[go: up one dir, main page]

DES0036673MA - - Google Patents

Info

Publication number
DES0036673MA
DES0036673MA DES0036673MA DE S0036673M A DES0036673M A DE S0036673MA DE S0036673M A DES0036673M A DE S0036673MA
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
zones
zone
semiconductor arrangement
electrode
arrangement according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
Other languages
English (en)

Links

Description

BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
Tag der Anmeldung: 9. Dezember 1953 Bekanntgemacht am 12. Juli 1956
DEUTSCHES PATENTAMT
Es ist bekannt, Transistoranordnungen mit einem sogenannten Hook z<u versehen, dadurch, daß ein zusätzlicher p-n-Übergang dicht hinter bzw. vor einen an sich vorhandenen p-n-Übergang geschaltet wird. Es entsteht auf diese Weise eine n-p-n-p-Anordriling, wobei die beiden inneren Zörie'n' kleiner als die DifEusionslängen sind. Bei dieser Anordnung sind beispielsweise an die η-Zone eine Emitterelektrode, an die äußere p-Zone eine Kollektorelektrode und an die mittlere p-Zone eine Basiselektrode gelegt, so daß die innere η-Zone frei von Elektroden bleibt und ein Raumladungsgebiet erzeugt. Diese Zone wird als Hook bezeichnet. Derartige Anordnungen sind beispielsweise auch als Phototransistoren benutzt worden. Hierbei wird ein zusatzliebes Potentialgefälle für die unter Einwirkung des Lichtes hervorgebrachten Ladungsträger bewirkt und dadurch die Empfindlichkeit der Photozelle verstärkt. Der Phototransistor ist daher insgesamt' eine p-n-p- bzw. n-p-n-Anordnung, da die dritte Elektrode hier durch den Lichtstrahl ersetzt ist.
Das Herstellen einfacher p-n- bzw. n-p-Übergänge ist bei der heute entwickelten Technik verhältnismäßig einfach. Insbesondere können solche Übergänge beim Kristallziehverfahren aus der Schmelze hergestellt werden, indem die Schmelze während des Ziehverfahrens durch Zusatz eines Ak-
fm 549/401
S 36673 VIII c 121 g
zeptors oder Donators umdotiert wird. Das Herstellen mehrerer derartiger aufeinanderfolgender p-n-Schichten ist jedoch verhältnismäßig schwierig, und die Schwierigkeit nimmt mit jeder zusätzlichen Übergangsschicht zu, weil jede neue Schicht entgegengesetzten Leitungstypus innerhalb des Kristalls eine neue Umdotierung der Schmelze notwendig macht und dadurch die Gesamtzahl von Donatoren und. Akzeptoren in dem weiterhin ankristallisierenden Rest des Kristalls stark erhöht wird.
Es ist nun bereits bekanntgeworden, einen Transistor mit Hookwirkung dadurch herzustellen, daß zunächst ein Halbleiterkörper mit drei Zonen unterschiedliehen Leitungstypus hergestellt wird, insbesondere einer η-leitenden, p-leitenden und eigenleitenden Zone, von denen die η-leitende Zone als Basis und die eigenleitende Zone als Kollektor benutzt wird. Der Emitteranschluß wird anschließend durch einen Spitzkontakt hergestellt, welcher auf der Basiszone dicht neben dem Übergang zur mittleren p-leitenden Zone angeordnet wird. Die mittlere p-leitende Zone ohne Elektrodenanschluß erzeugt dann die Hookwirkung. Diese Anordnung hat jedoch den Nachteil eines unsymmetrischen Aufbaus.
Die Erfindung bezieht sich auf eine Halbleiteranordnung, vorzugsweise Transistor, mit zwei oder mehr Übergängen zwischen Zonen von unterschiedlichem Leitungstypus und zusätzlichem Hook. Erfindungsgemä'ß wird der Nachteil der bekannten Halbleiteranordnungen dadurch vermieden, daß mindestens zwei solchen Übergängen je eine Spitzelektrode, vorzugsweise Emitter- oder Kollektorelektrode symmetrisch zueinander zugeordnet ist, so daß sich zwischen, beiden Spitzen mindestens eine schmale Leitungszone mit mindestens zwei Übergängen befindet. Durch diese Maßnahme erhält man einen symmetrisch aufgebauten Hooktransistor, welcher in beiden Richtungen betrieben werden kann.
Es sind zwar auch Spitzentransistoren bekannt, bei welchen zwischen den beiden Spitzen eine Leitungszone mit zwei Übergangszonen zwischen Zonen unterschiedlichen Leitungstypus angeordnet ist. Diese bekannte Transistoranordnung weist jedoch eine über sämtliche Zonen verschiedenen Leitungstypus sich erstreckende gemeinsame Basiselektrode auf, wodurch die gemäß der Erfindung erstrebte Hookwirkung nicht zustande kommen kann.
Der Transistor nach der Erfindung eignet sich
besonders für Verstärkerzwecke, da die Stromverstärkung bei einer derartigen Anordnung erheblich größer ist als bei den bisher benutzten Transistoren.'
In der Zeichnung ist eine Ausführungsform der Einrichtung nach der Erfindung beispielsweise dargestellt.
Die Figur zeigt eine symmetrische Transistoranordnung, welche aus zwei η-leitenden Zonen η ■ und n' sowie einer dazwischenliegenden schmalen p-leitenden Zone besteht. Die η-leitende Zone wird als Basis B und diejenige, n', wird als Kollektor C benutzt. Erfindungsgemäß sind zwei als Spitzkontakte ausgebildete Emitterelektroden E1 und E2 auf den beiden Zonen w und n' dicht neben den Übergangen zur mittleren p-Zone angeordnet. Die mittlere Zone p ruft die gewünschte Hookwirkung hervor.
In entsprechender Weise lassen sich gegebenenfalls derartige Hooks auch bei Spitzentransistoren durch zusätzliche Anordnungen geeigneter auf der Oberfläche orientierter Steuerspitzenelektroden erzeugen. Gegebenenfalls können auch eine, oder mehrere Zonen Intrinsicbereiche sein.

