[go: up one dir, main page]

DE2641099C2 - - Google Patents

Info

Publication number
DE2641099C2
DE2641099C2 DE2641099A DE2641099A DE2641099C2 DE 2641099 C2 DE2641099 C2 DE 2641099C2 DE 2641099 A DE2641099 A DE 2641099A DE 2641099 A DE2641099 A DE 2641099A DE 2641099 C2 DE2641099 C2 DE 2641099C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
weight
parts
mixture according
percent
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE2641099A
Other languages
English (en)
Other versions
DE2641099A1 (de
Inventor
Paul Dipl.-Chem.Dr. 6200 Wiesbaden De Stahlhofen
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoechst AG
Original Assignee
Hoechst AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst AG filed Critical Hoechst AG
Priority to DE19762641099 priority Critical patent/DE2641099A1/de
Priority to CH1103277A priority patent/CH629313A5/de
Priority to CA286,369A priority patent/CA1097124A/en
Priority to AU28685/77A priority patent/AU518225B2/en
Priority to US05/831,819 priority patent/US4163672A/en
Priority to SE7710117A priority patent/SE417758B/xx
Priority to NL7709935A priority patent/NL7709935A/xx
Priority to GB37896/77A priority patent/GB1591109A/en
Priority to BE180843A priority patent/BE858620A/xx
Priority to FR7727436A priority patent/FR2364490A1/fr
Priority to AT656377A priority patent/AT356148B/de
Priority to BR7706067A priority patent/BR7706067A/pt
Priority to JP52109778A priority patent/JPS6039214B2/ja
Publication of DE2641099A1 publication Critical patent/DE2641099A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2641099C2 publication Critical patent/DE2641099C2/de
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/022—Quinonediazides
    • G03F7/0226—Quinonediazides characterised by the non-macromolecular additives
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein lichtempfindliches Ge­ misch, das als lichtempfindliche Substanz eine o- Naphthochinondiazidverbindung, eine lichtempfindliche, Säure abspaltende, halogenhaltige Verbindung und einen Farbstoff enthält und bereits nach dem Belichten ein der Belichtungsvorlage entsprechendes Bild deutlich erkennen läßt.
Es ist aus den DE-PS 8 54 890 und DE-PS 9 38 233 bekannt, zur Herstellung vorsensibilisierter Druckplatten als lichtempfindliche Substanzen Naphthochinon-(1,2)- diazid-Verbindungen zu verwenden. Derartige lichtempfind­ lich gemachte Schichten haben jedoch den Nachteil, daß die an sich gelb gefärbten Naphthochinon-(1,2)-diazid- Schichten bei der Belichtung zu einem fahlgelb gefärbten Lichtzersetzungsprodukt ausbleichen, wodurch die nicht vom Licht zersetzten Schichtanteile (Bildstellen) und die Lichtzersetzungsprodukte (Nichtbildstellen) nur schwer visuell zu unterscheiden sind. Dies führt in der Praxis sehr oft zu Fehlkopien, vor allem bei der Belichtung in den sogenannten Repetier-Kopiermaschinen, in denen ein einziges Diapositiv zum Beispiel für den Etikettendruck mehrfach nebeneinander auf die Druckplatte projiziert wird. Da der Kontrast zwischen Bild- und Nichtbildstellen auf der Druck­ platte nach dem Belichten nur schwach ist, insbesondere bei ihrer Betrachtung in Gegenwart von gelbem Licht, wie es in den Kopierräumen bei der Verarbeitung von lichtempfindlichen Druckplatten erforderlich ist, kann es beispielsweise sehr schwierig sein, genaue und platzsparende Einpaß-Arbeiten durchzuführen.
Diesen Nachteil kann man bekanntermaßen dadurch beseitigen, daß man der lichtempfindlichen Schicht einen farbigen organischen Indikator-Farbstoff in homogener Verteilung zugibt, der im pH-Bereich zwischen 2,5 und 6,5 seine Farbe wechselt (DE-OS 14 47 011). In der US-PS 36 69 658 wird eine andere Lösung offenbart, bei der o-Chinondiazide oder Naphthochinondiazide mit einem Leukofarbstoff nach der Belichtung ein gefärbtes Bild in den belichteten Bereichen bilden. Nachteilig ist bei diesen Schichten jedoch, daß der erzielbare Bildkontrast unter den Bedingungen der Praxis in vielen Fällen noch nicht genügend ist und bei der nachfolgenden Entwicklung wieder verschwindet.
Aus der DE-OS 22 29 365 ist ein lichtempfindliches Mate­ rial zur Herstellung von Druckformen bekannt, das in Mischung ein Diazoniumsalz, ein Novolakharz und gegebe­ nenfalls eine Azoverbindung enthält, welches in Gegenwart der Lichtzersetzungsprodukte des Diazoniumsalzes eine Farbänderung erfährt. Die Farbänderung beruht auf der Bildung eines Azofarbstoffes durch Reaktion des Diazo­ niumsalzes mit dem Novolakharz, der gelb bis braungefärbt ist, oder auf der Farbänderung der vorhandenen Azoverbin­ dung. Das farbändernde Material muß mit den Materialien der Schicht verträglich und darf kein Fremdstoff für das bilderzeugende Material sein. Nachteilig ist an diesem Material, daß die Farbänderung gegenüber der gelblichen Schicht nur nach der bildmäßigen Belichtung vorhanden ist und mit der Entwicklung die farblich geänderten Teile entfernt werden. Die entwickelte Druckform ist nur schwer korrigierbar, weil bei dem üblichen gelben Licht die verbliebenen gelben Schichtbestandteile nur geringen Kontrast ergeben. Außerdem besitzt das Material nur eine geringe Lichtempfindlichkeit, die man gegebenenfalls unter Inkaufnahme von Kontrastverlust durch Zusatz eines Chinondiazids steigern kann.
