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DE69809358T2 - Verfahren zum Schreiben von Bragg-Reflexionsgittern in Lichtwellenleitern - Google Patents

Verfahren zum Schreiben von Bragg-Reflexionsgittern in Lichtwellenleitern

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DE69809358T2
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Description

    Hintergrund der Erfindung
  • Diese Erfindung bezieht sich auf das Schreiben von Bragg-Reflexionsgittern in Lichtwellenleitern durch Ausnutzung des photorefraktiven Effektes in Materialien, wie z. B. in mit Germanium dotiertem Silizium. Ein frühes Verfahren zum Schreiben derartiger Gitter ist in dem US-Patent 4 474 427 beschrieben, wobei dieses Verfahren das Lenken von intensivem Ultraviolett-Licht in ein Ende eines Längenabschnittes eines Lichtwellenleiters beinhaltet, der einen Reflektor am entfernten Ende aufweist, so daß eine Stehwelle in dem Wellenleiter ausgebildet wird. Nachfolgend wurde ein laterales Verfahren zum Schreiben eines derartigen Gitters in dem US-Patent 4 725 110 offenbart, bei dem ein Strahlteiler verwendet wird, um einen Strahl von ultraviolettem Licht in zwei Strahlen aufzuteilen, die in zwei Spiegeln reflektiert werden, um ein Interferenzstreifenmuster in dem Wellenleiter zu bilden. Dieses Schreibverfahren ist in manchen Fällen als das holografische Verfahren bekannt. Ein weiteres alternatives Verfahren, das manchmal als das Gitterverfahren bekannt ist, beinhaltet die Schafffung eines äquivalenten Streifenmusters nahe hinter einem Beugungsgitter, das mit senkrecht auftreffendem Ultraviolett-Licht bestrahlt wird, wobei dieses Verfahren beispielsweise in dem US-Patent 5 351 321 beschrieben ist. Typischerweise wird ein Phasengitter für diesen Zweck verwendet, und die Tiefe der Gitterelemente wird für eine Unterdrückung der Beugung nullter Ordnung gewählt. Der Wellenleiter befindet sich nahe hinter dem Beugungsgitter, weil dies die Stelle ist, an der das erforderliche Streifenmuster, das durch eine Interferenz zwischen den Ordnungen +1 und -1 der Beugung erzeugt wird, am wenigsten durch Leistung gestört wird, die in Moden höherer Ordnung gebeugt wird.
  • Eine Ausnahme zu dieser Anordnung des Beugungsgitters und des Wellenleiters in enger Nähe zueinander ist in der Veröffentlichung von J. R. Armitage mit dem Titel "Fibre Bragg Reflectors written at 262 nm Using a Frequency Quadrupled Diode- Pumped Nd³&spplus;: YLF Laser", Electronic Letters, 24. Juni 1993, Band 29, Nr. 13, Seiten 1181-3 beschrieben. In diesem Fall werden die Ordnungen +1 und -1 der Beugung so angeordnet, daß sie auf einen Quarzglas-Block auftreffen. Nach der Reflexion in den Seitenwänden dieses Blockes treten die beiden Strahlen an dem entfernten Ende des Blockes aus und bilden ein Interferenzstreifenmuster im Kern eines Lichtleitfaser-Wellenleiters, der sich hinter dem Block befindet. Ein Vorteil dieser größeren Trennung zwischen dem Beugungsgitter und dem Wellenleiter besteht darin, daß eine Strahlsperre nullter Ordnung auf dem Quarzglas-Block angeordnet werden kann, um zu verhindern, daß irgendwelches Licht nullter Ordnung das Streifenmuster erreicht, das durch die Interferenz zwischen den Beugungsordnungen +1 und -1 erzeugt wird und damit die Sichtbarkeit dieses Streifenmusters verringert.
  • Zusammenfassung der Erfindung
  • Die vorliegende Erfindung betrifft die Schaffung eines Verfahrens zum Schreiben eines Bragg-Reflexionsgitters in einem Lichtwellenleiter unter Verwendung eines Beugungsgitters, das an einem ausreichenden Abstand von dem Wellenleiter angeordnet ist, um es sehr einfach zu ermöglichen, eine Apertur bildende Einrichtungen einzufügen, um die Beleuchtung des Wellenleiters zu kontrollieren, so daß ein eine hohe Sichtbarkeit aufweisendes Streifenmuster geschaffen wird, wobei gleichzeitig getrennte Abschnitte des Beugungsgitters für die Erzeugung dieses Streifenmusters verwendet werden können.
