DE69701372T2

DE69701372T2 - Träger, eine Härterschicht und eine lichtempfindliche Schicht enthaltendes lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial

Info

Publication number: DE69701372T2
Application number: DE69701372T
Authority: DE
Inventors: Satoshi Hoshi; Hiroyuki Nagase
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 1996-10-03
Filing date: 1997-10-02
Publication date: 2000-07-27
Anticipated expiration: 2017-10-03
Also published as: DE69701372D1; JPH10111571A; EP0834769B1; US5882838A; EP0834769A1

Description

GEBIET DER ERFINDUNG:

Die vorliegende Erfindung betrifft ein lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial mit einem Träger, einer härtenden Schicht und einer lichtempfindlichen Schicht.

HINTERGRUND DER ERFINDUNG:

US-PS 4 629 676 (Hayakawa et al) und EP-PS 0 174 634 (Fuji Photo Film Co., Ltd.) offenbaren ein Bilderzeugungsverfahren mit den Schritten der bildweisen Belichtung eines lichtempfindlichen Materials und Erwärmung des lichtempfindlichen Materials. Das lichtempfindliche Material umfasst einen Träger und eine lichtempfindliche härtende Schicht, die Silberhalogenid, ein Reduktionsmittel und eine polymerisierbare Verbindung enthält. Das Silberhalogenid wird durch Erwärmung des lichtempfindlichen Materials zur Erzeugung eines Polymerbildes entwickelt. Die Polymerisation wird durch ein Oxidationsradikal des Reduktionsmittels initiiert (einschliesslich eines Radikals, das aus einem Oxidationsprodukt des Reduktionsmittels gebildet wird).
US-PSen 5 122 443 (Takeda), 5 290 659 (Takeda) und EP-PS 0 426 192 (Fuji Photo Film Co., Ltd.) offenbaren Ausführungsformen von lichtempfindlichen Materialien, die vorteilhaft zur Herstellung einer lithografischen Platte verwendet werden. In den lichtempfindlichen Materialien für die lithografische Platte umfasst die lichtempfindliche härtende Schicht vorzugsweise eine härtende Schicht und eine lichtempfindliche Schicht. Die härtende Schicht enthält eine polymerisierbare Verbindung und ein hydrophobes Polymer. Die lichtempfindliche Schicht enthält Silberhalogenid und ein hydrophiles Polymer. Die härtende Schicht oder die lichtempfindliche Schicht enthält ausserdem ein Reduktionsmittel. Das lichtempfindliche Material kann ferner eine bilderzeugungsbeschleunigende Schicht, die eine Base oder einen Basenvorläufer enthält, auf der lichtempfindlichen Schicht vorgesehen enthalten.
Ein Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Platte umfasst die Schritte der bildweisen Belichtung des lichtempfindlichen Materials, Erwärmen des Materials, Entfernung der lichtempfindlichen Schicht vom Material und Entfernung der ungehärteten Fläche der härtenden Schicht mit einer alkalischen Ätzlösung. Das gebildete Replikabild wird als Druckplatte verwendet.
Die härtende Schicht, die eine polymerisierbare Verbindung und ein hydrophobes Polymer enthält, ist hydrophob, während die lichtempfindliche Schicht, die Silberhalogenid und ein hydrophiles Polymer enthält, hydrophil ist. Demgemäss ist die Adhäsion zwischen den beiden Schichten schwach. Das lichtempfindliche Material wurde manchmal durch Trennung zwischen den Schichten beim Umgang mit dem lichtempfindlichen Material zerstört. Die Trennung wurde bewirkt, wenn Druck auf das lichtempfindliche Material ausgeübt wurde, beispielsweise wenn das Material geschnitten wurde, die Oberfläche des Materials gerieben wurde, das Material aufgerollt oder übereinandergestapelt wurde oder das Material aus einer Rolle oder einem Stapel entnommen wurde.
Die vorläufigen japanischen Patentveröffentlichungen Nrn. 8(1996)-123035, 8(1996)-146600, 8(1996)-184968 und 8(1996)-194314 offenbaren lichtempfindliche Silberhalogenidmaterialien, die in der Adhäsion zwischen der härtenden Schicht und der lichtempfindlichen Schicht verbessert sind.
Die vorläufige japanische Patentveröffentlichung 8(1996)-123035 offenbart ein lichtempfindliches Material, das ein hydrophobes Polymer mit einer sauren Gruppe in Form eines Salzes als Binder einer härtenden Schicht enthält. Die vorläufige japanische Patentveröffentlichung 8(1996)-146600 offenbart ein Verfahren zur Herstellung eines lichtempfindlichen Materials, bei dem eine Beschichtungslösung für eine härtende Schicht ein hydrophobes Polymer in Mischung eines guten Lösungsmittels und eines schlechten Lösungsmittels enthält. Der Siedepunkt des schlechten Lösungsmittels ist höher als der des guten Lösungsmittels und der Unterschied zwischen den Siedepunkten beträgt nicht weniger als 3ºC. Die vorläufige japanische Patentveröffentlichung 8(1996)-184968 offenbart ein lichtempfindliches Material mit einer härtenden Schicht, die ein hydrophiles Polymer mit einer aziden Gruppe und eine lichtempfindliche Schicht mit einem hydrophilen Polymer und einem Aminoalkohol enthält. Die vorläufige japanische Patentveröffentlichung 8(1996)-194314 offenbart ein lichtempfindliches Material mit einer Klebeschicht, die zwischen einer härtenden Schicht und einer lichtempfindlichen Schicht vorgesehen ist. Die Klebeschicht enthält ein Polymer oder ein Additiv, wie sie in den oben erwähnten Publikationen vorgeschlagen wurden.
Die oben erwähnten Publikationen schlagen vor, ein Polymer, das als Bindemittel einer härtenden Schicht oder einer lichtempfindlichen Schicht verwendet wurde, zu modifizieren, um die Adhäsion zwischen den Schichten zu erhöhen. Es wurde gezeigt, dass das Bindemittel der härtenden Schicht oder der lichtempfindlichen Schicht keine nachteiligen Auswirkungen auf das lichtempfindliche Material oder das Bilderzeugungssystem hat.

ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG:

Die Erfinder haben die Methoden zur Verbesserung des Binders der härtenden Schicht oder der lichtempfindlichen Schicht, die in den oben erwähnten Publikationen beschrieben wurden, untersucht. Als Ergebnis stellten die Erfinder fest, dass alle diese Methoden einige Probleme aufweisen.
Das hydrophobe Polymer mit einer aziden Gruppe in Form eines Salzes, wie in der vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung 8(1996)-123035 offenbart, spaltet ein Gegenion des Salzes bei hoher Temperatur und hoher Feuchtigkeit ab und macht so die Bedingungen im lichtempfindlichen Material basisch. Die Empfindlichkeit und Stabilität des lichtempfindlichen Materials werden unter basischen Bedingungen verschlechtert. Die Mischung eines guten und eines schlechten Lösungsmittels, wie offenbart in der vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung 8(1996)-146600 führt zu einer Phasentrennung in der härtenden Schicht. Es ist schwierig, Komponenten gleichmässig in der härtenden Schicht, in der eine Phasentrennung verursacht wird, zu dispergieren. Der in der vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung 8(1996)-184968 offenbarte Aminoalkohol ist eine basische Verbindung, die die Stabilität des lichtempfindlichen Materials herabsetzt. Ähnliche Probleme wurden in einem lichtempfindlichen Material mit einer Klebeschicht beobachtet, wie sie in der vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung 8(1996)-194314 beschrieben ist.
Nun haben die Erfinder nach einem neuen Binder geforscht, um die Adhäsion zwischen der härtenden Schicht und der lichtempfindlichen Schicht zu erhöhen, anstatt den bisherigen Binder der härtenden Schicht oder der lichtempfindlichen Schicht zu modifizieren. Zahlreiche Polymere, wie beispielsweise handelsübliche Klebstoffe, wurden zur Erhöhung der Adhäsion vorgeschlagen.
Das lichtempfindliche Silberhalogenidmaterial hat jedoch eine komplizierte Struktur, um ein ausgehärtetes Bild durch Verwendung von Silberhalogenid als Lichtsensor zu bilden. Das Bilderzeugungssystem umfasst auch komplexe Reaktionen. Nach Untersuchungen des Erfinders können die meisten der bekannten Binder oder Klebstoffe nicht in einem lichtempfindlichen Silberhalogenidmaterial verwendet werden, weil die Binder oder Klebstoffe zu ernsten Problemen im lichtempfindlichen Material oder dem Bilderzeugungssystem führen. Beispielsweise ist die Adhäsion unzureichend, es ist schwierig, ein lichtempfindliches Material herzustellen, die Stabilität des Materials wird herabgesetzt oder eine bilderzeugende Reaktion wird inhibiert.
Ein Ziel der Erfindung ist die Bereitstellung eines lichtempfindlichen Silberhalogenidmaterials, das in der Adhäsion zwischen einer härtenden Schicht und einer lichtempfindlichen Schicht verbessert ist, ohne nachteilige Auswirkungen auf das lichtempfindliche Material oder das Bilderzeugungssystem zu haben.
Die vorliegende Erfindung stellt ein lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial mit einem Träger, einer härtenden Schicht und einer lichtempfindlichen Schicht zur Verfügung, wobei die härtende Schicht eine ethylenisch ungesättigte polymerisierbare Verbindung oder ein ethylenisch ungesättigtes vernetzbares Polymer enthält, wobei die lichtempfindliche Schicht Silberhalogenid und ein hydrophiles Polymer enthält, und wobei die erwähnte härtende Schicht oder die erwähnte lichtempfindliche Schicht ein Reduktionsmittel enthält, wobei eine Klebeschicht, die ein synthetisches wasserlösliches Polymer enthält, zwischen der härtenden Schicht und der lichtempfindlichen Schicht enthalten ist und dieses wasserlösliche synthetische Polymer eine Grundeinheit mit der Formel (I) in einer Menge von wenigstens 50 mol-% enthält:
worin n1 und n2 jeweils unabhängig eine ganze Zahl von 10 bis 5000 sind; R¹ und R² jeweils unabhängig Wasserstoff, eine Alkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen oder eine Arylgruppe mit 6 bis 10 Kohlenstoffatomen bedeuten und die durch R¹ und R² dargestellten Gruppen voneinander verschieden sein können; X ist -O-R&sup4;-O- oder -NR&sup5;-; R&sup4; ist eine Alkylengruppe mit 2 bis 20 Kohlenstoffatomen, eine Alkylenoxyalkylengruppe mit 4 bis 20 Kohlenstoffatomen, eine Arylengruppe mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen oder eine Aralkylengruppe mit 7 bis 20 Kohlenstoffatomen; R&sup5; ist eine Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen oder eine Arylgruppe mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen; Y¹ ist -CO- oder -CONH-; Y² ist -CO- oder -NHCO-; und R³ ist eine Alkylengruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen, eine Alkenylengruppe mit 2 bis 20 Kohlenstoffatomen, eine Arylengruppe mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen oder eine Aralkylengruppe mit 7 bis 20 Kohlenstoffatomen.
Die Erfindung stellt auch ein lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial zur Verfügung, welches einen Träger, eine härtende Schicht und eine lichtempfindliche Schicht umfasst, wobei die härtende Schicht eine ethylenisch ungesättigte polymerisierbare Verbindung oder ein ethylenisch ungesättigtes, vernetzbares Polymer enthält, die lichtempfindliche Schicht ein Silberhalogenid und ein hydrophiles Polymer enthält und die härtende Schicht oder die lichtempfindliche Schicht ein Reduktionsmittel enthält, wobei die lichtempfindliche Schicht ausserdem ein synthetisches wasserlösliches Polymer enthält, das Grundeinheiten mit der Formel (I) in einer Menge von wenigstens 50 mol-% enthält.
Die vorliegende Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass das oben erwähnte wasserlösliche synthetische Polymer (Polyester oder Polyurethan) zur Erhöhung der Adhäsion zwischen einer härtenden Schicht und einer lichtempfindlichen Schicht verwendet wird. Das wasserlösliche synthetische Polymer wird zu einer Klebeschicht oder der lichtempfindlichen Schicht gegeben. Die Klebeschicht wird zwischen der härtenden Schicht und der lichtempfindlichen Schicht vorgesehen.
Die Klebeschicht haftet gut an die lichtempfindliche Schicht (hydrophile Schicht) an, weil das Polymer der Klebeschicht wasserlöslich ist. Ausserdem besitzt das wasserlösliche synthetische Polymer gute Klebekraft, da das Polymer eine niedrige Glasübergangstemperatur aufweist. Die Grenzfläche zwischen der härtenden Schicht und der Klebeschicht oder der lichtempfindlichen Schicht wird mit dem wasserlöslichen synthetischen Polymer benetzt, da das Polymer bei Raumtemperatur flüssig ist. Die benetzte Grenzfläche erhöht die Anzahl der Kontaktstellen, an denen die molekulare Wechselwirkung zwischen den Schichten bewirkt wird.
Da die Adhäsion zwischen der härtenden Schicht und der lichtempfindlichen Schicht wie oben erwähnt verbessert ist, wird das lichtempfindliche Material gemäss der vorliegenden Erfindung kaum durch Trennung zwischen den Schichten beim Umgang mit dem lichtempfindlichen Material zerstört.
Ausserdem hat das in der vorliegenden Erfindung verwendete wasserlösliche synthetische Polymer keine nachteiligen Auswirkungen auf das lichtempfindliche Material und das Bilderzeugungssystem.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN:

Fig. 1 ist ein Schnitt, der schematisch eine bevorzugte Ausführungsform eines lichtempfindlichen Silberhalogenidmaterials erläutert;
Fig. 2 ist ein Schnitt, der schematisch eine weitere bevorzugte Ausführungsform eines lichtempfindlichen Silberhalogenidmaterials erläutert.

AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG:

Wasserlösliches synthetisches Polymer:

Das wasserlösliche synthetische Polymer umfasst eine Grundeinheit mit der Formel (I) in einer Menge von wenigstens 50 mol-%.
In Formel (I) sind n1 und n2 jeweils unabhängig eine ganze Zahl von 10 bis 5000, vorzugsweise 20 bis 3000, stärker bevorzugt 30 bis 2000, weiter bevorzugt 40 bis 1000, und am stärksten bevorzugt 50 bis 500.
In Formel (I) sind R¹ und R² jeweils unabhängig Wasserstoff, eine Alkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen oder eine Arylgruppe mit 6 bis 10 Kohlenstoffatomen. Wasserstoff und eine Alkylgruppe sind bevorzugt. Die Alkylgruppe hat vorzugsweise 1 bis 6 Kohlenstoffatome, stärker bevorzugt 1 bis 4 Kohlenstoffatome, weiter bevorzugt 1 oder 2 Kohlenstoffatome, und am stärksten bevorzugt 1 Kohlenstoffatom (am meisten bevorzugt ist Methyl). Die Formel (I) umfasst 10 oder mehr (Anzahl von n1 oder n2) durch R¹ oder R² dargestellte Gruppen. Die Gruppen können jeweils voneinander verschieden sein.
In Formel (I) ist X -O-R&sup4;-O- oder -NR&sup5;-.
R&sup4; ist eine Alkylengruppe mit 2 bis 20 Kohlenstoffatomen, eine Alkylenoxyalkylengruppe mit 4 bis 20 Kohlenstoffatomen, eine Arylengruppe mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen oder eine Aralkylengruppe mit 7 bis 20 Kohlenstoffatomen. Die Alkylengruppe und die Alkylenoxyalkylengruppe sind bevorzugt und am stärkesten bevorzugt ist die Alkylengruppe. Die Alkylenoxyalkylengruppe ist eine zweiwertige Gruppe, die durch Kombinieren von zwei Alkylengruppen mit einer Etherbindung des Sauerstoffatoms gebildet wird. Die Alkylengruppe hat vorzugsweise 2 bis 10 Kohlenstoffatome, stärker bevorzugt 2 bis 6 Kohlenstoffatome, weiter bevorzugt 2 bis 4 Kohlenstoffatome und am stärksten bevorzugt 2 oder 3 Kohlenstoffatome (am meisten bevorzugt sind Ethylen und Propylen).
R&sup5; ist eine Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen oder eine Arylgruppe mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen. Die Alkylgruppe kann eine Kettenstruktur oder eine cyclische Struktur aufweisen. Die Kettenstruktur kann verzweigt sein. Die Alkylgruppe hat vorzugsweise 1 bis 12 Kohlenstoffatome. Die Arylgruppe hat vorzugsweise 6 bis 10 Kohlenstoffatome.
In Formel (I) ist Y¹ -CO- oder -CONH-, und Y² ist -CO- oder -NHCO-. Wenn Y¹ -CO- ist, ist Y² vorzugsweise -CO-. Wenn Y¹ -CONH- ist, ist Y² vorzugsweise -NHCO-.
In Formel (I) ist R³ eine Alkylengruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen, eine Alkenylengruppe mit 2 bis 20 Kohlenstoffatomen, eine Arylengruppe mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen oder eine Aralkylengruppe mit 7 bis 20 Kohlenstoffatomen. Die Alkylengruppe, Arylengruppe und Aralkylengruppe sind bevorzugt. Die Aralkylengruppe bedeutet eine Kombination einer Alkylengruppe und einer Arylengruppe.
Eine besonders bevorzugte Grundeinheit wird durch die Formel (Ia) dargestellt:
In Formel (Ia) sind ml und m² jeweils unabhängig eine ganze Zahl von 20 bis 3000.
In Formel (Ia) sind R¹¹ und R¹² jeweils unabhängig Wasserstoff, Methyl, Ethyl oder Phenyl. Wasserstoff, Methyl und Ethyl sind bevorzugt und Wasserstoff und Methyl sind am meisten bevorzugt. Die Formel (Ia) enthält 20 oder mehr (Anzahl von ml oder m²) der durch R¹¹ oder R¹² dargestellten Gruppen. Die Gruppen können jeweils voneinander verschieden sein. Am stärksten bevorzugt sind 70 mol-% oder mehr der durch R¹¹ oder R¹² dargestellten Gruppen Wasserstoff.
In Formel (Ia) ist X¹&sup0; -O-R¹&sup4;-O- oder -NR¹&sup5;-.
R¹&sup4; ist Ethylen oder Propylen.
R¹&sup5; ist eine Alkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen oder eine Arylgruppe mit 6 bis 10 Kohlenstoffatomen.
In Formel (Ia) ist Y¹¹ -CO- oder -CONH- und Y¹² ist -CO- oder -NHCO-.
In Formel (Ia) ist R¹³ eine Alkylengruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen, eine Arylengruppe mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen oder eine Aralkylengruppe mit 7 bis 20 Kohlenstoffatomen.
Beispiele für Grundeinheiten der Formel (I) werden nachstehend gezeigt.
In den Formeln ist n eine ganze Zahl von 50 bis 500 und R ist Wasserstoff oder Methyl, d. h. dass jede der 50 oder mehr R-Gruppen unabhängig Wasserstoff oder Methyl sind.
Das wasserlösliche synthetische Polymer kann ein Homopolymer, das aus Grundeinheiten mit der Formel (I) besteht, sein. Ausserdem können die Charakteristiken (z. B. Wasserlöslichkeit) durch Einführung einer anderen Grundeinheit in das Polymer eingestellt werden.
Wenn das wasserlösliche synthetische Polymer ein Copolymer ist, umfasst das Copolymer eine Grundeinheit mit der Formel (I) in einer Menge von wenigstens 50 mol-%, vorzugsweise wenigstens 70 mol-%, stärker bevorzugt wenigstens 80 mol-%, noch weiter bevorzugt wenigstens 90 mol-%, und am stärksten bevorzugt wenigstens 95 mol-%.
JP-OS 7(1995)-47645 beschreibt, dass die Grundeinheit der Formel (1) eine Filmkomponente zur Laminierung mit einem Polyvinylalkoholharzfilm ist.
Das Polymer kann durch die folgenden Reaktionen synthetisiert werden. Reaktion 1:
In der Reaktion 1 haben n1, n2, R¹, R² und X jeweils die gleichen Bedeutungen wie in Formel (I).
Wie in der Reaktion 1 gezeigt wird, ist die zu H-X-H korrespondierende Verbindung das Ausgangsmaterial. Eine Ringöffnungs-Additionspolymerisation wird mit dem Ausgangsmaterial und den Epoxyverbindungen durchgeführt, um das in Formel (1) gezeigte Diol zu bilden. Eine Alkalie (z. B. Natriumhydroxid) wird vorzugsweise als Reaktionskatalysator verwendet. Die Reaktion wird vorzugsweise für 20 bis 30 Stunden bei 90 bis 200ºC ausgeführt.
Das erhaltene Diol wird mit Dicarbonsäure oder einem Diisocyanat umgesetzt, um einen Polyester oder ein Polyurethan zu synthetisieren. Reaktion 2a:
In der Reaktion 2a haben n1, n2, R¹, R², R³ und X die gleichen Bedeutungen wie in Formel (I) und p ist der Polymerisationsgrad des synthetisierten Polymers.
Wie in der Reaktion 2a gezeigt, wird ein Polyester durch Umsetzen des Diols mit der Dicarbonsäure synthetisiert. Die Reaktion wird vorzugsweise unter reduziertem Druck (0,001 bis 20 mmHg) bei 80 bis 250ºC während 30 Minuten bis 10 Stunden ausgeführt. Die Menge an Dicarbonsäure liegt vorzugsweise im Bereich von 1 bis 5 Gew.-Teilen in bezug auf 100 Gew.-Teile des Diols. Reaktion 2b:
In der Reaktion 2b haben n1, n2, R¹, R², R³ und X die gleichen Bedeutungen wie in Formel (I) und q ist der Polymerisationsgrad des synthetisierten Polymers.
Wie in der Reaktion 2b gezeigt, wird ein Polyurethan durch Umsetzen des Diols mit dem Diisocyanat synthetisiert. Die Reaktion wird vorzugsweise bei 80 bis 150ºC während 1 bis 5 Stunden ausgeführt. Die Menge an Diisocyanat liegt vorzugsweise im Bereich von 0,5 bis 2 Gew.-Teilen in bezug auf 100 Gew.-Teile des Diols.
Wenn ein Copolymer synthetisiert wird, wird nicht nur das in Reaktion 1 erhaltene Diol, sondern auch ein anderes Polyol (vorzugsweise ein anderes Diol) oder ein Polyamin (vorzugsweise ein Diamin) mit der Dicarbonsäure oder dem Diisocyanat umgesetzt. Eine Amidobindung wird durch Umsetzen eines Polyamins oder einer Dicarbonsäure erhalten. Eine Harnstoffbindung wird durch Umsetzen von Polyamin und einem Diisocyanat erhalten.
Das wasserlösliche synthetische Polymer hat bevorzugt ein mittleres Molekulargewicht im Bereich von 50.000 bis 300.000 und stärker bevorzugt im Bereich von 100.000 bis 200.000.
Wenn das wasserlösliche synthetische Polymer zu einer Klebeschicht gegeben wird, wird die Menge des Polymeren vorzugsweise so eingestellt, dass die Beschichtungsmenge der Klebeschicht im Bereich von 0,01 bis 2 g/m² liegt. Die Beschichtungsmenge der Klebeschicht liegt stärker bevorzugt im Bereich von 0,02 bis 1,5 g/m² und stärker bevorzugt im Bereich von 0,025 bis 1,0 g/m².
Wenn das wasserlösliche synthetische Polymer zu einer lichtempfindlichen Schicht gegeben wird, liegt die Menge des Polymeren vorzugsweise im Bereich von 1 bis 80 Gew.-%, bezogen auf die Beschichtungsmenge der lichtempfindlichen Schicht. Die Polymermenge liegt stärker bevorzugt im Bereich von 3 bis 60 Gew.-% und besonders bevorzugt im Bereich von 5 bis 50 Gew.-%.

