DE2917163A1 - Optisches aufzeichnungssystem - Google Patents
Optisches aufzeichnungssystemInfo
- Publication number
- DE2917163A1 DE2917163A1 DE19792917163 DE2917163A DE2917163A1 DE 2917163 A1 DE2917163 A1 DE 2917163A1 DE 19792917163 DE19792917163 DE 19792917163 DE 2917163 A DE2917163 A DE 2917163A DE 2917163 A1 DE2917163 A1 DE 2917163A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- plane
- optical
- lens
- semiconductor laser
- transition zone
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/095—Refractive optical elements
- G02B27/0955—Lenses
- G02B27/0966—Cylindrical lenses
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D15/00—Component parts of recorders for measuring arrangements not specially adapted for a specific variable
- G01D15/14—Optical recording elements; Recording elements using X-or nuclear radiation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/0005—Optical objectives specially designed for the purposes specified below having F-Theta characteristic
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0004—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed
- G02B19/0009—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having refractive surfaces only
- G02B19/0014—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having refractive surfaces only at least one surface having optical power
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0033—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
- G02B19/0047—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source
- G02B19/0052—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source the light source comprising a laser diode
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
- G02B26/124—Details of the optical system between the light source and the polygonal mirror
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0025—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
- G02B27/0031—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration for scanning purposes
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/04—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa
- H04N1/113—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using oscillating or rotating mirrors
- H04N1/1135—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using oscillating or rotating mirrors for the main-scan only
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Lenses (AREA)
- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein optisches Aufzeichnungssystem, bei dem als Lichtquelle ein Halbleiterlaser
Verwendung findet.
Bekanntermaßen setzt sich ein solches optisches System, das z.B. als Abtastsystem ausgebildet ist, üblicherweise
gemäß Figur 1 aus einer z.B. aus einem He-Ne-Laser oder einem Ar-Laser bestehenden Laserlichtquelle 1, einem Modulator
2 zur Modulation des von dem Laser abgegebenen Lichtstrahls, einer z.B. aus einem Polygon-Drehspiegel zur Ablenkung des
modulierten Lichtstrahls bestehenden Ablenkeinrichtung 3$ einer
Abtastlinse if und einem photoleitfähigen Aufzeichnungsmaterial 5 zusammen. Ein übliches optisches System dieser Art weist jedoch
den Nachteil auf, daß nicht nur der Laser, sondern auch der Modulator teuer sind. Außerdem ist auch der von dem Laser
und dem Modulator in dem gesamten System benötigte Platz nicht vernachlässigbar, da der Laser selbst erheblich große Abmessungen
aufweist und der Modulator einen Bereich von 200 - 300 mm in dem optischen Weg benötigt. Im Gegensatz zu diesem üblichen
System ermöglicht die Verwendung eines direkt modulierbaren
S0984B/Ö902
Halbleiterlasers den Aufbau eines billigen kompakten Systems*
Zwar ist ein optisches System, bei dem ein Halbleiterlaser
als Lichtquelle Verwendung findet, bereits z,B. aus den Zeitschriften RCA Review, Band 35» September 1974»
Seiten 335 - 3^0, und RCA Review, Band %, Dezember 1975,
Seiten 7Mf - 758, bekannt, jedoch weist der gemäß diesen
Druckschriften verwendete Laser in Abhängigkeit von Stromschwankungen
im Betrieb beträchtliche Änderungen des Schwin-'0 gungstyps bzw. Wellentyps auf, was zu beträchtlichen Schwankungen
der Größe eines fokussierten Lichtpunktes führt. Mit einer solchen Mehrfachwellentyp-Lichtquelle kann in einem
Aufzeichnungssystem keine zufriedenstellende Bildqualität erzielt werden.
·
·
Außerdem tritt bei einem Halbleiterlaser allgemein ein Astigmatismus dahingehend auf, daß die Position der
Strahlbündelung bzw. Strahleinschnürung in der parallel zu der Ubergangszonenebene des Halbleiterlasers verlaufenden
ζυ Ebene sich von der Position in der senkrecht zu der Ubergangszonenebene
des Halbleiterlasers verlaufenden Ebene unterscheidet.
Aus diesem Gründe ist es im allgemeinen sehr schwierig, einen Strahlenpunkt mit einem gewünschten Durchmesser
und einer ausreichenden Lichtintensität auf einem
Ό photoleitfähigen Aufzeichnungsmaterial zu erhalten, was zu
Einschränkungen der Bildauflösung führt.
Obwohl ein solcher Astigmatismus sicherlich korrigierbar ist, erfordert das hierfür benötigte optische
System aufwendige Justierungen, die in Bezug auf eine industrielle Herstellung unvorteilhaft und unerwünscht sind.
Aufgabe der Erfindung ist es daher, ein optisches
Aufzeichnungssystem derart auszugestalten, daß bei Verwendung
eines Halbleiterlasers als Lichtquelle eine zufriedenstellende
9845/0902
- 6";- : B"9653 ; ■■'
Bildqualität erzielbar ist.
Darüberhinaus soll ein optisches Aufzeichnungssystem geschaffen werden, das eine ausreichende Bildauflösung
ohne eine vollständige Korrektur des vorstehend beschriebenen Astigmatismus eines Halbleiterlasers ermöglicht.
Ferner soll ein optisches Aufzeichnungssystem derart ausgestaltet werden, das auf einem photoleitfähigen
'^ Aufzeichnungsmaterial die für die Aufzeichnung erforderliche
Lichtintensität erzielt und dennoch der Durchmesser des Lichtstrahlenpunktes auf dem photoleitfähigen Aufzeichnungsmaterial
minimal gehalten wird.
'^ Diese' Aufgabe wird mit den im Patentanspruch 1
angegebenen Mitteln gelöst.
Bei dem erfindungsgemäßen optischen Aufzeichnungssystem werden somit der in der Parallelrichtung zu der Uber-
gangszonenebene des Halbleiterlasers divergierende Laserstrahl und der in der senkrechten Richtung zu der Ubergangszonenebene
des Halbleiterlasers divergierende Laserstrahl mittels eines jeweils eine unterschiedliche Bildvergrößerung
in diesen beiden Richtungen aufweisenden optischen Systems derart fokussiert, daß die foküssierten Lichtpunkte der Laserstrahlen
in diesen zueinander orthogonalen Richtungen innerhalb einer Beugungsgrenze beabstandet sind, wobei die Aufzeichnungsebene
in einer beliebigen Position zwischen den Fokussierpositionen in den beiden Richtungen angeordnet wird. Im ein-
zelnen ist hierzu zwischen dem Halbleiterlaser und der Aufzeichnungsebene
ein optisches Abbildungssystem angeordnet, das ein anamorphotisches optisches System umfaßt, mit dessen
Hilfe der Abstand zwischen der Fokussierposition des in der Parallelrichtung zu der Ubergangszonenebene des Halbleiter-
lasers divergierenden Laserstrahls und der Fokussierposition des in der senkrechten Richtung zu der Ubergangszonenebene
des Halbleiterlasers divergierenden Laserstrahls im wesentlichen
909845/0902
- 7 - B "9653
innerhalt der Beugungsgrenze gehalten wird, während gleichzeitig
eine gewünschte Lichtintensität in der Aufzeichnungsebene gewährleistet ist.
Bei dem erfindungsgemäßen optischen Aufzeichnungssystem findet ein Halbleiterlaser Verwendung, der als
sogenannte kohärente Lichtquelle behandelt werden kann, die unabhängig von äußeren StöreinflUssen, wie Stromschwankungen,
in der Lage ist, konstant einen einzigen Schwingungswellentyp
aufrechtzuerhalten.
Die Erfindung wird nachstehend an Hand von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher
beschrieben.
