FI70376C - Foerfarande och anordning foer separering eller rening av organiska aemnen - Google Patents

Description

70376

Menetelmä ja laite orgaanisten aineiden erottamiseksi tai puhdistamiseksi Förfarande och anordnlng för separerlng eller renlng av organiskä ämnen

Keksinnön kohteena on menetelmä orgaanisten aineiden erottamiseksi tai puhdistamiseksi sulassa tilassa olevasta aineseoksesta kiteyttämällä ero-tettava/puhdistettava aine jäähdytetylle pinnalle.

5 Keksinnön kohteena on myös laite aineiden erottamiseksi ja puhdistamiseksi, jossa laitteessa kiteyttäminen tapahtuu erotettavien aineiden sulassa tilassa olevasta seoksesta jäähdytetylle pinnalle.

Orgaanisten aineiden puhdistaminen tai erottaminen kiteyttämällä ainei-den sulatteesta on hyvin tunnettua tekniikkaa. Saavutettavissa oleva ero-tustehokkuus voidaan saada selville kyseisen aineseoksen faasidiagram-mista.

Useimmat kaupalliset sulakiteytysprosessit käyttävät hyväksi epäsuoraa jäähdytystä. Tällöin poistettava lämpö siirretään väliseinän, esimerkiksi putkiselnämän läpi jäähdytysväliaineeseen.

Kiteyttäminen voi tapahtua joko suspensiossa tai sitten suoraan jäähdytettävälle pinnalle. Jälkimmäisessä tapauksessa on useimmiten kysymyksessä 2® panostyyppinen kiteytin, jossa syntyvä kidekerros irrotetaan sulattamalla, jolloin samaan laitteeseen ei voida samanaikaisesti syöttää uutta kiteytettävää seosta. Tunnetaan kuitenkin myös jatkuvatoimisia kiteyttimiä, jotka on varustettu jäähdytys-, sulatus- ja sekoituslaitteilla. Esimerkkeinä pyörivistä sulakiteyttimistä voidaan mainita esimerkiksi DE-patent-2$ tijulkaisujen n:ot 2.214.481 ja 2.057.824 mukaiset laitteet.

DE-patenttijulkaisussa n:o 2.214.481 esitetään sylinterikiteytin, jossa kiteytystilan muodostaa kahden sisäkkäisen pyörivän sylinterin väliin jäävän rengasmaisen tilan alin osa. Molemmat sylinterit pyörivät vaakasuo- 2 70376 ran pyörimisakselin läpi. Sylinterien väliseen rengasmaiseen tilaan johdetaan käsiteltävää sulatetta, joka kiteytetään rengasmaisen tilan alimmassa kohdassa tulpaksi rengasmaisen tilan ulkopuolella sijaitsevien jäähdytiimien avulla. Tulpan kiteytymispintaa huuhtelee koko ajan käsiteltävän 5 sulatteen virtaus, jolloin samalla poistetaan seoksen kiteytymättömiä komponentteja ja epäpuhtauksia sulatteesta rengasmaiseen tilaan johdetun putken avulla.

Keksinnön kohteena on uusi menetelmä orgaanisten aineiden erottamiseksi 10 tai puhdistamiseksi, jossa menetelmässä saavutetaan aikaisempaan tekniikkaan verrattuna parempi puhdistusteho ja kiteytyksen säädettävyys. Keksinnön mukainen menetelmä toimii yhtä hyvin panosprosessina kuin jatkuvatoimisena prosessina. Keksinnön kohteena on myös sylinterikiteytin, jossa sovelletaan keksinnön mukaista menetelmää. Keksinnön mukaisella sylinteriin kiteyttimellä voidaan aikaansaada parempi teho ja säädettävyys sekä oleellisesti suurempi kapasiteetti kuin aikaisemmin tunnetuissa kiteyttimissä ja se voi toimi sekä panosklteyttimenä ja jatkuvatoimisena.