Wasserlösliches Polysaccharid:

Ein wasserlösliches Polysaccharid ist ein Polymer, das aus einem Monosaccharid mit glycosidischen Bindungen gebildet ist. Es gibt viele natürliche wasserlösliche Polysaccharide, die unter den Monosacchariden und glycosidischen Bindungen klassifiziert werden können. Beispiele für industriell erhältliche, natürliche, wasserlösliche Polysaccharide schliessen Cellulose, Stärke, Pullulan, Xanthangummi und Dextran ein.
Die natürlichen Polysaccharide können denaturiert oder chemisch modifiziert werden. Cellulose und Dextran können leicht chemisch modifiziert werden, um hydrophile- hydrophobe Charakteristiken einzustellen. Die vorliegende Erfindung verwendet vorzugsweise ein Cellulosederivat, d. h. eine chemisch modifizierte Cellulose. Celluloseester oder Celluloseether sind bevorzugt, und Celluloseether sind besonders bevorzugt und Celluloseether ist am stärksten bevorzugt.
Das wasserlösliche synthetische Polymer besitzt viele hydrophile (Hydroxyl) Gruppen. Das wasserlösliche Polysaccharid besitzt die Funktion der vollständigen Entfernung einer Schicht, die wasserlösliches synthetisches Polymer (eine Klebeschicht oder eine lichtempfindliche Schicht) enthält, von einem lichtempfindlichen Material.
Celluloseether ist ein Polymer, das durch Substitution der gesamten oder eines Teils der Wasserstoffatome der drei Hydroxylgruppen der Monosaccharideinheiten (Glucosen mit β1-4-Bindungen) von Cellulose mit Alkylgruppen (einschliesslich substituierten Alkylgruppen) gebildet wird.
Beispiele für Celluloseether schliessen Methylcellulose, Ethylcellulose, Carboxymethylcellulose, Hydroxyethylcellulose, Hydroxypropylcellulose, Diethylaminoethylcellulose und 1,3- Dihydroxypropylcellulose ein. Carboxyl kann in Form eines Salzes, wie z. B. eines Alkalimetallsalzes (z. B. Natrium) vorliegen. Die Erfindung kann einen gemischten Ether der Cellulose verwenden, der durch Substitution von Cellulose mit zwei oder mehreren Alkylgruppen gebildet wird. Beispiele von gemischten Ethern der Cellulose schliessen Carboxymethylhydroxyethylcellulose (Carboxyl kann in Form eines Salzes vorliegen), Hydroxyethylmethylcellulose, Hydroxypropylmethylcellulose, Hydroxybutylmethylcellulose, Ethylhydroxyethylcellulose und 2-Hydroxyethyl-1- hydroxyethylcellulose ein.
Das wasserlösliche Polysaccharid wird zu einer Schicht gegeben, die das wasserlösliche synthetische Polymer enthält (einer Klebeschicht oder einer lichtempfindlichen Schicht). Das wasserlösliche Polysaccharid ist besonders wirksam (der Effekt der Auflösung einer Schicht in einer Lösung), wenn das wasserlösliche synthetische Polymer zu einer Klebeschicht gegeben wird.
Die Menge des wasserlöslichen Polysaccharids liegt vorzugsweise im Bereich von 5 bis 150 Gew.-%, stärker bevorzugt im Bereich von 10 bis 120 Gew.-%, weiter bevorzugt im Bereich von 15 bis 100 Gew.-% und am stärksten bevorzugt im Bereich von 20 bis 80 Gew.-%, bezogen auf die Menge des wasserlöslichen synthetischen Polymers.

Schichtstruktur:

Das lichtempfindliche Silberhalogenidmaterial umfasst vorzugsweise einen Träger, eine härtende Schicht und eine lichtempfindliche Schicht in dieser Reihenfolge. Das lichtempfindliche Material kann jedoch auch einen Träger, eine lichtempfindliche Schicht und eine härtende Schicht in dieser Reihenfolge umfassen, wenn das Material zur Herstellung eines Farbprüfdrucks verwendet wird. Eine Klebeschicht ist zwischen der härtenden Schicht und der lichtempfindlichen Schicht in den oben erwähnten beiden Anordnungen vorgesehen. Das lichtempfindliche Material kann aus vier oder mehreren Schichten bestehen, wie z. B. einer härtenden Schicht, einer Klebeschicht, einer lichtempfindlichen Schicht und einer Überzugsschicht (einer bilderzeugungsbeschleunigenden Schicht). Ein Reduktionsmittel wird zur härtenden Schicht oder der lichtempfindlichen Schicht gegeben.
Die Komponenten der oben erwähnten Schichten werden vorzugsweise in den Schichten gleichmässig ohne die Verwendung von Mikrokapseln dispergiert.
Das lichtempfindliche Material kann ausserdem andere optionale Schichten aufweisen, wie z. B. eine abziehbare Schicht, eine Unterschicht und eine Zwischenschicht.
Bevorzugte Schichtstrukturen werden nachstehend unter Bezug auf die Zeichnungen beschrieben.
Fig. 1 ist eine Schnittansicht, die schematisch eine bevorzugte Ausführungsform eines lichtempfindlichen Silberhalogenidmaterials erläutert.
Das in Fig. 1 gezeigte lichtempfindliche Material umfasst einen Aluminiumträger (1), eine härtende Schicht (2), eine Klebeschicht (3), eine lichtempfindliche Schicht (4) und eine bilderzeugungsbeschleunigende Schicht (5) in dieser Reihenfolge. Die härtende Schicht (2) enthält eine ethylenisch ungesättigte polymerisierbare Verbindung (6) und ein ethylenisch ungesättigtes vernetzbares Polymer mit einer sauren Gruppe (7). Die Klebeschicht (3) enthält ein wasserlösliches synthetisches Polymer. Die Klebeschicht (3) hat die Funktion der Erhöhung der Adhäsion zwischen der härtenden Schicht (2) und der lichtempfindlichen Schicht (4). Die lichtempfindliche Schicht (4) enthält Silberhalogenid (9), ein Reduktionsmittel (10) und ein hydrophiles Polymer (11). Die bilderzeugungsbeschleunigende Schicht (5) enthält einen Basenvorläufer (12) und ein hydrophiles Polymer (13).
Fig. 2 ist eine Schnittansicht, die schematisch eine weitere bevorzugte Ausführungsform eines lichtempfindlichen Silberhalogenidmaterials erläutert.
Das in Fig. 2 gezeigte lichtempfindliche Material umfasst einen Aluminiumträger (21), eine härtende Schicht (22), eine lichtempfindliche Schicht (23) und eine bilderzeugungsbeschleunigende Schicht (24) in dieser Reihenfolge. Die härtende Schicht (22) enthält eine ethylenisch ungesättigte polymerisierbare Verbindung (25) und ein ethylenisch ungesättigtes Polymer mit einer aziden Gruppe (26). Die lichtempfindliche Schicht (23) enthält Silberhalogenid (27), ein Reduktionsmittel (28), ein wasserlösliches synthetisches Polymer (29) und ein hydrophiles Polymer (30). Die bilderzeugungsbeschleunigende Schicht (24) enthält einen Basenvorläufer (31) und ein hydrophiles Polymer (32).

Träger:

Der Träger kann aus Papier, synthetischem Papier, mit einem synthetischen Harz (z. B. Polyethylen, Polypropylen, Polystyrol) laminiertem Papier, einem Kunststoff- (z. B. Polyethylenterephthalat, Polycarbonat, Polyimid, Nylon, Cellulosetriacetat)-Film, einer Metall- (z. B. Aluminium, Aluminiumlegierung, Zink, Eisen, Kupfer)-Platte oder einem Papier oder einem mit dem Metall laminierten Kunststoffilm bestehen. Ausserdem kann das Metall auf das Papier oder den Plastikfilm zur Bildung des Trägers aufgedampft werden.
Wenn das lichtempfindliche Material zur Herstellung einer lithografischen Platte verwendet wird, besteht der Träger vorzugsweise aus einer Aluminiumplatte, einem Polyethylenterephthalatfilm, einem Polycarbonatfilm, einem Papier oder einem synthetischen Papier. Auch eine komplexe Folie kann als Träger verwendet werden. Beispielsweise kann eine Aluminiumfolie auf den Polyethylenterephthalatfilm laminiert werden.
Ein Aluminiumträger ist besonders bevorzugt. Der Aluminiumträger hat vorzugsweise eine Dicke im Bereich von 0,1 bis 0,5 mm.
Der Aluminiumträger wird vorzugsweise so behandelt, dass er eine rauhe Oberfläche oder eine hydrophile Oberfläche bildet (Körnungsbehandlung).
Die Behandlung für die rauhe Oberfläche kann durch eine elektrochemische und/oder eine mechanische Körnungsbehandlung durchgeführt werden. Nach der elektrochemischen Körnungsbehandlung wird ein Strom durch eine Aluminiumplatte in einer Elektrolytlösung aus Salzsäure oder Salpetersäure geleitet. Die mechanische Körnungsbehandlung schliesst eine Drahtbürstenmethode, eine Kugelkörnungsmethode und eine Bürstenkörnungsmethode ein. Bei der Drahtbürstenmethode wird die Oberfläche der Aluminiumplatte mit einem Metalldraht aufgekratzt. Bei der Kugelkörnungsmethode wird die Oberfläche der Aluminiumplatte mit körnenden Kugeln und einem Körnungsmittel gekörnt. Bei der Bürstenkörnungsmethode wird die Oberfläche mit einer Nylonbürste und einem Körnungsmittel gekörnt.
Die gekörnte Aluminiumplatte wird dann chemisch mit einer Alkalie oder einer Säure geätzt. Eine alkalische Ätzmethode ist industriell vorteilhaft. Beispiele für Alkalien schliessen Natriumcarbonat, Natriumaluminat, Natriummetasilicat, Natriumphosphat, Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid und Lithiumhydroxid ein. Die Alkalilösung hat vorzugsweise eine Konzentration im Bereich von 1 bis 50 Gew.-%. Die Temperatur der Alkalibehandlung liegt vorzugsweise im Bereich von 20 bis 100ºC. Die Behandlungsbedingungen werden vorzugsweise so eingestellt, dass die Menge des gelösten Aluminiums im Bereich von 5 bis 20 g/m² liegt.
Die Aluminiumplatte wird gewöhnlich mit einer Säure gewaschen, um Schmutz von der Oberfläche nach der Alkaliätzbehandlung zu entfernen. Beispiele für Säuren schliessen Salpetersäure, Schwefelsäure, Phosphorsäure, Chromsäure, Fluorwasserstoffsäure und Borfluorsäure ein.
Die Schmutzentfernungsbehandlung kann auch nach einem herkömmlichen Verfahren nach einer elektrochemischen Körnungsbehandlung durchgeführt werden. Beispielsweise kann eine Aluminiumplatte mit 15 bis 65 Gew.-% Schwefelsäure bei einer Temperatur im Bereich von 50 bis 90ºC behandelt werden.
Die oberflächenbehandelte Aluminiumplatte kann einer Anodisierungsbehandlung oder einer chemischen Behandlung unterworfen werden. Die Anodisierungsbehandlung kann nach einem herkömmlichen Verfahren durchgeführt werden. Genauer gesagt wird ein Gleichstrom oder Wechselstrom durch eine Aluminiumplatte in einer Lösung einer Säure zur Bildung einer anodischen Oxidschicht auf der Oberfläche der Platte durchgeleitet. Beispiele für Säuren schliessen Schwefelsäure, Phosphorsäure, Chromsäure, Oxalsäure, Sulfaminsäure und Benzolsulfonsäure ein. Die Bedingungen der Anodisierungsbehandlung hängen vom Inhalt der Elektrolytlösung ab. Die Konzentration der Elektrolytlösung liegt vorzugsweise im Bereich von 1 bis 80 Gew.-%, die Temperatur der Lösung liegt vorzugsweise im Bereich von 5 bis 70ºC, die Stromdichte liegt vorzugsweise im Bereich von 0,5 bis 60 A/dm², die Spannung liegt vorzugsweise im Bereich von 1 bis 100 V und die Zeit für die Elektrolyse liegt vorzugsweise im Bereich von 10 bis 100 sek.
Die Anodisierungsbehandlung wird vorzugsweise in Schwefelsäure bei hoher Stromdichte durchgeführt. Phosphorsäure wird ebenfalls vorzugsweise für die Anodisierungsbehandlung verwendet.
Nach der Anodisierungsbehandlung kann die Aluminiumplatte mit einem Alkalimetallsilicat behandelt werden. Beispielsweise kann die Aluminiumplatte in eine wässrige Natriumsilicatlösung eingetaucht werden. Eine Grundschicht kann auf dem Aluminiumträger vorgesehen werden, um die Adhäsion zwischen dem Träger und der härtenden Schicht zu verbessern oder um die Druckcharakteristik zu verbessern.

Grundschicht:

Eine Grundschicht (undercoating layer) (hydrophile Schicht) kann nicht nur auf dem oben erwähnten Aluminiumträger, sondern auch auf einem Träger mit einer hydrophoben (oder nicht ausreichend hydrophilen) Oberfläche (z. B. einem Polymerfilm) vorgesehen werden.
Beispiele für die Komponenten der Grundschicht schliessen ein Polymer (z. B. Gelatine, Kasein, Polyvinylalkohol, Ethylcellulose, Phenolharz, Styrol, Maleinsäureanhydridharz, Polyacrylsäure), ein Amin (z. B. Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Tripropanolamin) und ein Salz davon (z. B. Chlorid, Oxalat, Phosphat), eine Monoaminomonocarbonsäure (z. B. Aminoessigsäure, Alanin), eine Oxyaminosäure (z. B. Serin, Threonin, Dihydroxyethylglycin), eine schwefelhaltige Aminosäure (z. B. Cystein, Cystin), eine Monoaminodicarbonsäure (z. B. Asparaginsäure, Glutaminsäure), eine aromatische Aminosäure (z. B. p-Hydroxyphenylglycin, Phenylalanin, Anthranilsäure), eine aliphatische Aminosulfonsäure (z. B. Sulfaminsäure, Cyclohexylsulfaminsäure) und eine (Poly) aminopolyessigsäure (z. B. Ethylendiamintetraessigsäure, Nitrilotriessigsäure, Iminodiessigsäure, Hydroxyethyliminodiessigsäure, Hydroxyethylethylendiaminessigsäure, Ethylendiamindiessigsäure, Cycloethylendiamintetraessigsäure, Diethylendiaminpentaessigsäure, Glykoletherdiamintetraessigsäure) ein. Alle oder ein Teil der sauren Gruppen der oben erwähnten Verbindungen können ein Salz (z. B. ein Natriumsalz, Kaliumsalz, Ammoniumsalz) bilden. Zwei oder mehr Komponenten können in Kombination verwendet werden.
Wenn ein Polymerfilm als Träger verwendet wird, werden anstelle einer Körnungsbehandlung eines Aluminiumträgers vorzugsweise hydrophile feine Partikel (z. B. Silicapartikel) zu einer hydrophilen Grundschicht zugegeben.