·
·
Es zeigen:
Figur 1 eine schematische Darstellung eines üblichen Abtastsystems,
20
20
Figur 2 eine schematische Darstellung der von einem Halbleiterlaser ausgehenden Strahlen,
Figur 3 eine optische Anordnung einer Außführungsform
des erfindungsgemäßen optischen Systems bei einem Abtastsystem,
Figuren k (a) und if (b) schematische Darstellungen
zur Veranschaulichung von Einzelheiten des zylindrisehen optischen Systems gemäß Figur 3»
Figuren 5 und 6 Diagramme, die die Lichtmenge veranschaulichen, die das optische System als Funktion des
Einfallwinkels von dem Halbleiterlaser aufnimmt, 35
Figur 7 ein Diagramm, das die Beziehung zwischen
SO9845/0902-
dem Maximum und dem Minimum des Absolutwertes des Brennweiten-Verhältnisses
der zylindrischen plankonvexen und plankonkaven Linsen gemäß Figur 3 veranschaulicht,
Figur 8 ein Diagramm der Lichtverteilungscharakteristik
des Halbleiterlasers,
Figur 9 eine Querschnittsansicht der Objektivlinse gemäß Figur 3»
10
10
Figur 10 eine Querschnittsansicht des Zylinderlinsensystems
gemäß Figur 3»
Figur 11 eine Querschnittsansicht der Abtastlinse
gemäß Figur·3>
Figur 12 eine Querschnittsansicht einer Ausgestaltung der Objektivlinse gemäß Figur 9»
Figur 13 eine Querschnittsansicht einer weiteren Ausgestaltung der Objektivlinse,
Figur 1/f eine Querschnittsansicht einer Ausgestaltung
der Zylinderlinse,
25
25
Figur 15 ein Diagramm der Kollimationsleistung
des Objektivs gemäß Figur 9,
Figur 16 ein Diagramm der Charakteristik des von der Zylinderlinse gemäß Figur 10 ausgehenden Parallelstrahls,
Figuren 17 (a) und 17 (b) ein Diagramm der charakteristik
der Abtastlinse gemäß Figur 11, 35
909845/0902
- 9—- - B-9653 : -♦
Figur 18 ein Diagramm der Charakteristik der Objektivlinse gemäß Figur 12,
Figur 19 den Abbildungszustand eines Strahlenpunktes,
Figur 20 den Versetzungszustand des Strahlenpunktes und
Figuren 21 (a) und 21 (b) Ansichten, die das Verfahren der sich überlagernden Aufzeichnung von Strahlenpunkten
veranschaulichen.
In Figur 2 ist die Emission eines Laserstrahls bei einem im Rahmen der Erfindung verwendbaren Halbleiterlaser
schematisch veranschaulicht. Hierbei bezeichnet die Bezugszahl 6a den Ausgangspunkt bzw. Divergenzursprungspunkt
des Laserstrahls in einer senkrecht zu der Ubergängszonenebene
des Halbleiterlasers verlaufenden Ebene S, während die Bezugszahl 6b den Ausgangspunkt bzw. Divergenzursprungspunkt
des Laserstrahls in einer parallel zu der Übergangszonenebene des Halbleiterlasers verlaufenden Ebene J bezeichnet.
Bekanntermaßen ist ein solcher Halbleiterlaser direkt modulierbar und weist den Vorteil auf, daß mit seiner
Hilfe bei einem Abtastsystem eine Hochgeschwindigkeitsaufzeichnung erzielbar ist. Die Erfindung wird daher nachstehend
in Verbindung mit ihrer Verwendung bei einem Abtastsystem beschrieben.
30
30
In Figur 3 ist die Anordnung einer Ausführungsform
des erfindungsgemäßen optischen Systems in Verbindung mit
dessen Verwendung bei einem Abtastsystem veranschaulicht, wobei ein in einer senkrechten Ebene zu der tJbergangszonenebene
eines Lasers 7 von dem Divergenzursprungspunkt 6a und
909845/0902
-B 9&
in einer parallelen Ebene zu der Ubergangszonenebene des
Halbleiterlasers von dem Divergenzursprungspunkt 6b ausgehender Laserstrahl auf eine Objektivlinse 8 fällt und in
einen parallelen Strahl von einem Zylinderlinsensystem 9 umgewandelt
wird, das in der Parallelrichtung zu der Ubergangszonenebene des Lasers 7j jedoch nicht in der senkrechten Richtung
zu der Ubergangszonenebene eine Brechkraft aufweist und zur Vergrößerung des Strahlendurchmessers in der Parallelrichtung,
zu der Ubergangszonenebene dient.
Der Brennpunkt der Objektivlinse 8 liegt in der Ausgangsposition bzw. Divergenzursprungsposition des Strahles
in der senkrecht zu der Ubergangszonenebene verlaufenden Richtung, wobei der Brennpunkt der Objektivlinse 8 sowie des
Zylinderlinsensystems 9 in der Parallelebene zu der Ubergangszonenebene des Lasers 7 innerhalb der Beugungsgrenze
zu der Ausgangsposition bzw. Divergenzursprungsposition des Strahles in der Parallelebene angeordnet ist.
Wie in Figur k (a) im einzelnen veranschaulicht
ist, besteht das Zylinderlinsensystem 9 in der Parallelebene zu der Ubergangszonenebene des Lasers 7 aus einer an der Strahl
eintrittsseite angeordneten plankonkaven Zylinderlinse 9a» die
an ihrer Strahleintrittsseite eine konkave und an ihrer Strahlaustrittsseite
eine ebene Linsenfläche aufweist, und aus einer an der Strahlaustrittsseite angeordneten plankonvexen Zylinderlinse
9b, die an ihrer Strahleintrittsseite eine ebene und an ihrer Strahlaustrittsseite eine konvexe Linsenfläche aufweist.
Diese Linsen haben einen zusammenfallenden bzw. gemeinsamen Brennpunkt, so daß ein afokales System gebildet wird,
das bei Eintritt eines parallelen Strahles in die plankonkave Zylinderlinse 9a über die plankonvexe Zylinderlinse 9b einen
parallelen Strahl abgibt.
in der senkrecht zu der Ubergangszonenebene des
809846/090Ä
" *n~~' B 9653
Lasers 7 verlaufenden Ebene weist das Zylinderlinsensystem 9
keine Brechkraft auf, wie dies in Figur 4(b) dargestellt ist,
so daß ein einfallender Strahl unverändert hindurchtritt.
Der aus dem Zylinderlinsensystem 9 gemäß Figur 3 austretende Lichtstrahl wird von einem Ablenkspiegel 10 abgelenkt
und von einer Abtastlinse 11 auf ein photoleitfähiges Material 12 fokussiert, das in der Nähe der Brennebene der
Abtastlinse 11 angeordnet ist. Für einen gegebenen astigmati-
'0 sehen Abstand zwischen den Ausgangspunkten bzw. Divergenzursprungspunkten
des Strahles in den vorstehend beschriebenen, zueinander senkrechten Richtungen gemäß Figur 2 unterscheidet
sich der Brennpunkt 6a1 des in der senkrechten Ebene zu der
Übergangszonenebene des Lasers 7 divergierenden und von dem
'** gesamten optischen System aus der Objektivlinse 8, dem Zylinderlinsensystem
9 und der Abtastlinse 11 fokussierten Strahles von
dem Brennpunkt 6b' des in der Parallelebene zu der Ubergangszonenebene
des Lasers 7 divergierenden Strahles. In diesem Falle hat sich empirisch bestätigt, daß eine zufriedenstellende
Abbildungsleistung in der Größenordnung der Beugungsgrenze erhalten
werden kann, indem das photoleitfähige Aufzeichnungsmaterial an einer geeigneten Stelle zwischen den beiden Brennpunkten angeordnet wird, wenn folgende Gleichung erfüllt ist:
wobei A S1 der Abstand zwischen den beiden Brennpunkten, DJ
der Durchmesser der Strahlbegrenzungsblende 13 gemäß Figur 3
in der Parallelrichtung zu der Übergangszonenebene des Lasers,
DS der Durchmesser dieser Blende in der senkrechten Richtung zu der Übergangszonenebene, f. 1 die Brennweite der Abtastlinse
11 und \ die Emissionswellenlänge des Lasers sind. Für die
Abbildungsleistung in der Größenordnung der Beugungsgrenze
ist der zulässige Abstand A S zwischen den Ausgangspositionen
bzw. Divergenzursprungspositionen des Strahles in den zueinander
909845/0902
- t2--
B 9653 en
senkrechten Richtung/durch folgende Gleichung gegeben:
senkrechten Richtung/durch folgende Gleichung gegeben:
. f9b ο fR ?
r9a £11
r9a £11
wobei fq_>
fg^ und f« jeweils die Brennweiten der plankonkaven
Zylinderlinse 9a und der plankonvexen Zylinderlinse 9b gemäß Figur if(a) sowie der Objektivlinse 8 gemäß Figur 9 sind. Aus
den Bedingungen (1) und (2) läßt sich somit ableiten:
f-->DS.DJ
9b
9a
8 N/ 2.44/i(DS^+DJ )
Wenn somit das Verhältnis der Brennweiten der das afokale Zylinderlinsensystem 9 bildenden beiden Linsen
bei einem optischen Abtastsystem gemäß Figur 3 die Bedingung (3) erfüllt, läßt sich eine zufriedenstellende Abbildungsleistung in der Größenordnung der Beugungsgrenze erzielen,
indem das photoleitfähige Aufzeichnungsmaterial in eine
geeignete Position gebracht wird.