Keksinnön mukainen menetelmä orgaanisten aineiden puhdistamiseksi tai 20 erottamiseksi sulassa tilassa olevasta aineseoksesta kiteyttämällä erotettava tai puhdistettava aine jäähdytetylle pinnalle on tunnettu siitä, että sulassa tilassa oleva aineseos johdetaan sisäänsyöttökohdassa rengasmaiseen tilaan, jota rajoittavat pyörivä sylinterimälnen vaippapinta, jota jäähdytetään, ja siitä välimatkan päässä oleva toinen sylinterimälnen 25 vaippapinta, jolloin puhdistettava tai erotettava aine kiteytetään mainitun pyörivän jäähdytetyn vaipan pinnalle kerrokseksi, joka sulatetaan ensimmäisessä poistokohdassa, joka sijaitsee jäähdytetyn valppapinnan pyörimissuunnassa myötävirtaan sisäänsyöttökohdasta, jolloin ainakin osa sulatetusta puhdistetusta materiaalista poistetaan ja muu osa johdetaan 30 paluuvirtauksena takaisin pitkin rengasmaista tilaa ja että epäpuhdasta sulaa aineseosta johdetaan ulos toisessa poistokohdassa, joka sijaitsee jäähdytetyn valppapinnan pyörimissuunnassa vastavirtaan sisäänsyöttökohdasta.

35 Oleellista keksinnön mukaisessa menetelmässä on se, että se mahdollistaa sopivan lämpögradientln aikaansaamisen puhdistetun materiaalin poistokoh-dan ja epäpuhtaan materiaalin polstokohdan välillä. Toinen oleellinen 3 70376 seikka on kiteytyneen ja uudelleesulatetun materiaalin virtaus vastavirtaan pitkin jäähdytetylle pyörivälle vaippapinnalle kiteytynyttä kideker-rosta ja siten huuhteleva vaikutus.

5 Keksinnön mukainen menetelmä antaa edelläolevasta johtuen monia etuja. Sylinterimäinen pyörivän vaippapinnan lähes koko pinta-ala on kiteyttä-miseen käytettävissä. Aikaisemmin tunnetuissa menetelmissä kiteytykseen on käytetty vain osaa vaippapinnasta.

10 Toinen etu on se, että kiteytyminen alkaa sellaisessa kohdassa, jossa sulate on epäpuhtainta. Kiteytyneen kerroksen paksuus kasvaa rummun pyörimissuunnassa kohti puhdistetun materiaalin poistokohtaa, jossa kiteytynyt kerros on paksuinta. Tämä merkitsee sitä, että suurempi osa kiteytyneestä materiaalista on kiteytynyt sellaisessa kohdassa, jossa sulate 15 on puhtaampaa. Keksinnön mukaisen menetelmän puhdistusteho on siten oleellisesti parempi kuin aikaisemmin tunnetuissa menetelmissä.

Keksintö koskee myös laitetta menetelmän soveltamiseksi. Keksinnön mukainen laite orgaanisten aineiden erottamiseksi tai puhdistamiseksi, jossa 20 kiteyttäminen tapahtuu erotettavien aineiden sulassa tilassa olevasta seoksesta jäähdytetylle pinnalle, on tunnettu siitä, että laitteeseen kuuluu ensimmäinen pyörivä sylinterimäinen vaippapinta, joka on jäähdytettävissä, välimatkan päässä ensimmäisestä vaippapinnasta oleva toinen sylinterimäinen vaippapinta, rengasmainen tila mainitun ensimmäisen pyö-25 rivän vaippapinnan ja mainitun toisen sylinterimäisen vaippapinnan välissä, elimet puhdistetun aineen poistamiseksi mainitun pyörivän jäähdytetyn vaipan pinnalta uudelleen sulatettaessa kohdassa, joka sijaitsee mainitun pyörivän jäähdytetyn vaippapinnan pyörimissuunnassa myötävirtaan kohdasta, johon käsiteltävää sulaa aineseosta tuodaan, elimet epäpuhtaan aineseok-30 sen poistamiseksi mainitusta rengasmaisesti tilasta kohdassa, joka on mainitun jäähdytetyn vaippapinnan pyörimissuunnassa vastavirtaan kohdasta, johon käsiteltävää materiaalia tuodaan, elimet käsiteltävän aineseok-sen johtamiseksi sulassa tilassa mainittuun rengasmaiseen tilaan, elimet mainitun pyörivän vaippapinnan jäähdyttämiseksi sekä elimet puhtaan ai-35 neseoksen sulattamiseksi lähellä puhtaan aineen poistokohtaa.

