DE4324817C2 - Hochfrequenz-IC-Baugruppe - Google Patents
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Hochfrequenz-
IC-Baugruppe mit Hochfrequenz-IC-Chips, welche in dem
Millimeterwellenfrequenzband oberhalb von 30 GHz betrieben
werden.
Die Fig. 16(a) und 16(b) stellen eine Draufsicht und
eine Schnittansicht einer bekannten dielektrischen Bau
gruppe für die Befestigung von Hochfrequenz-IC-Chips dar.
In diesen Figuren bezeichnet das Bezugszeichen 1 einen Bau
gruppenkörper, der aus einem dielektrischen Material be
steht, wie beispielsweise aus Aluminiumoxid oder Glas. Die
Größe des Baugruppenkörpers 1 beträgt 17 mm × 10 mm. Das
Bezugszeichen 2 bezeichnet einen Raum für die Befestigung
von IC-Chips (welcher im folgenden als Hohlraum bezeichnet
wird), wobei er eine Tiefe aufweist, die der Dicke des zu
befestigenden IC-Chips äquivalent ist. Der Hohlraum 2 ist
elektrisch mit einer Erdungsschicht 11 auf der hinteren
Oberfläche des Baugruppenkörpers 1 verbunden, und zwar über
Durchgangslöcher 3. Die Erdungsschicht 11 wird durch eine
Gold(Au)-Beschichtung oder aus etwas ähnlichem gebildet.
Eine Hohlraumwand 7 umgibt den Hohlraum 2. Hochfrequenz-
Übertragungsleitungen 4, d. h. miniaturisierte Streifen
leiter werden auf dem Baugruppenkörper 1 angeordnet, und
zwar in der Art, daß sie sich von gegenüberliegenden Enden
des Baugruppenkörpers 1 unter der Hohlraumwand 7 hindurch
so weit erstrecken, bis sie den Hohlraum 2 erreichen. Das
Bezugszeichen 12 bezeichnet Gleichstrom-Vorspannungsleitun
gen (DC bias lines).
Die Fig. 17(a) und 17(b) sind jeweils eine Drauf
sicht und eine Schnittansicht, in denen die dielektrische
Baugruppe dargestellt ist, auf der IC-Chips befestigt sind.
In diesen Figuren sind 2 Hochfrequenz-IC-Chips 8 in dem
Hohlraum 2 des dielektrischen Baugruppenkörpers 1 unterge
bracht, wobei ein Lötmetall oder ein leitender Haftstoff
verwendet worden ist. Anschließend werden, wie in Fig. 18
dargestellt, die Elektroden (nicht dargestellt) der IC-
Chips 8 untereinander und mit den Hochfrequenz-Über
tragungsleitungen 4 und den Gleichstrom-Vorspannungsleitun
gen 12 auf dem Baugruppenkörper 1 mittels Drähten oder Bän
dern verbunden, und zwar unter Verwendung einer keilförmig
ausgebildeten Klinge 10, wobei nachfolgend ein Deckel 6 auf
der Hohlraumwand 7 aufgebracht wird, um die IC-Chips 8 her
metisch abzuschirmen und die Abdeckung aus dem gleichen
Material besteht wie der Baugruppenkörper 1.
Gemäß dieser bekannten Hochfrequenz-IC-Baugruppe wird
der Hohlraum 2 in dem Baugruppenkörper 1 ausgebildet und
die IC-Chips 8 werden auf der Oberfläche des Hohlraumes 2
angeordnet, wobei die Drähte zur Verbindung der Über
tragungsleitungen 4 auf dem Baugruppenkörper und der IC-
Chips 8 verkürzt werden. Im allgemeinen sind in einem Hoch
frequenzband, und zwar insbesondere in dem Millimeter
wellenfrequenzband oberhalb von 30 GHz, die Reflexionsver
luste infolge von Impedanzfehlanpassungen und die Leiter
verluste infolge der Länge der Übertragungsleitungen signi
fikant groß. Daher ist es nötig, die Hohlraumwand 7' nahe
dem Hohlraum 2 anzuordnen, wie in Fig. 19 dargestellt, um
die Drähte 13 und die Übertragungsleitungen 4 zu verkürzen.