20
20
Andererseits muß die von dem optischen System auf das photoleitfähige Aufzeichnungsmaterial zu übertragende
Lichtmenge E1 folgende Bedingung erfüllen:
E· ^ X6Z0, wherein Tq = JL (4)
wobei ό- die auf dem photoleitfähigen Aufzeichnungsmaterial
erforderliche Minimal-Lichtmenge und E die von dem Halbleiterlaser
in Richtung des photoleitfähigen Aufzeichnungsmaterials abgegebene Gesamtlichtmenge sind.
Die Winkelverteilung des von dem Halbleiterlaser emittierten Lichtstromes läßt sich im wesentlichen durch eine
Gauß-Verteilung annähern. Die Dispersion dieser Verteilung
wird durch (Tß bzw. C^ χη der senkrechten Ebene bzw. der
S09845/0S02
- - ■ - ϊ:3-: ':% 9653
Parallelebene zu der Ubergangszonenebene des Lasers repräsentiert,
wobei davon ausgegangen wird, daß der von dem Laser emittierte Lichtstrom von dem optischen System in den jeweiligen
Ebenen in einem Winkelbereich von -Θ «** θ bzw. -Θ . <*«* θ
aufgenommen wird. In diesem Falle sind die Verhältnisse y*„
und jr * des in den jeweiligen Ebenen erhaltenen Lichtes durch
folgende Gleichungen gegeben:
' ι - r*s -A
rs = —L-. [ e ~^7
r^OsJ-e S 'äd (5)
Durch die Annahme, daß gilt:
^=IWj
repräsentiert β das Verhältnis der von dem optischen System
erhaltenen Lichtmenge zu der von dem Laser emittierten Gesamtlich
tmenge. Unter Verwendung dieses Wertes ^r läßt sich
die erforderliche Lichtmenge auf dem photoleitfähigen Aufzeichnungsmaterial
gewährleisten, wenn folgende Bedingung erfüllt ist:
T >To. (8.) .
Die Gleichungen (5) und (6) sind jeweils in den Figuren 5 bzw. 6 graphisch dargestellt, wobei die Ordinate
e„/e„ bzw. θτ/θτ und die Abszisse J*._ bzw. Λ* _ bezeichnen.
Auf der Basis dieser Kennlinien ist die Bestimmung von/, und /" aus den Dispersionen der Gauß-Verteilungen
^5 Og und v^ sowie aus den Lichteinfallwinkeln θ und θ
und θ,
809ΘΑΒ/-0902-
- η- i 9653
möglich, so daß sich der Wert für A aus der Bedingung (7)
bestimmen läßt. Bei dem Entwurf des optischen Systems läßt sich der Lichteinfallswinkel ©„ in der senkrecht zu der Ubergangszonenebene
des Lasers verlaufenden Ebene aus der Gleichung: .i
eg = sin'(Ds/2f8)
für einen gegebenen Durchmesser DS der Blende 13 in der senkrechten
Ebene und eine gegebene Brennweite f„ der Objektivlinee
_ 8 bestimmen, während f dann mit Hilfe der Kennlinie gemäß
Figur 5 bestimmt werden kann. Sodann läßt sich der die Beziehung:
erfüllende Wert von Θ T mit Hilfe der Kennlinie gemäß Figur 6
als Wert θ bestimmen. Damit die tatsächlich von dem optischen System erhaltene Lichtmengef größer als J* wird,
sollte der Lichteinfallwinkel in der Parallelebene zu der Ubergangszonenebene des Lasers die Bedingung erfüllen:
Wenn der Durchmesser D1. der Blende 13 in dieser
nc Ebene durch folgende Gleichung gegeben ist:
DJ = 2
f9b
sin
(ίο)
läßt sich aus den Gleichungen (9) und (10) erhalten:
/ DJ
(li;
©09845/0902
-49+
Auf der Basis der vorstehend genannten Bedingungen (3) und (11) besteht somit die Möglichkeit, eine zufriedenstellende
Abbildungsleistung in der Größenordnung der Beugungsgrenze zu erhalten und gleichzeitig die für die Aufzeichnung
auf dem photoleitfähigen Aufzeichnungsmaterial erforderliche Lichtmenge zu gewährleisten, wenn das Verhältnis der Brennweiten
der das Zylinderlinsensystem 9 bildenden Linsen innerhalb
eines folgendermaßen definierten Bereiches gewählt wird:
DS-DJ
DJ
fa J 2.44/C(DS + DJ) ~
In dem Zylinderlinsensystem 9 ist die planare Linsenfläche der plankonkaven Zylinderlinse nicht an der
Strahleintrittsseite angeordnet, wodurch ein umgekehrter Eintritt des von dieser Linsenfläche reflektierten Lichtes
in den Laser verhindert wird, da ein solcher umgekehrter Lichteinfall zu einer Rückkopplungserscheinung führt, die
unerwünschte Abweichungen der Emissionscharakteristik des
on Lasers zur Folge hat. .
Bei dem Abtastsystem gemäß Figur 3 lassen sich diepäirallelitätseigenschaften des aus dem derart aufgebauten
Zylinderlinsensystem austretenden Strahles verbessern, wenn folgende Bedingung zwischen dem Durchmesser DJ der Blende
in der Parallelrichtung zu der Ubergangszonenebene des Lasers und der Brennweite fgb der plankonvexen zylinderlinse gemäß
Figur 4(a) erfüllt ist:
DJ / 5 ' (13)
Bei der Anordnung gemäß Figur 4(a) erzeugt die
plankonkave Zylinderlinse bei dem einfallenden Lichtstrahl eine übermäßig korrigierte sphärische Aberration während
die plankonvexe Zylinderlinse eine unzureichend korrigierte
sphärische Aberration erzeugt. Wenn die vorstehend wiedergegebene Bedingung (^) erfüllt ist, läßt sich hierdurch die
90984 5/0902
sphärische Aberration bei jeder Linse verringern, wodurch eine zufriedenstellende Korrektur der sphärischen Aberration
in dem gesamten Linsensystem ermöglicht wird. Wenn dagegen die Bedingung (13) nicht erfüllt ist, wird auf Grund der erhöhten
sphärischen Aberration einer jeden Linse eine zufriedenstellende Korrektur der sphärischen Aberration des gesamten
Linsensystems erforderlich.
Beispielsweise kann bei einem optischen System mit den Parametern:
Brennweite f„ der objektivlinse 8 : 10 mm
Brennweite f., der Abtastlinse 11 : 500 mm Durchmesser DS der Blende in der senkrechten
Richtung zu der Ubergangszonenebene des Lasers:10 mm
Abstand Δ S der Divergenzursprungspositionen des Laserstrahls: 0,02 mm
Laser-Emissionswellenlänge : 0,8 jum (8000 A)
Laser-Emissionswellenlänge : 0,8 jum (8000 A)
das Minimum des Absolutwertes des Brennweitenverhältnisses der das Zylinderlinsensystem 9 bildenden plankonvexen und
plankonkaven Zylinderlinsen mit Hilfe der Gleichung (3) als Funktion des Durchmessers DJ der Blende in der Parallelrichrung
zu der Ubergangszonenebene des Lasers wiedergeben werden, wie dies durch die Kurve a in Figur 7 dargestellt ist.
Außerdem wird davon ausgegangen, daß die Winkelverteilung des von dem Halbleiterlaser emittierten Lichtes
eine Dispersion von C = (15 ) bzw. C* = (40 ) in der
on ob
äK) senkrechten Richtung bzw. der Parallelrichtung zu der Ubergangszonenfläche
des Lasers aufweist und daß das für die Aufzeichnung auf dem photoleitfähigen Aufzeichnungsmaterial erforderliche
minimale Lichtverhältnis Jr = 0,8 ist. Da der
Lichteinfallwinkel Θ«, in der senkrecht zu der Ubergangszonenebene
des Lasers verlaufenden Ebene θ = sin" (DS/2f ) = 300
90984B/0902
-17 - B 9653
■1 ist, ist das Verhältnis 0„/C^s gleich 2, so daß sich für
j-* ρ aus Figur 6 der Wert 0,955 ermitteln läßt. Damit die
minimale Lichtmenge auf dem photoleitfähigen Aufzeichnungsmaterial
hierbei gewährleistet ist, sollte unter Bezugnahme auf die vorstehend beschriebenen Bedingungen (7) und (8)
folgende Bedingung gewährleistet sein:
> -£§ = 0.838
IQ Durch Einsetzen der derart erhaltenen Werte in
den rechten Term der Bedingung (11) läßt sich der maximale
Absolutwert des Brennweitenverhältnisses der das Zylinderlinsensystem
9 bildenden Linsen als Funktion des Durchmessers D, der Blende in der Pnrallelrichtung zu der Ubergangszonenfläche
des Lasers bestimmen, wodurch die Gerade b gemäß Figur
7 erhalten wird.
Die der Erfindung zugrundeliegende Aufgabe läßt
sich somit lösen, wenn der Wert dieses Brennweitenverhältnisses
innerhalb des schraffierten Bereiches gemäß Figur 7 liegt.
Bei dem vorstehend beschriebenen AusfUhrungsbeispiel
nimmt dieses Verhältnis den Wert 1 an, wenn D- den Wert
3 »33 mm aufweist, in welchem Falle das Zylinderlinsensystem
keine Funktion mehr hat und daher entfallen kann· Allgemein
ausgedruckt, kann das Zylinderlinsensystem 9 entfallen, wenn
gilt:
DJ ^ J-fk 'DS (ιό
■■ . . ■
wobei:
82"2W ist
Auf diese Weise läßt sich eine relativ zufriedenstellende Abbildungsleistung auch ohne das Zylinderlinsensystem
9 erzielen, wenn der Durchmesser DT der Blende in der Parallel—
- 'T8" - " B'9653
richtung zu der Ubergangszonenebene des Lasers annähernd
gleich dem Wert des rechten Terms der Bedingung (lif) gewählt
wird.
Für einen unter 3,33 liegenden Wert von DJ wird
dieses Verhältnis kleiner als eins, jedoch soll ein solcher Fall aus den Betrachtungen ausgeschlossen werden, da er sich
mit der Anordnung gemäß Figur 4(a) nicht auf einfache Weise
realisieren läßt.
10
10
Das vorstehend beschriebene optische Aufzeichnungssystem ermöglicht bei seiner Verwendung in Verbindung mit einem
Abtastgerät die volle Ausnutzung der Vorteile eines direkt im Hochfrequenzbereich modulierbaren Halbleiterlasers. Hierdurch
'*> läßt sich z.B. im'Falle der Abtastung eines photoleitfähigen
Aufzeichnungsmaterials durch den von einem mit konstanter Winkelgeschwindigkeit gedrehten Polygon-Drehspiegel abgelenkten
Strahl eines Halbleiterlasers eine Hochgeschwindigkeitsaufzeichnung erzielen. Hierbei kann eine konstante Abtast-
2" geschwindigkeit auf dem photoleitfähigen Aufzeichnungsmaterial
erhalten und dadurch die erforderliche elektrische Schaltungsanordnung vereinfacht werden, indem ein einfaches ganzzahliges
Verhältnis zwischen der dem Halbleiterlaser zugeführten Modulationssignalfrequenz
und der Grundtaktfrequenz verwendet wird,
Z3 wenn die Abtastlinse 11 aus einer f-0-Linse besteht, die die
Beziehung y1 = f..θ erfüllt, wobei y1 der Abstand von der
optischen Achse zu der Abtastposition, f.- die Brennweite der
Linse und θ der Einfallwinkel des in die Linse eintretenden abgelenkten Strahles zu deren optischer Achse sind.
Auch wenn die Ablenkeinrichtung aus einem Galvanometerspiegel besteht, der an Stelle des vorstehend beschriebenen
Polygonspiegels mit einer konstanten Winkelgeschwindigkeit eine sinusförmige Schwingbewegung mit der Amplitude i) ausführt,
laßt sich die gleiche Wirkung erzielen, indem die f-9-Linse
909845/0902
- 19 - B 9653 durch eine Arkussinus-Linse ersetzt wird, die die Beziehung
y =
erfüllt, wobei y1 und θ die gleiche Bedeutung, wie vorstehend
c beschrieben, haben. Bei einer solchen Abtastung kann die Form des auf dem photoleitfähigen Aufzeichnungsmaterial ausgebildeten
Lichtpunktes in geeigneter Weise verändert werden, indem die Durchmesser DS und DJ der Blende 13 in geeigneter Weise
gewählt werden. Wenn z.B. bei einer Abtastung in y1-Richtung
IQ mit einem Lichtpunkt 13 gemäß Figur 19 der Punktdurchmesser
§ , kleiner als der Punktdurchmesser~ § , in der senkrechten
z'-Richtung gehalten wird, führt die Punktversetzung von der Position 13 zu der Position 13' gemäß Figur 20 innerhalb
der Modulationszeit für ein Bildelement zu dem durch die
κ Bezugszahl I^ bezeichneten vergrößerten Punkt, wodurch die
Dimensionen des aufgezeichneten Punktes eines Bildelementes in der y1-Richtung gleich denen in der ζ'-Richtung gehalten
werden können.
2Q Außerdem besteht die Möglichkeit, den Halbleiterlaser zur Erzielung einer Uberdeckung mehrerer Bildelemente
in der Abtastrichtung mit einer höheren Frequenz zu modulieren, wodurch ein Bild erhalten wird, das einen höheren Kontrast
in der Abtastrichtung oder der senkrecht hierzu verlaufenden Richtung aufweist.
.. Wie vorstehend beschrieben, läßt sich somit die Bildqualität durch geeignete Wahl der Blendendurchmesser in
dem Abtastsystem auf verschiedenartige Weise steuern.
In einem solchen Falle kann jedoch eine zufriedenstellende Bildqualität nur dann erzielt werden, wenn das Brennweitenverhältnis
J fg^/f- / der das Zylinderlinsensystem bildenden
Linsen die Bedingung (12) erfüllt. Bei dem vorherigen numerischen Ausführungsbeispiel läßt sich ein zufriedenstellendes
Bild in der vorstehend beschriebenen Weise erhalten, indem eine Kombination des Blendendurchmessers DJ und des
-2Ό" - B 9653
' Betrages I fg^/f- | ausgewählt wird, die innerhalb des
schraffierten Bereiches gemäß Figur 7 liegt.
Nachstehend wird ein konkretes Ausführungsbeispiel des optischen Systems näher beschrieben. In Figur
ist die Winkel-Emissionsverteilung des im Rahmen der Erfindung verwendeten Halbleiterlasers dargestellt, wobei die
Kurven S und J jeweils die Lichtintensität über der Ordinate in der senkrecht bzw. parallel zu der Ubergangszonenebene des
'0 Lasers verlaufenden Richtung als Funktion des auf der Abszisse
aufgetragenen Divergenzwinkels wiedergeben. Diese Verteilung in der senkrecht bzw. parallel zu der Ubergangszonenebene
des Lasers verlaufenden Richtung kann in ausreichendem Maße durch eine Gauß-Verteilung mit einer Dispersion (T" bzw.
'** O"*T>
die annähernd (15°) bzw. (k°) entsprechen, ange-
nähert werden. Der Halbleiterlaser arbeitet mit einem einzigen Wellentyp und einer Emissionswellenlänge von annähernd 0,8/im
ο *
(8000 A) und weist einen Abstand von ca. 0,02 mm zwischen den beiden Ausgangspositionen bzw. Divergenzursprungspositionen
*
* des Strahles auf.
In den Figuren 9, 10 und 11 sind jeweils Querschnittsansichten
der Objektivlinse 8, des Zylinderlinsensystems 9 bzw. der Abtastlinse 11 dargestellt, deren Parameter
in der nachstehend aufgeführten Tabelle 1 angegeben sind, wobei mit Ri die Krümmung der i-ten Linsenfläche, mit di
die Linsendicke entlang der optischen Achse, mit Ii der Luftspalt und mit Ni der Brechungsindex der Linse bezeichnet sind.
Die Objektivlinse gemäß Tabelle 1 ist an der
Strahlaustrittsseite mit einer Konkavlinse von negativer Brechkraft zur Bildung einer sogenannten Retrofokus-Anordnung
versehen, die zur Verlängerung des Arbeitsabstandes zwischen der Lichtemissionsfläche des Lasers und der Objektivlinse
dient und insbesondere bei einer Objektivlinse mit einer
' kurzen Brennweite sehr effektiv zur Gewinnung eines relativ
langen Arbeitsabstandes ist. Wenn diese Brennweite jedoch, ausreichend
lang ist, kann die Konkavlinse entfallen, wie dies durch die Linsenanordnung gemäß Figur 12 veranschaulicht ist,
deren Parameter in Tabelle 2 aufgeführt sind.
Weiterhin kann die Objektivlinse in der in Figur 13 dargestellten Weise aus einer einzigen asphärischen Linse
bestehen, deren Parameter in Tabelle 3 aufgeführt sind, wobei die asphärische Form durch folgende Gleichung wiedergegeben
werden kann:
R2't 'ι _ 6
■ +Ay + Dy
•ν ~
wobei R2/l = -7.833
A= 1 AkJkJ χ ίο"'1
B = 3.52553 χ 10~6 sind·
20
Ferner läßt sich das Zylinderlinsensystem gemäß
Figur 10 in äquivalenter Weise auch durch eine einzige Linse
gemäß Figur 14 ersetzen, deren Parameter in Tabelle 4 aufgeführt
sind. In diesem Falle sind die Brennweiten f_. und
9a
f9b Jeweils gleich den Brennweiten der Flächen 25 und 26.
Im Rahmen der Erfindung kann jede beliebige Kombination der vorstehend beschriebenen verschiedenen Objektivlinsen
und Zylinderlinsensysteme Verwendung finden.
Die Kombination der einzelnen asphärischen Objektivlinse gemäß Figur 13 und der einzelnen Zylinderlinse gemäß
Figur 14 stellt jedoch eine vorzugsweise verwendete Ausführungsform
dar, da durch eine solche Kombination ein einfacher Aufbau realisiert werden kann, der eine einfachere
Justierung und niedrigere Herstellungskosten ermöglicht.
909Ö4S/0902
-B--96-53
Außerdem ist eine geringere Anzahl von Linsenflächen insofern vorteilhaft, als sichhierdurch die Lichttransmission und damit
die auf das photoleitfähige Aufzeichnungsmaterial übertragbare Lichtmenge steigern lassen.
Die bei dem vorliegenden Ausführungsbeispiel verwendete Blende weist einen Durchmesser von 9j3 mm für die
aus Zf Linsenelementen bestehende Objektivlinse gemäß Figur
auf· Eine zufriedenstellende Abbildungsleistung kann auch mit einer Blende erhalten werden, die Abmessungen von 9,3 mm bzw.
16,8 mm jeweils in der senkrecht bzw. parallel zu der Ubergangszonenebene
des Lasers verlaufenden Richtung aufweist.
Im Falle der Verwendung einer Blende mit einem Durchmesser von 9j3 mm und einem für die Aufzeichnung erforderlichen
minimalen Lichtmengenverhältnis A von 0,686 läßt sich der zulässige Bereich des Brennweitenverhältnisses für
das Zylinderlinsensystem folgendermaßen aus der Bedingung (12) bestimmen:
2.1
<6.o
Bei dem vorliegenden Ausführungsbeispiel weist dieses Verhältnis für die Zylinderlinse gemäß Figur 10 sowie
gemäß Tabelle 1 den V/ert:
= 4.13
auf, während das Verhältnis für die Zylinderlinse gemäß Figur 14 und gemäß Tabelle 1\\
= 3.83
beträgt.
«09145/0902
Ferner läßt sich der Bereich für eine Blende mit den jeweiligen Abmessungen 9,3 mm bzw. 16,8 mm in der senkrecht
bzw. parallel zu der Ubergangszonenebene des Lasers verlaufenden Richtung auf einfache Weise aus der Bedingung (12) folgendermaßen
bestimmen:
< 10.8
f„a
die auch bei dem vorliegenden Ausführungsbeispiel erfüllt ist.
In Figur 15 ist die Kollimationsleistung der
Objektivlinse gemäß Figur 9 und gemäß Tabelle 1 veranschaulicht.
Figur 16 zeigt die Parallelitätseigenschaften des aus der Zylinderlinse gemäß Figur 10 und gemäß Tabelle 1 austretenden
Laserstrahls.
,In den Figuren 17(a) und 17(b) ist die Leistung
der Abtastlinse gemäß Figur 11 und Tabelle 1 veranschaulicht,
wobei in Figur 17(a) die sphärische Aberration und in Figur
17(b) der Astigmatismus und die Krümmung in der Bildebene dargestellt
sind.
In Figur 18 ist die Leistung der Objektivlinse gemäß Figur 12 und Tabelle 2 veranschaulicht.
Bei den vorstehend genannten Figuren 15S 16 und 18
repräsentiert die Abszisse jeweils die Wellenlängen-Aberration mit J^ = 0,8 · 10 mm, während die Ordinate die Höhe des austretenden
Strahles repräsentiert. Die Ordinate gemäß Figur 17(b) repräsentiert außerdem den Winkel des in die Abtastlinse
eintretenden abgelenkten Strahles zu deren optischer Achse, wobei M und S jeweils die Bildebenenkrümmung in dem merioc
dionalen und dem sagittalen Querschnitt angeben.
909845/0902
- Zk - ..© 9653 : '
Die Leistung der Objektivlinse gemäß Figur und der Zylinderlinse gemäß Figur IZf sind nicht dargestellt,
da sie annähernd derjenigen der Objektivlinse gemäß Figur bzw. der Zylinderlinse gemäß Figur 10 entspricht. Wie den
Schaubildern zu entnehmen ist, weisen diese Linsen eine ausreichende Leistungsfähigkeit in der Größenordnung der Beugungsgrenze auf.
9098Ä5/09Ö2
Tab.
No. | Ri | di | l± | Ni | f8 = 10 N.A = O.47 |
= 4.13 | |
Objek tivlin se |
1 2 3 4 5 6 7 8 |
-73.011 -12.905 36.505 16.316 34.884 -60.154 174.442 31.684 |
4.46 5.37 8.42 4.21 |
I.94 3.75 54.40 |
I.79154 I.50993 I.79154 I.50993 |
fll = ^ F/50 ω/2 = 30° |
|
Zylin derlin se |
9 10 11 12 |
-8.491 .00 00 -53.895 |
10.53 10.53 |
39.28 | I.50993 I.7833I |
V | |
Abtast linse |
13 14 15 16 |
-178.800 574.084 2174.316 -165.579 |
12.42 I5.O7 |
30.13 | I.50993 1.78331 |
||
Tab.
Ri | di | 1.35 1.18 |
Ni | f8 -- 17.9 N.A = Ο.26 |
|
489.200 | IO.I3 | I.79I54 | |||
-I6.316 32.669 I7.208 |
4.44 | I.5O993 | |||
43.789 | 15.01 | I.79154 | |||
-154.316 | |||||
No. | |||||
17 | |||||
18 19 20 |
|||||
21 | |||||
22 |
B 9653
Tab. 3
No. | Ri | di | Ni | f8 = 10 N.A = 0.47 |
23 2k |
OO -7.833 (asphärisch) |
5-32 | I.7833I | |
Tab. 4
No. | Ri | di | Ni | f9b | = 3.83 |
IA VO
CVI OJ |
-8.491 -32.549" |
72.86 | I.493OO | V | |
Nachstehend wird nun ein elektrophotographisches Laserstrahl-AufZeichnungsgerät beschrieben, bei dem das vorstehend
beschriebene optische System Verwendung findet. Ein solches Aufzeichnungsgerät kann in ähnlicher Weise wie das
Abtastsystem gemäß Figur 3 aufgebaut sein, wobei die Modulationssignale dem Halbleiterlaser 7 zur steuerung seiner Lichtemission
zugeführt werden und ein elektrophotographisches photoleitfähiges Material oder eine photoleitfähige Aufzeichnungstrommel
auf der Abtastfläche bzw. in der Abtastebene 12 angeordnet wird. Das elektrophotographische photoleitfähige
Material besteht vorzugsweise aus CdS, da die in der Nähe des Infrarotbereiches liegende Emissionsstrahlung des Halbleiterlasers
damit auf die Spektralempfindlichkeit eines solchen photoleitfähigen CdS-Materials abgestimmt ist. Im einzelnen
kann das elektrophotographische photoleitfähige Material z.B. aus Zinkoxyd, amorphem Selen oder Kadmiumsulfid bestehen.
Das auf der Basis von Selen aufgebaute photoleitfähige Material ist jedoch nicht auf Licht in der Nähe des Infrarotbereiches
abgestimmt, da sich der hochempfindliche Spektralbereich auf der kurzwelligen Seite befindet. Mit Arsen oder Tellur dotiertes
Selen weist eine in Richtung größerer Wellenlängen verschobene
- 27 - '"& $653
Spektralempfindlichkeit auf und kann daher im Rahmen der Erfindung Verwendung finden. Hierbei kann jedoch die Hinzufügung
von As oder Te zu der unerwünschten Erscheinung führen, daß sich ein niedrigerer Dunkelwiderstand ergibt, so daß in
** Bezug auf die photoleitfähige Schicht eine geeignete Gegenmaßnahme
ergriffen werden muß, die ζ·Β· in einem Zwei-Schichten-Aufbau der photoleitfähigen Schichtanordnung bestehen kann.
Eine auf der Basis von Zinkoxyd hergestellte photoleitfähige Schicht kann spektral sensibilisiert und auf die Emissionsstrahlung des Halbleiterlasers abgestimmt werden, obwohl die
ursprüngliche Spektralempfindlichkeit im Bereich von 0,35 OjJfiim
liegt. Die absolute Empfindlichkeit einer solchen photoleitfähigen Schicht beträgt jedoch weniger als 1/10
einer auf der Basis von CdS hergestellten photoleitfähigen Schicht» Aus diesem Grund wird vorzugsweise ein photoleitfähiges
Material auf der Basis von GdS verwendet, und zwar vorzugsweise in Form einer aus drei Schichten bestehenden
Anordnung aus einem leitenden Substrat, einer photoleitfähigen
CdS-Schicht und einer isolierenden Deckschicht. 20
Zusammengefaßt weist das vorstehend beschriebene optische Aufzeichnungssystem somit als Lichtquelle einen im ·
wesentlichen mit einem einzigen Wellentyp arbeitenden Halbleiterlaser, eine Objektivlinse, deren Brennpunkt in einer
senkrechten Ebene zu der Ubergangszonenebene des Halblelterlasers
im wesentlichen bei der Ausgangsposition bzw. Divergenzursprungsposition des von dem Halbleiterlaser abgegebenen
Laserstrahls liegt, eine afokale Zylinderlinse, die aus einem Linsenelement besteht, das nur in einer parallel zu der
Ubergangszonenebene des Halbleiterlasers verlaufenden Ebene
eine Brechkraft aufweist, eine Abbildungslinse, eine den in
die Abbildungelinse eintretenden Laserstrahl begrenzende Blende und ein in der Nähe des Brennpunktes der Abbildungslinse angeordnetes photoleitfähiges Aufzeichnungsmaterial auf.
35
Claims (1)
- T.EDTKE - BOHLING - K.NNEGROPE - PlLLMANN ''fsDipl.-lng. B. Pellmann Bavariaring 4, Postfach 202403 29 1 7 I 63 8000 München 2Tel.:089-539653Telex: 5-24845 tipatcable: Germaniapatent München27.April 1979 B 9653PatentansprücheOptisches Aufzeichnungssystem mit einer von einem Halbleiterlaser gebildeten Lichtquelle, dadurch gekennzeichnet, daß ein optisches Abbildungssystem (8, 9» 10, 11, 13) zur Fokussierung·des von dem Halbleiterlaser (7) abgegebenen Lichtstrahls in einer Position in der Nähe einer Aufzeichnungsebene (12) unterschiedliche Brennweiten in Bezug auf die parallel und senkrecht zu der Ubergangszonenebene des Halbleiterlasers verlaufenden Ebenen (J,S) aufweist, daß der Abstand zwischen dem Bildpunkt (6b1) des in der parallel zu der Ubergangszonenebene des Halbleiterlasers verlaufenden Ebene (J) divergierenden Lichtstrahles und dem Bildpunkt (6ar) des in der senkrecht zu der Ubergangszonenebene des Halbleiterlasers verlaufenden Ebene (S) divergierenden Lichtstrahls innerhalb der Beugungsgrenze liegt, und daß die Aufzeichnungsebene (12) zwischen den beiden Bildpunkten (6a1, 6b1) angeordnet ist.2. Optisches Aufzeichnungssystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das optische Abbildungssystem ein optisches Objektivsystem (8), dessen Brennpunkt annähernd mit der Strahlausgangsposition (6a) des Halbleiterlasers (7) in der senkrecht zu der Ubergangszonenebene des Halbleiterlasers verlaufenden Ebene (S) zusammenfällt, ein anamorphotisches optisches System (9) mit einer nur in der parallel zu der Ubergangszonenebene des Halbleiterlasers verlaufenden109845/0902Deutsche Bank (München) Wo. 51/61070 Dresdner Bank (München) Kto. 3939 844 Postscheck (München) Kto. 670-43-804- 2-- -B 9653Ebene (J) wirkenden Brechkraft und ein zwischen dem optischen Objektivsystem (8) und der Aufzeichnungsebene (12) angeordnetes optisches Abtast-Abbildungssystem (11) aufweist.3· Optisches Aufzeichnungssystem nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das optische Abbildungssystem eine Blende (13) zur Begrenzung des Lichtstrahls aufweist.k» Optisches Aufzeichnungssystem nach Anspruch 2 oder 3» dadurch gekennzeichnet, daß das anamorphotische optische System (9) ein afokales zylindrisches optisches System ist.5· Optisches Aufzeichnungssystem nach Anspruch if, dadurch gekennzeichnet, daß das afokale zylindrische optische System (9) zumindest zwei oder höchstens vier lichtbrechende Linsenflächen aufweist, wobei die dem Halbleiterlaser nächstliegend angeordnete lichtbrechende Linsenfläche eine negative und die von dem Halbleiterlaser entfernteste lichtbrechende Linsenfläche eine positive Brechkraft aufweisen.6. Optisches Aufzeichnungssystem nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß eine Ablenkeinrichtung (10) zwischen dem optischen Objektivsystem (8) und dem optischen Abtast-Abbildungssystem (11) angeordnet ist.7. Optisches Aufzeichnungssystem nach Anspruch 2 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß das optische Objektivsystem (8) ein aus drei Linsen bestehendes sphärisches Linsensystem ist, das zumindest eine Linse mit negativer Brechkraft aufweist.8. Optisches Aufzeichnungssystem nach Anspruch 2 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß das optische Objektiv-SD98A5/0902- 3 ■-" ■ *" Bsystem (8) ein aus vier Linsen bestehendes sphärisches Linsensystem ist, das zumindest zwei Linsen mit negativer Brechkraft aufweist, wobei eine Linse mit negativer Brechkraft nächstliegend zu der Aufzeichnungsebene (12) angeordnet ist.9. Optisches Aufzeichnungssystem nach Anspruch oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß das optische Objektivsystem (8) aus einer einzigen asphärischen Linse besteht.5/0902
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5184878A JPS54143661A (en) | 1978-04-28 | 1978-04-28 | Recording optical system |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2917163A1 true DE2917163A1 (de) | 1979-11-08 |
DE2917163C2 DE2917163C2 (de) | 1991-12-05 |
Family
ID=12898261
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19792917163 Granted DE2917163A1 (de) | 1978-04-28 | 1979-04-27 | Optisches aufzeichnungssystem |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4253724A (de) |
JP (1) | JPS54143661A (de) |
DE (1) | DE2917163A1 (de) |
GB (1) | GB2025651B (de) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3012178A1 (de) * | 1979-03-30 | 1980-10-09 | Canon Kk | Optisches abbildungssystem mit einem halbleiterlaser |
EP0031155A2 (de) * | 1979-12-22 | 1981-07-01 | DR.-ING. RUDOLF HELL GmbH | Anordnung zur punkt- und zeilenweisen Aufzeichnung von Bildinformationen |
FR2498341A1 (fr) * | 1981-01-20 | 1982-07-23 | Thomson Csf | Dispositif optique detecteur d'ecart de focalisation et enregistreur lecteur optique comportant un tel dispositif |
FR2500701A1 (fr) * | 1981-02-25 | 1982-08-27 | Benson Inc | Dispositif de balayage a laser |
FR2524158A1 (fr) * | 1982-02-19 | 1983-09-30 | Sony Corp | Dispositif de correction de l'astigmatisme d'un appareil optique utilisant comme source de lumiere un laser semi-conducteur |
EP0242120A1 (de) * | 1986-04-11 | 1987-10-21 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Licht-Abtastsystem |
EP0268357A2 (de) * | 1986-09-20 | 1988-05-25 | Fujitsu Limited | Optisches System aus Hologrammlinsen |
DE3919484A1 (de) * | 1989-04-15 | 1990-10-18 | Rodenstock Optik G | Optisches system zur aenderung der form des strahlquerschnittes von lichtbuendeln |
EP0400954A2 (de) * | 1989-06-01 | 1990-12-05 | Xerox Corporation | Rasterabtastystem mit simultan ablenkenden Polygonfacetten |
EP0526846A2 (de) * | 1991-08-03 | 1993-02-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Mehrstrahlige optische Abtastvorrichtung |
Families Citing this family (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4474422A (en) * | 1979-11-13 | 1984-10-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical scanning apparatus having an array of light sources |
JPS56141662A (en) * | 1980-04-04 | 1981-11-05 | Ricoh Co Ltd | Light beam scanner |
JPS5735824A (en) * | 1980-08-14 | 1982-02-26 | Ricoh Co Ltd | Light beam scanner |
US4353617A (en) * | 1980-11-18 | 1982-10-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical system capable of continuously varying the diameter of a beam spot |
JPS5818653A (ja) * | 1981-07-28 | 1983-02-03 | Sharp Corp | 記録装置 |
GB2119952B (en) * | 1982-03-21 | 1986-03-05 | Konishiroku Photo Ind | Optical beam scanning apparatus |
US4538895A (en) * | 1983-03-07 | 1985-09-03 | International Business Machines Corporation | Scanning optical system for use with a semiconductor laser generator |
US4636043A (en) * | 1984-03-01 | 1987-01-13 | Laser Photonics, Inc. | Laser beam scanning device and marking system |
US4588269A (en) * | 1984-07-05 | 1986-05-13 | Eastman Kodak Company | Apparatus which shapes gaussian beams by spherical mirrors |
JPS6187123A (ja) * | 1984-10-05 | 1986-05-02 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 走査光学系 |
JPH0734068B2 (ja) * | 1984-11-22 | 1995-04-12 | ミノルタ株式会社 | 結像光学装置 |
US4743094A (en) * | 1984-11-29 | 1988-05-10 | Lockheed Missiles & Space Company, Inc. | Finite conjugate imaging system |
US4714960A (en) * | 1985-06-03 | 1987-12-22 | Peter Laakmann | Television rate optical scanner |
NL8501805A (nl) * | 1985-06-24 | 1987-01-16 | Philips Nv | Optische aftastinrichting. |
JP2557828B2 (ja) * | 1985-09-11 | 1996-11-27 | 株式会社東芝 | 画像処理システム |
US4759593A (en) * | 1986-03-21 | 1988-07-26 | Eastman Kodak Company | High resolution optical scanner |
JPS63175822A (ja) * | 1987-01-14 | 1988-07-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光ビ−ム走査記録装置 |
JP2584224B2 (ja) * | 1987-03-30 | 1997-02-26 | 富士写真フイルム株式会社 | 光ビ−ム記録装置 |
JP2554724B2 (ja) * | 1987-12-11 | 1996-11-13 | 株式会社リコー | レーザーダイオードアレイを用いる光走査光学系 |
US5486944A (en) * | 1989-10-30 | 1996-01-23 | Symbol Technologies, Inc. | Scanner module for symbol scanning system |
JP2980938B2 (ja) * | 1990-04-12 | 1999-11-22 | 株式会社ニデック | 半導体レーザー光を集光するためのレンズ系 |
US5161047A (en) * | 1990-05-15 | 1992-11-03 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanner for image recording apparatus |
US5157534A (en) * | 1990-11-27 | 1992-10-20 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanner |
JP3093337B2 (ja) * | 1991-07-15 | 2000-10-03 | キヤノン株式会社 | 走査光学装置 |
JPH0643372A (ja) * | 1992-06-19 | 1994-02-18 | Canon Inc | 光走査装置 |
US5521999A (en) * | 1994-03-17 | 1996-05-28 | Eastman Kodak Company | Optical system for a laser printer |
AU2382795A (en) * | 1994-05-05 | 1995-11-29 | Polaroid Corporation | Apparatus and method for enhancing printing efficiency to reduce artifacts |
US5986744A (en) * | 1995-02-17 | 1999-11-16 | Nikon Corporation | Projection optical system, illumination apparatus, and exposure apparatus |
US6359640B1 (en) | 2000-04-28 | 2002-03-19 | Lexmark International, Inc. | Method and apparatus for minimizing visual artifacts resulting from laser scan process direction position errors |
CA2349912A1 (en) * | 2000-07-07 | 2002-01-07 | Heidelberger Druckmaschinen Aktiengesellschaft | Setting an image on a printing plate using ultrashort laser pulses |
JP4522253B2 (ja) * | 2004-12-24 | 2010-08-11 | キヤノン株式会社 | 光走査装置及びそれを用いた画像表示装置 |
JP4501811B2 (ja) * | 2005-08-09 | 2010-07-14 | セイコーエプソン株式会社 | 光走査装置及び画像表示装置 |
KR100800709B1 (ko) | 2005-10-10 | 2008-02-01 | 삼성전자주식회사 | 영상 스캔 장치 |
US20070253067A1 (en) * | 2006-04-28 | 2007-11-01 | Sagan Stephen F | Imaging system and method employing illumination field de-focus at the illumination modulator |
JP2010061110A (ja) * | 2008-08-07 | 2010-03-18 | Kyocera Mita Corp | 光走査光学装置、該光走査光学装置を用いた画像形成装置並びに光走査方法 |
EP3134028B1 (de) * | 2014-04-24 | 2017-08-02 | 3M Innovative Properties Company | Zahnärztliche lichtbestrahlungsvorrichtung |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1797519B1 (de) * | 1964-08-14 | 1971-01-07 | Elbe Kamera Gmbh | Kondensorsystem fuer ein Geraet zur Herstellung von fotografischen Vervielfaeltigungen,insbesondere bei gedaempftem Tages-und/oder Kunstlicht |
DE2643364A1 (de) * | 1975-09-29 | 1977-04-07 | Western Electric Co | Linsenanordnung zur umwandlung der emissionsstrahlung eines injektionslasers mit streifenfoermiger geometrie in eine solche mit sphaerischer wellenfront |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2844648A (en) * | 1954-04-23 | 1958-07-22 | Fairchild Camera Instr Co | Scanning mirror |
US3469030A (en) * | 1965-11-19 | 1969-09-23 | North American Rockwell | Optical scanner utilizing a spherical mirror |
US4142160A (en) * | 1972-03-13 | 1979-02-27 | Hitachi, Ltd. | Hetero-structure injection laser |
US3835249A (en) * | 1972-12-26 | 1974-09-10 | Ibm | Scanning light synchronization system |
US3946150A (en) * | 1973-12-20 | 1976-03-23 | Xerox Corporation | Optical scanner |
US4084881A (en) * | 1975-10-21 | 1978-04-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Light beam scanning device |
GB1561651A (en) * | 1976-02-13 | 1980-02-27 | Plessey Co Ltd | Opticalrecording apparatus |
-
1978
- 1978-04-28 JP JP5184878A patent/JPS54143661A/ja active Granted
-
1979
- 1979-04-20 US US06/031,944 patent/US4253724A/en not_active Expired - Lifetime
- 1979-04-26 GB GB7914548A patent/GB2025651B/en not_active Expired
- 1979-04-27 DE DE19792917163 patent/DE2917163A1/de active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1797519B1 (de) * | 1964-08-14 | 1971-01-07 | Elbe Kamera Gmbh | Kondensorsystem fuer ein Geraet zur Herstellung von fotografischen Vervielfaeltigungen,insbesondere bei gedaempftem Tages-und/oder Kunstlicht |
DE2643364A1 (de) * | 1975-09-29 | 1977-04-07 | Western Electric Co | Linsenanordnung zur umwandlung der emissionsstrahlung eines injektionslasers mit streifenfoermiger geometrie in eine solche mit sphaerischer wellenfront |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
Feingerätetechnik, 26. Jg., H. 11, 1977, S. 491-493 * |
Naumann, Optik für Konstrunkteure, 1970, S. 251-252 * |
Cited By (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3012178A1 (de) * | 1979-03-30 | 1980-10-09 | Canon Kk | Optisches abbildungssystem mit einem halbleiterlaser |
EP0031155A2 (de) * | 1979-12-22 | 1981-07-01 | DR.-ING. RUDOLF HELL GmbH | Anordnung zur punkt- und zeilenweisen Aufzeichnung von Bildinformationen |
EP0031155A3 (en) * | 1979-12-22 | 1981-07-08 | Dr.-Ing. Rudolf Hell Gmbh | Arrangement for the dot-and-line recording of image information |
WO1981001887A1 (en) * | 1979-12-22 | 1981-07-09 | Hell R Gmbh | Image recording device for manufacturing print negatives |
US4439022A (en) * | 1979-12-22 | 1984-03-27 | Ing. Rudolf Hell Gmbh | Arrangement for the point- and line-wise recording of image information |
FR2498341A1 (fr) * | 1981-01-20 | 1982-07-23 | Thomson Csf | Dispositif optique detecteur d'ecart de focalisation et enregistreur lecteur optique comportant un tel dispositif |
EP0057339A1 (de) * | 1981-01-20 | 1982-08-11 | Thomson-Csf | Optischer Fokussierungsfehlerdetektor und damit ausgerüsteter optischer Aufnehmer-Leser |
FR2500701A1 (fr) * | 1981-02-25 | 1982-08-27 | Benson Inc | Dispositif de balayage a laser |
FR2524158A1 (fr) * | 1982-02-19 | 1983-09-30 | Sony Corp | Dispositif de correction de l'astigmatisme d'un appareil optique utilisant comme source de lumiere un laser semi-conducteur |
US4850663A (en) * | 1986-04-11 | 1989-07-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Light scanning system |
EP0242120A1 (de) * | 1986-04-11 | 1987-10-21 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Licht-Abtastsystem |
EP0268357A2 (de) * | 1986-09-20 | 1988-05-25 | Fujitsu Limited | Optisches System aus Hologrammlinsen |
US4832464A (en) * | 1986-09-20 | 1989-05-23 | Fujitsu Limited | Optical system with grating lens assembly for correcting wavelength aberrations |
EP0268357A3 (en) * | 1986-09-20 | 1988-10-19 | Fujitsu Limited | Optical system with grating lens assembly |
DE3919484A1 (de) * | 1989-04-15 | 1990-10-18 | Rodenstock Optik G | Optisches system zur aenderung der form des strahlquerschnittes von lichtbuendeln |
EP0400954A2 (de) * | 1989-06-01 | 1990-12-05 | Xerox Corporation | Rasterabtastystem mit simultan ablenkenden Polygonfacetten |
EP0400954A3 (de) * | 1989-06-01 | 1991-08-14 | Xerox Corporation | Rasterabtastystem mit simultan ablenkenden Polygonfacetten |
EP0526846A2 (de) * | 1991-08-03 | 1993-02-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Mehrstrahlige optische Abtastvorrichtung |
EP0526846A3 (en) * | 1991-08-03 | 1993-11-03 | Canon Kk | Plural-beam scanning optical apparatus |
US5463418A (en) * | 1991-08-03 | 1995-10-31 | Canon Kabushiki Kaisha | Plural-beam scanning optical apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS54143661A (en) | 1979-11-09 |
GB2025651A (en) | 1980-01-23 |
US4253724A (en) | 1981-03-03 |
JPS6314328B2 (de) | 1988-03-30 |
GB2025651B (en) | 1983-02-09 |
DE2917163C2 (de) | 1991-12-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2917163A1 (de) | Optisches aufzeichnungssystem | |
DE2917221C2 (de) | ||
DE3022299C2 (de) | Optische Informationsverarbeitungseinrichtung | |
DE3207441C2 (de) | ||
DE3137031C2 (de) | Mehrfachstrahlenbündel-Abtastoptiksystem | |
DE4391446C2 (de) | Laserstrahl-Scanner | |
DE3922982C2 (de) | ||
DE3314963C2 (de) | ||
DE2409893A1 (de) | Vorrichtung zum optischen ablesen einer beugungsspur | |
DE3207468C2 (de) | ||
DE3703679A1 (de) | Abtastendes optisches system zur verwendung in einem laserstrahldrucker | |
DE3341589A1 (de) | Abtaster fuer eine optische platte | |
WO2003012549A2 (de) | Lithograph mit bewegtem zylinderlinsensystem | |
CH623147A5 (de) | ||
DE68912008T2 (de) | Optische Abtastvorrichtung. | |
DE3418188C2 (de) | ||
DE2834085A1 (de) | Optisches abtastsystem | |
DE69011160T2 (de) | Optisches Abtastsystem. | |
DE2722935C2 (de) | Vorrichtung zur optischen Abtastung von auf der Oberfläche eines Trägers gespeicherter Information | |
DE112022006973T5 (de) | Gerät, verfahren und vorrichtung zur lichtstrahlkollimation, speichermedium und elektronische vorrichtung | |
DE2840294A1 (de) | Optisches system | |
DE3837553A1 (de) | Optisches abtastsystem fuer die verwendung in einem laserstrahldrucker | |
DE3048132C2 (de) | Automatisches Linsenmeßgerät | |
DE10317736A1 (de) | Abtasteinheit für eine Positionsmesseinrichtung zum optischen Abtasten einer Maßverkörperung | |
DE69427449T2 (de) | Kollimationslinse für optisches Abtastgerät |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition |