JP2000284124A - 楕円偏光板およびtn型液晶表示装置 - Google Patents
楕円偏光板およびtn型液晶表示装置Info
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Abstract
板を得る。 【解決手段】 透明保護膜、偏光膜および光学異方性保
護膜がこの順に積層されている楕円偏光板において、光
学異方性保護膜の屈折率異方性の波長分散値を0.7以
上1.3未満の範囲内に調整する。
Description
よび光学異方性保護膜からなる楕円偏光板およびTN型
液晶表示装置に関する。
置は、TFT(Thin Film Transistor)やMIM(Meta
l Insulator Metal)のような能動素子と組み合わせ
て、最も広く用いられている液晶表示装置である。
よび二枚の偏光素子からなる。液晶セルは、棒状液晶性
分子、それを封入するための二枚の基板および棒状液晶
性分子に電圧を加えるための電極層からなる。TN型液
晶セルでは、90゜のねじれ角で棒状液晶性分子を配向
させるための配向膜が、二枚の基板に設けられる。TN
型液晶表示装置の視野角を改善するため、一般に液晶セ
ルと偏光素子との間に光学補償シート(位相差板)が設
けられる。偏光素子(偏光膜)と光学補償シートとの積
層体は、楕円偏光板として機能する。光学補償シートと
しては、延伸複屈折フイルムが従来から使用されてい
る。
らなる光学補償シートと偏光素子(偏光膜)との積層体
を楕円偏光板として用いる場合、延伸複屈折フイルム
を、偏光素子の一方の保護膜として機能させることがで
きる。そのような楕円偏光板は、透明保護膜、偏光膜そ
して、光学異方性保護膜(延伸複屈折フイルム)の順序
の層構成を有する。液晶表示装置は薄型で軽量との特徴
があり、構成要素の一つを兼用によって削減すれば、装
置をさらに薄く軽量にすることができる。また、液晶表
示装置の構成要素を一つ削減すれば、構成要素の貼り合
わせ工程も一つ削減され、装置を製造する際に故障が生
じる可能性が低くなる。
光学的性質と、偏光素子の保護膜に要求されている光学
的性質とは異なる場合が多い。そのため、延伸複屈折フ
イルムからなる光学補償シートと偏光素子の一方の保護
膜を共通化した一体型楕円偏光板は、従来から提案され
ているが、実際に使用されている例は少なかった。
を共通化した一体型楕円偏光板を実用化するためには、
光学補償シートに要求されている光学的性質と、偏光素
子の保護膜に要求されている光学的性質とを矛盾するこ
となく満足する必要がある。本発明の目的は、特にTN
型液晶表示装置に適した一体型楕円偏光板を提供するこ
とである。また、本発明の目的は、製造が容易で、従来
よりも軽量で薄いTN型液晶表示装置を提供することで
もある。
(1)〜(5)の光学補償シートおよび下記(6)のT
N型液晶表示装置により達成された。 (1)透明保護膜、偏光膜および光学異方性保護膜がこ
の順に積層されている楕円偏光板であって、光学異方性
保護膜が0.7以上1.3未満の範囲内に下記式で定義
される屈折率異方性の波長分散値を有することを特徴と
する楕円偏光板。 α=Δn(450)/Δn(600) 式中、αは光学異方性保護膜の屈折率異方性の波長分散
値であり;Δn(450)は波長450nmの光で測定
した光学異方性保護膜の屈折率異方性であり;そして、
Δn(600)は波長600nmで測定した光学異方性
保護膜の屈折率異方性である。 (2)上記光学異方性保護膜が、0乃至100nmの範
囲内に下記式で定義されるReレターデーション値を有
し、かつ20乃至400nmの範囲内に下記式で定義さ
れるRthレターデーション値を有する(1)に記載の楕
円偏光板。 Re=│nx−ny│×d Rth={(n1+n2)/2−n3}×d 式中、nxおよびnyは積層体の面内の主屈折率であ
り;dは積層体の厚さ(nm)であり;そして、n1、
n2およびn3は、n1≧n2≧n3を満足する積層体
の三軸方向の屈折率である。 (3)上記光学異方性保護膜の遅相軸と偏光膜の透過軸
とが、実質的に平行である(1)に記載の楕円偏光板。 (4)上記光学異方性保護膜の遅相軸と偏光膜の透過軸
とが、実質的に垂直である(1)に記載の楕円偏光板。 (5)上記光学異方性保護膜がセルロースエステルフイ
ルムである(1)に記載の楕円偏光板。
置された二枚の偏光素子からなり、偏光素子の少なくと
も一方が、外側から順に、透明保護膜、偏光膜および光
学異方性保護膜が積層されている楕円偏光板であるTN
型液晶表示装置であって、光学異方性保護膜が0.7以
上1.3未満の範囲内に下記式で定義される屈折率異方
性の波長分散値を有することを特徴とするTN型液晶表
示装置。 α=Δn(450)/Δn(600) 式中、αは光学異方性保護膜の屈折率異方性の波長分散
値であり;Δn(450)は波長450nmの光で測定
した光学異方性保護膜の屈折率異方性であり;そして、
Δn(600)は波長600nmで測定した光学異方性
保護膜の屈折率異方性である。なお、本明細書におい
て、遅相軸は、屈折率が面内で最大となる方向を意味す
る。また、透過軸は、透過率が面内で最大となる方向を
意味する。さらに、本明細書において「実質的に平行」
または「実質的に垂直」とは、厳密な平行または垂直と
の誤差が±10゜未満であることを意味する。誤差は、
±8゜未満であることが好ましく、±4゜未満であるこ
とがより好ましく、±2゜未満であることがさらに好ま
しく、±1゜未満であることが最も好ましい。
膜の屈折率異方性の波長分散値を、0.7以上1.3未
満の範囲内に調整することにより、光学補償シートに要
求されている光学的性質と、偏光素子の保護膜に要求さ
れている光学的性質とを矛盾することなく満足できるこ
とが判明した。上記の波長分散値を有する光学異方性保
護膜を用いることで、光学的性質が優れた一体型楕円偏
光板を得ることができる。この一体型楕円偏光板は、特
にTN型液晶表示装置に用いると特に効果がある。一体
型楕円偏光板を使用することにより、製造が容易で、従
来よりも軽量で薄いTN型液晶表示装置が得られる。
たTN型液晶表示装置の模式図である。TN型液晶表示
装置は、バックライト(BL)側から順に、下楕円偏光
板(1)、TN液晶セル(2)、上楕円偏光板(3)が
積層された層構成を有する。下楕円偏光板(1)と上楕
円偏光板(3)に記入した実線の矢印(TA1、TA
3)は、楕円偏光板における偏光膜の透過軸である。下
楕円偏光板(1)と上楕円偏光板(3)に記入した波線
の矢印(SA1、SA3)は、楕円偏光板における光学
異方性保護膜との積層体の遅相軸である。TN液晶セル
(2)に記入した矢印(RD1、RD2)は、液晶セル