Wenn die IC-Chips in der konventionellen Baugruppe mit dem
Hohlraum 2 verbunden werden, dann wird, wie in Fig. 18
dargestellt, das Verbindungsverfahren in der Nähe der Hohl
raumwand durchgeführt, und zwar unter Verwendung eines
manuellen Verbindungswerkzeuges, wobei der Hohlraum 2 mit
Licht aus einer Richtung beleuchtet wird, die durch den
Pfeil 9 angedeutet ist, und der Vorgang mit den Augen der
Bedienperson beobachtet wird. Wenn die Hohlraumwand 7' sich
nahe an dem Hohlraum 2 befindet, dann wird das Werkzeug
bzw. die keilförmig geformte Klinge 10 an der Spitze des
Drahtverbinders in unerwünschter Art und Weise die Hohl
raumwand 7' berühren. Um diesen Kontakt zu verhindern, muß
die Hohlraumwand 7 von der Kante des Hohlraumes um mehr als
7 mm entfernt liegen, wodurch es schwierig wird, die Länge
der Drähte und der Übertragungsleitungen innerhalb der
Hohlraumwand zu verkürzen.
Darüber hinaus erhöht ein solch großer Raum innerhalb
der Hohlraumwand die Strahlungsverluste. Weiterhin wird, da
das Intervall zwischen dem Chip und der Hohlraumwand in der
Richtung senkrecht zu der Eingangs-Ausgangsrichtung des
Hochfrequenz-Signales nicht vermindert werden kann, eine
Hohlraumresonanz auftreten, welche in unerwünschter Art und
Weise die Hochfrequenz-Charakteristik beeinflussen wird.
Mehrteilige Chip-Abdeckungen mit getrennten Seiten
wänden und Deckel sind auch aus der US 4,953,001,
US 4,922,324 und US 5,113,161 bekannt. Aus der US 5,151,770
ist eine Hochfrequenz-IC-Baugruppe bekannt, bei der die Ab
deckung des IC in ein Substrat integriert ist.
Schließlich ist aus der US 4,996,588 eine Hochfrequenz-
bzw. Mikrowellen-IC-Baugruppe bekannt, bei der ein Mikro
wellen-IC auf einem Substrat angeordnet ist und durch eine
einteilige metallene Kappe abgedeckt ist. Die Kappe ist auf
einer metallenen Erdungsschicht angeordnet und die Leitun
gen zu dem IC erfolgen von der anderen Seite des Substrats
durch das Substrat hindurch. Nachteilig hierbei ist es, daß
nur einzelne ICs bereitgestellt werden, die über Bonddrähte
miteinander zu Gruppen verbindbar sind. Eine derartige An
ordnung von mehreren ICs ist daher nicht besonders stabil.
Demgegenüber ist es Aufgabe der vorliegenden Erfindung
eine Hochfrequenz-IC-Baugruppe zu schaffen, bei der eine
Mehrzahl von IC-Chips auf einem gemeinsamen Substrat ange
ordnet sind und die einzelnen ICs dennoch gut voneinander
isoliert sind.
Die Lösung dieser Aufgabe erfolgt durch die Merkmale
des Anspruch 1.
Demgemäß weist die vorliegende Erfindung den Vorteil
auf, daß eine Hochfrequenz-IC-Gruppe bereitgestellt wird,
die eine Mehrzahl von IC-Chips enthalten kann, in der die
IC-Chips auf effektive Art und Weise voneinander isoliert
sind, um die Strahlungsverluste zu vermindern.
Fig. 1(a) und 1(b) eine Draufsicht und eine Schnittansicht,
in der ein Baugruppenkörper zur Erläuterung der
vorliegenden Erfindung dargestellt ist und nur
eine Trennwand aufweist;
Fig. 2 ein schematisches Diagramm, um ein Verfahren
zur Befestigung eines IC-Chips auf dem Bau
gruppenkörper gemäß den Fig. 1(a) und 1(b)
zu erläutern;
Fig. 3 eine perspektivische Ansicht, in der eine Ab
deckung für den Baugruppenkörper mit nur einer
Trennwand gemäß den Fig. 1(a) und 1(b) dar
gestellt ist;
Fig. 4 eine perspektivische Ansicht, in der der Bau
gruppenkörper gemäß den Fig. 1(a) und 1(b),
auf dem IC-Chips befestigt sind, illustriert
ist, sowie die Abdeckung gemäß der Fig. 3, und
zwar bevor die IC-Chips mit der Abdeckung be
deckt sind;
Fig. 5 eine perspektivische Ansicht der zusammen
gesetzten Hochfrequenz-IC-Baugruppe den Figs.