In der DE-OS 23 31 377 werden beim Belichten ihren Farb­ ton ändernde Kopierschichten beschrieben, deren lichtemp­ findliche Bestandteile ein o-Naphthochinondiazid-4-sul­ fonsäurehalogenid enthalten, wodurch sich zusammen mit einem geeigneten Farbstoff sowohl nach der Belichtung mit aktinischem Licht als auch nach der Entwicklung ein deut­ lich sichtbarer und bleibender Bildkontrast ergibt. Nach­ teilig ist es jedoch, daß mit einer an- oder ausbelichte­ ten Druckschablone, die aus einer Druckplatte mit einer Kopierschicht der genannten Zusammensetzung und bestimm­ ten Schichtträgern, wie zum Beispiel drahtgebürstetem Aluminium, hergestellt wird, eine niedrigere Auflagenhöhe zu erzielen ist, als wenn eine unter vergleichbaren Normbedingungen erzeugte Kopierschicht ohne den genann­ ten, einen Bildkontrast ergebenden Zusatz verwendet wird.
Der vorliegenden Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, eine lichtempfindliche Kopierschicht der oben beschriebenen Art, beispielsweise für die Herstellung von Druckplatten, Leiterbildern, Siebdruckschablonen oder Pho­ toresists zur Verfügung zu stellen, welche die beschrie­ benen Nachteile nicht hat und nach dem Belichten unter einer Vorlage ein Abbild der Vorlage zeigt, das kontrast­ reicher als bei bisherigen Kopiermaterialien dieser Art ist, nach dem Entwickeln mit alkalischen Lösungen kon­ trastreich bleibt und eine gute Druckauflage gewähr­ leistet.
Die Erfindung geht aus von einem lichtempfindlichen Ge­ misch, das einen Ester oder ein Amid einer o-Naphtho­ chinondiazidsulfon- oder -carbonsäure zusammen mit einem zur Salzbildung befähigten organischen Farbstoff enthält und beim Belichten ihren Farbton ändert. Das erfindungs­ gemäße Gemisch ist dadurch gekennzeichnet, daß es eine Kom­ bination von
  • a) einem Ester oder einem Amid aus o-Naphthochinondiazid­ sulfon- oder -carbonsäure und, auf die Menge dieser Verbin­ dung bezogen,
  • b) 1 bis 50 Gewichtsprozent eines zur Salzbildung befähigten Triphenylmethan-, Azin- oder Anthrachinonfarbstoffes und
  • c) 5 bis 75 Gewichtsprozent einer lichtempfindlichen, bei Belichtung Säure abspaltenden, halogenhaltigen Diazoverbin­ dung der allgemeinen Formel worinRa= einen Arylmercapto-, Benzoylamino- oder Alkoxyphenyl-Rest, Rb und Rc= einen Alkoxy-, insbesondere Ethoxylrest und A= PF₆, BF₄ oder AsF₆,bedeuten, enthält.
In einer bevorzugten Ausführungsform enthält das Gemisch 10 bis 40 Gewichtsprozent der lichtempfindlichen, Säure abspaltenden, halogenhaltigen Diazoverbindung und 3 bis 30 Gewichtsprozent des Farbstoffs.
Es kann davon ausgegangen werden, daß die in dem erfin­ dungsgemäßen lichtempfindlichen Gemisch vorhandene licht­ empfindliche, Säure abspaltende, halogenhaltige Verbin­ dung bei der Belichtung photolytisch gespalten wird und in einer Folgereaktion mit dem Farbstoff unter Änderung des Farbtons reagiert, so daß nach der Belichtung mit aktinischem Licht ein deutlicher Kontrast zwischen den belichteten und nicht belichteten Bildstellen vorliegt.
Ferner sind die nicht vom Licht getroffenen, ebenfalls eingefärbten Bereiche gegen den anzuwendenden Entwickler resistent, so daß auch nach der Entwicklung ein kontrast­ reich eingefärbtes Abbild der Belichtungsvorlage erhal­ ten bleibt.
Als Diazoniumsalze kommen die der Diazotypie bekannten Verbindungen mit ausnutzbarer Absorption zwischen 300 und 600 nm in Frage.
Beispiele für Typen von Diazoniumkationen, die sich für die Verwendung in dem erfindungsgemäßen Gemisch als Teil der lichtempfindlichen, Säure abspaltenden Verbindung gut eignen, sind die folgenden Ionen: 4-Alkoxyphenyl-benzol- diazonium-, 4-Benzoylamino-benzoldiazonium-, 4-Benzoyl­ amino-2,5-dialkoxy-benzoldiazonium, 4-Aryl-mercapto-ben­ zoldiazonium-Kationen.
Einige besonders erprobte und erfahrungsgemäß ausreichend lagerfähige Diazoniumverbindungen sind in den Beispielen genannt; sie werden zweckmäßig in Form ihrer organisch löslichen Salze, bevorzugt als Abscheidungsprodukt mit komplexen Säuren wie Bortetrafluorwasserstoff-, Hexa­ fluorphosphor- oder Hexafluorarsensäure eingesetzt.
Als geeignete Farbstoffe werden u. a. besonders basi­ sche Farbstoffe aus der Gruppe der Triphenylmethane, d. h. solche, die sich vom Triphenylmethan durch Sub­ stitution des Phenylrestes durch NH₂-, OH-, HSO₃- oder anderen Gruppen oder Atomen ableiten verwendet. Weiter sind Farbstoffe aus der Gruppe der Azine, wie Phenazine, Oxazine oder Farbstoffe aus der Gruppe der Anthrachinone, d. h. solche, die sich vom Anthrachinon ableiten, wobei die chromopheren Gruppen
sind, erfindungsgemäß geeignet. Hierzu gehören Kristall­ violett (42 555), Methylviolett 2 B (42 535), Malachitgrün (42 000), Fuchsin (42 510), Kristall­ violettcarbinolbase (42 555 : 1), Parafuchsin (42 500), Sudanblau G (61 520), Acilanbrillantblau 5 B (42 740), Acilanviolett S 4 BN (42 640), Astradiamantgrün GX (42 040), Rhodamin B (45 170), Samaronblau GSL (62 500), Viktoriablau B (44 045), Alizarindirektblau (62 055), Viktoriareinblau BOD (42 595), Brillant­ grün (42 040), Nilblau BX (51 185), Neutralrot (50 040) und Rhodulinreinblau 3 G (51 004).
Die in Klammern stehenden Zahlen bedeuten dabei die "C. I. Constitution Number", die in dem fünf­ bändigen Werk "Colour Index" 3. Auflage (1971, London) zur Identifizierung der Farbstoffe verwendet wird. Am deutlichsten ist der gewünschte bildgemäße Farbkontrast der belichteten Schicht dann, wenn der in ihr enthaltene Farbstoff ein roter, blauer oder grüner ist. Solche Farb­ stoffe werden daher bevorzugt verwendet.
Als lichtempfindliche Substanz enthalten die Gemische eine oder mehrere der oben angegebenen Chinondiazid-Verbindungen. Ihre Herstellung ist bei­ spielsweise in den deutschen Patentschriften 8 54 890, 8 65 109, 8 79 203, 8 94 959, 9 38 233, 11 09 521, 11 14 705, 11 18 606, 11 20 273, 11 24 817 und 15 43 721 beschrieben.
Das erfindungsgemäße Gemisch kann in an sich bekannter Weise in wässrigem Alkali lösliche oder quell­ bare Harze, wie Novolake, Weichmacher und andere für licht­ empfindliche Schichten übliche Zusatz- und Hilfsmittel enthalten. Der Harzgehalt kann dabei erheblich groß sein und beispielsweise mehrere hundert Prozent des Gesamt­ gehalts an o-Naphthochinondiazidverbindungen betragen.
Als Schichtträger für das erfindungsgemäße lichtempfindliche Gemisch können die in den jeweiligen Reproduktionstechniken üblichen verwendet werden, das sind z. B. aus einem Metall, wie Aluminium oder Zink hergestellte Platten oder Folien mit entsprechend vorbehandelter Oberfläche, ferner Mehrmetallplatten, wie aus Chrom/Kupfer, Chrom/Kupfer/Aluminium, Chrom/Kupfer/ Zink, ferner Papierfolien, Kunststoff-Folien, für den Siebdruck geeignete Gewebe oder metallisierte Isolier­ stoffplatten.
Durch das erfindungsgemäße Gemisch wird es möglich, bei den seit Jahren bewährten, positiv arbeitenden Kopier­ schichten durch Belichten eine deutliche Farbänderung in den belichteten Gebieten auch dann zu erhalten, wenn die Kopierschicht infolge des in ihr enthaltenen Farbstoffs eine kräftige Eigenfärbung aufweist, und damit ein kontrast­ reiches Bild zu erhalten, welches sich auch bei gelber Beleuchtung deutlich von den nicht belichteten Stellen abhebt.
Auch nach der Entfernung der belichteten Teile mit einem alkalischen Entwickler ist noch eine kontrastreich ge­ färbte Schablone entsprechend der Belichtungsvorlage zu sehen. Hierdurch werden mitkopierte Filmkanten und Paß­ kreuze, die üblicherweise nach der Entwicklung entfernt bzw. korrigiert werden müssen, deutlicher sichtbar. Auf das Einfärben mitkopierter Filmränder, um sich besser sichtbar zu machen, kann daher verzichtet werden.
Ein weiterer Vorteil der hergestellten Kopierschichten ist die ausgezeichnete Lagerfähigkeit auch unter extremen, z. B. tropischen Bedingungen und die Stabilität der Druckauflage, beispielsweise auch von unter Umständen bereits anbelichteten Druckschablonen. Die erfin­ dungsgemäß verwendeten, bei Belichtung Säure abspaltenden, halogenhaltigen Verbindungen sind, wie auch ihre Einstufung in die Gefahrenklasse III (= Brennbare Stoffe) der Anlage C zur Eisenbahnverkehrsordnung zeigt, verhältnismäßig stabile Verbindungen und bieten deshalb eine größere Anwendungsbreite als z. B. einige der bisher für diesen Zweck verwendete Verbindungen.
In den folgenden Beispielen ist ein Vol.-Teil 1 ml, wenn für 1 Gew.-Teil 1 g genommen wird.
Beispiel 1
Man löst
 0,6 Gew.-Teiledes Veresterungsproduktes aus 1 Mol 2,3,4-Trihydroxy-benzophenon und 3 Mol Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-5- sulfon-säurechlorid,  0,4 Gew.-Teiledes Veresterungsproduktes aus 1 Mol 2,2′-Dihydroxy-dinaphthyl-(1,1′)- methan und 2 Mol Naphthochinon-(1,2)-diazid- (2)-5-sulfonsäurechlorid,  6,45 Gew.-Teileeines Kresol-Formaldehyd-Novolaks (Schmelzpunkt nach Kapillar-Methode DIN 53181: 105-120°C),  0,13 Gew.-TeileKristallviolett (C. I. 42 555) und  0,30 Gew.-Teile4-(p-Tolylmercapto)-2,5-diethoxy- benzol-diazonium-hexafluorophosphat
in einem Lösungsmittelgemisch aus
80 Vol.-TeilenEthylenglykolmonomethylether und 15 Vol.-TeilenButylacetat.
Mit dieser Lösung beschichtet man eine durch Bürsten aufgerauhte Aluminium-Folie.
Die so erhaltene lichtempfindliche Druckplatte hat eine tief blau gefärbte Kopierschicht. Nach ihrer Belichtung unter einem Diapositiv bleiben die unbelichteten Bereiche der Schicht kräftig blau gefärbt, während die belichteten Bereiche der Schicht nur noch schwach gefärbt bis nahezu farblos erscheinen. Man sieht daher das Bild der Vorlage in so gutem Kontrast, daß es auch bei gelber Beleuchtung in allen Einzelheiten deutlich erkennbar ist.
Zur Herstellung einer Druckform wird die belichtete Druckplatte in bekannter Weise mit einer Lösung von
 5,3 Gew.-TeilenNatriummetasilikat · 9 Wasser,  3,4 Gew.-TeilenNatriumorthophosphat · 12 Wasser,  0,3 Gew.-TeilenNatriumdihydrogenphosphat (wasser­ frei) in 91 Vol.-TeilenWasser
entwickelt, wobei die belichteten Schichtbereiche ent­ fernt werden. Die zurückbleibenden nicht belichteten Schichtbereiche bleiben mit gutem Kontrast zum unge­ färbten Untergrund sichtbar.
In den folgenden Beispielen 2 bis 8 wird in entspre­ chender Weise wie im obigen Beispiel 1 verfahren, und es werden nach dem Belichten der erhaltenen lichtempfind­ lichen Druckplatten hinsichtlich des Bildkontrasts, sowohl vor als auch nach dem Entwickeln, im wesentlichen ent­ sprechende Resultate erhalten. Es werden daher für die folgenden Beispiele meist nur die Rezepturen der Beschich­ tungslösungen und die Art der verwendeten Schichtträger angegeben und nur gelegentlich weitere kurze Bemerkungen hinzugefügt.
Beispiel 2
Beschichtungslösung:
 1,20 Gew.-Teiledes Veresterungsproduktes aus 1 Mol 2,4-Dihydroxy-benzophenon und 2 Mol Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-5- sulfonsäurechlorid,  0,70 Gew.-Teiledes Veresterungsproduktes aus 1 Mol 2,2′-Dihydroxy-dinaphthyl-(1,1′)- methan und 2 Mol Naphthochinon-(1,2)-diazid- (2)-5-sulfonsäurechlorid,  4,80 Gew.-Teileeines Phenol-Formaldehyd-Novolaks (mit 14 Gew.-% OH-Gruppen) (Schmelzpunkt nach Kapillar-Methode DIN 53 181 : 110 bis 120°C),  0,20 Gew.-TeilePolyvinylbutyral,  0,15 Gew.-TeileAstradiamantgrün GX (C. I. 42 040),  0,30 Gew.-Teile4-(p-Tolylmercapto)-2,5-diethoxy- benzol-diazonium-hexafluorophosphat und 95 Vol.-TeileLösungsmittelgemisch nach Beispiel 1.
Kopierschichtträger: verchromtes Aluminiumblech.
Beispiel 3
Beschichtungslösung:
 0,60 Gew.-Teiledes Veresterungsproduktes aus 1 Mol 2,4-Dihydroxy-benzophenon und 2 Mol Naphthochinin-(1,2)-diazid-(2)-5- sulfonsäurechlorid,  0,40 Gew.-Teiledes Veresterungsproduktes aus 1 Mol 2,2′-Dihydroxy-dinaphthyl-(1,1′)- methan und 2 Mol Naphthochinon-(1,2)-diazid- (2)-5-sulfonsäurechlorid,  6,40 Gew.-TeileNovolak (wie im Beispiel 1),  0,15 Gew.-TeileSamaronblau GSL (C. I. 62 500),  0,40 Gew.-Teile4-(p-Tolylmercapto)-2,5-diethoxy- benzoldiazonium-tetrafluoroborat und 95 Vol.-TeileLösungsmittelgemisch nach Beispiel 1.
Kopierschichtträger: durch Bürsten aufgerauhte Al-Folie.
Beispiel 4
Beschichtungslösung:
 0,90 Gew.-Teiledes p-Cumylphenylesters der Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-4-sulfonsäure,  1,00 Gew.-Teiledes Veresterungsproduktes aus 1 Mol 2,2′-Dihydroxy-dinaphthyl-(1,1′)- methan und 2 Mol Naphthochinon-(1,2)-diazid- (2)-5-sulfonsäurechlorid,  5,00 Gew.-TeileNovolak (wie im Beispiel 2),  0,20 Gew.-TeilePolyvinylbutyral,  0,15 Gew.-TeileBrillantgrün (C. I. 42 040),  0,30 Gew.-Teile4-Benzoylamino-2,5-diethoxy- benzoldiazonium-hexafluorophosphat und 95 Vol.-TeileLösungsmittelgemisch nach Beispiel 1.
Kopierschichtträger: durch Bürsten aufgerauhte Al-Folie.
Beispiel 5
Beschichtungslösung:
 0,90 Gew.-Teiledes Veresterungsproduktes aus 1 Mol 2,3,4-Trihydroxy-benzophenon und 3 Mol Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-5- sulfonsäurechlorid,  0,60 Gew.-Teiledes Veresterungsproduktes aus 1 Mol 2,2′-Dihydroxy-dinaphthyl-(1,1′)- methan und 2 Mol Naphthochinon-(1,2)-diazid- (2)-5-sulfonsäurechlorid,  5,40 Gew.-TeileNovolak (wie im Beispiel 1),  0,05 Gew.-TeileKristallviolett-Base (C. I. 42 555 : 1),  0,15 Gew.-Teile4-(4′-Ethoxy-phenyl)-2,5-diethoxy- benzoldiazonium-hexafluorophosphat,  0,50 Gew.-TeilePhosphorsäuretri-(β-chlorethyl)- ester und 95 Vol.-TeileLösungsmittelgemisch nach Beispiel 1.
Kopierschichtträger: elektrolytisch aufgerauhte und anodisierte Aluminiumfolie.
Beispiel 6
Beschichtungslösung:
 0,90 Gew.-Teiledes Veresterungsproduktes aus 1 Mol 2,3,4-Trihydroxy-benzophenon und 3 Mol Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-5- sulfonsäurechlorid,  0,70 Gew.-Teiledes Veresterungsproduktes aus 1 Mol 2,2′-Dihydroxy-dinaphthyl-(1,1′)- methan und 2 Mol Naphthochinon-(1,2)-diazid- (2)-5-sulfonsäurechlorid,  5,30 Gew.-TeileNovolak (wie im Beispiel 1)  0,08 Gew.-TeileViktoriablau B (C. I. 44 045),  0,30 Gew.-Teile4-(p-Tolylmercapto)-2,5- diethoxy-benzoldiazonium-tetrafluoroborat,  0,50 Gew.-TeilePhosphorsäuretri-(β-chlorethyl)ester und 95 Vol.-TeileLösungsmittelgemisch nach Beispiel 1.
Kopierschichtträger: elektrolytisch aufgerauhte und anodisierte Aluminiumfolie.
Beispiel 7
Beschichtungslösung:
 0,60 Gew.-Teiledes Veresterungsproduktes aus 1 Mol 2,3,4-Trihydroxy-benzophenon und 3 Mol Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-5- sulfonsäurechlorid,  0,40 Gew.-Teiledes Veresterungsproduktes aus 1 Mol 2,2′-Dihydroxy-dinaphthyl-(1,1′)- methan und 2 Mol Naphthochinon-(1,2)- diazid-(2)-5-sulfonsäurechlorid,  6,45 Gew.-TeileKresol-Formaldehyd-Novolak (wie im Beispiel 1),  0,14 Gew.-TeileKristallviolett-Base (C. I. 42 555 : 1),  0,35 Gew.-Teile4-(p-Tolylmercapto)-2,5-diethoxy- benzoldiazonium-hexafluoroarsenat, 95 Vol.-TeileLösungsmittelgemisch nach Beispiel 1
Kopierschichtträger: durch Bürsten aufgerauhte Al-Folie.
Beispiel 8
Dieses Beispiel beschreibt eine Kopierschichtlösung, die als Positiv-Kopierlack für verschiedene Zwecke, insbe­ sondere für das Herstellen von Ätzschablonen, verwendet werden kann, zum Beispiel beim Ätzen von Formteilen und Schildern und bei der Herstellung von Leiterbildern, ins­ besondere auch für die Mikroelektronik. Die Lösung weist eine gute Haltbarkeit auf. Die Beschichtungsart und die Schichtdicke können in weiten Grenzen den jeweiligen Anforderungen angepaßt werden. Nach der Belichtung heben sich die belichteten Gebiete von den unbelichteten Gebieten kontrastreich ab. Die belichteten Gebiete lassen sich mit einem alkalischen Entwickler (pH etwa 12,8) mühelos entfernen.
Beschichtungslösung:
 1,5 Gew.-Teiledes Veresterungsproduktes aus 1 Mol 2,3,4-Trihydroxy-benzophenon und 2 Mol Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-5- sulfonsäurechlorid,  0,4 Gew.-Teile4-(p-Tolylmercapto-2,5-diethoxy)- benzoldiazonium-hexafluorophosphat,  0,1 Gew.-TeileKristallviolett (C. I. 42 555), 10,0 Gew.-Teileeines Phenol-Formaldehyd-Novolaks (wie im Beispiel 2),  2,0 Gew.-TeileEpoxyharz (R), 40 Vol.-TeileEthylenglykolmonomethylether, 50 Vol.-TeileTetrahydrofuran und 10 Vol.-TeileButylacetat.
Mit dieser Lösung wird eine mit einer 35 µ starken Kupfer-Folie kaschierte Isolierstoffplatte (R) beschichtet.
Tabelle
Farbumschlag der erfindungsgemäßen Kopierschichten beim Belichten

Claims (5)

1. Lichtempfindliches Gemisch, dadurch gekennzeichnet, daß es eine Kombination von
  • a) einem Ester oder einem Amid aus o-Naphthochinondiazid­ sulfon- oder -carbonsäure und, auf die Menge dieser Verbin­ dung bezogen,
  • b) 1 bis 50 Gewichtsprozent eines zur Salzbildung befähigten Triphenylmethan-, Azin- oder Anthrachinonfarbstoffes und
  • c) 5 bis 75 Gewichtsprozent einer lichtempfindlichen, bei Belichtung Säure abspaltenden, halogenhaltigen Diazoverbin­ dung der allgemeinen Formel worinRa= einen Arylmercapto-, Benzoylamino- oder Alkoxyphenyl-Rest, Rb und Rc= einen Alkoxy-, insbesondere Ethoxylrest und A= PF₆, BF₄ oder AsF₆,bedeuten, enthält.
2. Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es 3 bis 30 Gewichtsprozent Farbstoff und 10 bis 40 Ge­ wichtsprozent an lichtempfindlicher Diazoverbindung enthält.
3. Gemisch nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeich­ net, daß es einen Farbstoff aus der Gruppe der Triphenyl­ methane enthält.
4. Gemisch nach Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekenn­ zeichnet, daß es ferner ein in wäßrigem Alkali lösliches oder quellbares Harz enthält.
5. Gemisch nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Harz ein Novolak ist.
DE19762641099 1976-09-03 1976-09-13 Lichtempfindliche kopierschicht Granted DE2641099A1 (de)

Priority Applications (13)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19762641099 DE2641099A1 (de) 1976-09-13 1976-09-13 Lichtempfindliche kopierschicht
CH1103277A CH629313A5 (de) 1976-09-13 1977-09-08 Lichtempfindliche kopiermasse.
AU28685/77A AU518225B2 (en) 1976-09-03 1977-09-09 Photosensitive compositions
US05/831,819 US4163672A (en) 1976-09-13 1977-09-09 Photosensitive composition
SE7710117A SE417758B (sv) 1976-09-13 1977-09-09 Ljuskenslig kopieringsmassa
NL7709935A NL7709935A (nl) 1976-09-13 1977-09-09 Lichtgevoelige kopieermassa.
CA286,369A CA1097124A (en) 1976-09-13 1977-09-09 Photosensitive composition including a halogen- containing diazonium salt and an organic salt-forming dye
BE180843A BE858620A (fr) 1976-09-13 1977-09-12 Matiere a copier photosensible
GB37896/77A GB1591109A (en) 1976-09-13 1977-09-12 Photosensitive composition
FR7727436A FR2364490A1 (fr) 1976-09-13 1977-09-12 Matiere a copier photosensible
AT656377A AT356148B (de) 1976-09-13 1977-09-12 Lichtempfindliche kopiermasse
BR7706067A BR7706067A (pt) 1976-09-13 1977-09-12 Maquina copiadora sensivel a luz
JP52109778A JPS6039214B2 (ja) 1976-09-13 1977-09-12 感光性組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19762641099 DE2641099A1 (de) 1976-09-13 1976-09-13 Lichtempfindliche kopierschicht

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2641099A1 DE2641099A1 (de) 1978-03-16
DE2641099C2 true DE2641099C2 (de) 1988-10-20

Family

ID=5987763

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19762641099 Granted DE2641099A1 (de) 1976-09-03 1976-09-13 Lichtempfindliche kopierschicht

Country Status (13)

Country Link
US (1) US4163672A (de)
JP (1) JPS6039214B2 (de)
AT (1) AT356148B (de)
AU (1) AU518225B2 (de)
BE (1) BE858620A (de)
BR (1) BR7706067A (de)
CA (1) CA1097124A (de)
CH (1) CH629313A5 (de)
DE (1) DE2641099A1 (de)
FR (1) FR2364490A1 (de)
GB (1) GB1591109A (de)
NL (1) NL7709935A (de)
SE (1) SE417758B (de)

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1604652A (en) * 1977-04-12 1981-12-16 Vickers Ltd Radiation sensitive materials
JPS542720A (en) * 1977-06-08 1979-01-10 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Forming method of photopolymerized image
JPS5734201Y2 (de) * 1978-11-06 1982-07-28
US4308368A (en) * 1979-03-16 1981-12-29 Daicel Chemical Industries Ltd. Photosensitive compositions with reaction product of novolak co-condensate with o-quinone diazide
JPS57163234A (en) * 1981-04-01 1982-10-07 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition
US4348471A (en) * 1981-06-15 1982-09-07 Polychrome Corporation Positive acting composition yielding pre-development high visibility image after radiation exposure comprising acid free novolak, diazo oxide and acid sensitive dyestuff
DE3144480A1 (de) * 1981-11-09 1983-05-19 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial
JPS5979248A (ja) * 1982-10-29 1984-05-08 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 感光性組成物
GB2139369B (en) * 1983-05-06 1987-01-21 Sericol Group Ltd Photosensitive systems showing visible indication of exposure
JPS61141442A (ja) * 1984-12-14 1986-06-28 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JPS61235832A (ja) * 1985-04-10 1986-10-21 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 感光性組成物及び感光性平版印刷版
JPH0213389Y2 (de) * 1985-04-15 1990-04-13
JPH07113773B2 (ja) * 1986-07-04 1995-12-06 株式会社日立製作所 パタ−ン形成方法
JP2623309B2 (ja) * 1988-02-22 1997-06-25 ユーシービー ソシエテ アノニム レジストパターンを得る方法
JPH0680462B2 (ja) * 1989-03-13 1994-10-12 株式会社きもと 感光性フィルム及びその現像方法
IT1248758B (it) * 1990-06-07 1995-01-27 Plurimetal Srl Miscele fotosensibili
GB2277382A (en) * 1993-04-19 1994-10-26 Pan Graphics Ind Limited Photoresist composition
DE4414897A1 (de) * 1994-04-28 1995-11-02 Hoechst Ag Aromatische Diazoniumsalze und deren Verwendung in strahlungsempfindlichen Gemischen
TW439016B (en) * 1996-09-20 2001-06-07 Sumitomo Chemical Co Positive resist composition

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL80569C (de) * 1949-07-23
NL78025C (de) * 1951-02-02
NL273552A (de) * 1961-01-25
GB1347759A (en) * 1971-06-17 1974-02-27 Howson Algraphy Ltd Light sensitive materials
BE789196A (fr) * 1971-09-25 1973-03-22 Kalle Ag Matiere a copier photosensible
DE2331377C2 (de) * 1973-06-20 1982-10-14 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches Kopiermaterial

Also Published As

Publication number Publication date
AU518225B2 (en) 1981-09-17
BE858620A (fr) 1978-03-13
CA1097124A (en) 1981-03-10
AU2868577A (en) 1979-03-15
NL7709935A (nl) 1978-03-15
JPS5336222A (en) 1978-04-04
ATA656377A (de) 1979-09-15
FR2364490B1 (de) 1981-10-16
GB1591109A (en) 1981-06-17
SE7710117L (sv) 1978-03-14
JPS6039214B2 (ja) 1985-09-05
DE2641099A1 (de) 1978-03-16
AT356148B (de) 1980-04-10
CH629313A5 (de) 1982-04-15
BR7706067A (pt) 1978-07-04
FR2364490A1 (fr) 1978-04-07
US4163672A (en) 1979-08-07
SE417758B (sv) 1981-04-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2641100C2 (de) Lichtempfindliches Gemisch
DE2331377C2 (de) Lichtempfindliches Kopiermaterial
DE2641099C2 (de)
DE2229365C2 (de) Lichtempfindliches, positiv arbeitendes Gemisch zur Herstellung von Druckformen nach photomechanischen Verfahren, seine Herstellung und Verwendung
DE2944237C2 (de) Lichtempfindliches Gemisch und es enthaltendes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
DE3788103T2 (de) Lichtempfindliche Zusammensetzung.
DE1285877B (de) Lichtempfindliche Schichten
DE3325023A1 (de) Verfahren zur herstellung negativer kopien mittels eines materials auf basis von 1,2-chinondiaziden
DE1291197B (de) Verfahren zur Herstellung von Farbprueffolien
DE3100077A1 (de) Lichtempfindliches gemisch, das einen naphthochinondiazidsulfonsaeureester enthaelt, und verfahren zur herstellung des naphthochinondiazidsulfonsaeureesters
DE3325022A1 (de) Verfahren zur herstellung negativer kopien mittels eines materials auf basis von 1,2-chinondiaziden
EP0078980A1 (de) Lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial
DE3544165C2 (de)
DE69501429T2 (de) Positiv arbeitende, fotoempfindliche Zusammensetzungen
DE3123752C2 (de)
EP0078981B1 (de) Lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial
DE3201151A1 (de) Positive lichtempfindliche masse und diese enthaltendes positives lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE2507548A1 (de) Lichtempfindliche lithographische druckplatte
DE1597614A1 (de) Lichtempfindliche Kopierschicht
DE3240935A1 (de) Positiv abbildende, strahlungsempfindliche masse, positiv abbildendes, strahlungsempfindliches element und positiv abbildende, lithografische platte
DE3211960C2 (de)
DE3100856A1 (de) Lichtempfindliches gemisch auf basis von o-napthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial
DE3144657A1 (de) Lichtempfindliche masse
DE1670652A1 (de) Azoniadiazoketone sowie Verwendung derselben zur Herstellung lichtempfindlicher,photographischer Materialien
DE2843069A1 (de) Offsetdruckplatte mit verbessertem farbkontrast zwischen den bild- und den nichtbildbereichen

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee