DE4233634A1 - Laser mit zumindest einer Anode und einer Kathode zur Vorionisierung und/oder Entladung - Google Patents
Laser mit zumindest einer Anode und einer Kathode zur Vorionisierung und/oder EntladungInfo
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Description
Die Erfindung betrifft einen Laser mit zumindest einer Anode
und einer Kathode zur Vorionisierung und/oder Entladung.
Weiterhin betrifft die Erfindung die Verwendung bestimmter
metallischer Werkstoffe in Anoden und Kathoden bei der Vor
ionisierung und/oder Entladung in einem Laser. Insbesondere
betrifft die Erfindung einen gepulsten Gaslaser mit zumindest
einer Kathode und einer Anode.
Die im Stand der Technik bekannten Laser weisen häufig zu
mindest eine Anode und eine Kathode zur Vorionisierung des in
der Laserröhre enthaltenen Gases auf. Entsprechende Laser haben
mindestens zwei weitere Elektroden, die zur Haupt- oder Plasma
entladung dienen. Als typisches Beispiel für eine entsprechende
Laseranordnung seien hier die sogenannten gepulsten Gaslaser
erwähnt.
Gepulste Gaslaser sind in unterschiedlichsten Ausgestaltungen
bekannt, insbesondere als CO2-Laser, Excimer-Laser oder
N2-Laser, etc. Weit verbreitet ist bei gepulsten Gaslasern eine
sogenannte transversale Anregung des Lasergases in Form einer
Gasentladung (auch Haupt- oder Plasmaentladung genannt).
Ebenfalls bekannt ist es, das Lasergas vor der Hauptentladung
einer sogenannten Vorionisierung zu unterziehen, bei der vor
der eigentlichen Hauptentladung eine möglichst homogene Ver
teilung von freien Elektronen (ca. 107 Elektronen/cm3) im
Entladungsraum erzeugt wird. Eine solche Vorionisierung des
Gases dient insbesondere dazu, zu vermeiden, daß die Haupt
entladung als Bogenentladung erfolgt. Nach der Vorionisierung
setzt dann zwischen den Hauptelektroden des Lasers die genannte
Hauptentladung ein, bei der sich die Elektronenkonzentration in
der sogenannten Avalanche-Phase um mehrere Größenordnungen ver
vielfacht, zum Beispiel auf 1014 bis 1015 Elektronen/cm3.
Für die Vorionisierung werden im Stand der Technik in der Regel
externe, das heißt, von der eigentlichen Hauptentladung geson
derte Energiequellen verwendet, zum Beispiel UV-Licht. Dieses
UV-Licht wird z. B. von Funkenstrecken oder auch Corona-Entla
dungen emittiert.
Insbesondere bei der UV-Vorionisierung in Excimer-Lasern werden
Funkenstrecken zur Erzeugung von UV-Licht genutzt, um im eigent
lichen zur Entladung bestimmten Gasvolumen durch Photoionisa
tion bzw. Photoeffekt an den Elektrodenoberflächen genügend
freie Ladungsträger zu bilden. Diese vervielfachen sich dann in
der Zündphase der Hauptentladung zwischen den Hauptelektroden
(Anode und Kathode) lawinenartig über große Volumina.
Im Stand der Technik werden die Elektroden stets aus demselben
metallischen Werkstoff gefertigt. Es wurde nun festgestellt,
daß die Funken der Vorionisierung zu einem Materialabtrag
und/oder zu einer Materialveränderung der metallischen
Vorionisierungselektroden nach dem Stand der Technik, zwischen
denen der Funke "brennt", führen. Die Materialveränderung bzw.
der Materialabtrag ist auch noch im besonderen Maße von dem
Gehalt des Excimer-Lasergasgemisches an Fluor (F2) oder Chlor
wasserstoff (HCL) abhängig. Innerhalb des Funkens, sowie an den
Fußpunkten (Oberflächen der Elektroden) reagiert das Metall der
Anode oder Kathode mit F2 bzw. F-Abkömmlingen wie F*, F⁻,
F-Radikalen usw. bzw. mit HCL oder dessen Spaltprodukten.
Der Materialabtrag bzw. die Materialveränderungen beeinträch
tigen insgesamt die Vorionisierung, d. h. die UV-Erzeugung für
Vorionisierungszwecke, was mit der Zeit zu einer gravierenden
Störung der Hauptentladung führt. Dies hat zur Folge, daß an
den Hauptelektroden eine örtliche Abnahme der Elektronenkonzen
tration auftritt und somit die Entladehomogenität der Hauptent
ladung gestört wird.
Die Materialveränderungen durch beispielsweise Bildung von Metall
fluoriden oder Chloriden wirken sich auf die Zündeigenschaften
der Vorionisierungselektroden aus, indem diese erheblich ver
schlechtert und somit die UV-Erzeugung für Vorionisierungs
zwecke drastisch reduziert wird.
Die an den metallischen Vorionisierungselektroden nach dem
Stand der Technik beobachteten Materialveränderungen bzw. der
Materialabtrag wurde gleichermaßen bei den Hauptelektroden von
Excimer-Lasern beobachtet.
Es versteht sich von selbst, daß sowohl für die Zuverlässigkeit
als auch für die Langlebigkeit von gepulsten Gaslasern, insbe
sondere von Excimer-Entladungseinheiten die beobachteten Vor
gänge nachteilig sind.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Laser mit zu
mindest einer Anode und einer Kathode zur Vorionisierung
und/oder Entladung bereitzustellen, um gegenüber den bekannten
Lasern eine verbesserte Langlebigkeit und somit Zuverlässigkeit
zu gewährleisten.
Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, daß die Anode und die Katho
de metallische Werkstoffe unterschiedlicher Normalpotentiale
aufweisen.
Gegenstand der Erfindung ist somit ein Laser mit zumindest
einer Anode und einer Kathode zur Vorionisierung, wobei Anode
und Kathode metallische Werkstoffe unterschiedlicher
Normalpotentiale aufweisen.
Ein weiterer Gegenstand der Erfindung ist ein Laser mit zu
mindest einer Anode und einer Kathode zur Hauptentladung, wobei
Anode und Kathode metallische Werkstoffe unterschiedlicher Nor
malpotentiale aufweisen.
Die Differenz der Normalpotentiale zwischen Anode und Kathode
beträgt nach einer spezielleren Ausführungsform der Erfindung
mindestens 0,3 Volt, vorzugsweise 0,6 Volt. In einer weiteren
Ausgestaltung der Erfindung weist die Elektrode aus dem
metallischen Werkstoff mit dem geringeren Normalpotential im
wesentlichen Kupfer auf. Die Elektrode aus dem metallischen
Werkstoff mit dem höheren Normalpotential weist bevorzugt im
wesentlichen Platin auf.
In einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung hat der
Werkstoff der Kathode ein höheres Normalpotential als der
Werkstoff der Anode. Bevorzugt wird, daß die Kathode im
wesentlichen aus Platin, die Anode im wesentlichen aus Kupfer
besteht.
Die Erfindung wird vorteilhaft als gepulster Gashochdrucklaser
bereitgestellt.
Gegenstand der Erfindung ist weiterhin die Verwendung von
Anoden und Kathoden aus metallischen Werkstoffen zur Vor
ionisierung und/oder Entladung in einem Laser, wobei zwischen
den metallischen Werkstoffen, die die Anode und Kathode jeweils
aufweisen, eine Differenz der Normalpotentiale besteht.
Es wurde nun festgestellt, daß bei Lasern, die mit erfindungs
gemäßen Elektroden ausgestattet wurden, die Zuverlässigkeit und
Langlebigkeit insbesondere im Fall von Excimer-Entladungsein
heiten deutlich verbessert werden konnte. Dies zeigte sich
unter anderem darin, daß die erfindungsgemäßen Laser nach
mehreren 100 Betriebsstunden an den Elektroden praktisch kei
nerlei Materialabtrag oder Materialveränderungen aufwiesen.
Dieser Vorteil zeigte sich besonders drastisch dann, wenn für
die Kathode ein Werkstoff mit höherem Normalpotential als dem
der Anode gewählt wurde, insbesondere wenn die Kathode im
wesentlichen aus Platin und die Anode im wesentlichen aus
Kupfer gehalten wurde.
Die erfindungsgemäßen Vorteile treten sowohl bei Vorionisie
rungs- als auch bei Entladungselektroden auf.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird anhand der Zeichnung
nachfolgend näher erläutert. Es zeigt
Fig. 1 schematisch eine Laservorionisierungseinrichtung
und
Fig. 2 eine Hauptentladungseinheit eines Excimer-Lasers.
In der Fig. 1 ist schematisch eine Vorionisierungseinheit mit
einer Anode (1) und einer Kathode (2) angegeben. Die als Stift
ausgebildete Kathode (2) ist mit einer Isolation (3) umgeben.
Nicht abgebildet ist die Laserröhre in der sich diese Elektro
denanordnung befindet, so wie die an sich bekannte Energiever
sorgung und Steuerung.
Die Fig. 2 zeigt wiederum schematisch einen Laser mit einer
Kathode (2) und einer Anode (1) in einer (nicht abgebildeten)
Laserröhre als Hauptentladungs-Anordnung.
Zur Simulation einer typischen Vorionisierungssituation im Be
trieb eines Gashochdrucklasers wurde wie folgt verfahren.
Eine Laserröhre (40 cm lang, Durchmesser 20 cm), die mit einer
Kupferschiene (10×1×0,5 cm3) als Anode und einem Platin
stift (5 cm lang, Durchmesser 0,5 cm) als Kathode versehen war,
wurde zunächst evakuiert und dann mit Krypton, Neon und Fluor
beschickt. Der Abstand zwischen den Elektroden war etwa 0,5 cm.
Der Druck in der Röhre betrug - entsprechend dem Druck beim
Betrieb eines typischen Excimer Lasers - 3·105 Pa.
Es wurde an die Elektroden eine Spannung von 10 Volt angelegt.
Als Vergleich wurde eine Röhre, wie zuvor beschrieben, mit
Elektroden entsprechender Ausmaße, allerdings nur aus Kupfer,
bereitgestellt. Diese Röhre wurde gleichen Bedingungen wie zu
vor beschrieben unterworfen.
Die Elektroden aus den Röhren wurden nach etwa 500 Stunden
einer näheren Analyse unterworfen.
Es zeigte sich bei den Kupferelektroden nach dem stand der
Technik ein deutlicher Materialabtrag sowohl an der Anode, als
auch der Kathode. Dieser Materialabtrag war bereits mit bloßem
Auge sichtbar. Insbesondere der Stift aus Kupfer wirkte stark
abgetragen. Die Kupferanode war deutlich angelaufen. Eine ge
nauere Untersuchung zeigte darüberhinaus, daß auf der Kupfer
anode teilweise nichtmetallische Strukturen aufgewachsen waren.
Die erfindungsgemäßen Elektroden zeigten demgegenüber keinerlei
Materialabtrag. Sowohl Anode als auch Kathode wiesen keinerlei
äußerlich sichtbare Veränderungen auf. Bei genauerer Unter
suchung der Anode konnten darüberhinaus keinerlei nichtme
tallische Strukturen festgestellt werden.
Diese Ergebnisse zeigen, daß durch die Wahl unterschiedlichen
Elektrodenmaterials die Erosion an Anode und Kathode deutlich
reduziert werden kann. Dies gilt aber nicht nur für die Bedin
gungen, unter denen eine Vorionisierung stattfindet, sondern
auch für die anschließende Hauptentladung in einer Laserröhre.
Somit trägt die Erfindung dazu bei, die Lebensdauer von Lasern,
die zum Zwecke der Vorionisierung und/oder Entladung Elektroden
aufweisen, zu verlängern.
Claims (10)
1. Laser mit zumindest einer Anode (1) und einer Kathode (2)
zur Vorionisierung,
dadurch gekennzeichnet, daß die Anode (1) und
die Kathode (2) metallische Werkstoffe unterschiedlicher Nor
malpotentiale aufweisen.
2. Laser mit zumindest einer Anode (1) und einer Kathode (2)
zur Hauptentladung,
dadurch gekennzeichnet, daß die Anode (1) und
die Kathode (2) metallische Werkstoffe unterschiedlicher Nor
malpotentiale aufweisen.
3. Laser nach Anspruch 1 oder Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß die Differenz
der Normalpotentiale zwischen Anode und Kathode mindestens 0,3
Volt beträgt.
4. Laser nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß die Differenz
der Normalpotentiale zwischen Anode und Kathode mindestens 0,6
Volt beträgt.
5. Laser nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet, daß die Elektrode aus
dem metallischen Werkstoff mit dem geringeren Normalpotential
im wesentlichen aus Kupfer besteht.
6. Laser nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
dadurch gekennzeichnet, daß die Elektrode aus
dem metallischen Werkstoff mit dem höheren Normalpotential im
wesentlichen aus Platin besteht.
7. Laser nach einem der Ansprüche 1 bis 6,
dadurch gekennzeichnet, daß der Werkstoff der
Kathode (2) ein höheres Normalpotential hat, als der Werkstoff
der Anode (1).
8. Laser nach einem der Ansprüche 1 bis 7,
dadurch gekennzeichnet, daß die Kathode (2)
im wesentlichen aus Platin und die Anode (1) im wesentlichen
aus Kupfer besteht.
9. Laser nach einem der Ansprüche 1 bis 8,
dadurch gekennzeichnet, daß der Laser ein
gepulster Gashochdrucklaser ist.
10. Verwendung von Anoden und Kathoden aus metallischen Werk
stoffen zur Vorionisierung und/oder Entladung in einem Laser
dadurch gekennzeichnet, daß zwischen den me
tallischen Werkstoffen, die die Anode (1) und Kathode (2) je
weils aufweisen, eine Differenz der Normalpotentiale besteht.
Priority Applications (3)
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JP5262989A JP2501009B2 (ja) | 1992-10-06 | 1993-09-27 | プレイオン化および/または放電用の少なくとも1つの陽極および陰極を有するエキシマ―レ―ザ― |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4233634A DE4233634C2 (de) | 1992-10-06 | 1992-10-06 | Elektroden für die Entladungseinheit eines Excimerlasers |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4233634A1 true DE4233634A1 (de) | 1994-04-14 |
DE4233634C2 DE4233634C2 (de) | 1994-09-01 |
Family
ID=6469791
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4233634A Expired - Fee Related DE4233634C2 (de) | 1992-10-06 | 1992-10-06 | Elektroden für die Entladungseinheit eines Excimerlasers |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5347532A (de) |
JP (1) | JP2501009B2 (de) |
DE (1) | DE4233634C2 (de) |
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GB2300991B (en) * | 1995-05-15 | 1997-11-05 | Andrew Macgregor Ritchie | Serving signals to browsing clients |
RU2206186C2 (ru) | 2000-07-04 | 2003-06-10 | Государственный научный центр Российской Федерации Троицкий институт инновационных и термоядерных исследований | Способ получения коротковолнового излучения из газоразрядной плазмы и устройство для его реализации |
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