1, 1(a), 1(b), 2, 3 und 4;
Fig. 6 eine Draufsicht, in der ein Baugruppenkörper
gemäß einer beispielhaften Ausführungsform der
vorliegenden Erfindung (insbesondere mit zwei
Trennwänden) dargestellt ist;
Fig. 7 eine perspektivische Ansicht, in der eine Ab
deckung für den Baugruppenkörper gemäß Fig. 6
dargestellt ist;
Fig. 8 eine perspektivische Ansicht, in der der Bau
gruppenkörper gemäß Fig. 6 illustriert ist, wo
bei IC-Chips auf ihm befestigt sind, sowie die
Abdeckung aus Fig. 7, und zwar bevor die IC-
Chips auf dem Baugruppenkörper mit der Ab
deckung bedeckt sind;
Fig. 9(a) bis 9(c) eine Draufsicht und Schnittansichten
eines weiteren Baugruppenkörpers zur Erläute
rung der vorliegenden Erfindung, wobei wiederum
nur eine Trennwand vorhanden ist;
Fig. 10 eine perspektivische Ansicht, in der eine Ab
deckung für den Baugruppenkörper gemäß den
Fig. 9(a) bis 9(c) illustriert ist;
Fig. 11 eine perspektivische Ansicht, in der der Bau
gruppenkörper gemäß den Fig. 9(a) bis 9(c)
illustriert ist, wobei IC-Chips auf ihm be
festigt sind, sowie die Abdeckung gemäß der
Fig. 10, und zwar bevor die IC-Chips mit der
Abdeckung bedeckt sind;
Fig. 12 bis 15 Darstellungen einer weiteren Hochfrequenz-
IC-Baugruppe zur Erläuterung der vorliegenden
Erfindung;
Fig. 16(a) und 16(b) eine Draufsicht und eine Schnittan
sicht, in der ein Baugruppenkörper einer Hoch
frequenz-IC-Baugruppe gemäß einem weiteren Bei
spiel dem Stand der Technik dargestellt ist;
Fig. 17(a) und 17(b) eine Draufsicht und eine Schnittan
sicht, in denen der Baugruppenkörper gemäß den
Fig. 16(a) und 16(b) illustriert ist, auf
dem IC-Chips befestigt sind;
Fig. 18 ein schematisches Diagramm, in dem ein Draht
kontaktierungs-Verfahren der IC-Chips auf dem
Baugruppenkörper gemäß dem Stand der Technik
illustriert ist;
Fig. 19 eine Draufsicht, in der IC-Chips einer Hochfre
quenz-IC-Baugruppe gemäß dem Stand der Technik
illustriert sind, und zwar um die durch ihre
Nähe entstandenen Probleme zu erläutern.
In der nachfolgenden Figurenbeschreibung werden ver
schiedene Hochfrequenz-IC-Baugrauppen beschrieben. Hierbei
stellt die Hochfrequenz-IC-Baugrauppen gemäß den Fig. 6
bis 8 eine beispielhafte Ausführungsform der Erfindung dar.
Die übrigen beschriebenen Hochfrequenz-IC-Baugrauppen sind
nicht vom Schutzumfang der Ansprüche umfaßt und dienen
lediglich zur allgemeinen Erläuterung der Erfindung.
Fig. 1(a) stellt eine Draufsicht auf einen Baugruppen
körper einer Hochfrequenz-IC-Baugrauppen zur Erläuterung
der vorliegenden Erfindung dar und Fig. 1(b) ist eine
Schnittansicht entlang der Linie A-A in Fig. 1(a). Wie aus
Fig. 1(a) zu ersehen ist, weist der Baugruppenkörper 1
keine Hohlräumwand auf, sondern ein Erdungsleitermuster 5
der die Bereiche für die Chipbefestigung 2 (im folgenden
als Hohlräume bezeichnet) umgibt. Das Erdungsleitermuster 5
ist elektrisch mit der Erdungsschicht 11 (grounding layer)
auf der hinteren Oberfläche des Baugruppenkörpers 1 über
Durchgangslöcher 3 verbunden. Das Bezugszeichen 41 bezeich
net eine Hochfrequenz-Signalübertragungsleitung, die zwi
schen den Hohlräumen 2 verläuft.
Fig. 3 ist eine perspektivische Ansicht, in der eine
Abdeckung für den Baugruppenkörper aus den Fig. 1(a) und
1(b) dargestellt ist. In Fig. 3 schaut das Innere der Ab
deckung 20 nach oben. Die Abdeckung 20 besteht aus einem
Deckenteil 21 und einer Seitenwand 22 (welche im folgenden
als Hohlraumwand bezeichnet wird). Ein Raum innerhalb der
Hohlraumwände 22 wird durch die Scheidewand 23 in zwei
Teile unterteilt, wodurch für zwei Chip-Gehäusekammern
25(a) und 25(b) gesorgt wird. Die Hohlraumwand 22 und die
Scheidewand 23 weisen dielektrische Teile 24 auf.
Die Abdeckung 20 besteht aus Metall oder aus einem
dielektrischen Material, so wie beispielsweise aus Plastik
oder aus einer Keramik. Wenn die Abdeckung 20 aus Metall
besteht, dann wird eine Keramik oder Ähnliches in den Tei
len der Abdeckung 20 eingesetzt, die die dielektrischen
Teile 24 bilden. Wenn die Abdeckung 20 aus Plastik oder aus
einer Keramik besteht, dann wird die Oberfläche der Ab
deckung selektiv mit Metall platiert, wobei die Teile 24
offen verbleiben.
Im folgenden wird das Verfahren zum Aufbau der Hoch
frequenz-IC-Baugruppe beschrieben.
Zunächst erst einmal wird, wie in Fig. 2 gezeigt, ein
Hochfrequenz-IC-Chip 8 mit dem Hohlraum 2 des Baugruppen
körpers 1 verbunden und eine Elektrode (nicht dargestellt)
auf dem IC-Chip 8 wird mit der Hochfrequenz-Signalüber
tragungsleitung oder der Gleichstrom-Vorspannungsleitung
(DC bias line) auf dem Baugruppenkörper 1 verbunden, und
zwar unter Verwendung von Drähten oder Bändern. Das Draht
verbindungsverfahren wird in der Nähe eines Endes des Chips
durchgeführt, und zwar während die Oberfläche mit Licht aus
der Richtung beleuchtet wird, die durch den Pfeil 9 ange
deutet ist und während der Vorgang von der Bedienperson be
obachtet wird. Selbst wenn die Elektrode des IC-Chips 8 mit
der Signal-Übertragungsleitung oder der Gleichstrom-Vor
spannungsleitung unter Verwendung von kurzen Drähten oder
Bändern 13 verbunden wird, wird der unerwünschte Kontakt
zwischen der Klinge 10 und der Hohlraumwand vermieden, da
keine Hohlraumwand auf dem Baugruppenkörper gegenwärtig
ist.
Fig. 4 ist eine perspektivische Ansicht, in der der
Baugruppenkörper 1 illustriert ist, wobei auf ihm zwei IC-
Chips 8 befestigt sind, sowie die Abdeckung 20 gemäß Fig.
2, und zwar bevor die IC-Chips 8 mit der Abdeckung 20 be
deckt sind. In Fig. 4 sind die Elektroden (nicht darge
stellt) des IC-Chips 8 mit den Hochfrequenz-Signalüber
tragungsleitungen 4 und 41 sowie mit den Gleichstrom-Vor
spannungsleitungen 12 unter Verwendung von Drähten oder
Bändern 13 verbunden. Wenn die Abdeckung 20 auf den Bau
gruppenkörper 1 aufgesetzt wird, dann liegen die dielektri
schen Teile 24 der Hohlraumwand 22 der Abdeckung 20 auf den
Signal-Übertragungsleitungen 4 und den Gleichstrom-Vor
spannungsleitungen 12 des Baugruppenkörpers 1 auf, und der
dielektrische Teil 24 der Scheidewand 23 liegt zwischen den
Hohlräumen 2 auf der Signal-Übertragungsleitung 41 auf. Die
Teile der Hohlraumwand 22 und der Scheidewand 23, die nicht
zu den dielektrischen Teilen 24 gehören, liegen jeweils auf
den Erdungsleitermustern 5 und 5a des Baugruppenkörpers 1
auf.
Die Fig. 5 ist eine perspektivische Ansicht, in der
eine Hochfrequenz-IC-Baugruppe dargestellt ist, wobei die
auf dem Baugruppenkörper 1 befestigten IC-Chips 8 mit der
Abdeckung 20 bedeckt sind. Die zwei IC-Chips 8 sind jeweils
innerhalb den Chip-Gehäusekammern 25a und 25b der Abdeckung
20 hermetisch abgedichtet und abgeschirmt. Der Raum zwi
schen der Hohlraumwand 22 und dem Chip 8 beträgt lediglich
0,2 bis 0,3 mm, was bedeutet, daß dieser Raum im Vergleich
zu konventionellen Strukturen erheblich vermindert worden
ist. Die Chip-Gehäusekammern 25a und 25b werden mit einem
inaktiven Gas gefüllt, so wie beispielsweise mit Stickstoff
oder mit Helium.