Claims (4)

75 Patentansprüche:
1. Halbleiteranordnung, vorzugsweise Transistor, mit zwei oder mehr Übergängen zwischen Zonen von unterschiedlichem Leitungstypus und zusätzlichem Hook, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens zwei solchen Übergängen je eine Spitzenelektrode, vorzugsweise Emitter- oder Kollektorelektrode, symmetrisch zueinander zugeordnet ist, so daß sich zwischen beiden Spitzen mindestens eine schmale Leitungszone mit mindestens zwei Übergängen befindet.
2. Halbleiteranordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zwei bzw. je zwei zueinander gegensinnige und gegebenenfalls symmetrische Hooks vorhanden sind.
3. Halbleiteranordnung nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß eine oder mehrere Zonen Intrinsicbereiche sind.
4. Halbleiteranordnung nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daJß mindestens an eine der Leitfähigkeitszonen eine Basiselektrode gelegt ist.
In Betracht gezogene Druckschriften:
USA.-Patentschriften Nr. 2623105, 2623103; deutsche Auslegeschrift M 15913 VIIIc/2ig
(Patent 910 193). . '
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
© 60S 549/401 7. 56

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE112010005546T5 (de) Halbleitervorrichtung
DE2354489A1 (de) Schottky-sperrschichtdioden
DE3881264T2 (de) Gate-steuerbare bilaterale Halbleiterschaltungsanordnung.
DE102019219688A1 (de) Halbleitervorrichtung und Verfahren zum Herstellen derselben
DE2205262A1 (de) Integrierte Kippschaltung
DE1259469B (de) Verfahren zur Herstellung von inversionsschichtfreien Halbleiteruebergaengen
DE2754412A1 (de) Leistungstransistor und verfahren zu dessen herstellung
DE1955272A1 (de) Spannungsregler und Verfahren der Spannungsregelung
DES0036673MA (de)
DE956434C (de) Halbleiteranordnung mit zwei oder mehr UEbergaengen zwischen Zonen von unterschiedlichem Leitungstypus und zusaetzlichem Hook
DE2513893C2 (de) Transistorverstärker
EP0008043B1 (de) Integrierter bipolarer Halbleiterschaltkreis
DE1591091A1 (de) Regelbare Halbleiterrauschquelle
DE1229653B (de) Vorrichtung zur Steuerung von sehr schnellen Ablenkungen des Kathodenstrahles einer Elektronenstrahlroehre
DE2531164A1 (de) Transistorvorrichtung
DE1210490B (de) Steuerbares Halbleiterbauelement mit einer pnpn- oder npnp-Zonenfolge und Verfahren zum Herstellen
DE2026376A1 (de) Schaltung mit Halbleiter-Bauelement
DE2756535A1 (de) Vorrichtung zur kopplung in der i hoch 2 l-technik betriebener transistoren mit einem auf hoeheren ruhestrom eingestellten transistor
DE2001584C3 (de) Sperrschicht-Feldeffekttransistor
DE1764829B1 (de) Planartransistor mit einem scheibenfoermigen halbleiter koerper
DE1817497C3 (de) Verfahren zum Einstellen des Stromverstärkungsfaktors einer oder mehrerer lateraler Transistorzonenfolgen eines vertikalen Planartransistors oder eines Planarthyristors mit mindestens zwei Emitterzonen
DE2210386A1 (de) Thyristor
DE3885257T2 (de) Verfahren, um die Kollektorfläche eines lateralen PNP Transistors differentiel zu vergrössern während des elektrischen Tests einer integrierten Schaltung auf einem Wafer.
DE1207010B (de) Flaechentransistor mit einem Halbleiterkoerper mit vier Zonen abwechselnd entgegengesetzten Leitungstyps, Verfahren zum Herstellen und Schaltung solcher Flaechentransistoren
DE69633004T2 (de) Vertikaler Leistungsbipolartransistor mit integriertem Fühlwiderstand