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DE69325640T2 - Verfahren zur Herstellung eines Bragg-Gitters in einem optischen Medium - Google Patents

Verfahren zur Herstellung eines Bragg-Gitters in einem optischen Medium

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DE69325640T2
DE69325640T2 DE69325640T DE69325640T DE69325640T2 DE 69325640 T2 DE69325640 T2 DE 69325640T2 DE 69325640 T DE69325640 T DE 69325640T DE 69325640 T DE69325640 T DE 69325640T DE 69325640 T2 DE69325640 T2 DE 69325640T2
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waveguide
grating
phase grating
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actinic radiation
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Turan Erdogan
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    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
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    • G02B6/02076—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings
    • G02B6/02123—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating
    • G02B6/02133—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating using beam interference
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Description

  • Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Herstellen optischer Medien, um in diesen Gitter auszubilden, und insbesondere auf ein Verfahren zum Bilden eines Bragg- Gitters in photempfindlichen optischen Fasern.
  • Verschiedene Verfahren des Standes der Technik zum Herstellen von Bragg-Gittern in optischen Fasern umfassen das Belichten der Faser von der Seite durch ein Paar interferierender, aktinischer Lichtstrahlen. Obwohl diese Verfahren geeignet sind, Gitter hoher Qualität herzustellen, sind diese Verfahren nachteilig, weil sie schwer in einer Produktionsumgebung implementierbar sind. Das heißt, jedes Verfahren des Standes der Technik erfordert interferometrische Systeme mit hoher mechanischer Stabilität und/oder die strenge Steuerung der räumlichen und zeitlichen Merkmale der aktinischen Strahlen.
  • Wir haben ein Verfahren zum Herstellen von Bragg-Gittern in optischen Glasfasern oder weiteren optischen Wellenleitern aus Glas entdeckt, das verhältnismäßig unempfindlich gegen Störungen der für die Herstellung verwendeten aktinischen Strahlung ist. Dieses Verfahren ist für die Massenproduktion geeignet und eignet sich gut für Produktionsumgebungen.
  • Das erfindungsgemäße Verfahren umfaßt als erstes das Bereitstellen eines optischen Phasengitters. Ein Interferenzmuster wird durch das Auftreffenlassen eines einzelnen Lichtstrahls auf das Gitter erzeugt. Der herzustellende optische Wellenleiter wird diesen Interferenzmustern ausgesetzt, dies führt zum Bilden eines Bragg-Gitters im Wellenleiter.
  • Fig. 1 stellt schematisch eine Belichtungsgeometrie zum Herstellen einer optischen Faser gemäß der Erfindung dar;
  • Fig. 2 stellt schematisch die Belichtungsgeometrie mit weiteren Details dar;
  • Fig. 3 zeigt das Übertragungsspektrum des Phasengitters bei einer Ausführungsform gemäß der Erfindung.
  • Ein optisches Phasengitter beaufschlagt den einfallenden aktinischen Strahl mit periodischer oder nahezu periodischer Phasenmodulation. Als Ergebnis kann das Auftreffen eines einzelnen Strahles auf das Gitter zur Erzeugung von zwei oder mehr Strahlen mit gebrochener Strahlung führen. Das als "Phasenmaske" bezeichnete Phasengitter kann mit jedem der zahlreichen im Stand der Technik bekannten Verfahren hergestellt werden, die sich auf Brechungsgitter und Holographien beziehen. Diese Verfahren umfassen sowohl litographische als auch holographische Techniken.
  • Die Periode der Phasenmaske wird im Wesentlichen gleich der Periode der erwünschten Bragg-Gitter in der Faser oder anderen zu verarbeitenden Wellenleitern sein. (Das zu verarbeitende optische Wellenleitermedium wird nachfolgend als optische Faser bezeichnet. Dies geschieht der Einfachheit halber, und beabsichtigt nicht, den Schutzbereich der Erfindung zu begrenzen.) Ein Bragg-Gitter einer Faser jedoch weist eine Periode auf, die ein Bruchteil der Periode der Phasenmaske ist, die durch Belichten der Faser mit Strahlung nicht benachbarter, gebrochener Ordnungen der Phasenmaske hergestellt wird. Folglich kann die Maskenperiode in der Tat die doppelte Periode des Bragg-Gittes der Faser oder einige weitere ganzzahlige Vielfache dieser Periode aufweisen. In wenigstens einigen Fällen wird die Herstellung der Phasenmaske vereinfacht, wenn die Periode der Phasenmaske größer ist als die Periode des Fasergitters.
  • Die Periode des durch das erfinderische Verfahren in der Faser (oder anderen Wellenleitern) ausgebildeten Gitters ist weitgehend unabhängig von der Wellenlänge der aktinischen Strahlung (bei einer gegebenen Phasenmaske). Als Ergebnis wird das Erfordernis zeitlicher Kohärenz der Quelle der aktinischen Strahlung im Verhältnis zu Verfahren des Standes der Technik im Wesentlichen gelockert. Darüber hinaus macht diese Unabhängigkeit es möglich, die Periode eines resultierenden Fasergitters ausschließlich durch Beschreiben der Maskenmerkmale unabhängig von der aktinischen Strahlungsquelle vollständig zu bestimmen. Dieses verringert die Anstrengungen für die spektrale Stabilität der Strahlungsquelle und erlaubt Flexibilität bei der Auswahl der Strahlungsquelle. Insbesondere kann dann eine Phasenmaske, die durch Interferenzstrahlen einer gegebenen Strahlungsquelle erzeugt wurde, zum Bearbeiten einer optischen Faser durch Belichten dieser mit Strahlung einer vollständig anderen Quelle verwendet wird.
  • In Bezug auf Fig. 1 wird die Faser 10 (die bearbeitet wird) neben der Phasenmaske 20 angeordnet. Der zu bearbeitende Abschnitt der Faser 10 wird bevorzugt in einigem Abstand von der Phasenmaske angeordnet, um das erforderliche Interferenzmuster auf der Faser herzustellen. Ein typischer Abstand zwischen der Mitte des Faserkerns und der Oberfläche der Phasenmaske beträgt 0,5 mm. (Es wird darauf hingewiesen, daß der Kern einer typischen optischen Kommunikationsfaser im Wesentlichen weit genug entfernt von der Phasenmaske angeordnet ist, auch wenn der Hüllwerkstoff die Phasenmaske berührt).
  • In der Figur wird die zur Phasenmaske senkrechte Achse als z-Achse bezeichnet, die Achse parallel zu den Gitterlinien der Phasenmaske wird als x-Achse bezeichnet und die zur x- und z-Achse senkrechte Achse wird als y-Achse bezeichnet. Der Lichtstrahl 30, der auf die Phasenmaske fällt, erzeugt einen Einfallswinkel θ zur z-Achse. Die Längsachse der Faser 10 wird mit einem Drehwinkel α relativ zur y-Achse und mit einem Tiltwinkel (90º - β) im Verhältnis zur z-Achse angeordnet. Gemäß einem derzeit bevorzugten Verfahren sind die Winkel α und β gleich Null. Wenn die Faser unter Verwendung von Licht benachbarter gebrochener Ordnungen bearbeitet wird, wird der Winkel θ im Wesentlichen nicht zu Null. Der normale Einfall (θ = 0) kann jedoch geeignet sein, wenn nicht-benachbarte Ordnungen verwendet werden.
  • Eine geeignete Phasenmaske kann beispielsweise ein Übertragungs-Oberflächengitter, ein Reflektions- Oberflächengitter oder sogar ein Volumenhologramm sein. Beispielsweise haben wir eine etwa 0,5 cm lange Übertragungs- Phasenmaske durch Versehen einer dünnen Chromschicht mit einem Muster hergestellt, die an der Oberfläche einer Hartglasplatte angeordnet ist. Die Chromschicht wurde durch Elektronenstrahllithographie mit einem Muster versehen, zum Bilden einer Amplitudenmaske mit einer Periode von 520 nm mit in etwa gleich breiten Linien und Abständen. Die Hartglasplatte ist zum reaktiven Ionenätzen durch die Amplitudenmaske vorgesehen, zum Bilden von Rillen von etwa 250 nm Tiefe, danach wird die mit Mustern versehene Chromschicht entfernt.
  • Die Rillen werden schematisch als Merkmal 40 in Fig. 2 dargestellt. Der Zweck dieser Rillen ist, die Phase einfallenden Lichtes in einer räumlichen Periode oder nahezu periodischen Weise zu ändern. Darüber hinaus hängt die Energieverteilung in den verschiedenen gebrochenen Ordnungen der Phasenmaske vom Entwurf der Rillen ab, wie im Stand der Technik der Lehre der Gitterbrechung bekannt ist.
  • Die Maske wurde mit Licht der Wellenlänge von 242 nm von einer gepulsten Laserquelle 50 belichtet. Das Licht der resultierenden Brechungsmuster wurde in einem Verhältnis von etwa 2. 1 zwischen der nullten bzw. der ersten Ordnung der gebrochenen Strahlen bereitgestellt. Ferner wurde wesentliches Licht anderer Ordnung emittiert. Die am Markt verfügbare optische Faser AT & T ACCUTETHERTM wurde parallel zur Phasenmaske und in etwa senkrecht zu den Linien der Phasenmaske ausgerichtet. Der Abstand zwischen der Faser und der Phasenmaske war in etwa 0,5 mm.
  • Der Strahl wurde durch eine zylindrische Linse 55 mit einer Brennweite von 1 m auf die Faser fokussiert. Die Linse 55 war zwischen der Quelle 50 und der Phasenmaske angeordnet. Es sei darauf hingewiesen, daß es durch Verwenden eines geeigneten Verstärkungs- oder Verringerungs- Projektionssystems 57, das zwischen der Phasenmaske 20 und der Faser 10 angeordnet ist, möglich ist, ein Fasergitter mit einer Periode auszubilden, die unterschiedlich zur Periode der Phasenmaske ist. In der Tat wird es durch Verwenden eines Zoom-Systems (das heißt eines projektiven, optischen Systems mit veränderlicher Abschwächung und/oder veränderlicher Verstärkung) möglich, die Periode der resultierenden Fasergitter kontinuierlich zu verändern. Dies ist beispielsweise vorteilhaft, wenn es einfacher ist, die Phasenmaske mit einer größeren Periode als die resultierenden Gitter herzustellen.
  • Die Faser empfing eine Energiedosis von etwa 1,7 mJ pro Impuls, bei 30 Impulsen pro Sekunde. Die gesamte Belichtungszeit war etwa 20 Minuten.
  • Das Übertragungsspektrum des resultierenden Gitters 60 wird in Fig. 3 dargestellt. Wie in der Figur ersichtlich, hat das Gitter ein Hauptreflexionsmaximum bei 1508,4 nm mit einer FWHM von 0,54 nm. Im Wesentlichen war die maximale Reflexionsfähigkeit größer als 90%. Derartig hohe Reflexionsfähigkeiten sind bei der Herstellung von Faserlasern wichtig. Zweifellos können maximale Reflexionsfähigkeiten von 40% und mehr durch diese Technik leicht erreicht werden.
  • Wir glauben, daß die erfindungsgemäße Technik nicht nur leicht auf optische Glasfasern angewendet werden kann, sondern auch auf andere Wellenleitergeometrien photoempfindlichen Glases. Diese umfassen beispielsweise ebene Wellenleiter und Kanalwellenleiter.
  • Das erfindungsgemäße Verfahren ist zum Herstellen mehrfacher Fasergitter aus einer einzigen Phasenmaske leicht anwendbar. In einer Ausführungsform wird dies durch aufeinanderfolgendes Verarbeiten einer Gruppe optischer Fasern erreicht. In einer zweiten Ausführungsform wird dies durch gleichzeitiges Verarbeiten einer Gruppe optischer Fasern erreicht, durch Aussetzen dieser gegen die Interferenzmuster, die von einer einzigen Phasenmaske erzeugt wurden.
  • In einer dritten Ausführungsform werden die mehrfachen Gitter in räumlich getrennten Bereichen einer einzigen optischen Faser hergestellt. Ein Weg, dies zu erreichen, ist das Bereitstellen einer einzigen Phasenmaske, die zwei oder mehr getrennte Phasengitter umfaßt, wobei jede zu einem der jeweiligen Faserbereiche korrespondiert. Diese Phasengitter können entweder gleichzeitig oder nacheinander belichtet werden. Aufeinanderfolgendes Belichten kann beispielsweise durch kontinuierliches Abtasten oder einzelne Belichtungsschritte erfolgen. Das Belichten kann durch einen einzelnen aktinischen Strahl, durch mehrfache aktinische Strahlen, die von einer einzigen Quelle aufgeteilt wurden, oder durch aktinische Strahlen verschiedener Quellen erfolgen.
  • Ein zweiter Weg, dies zu erreichen, ist das Bereitstellen einer einzigen Phasenmaske, die ein Phasengitter umfaßt, das lang genug ist, um ein geeignetes Interferenzmuster in allen entsprechenden Faserbereichen zu erzeugen Jeder der entsprechenden Faserbereiche korrespondiert dann zu einem bestimmten Abschnitt des langen Phasengitters. Diese korrespondierenden Abschnitte werden beispielsweise nacheinander belichtet. Wenn das lange Phasengitter eine räumlich veränderliche Periode aufweist, wird es zum Bilden einer Gruppe von zwei oder mehr Fasergittern mit verschiedenen Perioden leicht verwendbar. Ein derartiges Gitter wird in einfacher Weise zum Herstellen eines Chirp-Fasergitters verwendet, d. h. eines Gitters mit räumlich veränderlicher Periode. Zu diesem Zweck wird das Belichten mit einem ununterbrochenen Abtasten der Phasenmaske oftmals wünschenswert.
  • Die Anordnung von zwei oder mehr räumlich getrennten Gittern in einer einzelnen Faser ist nützlich, beispielsweise zum Herstellen einer optischen Kammer in den Fasern. Wenn ein geeignetes Verstärkermedium, wie etwa ein mit seltenen Erdmetallen dotierter Kern, in der optischen Kammer verwendet wird, kann ein Faserlaser (oder ein anderer Wellenleiterlaser für einen Wellenleiter, der keine optische Faser ist) in dieser Weise hergestellt werden.
  • Das erfindungsgemäße Verfahren stellt die Steuerung verschiedener wesentlicher Aspekte des zu bildenden Fasergitters dar. Beispielsweise kann die Amplitude der Modulationen mit gebrochenem Index im Fasergitter selbst räumlich moduliert sein. In Bezug auf Fig. 1 wird dies beispielsweise durch einen Belichtungsschritt erreicht, während die Phasenmaske 20 in paralleler Richtung zur Faser 10 durch den aktinischen Strahl 30 abgetastet wird. Während des Abtastens wird die Intensität des Strahles 30 in vorbestimmter Weise verändert.
  • Darüberhinaus kann das Fasergitter in einer Weise angestrahlt werden, daß die Phasenfronten der aktinischen Strahlung derart in der Faser geneigt werden können, daß das resultierende Gitter Licht mit erhöhter Effizienz in oder aus der Faser koppeln kann. Das Anstrahlen wird durch Drehen der Phasenmaske im Verhältnis zur Faser mit einem geeigneten Winkel α erreicht, wie in Fig. 1 dargestellt.
  • Darüberhinaus kann das Profil der Phasenmaske von einem Computer erzeugt werden und unter Computersteuerung mit einem Verfahren, wie etwa der Elektronenstrahllithographie, implementiert werden. Dies ermöglicht es, zahlreiche besondere Auswirkungen zu erreichen. Beispielsweise kann eine geeignete Phasenmaske mit gekrümmten Linien zum Bilden eines Phasengitters verwendet werden, das geeignet ist, Licht, das in oder aus der Faser gekoppelt wird, zu fokussieren.
  • Die Merkmale des Phasengitters werden auch durch verändernde Winkel θ und β beeinflußt (siehe Fig. 1). Durch Verändern von θ wird eine gewisse Steuerung der Beugungseffizienz in den verschiedenen Ordnungen der Phasenmaske angewendet. Die Veränderungen von θ beeinflussen auch den Tiltwinkel des Gitters, der in der optischen Faser ausgebildet ist.
  • Das Verändern von β beeinflußt nicht die Beugungseffizienz, bietet aber eine gewisse Steuerung der Periode des Fasergitters. Das rührt daher, daß die Projektion des Fasergitters auf die Phasenmaske eine von β unabhängige Periode aufweisen muß. Folglich wird eine schmale Änderung von β von Null die Periode des Fasergitters um den Faktor des Sekans von β erhöhen. Das Ändern von β wird auch das Anstrahlen der Fasergitter verändern.
  • Wie beschrieben wird die relative Summe des gebrochenen Lichtes in den verschiedenen Ordnungen der Phasenmaske geringfügig geändert durch Ändern des Einfallwinkels θ. Wie im Stand der Technik bekannt ist, kann die relative Effizienz der gebrochenen Ordnungen auch durch einen geeigneten Entwurf der Phasenmaske gesteuert werden. Beispielsweise kann ein normaler Einfall auf eine Phasenmaske mit einem quadratischen Gitterprofil geeigneter Amplitude zur Unterdrückung aller geraden Ordnungen führen, die mit gleichen Intensitäten in den +1- und -1-Ordnungen gebrochen werden.
  • Bei der vorstehenden Erörterung wurde vorausgesetzt, daß die Phasenmaske ein Phasengitter ist, d. h. ein optisches Element, das dem einfallenden aktinischen Strahl eine periodische oder nahezu periodische Phasenmodulation auflegt. Es soll jedoch darauf hingewiesen werden, daß es in manchen Fällen nützlich sein kann, ein optisches Element bereitzustellen, das eine nichtperiodische Phasenmodulation auflegt. Diese Phasenmodulation erzeugt eine komplexe Wellenfront, wenn das optische Element mit einem einzigen Strahl aktinischer Strahlung belichtet wird. Diese komplexe Wellenfront kann zur Herstellung optischer Bauteile nützlich sein, die komplexere gebrochene Indexmodulationen als das Bragg-Gitter umfassen.

Claims (19)

1. Verfahren zum Bilden eines Bragg-Gitters in einem optischen Wellenleiter (10), wobei der Wellenleiter Glas umfaßt, das für wenigstens einige Wellenlängen der elektromagnetischen Strahlung, die als aktinische Strahlung bezeichnet wird, empfindlich ist, wobei das Verfahren die Schritte umfaßt:
a) Erzeugen eines Interferenzmusters,
b) Belichten wenigstens eines ersten Wellenleiters mit dem Interferenzmuster, derart, daß ein Bragg-Gittermuster mit gebrochenem Index im Wellenleiter gebildet wird,
c) Beenden des Belichtungsschrittes,
dadurch gekennzeichnet, daß der Erzeugungsschritt umfaßt:
d) Bereitstellen eines optischen Phasengitters (20),
e) Auftreffenlassen eines einzelnen Strahles (30) aktinischer Strahlung auf das Phasengitter, derart, daß die aktinische Strahlung in wenigstens zwei Beugungsordnungen des Phasengitters gebeugt wird.
2. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der optische Wellenleiter eine optische Faser umfaßt.
3. Verfahren gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß
das Phasengitter eine gemittelte Periode aufweist, die mit P&sub1; bezeichnet wird,
das Wellenleiter-Gittermuster eine gemittelte Periode aufweist, die mit P&sub2; bezeichnet wird,
der Schritt des Auftreffens die Beugung der aktinischen Strahlung in wenigstens zwei Beugungsordungen des Phasengitters bewirkt,
der Belichtungsschritt das Belichten des Wellenleiters mit aktinischer Strahlung mit zwei benachbarten, Beugungsordnungen umfaßt, wodurch ungefähr Gleichheit zwischen P&sub1; und P&sub2; bewirkt wird.
4. Verfahren gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß
das Phasengitter eine Durchschnittsperiode aufweist, die als P&sub1; bezeichnet wird,
das Wellenleiter-Gittermuster eine Durchschnittsperiode aufweist, die als P&sub2; bezeichnet wird,
der Schritt des Auftreffens die Brechung der aktinischen Strahlung mit wenigstens zwei Beugungsordnungen des Phasengitters bewirkt,
der Belichtungsschritt das Belichten des Wellenleiters mit aktinischer Strahlung von zwei nicht benachbarten, Beugungsordnungen umfaßt, wodurch ein Wert von P&sub1; erzielt wird, der ungefähr (n * P&sub2;)ist, wobei n eine ganze Zahl größer als 1 ist.
5. Verfahren gemäß Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß n gleich 2 ist.
6. Verfahren gemäß einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Belichtungsschritt weiterhin das Belichten wenigstens eines zweiten Wellenleiters mit dem Interferenzmuster umfaßt, wodurch die Ausbildung eines Gitters im zweiten Wellenleiter erzielt wird, wobei die jeweiligen Gitter im ersten und zweiten Wellenleiter als erste und zweite Gitter bezeichnet werden.
7. Verfahren gemäß Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Belichtungsschritt das gleichzeitige Belichten der ersten und zweiten Wellenleiter umfaßt.
8. Verfahren gemäß Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Belichtungsschritt das aufeinanderfolgende Belichten der ersten und zweiten Wellenleiter umfaßt.
9. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Belichtungsschritt das Belichten wenigstens erster und zweiter räumlich getrennter Bereiche des Wellenleiters mit Interferenzmustern umfaßt, wodurch eine Ausbildung wenigstens erster und zweiter räumlich getrennter Gitter im Wellenleiter erzielt wird.
10. Verfahren gemäß Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß der Belichtungsschritt derart durchgeführt wird, daß die ersten und zweiten räumlich getrennten Gitter im Wellenleiter eine optische Kavität definieren.
11. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 6 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß der Schritt des Auftreffens von Strahlung auf das Phasengitter das Auftreffen von Strahlung auf einen ersten Bereich des Phasengitters umfaßt, wodurch die Ausbildung eines ersten Wellenleitergitters erzielt wird, und das Auftreffen der Strahlung auf einen zweiten Bereich des Phasengitters, der räumlich vom ersten Bereich getrennt ist, zur Ausbildung eines zweiten Wellenleitergitters führt.
12. Verfahren gemäß Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die ersten und zweiten Phasengitterbereiche verschiedene Durchschnittsperioden aufweisen, wodurch die Ausbildung von ersten und zweiten Wellenleitergittern mit verschiedenen Durchschnittsperioden erzielt wird.
13. Verfahren gemäß einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Belichtungsschritt das Abtasten bzw. Scannen des aktinischen Strahles entlang des Phasengitters und das Verändern der Intensität des aktinischen Strahles während des Abtastschrittes umfaßt.
14. Verfahren gemäß einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Belichtungsschritt das Fokussieren der Interferenzmuster auf den Wellenleiter durch ein hervorragendes optisches System umfaßt.
15. Verfahren gemäß Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß das optische System ein reduzierendes, Abbildungssystem ist, woraus P&sub2; < P&sub1; folgt.
16. Verfahren gemäß Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß das optische System ein Abbildungssystem mit variabler Verkleinerung ist und das Verfahren weiterhin vor dem Belichtungsschritt den Schritt der Anpassung der Reduzierung des optischen Systems derart umfaßt, daß P&sub2; einen vorbestimmten Wert annimmt.
17. Verfahren gemäß einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Schritt des Bereitstellens das Ausbilden eines Phasengitters durch Belichten eines fotoempfindlichen Mediums mit einem Paar interferierender Strahlen der aktinischen Strahlung der ersten Wellenlänge umfaßt, und daß der Schritt des Auftreffens das Auftreffen eines Strahls der aktinischen Strahlung einer zweiten Wellenlänge auf das Phasengitter umfaßt, wobei die erste Wellenlänge nicht gleich der zweiten Wellenlänge ist.
18. Verfahren gemäß einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Phasengitter eine räumlich veränderliche Periode aufweist und der Schritt des Auftreffenlassens derart ausgeführt wird, daß das resultierende Wellenleiter-Gittermuster eine räumlich veränderliche Periode aufweist.
19. Verfahren zum Herstellen eines Lasers in einem optischen Wellenleiter, umfassend Glas, das für wenigstens einige Wellenlängen der elektromagnetischen Strahlung, die als aktinische Strahlung bezeichnet wird, empfindlich ist, und ferner ein Verstärkermedium umfaßt, wobei das Verfahren die Schritte umfaßt:
a) Erzeugen eines Interferenzmusters,
b) Belichten des Wellenleiters mit Interferenzmustern, derart, daß wenigstens zwei räumlich getrennte Bragg-Gittermuster mit Brechungsindexmodulationen im Wellenleiter ausgebildet werden, und
c) Beenden des Belichtungsschrittes,
wobei der Erzeugungsschritt umfaßt:
d) das Bereitstellen eines optischen Phasengitters,
e) das Auftreffenlassen wenigstens eines Strahles aktinischer Strahlung auf das Phasengitter derart, das die aktinische Strahlung in wenigstens zwei Beugungsordnungen des Phasengitters gebeugt wird.
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