Bei der vorstehend beschriebenen Baugruppe weist die
Abdeckung 20 die Hohlraumwand 22 auf, und die IC-Chips auf
dem Baugruppenkörper 1 werden durch die Abdeckung 20 herme
tisch abgedichtet und abgeschirmt, so daß der unerwünschte
Kontakt zwischen der keilförmigen Klinge und der Hohlraum
wand während des Draht-Kontaktierungsverfahrens vermieden
wird. Daher werden die IC-Chips 8 mit den Signal-Über
tragungsleitungen 4 und 41 und den Gleichstrom-Vorspan
nungsleitungen 12 unter Verwendung von kürzeren Drähten
oder Bändern verbunden, und zwar verglichen mit denen, die
in konventionellen Strukturen verwendet werden, wodurch
sich die Reflexionsverluste, die Leitungsverluste und die
Strahlungsverluste vermindern. Zusätzlich wird, da der IC-
Chip 8 und die Hohlraumwand 22 sich dicht aneinander befin
den, die Hohlraumresonanz vermindert, wodurch sich die
Hochfrequenz-Charakteristiken verbessern.
Weiterhin wird, da die Abdeckung 20 sich in Kontakt mit
den Erdungsleitermustern 5 befindet, die auf der Oberfläche
des Baugruppenkörpers 1 ausgebildet sind, der Hochfrequenz-
Abschirmungseffekt erhöht.
Im folgenden wird eine Beschreibung einer Hochfrequenz-
IC-Baugruppe gemäß einer beispielhaften Ausführungsform der
vorliegenden Erfindung gegeben. In dieser Ausführungsform
wird die Scheidewand zum Trennen der zwei benachbarten IC-
Chips verdoppelt und die Hochfrequenz-Signalübertragungs
leitung auf dem Baugruppenkörper, die die zwei IC-Chips
verbindet, wird bei einer Position gekrümmt, die dem Raum
zwischen den Scheidewänden gegenüberliegt.
Die Fig. 6 ist eine Draufsicht, in der der Baugruppen
körper gemäß der bevorzugten Ausführungsform der vorliegen
den Erfindung dargestellt ist. In Fig. 6 werden gegenüber
liegende Enden der Hochfrequenz-Signalübertragungsleitung
42, die zwei benachbarte Hohlräume 2 verbindet, unter 90°-
Winkeln gekrümmt geführt, und zwar in einem Bereich
zwischen den Erdungsleitern 5b und 5c. Fig. 7 ist eine
perspektivische Ansicht, in der eine Abdeckung für den in
Fig. 6 gezeigten Baugruppenkörper dargestellt ist. Die
Abdeckung 20a weist zwei Scheidewände 23a und 23b auf, die
den Raum innerhalb der Hohlraumwand 22 in zwei Chip-Ge
häusekammern 25a und 25b aufteilen. Ein Raum 25c wird zwi
schen den Scheidewänden 23a und 23b erzeugt. Die Hohlraum
wand 22 und die Scheidewände 23a und 23b weisen dielektri
sche Teile 24 auf.
Die Fig. 8 ist eine perspektivische Ansicht, in der der
Baugruppenkörper 1 aus Fig. 6 illustriert ist, wobei zwei
IC-Chips 8 auf ihm befestigt sind, sowie die Abdeckung 20a
aus Fig. 7, und zwar bevor die IC-Chips 8 mit der Abdeckung
20a bedeckt sind. In Fig. 8 werden die Elektroden (nicht
dargestellt) der IC-Chips 8 mit den Hochfrequenz-
Signalübertragungsleitungen 4 und 42 und den Gleichstrom-
Vorspannungsleitungen 12 verbunden, und zwar unter Verwen
dung von Drähten oder Bändern 13. Wenn die Abdeckung 20a
auf dem Baugruppenkörper 1 aufgesetzt wird, dann liegen die
dielektrischen Teile 24 der Hohlraumwand 22 der Abdeckung
20a auf den Signal-Übertragungsleitungen 4 und den Gleich
strom-Vorspannungsleitungen 12 auf, und die dielektrischen
Teile 24 der Scheidewände 23a und 23b liegen auf der
Signal-Übertragungsleitung 42 auf, die die Chips 8 unter
einander verbindet. Diejenigen Teile der Hohlraumwand 22,
die nicht zu den dielektrischen Teilen 24 gehören, liegen
auf dem Erdungsleiter 5 auf und diejenigen Teile der
Scheidewände 23a und 23b, die nicht zu dem dielektrischen
Teil 24 gehören, liegen jeweils auf den Erdungsleitern 5b
und 5c auf.