に設けられた二枚の配向膜のラビング方向である。図1
の(a)に示すように、光学異方性保護膜の遅相軸と偏
光膜の透過軸とは、実質的に平行であるか、あるいは、
図1の(b)に示すように、光学異方性保護膜の遅相軸
と偏光膜の透過軸とは、実質的に垂直であることが好ま
しい。
る。図2に示すように、一体型楕円偏光板は、透明保護
膜(11)、偏光膜(12)および光学異方性保護膜
(13)がこの順に積層されている構成を有する。以
下、この順序で、一体型楕円偏光板の各構成要素を説明
する。
的等方性の透明なポリマーフイルムが好ましく用いられ
る。透明であるとは、光透過率が80%以上であること
を意味する。光学的等方性とは、具体的には、面内レタ
ーデーション(Re)が10nm以下であることが好ま
しく、5nm以下であることがさらに好ましい。また、
厚み方向のレターデーション(Rth)は、40nm以下
であることが好ましく、20nm以下であることがさら
に好ましい。面内レターデーション(Re)と厚み方向
のレターデーション(Rth)の定義については、光学異
方性保護膜について後述する。透明保護膜としては、一
般にセルロースエステルフイルム、好ましくはトリアセ
チルセルロースフイルムが用いられる。セルロースエス
テルフイルムは、ソルベントキャスト法により形成する
ことが好ましい。透明保護膜の厚さは、20乃至500
μmであることが好ましく、50乃至200μmである
ことがさらに好ましい。
二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜が
ある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポ
リビニルアルコール系フイルムを用いて製造する。偏光
膜の透過軸(偏光軸)は、フイルムの延伸方向に垂直な
方向に相当する。
厚さは、20乃至500μmであることが好ましく、5
0乃至200μmであることがさらに好ましい。本発明
では、光学異方性保護膜について、下記式で定義される
屈折率異方性の波長分散値を0.7以上1.3未満の範
囲内に調整する。 α=Δn(450)/Δn(600) 式中、αは光学異方性保護膜の屈折率異方性の波長分散
値であり;Δn(450)は波長450nmの光で測定
した光学異方性保護膜の屈折率異方性であり;そして、
Δn(600)は波長600nmで測定した光学異方性
保護膜の屈折率異方性である。
nmの範囲内に下記式で定義されるReレターデーショ
ン値を有し、かつ20乃至400nmの範囲内に下記式
で定義されるRthレターデーション値を有することが好
ましい。 Re=│nx−ny│×d Rth={(n1+n2)/2−n3}×d 式中、nxおよびnyは積層体の面内の主屈折率であ
り;dは積層体の厚さ(nm)であり;そして、n1、
n2およびn3は、n1≧n2≧n3を満足する積層体
の三軸方向の屈折率である。
mにおける厚み方向のレターデーション値は、20乃至
400nmであることが好ましく、50乃至300nm
であることがさらに好ましく、60乃至200nmであ
ることが最も好ましい。なお、厚み方向の複屈折率
{(nx+ny)/2−nz}は、7×10-4乃至4×
10-3であることが好ましく、1×10-3乃至4×10
-3であることがより好ましく、1.5×10-3乃至4×
10-3であることがさらに好ましく、2×10-3乃至4
×10-3であることがさらにまた好ましく、2×10-3
乃至3×10 -3であることが最も好ましく、2×10-3
乃至2.5×10-3であることが特に好ましい。
高いセルロースエステルフイルムを用いることが好まし
い。セルロースエステルフイルムの面内レターデーショ
ン(Re)は、セルロースエステルフイルムの延伸によ
り調整(高い値と)することができる。セルロースエス
テルフイルムの厚み方向のレターデーション(Rth)
は、(1)レターデーション上昇剤の使用、(2)平均
酢化度(アセチル化度)の調整または(3)冷却溶解法
によるフイルムの製造により調整(高い値と)すること
ができる。これにより、従来は光学的等方性と考えられ
ていたセルロースエステルフイルムを、光学補償機能を
有する光学異方性保護膜として使用できるようになっ
た。以下、レターデーションが高いセルロースエステル
フイルムの製造方法について説明する。
の低級脂肪酸エステルを用いることが好ましい。低級脂
肪酸とは、炭素原子数が6以下の脂肪酸を意味する。炭
素原子数は、2(セルロースアセテート)、3(セルロ
ースプロピオネート)または4(セルロースブチレー
ト)であることが好ましい。セルロースアセテートが特
に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセ
ルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エス
テルを用いてもよい。セルロースアセテートの平均酢化
度(アセチル化度)は、55.0%以上62.5%未満
であることが好ましい。フイルムの物性の観点では、平
均酢化度は、58.0%以上62.5%未満であること
がさらに好ましい。ただし、平均酢化度が55.0%以
上58.0%未満(好ましくは57.0%以上58.0
%未満)であるセルロースアセテートを用いると、厚み
方向のレターデーションが高いフイルムを製造すること
ができる。
向のレターデーションを高い値とすることもできる。レ
ターデーション上昇剤としては、芳香族環を少なくとも
二つ有し、二つの芳香族環の立体配座を立体障害しない
分子構造を有する化合物を使用できる。レターデーショ
ン上昇剤は、セルロースエステル100重量部に対し
て、0.3乃至20重量部の範囲で使用することが好ま
しい。少なくとも二つの芳香族環を有する化合物は、炭
素原子7個分以上のπ結合性の平面を有する。二つの芳
香族環の立体配座を立体障害しなければ、二つの芳香族
環は、同一平面を形成する。本発明者の研究によれば、
セルロースエステルフイルムのレターデーションを上昇
させるためには、複数の芳香族環により同一平面を形成
することが重要である。本明細書において、「芳香族
環」は、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環
を含む。芳香族炭化水素環は、6員環(すなわち、ベン
ゼン環)であることが特に好ましい。
環である。芳香族性ヘテロ環は、5員環、6員環または
7員環であることが好ましく、5員環または6員環であ
ることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、