Keksintöä selitetään yksityiskohtaisesti viittaamalla oheisiin piirustuk- 4 70376 sien kuvioissa esitettyihin keksinnön eräisiin edullisiin suoritusmuotoihin, joihin keksintöä ei kuitenkaan ole tarkoitus yksinomaan rajoittaa.

Kuvio 1 esittää keksinnön mukaisessa menetelmässä käytetyn laitteen eräs-5 tä edullista suoritusmuotoa päältäpäin nähtynä.

Kuvio 2 esittää keksinnön mukaisessa menetelmässä käytetyn laitteen erästä toista edullista suoritusmuotoa päältäpäin nähtynä.

10 Kuvio 3 esittää graafisesti keksinnön mukaisen menetelmän ja laitteen erotustehoa vaippapinnan pyörimisnopeuden funktiona.

Kuvio 4 esittää graafisesti naftaleeni/β-metyylinaftaleeniseoksen erotusta ajan funktiona kierrosnopeuden ollessa 1/4 rpm.

15

Kuvio 5 esittää samoin naftaleeni/B-metyylinaftaleeniseoksen erotusta ajan funktiona kierrosnopeuden ollessa 1/5 rpm.

Kuvion 1 mukaisessa suoritusmuodossa keksinnön mukaisen menetelmän toteut-20 tamisessa käytettyä laitetta on merkitty yleisesti viitenumerolla 10. Tässä suoritusmuodossa laitteeseen 10 kuuluu pyörivä sylinterimäinen vaippa-pinta 11 ja siitä välimatkan päässä oleva toinen sylinterimäinen vaippa-pinta 12, jotka vaippaplnnat 11,12 rajoittavat rengasmaisen tilan 13. Valppapintaa 11 jäähdytetään jäähdytysvaipalla 14, johon jäähdytysnestet-25 tä johdetaan syöttöputken 15 kautta. Jäähdytysvesi poistetaan jäähdytysvai-pasta 14 jäähdytysveden poistoputken 16 kautta. Jäähdytysvaipassa 14 on eristeseinämä 17a jäähdytysveden ohjaamiseksi. Luonnollisesti eristesei-nämiä 17a voi olla myös kaksi tai useampia. Rengasmaisessa tilassa 13 on eristelevy tai erotin 17b, joka on sovitettu hankauskosketuksella siten, 30 että se pysyy rengasmaisessa tilassa 13 paikoillaan.

Laitteeseen 10 kuuluu lisäksi syöttölinja 18, jonka venttiiliä on merkitty viitenumerolla 19, puhtaan tuotteen ulosotto 21, jonka venttiiliä on merkitty viitenumerolla 22, ja epäpuhtaan tuotteen ulosotto 24, jonka 35 venttiiliä on merkitty viitenumerolla 25. Rengasmaiseen tilaan 13 vaipan 11 pinnalle jähmettynyttä sulatteen kidekerrosta on merkitty viitenumerolla 20. Rengasmaiseen tilaan 13 on sijoitettu lämmityselin 23, joka on 5 70376 edullisesti sähkövastus. Lämmityselin 23 voi myös korvata erottimen tai eristelevyn 17b.

Osa epäpuhtaasta tuotteesta voidaan johtaa epäpuhtaan tuotteen ulosotosta 5 24 haaralinjaa 26 myöten kierrätyselimelle 27 kuten esim. pumpulle, joka on sovitettu johtamaan osan epäpuhtaasta tuotteesta paluulinjaa 28 myöten sulatteen syöttölinjaan 18. Viitenumerolla 29 on merkitty pystysuoraa pyörimisakselia, jonka ympäri sylinterimäinen vaippapinta 11 on sovitettu pyörimään.

10

Piirustuksen kuviossa 1 sylinterimäisen vaippapinnan 11 pyörimissuuntaa ja samalla vaipan pinnalle jähmettyneen aineen liikesuuntaa on merkitty nuolella A, palaavan sulatteen liikesuuntaa nuolella B ja jäähdytysveden liikesuuntaa nuolella C.

15

Kuviossa 1 sulatteen syöttökohtaa on merkitty viitenumerolla 30, puhtaan tuotteen poistokohtaa viitenumerolla 31 ja vastaavasti epäpuhtaan tuotteen poistokohtaa viitenumerolla 32.

20 Kuvion 1 mukaisessa laitteessa on ominaista se, että sulassa tilassa oleva aineseos johdetaan sisäänsyöttökohdassa 30 rengasmaiseen tilaan 13, jota rajoittavat pyörivä sylinterimäinen vaippapinta 11, jota jäähdytetään, ja siitä välimatkan päässä oleva toinen sylinterimäinen vaippapinta 12. Vaippapinnan 11 pyöriessä nuolella A merkittyyn suuntaan puhdistettava/erotet- 25 tava aine kiteytetään pyörivän jäähdytetyn vaipan 11 pinnalle kidekerrok-seksi 20. Kidekerrosta 20 sulatetaan uudelleen ensimmäisessä poistokohdas-sa 31, joka sijaitsee jäähdytetyn vaippapinnan 11 pyörimissuunnassa A myötävirtaan sisäänsyöttökohdasta 30, jolloin ainakin osa sulatetusta puhdistetusta materiaalista poistetaan poistolinjaa 21 myöten. Muu osa sula- 30 tetusta puhdistetusta materiaalista johdetaan paluuvirtauksena B takaisin pitkin rengasmaista tilaa 13. Epäpuhdasta sulaa aineseosta johdetaan pois toisessa polstokohdassa 32, joka sijaitsee jäähdytetyn vaippapinnan 11 pyörimissuunnassa A vastavirtaan sisäänsyöttökohdasta 30.

35 Keksinnön mukaisessa menetelmässä jäähdytettävää vaippapintaa 11 jäähdyttävä väliaine johdetaan sisään kohdassa, joka on lähellä puhdistetun materiaalin poistokohtaa 31 ja ulos kohdasta, joka on lähellä epäpuhtaan 6 70376 materiaalin poistokohtaa 32. Puhdistetun materiaalin poistokohdan 31 ja epäpuhtaan materiaalin poistokohdan 32 välille on sijoitettu erotin, kuten esim. eristelevy 17b, joka estää sulan materiaalin virtauksen mainittujen polstokohtien 31,32 välillä. Kuvion 1 mukaisessa suoritusmuodossa 5 kiteyttäminen suoritetaan pyörivän sylinterimäisen vaipan 11 ulkopinnalle. Luonnollisesti kiteyttäminen voidaan suorittaa yhtä hyvin pyörivän sylinterimäisen vaipan 11 sisäpinnalle, jolloin luonnollisesti jäähdytys-vaippa 14 on valppapinnan 11 ulkopuolella ja vaippapinta 12 on vaippapin-nan 11 sisäpuolella. Kuvion 1 mukaisessa suoritusmuodossa jäähdytetty 10 sylinterimäinen vaippapinta 11 on sovitettu pyörimään pystysuoran pyörimisakselin 29 ympäri.

Kuvion 2 mukainen suoritusmuoto on muutoin sama kuin kuvion 1 suoritusmuoto, mutta kuvion 2 mukaisessa suoritusmuodossa pyörivän valppapinnan 15 11 ja samalla jäähdytysvaipan 14 sisäpuolelle on sovitettu toinen sylin terimäinen vaippapinta 111. Tällöin kuvion 2 mukaisesti muodostuu rengasmaiset tilat 13 ja 113, joissa kummassakin on elimet 21,22 ja vastaavasti 121 puhdistetun aineen poistamiseksi, elimet 24,25 ja vastaavasti 124 epäpuhtaan aineen poistamiseksi ja elimet 18,19 ja vastaavasti 118 puhdis-20 tettavan aineseoksen slsäänjohtamiseksi sulassa tilassa. Myös kuvion 2 mukaisessa suoritusmuodossa rengasmainen tila 113 on varustettu erottimella eli väliseinällä 117b, joka jakaa rengasmaisen tilan kahteen tai useampaan erilliseen tilaan. Tällöin jokainen tällainen erillinen rengasmainen tila on varustettu elimillä puhdistettujen ja epäpuhtaiden aineiden poista-25 miseksi ja elimillä puhdistettavien aineiden sisäänjohtamiseksi. Viitenumero 126 tarkoittaa haaralinjaa, viitenumero 127 kierrätyselintä ja viitenumero 128 paluulinjaa. Sisäkkäisiä vaipparakenteita voidaan sovittaa luonnollisesti haluttu määrä, jolloin useampia puhdistustiloja voidaan kytkeä sarjaan tai rinnan sekä käyttää eri puhdistustiloja eri aineiden 30 puhdistamiseksi, jos aineiden kiteytymislämpötilat sen sallivat. Joka tapauksessa useampien puhdistustilojen käyttö parantaa puhdistuskapasiteettia.

Kuviossa 3 on esitetty keksinnön mukaisen laitteen ja menetelmän erotus-35 teho prosentteina pyörimisnopeuden funktiona. Puhdistettava aine on naf-taleeni/6-metyylinaftaleeniseos. Seos sisältää 95 % naftaleenia. Kuviosta 3 erotusteho ETl = (W, .....-W ... _ )/ W.... x 100 %, vastaavasti lähtö puhdistettu lähtö f 70376 7 erotusteho ET2 *= (W , -W . , )/W .. , , x 100 %.

epäpuhdistettu puhdistettu epapuhdistettu

Arvo W on epäpuhtauksien pitoisuus sulatteessa paino-%:ina. Kuvioissa 4 ja 5 on esitetty ajan vaikutus puhdistustulokseen naftaleeni/ -metyyli-naftaleeniseoksen erotuksessa pyörimisnopeuksilla 1/4 ja vastaavasti 1/5 5 kierrosta minuutissa. Jäähdytysnesteen slsäänmenolämpötila oli 54°C ja ulostulolämpötila 58-60°C. Sulatteen lämpötila oli 90°C. Sulatuskappa-leen pintalämpötila oli 120-130°C. Kuvioista 4 ja 5 käy ilmi, että erotus saavuttaa vakioarvonsa noin yhden tunnin pituisen ajan jälkeen.

10 Edellä on esitetty ainoastaan eräitä keksinnön edullisia suoritusmuotoja ja alan ammattimiehelle on selvää, että niihin voidaan tehdä lukuisia modifikaatioita oheisissa patenttivaatimuksissa esitetyn keksinnöllisen ajatuksen puitteissa.

Claims (13)

1. Menetelmä orgaanisten aineiden erottamiseksi tai puhdistamiseksi sulassa tilassa olevasta aineseoksesta kiteyttämällä erotettava/puhdistet-tava aine jäähdytetylle pinnalle, tunnettu siitä, että sulassa tilassa oleva aineseos johdetaan sieäänsyöttökohdassa (30) rengasmaiseen 5 tilaan (13), jota rajoittavat pyörivä sylinterimäinen vaippapinta (11), jota jäähdytetään, ja siitä välimatkan päässä oleva toinen sylinterimäinen vaippapinta (12), jolloin puhdistettava/erotettava aine kiteytetään mainitun pyörivän jäähdytetyn vaipan (11) pinnalle kerrokseksi (20), jota sulatetaan ensimmäisessä poistokohdassa (31), joka sijaitsee jäähdytetyn 10 vaippapinnan (11) pyörimissuunnassa (A) myötävirtaan sisäänsyöttökohdas- ta (30), jolloin ainakin osa sulatetusta puhdistetusta materiaalista poistetaan ja muu osa johdetaan paluuvirtauksena (B) takaisin pitkin rengasmaista tilaa (13), ja että epäpuhdasta sulaa aineseosta johdetaan pois toisessa poistokohdassa (32), joka sijaitsee jäähdytetyn vaippapinnan 15 (11) pyörimissuunnassa (A) vastavirtaan sisäänsyöttökohdasta (30).

2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että jäähdytettävää vaippapintaa (11) jäähdyttävä väliaine johdetaan sisään kohdassa, joka on lähellä puhdistetun materiaalin poistokohtaa (31) 20 ja ulos kohdasta, joka on lähellä epäpuhtaan materiaalin poistokohtaa (32).

3. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että puhdistetun materiaalin poistokohdan (31) ja epäpuhtaan mate- 25 riaalin poistokohdan (32) välille sijoitetaan erotin (17b), joka estää sulan materiaalin virtauksen mainittujen poistokohtien (31,32) välillä.

4. Jonkin patenttivaatimuksien 1-3 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että kiteyttäminen suoritetaan pyörivän sylinterimäisen vaipan 30 (11) sisäpinnalle.

5. Jonkin patenttivaatimuksien 1-3 mukainen menetelmä, tunnettu siltä, että kiteyttäminen suoritetaan pyörivän sylinterimäisen vaipan (11) ulkopinnalle. 9 70376

6. Jonkin patenttivaatimuksien 1-5 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että ainakin osa toisesta poistokohdasta (32) poistetusta epäpuhtaasta materiaalista johdetaan takaisin sisäänsyöttökohtaan (30).

7. Laite aineiden erottamiseksi ja puhdistamiseksi, jossa laitteessa ki teyttäminen tapahtuu erotettavien aineiden sulassa tilassa olevasta seoksesta jäähdytetylle pinnalle, tunnettu siitä, että laitteeseen (10) kuuluu ensimmäinen pyörivä sylinterimäinen vaippapinta (11), joka on jäähdytettävissä, välimatkan päässä ensimmäisestä vaippapinnasta oleva 10 toinen sylinterimäinen vaippapinta (12), rengasmainen tila (13) mainitun ensimmäisen pyörivän vaippapinnan (11) ja mainitun toisen sylinterimäisen vaippapinnan (12) välissä, elimet (21,22) puhdistetun aineen poistamiseksi mainitun pyörivän jäähdytetyn vaipan (11) pinnalta uudelleensulatta-malla kohdassa (31), joka sijaitsee mainitun pyörivän jäähdytetyn vai-15 pan (11) pyörimissuunnassa (A) myötävirtaan kohdasta (30), johon käsiteltävää sulaa aineseosta tuodaan, elimet (24,25) epäpuhtaan aineseoksen poistamiseksi mainitusta rengasmaisesta tilasta (13) kohdassa (32), joka on mainitun jäähdytetyn vaippapinnan (11) pyörimissuunnassa (A) vastavirtaan kohdasta (30), johon käsiteltävää aineseosta tuodaan, elimet (18,19) 20 käsiteltävän aineseoksen johtamiseksi sulassa tilassa mainittuun rengasmaiseen tilaan (13), elimet (15,16) mainitun pyörivän vaippapinnan (11) jäähdyttämiseksi sekä elimet (23) puhtaan aineseoksen sulattamiseksi lähellä puhtaan aineen poistokohtaa (31).

8. Patenttivaatimuksen 7 mukainen laite, tunnettu siitä, että mainittu jäähdytetty sylinterimäinen vaippapinta (11) on sovitettu pyörimään pystysuoran pyörimisakselin (29) ympäri.

9. Patenttivaatimuksen 7 tai 8 mukainen laite, tunnettu siltä, 30 että mainittu ensimmäinen pyörivä sylinterivaippa (11) ja mainittu toinen sylinterimäinen vaippa (12) sijaitsevat keskeisesti tai epäkeskeises-ti toisiinsa nähden.

10. Jonkin patenttivaatimuksien 7-9 mukainen laite, tunnettu 35 siitä, että mainitun ensimmäisen pyörivän vaippapinnan (11) kummallakin puolella on välimatkan päässä sijaitseva toinen sylinterimäinen vaippa-pinta (111), jolloin muodostuu kaksi rengasmaista tilaa (13,113), joissa ίο 7 0 37 6 kummassakin on elimet puhdistetun aineen poistamiseksi, epäpuhtaan aineen poistamiseksi ja puhdistettavan alneseoksen sisäänjohtamiseksi sulassa tilassa.

11. Patenttivaatimuksen 10 mukainen laite, tunnettu siitä, että sisäkkäisiä vaippapintoja (111) on kaksi tai useampia.

12. Jonkin patenttivaatimuksien 7-11 mukainen laite, tunnettu siitä, että mainittu rengasmainen tila (13;113) on varustettu väliseinille) lä (17b; 117b), jotka jakavat rengasmaisen tilan useampaan erilliseen tilaan, joista kukin on varustettu elimillä (21,22;121,vast. 24,25;124) puhdistettujen ja epäpuhtaiden aineiden poistamiseksi ja elimillä (18,19; 118) puhdistettavien aineiden sisäänjohtamiseksi.

13. Jonkin patenttivaatimuksien 7-12 mukainen laite, tunnettu siitä, että laitteeseen (10) kuuluu paluulinja (28,128) osan epäpuhtaasta tuotteesta johtamiseksi toisesta poistokohdasta (32) sisäänsyöttölin-jaan (18;128). il 7037 6