DE3825033A1

DE3825033A1 - Behandlungseinrichtung

Info

Publication number: DE3825033A1
Application number: DE3825033A
Authority: DE
Inventors: Hisao Kanazaki; Hisao Ohba
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1987-07-23
Filing date: 1988-07-22
Publication date: 1989-02-02
Also published as: GB8817304D0; GB2208445A; US4875067A; GB2208445B

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Behandlungseinrichtung vom Fördertyp mit zumindest zwei Behandlungsbädern, die wirksam verhindert, daß sich die Lösungen in einem Behandlungsbad und in einem vorangehenden Behandlungsbad miteinander vermengen bzw. sich gegenseitig verunreinigen.

In einer Behandlungseinrichtung vom Fördertyp, die zumindest zwei Behandlungsbäder aufweist, ist es allgemein erforderlich, daß die Einrichtung so gestaltet ist, daß sie die Menge einer Behandlungslösung, die durch ein behandeltes Material oder andere Teile der Einrichtung wie z.B. eine Einrichtung zum Besprühen des behandelten Materials mit eine Behandlungslösung von einem vorangehenden Bad zu einem nachfolgenden Bad oder umgekehrt übertragen wird, so gering als möglich ist. Zu diesem Zweck sind Quetschwalzen am Ausgang des vorangehenden Behandlungsbades angeordnet, um zu verhindern, daß Lösung von dem vorangehenden Bad durch das behandelte Material selbst mitgeführt und in das nachfolgende Bad übertragen wird. Außerdem sind Führungswalzen am Einlaß des nachfolgenden Bades angeordnet, um zu verhindern, daß Behandlungslösung in dem nachfolgenden Bad durch die drehbare Quetschwalze von diesem auf das vorangehende Bad übertragen wird.

Insbesondere dann, wenn eine vorsensibilisierte Platte zur Verwendung als litographische Druckplatte (nachfolgend bezeichnet als "PS-Platte"), der ein latentes Bild aufbelichtet wurde, in einer Behandlungseinrichtung vom Fördertyp behandelt wird, ist es von äußerster Wichtigkeit, die Menge jedweder Behandlungslösung, die durch die PS-Platte von einem Behandlungsbad in ein anderes Behandlungsbad oder umgekehrt übertragen wird, so gering als möglich zu halten.

Eine litographische Druckplatte kann allgemein durch Aufbelichten eines latenten Bildes auf eine PS-Platte hergestellt werden, die aus einem Substrat besteht, das mit einer lichtempfindlichen Kunstharzschicht beschichtet ist, wobei diese Platte dann entwickelt und zumindest einer Behandlung unterzogen wird, die aus der Gruppe, enthaltend die Behandlungsformen Wasserauswaschen, Spülen und Desensibilisieren umfaßt.

In solch einem Fall wird jede Behandlungslösung innerhalb verhältnismäßig kurzer Zeit beeinträchtigt wenn eine große Menge jeweiliger Behandlungslösung durch die behandelte PS-Platte, die durch jede Behandlungsvorrichtung hindurchgeführt wird, übertragen wird, z.B. von dem Entwicklungsbad in das Wasserwasch- oder Spülbad, von dem Wasserwasch- oder Spülbad zu dem Entwicklerbad, von dem Entwicklerbad zu dem Desensibilisierungsbad, von dem Desensibilisierungsbad zu dem Entwicklerbad, von dem Wasserwasch- oder Spülbad zu dem Desensibilisierungsbad und von dem Desensibilisierungsbad zu dem Wasserwasch- oder Spülbad.

Um die Beeinträchtigung der jeweiligen Behandlungslösung infolge einer Beimengung von anderen Behandlungslösungen, die möglicherweise durch die behandelte PS-Platte von den vorangehenden Bädern oder durch Besprühen der Platte mit einer Behandlungslösung von den nächsten Bädern her übertragen werden, zu vermeiden ist ein Paar Quetschwalzen sowohl an den stromaufseitigen als auch an den stromabseitigen Seiten jedes Behandlungsbades angeordnet. Überdies ist eine Vorrichtung zum Besprühen der Oberfläche einer behandelten Platte mit einer Behandlungslösung bei einer Behandlungseinrichtung mit Sprühbehandlung stromauf und/oder stromab der Quetschwalzen angeordnet, wie dies bereits eingangs erwähnt wurde. Bei solch einer herkömmlichen Einrichtung zur Herstellung litographischer Druckplatten sind zumindest zwei Paare von Walzen bezüglich jedes Behandlungsbades angeordnet, die daher die Einrichtung sehr teuer und großvolumig machen, so daß der Raumbedarf für die Einrichtung zunimmt.

Es ist demzufolge ein Hauptziel der vorliegenden Erfindung, eine Behandlungseinrichtung von geringer Größe, z.B. für eine Einrichtung zur Herstellung litographischer Druckplatten von einer PS-Platte zu schaffen, die nur einen kleinen Raumbedarf hat und die es gestattet, die Betriebskosten und die Herstellungskosten zu vermindern.

Diese vorerwähnten und weiteren Ziele werden erfindungsgemäß durch eine Einrichtung vom Fördertyp zur Behandlung lichtempfindlicher Platten, wie z.B. PS-Platten gelöst, die zumindest zwei Behandlungsbäder aufweist, mit einer Walzenvorrichtung zum Entfernen von Behandlungslösung von der behandelten Platte, wobei die Walzenvorrichtung eine Paar Walzen enthält und jeweils an der Grenze zwischen einem vorangehenden Bad und einem nachfolgenden benachbarten Bad angeordnet ist, so daß die Lösungen in diesen Bädern voneinander getrennt sind, und mit einer Einrichtung zur Entfernung der Behandlungslösung von der Walzenoberfläche.

Bevorzugte Ausgestaltung des Erfindungsgegenstandes sind in den Unteransprüchen dargelegt.

Die Erfindung wird nachstehend anhand von Ausführungsbeispielen und zugehörigen Zeichnungen näher erläutert. In diesen zeigen:

Fig. 1 und 3 schematische Darstellungen von Einrichtungen zur Behandlung von PS-Platten oder dergleichen oder zur Herstellung litographischer Druckplatten nach der vorliegenden Erfindung, nachfolgend auch als Plattenherstellungseinrichtung bezeichnet,

Fig. 2 eine schematische Darstellung eines Ausführungsbeispieles einer herkömmlichen Plattenherstellungseinrichtung und

Fig. 4 eine vergrößerte Einzelheit der Quetschwalzen zum Entfernen von Behandlungslösungen nach der vorliegenden Erfindung.

In der nachfolgenden Beschreibung wird dann, wenn von einem Paar benachbarter Bäder die Rede ist, das Bad, das stromab bezüglich der Bewegungsrichtung eines behandelten Materiales angeordnet ist, als "vorangehendes Bad" bezeichnet und das andere Bad, das stromab angeordnet ist, d.h. dasjenige Bad, das unmittelbar sich an das vorangehende Bad anschließt wird als "nachfolgendes Bad" bezeichnet.