最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原
子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特
に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チ
オフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサ
ゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾ
ール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、
ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、
ピラジン環および1,3,5−トリアジン環が含まれ
る。芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフ
ェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、
イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、ピラジン環および1,3,5−トリアジン環が
好ましい。
の数は、2乃至20であることが好ましく、2乃至12
であることがより好ましく、2乃至8であることがさら
に好ましく、2乃至6であることが最も好ましい。3以
上の芳香族環を有する場合、少なくとも二つの芳香族環
の立体配座を立体障害しなければよい。二つの芳香族環
の結合関係は、(a)縮合環を形成する場合、(b)単
結合で直結する場合および(c)連結基を介して結合す
る場合に分類できる(芳香族環のため、スピロ結合は形
成できない)。レターデーション上昇機能の観点では、
(a)〜(c)のいずれでもよい。ただし、(b)また
は(c)の場合は、二つの芳香族環の立体配座を立体障
害しないことが必要である。
合環)の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン
環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン
環、アセナフチレン環、ビフェニレン環、ナフタセン
環、ピレン環、インドール環、イソインドール環、ベン
ゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドリジン環、ベ
ンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミ
ダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、インダ
ゾール環、クロメン環、キノリン環、イソキノリン環、
キノリジン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノキサ
リン環、フタラジン環、プテリジン環、カルバゾール
環、アクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン
環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサチイ
ン環、フェノキサジン環およびチアントレン環が含まれ
る。ナフタレン環、アズレン環、インドール環、ベンゾ
オキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾ
ール環、ベンゾトリアゾール環およびキノリン環が好ま
しい。(b)の単結合は、二つの芳香族環の炭素原子間
の結合であることが好ましい。二以上の単結合で二つの
芳香族環を結合して、二つの芳香族環の間に脂肪族環ま
たは非芳香族性複素環を形成してもよい。
原子と結合することが好ましい。連結基は、アルキレン
基、アルケニレン基、アルキニレン基、−CO−、−O
−、−NH−、−S−またはそれらの組み合わせである
ことが好ましい。組み合わせからなる連結基の例を以下
に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は、逆に
なってもよい。 c1:−CO−O− c2:−CO−NH− c3:−アルキレン−O− c4:−NH−CO−NH− c5:−NH−CO−O− c6:−O−CO−O− c7:−O−アルキレン−O− c8:−CO−アルケニレン− c9:−CO−アルケニレン−NH− c10:−CO−アルケニレン−O− c11:−アルキレン−CO−O−アルキレン−O−CO
−アルキレン− c12:−O−アルキレン−CO−O−アルキレン−O−
CO−アルキレン−O− c13:−O−CO−アルキレン−CO−O− c14:−NH−CO−アルケニレン− c15:−O−CO−アルケニレン−
いてもよい。ただし、置換基は、二つの芳香族環の立体
配座を立体障害しないことが必要である。立体障害で
は、置換基の種類および位置が問題になる。置換基の種
類としては、立体的に嵩高い置換基(例えば、3級アル
キル基)が立体障害を起こしやすい。置換基の位置とし
ては、芳香族環の結合に隣接する位置(ベンゼン環の場
合はオルト位)が置換された場合に、立体障害が生じや
すい。置換基の例には、ハロゲン原子(F、Cl、B
r、I)、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、アミ
ノ、ニトロ、スルホ、カルバモイル、スルファモイル、
ウレイド、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アルコキシ
基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルア
ミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、脂肪
族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族置換アミ
ノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換スルファ
モイル基、脂肪族置換ウレイド基および非芳香族性複素
環基が含まれる。
ることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル
基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。
アルキル基は、さらに置換基(例、ヒドロキシ、カルボ