  • Insbesondere im Fall des Schreibens von langen Bragg-Reflexionsgittern hat die Verwendung von zwei getrennten Zonen der Beleuchtung des Beugungsgitters den Vorteil, daß die nachteiligen Wirkungen im optischen Betriebsverhalten des resultierenden Bragg-Reflexionsgitters verringert werden, die durch das Vorhandensein von zufälligen Stichfehlern in dem Beugungsgitter hervorgerufen werden, das zum Schreiben dieses Bragg-Reflexionsgitters verwendet wird.
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zum Schreiben eines Bragg- Gitters in einen lichtempfindlichen Lichtwellenleiter durch Bestrahlen des Wellenleiters (12) mit einem Interferenzstreifenmuster geschaffen, das durch das Hindurchlaufen elektromagnetischer Strahlung durch ein Beugungsgitter (11) erzeugt wird, das so ausgerichtet ist, daß sich Beugungselemente des Beugungsgitters unter einem Winkel zur Wellenleiter-Achse erstrecken, dadurch gekennzeichnet, daß ein Lichtstrahl (10) in zwei räumlich getrennte Komponenten (10' und 10") aufgeteilt wird, die so angeordnet sind, daß sie auf das Beugungsgitter in zwei räumlich getrennten Zonen auftreffen, wobei das Streifenmuster durch eine Interferenz zwischen einer Beugungsordnung (10'c) eines der beiden Komponenten und eine Beugungsordnung (10"a) der anderen Komponente erzeugt wird.
  • Weitere Vorteile und Merkmale der Erfindung sind ohne weiteres aus der folgenden Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen, den Zeichnungen und den Ansprüchen zu entnehmen.
  • Kurze Beschreibung der Zeichnungen
  • Fig. 1 ist eine schematische Darstellung einer Vorrichtung, die bei einem bekannten Verfahren zum Schreiben eines Bragg-Reflexionsgitters verwendet wird.
  • Fig. 2 ist eine schematische Darstellung einer Vorrichtung, die bei einem Verfahren zum Schreiben eines Bragg-Reflexionsgitters verwendet wird und die vorliegende Erfindung in einer bevorzugten Form verwirklicht, und
  • Fig. 3 ist eine schematische Darstellung einer alternativen Form einer Vorrichtung, die bei einem Verfahren zum Schreiben eines Bragg-Reflexionsgitters verwendet wird, das die vorliegende Erfindung in einer bevorzugten Ausführungsform verwirklicht.
  • Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen
  • Bevor mit der speziellen Beschreibung bevorzugter Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung weitergegangen wird, wird weiter auf das bekannte Schreibverfahren Bezug genommen, das eine enge Nähe zwischen einem Beugungsgitter und dem Wellenleiter beinhaltet, in den das Bragg-Reflexionsgitter eingeschrieben werden soll. Diese Beschreibung bezieht sich auf Fig. 1 und betrifft die Erläuterung, wie diese Konfiguration zur Beeinträchtigung des Kontrastverhältnisses in dem Streifenmuster im Vergleich mit dem führt, das unter Verwendung der vorliegenden Erfindung erreichbar ist.
  • Gemäß Fig. 1 trifft ein Strahl von intensivem ultravioletten Licht 10 senkrecht auf ein Beugungsgitter 11 auf, das typischerweise ein Phasengitter ist, dessen Tiefe so gewählt ist, daß die Beugung nullter Ordnung von senkrecht auftreffendem Licht unterdrückt wird. Nahe hinter dem Phasengitter befindet sich ein Lichtleitfaser- Wellenleiter 12, dessen Achse sich quer zur Richtung der Erstreckung der Gitterelemente des Gitters 11 erstreckt. Der Wellenleiter 12 ist typischerweise mit einem Kunststoff-Schutzüberzug 12a versehen, von dem ein Teil entfernt ist, um die rohe Faser 12 in dem Bereich freizulegen, in dem das Bragg-Reflexionsgitter geschrieben werden solL Am Mittelpunkt der Lichtleitfaser befindet sich ihr optischer Kern 12b, dessen Oberfläche die Wellenleiter-Grenzfläche der Lichtleitfaser bildet. Typischerweise wird das Licht des Strahls 10 auf diesem Kern mit Hilfe einer Zylinderlinse 13 konzentriert. Wenn das Licht auf das Beugungsgitter auftrifft, wird es in eine Anzahl von Strahlen mit einer unterschiedlichen Beugungsordnung aufgeteilt. In Fig. 1 sind nur drei dieser Strahlen gezeigt, nämlich der Strahl 10a mit der Beugungsordnung -1, der Beugungsstrahl 10b nullter Ordnung und der Beugungstrahl 10c +1-ter Ordnung. Innerhalb des dreieckigen Bereiches, der durch die rechte Kante des Beugungsstrahls +1-ter Ordnung, der linken Kante des Beugungsstrahls -1-ter Ordnung und das Beugungsgitter selbst begrenzt ist, ergibt sich eine vollständige Überlappung des Lichtes dieser beiden Beugungsordnungen, was hierdurch die Möglichkeit eines maximalen Streifenkonstrastes entstehen läßt. Dies wird jedoch durch irgendwelches Licht verwässert, das sich in der nullten Ordnung ausbreitet (das streifenfrei ist), wenn derartiges Licht nullter Ordnung nicht vollständig durch die Wahl eines geeigneten Profils der Gitterelemente des Gitters 11 unterdrückt wurde. Zusätzlich gibt es Bereiche des Lichtleitfaser-Kerns 12 unmittelbar links und unmittelbar rechts von dem dreieckförmigen Bereich der vollständigen Überlappung, an denen der Kern Licht von einer der ersten Beugungsordnungen ausgesetzt ist, nicht jedoch dem der anderen. In dem Ausmaß, daß diese Bereiche des Lichtes frei von dem erforderlichen Streifenmuster sind, erzeugen sie unerwünschte Sockel in den Brechungsindex-Änderungen, die in dem Kern durch den photorefraktiven Effekt der Beaufschlagung mit dem Ultraviolett-Licht hervorgerufen werden.
  • Es wird nunmehr auf das Schreiben eines Bragg-Reflexionsgitters in dem Kern eines Lichtleitfaser-Wellenleiters unter Verwendung der Vorrichtung nach Fig. 2 verwiesen, die die vorliegende Erfindung in einer bevorzugten Ausführungsform verwirklicht. Das Licht des Strahls 10 wird in zwei eine im wesentlichen gleiche Amplitude aufweisende Komponenten 10' und 10" mit Hilfe eines Strahlteilers 20 unterteilt, wobei diese zwei Komponenten nach der Reflexion in Spiegeln 21 und 22 und wahlweise nach Durchlaufen einer Zylinderlinse 23 senkrecht auf das Beugungsgitter 11 in zwei mit Abstand voneinander angeordneten Bereichen auftreffen. Dieses Gitter kann ein Gitter mit gleichförmiger Teilung oder ein gechirptes Gitter sein. Zum Schreiben eines eine gleichförmige Teilung aufweisenden Bragg-Reflexionsgitters wird es ein Gitter mit gleichförmiger Teilung sein. In der gleichen Weise, wie der Strahl 10 nach Fig. 1 in eine Anzahl von Strahlen mit unterschiedlicher Beugungsordnung als Ergebnis davon aufgeteilt wird, daß er senkrecht auf das Beugungsgitter 11 auftrifft, wird das senkrecht auftreffende Licht der Teilstrahlen 10" und 10" in ähnlicher Weise geteilt. Auch in Fig. 2 sind nur drei dieser Strahlen für jeden Teilstrahl 10' und 10" gezeigt, nämlich die Strahlen -1-ter Ordnung 10'a und 10", die Strahlen der Beugung nullter Ordnung 10'b und 10"b und die Strahlen +1-ter Ordnung 10'c und 10"c. Eine Feldbegrenzung 24 ist so angeordnet, daß sie alle gebeugten Ordnungen mit Ausnahme der gebeugten Strahlen 10'c und 10" a abfängt, die durch diese Feldbegrenzung hindurchlaufen. Die Lichtleitfaser 12 ist hinter der Feldbegrenzung an der Position angeordnet, an der ihr Kern 12b derart liegt, daß sich eine vollständige Überlappung der gebeugten Strahlen 10'c und 10"a ergibt. Die Zylinderlinse 23 wird bei ihrer Verwendung dazu eingesetzt, das Licht auf den Kern 12b der Faser 12 zu fokussieren, und sie erfüllt somit eine äquivalente Funktion zu der, die von der entsprechenden Linse 13 nach Fig. 1 erfüllt wird.
  • Im Laufe der Zeit neigt die profilierte Oberfläche des Phasengitters 1 zu einer Verunreinigung, was zu einer Beeinträchtigung der Betriebsleistung des Gitters führt. Es ist möglich, diese Verunreinigung durch einen speziellen Reingigungsprozeß zu beseitigen, doch ist dies ziemlich zeitraubend. Weil die Faser 12 sich in einer gewissen Entfernung von diesem Gitter befindet, kann es daher bevorzugtsein, das Gitter mit einem Silika-Abdeckstreifen 25 zu versehen, um dessen profilierte Oberfläche gegen eine Verunreinigung zu schützen, wobei die freiliegende Oberfläche des Deckstreifens wesentlich einfacher und schneller gereinigt werden kann.
  • Die Vorrichtung nach Fig. 2 kann zum Schreiben von Bragg-Reflexionsgittern auf einer statischen Basis verwendet werden, wobei in diesem Fall eine weitere (nicht gezeigte) Maskierung oder Abdeckung zur Apodisierung der Enden des geschriebenen Gitters verwendet werden kann. Alternativ kann, insbesondere zum Schreiben von längeren Bragg-Reflexionsgittern, die Vorrichtung zum Schreiben in einer Ablenkbetriebsart verwendet werden, wobei in diesem Fall eine miteinander gekoppelte Bewegung des Spiegels 22 und der Feldbegrenzung 24 in der Richtung der axialen Erstreckung der Lichtleitfaser 12 vorgesehen ist, wobei diese gekoppelte Bewegung durch Pfeile 26 angedeutet ist.
  • Eines der Probleme, das wahrscheinlich beim Schreiben langer Bragg- Reflexionsgitter auftritt, ist die Beeinträchtigung des spektralen Betriebsverhaltens, das durch das Vorhandensein von Stichfehlern in dem Abstand der Beugungselemente des Beugungsgitters eingeführt wird, das zum Schreiben dieses Bragg-Gitters verwendet wird. Diese Stichfehler neigen besonders zu einem Auftreten, wenn die Beugungselemente des Beugungsgitters als solche in Gruppen auf einer Schritt-und-Wiederholungsbasis, beispielsweise unter Verwendung von E- Strahl-Lithographietechniken geschrieben werden. Eine mangelhafte Perfektion bei dem Schrittbewegungsprozeß neigt zur Erzeugung von "Phasenfehlern" mit zufälliger Größe zwischen den nächst benachbarten Beugungselementen benachbarter Gruppen von Elementen. Bei der Anordnung mit enger Nähe des Beugungsgitters und des Lichtwellenleiters nach Fig. 1 werden derartige Phasenfehler mit einer geringen Modifikation von dem Beugungsgitter auf das Bragg-Reflexionsgitter umgesetzt, weil relativ wenige Beugungselemente des Beugungsgitters wesentlich zum Schreiben irgendeines einzelnen Elementes des Bragg-Reflexionsgitters beitragen. Dies steht im Gegensatz zu der Situation, die im Fall der einen Abstand aufweisenden Anordnung nach Fig. 2 vorherrscht. Es ist insbesondere zu erkennen, daß, weil die Amplituden der einzelnen Phasenfehler zufällig sind, sich wahrscheinlich keine Korrelation zwischen einem Phasenfehler in dem Teil des Beugungsgitters, der durch den Strahl 10' beleuchtet wird, und demjenigen ergibt, der in dem durch den Strahl 10" beleuchteten Teil vorhanden ist. Dies bedeutet, daß in dem Beugungsgitter 11 vorhandene Stichfehler eine weniger nachteilige Wirkung auf das spektrale Betriebsverhalten von Bragg-Reflektoren haben, die unter Verwendung der Vorrichtung nach Fig. 2 geschrieben wurden, als auf diejenigen, die unter Verwendung der Vorrichtung nach Fig. 1 geschrieben wurden.
  • Es ist festzustellen, daß die spezielle Anordnung des Strahlteilers 20 und der Spiegel 21 und 22 nach Fig. 2 eine merkliche ungleiche optische Pfaddifferenz bezüglich der beiden Pfade von dem Strahlteiler zu dem Lichtleitfaser-Kern 12d ergibt. Dies kann ein Problem sein, wenn die Quelle des ultravioletten Lichtes, die den Strahl 10 liefert, eine kurze optische Kohärenzlänge hat. Fig. 3 zeigt eine modifizierte Anordnung, bei der zum Ausgleich der optischen Pfadlänge der einzelne Spiegel 22 durch zwei Spiegel 32a und 32b ersetzt wurde und der Strahlteiler 20 und der Spiegel 21 neu ausgerichtet wurden. In jeder anderen Hinsicht sind die Bauteile der Vorrichtung nach Fig. 3 im wesentlichen identisch zu ihren Gegenstücken in der Vorrichtung nach Fig. 2.

Claims (3)

1. Verfahren zum Schreiben eines Bragg-Gitters in einen lichtempfindlichen Lichtwellenleiter durch Bestrahlen des Wellenleiters (12) mit einem Interferenzstreifenmuster, das durch das Hindurchlaufen von elektromagnetischer Strahlung durch ein Beugungsgitter (11) erzeugt wird, das so ausgerichtet ist, daß die Beugungselemente des Beugungsgitters sich unter einem Winkel zu der Wellenleiterachse erstrecken, dadurch gekennzeichnet, daß ein Strahl (10) aus Licht in zwei räumlich getrennte Komponenten (10' und 10") unterteilt wird, die so angeordnet sind, daß sie auf das Beugungsgitter in zwei räumlich getrennten Zonen auftreffen, und daß das Streifenmuster durch eine Interferenz zwischen einer Beugungsordnung (10'c) einer der beiden Komponenten und einer Beugungsordnung (10"a) der anderen Komponente erzeugt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem ein Phasengitter als das Beugungsgitter verwendet wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem ein gechirptes Beugungsgitter zum Schreiben des Bragg-Reflexionsgitters verwendet wird, wobei das Bragg- Reflexionsgitter ein gechirptes Gitter ist.
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Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6694075B1 (en) * 1998-07-01 2004-02-17 Corning Incorporated Apodization of optical filters with multiple exposures of photosensitive media
CA2272008A1 (en) * 1999-05-11 2000-11-11 Francois Trepanier Device and method for recording an interference pattern in a photosensitive medium
US7246244B2 (en) * 1999-05-14 2007-07-17 Fusionarc, Inc. A Delaware Corporation Identity verification method using a central biometric authority
CN1402896A (zh) * 1999-09-29 2003-03-12 康宁O.T.I股份公司 制造光纤激光器的方法
JP2001154040A (ja) * 1999-11-25 2001-06-08 Sumitomo Electric Ind Ltd 光導波路型回折格子製造方法および装置
US6842568B2 (en) 1999-11-25 2005-01-11 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Method of making diffraction grating device, diffraction grating device, and apparatus for making diffraction grating device
US20030068128A1 (en) * 1999-12-15 2003-04-10 Durkin Michael Kevan Interferometer apparatus and method
US6553163B2 (en) * 2000-03-30 2003-04-22 Corning, Incorporated Method and apparatus for writing a Bragg grating in a waveguide
EP1269225B1 (de) * 2000-04-03 2006-08-23 3M Innovative Properties Company Selektive abscheidung eines materials auf ein substrat gemaess eines interferenzmusters
US6391528B1 (en) 2000-04-03 2002-05-21 3M Innovative Properties Company Methods of making wire grid optical elements by preferential deposition of material on a substrate
US6614959B1 (en) * 2000-07-27 2003-09-02 Ciena Corporation Methods of writing apodized fiber gratings and associated apparatuses
US6836592B2 (en) * 2000-11-20 2004-12-28 Aculight Corporation Method and apparatus for fiber Bragg grating production
US7184616B2 (en) * 2000-11-20 2007-02-27 Aculight Corporation Method and apparatus for fiber Bragg grating production
DE10059268C1 (de) * 2000-11-29 2002-08-22 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Koppelgitters für einen Wellenleiter
US6898350B2 (en) * 2001-01-18 2005-05-24 General Dynamics Advanced Information Systems, Inc. Interferometric focusing technique for forming taps in fibers
US6904201B1 (en) * 2001-05-09 2005-06-07 Intel Corporation Phase-controlled fiber Bragg gratings and manufacturing methods
CA2354321A1 (en) 2001-07-26 2003-01-26 Viamode Photonics Inc. Apparatus for writing features in or on photosensitive medium
US6753118B2 (en) * 2002-03-27 2004-06-22 Fitel Usa Corp. Optical grating fabrication process
US6801689B1 (en) * 2002-04-30 2004-10-05 Intel Corporation Correcting the phase of waveguide bragg gratings
AUPS253202A0 (en) * 2002-05-23 2002-06-13 University Of Sydney, The Interferometric grating writing methods and apparatus
US6847762B2 (en) * 2002-07-02 2005-01-25 Intel Corporation Monitoring and correcting bragg gratings during their fabrication
US6904202B1 (en) * 2002-07-31 2005-06-07 Intel Corporation Writing waveguides with an arbitrary Bragg wavelength
US7228034B2 (en) 2003-11-03 2007-06-05 Intel Corporation Interference patterning
US7137299B2 (en) * 2005-04-21 2006-11-21 Northrop Grumman Corporation Fiber optic accelerometer
KR100639038B1 (ko) * 2005-05-18 2006-10-30 전남대학교산학협력단 브래그 격자 형성 장치 및 이에 이용되는 반사 유닛
JP2009253209A (ja) * 2008-04-10 2009-10-29 Canon Inc 露光装置及びデバイス製造方法
NL2003950C2 (nl) * 2009-12-11 2011-06-15 Panalytical Bv Werkwijze voor het vervaardigen van een meerlagenstructuur met een lateraal patroon voor toepassing in het xuv-golflengtegebied en volgens deze werkwijze vervaardigde bt- en lmag-structuren.
CN102436026A (zh) * 2012-01-11 2012-05-02 西安盛佳光电有限公司 一次同时制作多根光纤光栅的方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4474427A (en) 1979-05-07 1984-10-02 Canadian Patents & Development Limited Optical fiber reflective filter
DE191063T1 (de) 1984-08-13 1987-01-15 United Technologies Corp., Hartford, Conn. Verfahren zum einlagern optischer gitter in faseroptik.
US5351321A (en) 1992-10-20 1994-09-27 Elias Snitzer Bragg grating made in optical waveguide
US5363239A (en) * 1992-12-23 1994-11-08 At&T Bell Laboratories Method for forming spatially-varying distributed Bragg reflectors in optical media
GB9509874D0 (en) * 1995-05-16 1995-07-12 Univ Southampton Optical waveguide grating
CA2163061C (en) * 1995-11-16 2002-01-08 Yves Painchaud Method for spatially controlling the period and amplitude of bragg filters
DE19605062C1 (de) * 1996-02-12 1997-08-28 Univ Dresden Tech Verfahren zur Erzeugung eines langen Bragg-Gitters in einer optischen Monomodefaser
US5668901A (en) * 1996-02-14 1997-09-16 Corning Incorporated Low reflectivity fiber bragg grating with rectangular reflection function
CA2207226C (en) * 1996-06-10 2005-06-21 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Optical fiber grating and method of manufacturing the same
US5745615A (en) * 1996-10-11 1998-04-28 Lucent Technologies Inc. Method of making an optical fiber grating, and article made by the method
US5945261A (en) * 1996-11-19 1999-08-31 Northern Telecom Limited Creation of Bragg reflective gratings in waveguides
US5837169A (en) * 1996-11-19 1998-11-17 Northern Telecom Limited Creation of bragg reflactive gratings in waveguides
US5745617A (en) * 1996-12-30 1998-04-28 D-Star Technologies, Llc Near-ultra-violet formation of refractive-index grating using reflective phase mask

Also Published As

Publication number Publication date
EP0903597A3 (de) 2000-05-10
EP0903597A2 (de) 1999-03-24
EP0903597B1 (de) 2002-11-13
GB9720135D0 (en) 1997-11-19
US6310996B1 (en) 2001-10-30
CA2247744A1 (en) 1999-03-22
DE69809358D1 (de) 2002-12-19
GB2329484A (en) 1999-03-24

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