DE4422049C2 - Ultramikroelektroden- oder Nanoden-Array für chemische und biochemische Analysen sowie Verfahren zu dessen Herstellung - Google Patents
Ultramikroelektroden- oder Nanoden-Array für chemische und biochemische Analysen sowie Verfahren zu dessen HerstellungInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Ultramikroelektroden- oder
Nanoden-Array für chemische und biochemische Analysen
sowie ein Verfahren zu dessen Herstellung.
Zur Durchführung von strömungsunabhängigen Messungen
wurden miniaturisierte Elektroden (Mikroelektroden,
Ultramikroelektroden und Nanoden) beschrieben (vergl.
K. Cammann, U. Lemke, A. Rohen, J. Sander, H. Wilken,
B. Winter: Chemo- und Biosensoren - Grundlagen und
Anwendungen, Angew. Chemie. 103 (1991), 519). Bei
solchen Mikroelektroden nimmt der Raum, aus dem die
Analytmoleküle an die Elektrodenoberflächen gelangen,
eine sphärische Form an. Aufgrund des sehr geringen
Stoffumsatzes liegt diese Zone bei Elektrodendurch
messern von < 10 µm innerhalb der Nernstschen Diffu
sionsschicht, die unabhängig von den Strömungsver
hältnissen in der Lösung als ruhend angesehen werden
kann.
Liegt der Elektrodendurchmesser unter 20 µm, so wer
den die Elektroden als Ultramikroelektroden bezeich
net. Bei Durchmessern unter 1 µm spricht man von Na
noden.
Da bei der Verwendung sehr kleiner Elektrodenoberflä
chen auch nur sehr kleine Meßströme fließen, werden
mehrere solcher Ultramikroelektroden oder Nanoden zu
Arrays parallel geschaltet.
Dies läßt sich mit den bekannten Dünn
schichtverfahren der Mikroelektronik bis zu Elektro
dendurchmessern von etwas weniger als 1 µm durchfüh
ren.
Es ist ebenso bekannt, daß Elektroden zu linearen
Arrays zusammengefaßt werden (US 51 18 403). Diese
Arrays werden aus Edelmetallelektroden auf isolieren
den Materialien wie Epoxidharz oder Glas hergestellt
und lassen sich in konventionelle Elektrodenkörper
einbauen.
Auch läßt sich ein Mikroelektroden-Array dadurch rea
lisieren, daß ein dünner Metallfilm mit einer Isola
tionsschicht überdeckt wird, die kleine Löcher ent
hält (JP 1-301159 (A). In: Patents Abstracts of Ja
pan, P-1010, February 21, 1990, Vol. 14/No. 94). Der
im Bereich der kleinen Löcher freiliegende Metallfilm
bildet die Mikroelektroden.
Nachteilig ist am beschriebenen Stand der Technik,
daß die Herstellung der Ultramikroelektroden-Arrays
und insbesondere der Nanoden-Arrays extreme Anforde
rungen an die Lithographieprozesse stellt. Dies be
grenzt einerseits die Miniaturisierung und führt an
dererseits zu hohen Herstellungskosten solcher
Arrays.
Der Erfindung liegt darum die Aufgabe zugrunde, Ul
tramikroelektroden- oder Nanoden-Arrays zu realisie
ren, bei denen die Durchmesser der Einzelelektroden
im Mikrometer- oder im Submikrometerbereich liegen,
die aber bei deren Herstellung keine extremen Anfor
derungen an die Lithographie stellen. Dies würde eine
Herstellung solcher Arrays sehr stark vereinfachen
und die Kosten stark senken.
Die Aufgabe wird in Bezug auf die Arrays durch die
kennzeichnenden Merkmale des Anspruchs 1 und in Bezug
auf das Herstellungsverfahren durch die Merkmale des
Anspruchs 4 gelöst. Die Unteransprüche geben vorteil
hafte Weiterbildungen an.
Erfindungsgemäß wird somit vorgeschlagen, daß sich
auf einer dreidimensional strukturierten Festkörper
oberfläche scharfe Spitzen oder Kanten befinden, die
mit einem Isolationsfilm überzogen sind, der an den
scharfen Spitzen oder Kanten kontrollierte Filmabris
se besitzt und im Bereich des Filmrisses die Fest
körperoberfläche frei liegt und ein Ultramikroelek
troden-Array oder Nanoden-Array darstellt.
Die mit der Erfindung erzielten Vorteile liegen ins
besondere darin, daß sich Ultramikroelektroden- und
Nanoden-Arrays realisieren lassen, bei denen die
Durchmesser der Einzelelektroden im Mikrometer- oder
im Submikrometerbereich liegen. Dabei werden keine
extremen Anforderungen an die Lithographie gestellt,
was die Herstellung solcher Arrays sehr stark verein
facht und die Kosten stark senkt.
In den Fig. 1 bis 3 sind Ausführungsformen der
Erfindung dargestellt.
Fig. 1 zeigt ein Substrat mit freiliegenden Spit
zen, die als Mikroelektroden eines Arrays
wirken;
Fig. 2 zeigt einen konventionellen Elektrodenkör
per, in den ein Mikroelektroden-Array ein
gebaut ist;
Fig. 3 zeigt ein Mikroelektroden-Array mit inte
grierten Referenzelektroden.
Die Fig. 1 zeigt ein Substrat 1, das zum Beispiel
aus Silizium besteht und dessen Oberfläche pyramiden
förmige oder kegelförmige Spitzen 2 besitzt, die z. B.
mit Hilfe bekannter anisotroper oder isotroper Ätz
verfahren hergestellt werden können. Diese dreidimen
sional strukturierte Oberfläche ist mit einer ersten
Isolationsschicht 3 und zusätzlich mit einer elek
trisch leitenden Schicht 4 überzogen.
Die Isolationsschicht 3 besteht zum Beispiel aus SiO₂
und zusätzlich aus einer Si₃N₄-Schicht oder einem
anderen isolierenden Überzug.
Die elektrisch leitende Schicht 4 wird z. B. aus Pla
tin, Gold oder anderen Materialien wie z. B. Graphit
hergestellt.
Das Aufbringen dieser Schichten erfolgt ebenfalls
nach den bekannten Verfahren der Dünnschicht- bzw.
Halbleitertechnologie.
Die elektrisch leitende Oberfläche 4 wird mit einer
zweiten Isolationsschicht 5 überzogen, die im Bereich
der scharfen Spitzen einen kontrollierten Filmabriß
besitzt. Im Bereich dieses Filmabrisses liegt die
elektrisch leitende Schicht 4 frei, so daß spitze
elektrisch parallel geschaltete Elektroden mit dem
projizierten Durchmesser d freiliegen.
Die Durchmesser d liegen je nach Prozeßführung zwi
schen 0,1 µm und 10 µm. Die Abstände zwischen den
Spitzen betragen 10 µm bis 500 µm.
Das Aufbringen der Isolationsschicht 5 erfolgt z. B.
durch Eintauchen in eine Polymerlösung oder durch
Aufsprühen einer Polymerlösung. An den scharfen Spit
zen kommt es zu einem Abriß des Isolationsfilms. Die
ser Abriß kann dadurch erzeugt werden, daß die Ober
fläche der in Fig. 1 gezeigten Struktur dem Dampf
eines Lösungsmittels ausgesetzt wird. Nach Abdampfen
des Lösungsmittels entsteht die verfestigte Isola
tionsschicht.
Es ist aber auch möglich, solche Isolationsschichten
5 ohne Lösungsmittel aus Photopolymeren herzustellen.
Nach dem Aufbringen aus der flüssigen Phase erfolgt
hier die Vernetzung durch Bestrahlung z. B. durch
UV-Licht.
Als Polymerlösung lassen sich z. B. auch die kommer
ziell erhältlichen Photoresiste verwenden, die in der
Dünnschicht- bzw. Halbleiterlithographie eingesetzt
werden.
Solche Ultramikroelektroden-Arrays oder Nanoden-Ar
rays nach Fig. 1 lassen sich z. B. in konventionelle
Elektrodenkörper für die Sauerstoffmessung nach Clark
einsetzen. Die Fig. 2 zeigt eine solche konventionel
le Elektrode aus einem Elektrodenschaft 6, der mit
einem Innenelektrolyt 7 gefüllt ist und mit einer
gaspermeablen Membran 8 gegenüber dem Meßmedium abge
schlossen ist.
Das Ultramikroelektroden-Array 9 nach Fig. 2 steht
mit den Spitzen in direktem Kontakt mit der gasperme
ablen Membran 8. Die Anode wird z. B. durch einen
chloridisierten Silberdraht 10 gebildet. Das Ultrami
kroelektroden-Array 9 steht mit der elektrischen Lei
tung 14 und die Anode 10 mit der elektrischen Leitung
15 in Kontakt.
Solche Sauerstoffelektroden können mit einer sehr
dünnen gaspermeablen Membran 8 ausgerüstet sein. Auf
grund ihrer günstigen Ultramikroelektroden-Eigen
schaften sind die Sauerstoffmessungen unabhängig vom
Strömungsverhalten im Meßmedium.
In der Fig. 3 ist ein vollständiger Sauerstoffsensor-Chip
gezeigt, der zusätzlich zu dem Ultramikroelek
troden-Array nach Fig. 1 mit einer Elektrolytgel
schicht 11, chloridisierten Silberanoden 12 und einer
gaspermeablen Membran 13 ausgerüstet ist.
Die Anoden 12 werden nach den bekannten Verfahren der
Dünnschicht- bzw. Halbleitertechnologie auf der Iso
lationsschicht 5 hergestellt und anschließend chlori
disiert.
Die Elektroden sind elektrisch alle parallel geschal
tet , d. h. sie bilden eine durchgehende Schicht, die
Löcher besitzt, durch die die Spitzen des Ultramikro
elektroden-Arrays hindurchtreten.
Die Elektrolytgelschicht 11 besteht z. B. aus einem
KCI-Gel, das auf die dreidimensionale Oberfläche auf
gegossen oder aufgesprüht wird.
Die gaspermeable Membran 13 wird ebenfalls aus einer
Polymerlösung aufgegossen, aufgeschleudert oder auf
gesprüht.
Claims (5)
1. Ultramikroelektroden- oder Nanoden-Array für
chemische und biochemische Analysen,
dadurch gekennzeichnet,
daß ein Substrat (1) aus Silizium eine Oberflä
che mit pyramidenförmigen oder kegelförmigen
Spitzen (2) besitzt, die mit Hilfe bekannter
anisotroper oder isotroper Ätzverfahren herge
stellt sind, daß ferner diese dreidimensional
strukturierte Oberfläche mit einer ersten Isola
tionsschicht (3) und zusätzlich mit einer elek
trisch leitenden Schicht (4) aus Edelmetall oder
Graphit überzogen ist und die erste Isolations
schicht (3) aus SiO₂ und zusätzlich aus einer
Si₃N₄-Schicht oder einem anderen isolierenden
Überzug besteht, daß ferner die elektrisch lei
tende Schicht (4) mit einer zweiten Isolations
schicht (5) überzogen ist, die im Bereich der
scharfen Spitzen (2) einen kontrollierten Film
abriß besitzt und im Bereich dieses Filmabrisses
die elektrisch leitende Schicht (4) frei liegt,
so daß spitze elektrisch parallel geschaltete
Mikroelektroden mit einem projizierten Durchmes
ser d freiliegen und daß ferner Elektrolytgel
schichten (11), Referenzelektroden (12) und gas
permeable Membranen (13) integriert sind.
2. Ultramikroelektroden- oder Nanoden-Array
für chemische und biochemische Analysen nach
Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß die projizierten
Durchmesser d der freiliegenden Mikroelektroden
zwischen 0,1 µm und 10 µm liegen und die Abstän
de zwischen den Spitzen 10 µm bis 500 µm betra
gen.
3. Ultramikroelektroden- oder Nanoden-Array für
chemische und biochemische Analysen nach den
Ansprüchen 1 und 2,
dadurch gekennzeichnet, daß eine Elektrolytgel
schicht (11), chloridisierte Silberanoden (12)
und eine gaspermeable Membran (13) angeordnet
sind, daß ferner die Mikroelektroden elektrisch
alle parallel geschaltet sind, so daß sie eine
durchgehende Schicht bilden, die Löcher besitzt,
durch die die Spitzen der Mikroelektroden hin
durchtreten, daß ferner die Elektrolytgelschicht
(11) aus einem KCI-Gel besteht, das auf die
dreidimensional strukturierte Oberfläche aufge
gossen oder aufgesprüht ist, und die gasperme
able Membran (13) ebenfalls aus einer Polymerlö
sung aufgegossen, aufgeschleudert oder aufge
sprüht ist.
4. Verfahren zur Herstellung eines Ultramikroelek
troden- oder Nanoden-Arrays für chemische und
biochemische Analysen nach wenigstens einem der
Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß das Aufbringen der
zweiten Isolationsschicht (5) durch Eintauchen
in eine Polymerlösung oder durch Aufgießen oder
durch Aufsprühen einer Polymerlösung erfolgt,
daß es dabei an den scharfen Spitzen zu einem
Abriß der zweiten Isolationsschicht (5) kommt
und dieser Abriß dadurch erzeugt wird, daß die
dreidimensional strukturierte Oberfläche dem Dampf eines
Lösungsmittels ausgesetzt wird.
5. Verfahren zur Herstellung eines Ultramikroelek
troden- oder Nanoden-Array für chemische und
biochemische Analysen nach einem der Ansprüche
1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Iso
lationsschicht (5) ohne Lösungsmittel aus Photo
polymeren hergestellt wird und nach dem Aufbrin
gen aus der flüssigen Phase die Vernetzung durch
Bestrahlung durch UV-Licht erfolgt.
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