キシ、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基)を有して
いてもよい。アルキル基の(置換アルキル基を含む)例
には、メチル、エチル、n−ブチル、n−ヘキシル、2
−ヒドロキシエチル、4−カルボキシブチル、2−メト
キシエチルおよび2−ジエチルアミノエチルが含まれ
る。アルケニル基の炭素原子数は、2乃至8であること
が好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基
の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。
アルケニル基は、さらに置換基を有していてもよい。ア
ルケニル基の例には、ビニル、アリルおよび1−ヘキセ
ニルが含まれる。アルキニル基の炭素原子数は、2乃至
8であることが好ましい。環状アルキケニル基よりも鎖
状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が
特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有して
いてもよい。アルキニル基の例には、エチニル、1−ブ
チニルおよび1−ヘキシニルが含まれる。
0であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、ア
セチル、プロパノイルおよびブタノイルが含まれる。脂
肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、1乃至10である
ことが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、アセ
トキシが含まれる。アルコキシ基の炭素原子数は、1乃
至8であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置
換基(例、アルコキシ基)を有していてもよい。アルコ
キシ基の(置換アルコキシ基を含む)例には、メトキ
シ、エトキシ、ブトキシおよびメトキシエトキシが含ま
れる。アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、2乃至
10であることが好ましい。アルコキシカルボニル基の
例には、メトキシカルボニルおよびエトキシカルボニル
が含まれる。アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子
数は、2乃至10であることが好ましい。アルコキシカ
ルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ
およびエトキシカルボニルアミノが含まれる。
2であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、メ
チルチオ、エチルチオおよびオクチルチオが含まれる。
アルキルスルホニル基の炭素原子数は、1乃至8である
ことが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メタ
ンスルホニルおよびエタンスルホニルが含まれる。、脂
肪族アミド基の炭素原子数は、1乃至10であることが
好ましい。脂肪族アミド基の例には、アセトアミドが含
まれる。脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は、1乃
至8であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の
例には、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド
およびn−オクタンスルホンアミドが含まれる。脂肪族
置換アミノ基の炭素原子数は、1乃至10であることが
好ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、ジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノおよび2−カルボキシエチルアミノ
が含まれる。脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数
は、2乃至10であることが好ましい。脂肪族置換カル
バモイル基の例には、メチルカルバモイルおよびジエチ
ルカルバモイルが含まれる。脂肪族置換スルファモイル
基の炭素原子数は、1乃至8であることが好ましい。脂
肪族置換スルファモイル基の例には、メチルスルファモ
イルおよびジエチルスルファモイルが含まれる。脂肪族
置換ウレイド基の炭素原子数は、2乃至10であること
が好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、メチルウ
レイドが含まれる。非芳香族性複素環基の例には、ピペ
リジノおよびモルホリノが含まれる。
0乃至800であることが好ましい。レターデーション
上昇剤の沸点は、260℃以上であることが好ましい。
沸点は、市販の測定装置(例えば、TG/DTA10
0、セイコー電子工業(株)製)を用いて測定できる。
ステルフイルムを製造することが好ましい。ソルベント
キャスト法では、セルロースエステルを有機溶媒に溶解
した溶液(ドープ)を用いてフイルムを製造する。有機
溶媒は、炭素原子数が3乃至12のエーテル、炭素原子
数が3乃至12のケトン、炭素原子数が3乃至12のエ
ステルおよび炭素原子数が1乃至6のハロゲン化炭化水
素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。エーテル、
ケトンおよびエステルは、環状構造を有していてもよ
い。エーテル、ケトンおよびエステルの官能基(すなわ
ち、−O−、−CO−および−COO−)のいずれかを
二つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることが
できる。有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の
官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有す
る有機溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能
基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジ
メトキシエタン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキ
ソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネ
トールが含まれる。炭素原子数が3乃至12のケトン類
の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびメ
チルシクロヘキサノンが含まれる。炭素原子数が3乃至
12のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピ
ルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテー
ト、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含ま
れる。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、
2−エトキシエチルアセテート、2−メトキシエタノー
ルおよび2−ブトキシエタノールが含まれる。ハロゲン
化炭化水素の炭素原子数は、1または2であることが好
ましく、1であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化
水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲ
ン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている
割合は、25乃至75モル%であることが好ましく、3
0乃至70モル%であることがより好ましく、35乃至
65モル%であることがさらに好ましく、40乃至60
モル%であることが最も好ましい。メチレンクロリド
が、代表的なハロゲン化炭化水素である。二種類以上の
有機溶媒を混合して用いてもよい。
溶液を調製してもよい。一般的な方法とは、0℃以上の
温度(常温または高温)で、処理することを意味する。
溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるド
ープの調製方法および装置を用いて実施することができ
る。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロ
ゲン化炭化水素(特にメチレンクロリド)を用いること
が好ましい。セルロースエステルの量は、得られる溶液
中に10乃至40重量%含まれるように調整する。セル
ロースエステルの量は、10乃至30重量%であること
がさらに好ましい。有機溶媒(主溶媒)中には、後述す
る任意の添加剤を添加しておいてもよい。溶液は、常温
(0乃至40℃)でセルロースエステルと有機溶媒とを
攪拌することにより調製することができる。高濃度の溶
液は、加圧および加熱条件下で攪拌してもよい。具体的
には、セルロースエステルと有機溶媒とを加圧容器に入
れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、か
つ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌す
る。加熱温度は、通常は40℃以上であり、好ましくは
60乃至200℃であり、さらに好ましくは80乃至1
10℃である。
もよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌
できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の
不活性気体を注入して容器を加圧することができる。ま
た、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。
あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加しても
よい。加熱する場合、容器の外部より加熱することが好
ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いる
ことができる。また、容器の外部にプレートヒーターを
設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を
加熱することもできる。容器内部に攪拌翼を設けて、こ
れを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の
壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端に
は、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けるこ
とが好ましい。容器には、圧力計、温度計等の計器類を
設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。
調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるい
は、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。
できる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させ
ることが困難な有機溶媒(ハロゲン化炭化水素以外の有
機溶媒)中にも、セルロースエステルを溶解させること
ができる。なお、通常の溶解方法でセルロースエステル
を溶解できる溶媒(例えば、ハロゲン化炭化水素)であ
っても、冷却溶解法によると迅速に均一な溶液が得られ
るとの効果がある。また、冷却溶解法を用いると、製造
するセルロースエステルフイルムのレターデーションが
高い値になる。冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒
中にセルロースエステルを撹拌しながら徐々に添加す
る。セルロースエステルの量は、この混合物中に10乃
至40重量%含まれるように調整することが好ましい。
セルロースエステルの量は、10乃至30重量%である
ことがさらに好ましい。さらに、混合物中には後述する
任意の添加剤を添加しておいてもよい。
ましくは−80乃至−10℃、さらに好ましくは−50
乃至−20℃、最も好ましくは−50乃至−30℃)に
冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール
浴(−75℃)や冷却したジエチレングリコール溶液
(−30乃至−20℃)中で実施できる。このように冷
却すると、セルロースエステルと有機溶媒の混合物は固
化する。冷却速度は、4℃/分以上であることが好まし
く、8℃/分以上であることがさらに好ましく、12℃
/分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速い
ほど好ましいが、10000℃/秒が理論的な上限であ
り、1000℃/秒が技術的な上限であり、そして10
0℃/秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、冷
却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を冷却
を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で
割った値である。
は0乃至150℃、さらに好ましくは0乃至120℃、
最も好ましくは0乃至50℃)に加温すると、有機溶媒
中にセルロースエステルが溶解する。昇温は、室温中に
放置するだけでもよし、温浴中で加温してもよい。加温
速度は、4℃/分以上であることが好ましく、8℃/分
以上であることがさらに好ましく、12℃/分以上であ
ることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好ましい
が、10000℃/秒が理論的な上限であり、1000
℃/秒が技術的な上限であり、そして100℃/秒が実
用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始する
時の温度と最終的な加温温度との差を加温を開始してか
ら最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値であ
る。
る。なお、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作
を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目
視により溶液の外観を観察するだけで判断することがで
きる。
る水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ま
しい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、
加温時の減圧すると、溶解時間を短縮することができ
る。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器を
用いることが望ましい。なお、セルロースアセテート
(酢化度:60.9%、粘度平均重合度:299)を冷
却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した20重量
%の溶液は、示差走査熱量測定(DSC)によると、3
3℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在
し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、
この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移
温度プラス10℃程度の温度で保存する必要がある。た
だし、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの
平均酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機
溶媒により異なる。
プ)から、ソルベントキャスト法によりセルロースエス
テルフイルムを製造する。ドープは、ドラムまたはバン
ド上に流延し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成する。
流延前のドープは、固形分量が18乃至35%となるよ
うに濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバン
ドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。
ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法につ
いては、米国特許2336310号、同2367603
号、同2492078号、同2492977号、同24
92978号、同2607704号、同2739069
号、同2739070号、英国特許640731号、同
736892号の各明細書、特公昭45−4554号、
同49−5614号、特開昭60−176834号、同
60−203430号、同62−115035号の各公
報に記載がある。ドープは、表面温度が10℃以下のド
ラムまたはバンド上に流延することが好ましい。流延し
た2秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られ
たフイルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに
100から160℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥
して残留溶剤を蒸発させることもできる。以上の方法
は、特公平5−17844号公報に記載がある。この方
法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮するこ
とが可能である。この方法を実施するためには、流延時
のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル
化することが必要である。前記のように調製した溶液
(ドープ)は、この条件を満足する。製造するフイルム
の厚さは、40乃至120μmであることが好ましく、
70乃至100μmであることがさらに好ましい。
物性を改良するため、または乾燥速度を向上するため
に、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、
リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられ
る。リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェ
ート(TPP)およびトリクレジルホスフェート(TC
P)が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル
酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フ
タル酸エステルの例には、ジメチルフタレート(DM
P)、ジエチルフタレート(DEP)、ジブチルフタレ
ート(DBP)、ジオクチルフタレート(DOP)、ジ
フェニルフタレート(DPP)およびジエチルヘキシル
フタレート(DEHP)が含まれる。クエン酸エステル
の例には、O−アセチルクエン酸トリエチル(OACT
E)およびO−アセチルクエン酸トリブチル(OACT
B)が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例に
は、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、
セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが
含まれる。フタル酸エステル系可塑剤(DMP、DE
P、DBP、DOP、DPP、DEHP)が好ましく用
いられる。DEPおよびDPPが特に好ましい。可塑剤
の添加量は、セルロースエステルの量の0.1乃至25
重量%であることが好ましく、1乃至20重量%である
ことがさらに好ましく、3乃至15重量%であることが
最も好ましい。
止剤(例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止
剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン)や紫外線防止
剤を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平3
−199201号、同5−1907073号、同5−1
94789号、同5−271471号、同6−1078
54号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、
調製する溶液(ドープ)の0.01乃至1重量%である
ことが好ましく、0.01乃至0.2重量%であること
がさらに好ましい。添加量が0.01重量%未満である
と、劣化防止剤の効果がほとんど認められない。添加量
が1重量%を越えると、フイルム表面への劣化防止剤の
ブリードアウト(滲み出し)が認められる場合がある。
特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロ
キシトルエン(BHT)を挙げることができる。紫外線
防止剤については、特開平7−11056号公報に記載
がある。なお、平均酢化度が55.0乃至58.0%で
あるセルロースアセテートは、平均酢化度が58.0%
以上であるセルローストリアセテートと比較して、調製
した溶液の安定性や製造したフイルムの物性が劣るとの
欠点がある。しかし、上記のような劣化防止剤、特にブ
チル化ヒドロキシトルエン(BHT)のような酸化防止
剤を用いることで、この欠点を実質的に解消することが
可能である。
様々な表示モードの液晶セルに適用できる。既に、TN
(Twisted Nematic)、IPS(In-Plane Switchin
g)、FLC(Ferroelectric Liquid Crystal)、OC
B(Optically Compensatory Bend)、STN(Supper
Twisted Nematic)、VA(Vertically Aligned)ある
いはHAN(Hybrid Aligned Nematic)のような様々な
表示モードが提案されている。本発明の楕円偏光板は、
TNモードの液晶表示装置において、特に有効である。
なお、光学異方性保護膜の光学的異方性のみでは、液晶
セルの光学的補償に不充分である場合は、楕円偏光板と
液晶セルとの間に、光学補償シートを挿入してもよい。
60.9%のセルロースアセテート45重量部、下記の
レターデーション上昇剤(1)1.35重量部、リン酸
トリフェニル(可塑剤)2.75重量部、リン酸ビフェ
ニルジフェニル(可塑剤)2.20重量部、メチレンク
ロリド232.72重量部、メタノール42.57重量
部およびn−ブタノール8.50重量部を混合して、溶
液(ドープ)を調製した。
延機を用いて、乾燥膜厚が100μmになるように流延
して乾燥した。得られたセルロースアセテートフイルム
(光学異方性保護膜)について、エリプソメーター(M
−150、日本分光(株)製)を用いて、波長600n
mにおける厚み方向のレターデーション(Rth)を測定
したところ、80nmであった。また、面内のレターデ
ーション(Re)は、10nmであった。さらに、光学
異方性保護膜の屈折率異方性の波長分散値として、波長
450nmの光で測定した光学異方性保護膜の屈折率異
方性であるΔn(450)と、波長600nmで測定し
た光学異方性保護膜の屈折率異方性であるΔn(60
0)との比、Δn(450)/Δn(600)を測定し
たところ、0.86であった。
昇剤を添加しなかった以外は、光学異方性保護膜の作製
と同様にして、セルロースアセテートフイルム(透明保
護膜)を作製した。得られた透明保護膜について、エリ
プソメーター(M−150、日本分光(株)製)を用い
て、波長600nmにおける厚み方向のレターデーショ
ン(Rth)を測定したところ、40nmであった。ま
た、面内のレターデーション(Re)は、10nmであ
った。さらに、透明保護膜の屈折率異方性の波長分散値
として、波長450nmの光で測定した透明保護膜の屈
折率異方性であるΔn(450)と、波長600nmで
測定した透明保護膜の屈折率異方性であるΔn(60
0)との比、Δn(450)/Δn(600)を測定し
たところ、−5.80であった。
アルコールフイルムにヨウ素を吸着させて、偏光膜を作
製した。偏光膜の片側に、ポリビニルアルコール系接着
剤を用いて、光学異方性保護膜を貼り付けた。反対側に
は、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、透明保護
膜を貼り付けた。偏光膜の透過軸と、光学異方性保護膜
の遅相軸とは、垂直になるように配置した。このように
して、楕円偏光板を作製した。楕円偏光板を、アクリル
系接着剤を用いてガラス板に貼り付け、高温、加圧下で
エイジングした後、90℃の恒温槽に入れ、500時間
放置した。楕円偏光板を調べたところ、剥離、泡の発生
あるいは皺の発生のような問題は全く認められなかっ
た。さらに500時間(合計1000時間)90℃の恒
温槽に入れてから調べても、剥離、泡の発生あるいは皺
の発生のような問題は全く認められなかった。
設けられたガラス基板の上に、ポリイミド配向膜を設
け、ラビング処理を行った。5μmのスペーサーを介し
て、二枚の基板を配向膜が向かい合うように重ねた。配
向膜のラビング方向が直交するように、基板の向きを調
節した。基板の間隙に、棒状液晶性分子(ZL479
2、メルク社製)を注入し、液晶層を形成した。液晶性
分子のΔnは0.0969であった。以上のように作製
したTN液晶セルの両側に、楕円偏光板を、光学異方性
保護膜が基板と対面するように貼り付けて液晶表示装置
を作製した。光学異方性保護膜の遅相軸と、液晶セルの
ラビング方向は、平行になるように配置した。液晶表示
装置の液晶セルに、電圧を印加し、白表示2V、黒表示
5Vにおける白表示と黒表示との透過率の比をコントラ
スト比として、上下左右でコントラスト比が10、かつ
階調反転のない領域を視野角として視野角を測定した。
その結果、上下の視野角は55゜、左右の視野角は85
゜であった。また、正面コントラストは、110であっ
た。
(1)1.35重量部に代えて、レターデーション上昇
剤(1)1.01重量部と下記のレターデション上昇剤
(2)0.34重量部との混合物を用いた以外は、実施
例1と同様にして、光学異方性保護膜を作製した。
(光学異方性保護膜)について、エリプソメーター(M
−150、日本分光(株)製)を用いて、波長600n
mにおける厚み方向のレターデーション(Rth)を測定
したところ、80nmであった。また、面内のレターデ
ーション(Re)は、10nmであった。さらに、光学
異方性保護膜の屈折率異方性の波長分散値として、波長
450nmの光で測定した光学異方性保護膜の屈折率異
方性であるΔn(450)と、波長600nmで測定し
た光学異方性保護膜の屈折率異方性であるΔn(60
0)との比、Δn(450)/Δn(600)を測定し
たところ、0.86であった。
た光学異方性保護膜を用いた以外は、実施例1と同様に
楕円偏光板を作製した。楕円偏光板を、アクリル系接着
剤を用いてガラス板に貼り付け、高温、加圧下でエイジ
ングした後、90℃の恒温槽に入れ、500時間放置し
た。楕円偏光板を調べたところ、剥離、泡の発生あるい
は皺の発生のような問題は全く認められなかった。さら
に500時間(合計1000時間)90℃の恒温槽に入
れてから調べても、剥離、泡の発生あるいは皺の発生の
ような問題は全く認められなかった。
を用いた以外は、実施例1と同様にして、液晶表示装置
を作製した。液晶表示装置の液晶セルに、電圧を印加
し、白表示2V、黒表示5Vにおける白表示と黒表示と
の透過率の比をコントラスト比として、上下左右でコン
トラスト比が10、かつ階調反転のない領域を視野角と
して視野角を測定した。その結果、上下の視野角は60
゜、左右の視野角は90゜であった。また、正面コント
ラストは、110であった。
膜の遅相軸とが、平行になるように配置した以外は、実
施例1と同様にして、楕円偏光板を作製した。楕円偏光
板を、アクリル系接着剤を用いてガラス板に貼り付け、
高温、加圧下でエイジングした後、90℃の恒温槽に入
れ、500時間放置した。楕円偏光板を調べたところ、
剥離、泡の発生あるいは皺の発生のような問題は全く認
められなかった。さらに500時間(合計1000時
間)90℃の恒温槽に入れてから調べても、剥離、泡の
発生あるいは皺の発生のような問題は全く認められなか
った。
を用いた以外は、実施例1と同様にして、液晶表示装置
を作製した。液晶表示装置の液晶セルに、電圧を印加
し、白表示2V、黒表示5Vにおける白表示と黒表示と
の透過率の比をコントラスト比として、上下左右でコン
トラスト比が10、かつ階調反転のない領域を視野角と
して視野角を測定した。その結果、上下の視野角は50
゜、左右の視野角は90゜であった。また、正面コント
ラストは、110であった。
ムにヨウ素を吸着させて、偏光膜を作製した。偏光膜の
両側に、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、実施
例1で作製した透明保護膜を二枚貼り付けた。このよう
にして、偏光板を作製した。
円偏光板に代えて用いた以外は、実施例1と同様にし
て、液晶表示装置を作製した。液晶表示装置の液晶セル
に、電圧を印加し、白表示2V、黒表示5Vにおける白
表示と黒表示との透過率の比をコントラスト比として、
上下左右でコントラスト比が10、かつ階調反転のない
領域を視野角として視野角を測定した。その結果、上下
の視野角は50゜、左右の視野角は70゜であった。ま
た、正面コントラストは、120であった。
の模式図である。
グ方向 11 透明保護膜 12 偏光膜 13 光学異方性保護膜
Claims (6)
- 【請求項1】 透明保護膜、偏光膜および光学異方性保
護膜がこの順に積層されている楕円偏光板であって、光
学異方性保護膜が0.7以上1.3未満の範囲内に下記
式で定義される屈折率異方性の波長分散値を有すること
を特徴とする楕円偏光板。 α=Δn(450)/Δn(600) 式中、αは光学異方性保護膜の屈折率異方性の波長分散
値であり;Δn(450)は波長450nmの光で測定
した光学異方性保護膜の屈折率異方性であり;そして、
Δn(600)は波長600nmで測定した光学異方性
保護膜の屈折率異方性である。 - 【請求項2】 上記光学異方性保護膜が、0乃至100
nmの範囲内に下記式で定義されるReレターデーショ
ン値を有し、かつ20乃至400nmの範囲内に下記式
で定義されるRthレターデーション値を有する請求項1
に記載の楕円偏光板。 Re=│nx−ny│×d Rth={(n1+n2)/2−n3}×d 式中、nxおよびnyは積層体の面内の主屈折率であ
り;dは積層体の厚さ(nm)であり;そして、n1、
n2およびn3は、n1≧n2≧n3を満足する積層体
の三軸方向の屈折率である。 - 【請求項3】 上記光学異方性保護膜の遅相軸と偏光膜
の透過軸とが、実質的に平行である請求項1に記載の楕
円偏光板。 - 【請求項4】 上記光学異方性保護膜の遅相軸と偏光膜
の透過軸とが、実質的に垂直である請求項1に記載の楕
円偏光板。 - 【請求項5】 上記光学異方性保護膜がセルロースエス
テルフイルムである請求項1に記載の楕円偏光板。 - 【請求項6】 TN型液晶セルおよびその両側に配置さ
れた二枚の偏光素子からなり、偏光素子の少なくとも一
方が、外側から順に、透明保護膜、偏光膜および光学異
方性保護膜が積層されている楕円偏光板であるTN型液
晶表示装置であって、光学異方性保護膜が0.7以上
1.3未満の範囲内に下記式で定義される屈折率異方性
の波長分散値を有することを特徴とするTN型液晶表示
装置。 α=Δn(450)/Δn(600) 式中、αは光学異方性保護膜の屈折率異方性の波長分散
値であり;Δn(450)は波長450nmの光で測定
した光学異方性保護膜の屈折率異方性であり;そして、
Δn(600)は波長600nmで測定した光学異方性
保護膜の屈折率異方性である。
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