In der Behandlungseinrichtung nach der vorliegenden Erfindung beinhalten die spezifischen Ausführungsformen der Einrichtung zum Entfernen von Bearbeitungslösung von einem Paar Quetschwalzen der Vorrichtung zur Trennung zwei benachbarter Behandlungslösungen voneinander drei Walzen, wie dies in Fig. 1 erläutert ist, wobei eine erste Walze 13 gegen die Unterwalze 12′ des Walzenpaares gedrückt wird und an der Seite des vorangehenden Bades angeordnet ist, während eine zweite Walze 14 gegen die Unterwalze 12′ des Walzenpaares an der Seite des nachfolgenden Bades angedrückt ist und wobei eine dritte Walze 19 gegen die Oberwalze 19 des Walzenpaares gepreßt wird und ebenfalls an der Seite des nachfolgenden Bades angeordnet ist. Gemäß Fig. 3 umfaßt die spezielle Ausführungsform der Einrichtung zur Entfernung der Behandlungslösungen von einem Paar Quetschwalzen der Walzenvorrichtung zur Trennung zweier benachbarter Randlösungen voneinander zwei Abstreifer, von denen der eine 25′ gegen die Unterwalze 12′ des Walzenpaares gedrückt wird und an der Seite des vorangehenden Bades angeordnet ist, während der andere Abstreifer 25 gegen die Oberwalze 12 des Walzenpaares gepreßt wird und an der Seite des nachfolgenden Bades angeordnet ist. Durch Anwenden eines derartigen Aufbaues wird es möglich, ein Paar Förderwalzen zu vermeiden, die in der herkömmlichen Behandlungseinrichtung erforderlich sind und die stromauf eine Vorrichtung zum Besprühen einer behandelten Platte mit einer Behandlungslösung angeordnet sind.

In Fig. 4 bezeichnet α den Winkel zwischen einer vertikalen Linie, die durch die Mitte der Drehachse der Unterwalze 12′ läuft und einer Geraden, die durch die Mitte der Drehachse einer Walze 13 läuft, β bezeichnet in gleicher Weise den Winkel zwischen einer geraden Linie, die durch das Drehzentrum einer Walze 14 und einer Vertikalen, die durch die Mitte der Unterwalze 12′ läuft und der Winkel γ bezeichnet den Winkel zwischen einer Vertikalen, die durch die Mitte der Drehachse einer Walze 12 greift und einer geraden Linie, die durch das Drehzentrum der Walze 12 und einer Walze 19 verläuft.

Beide Winkel α und β liegen wünschenswerter Weise in einem Bereich von 10 bis 60° und betragen vorzugsweise jeweils zwischen 20 und 50° während eine Winkel γ zwischen 0 und 90° geeignet ist, wobei γ vorzugsweise größer als 0° und nicht größer als 80° ist.

Der Durchmesser der Walze 13 oder 14 im Verhältnis zu demjenigen der Walze 12′ (welcher das Bezugsmaß von 100 haben soll) liegt vorzugsweise im Bereich von 50 bis 90. Außerdem liegt der Durchmesser der Walze 19 relativ zu demjenigen der Walze 12 (die das Bezugsmaß von 100 haben soll, vorzugsweise im Bereich von 10 bis 100).

In der vorliegenden Erfindung beträgt die Härte der Walzen 13 und 14 zum Entfernen der Behandlungslösungen nicht mehr als 80, vorzugsweise nicht mehr als 60 und äußerst vorzugsweise nicht mehr als 45 ausgedrückt in Einheiten Vickers Härte. Andererseits können als Abstreifer, die verwendet werden, solche aus Gummi, Kunststoff oder Metall verwendet werden, vorzugsweise bestehen sie aus Gummi oder Kunststoff und äußerst vorzugsweise aus Gummi.

Der Spaltdruck zwischen der oberen und unteren Quetschwalze 12, 12′ liegt vorzugsweise im Bereich von 0,1 bis 20 kp/cm², äußerst vorzugsweise im Bereich von 0,5 bis 10 kp/cm².

Wie oben erläutert, erfordert die herkömmliche Behandlungseinrichtung die Verwendung von zwei Walzenpaaren zum Herausdrücken der Behandlungslösung, die durch das behandelte Material jeweils in dem Entwicklerbad, dem Spülbad und/oder Desensibilisierungsbad übertragen bzw. mitgeführt wird. Im Gegensatz dazu ist es bei der Behandlungseinrichtung nach der vorliegenden Erfindung ausreichend, nur ein Paar Walzen zum Herausdrücken der Behandlungslösung, die durch das behandelte Material in jedes Behandlungsbad übertragen wird, zu verwenden. Im Ergebnis dessen können die Walzenkosten auf nicht mehr als zwei Drittel im Vergleich mit der herkömmlichen Einrichtung verringert werden, die Behandlungseinrichtung kann miniaturisiert und der Raum für die Einrichtung kann ebenfalls vermindert werden auf nicht mehr als 80% des Raumbedarfes, der für die herkömmliche Einrichtung erforderlich ist.

Die Behandlungseinrichtung nach der vorliegenden Erfindung kann wirksam für die Behandlung von insbesondere PS-Platten verwendet werden, die jeweils aus einem Substrat und lichtempfindlichen Schichten bestehen, die an einer Seite oder beiden Seiten des Substrates aufgebracht sind. Das Grundkonzept der vorliegenden Erfindung kann auch auf Eintauch-Behandlungseinrichtungen und geneigte Behandlungseinrichtungen vom Fördertyp angewandt werden.

Die Behandlungseinrichtung nach der vorliegenden Erfindung wird nachfolgend noch im einzelnen unter Bezugnahme auf die die Erfindung allerdings nicht begrenzenden Ausführungsbeispiele erläutert.

Ausführungsform 1

Ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel einer Plattenherstellungseinrichtung nach der vorliegenden Erfindung ist in Fig. 1 gezeigt, die prinzipiell eine Entwicklervorrichtung 10 und eine Spül- oder Desensibilisierungsvorrichtung 20 umfaßt.

Es ist erforderlich, daß die Behandlungseinrichtung zumindest zwei derartige Vorrichtungen enthalten kann, die miteinander verbunden sind. Die Entwicklervorrichtung 10 enthält ein Paar Führungsrollen 11, 11′, um in die Vorrichtung eine zu behandelnde Platte einzuführen, eine Vorrichtung 17 zum Besprühen der Platte mit einem Entwickler, eine Drehbürste 16 und ein Paar Quetschwalzen 12, 12′. Andererseits enthält die Spül- oder Desensibilisierungsvorrichtung 20 eine Vorrichtung 18 zum Besprühen der behandelten Platte mit einer Spüllösung oder einer Desensibilisierungslösung und ein Paar Quetschwalzen 15, 15′. Die vorliegende Erfindung ist nicht auf eine Behandlungseinrichtung begrenzt, die ein Aufsprühsystem für eine Behandlungslösung enthält und das Konzept der Erfindung kann auch auf Behandlungeinrichtungen ausgedehnt werden, die mit Eintauchwalzen arbeiten, vom bürstenlosen Typ sind oder ander herkömmlich verwendete Systeme aufweisen.

Ein Paar Quetschwalzen 12, 12′, die mit Silikongummi beschichtet sind ist unter einem Spaltdruck von 5 kp/cm² zwischen der Entwicklervorrichtung 10 und der Spül- oder Desensibilisierungsvorrichtung 20 angeordnet. Eine Quetschwalze 13, die mit Silikongummi (α= 45°, der Durchmesser der Quetschwalze 13 beträgt relativ zu demjenigen der Walze 12′ 75%) wird gegen die untere Walze 12′ an der Seite des Entwicklerrades angepreßt, um Entwickler von der unteren Walze 12′ zu entfernen und eine Quetschwalze 14, die mit Silikongummi beschichtet ist (β=45°, der Durchmesser der Quetschwalze 14 relativ zu demjenigen der Walze 12′ beträgt 75%) und eine Stahlquetschwalze 19 (γ=10°) werden gegen die Quetschwalzen 12 und 12′ an der Seite des Spül- oder Desensibilisierungsbades angedrückt, um Spül- oder Desensibilisierungslösung von den Walzen 12 und 12′ zu entfernen. Wie sich aus Fig. 1 ergibt, fehlt ein Paar Förderwalzen, die bei der herkömmlichen Einrichtung stromauf der Spül- oder Desensibilisierungvorrichtung angeordnet sind, vollständig.

Beim Druckvorgang ergab die so hergestellte litographische Druckplatte Druckbilder von gleich guter Qualität wie sie von Druckplatten erhalten wurden, die mit der herkömmlichen Einrichtung hergestellt waren.

In der herkömmlichen Einrichtung, die in Fig. 2 gezeigt ist, war ein Raum von 10 bis 15 cm Länge erforderlich, um ein Paar Quetschwalzen zwischen der Entwicklervorrichtung 10 und der Spül- oder Desensibilisierungsvorrichtung 20 anzuordnen. Im Gegensatz hierzu kann dieser Raum bei der Einrichtung nach der vorliegenden Erfindung eingespart werden.

Ausführungsform 2

Ein zweites bevorzugtes Ausführungsbeispiel der Plattenherstellungseinrichtung nach der vorliegenden Erfindung ist in Fig. 3 gezeigt, die ebenfalls grundsätzlich eine Entwicklervorrichtung 10 und eine Spül- oder Desensibilisierungsvorrichtung 20 enthält. Die Einrichtung kann in gleicher Weise zumindest zwei derartige Vorrichtung enthalten, die miteinander verbunden sind. Die Entwicklervorrichtung 10 hält ein Paar Führungswalzen 11, 11′ zum Einführen einer Platte, die in der Entwicklereinrichtung behandelt wird, eine Vorrichtung 17 zum Besprühen der Platte mit einem Entwickler, eine drehbare Bürste 16 und ein Paar Quetschwalzen 12, 12′. Die vorliegende Erfindung ist nicht auf eine Behandlungseinrichtung mit einem Aufsprühsystem für die Behandlungslösung begrenzt, wie die in Fig. 3 gezeigt ist, und das Konzept dieser Erfindung kann auch auf Verarbeitungseinrichtung mit Tauchwalzen, einer bürstenlosen Einrichtung oder anderen üblicherweise verwendeten Typen angewandt werden.

Andererseits enthält die Spül- oder Desensibilisierungsvorrichtung 20 eine Vorrichtung 18 zum Besprühen der behandelten Platte mit einer Spül- oder Desensibilisierungslösung sowie ein Paar Quetsch- oder Abstreiferwalzen 15, 15′. Die Vorrichtung 20 enthält außerdem einen Abstreifer 25 um einen Gegenstrom der Spül- oder Desensibilisierungslösung zu verhindern sowie einen Abstreifer 25′, um zu verhindern, daß Entwickler von dem Entwicklerbad in das nachfolgende Bad, d.h. das Spül- oder Desensibilisierungsbad eingetragen wird.

Wie aus Fig. 3 ersichtlich ist, kann auf ein Paar Förderwalzen, die stromauf der Spül- oder Desensibilisierungsvorrichtung bei der herkömmlichen Einrichtung angeordnet sind, vollständig fehlen.

Beim Druckvorgang zeigte die so hergestellte litographische Druckplatte gleich gute Druckeigenschaften wie eine herkömmlich hergestellte Platte. In der herkömmlichen Einrichtung, die in Fig. 2 gezeigt ist, war ein Raum von 10 bis 15 cm in Längsrichtung erforderlich, um ein Paar Quetschwalzen zwischen der Entwicklervorrichtung 10 und der Spül- oder Desensibilisierungsvorrichtung anzuordnen. Im Gegensatz hierzu kann auf diesen Raum bei der Einrichtung nach der vorliegenden Erfindung verzichtet werden.

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Behandlungseinrichtung vom Fördertyp für lichtempfindliche Platten, mit zumindest zwei Behandlungsbädern, die eine Walzenvorrichtung zum Entfernen von Behandlungslösung von einer behandelten Platte enthalten, wobei die Walzenvorrichtung ein Paar Quetschwalzen enthält und an der Grenze zwischen einem vorangehenden Bad und einem benachbarten nachfolgenden Bad angeordnet ist, so daß die Lösungen in diesen Bädern voneinander getrennt sind. Ferner ist eine Einrichtung zur Entfernung von Verarbeitungslösung von der Oberfläche der Quetschwalzen vorgesehen. Die erfindungsgemäße Behandlungseinrichtung ist von geringer Größe, hat einen geringen Raumbedarf und macht es möglich, die Betriebs- und Herstellungskosten zu verringern, da die Anzahl der Quetschwalzen, die erforderlich ist, um eine gegenseitige Verunreinigung der Verarbeitungslösung infolge von durch die behandelten Platten eingetragenen Lösungsresten anderer Bäder zu verringern.

Claims

1. Behandlungseinrichtung vom Fördertyp für lichtempfindliche Platten, mit mindestens zwei Behandlungsbädern, mit einer Walzenvorrichtung zum Entfernen vom Behandlungslösung von der behandelten Platte mit einer Einrichtung (13, 14, 19, 25, 25′) zum Entfernen von Behandlungslösung von der Walzenoberfläche.

2. Behandlungseinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung zum Entfernen von Behandlungslösung aufweist eine Walze (13), die gegen die unter Walze (12′) des Walzenpaares (12, 12′) gepreßt wird und an der Seite des vorangehenden Bades (10) angeordnet ist, eine Walze (14), die an die untere Walze (12′) des Walzenpaares (12, 12′) angepreßt wird und an der Seite des nachfolgenden Bades (20) angeordnet ist und eine Walze (19), die an die obere Walze (12) des Walzenpaares (12, 12′) angepreßt wird und an der Seite des nachfolgenden Bades (20) angeordnet ist.

3. Behandlungseinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung zum Entfernen von Behandlungslösung einen Abstreifer (25′) aufweist, der gegen die untere Walze (12′) des Walzenpaares (12, 12′) gepreßt wird und an der Seite des vorangehenden Bades (20) angeordnet ist und einen Abstreifer (25) umfaßt, der gegen die obere Walze (12) des Walzenpaares (12, 12′) angedrückt wird und an der Seite des nachfolgenden Bades (20) angeordnet ist.

4. Behandlungseinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Behandlungsbäder jene sind zum Entwickeln, Spülen und/oder Desensibilisieren einer vorsensibilisierten Platte zur Verwendung bei der Herstellung litographischer Druckplatten, wobei der vorsensibilisierten Platte eine latenter Bildeindruck aufbelichtet ist.

5. Behandlungseinrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Härte der Walzen zum Entfernen von Behandlungslösung nicht größer als 80° gemessen in Einheiten Vickers Härte beträgt.

6. Behandlungseinrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Härte der Walzen zum Entfernen von Behandlungslösung nicht mehr als 60° ausgedrückt in Einheiten Vickers Härte beträgt.

7. Behandlungseinrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Härte der Walzen zum Entfernen von Behandlungslösung nicht mehr als 45° ausgedrückt in Einheiten Vickers Härte beträgt.

8. Behandlungseinrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Abstreifer (25, 25′) aus Gummi, Kunststoff oder Metall besteht.

9. Behandlungseinrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Abstreifer (25, 25′) aus Gummi oder Kunststoff besteht.

10. Behandlungseinrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Abstreifer (25, 25′) aus Gummi besteht.

11. Behandlungseinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Walzenspaltdruck zwischen der oberen und unteren Quetschwalze (12, 12′) im Bereich von 0,5 bis 10 kp/cm² liegt.

12. Behandlungseinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Entwicklervorrichtung ein Entwicklersprühsystem, ein Eintauchsystem oder ein bürstenloses System ist.

13. Behandlungseinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung eine Behandlungseinrichtung vom Eintauchtyp oder eine Behandlungseinrichtung mit geneigter Förderung ist.