Gemäß der beispielhaften Ausführungsform der vorliegen
den Erfindung wird, da die geerdeten Scheidewände 23a und
23b zwischen den benachbarten IC-Chips 8 vorhanden sind und
die Signal-Übertragungsleitung 42, die die IC-Chips 8
untereinander verbindet, in dem Bereich zwischen den
Scheidewänden 23a und 23b verbogen ist, die Isolation zwi
schen den IC-Chips 8 verbessert, und zwar verglichen mit
den Eigenschaften aller übrigen hier gezeigten Baugruppen,
wodurch die Strahlungsverluste weiter vermindert werden.
Im folgenden wird eine Beschreibung einer Hochfrequenz-
IC-Baugruppe gegeben, die zur weiteren Erläuterung der vor
liegenden Erfindung dient.
Die Fig. 9(a)-9(c) sind Diagramme, in denen ein Bau
gruppenkörper der Hochfrequenz-IC-Baugruppe dargestellt
ist, wobei die Fig. 9(a) eine Draufsicht ist, die Fig. 9(b)
ein Querschnitt ist, der der Fig. 9(a) entlang der Linie B-
B entnommen worden ist, und schließlich die Fig. 9(c) ein
Querschnitt ist, der der Fig. 9(b) entlang der Linie C-C
entnommen worden ist. Hierbei wird ein großer Teil der
Oberfläche des Baugruppenkörpers 1 mit einem Erdungs-
Leitermuster 51 bedeckt, das mit der Erdungsschicht 11 auf
der hinteren Oberfläche des Baugruppenkörpers 1 über Durch
gangslöcher 3 in Verbindung steht. Auf der Oberfläche des
Baugruppenkörpers 1, auf der kein Erdungs-Leitermuster 51
anwesend ist, ist die Signal-Übertragungsleitung bei jedem
Signaleingangs- und -ausgangsende in zwei Leitungen 4a und
4b aufgeteilt, und die Signal-Übertragungsleitung zwischen
den Hohlräumen 2 ist in zwei Leitungen 43a und 43b aufge
teilt. Diese Signal-Übertragungsleitungen 4a, 4b, 43a und
43b sind mittels Signal-Übertragungsleitungen 4c unter
einander elektrisch verbunden, die in dem Baugruppenkörper
1 eingesetzt bzw. vergraben sind, sowie mittels den Durch
gangslöchern 3. Die Gleichstrom-Vorspannungsleitung ist
gleichfalls in zwei Leitungen 12a und 12b auf der Ober
fläche des Baugruppenkörpers 1 aufgeteilt, wobei die
Leitungen 12a und 12b untereinander elektrisch mittels der
Vorspannungsleitung 12c verbunden sind, die in dem Bau
gruppenkörper 1 eingesetzt bzw. vergraben ist, sowie mit
tels den Durchgangslöchern 3. Erdungsleiter 51a werden bei
gegenüberliegenden Seiten der vergrabenen Übertragungs
leitung 4c angeordnet, um eine Koplanar-Linie zu bilden.
Bei der Herstellung dieser Struktur wird der Baugruppen
körper 1 beispielsweise in zwei Teile entlang der Linie C-C
aus Fig. 7(b) geteilt, die Übertragunsleitungen 4c, die
Erdungsleiter 51a und die Vorspannungsleitungen 12c werden
gebildet, und die zwei geteilten Teile werden erneut zusam
mengefügt.
Fig. 10 ist eine perspektivische Ansicht, in der eine
Abdeckung für den Baugruppenkörper gemäß den Fig. 9(a)-
9(c) dargestellt ist. Hierbei besteht die Abdeckung 20b aus
Metall oder einem dielektrischen Material, wie beispiels
weise aus einer Keramik, die mit Metall beschichtet wird.
Die Scheidewand 25 und die Hohlraumwand 22 weisen keinen
dielektrischen Teil auf.
Fig. 11 ist eine perspektivische Ansicht, in der der
Baugruppenkörper 1 gemäß den Fig. 9(a)-9(c) illustriert
ist, wobei zwei IC-Chips 8 auf ihm befestigt sind, sowie
die Abdeckung 20b aus Fig. 10, und zwar bevor die IC-Chips
8 mit der Abdeckung 20 bedeckt sind. Auf der Oberfläche des
Baugruppenkörpers 1 werden Elektroden (nicht dargestellt)
eines jeden der IC-Chips 8 mit den Hochfrequenz-Signalüber
tragungsleitungen 4a und 43a (43b) und den Gleichstrom-Vor
spannungsleitungen 12b verbunden, und zwar unter Verwendung
von Drähten oder Bändern 13. Weder die Signal-Übertragungs
leitung noch die Gleichstrom-Vorspannungsleitung sind in
einem Bereich zugegen, der mit der Abdeckung 20b in Kontakt
steht, sondern die Signal-Übertragungsleitungen 4c und die
Gleichstrom-Vorspannungsleitungen 12c sind in dem Bau
gruppenkörper gegenüberliegend dem Bereich vergraben, der
mit der Abdeckung 20b in Kontakt steht. In Fig. 11 sind aus
Vereinfachungsgründen die vergrabenen Gleichstrom-Vor
spannungsleitungen 12c weggelassen worden, und die ver
grabenen Signal-Übertragungsleitungen 4c sind partiell weg
gelassen.
Wenn die IC-Chips 8 mittels der Abdeckung 20b herme
tisch abgedichtet sind, wird eine Erdungsspannung an die
Abdeckung 20b über das Erdungsleitermuster 51 angelegt, wo
durch die IC-Chips 8 elektromagnetisch abgeschirmt werden.
Die vorstehend beschriebene Baugruppe zeichnet sich
durch eine einfache Struktur der Abdeckung 20b aus.
Im folgenden wird eine Beschreibung einer weiteren
Hochfrequenz-IC-Baugruppe gegeben, die zur Erläuterung der
vorliegenden Erfindung dient. Die Fig. 12 ist eine perspek
tivische Ansicht, in der eine weitere Abdeckung 20c darge
stellt ist. Die Struktur der Abdeckung 20c ist mit der der
Abdeckung 20 aus Fig. 3 identisch, mit der Ausnahme, daß
die Scheidewand 23 einen Schlitz 26 aufweist, und zwar an
stelle des dielektrischen Teiles 24, nämlich an einem Teil,
der mit der Hochfrequenz-Signalübertragungsleitung 41 in
Kontakt steht, wodurch ein Kurzschluß zwischen der Erdungs
spannung und dem Hochfrequenz-Signal vermieden wird.
Fig. 13 ist eine perspektivische Ansicht, in der ein
Baugruppenkörper dargestellt ist, auf dem IC-Chips be
festigt sind, sowie die Abdeckung 20c gemäß Fig. 12, und
zwar bevor die IC-Chips mit der Abdeckung 20c bedeckt wor
den sind. Der Baugruppenkörper ist mit dem Baugruppenkörper
1 aus den Fig. 1(a)-1(b) identisch. Gleichfalls sind in
Fig. 13 die Elektroden (nicht dargestellt) der IC-Chips 8
mit den Hochfrequenz-Signalübertragungsleitungen 4 und 41
und den Gleichstrom-Vorspannungsleitungen 12 verbunden, und
zwar unter Verwendung von Drähten oder Bändern 13.
Fig. 14 ist eine perspektivische Ansicht, in der eine
weitere herkömmliche Baugruppe dargestellt ist, wobei die
IC-Chips 8 auf dem Baugruppenkörper 1 hermetisch durch die
Abdeckung 20c abgedichtet sind. Obgleich die IC-Chips 8 je
weils mit den Chip-Gehäusekammern 25a und 25b der Abdeckung
20c bedeckt sind, sind die Kammern 25a und 25b infolge der
Tatsache, daß die Scheidewand 23 den Schlitz 26 aufweist,
räumlich miteinander verbunden.
Während in der Baugruppe gemäß Fig. 9-11 eine Signal-
Übertragungsleitung vom koplanaren Typ auf der Oberfläche
des Baugruppenkörpers gebildet wird, kann auch eine Signal-
Übertragungsleitung vom sog. Spalttyp eingesetzt werden. In
diesem Fall wird der Erdungsleiter 51 auf einer Seite der
Signal-Übertragungsleitungen 4a, 4b, 43a und 43b ausgebil
det, wie in Fig. 15a dargestellt, und die Erdungsleiter 51a
werden auf einer Seite der vergrabenen Signalübertragungs
leitungen 4c ausgebildet, wie in Fig. 15b dargestellt.
In der in den Fig. 6-8 beispielhaften vorstehend be
schriebenen Ausführungsform der Erfindung sind zwei IC-
Chips innerhalb der Baugruppe angeordnet; es wird darauf
hingewiesen, daß die Anzahl der IC-Chips nicht auf zwei be
schränkt ist.
Claims (6)
1. Hochfrequenz-IC-Baugruppe mit:
einem Baugruppenkörper (1), der dielektrisches Material aufweist;
einer Hochfrequenz-Signal-Übertragungsleitung (4, 42) und einer Energieversorgungsleitung (12), die auf der Ober fläche des Baugruppenkörpers (1) angeordnet sind;
einer geerdeten Abdeckung (20a) mit Kammern für die ICs, die auf der Oberfläche des Baugruppenkörpers angeordnet ist, um eine Mehrzahl von IC-Chips (8) luftdicht bzw. hermetisch einzuschließen, wobei die IC-Chips (8) elektrisch mit der Hochfrequenz-Signal-Übertragungsleitung (4, 42) und der Energieversorgungsleitung (12) verbunden sind, dadurch gekennzeichnet, daß
die Abdeckung umfaßt:
einen ebenen Teil (21), der die Oberseite der IC-Chips (8) überdeckt, mit
Seitenwänden (22), die formschlüssig zu dem ebenen Teil (21) ausgebildet sind und die IC-Chips rundum umschließen, und
zwei Trennwände (23a, 23b) zwischen den IC-Chips (8), die einen dazwischenliegenden Hohlraum (25c) umschließen,
wobei die IC-Chips (8) untereinander über gekrümmt auf der Oberfläche des Baugruppenkörpers zwischen den Trennwänden verlaufende Hochfrequenz-Signal-Übertragungsleitungen (42) verbunden sind.
einem Baugruppenkörper (1), der dielektrisches Material aufweist;
einer Hochfrequenz-Signal-Übertragungsleitung (4, 42) und einer Energieversorgungsleitung (12), die auf der Ober fläche des Baugruppenkörpers (1) angeordnet sind;
einer geerdeten Abdeckung (20a) mit Kammern für die ICs, die auf der Oberfläche des Baugruppenkörpers angeordnet ist, um eine Mehrzahl von IC-Chips (8) luftdicht bzw. hermetisch einzuschließen, wobei die IC-Chips (8) elektrisch mit der Hochfrequenz-Signal-Übertragungsleitung (4, 42) und der Energieversorgungsleitung (12) verbunden sind, dadurch gekennzeichnet, daß
die Abdeckung umfaßt:
einen ebenen Teil (21), der die Oberseite der IC-Chips (8) überdeckt, mit
Seitenwänden (22), die formschlüssig zu dem ebenen Teil (21) ausgebildet sind und die IC-Chips rundum umschließen, und
zwei Trennwände (23a, 23b) zwischen den IC-Chips (8), die einen dazwischenliegenden Hohlraum (25c) umschließen,
wobei die IC-Chips (8) untereinander über gekrümmt auf der Oberfläche des Baugruppenkörpers zwischen den Trennwänden verlaufende Hochfrequenz-Signal-Übertragungsleitungen (42) verbunden sind.
2. Hochfrequenz-IC-Baugruppe nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Abdeckung (20) elektrisch leitend ist
und ein Erdungsmuster (5) auf einem Bereich des Baugruppen
körpers (1) angeordnet ist, der mit der Abdeckung (20) in
Kontakt steht.
3. Hochfrequenz-IC-Baugruppe nach Anspruch 1 oder 2, da
durch gekennzeichnet, daß die Seitenwände (22) der Ab
deckung (20) isolierende Teile (24) enthalten, und zwar an
Positionen, die mit der Hochfrequenz-Signal-Übertragungs
leitung (4, 42) und der Energieversorgungsleitung (12) in
Kontakt stehen.
4. Hochfrequenz-IC-Baugruppe nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die zwei Trennwände
(23a, 23b) isolierende Teil (24) oder Schlitze an Positio
nen aufweisen, die der Signal-Übertragungsleitung (42)
gegenüberliegen.
5. Hochfrequenz-IC-Baugruppe nach Anspruch 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß das Erdungsmuster (51) auf einem Bereich
auf der Oberfläche des Baugruppenkörpers (1) angeordnet
ist, in dem der IC-Chip (8) die Hochfrequenz-Signal-Über
tragungsleitung (4a, 4b, 43a, 43b) und die Energieversor
gungsleitung (12a, 12b) nicht anwesend sind, und daß Teile
der Hochfrequenz-Signal-Übertragungsleitung (4c) und der
Energieversorgungsleitung (12c) in einem Bereich in dem
Baugruppenkörper (1) eingebettet sind, der mit der Ab
deckung (20) in Kontakt steht.
6. Hochfrequenz-IC-Baugruppe nach Anspruch 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß das Erdungsmuster (51) auf einem Bereich
auf der Oberfläche des Baugruppenkörpers auf einer Seite
der Hochfrequenz-Signal-Übertragungsleitung (4a, 4b, 43a,
43b) angeordnet ist, und daß Teile der Hochfrequenz-Signal-
Übertragungsleitung (4c) und der Energieversorgungsleitung
(12c) in einem Bereich in dem Baugruppenkörper (1) einge
bettet sind, der mit der Abdeckung (20) in Kontakt steht.
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