Härtende Schicht:

Die härtende Schicht enthält eine ethylenisch ungesättigte polymerisierbare Verbindung und ein ethylenisch ungesättigtes, vernetzbares Polymer. Die Schicht enthält vorzugsweise die polymerisierbare Verbindung und das vernetzbare Polymer.
Die Menge der ethylenisch ungesättigten polymerisierbaren Verbindung liegt vorzugsweise im Bereich von 3 bis 200 Gew.-% und stärker bevorzugt im Bereich von 10 bis 100 Gew.-%, bezogen auf die Menge des vernetzbaren Polymers.
Die Menge des vernetzbaren Polymers liegt vorzugsweise im Bereich von 30 bis 95 Gew.-% und stärker bevorzugt im Bereich von 50 bis 90 Gew.-%, bezogen auf die Menge der härtenden Schicht.
Die härtende Schicht hat vorzugsweise eine Dicke im Bereich von 0,1 bis 20 um, und stärker bevorzugt im Bereich von 0,3 bis 7 um.

Klebeschicht:

Die Klebeschicht enthält das oben erwähnte wasserlösliche synthetische Polymer.

Lichtempfindliche Schicht:

Die lichtempfindliche Schicht enthält Silberhalogenid und ein hydrophiles Polymer.
Die Silberhalogenid-Beschichtungsmenge liegt vorzugsweise im Bereich von 0,01 bis 5 g/m², stärker bevorzugt im Bereich von 0,03 bis 1 g/m², und am stärksten bevorzugt im Bereich von 0,05 bis 0,3 g/m².
Die lichtempfindliche Schicht hat vorzugsweise eine Dicke im Bereich von 0,07 bis 13 u, und stärker bevorzugt im Bereich von 0,2 bis 5 um.

Überzugsschicht und bilderzeugungsbeschleunigende Schicht:

Eine Überzugsschicht hat die Funktion, Sauerstoff in der Luft am Eindringen in die härtende Schicht zu hindern.
Sauerstoff fungiert als Polymerisationsinhibitor. Die Überzugsschicht kann als Schutzschicht fungieren. Die Überzugsschicht kann auch als bilderzeugungsbeschleunigende Schicht fungieren, die eine Komponente (z. B. eine Base, einen Basenvorläufer, ein Reduktionsmittel, einen Wärmeentwicklungsbeschleuniger) enthält, der die Bilderzeugungsreaktion beschleunigt.
Die Überzugsschicht oder die bilderzeugungsbeschleunigende Schicht hat vorzugsweise eine Dicke im Bereich von 0,2 bis 20 um, stärker bevorzugt im Bereich von 0,5 bis 7 um.

Zwischenschicht:

Eine Zwischenschicht kann zwischen den Schichten vorgesehen werden.
Die Zwischenschicht kann als Lichthof-Schutzschicht, als Filterschicht oder als Barriereschicht fungieren. Die Lichthof-Schutzschicht und die Filterschicht ist eine funktionale Schicht, die einen Farbstoff enthält. Die Barriereschicht hindert Komponenten daran, sich zwischen Schichten zu bewegen, wenn das lichtempfindliche Material gelagert wird. Die Zusammensetzung der Zwischenschicht wird je nach ihrer Funktion bestimmt.
Die Zwischenschicht hat vorzugsweise eine Dicke von nicht mehr als 10 um.

Silberhalogenid:

Silberhalogenid ist Silberchlorid, Silberbromid, Silberiodid, Silberchlorbromid, Silberchloriodid, Silberiodbromid oder Silberchloriodbromid in Form von Körnern.
Die Kristallform der Silberhalogenidkörner ist vorzugsweise kubisch oder tetradekaedrisch. Unregelmässige Formen und Mischformen sowie die oben erwähnten regelmässigen Formen können in den Silberhalogenidemulsionen verwendet werden. Beispiele für unregelmässige Formen schliessen kartoffelförmige Formen, sphärische Formen und tafelförmige Formen ein. Die Tafelform hat gewöhnlich ein Seitenverhältnis (Durchmesser pro Dicke) von 5 oder mehr.
Die Silberhalogenidkörner können extrem kleine Körner mit einem Korndurchmesser (Durchmesser der projizierten Fläche) von weniger als 0,01 um sein. Die Körner können auch relativ grosse Körner mit einem Durchmesser von mehr als 10 um sein. Eine monodisperse Emulsion ist gegenüber einer polydispersen Emulsion bevorzugt. Die monodisperse Emulsion ist in US-PSen 3 574 628, 3 655 394 und GB-PS 1 413 748 beschrieben.
Hinsichtlich der Kristallstruktur der Silberhalogenidkörner haben die einzelnen Körner eine homogene Halogenzusammensetzung oder eine heterogene Halogenzusammensetzung. In der heterogenen Zusammensetzung variiert die Zusammensetzung vom Aussenflächenteil gegenüber dem Innenteil. Die Körner können eine mehrschichtige Struktur haben. Ausserdem können die Silberhalogenidkörner mit anderen Silberhalogenidkörnern mit unterschiedlicher Halogenzusammensetzung durch epitaxiale Verbindung verbunden sein. Die Körner können mit anderen Verbindungen als Silberhalogeniden, wie z. B. Silberrhodanat und Bleioxid, verbunden werden.
Verschiedene Substanzen in Form eines Salzes können zu den Silberhalogenidkörnern gegeben werden. Beispiele dieser Substanzen schliessen Kupfer, Thallium, Blei, Cadmium, Zink, Chalcogene (z. B. Schwefel, Selen, Tellur), Gold und Edelmetalle der Gruppe VIII (z. B. Rhodium, Iridium, Eisen, Platin, Palladium) ein. Die Salze werden zu der Emulsion während der Kornbildung oder nach der Kornbildung nach einem herkömmlichen Verfahren gegeben. Das herkömmliche Verfahren ist in US-PSen 1 195 432, 1 191 933, 2 448 060, 2 628 167, 2 950 972, 3 488 709, 3 737 313, 3 772 031, 4 269 927 und Research Disclosure (RD) Nr. 13452 (Juni 1975) beschrieben.
Die Silberhalogenidkörner können mit Iridiumionen durch Zugabe einer wässrigen Lösung einer Iridiumverbindung zu einer Silberhalogenidemulsion dotiert werden. Beispiele von wasserlöslichen Iridiumverbindungen schliessen Hexachloriridium(III)salze und Hexachloriridium(IV)salze ein. Die Silberhalogenidkörner können auch mit Rhodiumionen durch Zugabe einer wässrigen Lösung einer Rhodiumverbindung zu einer Silberhalogenidemulsion dotiert werden. Beispiele für wasserlösliche Rhodiumverbindungen schliessen Rhodiumammoniumchlorid, Rhodiumtrichlorid und Rhodiumchlorid ein.
Die Iridiumverbindung oder die Rhodiumverbindung können in einer Halogenidlösung zur Bildung von Silberhalogenidkörnern gelöst werden. Die wässrige Iridium- oder Rhodiumlösung kann vor oder nach der Kornbildung verwendet werden. Ausserdem kann die Lösung zu der Emulsion zwischen der Kornbildung und einer chemischen Sensibilisierung zugegeben werden. Die Lösung wird vorzugsweise während des Schrittes der Kornbildung zugegeben. Die Iridium- oder Rhodiumionen werden vorzugsweise in einer Menge von 10&supmin;&sup8; bis 10&supmin;³ mol und stärker bevorzugt in einer Menge von 10&supmin;&sup7; bis 10&supmin;&sup5; mol pro Mol Silberhalogenid verwendet.
Zwei oder mehrere Arten von Silberhalogenidkörnern, die sich in der Halogenzusammensetzung, Kristallform, Korngrösse oder anderen Merkmalen voneinander unterscheiden, können in Kombination verwendet werden.
Das Silberhalogenid wird vorzugsweise in Form einer Emulsion verwendet. Die Silberhalogenidemulsion kann durch bekannte Verfahren hergestellt werden, die in Research Disclosure (RD) Nr. 17643, Seiten 22 bis 23 (Dezember 1978), (Emulsion preparation and types); und in Research Disclosure Nr. 18716, Seite 648 (November 1979) beschrieben sind.
Die Silberhalogenidemulsion wird im allgemeinen nach einer physikalischen Reifung und einer chemischen Sensibilisierung verwendet. Die Silberhalogenidkörner haben vorzugsweise einen niedrigen Schleierwert.
Verschiedene Additive können in den Reifungs- oder Sensibilisierungsschritten zugegeben werden. Die Additive sind beschrieben in Research Disclosure Nrn. 17643 und 18716. Der chemische Sensibilisator ist in Nr. 17643 (Seite 23) und Nr. 18716 (Seite 648, rechte Spalte) beschrieben. Andere Additive sind ebenfalls in Research Disclosure beschrieben. Zum Beispiel ist ein empfindlichkeitserhöhendes Mittel in Nr. 18716 (Seite 648, rechte Spalte) beschrieben. Ein Antischleiermittel und ein Stabilisator sind in Nr. 17643 (Seiten 24 bis 25) bzw. Nr. 18716 (Seite 649, rechte Spalte) beschrieben.
Die Silberhalogenidemulsion wird gewöhnlich einer Spektralsensibilisierung unterworfen. Verschiede Spektralsensibilisierungsmittel sind in der herkömmlichen Silberhalogenidfotografie bekannt. Beispiele für Sensibilisierungsfarbstoffe schliessen Cyaninfarbstoffe, Merocyaninfarbstoffe, Komplexmerocyaninfarbstoffe, holopolare Cyaninfarbstoffe, Hemicyaninfarbstoffe, Styrylfarbstoffe und Hemioxonolfarbstoffe ein.
Die Spektralsensibilisierungsfarbstoffe können zur Einstellung der Spektralempfindlichkeit des lichtempfindlichen Materials auf die Wellenlänge von zwei oder mehr Lichtquellen, wie verschiedenen Laserstrahlen (z. B. Halbleiterlaser, Heliumneonlaser, Argonionenlaser, Heliumcadmiumlaser, YAG-Laser) und einer Lichtemissionsdiode verwendet werden. Beispielsweise werden zwei oder mehr Sensibilisierungsfarbstoffe für Silberhalogenidkörner in einer lichtempfindlichen Schicht verwendet, so dass ein lichtempfindliches Material mit zwei oder mehreren Lichtquellen belichtet werden kann.
Ein Supersensibilisator kann zu der Emulsion zusätzlich zum Sensibilisierungsfarbstoff gegeben werden. Der Supersensibilisator hat selbst weder einen spektralsensibilisierenden Effekt noch eine Absorption von sichtbarem Licht, zeigt aber einen supersensibilisierenden Effekt des Sensibilisierungsfarbstoffs.
Spektralsensibilisierungsfarbstoffe sind in Research Disclosure Nr. 17643 (Dezember 1978), Seiten 23 bis 24, beschrieben. Supersensibilisatoren sind in Research Disclosure Nr. 18716 (November 1979), Seite 649, beschrieben.

Organische Metallsalze:

Ein organisches Metallsalz kann zur lichtempfindlichen Schicht, die das Silberhalogenid enthält, gegeben werden. Ein organisches Silbersalz ist besonders bevorzugt.
Beispiele für organische Einheiten der Salze schliessen Triazole, Tetrazole, Imidazole, Indazole, Thiazole, Thiadiazole und Azaindene ein. Aliphatische, aromatische oder heterocyclische Verbindungen mit einer Mercaptogruppe können ebenfalls als die organische Einheit verwendet werden. Ausserdem können Silbercarboxylate und Acetylensilber als das organische Silbersalz verwendet werden. Zwei oder mehrere organische Metallsalze können in Kombination verwendet werden.
Das organische Silbersalz wird im allgemeinen in einer Menge von 10&supmin;&sup5; bis 10 mol und vorzugsweise 10&supmin;&sup4; bis 1 mol, bezogen auf 1 mol Silberhalogenid, verwendet.

