DE69130375D1 - Mehrfache Strahlaustastblendenvorrichtung und Herstellungsverfahren derselben - Google Patents
Mehrfache Strahlaustastblendenvorrichtung und Herstellungsverfahren derselbenInfo
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JPS6081750A (ja) * | 1983-10-11 | 1985-05-09 | Nec Corp | アパ−チヤ絞りとその製造方法 |
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US4980567A (en) * | 1988-03-30 | 1990-12-25 | Fujitsu Limited | Charged particle beam exposure system using line beams |
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DE8810468U1 (de) * | 1988-08-18 | 1988-10-13 | Pfrimmer-Viggo GmbH & Co KG, 8520 Erlangen | Schlauch für ein Infusionsgerät |
EP0404608B1 (de) * | 1989-05-19 | 1995-02-22 | Fujitsu Limited | Anordnung von Strahlaustastungsblenden, Verfahren zur Herstellung derselben, Gerät und Verfahren zur Belichtung von mit einem Strahl geladenen Teilchen |
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