，１０−ジイル基、４，９−ジオキサドデカン−１，１２−ジイル基、３，６，９−トリオキサウンデカン−１，１１−ジイル基および４，７，１０−トリオキサトリデカン−１，１３−ジイル基である。
＞Ｎ−Ｘ₁によって中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基の例は−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｎ（Ｘ₁）−ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｎ（Ｘ₁）−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、特に−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｎ（ＣＨ₃）−ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｎ（ＣＨ₃）−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−である。
炭素原子数５ないし７のシクロアルキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基の例はシクロヘキシレンジメチレン基である。
炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基の例はメチレンジシクロヘキシレン基およびイソプロピリデンジシクロヘキシレン基である。
フェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基の例はフェニレンジメチレン基である。
式（γ）で表される化合物中で、Ｒは好ましくは式（Ｇ−Ｉ）で表される基を表す。
好ましいのは式中、Ｒ₂は炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基、フェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基または−Ｏ−もしくは＞Ｎ−Ｘ₁［式中、Ｘ₁は炭素原子数１ないし１２のアシル基または（炭素原子数１ないし１２のアルコキシ）カルボニル基を表すか、またはＲ₄の定義の一つを有する。］によって中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基を表すか、またはＲ₂は式（Ｉ−ｂ）で表される基を表し、
Ｒ₃、Ｒ₄およびＲ₅は同一または異なって、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、未置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、未置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基によって置換されたフェニル基、未置換またはフェニル基について１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し、また
Ｒ₃はさらに水素原子を表すか、または−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）はさらに式（III）で表される基を表し、
Ｒ₆は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、未置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、未置換またはフェニル基について１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基または式（Ｇ−Ｉ）で表される基を表すところの生成物である。
また好ましいのは式中、Ｒ₂は炭素原子数２ないし１０のアルキレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘキシレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、炭素原子数１ないし４のアルキレンジシクロヘキシレン基またはフェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基を表し、
Ｒ₃、Ｒ₄およびＲ₅は同一または異なって、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、未置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、未置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換されたフェニル基、未置換またはフェニル基について炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換されたベンジル基を表すか、または−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）はさらに式（III）で表される基を表し、そして
Ｒ₆は炭素原子数１ないし１２のアルキル基、未置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、未置換またはフェニル基について１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換されたベンジル基または式（Ｇ−Ｉ）で表される基を表すところの生成物である。
さらに好ましいのは式中、Ｒ₂は炭素原子数２ないし８のアルキレン基を表し、
Ｒ₃、Ｒ₄およびＲ₅は同一または異なって、炭素原子数１ないし８のアルキル基、未置換またはメチル基によって置換されたシクロヘキシル基、未置換またはメチル基によって置換されたフェニル基、ベンジル基を表すか、または−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）はさらに４−モルホリニル基を表し、そして
Ｒ₆は炭素原子数１ないし８のアルキル基、未置換またはメチル基によって置換されたシクロヘキシル基、ベンジル基または式（Ｇ−Ｉ）で表される基を表すところの生成物である。
特に好ましいのは式中、Ｒ₁はオクチル基またはシクロヘキシル基を表し、そして
反応４）における炭化水素溶媒はＲ₁に依存してオクタンまたはシクロヘキサンであり、
Ｒ₂は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表し、
Ａは−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）または式（II）で表される基を表し、
Ｒ₄およびＲ₅は同一または異なって、炭素原子数１ないし８のアルキル基を表すか、または−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）はさらに４−モルホリニル基を表し、
Ｘは＞ＮＲ₆を表し、
Ｒ₆は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し、そして
ＢはＡについて与えられた意味の一つを有するところの生成物である。
また特に好ましいのは式中、Ｒ₁はオクチル基またはシクロヘキシル基を表し、そして
反応４）における炭化水素溶媒はＲ₁に依存してオクタンまたはシクロヘキサンであり、
Ｒ₂は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表し、
Ｒは式（Ｇ−Ｉ）で表される基を表し、
Ａは−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）を表し、
Ｒ₄およびＲ₅は同一または異なって、炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し、
Ｂは式（II）で表される基を表し、
Ｘは＞ＮＲ₆を表し、
Ｒ₆は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表すところの生成物である。
反応１）、２）および３）において使用される有機溶媒は特に芳香族炭化水素または脂肪族ケトンである。
芳香族炭化水素の例はトルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ジイソプロピルベンゼンおよび第三ブチルベンゼンである。
脂肪族ケトンの例はメチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、エチルブチルケトン、ジ−ｎ−プロピルケトン、メチルヘキシルケトンおよびエチルアミルケトンである。本質的に水可溶性のケトンが好ましい。
好ましい溶媒はトルエン、キシレン、メチルブチルケトンおよびメチルイソブチルケトンである。キシレンおよびメチルイソブチルケトンが特に好ましい。
本発明のプロセスにおいて使用される無機塩基の例は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムである。水酸化ナトリウムが好ましい。
反応１）ないし３）は好ましくは不活性雰囲気下、特に窒素下で行われる。
溶媒に依存して、反応１）は例えば１０℃ないし９０℃、好ましくは２０℃ないし９０℃、特に５０℃ないし８５℃の温度で行われる。
反応２）は都合良く密閉系において例えば１１０℃ないし２００℃、好ましくは１３０℃ないし１９０℃、特に１５０℃ないし１６０℃の温度で行われる。反応混合物を所望の温度に加熱するとき、反応が密閉系において行われるので、圧力が上昇する。使用される溶媒の低い沸点のために、一般に３ないし８ｂａｒ、例えば４ないし６ｂａｒの圧力が反応器中で測定される。
反応３）もまた都合良く密閉系において例えば１１０℃ないし１８０℃、好ましくは１３０℃ないし１７０℃、特に１４０℃ないし１６０℃の温度で行われる。高い温度のために、普通３ないし８ｂａｒ、例えば４ないし６ｂａｒの圧力が反応器中で再び測定される。
所望により、反応３）の完了後、式（ε）で表される化合物および結局未反応の開始材料が最終混合物から蒸留によってまたは通常の精製技術を使用することによって排除されることができる。
反応３）の生成物は続く反応４）の前に都合良く単離される。
反応４）において使用される過酸化物分解触媒は例えば金属カルボニル、金属オキシド、金属アセチルアセトネートまたは金属アルコキシドであり、該金属は周期表のIVｂ、Ｖｂ、VIｂ、VIIｂおよびVIII群より選択され、好ましくはバナジウム（III）アセチルアセトネート、コバルトカルボニル、クロム（VI）オキシド、チタン（IV）イソプロポキシド、チタンテトラブトキシド、モリブデンヘキサカルボニル、モリブデントリオキシド等である。最も好ましい触媒はＭｏＯ₃である。
適したヒドロペルオキシドは第三ブチルヒドロペルオキシド、第三アミルヒドロペルオキシド、第三ヘキシルヒドロペルオキシド、第三オクチルヒドロペルオキシド、エチルベンゼンヒドロペルオキシド、テトラリンヒドロペルオキシドまたはクメン（＝イソプロピルベンゼン）ヒドロペルオキシドである。最も好ましいヒドロペルオキシドは第三ブチルヒドロペルオキシドである。
反応４）において、ヒドロペルオキシド２ないし８モル、好ましくは３ないし６モル、過酸化物分解触媒０．００１ないし０．１モル、好ましくは０．００５ないし０．０５モルおよび炭化水素溶媒５ないし３０モル、好ましくは１０ないし２０モルが、例えば反応３）の生成物中に存在する次式（Ｇ−Ｉ）

で表される立体障害アミン部分１モル当りに適用される。
式（Ｇ−Ｉ）で表される立体障害アミン部分の次式

で表される基への転換は例えば７５℃ないし１６０℃、好ましくは１００℃ないし１５０℃の温度で行われる。
反応４）において式（Ｇ−Ｉ）で表される立体障害アミン部分が水性ヒドロペルオキシドで過酸化物分解触媒の存在下で不活性有機溶媒中で（例えばＵＳ−Ａ−４６９１０１５において記載される方法に類似して）最初に処理されるとき、比較的短時間のうちに得られる初期反応生成物は、高度に着色されまたそれ自身で単離されることができる対応するＮ−オキシル中間体（−ＯＲ₁＝オキシル基）である。
本発明のさらに好ましい態様は従って式中、基−Ｏ−Ｒ₁がオキシル基を表し、そして反応４）における炭化水素溶媒が不活性有機溶媒、好ましくはトルエンまたは１，２−ジクロロエタンであるところの、上記の反応１）ないし４）に従って得られる生成物に関する。
反応４）における有機溶媒が不安定な水素原子を有する炭化水素であるとき、アミンを対応するＮ−オキシル誘導体に変換するために必要である量を超えるヒドロペルオキシドの十分なモル過剰量が残存し、そして反応混合物を穏やかな温度（好ましくは１００℃ないし１５０℃）でさらなる期間の間加熱したとき、さらなる反応が（その場で元来のアミンから生成したかまたはプロセスにおいて初期の開始中間体として用いられた）Ｎ−オキシル化合物と炭化水素溶媒の間で起きて対応するＮ−ヒドロカルビルオキシ誘導体を与える。
反応４）における元来の反応混合物は無色であるが、しかしＮ−オキシル中間体が形成されるとき高度に着色する。この着色はＮ−オキシル化合物が無色のＮ−ヒドロカルビルオキシ生成物に変換されたとき消失する。このプロセスはそれ故本質的に反応の度合いを表す組み込まれた変色指示薬を有する。反応混合物が無色となったとき、有色のＮ−オキシル中間体がＮ−ヒドロカルビルオキシ生成物に完全に変換されたことを表す。
本発明の一つの態様は、式（Ｇ−II）中の−ＯＲ₁がオキシル基を表す反応４）の生成物を水素化して次式（Ｇ−III）

で表される基を有する生成物を得ることによって得られる生成物でもある。
水素化は既知の方法、例えば有機溶媒、例えばメタノールまたはエタノール中で、水素化触媒、好ましくは炭素上のパラジウムまたはＰｔＯ₂の存在下で、例えばＵＳ−Ａ−４６９１０１５において記載されるような方法に従って行われる。
所望により、反応４）において得られた生成物は以下の方法の一つに従って精製されることができる：
ａ）残留過酸化物を分解し、そして溶媒を蒸発させて粗固形生成物を得る。固形物をシクロヘキサン、オクタン、ヘキサン、石油エーテル、キシレン、トルエン、アセトン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、第三ブチルアルコール、第三アミルアルコール、イソプロピルアルコール、エタノール、メタノール、クロロホルム、ジクロロメタン、アセトアニリド、ジエチルエーテル、ジブチルエーテルおよび／または水のような不活性溶媒と共に攪拌する。該混合物を攪拌しながら加熱する。攪拌後、混合物を冷却し、そして固形生成物をろ過によって収集し、そして乾燥する。
ｂ）残留過酸化物を分解し、そして溶媒を部分的に蒸発させる。残渣をろ過して固形分を得て、これを上記のうちの一つのような不活性溶媒で洗浄し、それを深冷し、そしてその後乾燥する。
ｃ）残留過酸化物を分解し、そして溶媒を高温で蒸発させて融解物を得る。暖かい融解物を上記のうちの一つのような不活性溶媒と混合し、これを深冷し、そして生じた沈殿物をろ過によって収集し、そして乾燥する。この手順の変法は、暖かい融解物と溶媒を混合し、そしてその後混合物を冷却して沈殿物を得ること、または暖かい融解物を溶媒と混合し、加熱して全ての固形物を溶液にし、そしてその後冷却し、そして沈殿を得ることを包含する。
ｄ）残留過酸化物を分解し、そして溶媒を高温で蒸発させて融解物を得る。融解物を上記のうちの一つのような不活性溶媒中に加熱を伴ってまたは伴わずに溶解し、そして生じた溶液を少量の過剰な溶媒を蒸留除去することによって濃縮する。溶液をその後上記のうちの一つのような第二の溶媒と生成物が沈殿するような温度で混合する。固形分をろ過によって収集し、そして乾燥する。
より特別に、反応４）において得られる生成物を好ましくは以下のように精製する：
反応４）が完了した後、粗反応混合物を５０℃に冷却し、そして残留過酸化物の濃度が０．５％より低くなるまで２０％水性亜硫酸ナトリウムで処理する。水層を分離除去し、そして生成物溶液を減圧下で加熱することによって有機層を濃縮する。粗生成物を過剰な第三ブチルアルコール中に溶解し、そして溶液を減圧下で加熱することにより溶媒を固形分の濃度が５０％となるまで除去する。この溶液を徐々に冷メタノール中に添加する。生じた沈殿物をろ過し、メタノールで洗浄し、そして加熱により真空下で乾燥する。
一般に、上記されるプロセスにおいて使用される開始材料は既知である。それらが市販で入手可能でない場合、それらは既知の方法に類似して製造されることができる。
式（α）で表される化合物は、例えばシアヌル酸クロリドを化合物Ｂ−Ｈと化学量論的比率で有機溶媒および無機塩基の存在下で反応させることによって製造されることができる。式（α）で表される化合物の製造のために、上記で示された反応１）ないし３）においてと同じ溶媒および同じ無機塩基を使用することが適切である。
所望により、式（α）で表される開始材料の製造後、反応１）が式（α）で表される化合物の単離無しに直ちに続くことができる。
式（β）で表されるいくつかの開始材料は例えばＷＯ−Ａ−９５／２１１５７、ＵＳ−Ａ−４３１６８３７およびＵＳ−Ａ−４７４３６８８において記載される。
本発明の更なる態様は上記の反応１）ないし３）によって得られる生成物である。
次式

で表される基中の窒素原子が炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数２ないし８のヒドロキシアルキル基、Ｏ・、−ＯＨ、炭素原子数１ないし１８のヒドロカルビルオキシ基（例えば炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基または炭素原子数５ないし１２のシクロアルコキシ基）、−ＣＨ₂ＣＮ、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、炭素原子数３ないし６のアルキニル基、未置換またはフェニル基について１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基または炭素原子数１ないし８のアシル基によって置換された生成物は、上記の反応１）ないし３）に類似して適切な開始材料を使用して製造され得る。窒素原子は好ましくは炭素原子数１ないし４のアルキル基、特にメチル基によって置換される。次式

で表される基を含むそれらの開始材料は例えば、ＵＳ−Ａ−４９２１９６２、ＵＳ−Ａ−５０２１５７７およびＵＳ−Ａ−５２０４４７３において記載される方法に類似して製造され得る。
反応３）の生成物は単一の特別な化合物でなく、分子量分布を有する化合物である。
多分散性はポリマー性化合物の分子量分布を示す。本願においては、多分散性は重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）との比率を表す。１に等しいＭｗ／Ｍｎの値は、化合物が単分散体であり唯一の分子量を有しかつ分子量分布を有さないことを意味する。狭い分子量分布は１に近い多分散性（Ｍｗ／Ｍｎ）によって評価される。
反応３）の好ましい生成物は１．１ないし１．７、例えば１．１ないし１．６または１．３ないし１．７、特に１．３ないし１．６の多分散性を有する。
反応３）の生成物が例えば５モル％未満、特に２モル％未満または１モル％未満の次式

で表される部分によって末端キャップされていない線状副産物を含むことが注目される。
反応１）および２）の間、次式

で表される環式化合物が副産物として形成され得る。ＵＳ−Ａ−４４４２２５０から既知であるその化合物は、反応３）の生成物中に例えば１５モル％未満の量で存在し得る。
反応３）の生成物は好ましくは、次式（Ｍ−Ｉ）

で表される単分散化合物、次式（Ｍ−II）

で表される単分散化合物および次式（Ｍ−III）

で表される単分散化合物を含む混合物であって、
前記混合物は繰り返し単位の数においてのみ異なり、
上記の各式中、Ａ、Ｂ、ＲおよびＲ₂は上記で定義されたものを表し、そして
全混合物（＝１００モル％）に対して、
式（Ｍ−Ｉ）で表される化合物の総量は１５ないし４５モル％、例えば２０ないし４５モル％または２５ないし４５モル％または３０ないし４５モル％または３０ないし４０モル％であり、
式（Ｍ−II）で表される化合物の総量は１５ないし３５モル％、例えば１５ないし３０モル％または１５ないし２５モル％または２０ないし２５モル％であり、また
式（Ｍ−III）で表される化合物の総量は３ないし１８モル％、例えば３ないし１２モル％または５ないし１２モル％である混合物である。
好ましいのはさらに次式（Ｍ−IV）

で表される単分散化合物を含む混合物であって、そして
全混合物（＝１００モル％）に対して、
式（Ｍ−IV）で表される化合物の総量は１ないし１５モル％、例えば１ないし１０モル％または１ないし５モル％である混合物である。
反応４）は特に式（Ｍ−Ｉ）、（Ｍ−II）、（Ｍ−III）および所望による（Ｍ−IV）で表される化合物を含む混合物中に存在する次式（Ｇ−Ｉ）

で表される基の次式（Ｇ−II）

で表される基への転換に関する。
転換後、反応４）の生成物中の式（Ｐ−Ｉ）、（Ｐ−II）、（Ｐ−III）および所望による（Ｐ−IV）で表される以下に表される化合物の量は、式（Ｍ−Ｉ）、（Ｍ−II）、（Ｍ−III）および所望による（Ｍ−IV）で表される上記で表される初期化合物の量に対応する、なぜならばこれらの化合物の骨格は反応の間に影響を受けないからである。
従って、本発明のさらなる態様は次式（Ｐ−Ｉ）

で表される単分散化合物、次式（Ｐ−II）

で表される単分散化合物および次式（Ｐ−III）

で表される単分散化合物を含む混合物であって、
前記化合物は繰り返し単位の数においてのみ異なり、
全混合物（＝１００モル％）に対して、
式（Ｐ−Ｉ）で表される化合物の総量は１５ないし４５モル％、例えば２０ないし４５モル％または２５ないし４５モル％または３０ないし４５モル％または３０ないし４０モル％であり、
式（Ｐ−II）で表される化合物の総量は１５ないし３５モル％、例えば１５ないし３０モル％または１５ないし２５モル％または２０ないし２５モル％であり、また
式（Ｐ−III）で表される化合物の総量は３ないし１８モル％、例えば３ないし１２モル％または５ないし１２モル％であり、そして
上記の各式中、
Ｒ₁は水素原子、ヒドロカルビル基を表すかまたは−Ｏ−Ｒ₁はオキシ基を表し、
Ｒ₂は炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数４ないし１２のアルケニレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基、フェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基または１，４−ピペラジンジイル基、−Ｏ−もしくは＞Ｎ−Ｘ₁［式中、Ｘ₁は炭素原子数１ないし１２のアシル基または（炭素原子数１ないし１２のアルコキシ）カルボニル基を表すか、または以下に与えられるＲ₄の定義の一つを有する。］で表される基によって中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基を表すか、またはＲ₂は次式（Ｉ−ａ）、（Ｉ−ｂ）または（Ｉ−ｃ）

［各式中、ｍは２または３を表し、
Ｘ₂は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、未置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、未置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基によって置換されたフェニル基、未置換またはフェニル基について１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し、そして
基Ｘ₃は互いに独立して炭素原子数２ないし１２のアルキレン基を表す。］で表される基を表し、
Ａ^*は−ＯＲ₃、−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）または次式（Ｇ−IV）

で表される基を表し、
Ｒ₃、Ｒ₄およびＲ₅は同一または異なって、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、未置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、未置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基によって置換されたフェニル基、未置換またはフェニル基について１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、テトラヒドロフルフリル基または２、３もしくは４位において−ＯＨ、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基もしくは次式（III）

［式中、Ｙは−Ｏ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−または＞Ｎ−ＣＨ₃を表す。］で表される基によって置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表し、またＲ₃はさらに水素原子を表すか、または−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）はさらに式（III）で表される基を表し、
Ｘ^*は−Ｏ−または＞Ｎ−Ｒ₆ ^*を表し、
Ｒ₆ ^*は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、未置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、未置換またはフェニル基について１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、テトラヒドロフルフリル基、次式（Ｇ−II）

で表される基または２、３もしくは４位において−ＯＨ、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基もしくは式（III）で表される基によって置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表し、
Ｒ^*はＲ₆ ^*について与えられた意味の一つを有し、そして
Ｂ^*はＡ^*について与えられた意味の一つを有する混合物である。
好ましいのはさらに次式（Ｐ−IV）

で表される単分散化合物を含む混合物であって、
式中、基Ａ^*、Ｂ^*、Ｒ^*、Ｒ₁およびＲ₂は上記で定義されたものを表し、
全混合物（＝１００モル％）に対して、
式（Ｐ−IV）で表される化合物の総量は１ないし１５モル％、例えば１ないし１０モル％または１ないし５モル％である混合物である。
好ましいのは式中、
Ｒ₁はオクチル基またはシクロヘキシル基を表し、
Ｒ₂は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表し、
Ｒ^*は式（Ｇ−II）で表される基を表し、
Ａ^*は−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）を表し、
Ｒ₄およびＲ₅は同一または異なって、炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し、
Ｂ^*は式（Ｇ−IV）で表される基を表し、
Ｘ^*は＞ＮＲ₆ ^*を表し、そして
Ｒ₆ ^*は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表すそれらの混合物である。
本発明に従う混合物において、基Ｒ₁は式（Ｐ−Ｉ）、（Ｐ−II）、（Ｐ−III）および／または（Ｐ−IV）で表される二つまたはそれ以上の化合物の間の結合基として働くことができる。この場合、次式（Ｌ−Ｉ）

で表される架橋が示された化合物の間に形成される。
Ｒ₁ ^*の意味はＲ₁の意味から推論される。これらの二つの基の間の唯一の差異はＲ₁ ^*が一つまたは二つのさらなる原子価を有することである。それ故、シクロヘキシル基としてのＲ₁はシクロヘキサンジイル基またはシクロヘキサントリイル基としてのＲ₁ ^*に相当し、またオクチル基としてのＲ₁はオクタンジイル基またはオクタントリイル基としてのＲ₁ ^*に相当する。
本発明の生成物並びに記載された混合物は、有機材料、特に合成のポリマーおよびコポリマーの抗光性、抗熱性および抗酸化性を改良することにおいて非常に有効である。特に、低い顔料との相互作用並びに非常に良い色相が、ポリプロピレン、特にポリプロピレン繊維、より特に難燃剤の存在下において並びに農業的使用のための低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）において観察される。本発明の生成物並びに記載される混合物がそれ自身で難燃剤であることがさらに注目される。
安定化されることができる有機材料の例は以下のものである：
１．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−１−エン、ポリ−４−メチルペンテ−１−エン、ポリイソプレンまたはポリブタジエン、並びにシクロオレフィン、例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマー、ポリエチレン（所望により架橋されることができる。）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度・高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度・超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、（ＶＬＤＰＥ）および（ＵＬＤＰＥ）。
ポリオレフィン、すなわち前段落において例示したモノオレフィンのポリマー、好ましくはポリエチレンおよびポリプロピレンは、様々な方法、また特に以下の方法によって製造されることができる。
ａ）ラジカル重合（普通、高圧下および高温で）。
ｂ）普通、周期表のIVｂ、Ｖｂ、VIｂまたはVIII群の金属の１種またはそれ以上を含む触媒を使用する触媒重合。これらの金属は通常、典型的にはπ−またはσ−配位し得るオキシド、ハライド、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよび／またはアリールのような１個またはそれ以上のリガンドを有する。これらの金属錯体は遊離形態または典型的には活性化塩化マグネシウム、チタン（III）クロリド、アルミナまたは酸化ケイ素のような基材上に固定され得る。これらの触媒は重合媒体中に可溶または不溶であり得る。触媒は重合においてそれら自身により使用されることができ、または典型的には金属アルキル、金属ヒドライド、金属アルキルハライド、金属アルキルオキシドまたは金属アルキルオキサンのようなさらなる活性化剤が使用されることができ、該金属は周期表のＩａ、IIａおよび／またはIIIａ群の元素である。活性化剤はさらなるエステル、エーテル、アミンまたはシリルエーテル基で都合良く変性され得る。これらの触媒系は通常、フィリップス、スタンダード・オイル・インディアナ、チグラー（−ナッタ）、ＴＮＺ（デュポン）、メタロセンまたはシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と命名される。
２．１）以下で述べたポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレン、ポリプロピレンとポリエチレン（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）の混合物および異なる型のポリエチレン（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）の混合物。
３．モノオレフィンおよびジオレフィンの相互または他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）および低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテ−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマーおよびそれらの一酸化炭素とのコポリマーまたはエチレン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩（アイオノマー）並びにエチレンとプロピレンおよびヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデン−ノルボルネンのようなジエンとのターポリマー、およびそのようなコポリマー相互および１）において述べたポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡおよび交互またはランダムポリアルキレン／一酸化炭素コポリマーおよびそれらの他のポリマー、例えばポリアミドとの混合物。
４．炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）であって、それらの水素化変性物（例えば粘着付与剤）を含むもの、およびポリアルキレンおよびデンプンの混合物。
５．ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）。
６．スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたはアクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン／無水マレイン酸、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート、スチレンコポリマーおよび他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プロピレン／ジエンターポリマーの高衝撃強度性の混合物、およびスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレンまたはスチレン／エチレン／プロピレン／スチレンのようなスチレンのブロックコポリマー。
７．スチレンまたはα−メチルスチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−アクリロニトリルコポリマーにスチレン、ポリブタジエンにスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタアクリロニトリル）、ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよびメチルメタクリレート、ポリブタジエンにスチレンおよび無水マレイン酸、ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸またはマレイミド、ポリブタジエンにスチレンおよびマレイミド、ポリブタジエンにスチレンおよびアルキルアクリレートまたはメタクリレート、エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル、ポリアルキルアクリレートまたはポリアルキルメタクリレートにスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート／ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル、並びにそれらの６）以下に列挙したコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡまたはＡＥＳポリマーとして既知であるコポリマー混合物。
８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩素化ゴム、イソブチレン−イソプレンの塩素化および臭素化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩素化またはスルホ塩素化ポリエチレン、エチレンおよび塩素化エチレンのコポリマー、エピクロロヒドリン・ホモ−およびコポリマー、特にハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ボリフッ化ビニリデン、並びにそれらのコボリマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。
９．α，β−不飽和酸から誘導されたポリマー並びにポリアクリレートおよびポリメタクリレートのようなそれらの誘導体、ブチルアクリレートで耐衝撃変性されたポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニトリル。
１０．９）以下で述べたモノマーの相互または他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレートまたはアクリロニトリル／ビニルハライドコポリマーまたはアクリロニトリル／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。
１１．不飽和アルコールおよびアミンから誘導されたポリマーまたはアシル誘導体またはそれらのアセタール、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラル、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン、並びにそれらの１）において述べたオレフィンとのコポリマー。
１２．ポリアルキレングリコール、ボリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらのビスグリシジルエーテルとのコポリマーのような環式エーテルのホモポリマーおよびコポリマー。
１３．ポリオキシメチレンのようなポリアセタールおよびコモノマーとしてエチレンオキシドを含むそれらのポリオキシメチレン、熱可塑性ポリウレタン、アクリレートまたはＭＢＳで変性されたポリアセタール。
１４．ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド、およびポリフェニレンオキシドとスチレンポリマーまたはポリアミドとの混合物。
１５．一方の成分としてヒドロキシル基で末端終了されたポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエンおよび他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアナートから誘導されたポリウレタン、並びにそれらの前駆物質。
１６．ジアミシとジカルボン酸からおよび／またはアミノカルボン酸または対応するラクタムから誘導されたポリアミドおよびコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミンおよびアジピン酸から開始した芳香族ポリアミド、ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸または／およびテレフタル酸から変性剤としてのエラストマーを伴ってまたは伴わずに製造されたポリアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド、およびまた上記されたポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマーまたは化学結合もしくはグラフトしたエラストマーとの、または例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコールのようなポリエーテルとのブロックコポリマー、並びにＥＰＤＭまたはＡＢＳで変性されたポリアミドまたはコポリアミド、および加工の間に縮合されたポリアミド（ＲＩＭポリアミド系）。
１７．ポリ尿素、ポリイミド、ボリアミド−イミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダントインおよびポリベンズイミダゾール。
１８．ジカルボン酸とジオールからおよび／またはヒドロキシカルボン酸または対応するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレートおよびポリヒドロキシベンゾエート、並びにヒドロキシル基で末端終了されたポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル、およびまたポリカーボネートまたはＭＢＳで変性されたポリエステル。
１９．ポリカーボネートおよびポリエステルカーボネート。
２０．ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリエーテルケトン。
２１．一方の成分としてアルデヒドおよび他方の成分としてフェノール、尿素およびメラミンから誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。
２２．乾式および不乾式アルキド樹脂。
２３．飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとのコポリエステルおよび架橋剤としてのビニル化合物から誘導された不飽和ポリエステル樹脂、およびまた低燃焼性のそれらのハロゲン含有変性体。
２４．置換アクリレート、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエステルアクリレートから誘導された架橋可能なアクリル樹脂。
２５．メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアナート、イソシアヌレート、ポリイソシアナートまたはエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹脂。
２６．脂肪族、環式脂肪族、ヘテロ環式または芳香族のグリシジル化合物から誘導された架橋エポキシ樹脂、例えばビスフェノールＡおよびビスフェノールＦのジグリシジルエーテルの生成物であって、無水物またはアミンのような慣用の硬化剤と、促進剤を伴ってまたは伴わずに架橋されたもの。
２７．セルロース、ゴム、ゼラチンのような天然ポリマーおよび化学変性されたそれらの同質誘導体、例えばセルロースアセテート、セルロースプロピオネートおよびセルロースブチレート、またはメチルセルロースのようなセルロースエーテル、並びにロジンおよびそれらの誘導体。
２８．上記されたポリマーのブレンド（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭまたはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６およびコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳまたはＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
２９．純粋なモノマー性化合物またはそのような化合物の混合物である天然発生および合成有機材料、例えば鉱物油、動物および植物脂肪、油およびワックス、または合成エステル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェートまたはトリメリテート）をベースとした油、脂肪およびワックス、およびまた合成エステルと鉱物油とのあらゆる重量比における混合物であって、典型的に紡績組成物として使用されるもの、並びにそのような材料の水性乳液。
３０．天然または合成ゴムの水性乳液、例えば天然ラテックスまたはカルボキシル化スチレン／ブタジエンコポリマーのラテックス。
本発明はそれ故また、光、熱または酸化によって起こされる分解を受けやすい有機材料と本発明に従う生成物または混合物を含む組成物にも関する。
有機材料は好ましくは合成ポリマー、より特に上記した群より選択されるものである。ポリオレフィンが好ましく、またポリエチレンおよびポリプロピレンが特に好ましい。
本発明のさらなる態様は、光、熱または酸化によって起こされる分解に対して有機材料を安定化する方法であって、前記有機材料に本発明に従う生成物または混合物を混入することからなる方法に関する。
本発明に従う生成物または混合物は、安定化される材料の性質、最終使用および他の添加剤の存在に依存して様々な比率で使用されることができる。
一般に、安定化される材料の重量％に対して、０．０１ないし５重量％、好ましくは０．０５ないし２重量％、特に０．０５ないし１重量％の本発明に従う生成物または混合物を使用することが適切である。
本発明に従う生成物または混合物は例えばポリマー性材料に、該材料の重合または架橋の前、間または後に添加されることができる。さらに、それらはポリマー性材料中に純粋な形態でまたはワックス、油もしくはポリマー中にカプセル化されて混入されることができる。
一般に、本発明に従う生成物または混合物はポリマー性材料中に様々な方法によって、例えば粉末の形態での乾燥混合、または溶液もしくは懸濁液の形態での湿式混合によって、または２．５ないし２５重量％の濃度で本発明に従う生成物または混合物を含むマスターバッチの形態において混入されることができ、そのような操作において、ポリマーは粉末、顆粒、溶液、懸濁液の形態でまたはラテックスの形態で使用されることができる。
本発明に従う生成物または混合物で安定化される材料は成形品、フィルム、テープ、モノフィラメント、繊維、表面被覆等の製造のために使用されることができる。
所望により、合成ポリマーのための慣用の添加剤、例えば酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、ニッケル安定剤、顔料、充填剤、可塑剤、腐食防止剤および金属奪活剤が本発明に従う生成物または混合物を含む有機材料に添加されることができる。
前記慣用の添加剤の特別な例は以下のものである：
１． 酸化防止剤
１．１． アルキル化モノフェノール、例えば、
２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、
２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、
２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、
２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、
２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、
２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、
線形または側鎖において分岐したノニルフェノール、例えば、
２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、
２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノール、
２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ−１’−イル）フェノール、
２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノールおよびそれらの混合物。
１．２． アルキルチオメチルフェノール、例えば、
２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、
２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、
２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、
２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
１．３． ヒドロキノンおよびアルキル化ヒドロキノン、例えば、
２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、
２，５−ジ−第三ブチルヒドロキノン、
２，５−ジ−第三アミルヒドロキノン、
２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、
２，６−ジ−第三ブチルヒドロキノン、
２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、
ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
１．４． トコフェロール、例えば、
α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、
δ−トコフェロールおよびそれらの混合物（ビタミンＥ）。
１．５． ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例えば、
２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、
２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、
４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、
４，４’−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、
４，４’−チオビス（３，６−ジ−第二アミルフェノール）、
４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
１．６． アルキリデンビスフェノール、例えば、
２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、
２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、
２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール］、
２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、
２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、
２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、
２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、
２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、
２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、
２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、
４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、
４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、
１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、
２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、
１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、
１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、
エチレングリコールビス［３，３−ビス（３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、
ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、
ビス［２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、
１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、
２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、
１，１，５，５−テトラキス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
１．７． Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル化合物、例えば、
３，５，３’，５’−テトラ−第三ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、
オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、
トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、
トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、
ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、
ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、
イソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
１．８． ヒドロキシベンジル化マロネート、例えば、
ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、
ジオクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、
ジドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、
ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
１．９． 芳香族ヒドロキシベンジル化合物、例えば、
１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、
１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、
２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
１．１０． トリアジン化合物、例えば、
２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、
２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、
２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、
１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、
１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、
２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、
１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、
１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
１．１１． ベンジルホスホネート、例えば、
ジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、
ジエチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、
ジオクタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、
ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
１．１２． アシルアミノフェノール、例えば、
４−ヒドロキシラウラニリド、４−ヒドロキシステアラニリド、
オクチルＮ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。
１．１３． β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の以下の一価または多価アルコールとのエステル、
アルコール例、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、
ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、
ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、
トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、
３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、
トリメチロールプロパン、
４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
１．１４． β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の以下の一価または多価アルコールとのエステル、
アルコール例、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、
ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、
ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、
トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、
３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、
トリメチロールプロパン、
４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
１．１５． β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の以下の一価または多価アルコールとのエステル、
アルコール例、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、
１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、
１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、
チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、
３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、
トリメチロールプロパン、
４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
１．１６． ３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸の以下の一価または多価アルコールとのエステル、
アルコール例、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、
１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、
１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、
チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、
３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、
トリメチロールプロパン、
４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
１．１７． β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例えば、
Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、
Ｎ，Ｎ’−ビス［２−（３−［３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド（ユニロイヤルによって供給されるナウガード^RＸＬ−１）。
１．１８． アスコルビン酸（ビタミンＣ）
１．１９． アミン酸化防止剤、例えば、
Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、
４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、
Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、
ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、
４−イソプロポキシジフェニルアミン、
Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、
Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、
Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、
オクチル化ジフェニルアミン、例えば
ｐ，ｐ’−ジ−第三オクチルジフェニルアミン、
４−ｎ−ブチルアミノフェノール、
４−ブチリルアミノフェノール、
４−ノナノイルアミノフェノール、
４−ドデカノイルアミノフェノール、
４−オクタデカノイルアミノフェノール、
ビス（４−メトキシフェニル）アミン、
２，６−ジ−第三ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、
２，４’−ジアミノジフェニルメタン、
４，４’−ジアミノジフェニルメタン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、
１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、
１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、
（ｏ−トリル）ビグアニド、
ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、
第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、
モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物、
モノ−およびジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、
モノ−およびジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、
モノ−およびジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、
モノ−およびジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、
２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、
フェノチアジン、
モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、
モノ−およびジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、
Ｎ−アリルフェノチアジン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、
Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジ−４−イル）ヘキサメチレンジアミン、
ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート、
２，２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オン、
２，２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オール。
２． ＵＶ吸収剤および光安定剤
２．１． ２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、例えば、
２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、
２，２’−メチレン−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾリ−２−イルフェノール］、
２−［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物、
次式［Ｒ−ＣＨ₂ＣＨ₂−ＣＯＯ−ＣＨ₂ＣＨ₂−］₂−［式中、Ｒは３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イルフェニル基を表す。］で表されるもの、
２−［２’−ヒドロキシ−３’−（α、α−ジメチルベンジル）−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、
２−［２’−ヒドロキシ−３’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５’−（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール。
２．２． ２−ヒドロキシベンゾフェノン、例えば、
４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、
４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシおよび２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
２．３． 置換および未置換安息香酸のエステル、例えば、
４−第三ブチル−フェニルサリチレート、フェニルサリチレート、
オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、
ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、
ベンゾイルレゾルシノール、
２，４−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、
ヘキサデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、
オクタデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、
２−メチル−４，６−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
２．４． アクリレート、例えば、
エチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、
イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、
メチルα−カルボメトキシシンナメート、
メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、
ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、
メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメートおよび
Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。
２．５． ニッケル化合物、例えば、
２，２’−チオ−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、例えば１：１または１：２錯体であって、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンまたはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンのようなさらなる配位子を伴うまたは伴わないもの、
ニッケルジブチルジチオカルバメート、
４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のモノアルキルエステル、例えばメチルまたはエチルエステルのニッケル塩、
ケトキシムのニッケル錯体、例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトキシム、
１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体であって、さらなる配位子を伴うまたは伴わないもの。
２．６． 立体障害アミン、例えば、
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、
１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンおよびコハク酸の縮合生成物、
Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンおよび４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの線状または環式縮合生成物、
トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、
テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタン−テトラカルボキシレート、
１，１’−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、
４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、
４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジル）マロネート、
３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、
ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、
ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、
Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンおよび４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの線状または環式縮合生成物、
２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンおよび１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成物、
２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンおよび１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成物、
８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、
３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、
３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、
４−ヘキサデシルオキシ−および４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、
Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンおよび４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合生成物、
１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンおよび２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン並びに４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの縮合生成物（ＣＡＳ・Ｒｅｇ．Ｎｏ．［１３６５０４−９６−６］）、
Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、
Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、
２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４．５］デカン、
７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４．５］デカンおよびエピクロロヒドリンの反応生成物
１，１−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エタン
Ｎ，Ｎ’−ビス−ホルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、
４−メトキシメチレン−マロン酸の１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、
ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、
マレイン酸無水物−α−オレフィンコポリマーの２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジンまたは１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物。
２．７． オキサミド、例えば、
４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、
２，２’−ジエトキシオキサニリド、
２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、
２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、
２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、
Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、
２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エトキサニリド、および
その２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−第三ブトキサニリドとの混合物、
ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物、および
ｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
２．８． ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、例えば、
２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシ−プロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシ−プロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシ−プロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、
２−｛２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル｝−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン。
３． 金属奪活剤、例えば、
Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、
Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイルヒドラジン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、
３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、
ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、
オキサニリド、
イソフタロイルジヒドラジド、
セバコイルビスフェニルヒドラジド、
Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、
Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、
Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
４． ホスフィットおよびホスホナイト、例えば、
トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、
フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、
トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、
ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、
トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、
ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、
ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス（２，４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、
トリステアリルソルビトールトリホスフィット、
テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、
６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、
６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、
ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、
ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、
２，２’，２”−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］、
２−エチルヘキシル（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット。
５． ヒドロキシルアミン、例えば、
Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、
Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、
Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、
水素化牛脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
６． ニトロン、例えば、
Ｎ−ベンジル−α−フェニル−ニトロン、
Ｎ−エチル−α−メチル−ニトロン、
Ｎ−オクチル−α−ヘプチル−ニトロン、
Ｎ−ラウリル−α−ウンデシル−ニトロン、
Ｎ−テトラデシル−α−トリデシル−ニトロン、
Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、
Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、
Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、
Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、
Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、
Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシル−ニトロン、
水素化牛脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
７． チオ相乗剤、例えば、
ジラウリルチオジプロピオネートまたはジステアリルチオジプロピオネート。
８． 過酸化物捕捉剤、例えば、
β−チオジプロピオン酸のエステル、例えば、ラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、
メルカプトベンズイミダゾールまたは２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、
亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、
ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
９． ポリアミド安定剤、例えば、
ヨウ化物および／またはリン化合物と組み合わされた銅塩および二価マグネシウムの塩。
１０． 塩基性補助安定剤、例えば、
メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、
トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、
ポリアミド、ポリウレタン、
高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えば
カルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、
マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレートおよび
カリウムパルミテート、アンチモンピロカテコレートまたは
亜鉛ピロカテコレート。
１１．核剤、例えば、
タルクのような無機物質、
二酸化チタン、酸化マグネシウムのような金属酸化物、
ホスフェート、カーボネートまたはサルフェートであって、好ましくはアルカリ土類金属のもの、
モノ−またはポリカルボン酸のような有機化合物およびそれらの塩、例えば、
４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、
ナトリウムスクシネートまたはナトリウムベンゾエート、
イオン性コポリマー（“アイオノマー”）のようなポリマー性化合物。
１２．充填剤および強化剤、例えば、
炭酸カルシウム、シリケート、ガラス繊維、ガラス球、アスベスト、
タルク、カオリン、雲母、バリウムサルフェート、
金属オキシドおよびヒドロキシド、カーボンブラック、グラファイト、
木粉および他の天然生成物の粉末または繊維、合成繊維。
１３． その他の添加剤、例えば、
可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、流動添加剤、触媒、流れ調整剤、蛍光増白剤、難燃剤、帯電防止剤および発泡剤。
１４． ベンゾフラノンおよびインドリノン、例えば、
Ｕ．Ｓ．４，３２５，８６３、Ｕ．Ｓ．４，３３８，２４４、
Ｕ．Ｓ．５，１７５，３１２、Ｕ．Ｓ．５，２１６，０５２、
Ｕ．Ｓ．５，２５２，６４３、ＤＥ−Ａ−４３１６６１１、
ＤＥ−Ａ−４３１６６２２、ＤＥ−Ａ−４３１６８７６、
ＥＰ−Ａ−０５８９８３９もしくはＥＰ−Ａ−０５９１１０２において開示されるもの、または
３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、
５，７−ジ−第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラノ−２−オン、
３，３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、
５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、
３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、
３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、
３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、
３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン。
本発明に従う生成物または混合物の慣用の添加剤に対する重量比は、例えば１：０．５ないし１：５であり得る。
本発明の生成物または混合物はまた、安定剤として、特に光安定剤として、写真複製および例えばリサーチ・ディスクロージャー１９９０、３１４２９（４７４ないし４８０頁）に記載されるような他の複製技術の従来技術に既知であるほとんど全ての材料のために使用されることもできる。
本発明は以下の実施例によってより詳細に説明される。他に示されない限り、全ての部および百分率は重量部および重量百分率である。
以下の例の構造式中で、ｎ’は分子中に繰り返し単位が存在し、そして得られた生成物が均一でないことを示す。
実施例１Ａにおいて開示される開始材料は、数平均分子量Ｍｎおよび多分散性Ｍｗ／Ｍｎによって評価した。
ＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー）を、寸法におけるそれらの差異によって分子を分離するための分析手段として使用して分子量平均（Ｍｗ、Ｍｎ）またはポリマーの分子量分布についての情報を得た。
該技術は良く知られており、また例えばＷ．Ｗ．ヤン等による“モダン・サイズ・エクスクルージョン・リキッド・クロマトグラフィー”、Ｊ．ウィリー＆サンズ編集、Ｎ．Ｙ．、ＵＳＡ、１９７９、４〜８、２４９〜２８３および３１５〜３４０頁に記載される。
以下の実施例において表されるＧＰＣ分析は、ＨＰＬＣ設備：２５０ｎｍの波長を有する^RＵＶ１０００ＵＶ／ＶＩＳ検出器を備えた^RＴＳＰ・ＡＳ−１０００型で行った。“ＧＰＣ−ＳＳ−２５０×７．７ｍｍ×３１８”^Rバルコ−マイクロゲル−３混合ゲルをカラムとして使用した。
溶出液（流速１ｍｌ／分）は分光光度計（^Rメルク−１．０００１６）のためのテトラヒドロフラン−^Rユーバソル＋ジエタノールアミン（^Rフルカ３１５９０）０．０２モル／Ｌであった。検査する試料０．５ｇを溶出液１００ｍｌ中に溶解させた。
注入体積は２０μＬでありまたクロマトグラム期間は１５分であった。
実施例Ｉ−１：次式で表される生成物の製造

キシレン１２８６ｇ中のシアヌル酸クロリド２２１．２ｇ（１．２モル）の溶液に、攪拌および窒素雰囲気下でＮ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ブチルアミン２５４．８ｇ（１．２モル）を３時間にわたって添加し、添加の間約３０℃の温度に保った。濃厚であるが良く攪拌することができる懸濁液を得て、これを上記の温度にさらに１５分間保った。続いて、ＮａＯＨ３０％（％ｗ／ｖ）の水溶液１７６．３ｇおよび水２００ｍｌの混合物を１時間にわたって約３０℃で添加した。反応混合物を約３０℃でさらに２．５時間保持した。この時間の間に、全ての固形分は溶解し、そして乳液が形成した。その後、塩基性水溶液を分離した。
残留キシレン溶液を５０℃に加熱し、そして水２００ｇ中のＮ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミン２３６．８ｇ（０．６モル）を２時間にわたって添加した。引き続いて、ＮａＯＨ３０％（％ｗ／ｖ）の水溶液１７６．３ｇを２時間にわたって添加した。添加の間、温度を約５０℃に保持した。その後、温度を１時間にわたって約８０℃に上昇させた。反応混合物を、攪拌下で約８０℃でさらに１．５時間保持した。
塩基性水溶液を約８０℃で除去し、そしてキシレン３８０ｇを真空下で蒸留除去した（６８〜８２℃／２００〜１２０ｍｂａｒ）。
約８０℃に保持した有機溶液に、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミン１１８．４ｇ（０．３モル）を５分間にわたって添加した。引き続いて、反応混合物を５分間攪拌し、そしてＮａＯＨ３０％（％ｗ／ｖ）の水溶液９２ｇを約８０℃で５分間にわたって添加した。その後、反応混合物を加圧反応器に移した。水３００ｇおよびキシレン１７０ｇを添加し、そして反応器の密閉および窒素での不活性化の後、温度を１６０℃に２時間にわたって上昇させた。混合物を１６０℃で９時間５．４ｂａｒの圧力下で保持した。
６０℃への冷却後、ジ−ｎ−ブチルアミン８９．０ｇ（０．６９モル）を５分間にわたって添加し、そして引き続いてＮａＯＨ３０％（％ｗ／ｖ）の水溶液８６．４ｇを５分間にわたって添加した。
反応器を再び密閉した後、混合物を１６０℃に１時間にわたって加熱し、そして１６０℃で４時間５ｂａｒの圧力下に保持した。
６０℃への冷却後、キシレン１３０ｇおよび水１５０ｇを添加した。混合物を９０℃に攪拌下で加熱した。水溶液を分離した。
有機相を水４００ｇで２回洗浄し、そして共沸により乾燥した。溶液を約３０℃に冷却し、ろ過し、そして真空下で濃縮した（１２５〜２３０℃／３５０〜１ｍｂａｒ）。冷却により、融解物は固形分を与えた。
得られた生成物の融点は１３３〜１３７℃であった。
Ｍｎ（ＧＰＣ＝ゲル浸透クロマトグラフィーによる）＝２２００ｇ／モル
Ｍｗ／Ｍｎ＝１．６
ＧＰＣ分析は図１のようなクロマトグラムを表した。
得られた生成物の分析：
ｎ’＝１を有する化合物：３９モル％
ｎ’＝３を有する化合物：２０モル％
ｎ’＝５を有する化合物：９．３モル％
ｎ’＝７を有する化合物：４．４モル％
実施例Ｉ−２：次式で表される生成物の製造

約５℃で保持したメチルイソブチルケトン２５０ｍｌ中のシアヌル酸クロリド５５．３ｇ（０．３モル）の溶液に、Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−ｎ−ブチルアミン６３．７ｇ（０．３モル）を添加し、添加の間約５℃の温度に保った。
その後、水４０ｍｌをＮａＯＨ３０％（％ｗ／ｖ）の水溶液１７６．３ｇと一緒に添加した。
添加後、混合物を室温に加熱し、そしてメチルイソブチルケトン１２５ｍｌ中のＮ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−１，６−ヘキサンジアミン５９．２ｇ（０．１５モル）を室温で添加した。
混合物をその後６０℃に加熱し、そしてさらなる水４０ｍｌの添加後、６０℃で１時間保持した。
ＮａＯＨ３０％（％ｗ／ｖ）の水溶液４０ｇを添加し、そして混合物を７０℃に加熱した。１／２時間後、メチルイソブチルケトン２００ｍｌおよび水３０ｍｌを７０℃で弱い真空下で蒸留除去した。
７０℃に保持した有機混合物に、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−１，６−ヘキサンジアミン２９．６ｇ（０．０７５モル）を添加し、そしてさらにＮａＯＨ３０％（％ｗ／ｖ）の水溶液２０ｇを添加した。
その後、反応混合物を加圧反応器に移した。メチルイソブチルケトン５０ｍｌおよび水４０ｍｌを添加し、そして反応器の密閉および窒素での不活性化の後、温度を１６０℃に上昇させた。
混合物を１６０℃で４時間６ｂａｒの圧力下で保持した。
６０℃への冷却後、Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−ｎ−ブチルアミン３６．６ｇ（０．１７モル）をＮａＯＨ３０％（％ｗ／ｖ）の水溶液２０ｇと一緒に添加した。
反応器を再び密閉した後、混合物を１４０℃に加熱し、そして１４０℃で４時間５ｂａｒの圧力下に保持した。
５０℃への冷却後、メチルイソブチルケトン１２５ｍｌおよび水１００ｍｌを添加した。
塩基性水溶液を分離し、そして有機相を水１００ｍｌで１回洗浄した。
有機相を真空下で２２０℃／２０ｍｂａｒで濃縮した。
冷却後、融解生成物はｍ．ｐ．＝１７２〜１７４℃を有する固形分を与えた。
Ｍｎ（ＧＰＣによる）＝２０８０ｇ／モル
Ｍｗ／Ｍｎ＝１．５２
ＧＰＣ分析は図２のようなクロマトグラムを表した。
得られた生成物の分析：
ｎ’＝１を有する化合物：３１モル％
ｎ’＝３を有する化合物：２３モル％
ｎ’＝５を有する化合物：５モル％
ｎ’＝７を有する化合物：１モル％
実施例１：次式で表される生成物の製造

機械的に攪拌した１．０Ｌの四つ首フラスコをＩ−１に従う生成物４０．０ｇ（０．１６モル）、ＭｏＯ₃０．４０ｇおよびシクロヘキサン３２０ｍｌで満たした。混合物を還流に加熱した。７０％第三ブチルヒドロペルオキシド８２．４ｇ（０．６４モル）を３０分以内に添加した。水を共沸蒸留によって収集し、そして還流を１時間継続した。反応混合物を磁気的に攪拌したガラス加圧ボトルに移し、そして１３０℃で５時間加熱した。反応混合物を７０℃に冷却し、そしてＭｏＯ₃をろ過除去した。ろ液をＨ₂Ｏ１００ｍｌ中のＮａ₂ＳＯ₃２０ｇの溶液で１時間６０℃で洗浄した。相を分離し、有機相をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、そして総体積を１００ｍｌに減じた。溶液をメタノール５００ｍｌ中に５℃でドレインした。沈殿物をろ過し、そして乾燥させて５２．８ｇ（理論値の９５％）とした。得られた生成物は１４０℃〜１７０℃の融解範囲を有した。
¹Ｈ−ＮＭＲ：０．８５〜２．４０ｐｐｍ（複雑な混合）、
３．２５〜３．３５ｐｐｍ（ｓ、ブロード、ＮＣＨ₂）、
３．６２ｐｐｍ（ｓ、ブロード、ＮＯＣＨ）、
４．９０〜５．４０ｐｐｍ（ブロード、ＮＣＨ）。
¹³Ｃ−ＮＭＲ：８１．８ｐｐｍ（ＮＯＣＨ）、
１６５ｐｐｍ（トリアジン、Ｃ）。
３．２５、３．６２および４．９０ｐｐｍでのプロトンの比率は２：１：１であった。
実施例１−Ａ：次式で表される生成物の製造

実施例Ｉ−１の生成物８８５ｇ（３．５４モル）、シクロヘキサン６０００ｇ（７１．４モル）およびモリブデントリオキシド２．２ｇの混合物を還流に加熱した。７０％水性第三ブチルヒドロペルオキシド３３６０ｇ（２６．１モル）の溶液を還流混合物に１〜２時間にわたって添加し、そして水を共沸蒸留によって除去した。反応マスを加圧反応器に移し、そして１２５℃で３０〜５０ｐｓｉｇ（２．１〜３．５ｂａｒ）で赤色が消失するまで加熱した。粗反応マスを冷却し、そして水性亜硫酸ナトリウムで処理して残留過酸化物を破壊した。水層を分離し、そして有機層を減圧下で融解物に濃縮し、これを冷メタノールに徐々に供給してろ過後、ほぼ白色の固形生成物を得た。
平均透過値（１０％トルエン）：４２５ｎｍ＝２１．８％、
４５０ｎｍ＝３７．４％、
４７５ｎｍ＝６２．６％。
実施例１−Ｂ：次式で表される生成物の製造

実施例１−Ａの手順を以下を除いて繰り返した：仕上げの間、シクロヘキサンを除去した後に得られる融解物を第三ブチルアルコールで希釈し、そして固形分５０％に濃縮した。溶液を冷却し、そして冷メタノールを急速に添加してろ過後、ほぼ白色の固形生成物を得た。
平均透過値（１０％トルエン）：４２５ｎｍ＝５７．０％、
４５０ｎｍ＝７１．５％、
４７５ｎｍ＝７９．７％。
実施例２：次式で表される生成物の製造

機械的に攪拌した１．０Ｌの四つ首フラスコを実施例Ｉ−１に従う生成物４０．０ｇ（０．１６０モル）、ＭｏＯ₃０．４０ｇおよびｎ−オクタン３２０ｍｌで満たした。混合物を還流に加熱し、そして第三ブチルヒドロペルオキシド８２．４ｇ（０．６４０モル）を３０分以内に添加した。水を共沸蒸留によって分離し、そして還流を９０分間継続した。反応混合物を磁気的に攪拌した加圧ボトルに移し、そして１３５℃で３時間加熱した。ＭｏＯ₃をろ過し、そしてろ液をＨ₂Ｏ１００ｍｌ中のＮａ₂ＳＯ₃２０ｇの溶液で３０分間６０℃で洗浄した。相を分離し、有機相を水１００ｍｌで、そしてその後飽和ＮａＣｌ１００ｍｌで洗浄した。有機相をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、そしてその後１００ｍｌの総体積に蒸発させた。溶液をメタノール５００ｍｌ中に５℃でドレインした。軟質のガラス質である沈殿物を１時間５５℃の真空オーブン中で乾燥した。今や硬質のガラス質である生成物を乳鉢で粉砕し、そしてその後乾燥させて４７．４ｇ（理論値の７８％）とした。生成物は９５℃〜１２０℃の融解範囲を有した。
¹Ｈ−ＮＭＲ：０．８２〜２．４０ｐｐｍ（複雑な混合）、
３．２５〜３．４０ｐｐｍ（ｓ、ブロード、ＮＣＨ₂）、
３．６０〜３．９２ｐｐｍ（複雑、ＮＯＣＨおよびＮＣ₄Ｈ₉のＮＣＨ₂）、
４．９０〜５．４０ｐｐｍ（複雑、ＮＣＨ）。
¹³Ｃ−ＮＭＲ：７８．６〜８３．４ｐｐｍ（三つのピーク、ＮＯＣＨ）、
１６５ｐｐｍ（トリアジン、Ｃ）。
３．２５および４．９０ｐｐｍでのプロトンの比率は２：１であった。
実施例２−Ａ：次式で表される生成物の製造

実施例Ｉ−１の生成物１３０４ｇ（５．２１モル）、オクタン１０．３ｋｇ（９０．２モル）および三酸化モリブデン４．０ｇの混合物を還流に加熱した。７０％水性第三ブチルヒドロペルオキシド３８７３ｇ（３０．１モル）の溶液を還流混合物に１〜２時間にわたって添加し、そして水を共沸蒸留によって除去した。反応マスを還流で大気圧で赤色が消失するまで加熱した。粗反応マスを冷却し、そして水性亜硫酸ナトリウムで処理して残留過酸化物を破壊した。水層を分離し、そして有機層を減圧下で融解物に濃縮し、これを冷メタノールに徐々に供給してろ過後、ほぼ白色の固形生成物を得た。
平均透過値（１０％キシレン）：４２５ｎｍ＝３９．３％、
４５０ｎｍ＝７５．１％、
４７５ｎｍ＝８７．３％。
実施例２−Ｂ：次式で表される生成物の製造

実施例２−Ａの手順を以下を除いて繰り返した：仕上げの間、オクタンを除去した後に得られる融解物を第三ブチルアルコールで希釈し、そして固形分５０％に濃縮した。溶液を冷却し、そして冷メタノールを急速に添加してろ過後、ほぼ白色の固形生成物を得た。
平均透過値（１０％トルエン）：４２５ｎｍ＝５９．８％、
４５０ｎｍ＝８２．５％、
４７５ｎｍ＝９１．２％。
実施例Ｉ−Ａ：ポリプロピレン繊維における光安定化作用
表１において表す安定剤２．５ｇ、トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット１ｇ、カルシウムモノエチル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−ホスホネート１ｇ、カルシウムステアレート１ｇおよび二酸化チタン２．５ｇを、低速混合機中でメルト・インデックス＝１２ｇ／１０分（２３０℃および２．１６ｋｇで測定）を有するポリプロピレン粉末１０００ｇと混合した。
混合物を２００〜２３０℃で押出してポリマー顆粒を得て、これをその後パイロット型装置（^Rレオナルド−スミラゴ（ＶＡ）、イタリア）を使用して以下の条件下で操作して繊維に変えた：
押出し温度： ２３０〜２４５℃
ヘッド温度： ２５５〜２６０℃
延伸率： １：３．５
線密度： フィラメント当り１１ｄｔｅｘ
この方法で製造した繊維を、白色板紙上に取り付けた後、６３℃のブラックパネル温度を有する６５ＷＲウエザー−オー−メーター（ＡＳＴＭ・Ｄ２５６５−８５）中で暴露した。
光への様々な暴露時間後に取った試料について、残留靭性を定速張力計を使用して測定し、そして初期靭性を半減するに必要な時を単位とする暴露時間（Ｔ₅₀）をその後計算した。

表１において列挙する化合物はポリプロピレン繊維中で良好な光安定化作用を表す。
実施例Ｉ−Ｂ：ポリプロピレンプラックにおける顔料相互作用
表２において表す安定剤５．６２５ｇ、ピグメント・ブルー１５“フラッシュ”（ポリエチレン中の５０％混合物）１３．５００ｇおよびポリプロピレン粉末（２３０℃および２．１６ｋｇで測定したほぼ１４のメルト・インデックスを有する）２５．８７５ｇを添加して室温で^Rハーク内部混合機（６０ｃｃ３ピースレオミキサーを使用しカムブレードを備えた^Rハーク・ブッヒラー・レオコルド・システム４０）を満たした。カムブレードを５ＲＰＭ（分当たりの回転）で回転させた。ラムで５ｋｇの重量下のボールを密閉した。温度を１８０℃に上昇させ、そして１８０℃で保った。総時間は３０分であった。
混合物を１８０℃で３０分後に除去し、そして室温に冷却した。そのようにして得られた混合物、所謂“濃縮物”を再び使用する。
この濃縮物０．９００ｇ、二酸化チタン“フラッシュ”（ポリエチレン中の５０％混合物）３．６００ｇおよびポリプロピレン粉末（２３０℃および２．１６ｋｇで測定したほぼ１４のメルト・インデックスを有する）４０．５００ｇを、^Rハーク混合機ボールに１６０℃で添加した。カムブレードを２０ＲＰＭで回転させた。ラムで５ｋｇの重量下のボールを密閉した。温度を１７０℃に上昇させ、そしてＲＰＭを１２５に増加させた。総時間は３０分であった。
粉砕した混合物を１７０℃で除去し、手掴みツールに室温で移し、そして１ｍｍ×直径２５ｍｍの円形プラックに変形させた。そのようにして得た混合物を所謂“レットダウン（letdown）”し、そしてプラックは“レットダウンプラック”とした。
表２において示した安定剤を含む試料レットダウンプラック対安定剤を伴わない対照レットダウンプラックの色差、デルタＥ（ＣＩＥ、色差等式）を測定した。測定をアプライド・カラーシステムズ分光光度計ＣＳ−５型（ＵＳＡ）を使用して行った。使用した測定パラメーターは４００〜７００ｎｍ走査、小範囲視野、反射率、照明Ｄ６５、１０等級観察機であった。
上記の処理条件は顔料および安定剤の濃縮物（マスターバッチ）の製造および引き続く最終プラスチック成形品へのレットダウン（希釈）を模倣するために計画した。
高いデルタＥは顔料の凝集および悪い分散を示す。０．５またはそれ未満のデルタＥは目視による差異が見られない。

表２において列挙する安定剤はポリプロピレンプラック中で低い顔料相互作用を表す。これは有利である。
実施例Ｉ−Ｃ：ポリプロピレンテープにおける光安定化作用
表３において列挙する化合物各々１ｇ、トリス［２，４−ジ−第三ブチルフェニル］ホスフィット１ｇ、ペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］１ｇおよびカルシウムステアレート１ｇを、ターボミキサー中で２．１のメルト・インデックス（２３０℃および２．１６ｋｇで測定）を有するポリプロピレン粉末１０００ｇと混合した。
混合物を２００〜２２０℃で押出してポリマー顆粒を得て、これを引き続いて半工業的な型の装置（^Rレオナルド−スミラゴ（ＶＡ）、イタリア）を使用して以下の条件下で作業して、厚さ５０μｍおよび幅２．５ｍｍの延伸テープに変えた：
押出し温度： ２１０〜２３０℃
ヘッド温度： ２４０〜２６０℃
延伸率： １：６
そのようにして製造したテープを白色板紙上に取り付け、そして６３℃のブラックパネル温度を有するウエザー−オー−メーター６５ＷＲ（ＡＳＴＭ・Ｄ２５６５−８５）中で暴露した。
様々な光暴露時間後に取った試料についての残留靭性を定速張力計を使用して測定し、これから初期靭性を半減するに必要な暴露時間（Ｔ₅₀）（時）を測定した。

表３において列挙する化合物はポリプロピレンテープ中で良好な光安定化作用を表す。
実施例Ｉ−Ｄ：ポリプロピレンブラックにおける酸化防止作用
表４において列挙する化合物各々１ｇおよびカルシウムステアレート１ｇを低速混合機中で４．３のメルト・インデックス（２３０℃および２．１６ｋｇで測定）を有するポリプロピレン粉末１０００ｇと混合した。
混合物を２００〜２２０℃で押出してポリマー顆粒を得て、これをその後２２０℃での射出成形によって厚さ１ｍｍのプラックに変えた。
プラックをその後ＤＩＮ５３４５１型を使用してパンチし、そして得られた試料を１３５℃の温度で保持した強制循環空気オーブン中で暴露した。
試料が破損するために必要な時間（時）を決定するために、試料を規則的な間隔でそれらを１８０°反転することによって検査した。

表４において列挙する化合物はポリプロピレンプラック中で良好な酸化防止剤である。
実施例Ｉ−Ｅ：オーブン老化後のポリプロピレンプラックの色
表５において列挙する化合物各々５ｇ、トリス［２，４−ジ−第三ブチルフェニル］ホスフィット１ｇ、ペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］１ｇおよびカルシウムステアレート１ｇを、低速混合機中で２．１のメルト・インデックス（２３０℃および２．１６ｋｇで測定）を有するポリプロピレン粉末１０００ｇと混合した。
混合物を２００〜２２０℃で２回押出してポリマー顆粒を得て、これをその後２３０℃で６分間の圧縮成形によって厚さ１ｍｍのプラックに変えた。
プラックをその後１２０℃で保持した強制循環空気オーブン中で７日間暴露した。オーブン暴露後、プラックの黄色度指数（ＹＩ）をＡＳＴＭ・Ｄ１９２５に従って^RミノルタＣＲ２１０比色計（ミノルタ、日本）によって測定した。

表５において列挙する化合物で安定化されたポリプロピレンプラックはオーブン老化後良好な黄色度指数を有した。
実施例Ｉ−Ｆ：回転成形
亜鉛ステアレート０．０５％、ペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］０．０５％およびトリス［２，４−ジ−第三ブチルフェニル］ホスフィット０．１０％を含む線状低密度ポリエチレン（ヘキセン−コポリマー、^RカンタムＭＰ６３５−６６１、ＭＩ＝６．５ｄｇ／分、密度＝０．９３５ｇ／ｃｍ³）を、実施例Ｉ−１の化合物０．１７％と乾燥ブレンドし、そしてその後２３４℃でペレットに融解混合した。ペレット化し完全に配合した樹脂をレダクション・エンジニアリング・モデル５０プルベライザー（１００メッシュと３５メッシュとの間の粒子寸法）を使用して粉末に粉砕した。粉砕した樹脂をキャストアルミニウム型（１６”×１６”×１６”）中に置き、それを実験室規模の回転成形機（ＦＳＰ・Ｍ２０^Rクラムシェル）中のガス炊きオーブン中で２軸により回転した。処理条件は以下のいずれかであった：２８８℃で１５分（＝条件１）または３１６℃で１２分（＝条件２）。
ａ）色決定
成形した箱型物を２”×２”プラックに切断し、そして１２０℃でブルーＭ強制ドラフトオーブン中で暴露した。黄色度指数をアプライド・カラー・システムズ分光光度計についてＡＳＴＭ・Ｄ１９２５に従う反射率モードによって決定した。
実施例Ｉ−１の化合物を含む試料は成形後および熱老化後に薄い色を示した。
ｂ）ＵＶ光安定化作用
成形した箱形物から切断した他の２”×２”プラックを^Rアトラス・キセノン−アーク−ウエザー−オ−メーター中でＡＳＴＭ・Ｇ２６に従って６３℃ｐｂｔ、３４０ｎｍでの０．３５ｋＷ／ｃｍ₃暴露した。試料を^Rダイナットアップ８２５０型ドロップ・タワーを使用して衝撃強度における変化について定期的に試験した。この試験における破壊はプラックの衝撃強度の喪失の観察によって決定した。特性におけるこの喪失が生じるにかかる時間が長ければ長い程、安定剤系はより有効である。
実施例Ｉ−１の化合物を含むプラックは上記の標準によって決定されるとき良好な光安定化作用を示す。
実施例Ａ：
顔料着色した熱可塑性オレフィン（ＴＰＯ）ペレットを、ポリオレフィンブレンド（エチレン−プロピレンコポリマーを含むポリプロピレン、^RＡ．シュルマン・インク、アクロン、オハイオ、ＵＳＡからの^RポリトロープＴＰＰ５１８−０１）を以下に列挙する添加剤と^Rスペリオール／ＭＰＭ１”一軸押出し機中で一般の多目的スクリュー（２４：１Ｌ／Ｄ）で２００℃で混合し、水浴中で冷却し、そしてペレット化することによって製造した。押出しおよび成形の前に、添加剤をタンブル乾燥機中で乾燥ブレンドした。

生じたペレットを１．５２４ｍｍ厚の２”×２”プラックに約１９０℃で^Rボーイ３０Ｍインジェクション・モールディング・マシンで成形した。
試験プラックを金属枠中に取り付け、そして^RアトラスＣｉ６５キセノン・アーク・ウエザー−オー−メーター中でブラックパネル温度７０℃、３４０ナノメートルで０．５５Ｗ／ｍ²および相対湿度５０％で断続的な明／暗サイクルおよび水噴霧を用いて（^Rソサイエティー・オブ・オートモーティブ・エンジニアーズ−ＳＡＥ・Ｊ１９６０テスト・プロセデュアー−エクステリア・オートモーティブ条件）暴露した。
試験試料の光沢測定を^Rバイク−ガードナー・ハゼ／グロス・メーターで６０℃でＡＳＴＭ・Ｄ５２３に従って行った。
結果を表６に表す。

表６において列挙する安定剤を含む配合物は、前記安定剤を有さないものよりも非常により優れた光分解に対する耐性を表した。未安定化試験試料は上記で説明したＵＶ暴露化で素早く破壊された。
実施例Ｂ：
カルシウムステアレート０．０５重量％およびジ（水素化牛脂）ヒドロキシルアミン０．０５重量％を基礎安定剤として含む繊維等級のポリプロピレンを表７において示す安定剤と乾燥ブレンドし、そしてその後２３４℃でペレットに融解混合した。ペレット化し完全に配合した樹脂をその後２４６℃または２７４℃で^Rヒルズ実験室型繊維押出し機を使用して繊維に紡いだ。４１フィラメントの紡いだトウを１：３．２の比率で延伸して６１５／４１の最終デニールを与えた。
安定化したポリプロピレンから^Rラウソン−−ヘンフィル・アナリシス・ニッターで“靴下”を編み、そして^Rアトラス・キセノン−アーク−ウエザー−オー−メーター中でＳＡＥ・Ｊ１８８５インテリア・オートモーティブ条件を使用して８９℃ｂｐｔ、３４０ｎｍでの０．５５ｋＷ／ｃｍ²で噴霧サイクルを用いずに暴露した。この試験における破壊は、鈍いガラス棒で“引っ掻いた”ときの靴下の物理的な破壊の観察によって決定した。この大規模な破壊が起こるのにかかる時間が長ければ長い程、安定剤はより有効である。
結果を表７に表す。

Claims (2)

1. １）次式（α）
   

   

   で表される化合物を次式（β）
   

   

   で表される化合物と化学量論的比率で反応させて次式（γ）
   

   

   で表される化合物を得て、
   ２）式（β）で表される化合物を式（γ）で表される化合物と０．４：１ないし０．７５：１のモル比で反応させ、
   ３）反応２）の生成物中に存在する次式（δ）
   

   

   で表される末端基を次式（ε）
   Ａ−Ｈ （ε）
   で表される化合物と２：１．７ないし２：３のモル比で反応させ、
   ４）反応３）の生成物中に存在する次式（Ｇ−Ｉ）
   

   

   で表される基を次式（Ｇ−ＩＩ）
   

   

   で表される基に転換することを特徴とする方法であって、
   前記反応１）ないし３）は有機溶媒中で無機塩基の存在下で行い、そして 前記転換は反応３）の生成物をヒドロペルオキシドと炭化水素溶媒中で過酸化物分解触媒の存在下で反応させることによって行い、
   上記の各式中、
   Ｒ₁はヒドロカルビル基を表すかまたは−Ｏ−Ｒ₁はオキシル基を表し、
   Ｒ₂は炭素原子数２ないし１２のアルキレン基を表し、
   Ａは−ＯＲ₃、−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）または次式（ＩＩ）
   

   

   で表される基を表し、
   Ｒ₃、Ｒ₄およびＲ₅は同一または異なって、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、フェニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、または２、３もしくは４位において−ＯＨ、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基によって置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表すか、または−Ｎ（Ｒ ₄ ）（Ｒ ₅ ）はさらに式（ＩＩＩ）で表される基を表し、
   

   

   ［式中、Ｙは−Ｏ−を表す。］
   またＲ₃はさらに水素原子を表し、
   Ｘは−Ｏ−または＞Ｎ−Ｒ₆を表し、
   Ｒ₆は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、式（Ｇ−Ｉ）で表される基または２、３もしくは４位において−ＯＨまたは炭素原子数１ないし８のアルコキシ基によって置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表し、
   ＲはＲ₆について与えられた意味の一つを有し、そして
   ＢはＡについて与えられた意味の一つを有する、方法。
2. １）次式（α）
   

   

   で表される化合物を次式（β−１）
   

   

   で表される化合物と化学量論的比率で反応させて次式（γ−１）
   

   

   で表される化合物を得て、
   ２）式（β−１）で表される化合物を式（γ−１）で表される化合物と０．４：１ないし０．７５：１のモル比で反応させ、
   ３）反応２）の生成物中に存在する次式（δ）
   

   

   で表される末端基を次式（ε）
   Ａ−Ｈ （ε）
   で表される化合物と２：１．７ないし２：３のモル比で反応させることを特徴とする方法であって、
   前記反応１）ないし３）は有機溶媒中で無機塩基の存在下で行い、
   上記の各式中、
   Ｚは水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数２ないし８のヒドロキシアルキル基、Ｏ・、−ＯＨ、炭素原子数１ないし１８のヒドロカルビルオキシ基、−ＣＨ₂ＣＮ、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、炭素原子数３ないし６のアルキニル基、未置換またはフェニル基について１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基または炭素原子数１ないし８のアシル基を表し、
   Ｒ₂は炭素原子数２ないし１２のアルキレン基を表し、
   Ａは−ＯＲ₃、−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）または次式（ＩＩ−１）
   

   

   で表される基を表し、
   Ｒ₃、Ｒ₄およびＲ₅は同一または異なって、水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、フェニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基または２、３もしくは４位において−ＯＨ、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基によって置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表すか、または−Ｎ（Ｒ ₄ ）（Ｒ ₅ ）はさらに式（ＩＩＩ）で表される基を表し、
   

   

   ［式中、Ｙは−Ｏ−を表す。］
   Ｘは−Ｏ−または＞Ｎ−Ｒ₆を表し、
   Ｒ₆は水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、次式（ＩＶ−１）
   

   

   で表される基または２、３もしくは４位において−ＯＨ、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基によって置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表し、ＲはＲ₆について与えられた意味の一つを有し、そして
   ＢはＡについて与えられた意味の一つを有する、方法。

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