Reduktionsmittel:

Das Reduktionsmittel hat die Funktion der Reduzierung des Silberhalogenids oder die Funktion der Beschleunigung der Härtungsreaktion der polymerisierbaren Verbindung oder des vernetzbaren Polymeren.
Beispiele für Reduktionsmittel schliessen Hydrazine, Hydrochinone, Catechole, p-Aminophenole, p-Phenylendiamine, 3-Pyrazolidone, 3-Aminopyrazole, 4-Amino-5-pyrazolone, 5-Aminouracile, 4,5-Dihydroxy-6- aminopyrimidine, Reduktone, Aminoreduktone; o- oder p-Sulfonamidphenole, o- oder p-Sulfonamidonaphthole, 2,4- Disulfonamidphenole, 2,4-Disulfonamidnaphthole, o- oder p- Acylaminophenole, 2-Sulfonamidoindanone, 4-Sulfonamido-5- pyrazolone, 3-Sulfonamidoindole, Sulfonamidopyrazolobenzimidazole, Sulfonamidopyrazolotriazole und α-Sulfonamidoketone ein.
Die Reduktionsmittel (einschliesslich Verbindungen, die als Entwicklungsmittel oder Hydrazinderivat bezeichnet werden) sind beschrieben in den JP-OSen 61(1986)-183640, 61(1986)-183535, 61(1986)-228441, 62(1987)-70836; 61(1987)-86354, 62(1987)-86355, 62(1987)-206540, 62(1987)-264041, 62(1987)-109437, 63(1988)-254442, 1(1989)-267536, 2(1990)-141756, 2(1990)-141757, 2(1990)-207254, 2(1990)-262662 und 2(1990)-269352. Die Reduktionsmittel sind auch beschrieben in T. James, The Theory of the Photographic Process, 4. Auflage, Seiten 291 bis 334 (1977), Research Disclosure, Bd. 170, Nr. 17029, Seiten 9 bis 15 (Juni 1978), und Research Disclosure, Bd. 176, Nr. 17643, Seiten 22 bis 31 (Dezember 1978). Ausserdem kann ein Vorläufer eines Reduktionsmittels als Reduktionsmittel verwendet werden. Der Vorläufer (beschrieben in JP-OS 62(1987)-210446) kann ein Reduktionsmittel unter Erwärmen oder in Kontakt mit einer Base freisetzen.
Wenn das Reduktionsmittel basisch ist, d. h. ein Salz mit einer Säure bildet, kann das Reduktionsmittel in Form eines Salzes mit einer Säure verwendet werden. Die Reduktionsmittel können einzeln oder in Kombination verwendet werden. Verschiedene Interaktionen zwischen diesen Reduktionsmitteln können erwartet werden, wenn zwei oder mehrere Reduktionsmittel in Kombination verwendet werden. Eine der Interaktionen dient zur Beschleunigung der Reduktion des Silberhalogenids (oder des organischen Silbersalzes) durch die sogenannte Superadditivität. Eine andere Wechselwirkung kommt zustande durch Kettenreaktion zwischen der oxidierten Form eines Reduktionsmittels, das durch Reduktion des Silberhalogenids (oder eines organischen Silbersalzes) in einer Oxidationsreduktionsreaktion gebildet wird, und einem weiteren Reduktionsmittel. Die Kettenreaktion induziert die Polymerisation der polymerisierbaren Verbindung.
Das Reduktionsmittel wird in einer Menge von 0,1 bis 10 mol, und stärker bevorzugt 0,25 bis 2,5 mol, bezogen auf 1 mol Silberhalogenid, verwendet.

Antischleiermittel, Silberentwicklungsbeschleuniger, Stabilisator:

Das lichtempfindliche Material kann ein Antischleiermittel, einen Silberentwicklungsbeschleuniger oder einen Stabilisator enthalten. Beispiele dieser Verbindungen schliessen Mercaptoverbindungen (beschrieben in JP-OS 59(1984)-111636), Azole oder Azaindene (beschrieben in Research Disclosure Nr. 17643 (1978), Seiten 24 bis 25), stickstoffhaltige Carbonsäuren oder Phosphorsäuren (beschrieben in JP-OS 59(1984)-168442), Acetylenverbindungen (beschrieben in JP-OS 62(1987)-87957) und Sulfonamide (beschrieben in JP-OS 61(1987)-178232) ein.
Eine aromatische (eine carbo- oder heterocyclische) Mercaptoverbindung kann ebenfalls als Antischleiermittel oder Silberentwicklungsbeschleuniger verwendet werden. Eine aromatische heterocyclische Mercaptoverbindung, insbesondere ein Mercaptotriazolderivat, ist bevorzugt. Die Mercaptoverbindung kann in Form eines Mercaptosilbers (Silbersalzes) verwendet werden.
Diese Verbindungen werden im allgemeinen in einer Menge von 10&sup7; bis 1 mol, bezogen auf 1 mol Silberhalogenid, verwendet.

Hydrophiles Polymer:

Ein hydrophiles Polymer wird als Bindemittel einer hydrophilen Schicht, wie z. B. einer lichtempfindlichen Schicht, einer bilderzeugungsbeschleunigenden Schicht, einer Überzugsschicht und einer Zwischenschicht, verwendet.
Das hydrophile Bindemittel hat eine hydrophile Gruppe oder eine hydrophile Bindung in seinem Molekül. Beispiele für hydrophile Gruppen schliessen Carboxyl, Hydroxyl (einschliesslich Alkohol und Phenol), Sulfo, Sulfonamido, Sulfonimido und Amido ein. Beispiele für die hydrophile Bindung schliessen Urethanbindungen, Etherbindungen und Amidobindungen ein.
Die hydrophile Binderschicht ist vorzugsweise in Wasser löslich oder quillt in Wasser. Ein Polymer, das in Wasser quillt, hat eine Affinität zu Wasser, ist aber in Wasser aufgrund der vernetzten Struktur des Polymeren nicht löslich.
Natürliche oder synthetische Polymere können als hydrophiles Bindemittel verwendet werden. Die hydrophilen Polymere sind in JP-OS 5(1993)-249667 beschrieben.
Polyvinylalkohol ist ein besonders bevorzugtes hydrophiles Polymer. Polyvinylalkohol hat vorzugsweise einen hohen Verseifungsgrad von nicht weniger als 70%, stärker bevorzugt nicht weniger als 80%, besonders bevorzugt nicht weniger als 95%. Der Polyvinylalkohol mit dem hohen Verseifungsgrad hat einen sehr niedrigen Transmissionskoeffizienten von Sauerstoff.
Polyvinylalkohol kann durch Copolymerisation mit einem anderen Monomeren denaturiert werden. Ein Copolymer aus Vinylacetat und einem weiteren Monomer wird zur Bildung des denaturierten Polyvinylalkohols verseift. Beispiele des mit dem Vinylacetat copolymerisierten Monomeren schliessen Ethylen, höhere Carboxylatvinylverbindungen, einen höheren Alkylvinylether, Methylmethacrylat und Acrylamid ein.
Polyvinylalkohol kann auch nach der Verseifung denaturiert werden. Hydroxyl in Polyvinylalkohol kann durch Veretherung, Veresterung oder Acetylierung modifiziert werden.
Auch ein vernetzter Polyvinylalkohol kann verwendet werden. Beispiele für Vernetzungsmittel schliessen Aldehyde, Methylolverbindungen, Epoxyverbindungen, Diisocyanate, Divinylverbindungen, Dicarbonsäuren und anorganische Vernetzungsmittel (z. B. Borsäuren) ein.
Das Molekulargewicht von hydrophilen Polymeren liegt vorzugsweise im Bereich von 3000 bis 500.000.

Ethylenisch ungesättigte polymerisierbare Verbindung:

Die in der vorliegenden Erfindung verwendete polymerisierbare Verbindung hat eine ethylenisch ungesättigte Gruppe.
Beispiele für ethylenisch ungesättigte, polymerisierbare Verbindungen schliessen Acrylsäuren, deren Salze, Acrylester, Acrylamide, Methacrylsäuren, deren Salze, Methacrylester, Methacrylamide, Maleinsäureanhydrid, Maleinsäureester, Itaconsäureester, Styrole, Vinylether, Vinylester, N-Vinyl-heterocyclische Verbindungen, Allylether, Allylester und Derivate davon ein.
Acrylsäureester und Methacrylsäureester sind bevorzugt. Beispiele für (Meth)acrylsäureester schliessen Pentaerythrittetra(meth)acrylat, Trimethylolpropantri(meth)acrylat, Dipentaerythrithexa(meth)acrylat, Polyester(meth)acrylat und Polyurethan(meth)acrylat ein.
Zwei oder mehrere ethylenisch ungesättigte, polymerisierbare Verbindungen können in Kombination verwendet werden.

Hydrophobes Polymer mit azider Gruppe:

Eine härtende Schicht enthält vorzugsweise ein ethylenisch ungesättigtes, vernetzbares Polymer, das eine vernetzbare funktionelle Gruppe aufweist. Die vernetzbare funktionelle Gruppe kann in die Hauptkette oder in die Seitenkette des Polymermoleküls eingeführt werden. Die vernetzbare funktionelle Gruppe kann auch in das Polymer durch Copolymerisation eingeführt werden.
Beispiele für das Polymer mit einer ethylenisch ungesättigten Bindung in seiner Hauptkette schliessen Poly-1,4-butadien, Poly-1,4-isopren und natürliche oder synthetische Kautschuke ein. Beispiele für ein Polymer mit einer ethylenisch ungesättigten Bindung in seiner Seitenkette schliessen Polymere der Acryl- oder Methacrylester oder Amide mit einem spezifischen Rest ein, was ein R aus -COOR (Ester) oder -CONHR (Amid) bedeutet. Beispiele für spezifische Reste schliessen -(CH&sub2;)n-CR¹=CR²R³, -(CH&sub2;O)n-CH&sub2;CR¹=CR²R³, -(CH&sub2;CH&sub2;O)n-CH&sub2;CR¹=CR²R³, -(CH&sub2;)n-NH-CO-O-CH&sub2;CR¹=CR²R³, (CH&sub2;)n-O-CO-CR¹=CR²R³ und -(CH&sub2;CH&sub2;O)n-X ein. In den Formeln sind R¹, R² und R³ jeweils unabhängig Wasserstoff, ein Halogenatom, eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkoxygruppe und eine Aryloxygruppe. Die Zahl der Kohlenstoffatome, die in R¹, R² oder R³ enthalten sind, beträgt nicht mehr als 20. R¹ und R² oder R³ können zu einem Ring kombiniert werden. In den Formeln ist n eine ganze Zahl von 1 bis 10. X ist Dicyclopentadienyl.
Beispiele für Esterreste schliessen -CH&sub2;CH=CH&sub2; (beschrieben in JP-OS 7(1995)-21633), -CH&sub2;CH&sub2;O-CH&sub2;CH=CH&sub2;, -CH&sub2;C(CH&sub3;)=CH&sub2;, -CH&sub2;CH=CH-C&sub6;H&sub5;, -CH&sub2;CH&sub2;OCOCH=CH-C&sub6;H&sub5;, -CH&sub2;CH&sub2;-NHCOO-CH&sub2;CH=CH&sub2; und -CH&sub2;CH&sub2;O-X (worin X Dicyclopentadienyl ist) ein. Beispiele für Amidreste schliessen -CH&sub2;CH=CH&sub2;, -CH&sub2;CH&sub2;-1-Y (worin Y Cyclohexen ist) und -CH&sub2;CH&sub2;-OCO-CH=CH&sub2; ein.
Das vernetzbare Polymer wird durch Zugabe eines freien Radikals zur ungesättigten Bindung (oder Gruppe) gehärtet. Das freie Radikal fungiert als Polymerisationsinitiator oder Kettenverlängerer. Die Polymere werden miteinander direkt oder durch Kettenreaktion einer polymerisierbaren Verbindung vernetzt. Das Polymer kann auch durch Reaktion von Polymerradikalen, die durch Entfernung eines Atoms von den Polymeren (z. B. ein Wasserstoff, der an ein der ungesättigten Bindung benachbartes Kohlenstoffatom gebunden ist) durch ein freies Radikal gebildet werden, vernetzt werden.
Ein nicht-vernetzbares (oder schwach vernetzbares) hydrophobes Polymer kann anstelle des vernetzbaren Polymers als Binder für die härtende Schicht verwendet werden. Beispiele für nicht-vernetzbare, hydrophobe Polymere schliessen Polyacrylsäureester, Polymethacrylsäureester (z. B. Polymethylmethacrylat, Polybenzylmethacrylat), Polyacrylamide und Polymethacrylamide ein. Diese Polymere haben einen gesättigten aliphatischen Rest oder aromatischen Rest anstelle des oben erwähnten, ethylenisch ungesättigten Rests (R).
Weitere Beispiele von nicht-vernetzbaren Polymeren schliessen Polyacrylsäureester, Polymethacrylsäureester, Polyvinylacetat, Polyvinylchlorid, Polyvinylidenchlorid, Polyacrylnitril, Polymethacrylnitril, Polyethylen, Polyvinylpyridin, Polyvinylimidazol, Polyvinylbutyral, Polyvinylformal, Polyvinylpyrrolidon, chloriertes Polyethylen, chloriertes Polypropylen, Polyester, Polyamide, Polyurethane, Polycarbonate, Celluloseether (z. B. Ethylcellulose) und Celluloseester (z. B. Triacetylcellulose, Diacetylcellulose, Celluloseacetatbutyrat) ein.
Das oben erwähnte hydrophobe (vernetzbare oder nicht- vernetzbare) Polymer hat vorzugsweise eine azide Gruppe.
Beispiele für azide funktionelle Gruppen schliessen Carboxyl, Säureanhydridgruppen, phenolisches Hydroxyl, Sulfo, Sulfonamido und Sulfonimido ein. Die sauren funktionellen Gruppen können in das Polymer durch Copolymerisation mit einem sauren Monomer eingeführt werden. Beispiele für azide Monomere schliessen Acrylsäure, Methacrylsäure, Styrolsulfonsäure und Maleinsäureanhydrid ein. Die Menge des Monomeren mit der sauren funktionellen Gruppe im Copolymer liegt vorzugsweise im Bereich von 1 bis 60 mol-%, stärker bevorzugt im Bereich von 5 bis 50 mol-% und am stärksten bevorzugt im Bereich von 10 bis 40 mol-%.
Das Molekulargewicht des hydrophoben Polymeren liegt vorzugsweise im Bereich von 1000 bis 500.000. Zwei oder mehrere Polymere können in Kombination verwendet werden.

Base oder Basenvorläufer:

Das lichtempfindliche Material enthält vorzugsweise eine Base oder einen Basenvorläufer.
Verschiedene organische oder anorganische Basen und deren Vorläufer (z. B. vom Decarboxylierungstyp, thermischen Zersetzungstyp, Reaktionstyp, Komplexsalz-Bildungstyp, Dissoziationstyp) können im lichtempfindlichen Material verwendet werden. Ein Basenvorläufer ist gegenüber einer Base im Hinblick auf Stabilität des lichtempfindlichen Materials bevorzugt.
Ein Beispiel eines Basenvorläufers vom Decarboxylierungstyp ist ein Salz einer organischen Säure mit einer Base, die unter Erwärmung decarboxyliert (beschrieben in den JP-OSen 59(1984)-180537, 61(1986)-313431, 63(1988)-316760, 64(1989)-68746). Ein Beispiel für Basenvorläufer vom thermischen Zersetzungstyp ist eine Harnstoffverbindung, beschrieben in JP-OS 63(1988)-96159). Ein Beispiel für Basenvorläufer vom Reaktionstyp ist ein Übergangsmetallacetylid (beschrieben in JP-OS 63(1998)-25208). Ein Beispiel für einen Basenvorläufer vom Komplexsalzbildungstyp ist eine wasserunlösliche basische Metallverbindung (beschrieben in JP-OS 1(1989)-3282). Ein Beispiel eines Basenvorläufers vom Dissoziationstyp ist ein Alkalimetallsalz einer organischen Säure (z. B. Natriumacetat, das Natriumsalz eines Polymeren mit einer aziden Gruppe).
Der Basenvorläufer setzt vorzugsweise eine Base bei einer Temperatur im Bereich von 50 bis 200ºC und stärker bevorzugt im Bereich von 80 bis 160ºC frei.
Die Base oder der Basenvorläufer wird in einer Menge von vorzugsweise 0,1 bis 20 mol, und stärker bevorzugt 0,2 bis 10 mol, bezogen auf 1 mol Silberhalogenid, verwendet.

Wärmeentwicklungsbeschleuniger:

Das lichtempfindliche Material kann einen Wärmeentwicklungsbeschleuniger enthalten. Der Wärmeentwicklungsbeschleuniger kann zu jeder beliebigen Schicht des lichtempfindlichen Materials gegeben werden. Der Wärmeentwicklungsbeschleuniger hat eine Funktion der Erhöhung der Plastizität eines Polymeren (das in der härtenden Schicht oder der lichtempfindlichen Schicht enthalten ist). Der Beschleuniger hat die weitere Funktion der Beschleunigung der Dispersion der Komponenten in den Schichten, wenn er durch die Wärme des Entwicklungsprozesses gelöst wird.
Der Wärmeentwicklungsbeschleuniger ist als Weichmacher bekannt. Bekannte Weichmacher sind in Plastic Additives (auf Japanisch), Seiten 21 bis 63 (Taisei-sha); Plastics Additives, 2. Auflage; Hanser (Verlag), Kapitel 5, Seiten 251 bis 296, beschrieben.
Beispiele für Wärmeentwicklungsbeschleuniger schliessen Polyether (z. B. Polyethylenglykol, Polypropylenglykol), mehrwertige Alkohole (z. B. Glycerin, Hexandiol), Saccharide (z. B. Sorbit), Ameisensäureester, Harnstoffe (z. B. Harnstoff, Diethylharnstoff, Ethylenharnstoff), Amide (z. B. Acetamid, Propionamid, Malonamid), Sulfonamide, Harnstoffharze und Phenolharze ein. Zwei oder mehrere Wärmeentwicklungsbeschleuniger können in Kombination verwendet werden. Die Wärmeentwicklungsbeschleuniger können zu zwei oder mehreren Schichten des lichtempfindlichen Materials gegeben werden.
Die Menge des Wärmeentwicklungsbeschleunigers liegt vorzugsweise im Bereich von 0,05 bis 2 g/m² und stärker bevorzugt im Bereich von 0,1 bis 1 g/m².

Färbungsmittel:

Das lichtempfindliche Material kann ein Färbungsmittel enthalten. Das Färbungsmittel kann als Lichthofschutz- oder Antibestrahlungsfarbstoff wirken. Ausserdem kann ein gehärtetes Bild mit dem Färbungsmittel gefärbt werden. Verschiedene bekannte Farbstoffe und Pigmente können als Färbungsmittel verwendet werden, vorausgesetzt, dass das Färbungsmittel nicht die Empfindlichkeit und die Entwicklungsreaktion des Färbemittels beeinträchtigt. Der Farbton des Lichthofschutz- oder Antibestrahlungsfarbstoffs wird vorzugsweise im Bereich des Lichtes eingestellt, in dem das Silberhalogenid empfindlich ist.
Die Färbungsmittel (Farbstoffe, Pigmente, kolloidales Silber) sind in verschiedenen Publikationen, wie z. B. JP-OS 5(1993)-249667, Handbook of Color Index und New Handbook of Pigments, Nippon Ganryo Gijutsu Kyokai (1970), beschrieben.
Antibestrahlungsfarbstoffe mit geringen Auswirkungen auf die Empfindlichkeit des Silberhalogenids sind beschrieben in den JP-PSen 41(1966)-20389, 43(1968)-3504, 43(1968)-13168, JP-OS 2(1990)-39042, US-PSen 2 865 752, 3 423 207, 3 697 037 und GB-PSen 1 030 392, 1 100 546.
Die Menge des Färbungsmittels liegt gewöhnlich im Bereich von 0,01 bis 2 g/m² und vorzugsweise im Bereich von 0,05 bis 1 g/m².

Entwicklungsstoppmittel:

Das Entwicklungsstoppmittel kann in dem lichtempfindlichen Material verwendet werden, um konstant ein klares Bild, unabhängig von der Temperatur und Zeit, für den Entwicklungsprozess zu erhalten. Das Entwicklungsstoppmittel kann eine Verbindung mit einer Funktion der Neutralisierung einer Base oder der Reaktion mit einer Base sein, so dass die Konzentration der Base in der Schicht verringert und so die Entwicklung gestoppt wird. Das Mittel kann auch eine Verbindung sein, die die Funktion hat, mit Silber oder einem Silbersalz nach der geeigneten Entwicklung zu reagieren, so dass die Entwicklung unterdrückt wird.
Beispiele für Entwicklungsstoppmittel schliessen Säurevorläufer, die Säuren beim Erwärmen abspalten können, elektrophile Verbindungen, die eine Substitutionsreaktion mit einer coexistierenden Base beim Erwärmen eingehen können, stickstoffhaltige heterocyclische Verbindungen, Mercaptoverbindungen und Vorläufer davon ein. Die Entwicklungsstoppmittel sind beschrieben in den JP-OSen 62(1987)-253159, 2(1990)-42447 und 2(1990)-262661.

Oberflächenaktives Mittel:

Ein oberflächenaktives Mittel kann zu einer Schicht des lichtempfindlichen Materials gegeben werden. Verschiedene nicht-ionische, anionische, kationische oder fluorhaltige Tenside können verwendet werden. Das oberflächenaktive Mittel ist beschrieben in JP-OS 2(1990)-195356. Sorbitan, Polyoxyethylen und eine fluorhaltige Verbindung sind bevorzugt.

Mattierungsmittel:

Ein Mattierungsmittel kann zu einer Rückseitenschicht, einer Überzugsschicht oder einer bilderzeugungsbeschleunigenden Schicht gegeben werden, um die Adhäsion zwischen zwei lichtempfindlichen Materialien zu verhindern, wenn die Materialien übereinandergelegt werden.
Anorganische oder organische feste Partikel können als Mattierungsmittel verwendet werden. Beispiele für Mattierungsmittel schliessen Oxide (z. B. Siliciumdioxid), Erdalkalimetallsalze, natürliche Polymere (z. B. Stärke, Cellulose) und synthetische Polymere ein.
Die mittlere Partikelgrösse des Mattierungsmittels liegt vorzugsweise im Bereich von 1 bis 50 um. Die Menge des Mattierungsmittels liegt vorzugsweise im Bereich von 0,01 bis 1 g/m².

Polymerisationsinhibitor:

Ein Polymerisationsinhibitor kann zur polymerisierbaren Schicht gegeben werden, um eine Polymerisationsreaktion während der Lagerung des lichtempfindlichen Materials zu verhindern. Beispiele für Polymerisationsinhibitor schliessen Nitrosamine, Harnstoffe, Thioharnstoffe, Thioamide, Phenole und Amine ein.

Belichtungsschritt:

Das lichtempfindliche Silberhalogenid wird bildweise belichtet.
Die Wellenlänge des Lichtes entspricht der Spektralempfindlichkeit des Silberhalogenids. Gewöhnlich liegt die Wellenlänge im sichtbaren, nahen Ultraviolett- und nahen Infrarotbereich. Röntgenstrahlen und Elektronenstrahlen können ebenfalls als Licht verwendet werden.
Beispiele für Lichtquellen schliessen eine Wolframlampe, eine Halogenlampe, eine Xenonlampe, eine Xenonblitzlampe, eine Quecksilberlampe, eine Kohlebogenlampe, verschiedene Laser (z. B. Halbleiterlaser, Heliumneonlaser, Argonionenlaser, Heliumcadmiumlaser), lichtemittierende Dioden und Kathodenstrahlröhren ein.
Die Belichtungsmenge liegt gewöhnlich im Bereich von 0,001 bis 1000 uJ/cm² und vorzugsweise im Bereich von 0,01 bis 100 uJ/cm². Das lichtempfindliche Material kann durch einen transparenten Träger belichtet werden.
Die Belichtung des Silberhalogenids, d. h. die Bildung des Latentbildes, wird durch die der Temperatur und Feuchtigkeit während des Belichtungsschrittes beeinflusst. Demgemäss hängt die Empfindlichkeit von der Temperatur und Feuchtigkeit ab. Daher werden die Temperatur und Feuchtigkeit unter den Umständen der Lichtquelle und dem lichtempfindlichen Material vorzugsweise auf konstanten Werten kontrolliert. Ein Bildaufzeichnungsapparat mit einer Kontrollvorrichtung wird in den JP-OSen 3(1991)-63143 und 3(1991)-63637 offenbart.

Entwicklungsschritt:

Das lichtempfindliche Material wird gleichzeitig mit oder nach dem Belichtungsschritt entwickelt. Vorzugsweise wird das lichtempfindliche Material zur Entwicklung des Silberhalogenids erwärmt.
Die Wärmeentwicklung kann dadurch ausgeführt werden, dass man das lichtempfindliche Material auf ein erwärmtes Material (z. B. eine Metallplatte, Block, Walze) bringt. Das lichtempfindliche Material kann in eine erwärmte Flüssigkeit zur Entwicklung eingetaucht werden. Ausserdem kann das lichtempfindliche Material mit Infrarotstrahlen bestrahlt werden.
Die Oberfläche des lichtempfindlichen Materials kann zur Luft hin offen sein, während das Material von der Seite des Trägers erwärmt wird. Die Oberfläche des lichtempfindlichen Materials kann mit der Erwärmungsvorrichtung bedeckt sein, um zu verhindern, dass Luft in die Schichten eindringt. Wenn die Oberfläche offen zur Luft hin ist, enthält eine Schicht des lichtempfindlichen Materials vorzugsweise ein Polymer, das die Funktion hat, Luft am Eindringen in die Schichten zu hindern.
Die Erwärmungstemperatur liegt vorzugsweise im Bereich von 60 bis 200ºC und stärker bevorzugt im Bereich von 100 bis 150ºC. Die Erwärmungszeit liegt vorzugsweise im Bereich von 1 bis 180 Sekunden und stärker bevorzugt im Bereich von 5 bis 60 Sekunden.
Eine Vorerwärmungsbehandlung oder Nacherwärmungsbehandlung kann vor oder nach der Wärmeentwicklung ausgeführt werden. Die Temperatur der Vorerwärmung ist niedriger als die Wärmeentwicklungstemperatur und die Zeit ist kürzer als die Entwicklungszeit. Die Nacherwärmungsbehandlung kann ausgeführt werden, nachdem das Bild gebildet wurde, beispielsweise nach Entfernung der ungehärteten härtenden Schicht.

Entfernungsschritt:

Die ungehärtete Fläche kann selektiv zur Erzeugung eines Polymerbildes entfernt werden, was auf dem Unterschied in der Löslichkeit zwischen der gehärteten Fläche und der ungehärteten Fläche beruht. Vor dem Entfernungsschritt werden vorzugsweise hydrophile Schichten (lichtempfindliche Schicht, Klebeschicht, bilderzeugungsbeschleunigende Schicht) von dem lichtempfindlichen Material entfernt.
Das lichtempfindliche Material wird in ein Lösungsmittel (eine Ätzlösung) eingetaucht, um den Entfernungsschritt auszuführen. Eine alkalische Lösung wird vorzugsweise als Lösungsmittel verwendet.
Beispiele für die alkalische Verbindung schliessen Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Natriumcarbonat, Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Natriummetasilicat, Kaliummetasilicat, Natriumphosphat, Kaliumsilicat, Ammoniak und Aminoalkohole (z. B. Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin) ein.
Das Lösungsmittel ist vorzugsweise Wasser. Ein organisches Lösungsmittel kann in Kombination mit Wasser verwendet werden. Ein Alkohol und ein Ether werden vorzugsweise als organisches Lösungsmittel eingesetzt. Beispiele für Alkohole schliessen niedere Alkohole (z. B. Methanol, Ethanol, Propanol, Butanol), Alkohole mit einer aromatischen Gruppe (z. B. Benzylalkohol, Phenethylalkohol), mehrwertige Alkohole (z. B. Ethylenglykol, Diethylenglykol, Triethylenglykol, Polyethylenglykol) und Aminoalkohole, wie oben als alkalische Verbindungen beschrieben, ein. Beispiele für Ether sind Cellosolven.
Das Lösungsmittel kann ausserdem andere Additive, wie oberflächenaktive Mittel und Entschäumungsmittel, enthalten.
Das erhaltene Bild kann als Druckplatte, als Farbprüfdruck, als Hartkopie oder als Reliefbild erhalten werden.

Verwendung des lichtempfindlichen Silberhalogenidmaterials:

Das lichtempfindliche Silberhalogenidmaterial kann zur Herstellung einer Hartkopie, eines Reliefbildes oder einer Druckplatte verwendet werden. Das lichtempfindliche Material der vorliegenden Erfindung wird vorteilhaft zur Herstellung einer Druckplatte eingesetzt.

BEISPIEL 1

Herstellung eines Aluminiumträgers:

Die Oberfläche einer Aluminiumplatte (gemäss JIS-A-1050) mit einer Dicke von 0,24 mm wurde mit einer Nylonbürste und einer wässrigen Bimssteinsuspension mit 400 mesh aufgerauht. Die Platte wurde mit Wasser gut abgewaschen. Die Aluminiumplatte wurde dann zum Ätzen in 10%-ige Natronlauge bei 70ºC 60 Sekunden lang eingetaucht. Die Platte wurde mit fliessendem Wasser gewaschen, dann mit 20%-iger Salpetersäurelösung neutralisiert und mit Wasser abgewaschen.
Die erhaltene Aluminiumplatte wurde einer elektrolytischen Oberflächenaufrauhungsbehandlung in einer 1%-igen Salpetersäurelösung mit 0,5% Aluminiumnitrat in einer anodisch-elektrischen Menge von 160 Coulomb/dm² unter Verwendung von sinuswellenverstärktem Wechselstrom unter Bedingungen einer Anodenspannung von 12,7 V und einem Verhältnis von kathodisch-elektrischer Menge zu anodisch- elektrischer Menge von 0,9 unterworfen. Die durchschnittliche Mittellinienhöhe (Ra) der Aluminiumplatte betrug 0,6 um.
Die Aluminiumplatte wurde in eine 1%-ige Natronlauge bei 40ºC 30 Sekunden eingetaucht. Dann wurde die Platte in 30% Schwefelsäure bei 55ºC 1 Minute eingetaucht. Ferner wurde die Platte einer Anodisierungsbehandlung in einer 20%-igen Schwefelsäurelösung bei einer Stromdichte von 2 A/dm² zur Bildung einer anodischen Oxidschicht mit einer Dicke von 2,5 g/dm² unterworfen. Die Platte wurde mit Wasser gewaschen und getrocknet und so ein Aluminiumträger erhalten.

Herstellung einer Pigmentdispersion:

Die folgende Pigmentdispersion wurde hergestellt:

Pigmentdispersion

Kupferphthalocyanin 15 g
Allylmethacrylat/Methacrylsäure-Copolymer (Copolymerisationsverhältnis = 80 : 20) 15 g
Methylethylketon 70 g

Bildung der härtenden Schicht:

Die folgende Beschichtungslösung wurde auf dem Träger aufgebracht und getrocknet, so dass eine härtende Schicht mit einer Trockendicke von 1,8 um gebildet wurde.

Beschichtungslösung der härtenden Schicht

Pentaerythritoltetraacrylat 2,0 g
Allylmethacrylat/Methacrylsäure-Copolymer (Copolymerisationsverhältnis = 70 : 30) 4,0 g
Propylenglykolmonomethylether 36,0 g
Pigmentdispersion 18,0 g
Bildung der Klebeschicht:
Die folgende Beschichtungslösung wurde auf der härtenden Schicht aufgebracht und getrocknet, so dass eine Klebeschicht mit einer Trockendicke von 0,05 um (Trockenbeschichtungsmenge: 0,05 g/m²) gebildet wurde. In der Synthese des Polymers mit der Grundeinheit (I-2) betrug die Menge der Dicarbonsäure 1 Gew.-% (etwa 100 mol-%), basierend auf der Menge des Diols. Das Gewichtsverhältnis der Alkylenoxideinheit, die als R ein Wasserstoffatom hat, zu der Alkylenoxideinheit, die als R Methyl hat, betrug 80 : 20.

Beschichtungslösung der Klebeschicht

Wasser 180 g
10 Gew.-% wässrige Polymerlösung, umfassend die Grundeinheit (I-2) 6,5 g
5 Gew.-% wässrige Lösung des folgenden Tensids 2,0 g Oberflächenaktives Mittel:

Herstellung der Silberhalogenidemulsion:

Gelatine, Kaliumbromid und Wasser wurden in ein Gefäss gegeben und bei Raumtemperatur auf pH 9,5 eingestellt. Nachdem die Mischung im Gefäss auf 55ºC erwärmt worden war, wurde die folgende Thioetherverbindung (2,0 · 10&supmin;³ mol, bezogen auf die Gesamtmenge Silbernitrat) zum Gefäss gegeben. Ausserdem wurde eine wässrige Silbernitratlösung und eine wässrige Kaliumbromidlösung, die ein Rhodiumammoniumchlorid enthielt (Molverhältnis von Rhodium zur Gesamtmenge von Kaliumiodid und Silbernitrat beträgt 4 · 10&supmin;&sup8; mol) zum Gefäss nach einer pAg- kontrollierten Double-Jet-Methode gegeben, während der pAg im Reaktionsgefäss auf 9,0 gehalten wurde, und so eine Silberiodbromidemulsion hergestellt. Die Emulsion wurde mit Schwefelsäure auf pH 6,0 eingestellt. Ferner wurde eine Kaliumbromidlösung mit Hexachloriridat(III)salz (Molverhältnis von Iridium zu Silber 5 · 10&supmin;&sup7; mol) zweimal zur Emulsion bei 55ºC und einem pAg von 9,3 nach einer Double-Jet-Methode zugegeben, so dass eine Silberiodbromidemulsion vom Kern/Schale-Typ mit der folgenden Zusammensetzung erhalten wurde.

Thioetherverbindung:

HO-CH&sub2;-CH&sub2;-S-CH&sub2;-CH&sub2;-S-CH&sub2;-CH&sub2;-OH
Kern: Silberiodbromid (Silberiodidgehalt: 8,5 mol-%)
Schale: reines Silberbromid
Kern/Schale: 3 : 7 (Silbermolverhältnis)
mittlerer Silberiodidgehalt: 2,55 mol-%
mittlere Korngrösse: 0,30 um
Die Körner der erhaltenen Emulsion waren monodispers. In der Emulsion haben 98% dar Körner eine Korngrösse im Bereich der mittleren Korngrösse ± 40%.
Nachdem die Emulsion entsalzt worden war, wurde eine Methanollösung der folgenden Sensibilisierungsfarbstoffe A und B (A : B = 2 : 1, Gesamtmenge: 8 · 10&supmin;&sup4; mol pro 1 mol Silberhalogenid) zur Emulsion gegeben. Die Emulsion wurde 20 Minuten stehen gelassen. Zu der Emulsion wurde das folgende Natriumsalz einer Thiolverbindung (6 · 10&supmin;&sup4; mol pro 1 mol Silberhalogenid) zugegeben. Die Emulsion wurde 5 Minuten gerührt, um eine Silberhalogenidemulsion herzustellen. Sensibilisierungsfarbstoff A: Sensibilisierungsfarbstoff B: Natriumsalz eines Thiols:

Herstellung einer Dispersion eines Reduktionsmittels:

In 90 g einer 10%-igen wässrigen Polyvinylalkohollösung (Kuraray Co., Ltd.) wurden 10 g Pulver des folgenden Reduktionsmittels unter Verwendung eines Dynomill- Dispersionsapparats dispergiert. Die Partikelgrösse des Reduktionsmittels war nicht grösser als etwa 0,5 um. Reduktionsmittel:

Bildung der lichtempfindlichen Schicht:

Die folgende Beschichtungslösung wurde auf der Klebeschicht zur Bildung einer lichtempfindlichen Schicht mit einer Trockendicke von 8 um aufgebracht und getrocknet.

Beschichtungslösung der lichtempfindlichen Schicht

10 Gew.-%-ige wässrige Polyvinylalkohollösung mit einem Verseifungsgrad von 79,5% (PVA-405, Kuraray Co., Ltd.) 10,5 g
0,11 Gew.-%-ige Methanollösung der folgenden Verbindung (S-1) 0,41 g
0,11 Gew.-%-ige Methanollösung der folgenden Verbindung (S-2) 0,41 g
Silberhalogenidemulsion 0,50 g
5 Gew.-%-ige wässrige Tensidlösung 0,40 g
Wasser 7,80 g
Dispersion des Reduktionsmittels 1,20 g (S-1): (S-2)

Herstellung einer Dispersion eines Basenvorläufers:

In 750 g einer 3 Gew.-%-igen wässrigen Polyvinylalkohollösung (PVA-205, Kuraray Co., Ltd.) wurden 250 g Pulver des folgenden Basenvorläufers unter Verwendung einer Dynomill-Dispersionsvorrichtung dispergiert. Die Partikelgrösse des Basenvorläufers war nicht grösser als etwa 0,5 um. Hasenvorläufer:

Bildung der bilderzeugungsbeschleunigenden Schicht:

Die folgende Beschichtungslösung wurde auf der lichtempfindlichen Schicht zur Ausbildung einer bilderzeugungsbeschleunigenden Schicht mit einer Trockendicke von 3,5 um aufgebracht und getrocknet.

Beschichtungslösung der bilderzeugungsbeschleunigenden Schicht

10 Gew.-%-ige wässrige Polyvinylalkohollösung mit einem Verseifungsgrad von 98,5% (PVA-105, Kuraray Co., Ltd.) 200,0 g
Basenvorläuferdispersion 1,25 g
5 Gew.-%-ige wässrige Tensidlösung 4,0 g

Bewertung der Adhäsion zwischen den Schichten:

Die Adhäsion zwischen der härtenden Schicht und der lichtempfindlichen Schicht wurde auf die folgende Weise ausgewertet.
Das lichtempfindliche Material wurde in Stücke mit einer Breite von 2 cm geschnitten. Ein handelsübliches Klebeband wurde fest auf der Oberfläche eine Probenstücks angebracht. Das Band wurde von dem Stück mit einer Geschwindigkeit von 40 mm/min in 180º-Richtung unter Verwendung einer Zugtestmaschine (Tensilone, Orientech Co., Ltd.) abgezogen. Das lichtempfindliche Material wurde zwischen der härtenden Schicht und der lichtempfindlichen Schicht getrennt. Die Abzieh-(Klebe)kraft zur Trennung betrug 110 g/2 cm.

Herstellung der alkalischen Lösung:

Die folgende alkalische Lösung wurde hergestellt und auf pH 13,5 eingestellt.

Alkalilösung

28 Gew.-%-ige wässrige Kaliumsilicatlösung 125,0 g
Kaliumhydroxid 15,0,g
Wasser 1750,0 g

Bilderzeugung:

Das lichtempfindliche Silberhalogenidmaterial wurde mit Licht von 670 nm durch einen scharfen Interferenzfilter belichtet. Die Lichtquelle war eine Xenon-Blitzlichtlampe. Die Lichtemissionszeit betrug 10&supmin;&sup4; sek. Die Belichtung (Energie auf der Oberfläche) betrug 2 uJ/cm².
Der Aluminiumträger des lichtempfindlichen Materials wurde auf eine heisse Platte gelegt. Das Material wurde auf die Platte gelegt, so dass das Material 30 Sekunden erhitzt wurde. So wurde das lichtempfindliche Material entwickelt.
Das lichtempfindliche Material wurde mit Wasser gewaschen, um die bilderzeugungsbeschleunigende Schicht, die lichtempfindliche Schicht und die Klebeschicht zu entfernen. Die härtende Schicht wurde mit der Alkalilösung durch eine Bürste in einer automatischen Entwicklungsmaschine geätzt. Das lichtempfindliche Material wurde mit Wasser gut gewaschen und so ein blaues Polymer-Reliefbild innerhalb der belichteten Fläche der härtenden Schicht gebildet.

BEISPIELE 2 BIS 4 UND VERGLEICHSBEISPIELE 1 BIS 11

Lichtempfindliche Silberhalogenidmaterialien wurden auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 hergestellt und ausgewertet, ausser dass die Beschichtungsmengen der Klebeschicht verändert wurden, wie in Tabelle 1 gezeigt wird (Beispiele 2 bis 4). Ferner wurde ein lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial hergestellt und auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 ausgewertet, ausser dass die Klebeschicht weggelassen wurde (Vergleichsbeispiel 1). Ferner wurden lichtempfindliche Silberhalogenidmaterialien auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 hergestellt und ausgewertet, ausser dass herkömmliche adhäsive Polymere, wie in Tabelle 1 gezeigt, als Polymer der Klebeschicht verwendet wurden (Vergleichsbeispiele 2 bis 11). Die Ergebnisse zeigt Tabelle 1. TABELLE 1

Anmerkung:

Bilderzeugung*: A: keine Probleme wurden im Bild beobachtet
B: weisse Auslassungen oder verbleibende Flecken wurden im Bild beobachtet (X-1): (X-2): (X-3): (X-4): (X-5): (X-6): (X-7): (X-8): (X-9): (X-10):

BEISPIELE 5 BIS 10

Lichtempfindliche Silberhalogenidmaterialien wurden auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 hergestellt und ausgewertet, ausser dass die in Tabelle 2 gezeigten Polymere als das Polymer der Klebeschicht verwendet wurden. Die Ergebnisse werden in Tabelle 2 dargestellt. TABELLE 2

Anmerkung:

Bilderzeugung*: A: keine Probleme wurden im Bild beobachtet
Polymer**: I-1: Die Menge an Dicarbonsäure zu Diol betrug 2 Gew.-% (etwa 100 mol-%)
I-2': Die Menge an Dicarbonsäure zu Diol betrug 1 Gew.-% (etwa 100 mol-%). Das Gewichtsverhältnis der Alkylenoxideinheit mit einem Wasserstoffatom als R zu der Alkylenoxideinheit mit Methyl als R betrug 85 : 15
I-4: Die Menge an Dicarbonsäure zu Diol betrug 2 Gew.-% (etwa 120 mol-%)
I-8: Die Menge an Dicarbonsäure zu Diol betrug 2 Gew.-% (etwa 200 mol-%). Das Gewichtsverhältnis der Alkylenoxideinheit mit einem Wasserstoffatom als R zu der Alkylenoxideinheit mit Methyl als R betrug 90 : 10
I-10: Die Menge an Diisocyanat zu Diol betrug 1 Gew. (etwa 150 mol-%)
I-14: Die Menge an Diisocyanat zu Diol betrug 1 Gew.-% (etwa 200 mol-%)

BEISPIEL 11

Eine härtende Schicht wurde auf einem Aluminiumträger auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 gebildet. Die folgende Beschichtungslösung wurde auf der härtenden Schicht zur Bildung einer lichtempfindlichen Schicht mit einer Trockenbeschichtungsmenge von 1,3 g/m² aufgebracht. Eine bilderzeugungsbeschleunigende Schicht wurde auf der lichtempfindlichen Schicht auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 ausgebildet. Das erhaltene lichtempfindliche Material wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 ausgewertet. Die Ergebnisse werden in Tabelle 3 dargestellt.

Beschichtungslösung der lichtempfindlichen Schicht

10 Gew.-%-ige wässrige Polyvinylalkohollösung mit einem Verseifungsgrad von 79,5% (PVA-405, Kuraray Co., Ltd.) 5,25 g
0,11 Gew.-%-ige Methanollösung der Verbindung (S-1) von Beispiel 1 0,41 g
0,11 Gew.-%-ige Methanollösung der Verbindung (S-2) von Beispiel 1 0,41 g
Silberhalogenidemulsion von Beispiel 1 0,50 g
5 Gew.-%-ige wässrige Lösung des Tensids von Beispiel 1 0,40 g
Reduktionsmitteldispersion 1,20 g
Wasser 7,80 g
10 Gew.-%-ige wässrige Polymerlösung, enthaltend die Grundeinheit (I-2) von Beispiel 1 5,25 g TABELLE 3

Anmerkung:

Bilderzeugung*: A: keine Probleme wurden im Bild beobachtet
Polymermenge**: Gewichtsverhältnis des Polymers zu Polyvinylalkohol in der lichtempfindlichen Schicht

Claims

1. Lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial, umfassend einen Träger, eine härtende Schicht und eine lichtempfindliche Schicht, wobei die härtende Schicht eine ethylenisch ungesättigte polymerisierbare Verbindung oder ein ethylenisch ungesättigtes vernetzbares Polymer enthält, die lichtempfindliche Schicht Silberhalogenid und ein hydrophiles Polymer enthält, und die härtende Schicht oder die lichtempfindliche Schicht ein Reduktionsmittel enthalten, wobei eine Klebeschicht, die ein wasserlösliches synthetisches Polymer enthält, zwischen der härtenden Schicht und der lichtempfindlichen Schicht vorgesehen ist, und das wasserlösliche synthetische Polymer eine Grundeinheit mit der Formel (I) in einer Menge von wenigstens 50 mol-% umfasst:

worin n1 und n2 jeweils unabhängig eine ganze Zahl von 10 bis 5000 sind; R¹ und R² jeweils unabhängig Wasserstoff, eine Alkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen oder eine Arylgruppe mit 6 bis 10 Kohlenstoffatomen sind, und die Gruppen R¹ und R² voneinander verschieden sein können; X -O-R&sup4;-O- oder -NR&sup5;- ist; R&sup4; eine Alkylengruppe mit 2 bis 20 Kohlenstoffatomen, eine Alkylenoxyalkylengruppe mit 4 bis 20 Kohlenstoffatomen, eine Arylengruppe mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen oder eine Aralkylengruppe mit 7 bis 20 Kohlenstoffatomen ist; R&sup5; eine Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen oder eine Arylgruppe mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen ist; Y¹ -CO- oder -CONH- ist; Y² -CO- oder -NHCO- ist; und R³ eine Alkylengruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen, eine Alkenylengruppe mit 2 bis 20 Kohlenstoffatomen, eine Arylengruppe mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen oder eine Aralkylengruppe mit 7 bis 20 Kohlenstoffatomen ist.

2. Lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial gemäss Anspruch 1, worin die Grundeinheit die Formel (Ia) hat:

worin ml und m² jeweils unabhängig eine ganze Zahl von 20 bis 3000 sind; R¹¹ und R¹² jeweils unabhängig Wasserstoff, Methyl, Ethyl oder Phenyl sind; und die Gruppen R¹¹ oder R¹² voneinander verschieden sein können; X¹&sup0; -O-R¹&sup4;-O- oder -NR¹&sup5;- ist; R¹&sup4; Ethylen oder Propylen ist; und R¹&sup5; eine Alkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen oder eine Arylgruppe mit 6 bis 10 Kohlenstoffatomen ist; Y¹¹ -CO- oder -CONH- ist; Y¹² -CO- oder -NHCO- ist; und R¹³ eine Alkylengruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen, eine Arylengruppe mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen oder eine Aralkylengruppe mit 7 bis 20 Kohlenstoffatomen ist.

3. Lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial gemäss Anspruch 1, worin die Klebeschicht ausserdem ein wasserlösliches Polysaccharid enthält.

4. Lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial gemäss Anspruch 1, worin die härtende Schicht die ethylenisch ungesättigte polymerisierbare Verbindung und das ethylenisch ungesättigte vernetzbare Polymer enthält.

5. Lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial gemäss Anspruch 1, worin das lichtempfindliche Silberhalogenidmaterial den Träger, die härtende Schicht, die Klebeschicht und die lichtempfindliche Schicht in dieser Reihenfolge umfasst.

6. Lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial gemäss Anspruch 1, worin das lichtempfindliche Silberhalogenidmaterial ausserdem eine bilderzeugungsbeschleunigende Schicht umfasst, die eine Base oder einen Basenvorläufer enthält.

7. Lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial gemäss Anspruch 6, worin das lichtempfindliche Silberhalogenidmaterial den Träger, die härtende Schicht, die Klebeschicht, die lichtempfindliche Schicht und die bilderzeugungsbeschleunigende Schicht in dieser Reihenfolge enthält.

8. Lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial, umfassend einen Träger, eine härtende Schicht und eine lichtempfindliche Schicht, wobei die härtende Schicht eine ethylenisch ungesättigte polymerisierbare Verbindung oder ein ethylenisch ungesättigtes vernetzbares Polymer enthält, die lichtempfindliche Schicht ein Silberhalogenid und ein hydrophiles Polymer enthält und die härtende Schicht oder die lichtempfindliche Schicht ein Reduktionsmittel enthält, wobei die lichtempfindliche Schicht ausserdem ein wasserlösliches synthetisches Polymer mit einer Grundeinheit der Formel (I) in einer Menge von wenigstens 50 mol-% enthält:

worin n1 und n2 jeweils unabhängig eine ganze Zahl von 10 bis 5000 sind; R¹ und R² jeweils unabhängig Wasserstoff, eine Alkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen oder eine Arylgruppe mit 6 bis 10 Kohlenstoffatomen sind, und die Gruppen R¹ und R² voneinander verschieden sein können; X -O-R&sup4;-O- oder -NR&sup5;- ist; R&sup4; eine Alkylengruppe mit 2 bis 20 Kohlenstoffatomen, eine Alkylenoxyalkylengruppe mit 4 bis 20 Kohlenstoffatomen, eine Arylengruppe mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen oder eine Aralkylengruppe mit 7 bis 20 Kohlenstoffatomen ist; R&sup5; eine Alkylgruppe mit bis 20 Kohlenstoffatomen oder eine Arylgruppe mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen ist; Y¹ -CO- oder -CONH- ist; Y² -CO- oder -NHCO- ist; und R³ eine Alkylengruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen, eine Alkenylengruppe mit 2 bis 20 Kohlenstoffatomen, eine Arylengruppe mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen oder eine Aralkylengruppe mit 7 bis 20 Kohlenstoffatomen ist.

9. Lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial gemäss Anspruch 8, worin die Grundeinheit die Formel (Ia) hat:

10. Lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial gemäss Anspruch 8, worin die lichtempfindliche Schicht ausserdem ein wasserlösliches Polysaccharid enthält.

11. Lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial gemäss Anspruch 8, worin die härtende Schicht die ethylenisch ungesättigte, polymerisierbare Verbindung und das ethylenisch ungesättigte vernetzbare Polymer enthält.

12. Lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial gemäss Anspruch 8, worin das lichtempfindliche Silberhalogenidmaterial den Träger, die härtende Schicht und die lichtempfindliche Schicht in dieser Reihenfolge umfasst.

13. Lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial gemäss Anspruch 8, worin das lichtempfindliche Silberhalogenidmaterial ausserdem eine bilderzeugungsbeschleunigende Schicht, die eine Base oder einen Basenvorläufer enthält, umfasst.

14. Lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial gemäss Anspruch 13, worin das lichtempfindliche Silberhalogenidmaterial den Träger, die härtende Schicht, die lichtempfindliche Schicht und die bilderzeugungsbeschleunigende Schicht in dieser Reihenfolge umfasst.