DE3201151A1 - Positive lichtempfindliche masse und diese enthaltendes positives lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial - Google Patents
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Description
BESCHREIBUNG
Die Erfindung betrifft eine zur Herstellung lithographischer
Druckplatten, von Abzügen für Mehrfarbendruck, von integrierten Schaltungen oder Photoma'sken
geeignete positive lichtempfindliche Masse, insbesondere eine durch Zusatz spezieller Sensibilisatoren
ohne Beeinträchtigung der Entwicklungstoleranz sensibilisierte positive lichtempfindliche Massö mit
einer Chinondiazidverbindung.
Lichtempfindliche Massen mit Chinondiazidverbindungen
werden in großem Umfang in der Industrie als positive lichtempfindliche Massen zur Herstellung
lithographischer Druckplatten und von Photoresists zum Einsatz gebracht. Es gibt bereits zahlreiche
Versuche zur Verbesserung der Lichtempfindlichkeit von solche Chinondiazidverbindungen enthaltenden
lichtempfindlichen Massen, diese Versuche lassen jedoch immer noch zu wünschen übrig.
Eine Verminderung der Menge an der Chinondiazidverbindung führt selbstverständlich zu einer Erhöhung
30
der Empfindlichkeit, gleichzeitig verringert sich hierbei jedoch der Entwicklungsspielraum, d.h. die"
Zeitdauer bis zu einer optimalen Entwicklung, so daß diese Maßnahme in der Praxis ungeeignet ist. Auch
durch Kombinieren einer Chinondiazidverbindung mit 35
Harzbindemittel größerer Löslichkeit in einer wässrigen alkalischen Lösung läßt sich die Empfind-
lichkeit scheinbar erhöhen, auch hier wird jedoch -ähnlich wie vorher beschrieben- der Entwicklungsspielraum enqer. Es wurde auch bereits versucht,
einer lichtempfindlichen Masse mit einer Chinondiazidverbindung
zur Steigerung ihrer Empfindlichkeit eine nicht lichtempfindliche Verbindung, d.h. einen
Sensibilisator, einzuverleiben. Audh diese Versuche haben jedoch bislang noch nicht zum Erfolg geführt.
Aus der US PS 3 661 582 ist es beispielsweise bekannt, einer lichtempfindlichen Masse der beschriebenen Art
eine Verbindung aus einer speziellen Klasse hydrocyclischer Verbindungen, z.B. 2-Azacyclononan-2-on,
Indol, Chinazolin oder Tetrazol, zuzusetzen, um deren
Empfindlichkeit zu erhöhen. In diesem Falle erreicht man nur einen extrem engen Entwicklungsspielraum.
Aus der JP-OS 42449/1971 sind die verschiedensten Zusätze (lichtempfindlichen Massen) zur Steigerung
der photographischen Empfindlichkeit bekannt. Bespiele hierfür sind Triphenylmethanfarbstoffe,
Benzaldehyd-m-tolylhydrazon, halogenierte Kohlenwasserstoffe
und Azofarbstoffe. Diese Zusätze zeigen jedoch keine ausgeprägte Sensibilisierungswirkung.
Aus der JP-OS 36203/1975 ist es zu demselben Zweck ^O bekannt, lichtempfindlichen Massen ö-Benzoesäuresul-
- f-ifitid, Hydantoin oder dessen Derivate, Thiohydantoin
oder dessen Derivate zuzusetzen. Aus der JP-OS 80022/ 1977 ist es bekannt, lichtempfindlichen Massen
cyclische Säureanhydride einzuverleiben (vgl. das später folgende Vergleichsbeispiel 2). Auch in
letzteren beiden Fällen wird der EntwicRlungsspiel-
raum dann, wenn die Menge an Zusatz ausreicht, um die Empfindlichkeit zu steigern, für die Praxis zu eng.
Aus der JP-OS 54503/1977 ist es bekannt, einem lichtempfindlichen
Vervielfältigungsmaterial zur Verbesserung der Schichthaftung an dem Schichtträger ein
Polyhydroxybenzophenon einzuverleiben. Trotz einer gewissen Erhöhung der Empfindlichkeit ist jedoch auch
hier keine ausgeprägte Sensxbilisierungswirkung feststellbar. Weiterhin ist es zur Steigerung der Empfindlichkeit
aus der JP-OS 73045/1980 bekannt, einer lichtempfindlichen Masse ein Kondensationsprodukt aus
Hydroxybenzophenon und Formaldehyd einzuverleiben (vgl. das später folgende Vergl ichsbeispiel 3).
In letzterem Falle benötigt man ähnlich wie bei Nachvollziehung der Lehren der JP-OS 54503/1977 eine
beträchtliche Menge an Zusatz, um die Empfindlichekeit merklich zu erhöhen. Durch diese große Menge an Zusatz
verschlechtern sich jedoch der Entwicklungsspielraum bzw. die Entwicklungstoleranz und die
Chemikalienbeständigkeit.
Der Erfindung lag nun die Aufgabe zugrunde, eine positive lichtempfindliche Masse mit einer lichtempfindlichen
Chinondiazidverbindung anzugeben, deren Empfindlichkeit ohne Beeinträchtigung sonstiger
wichtiger Eigenschaften, z.B. des Entwicklungsspielraums, deutlich erhöht ist.
Diese Aufgabe läßt sich eärfindungsgemäß bei einer
positiven lichtempfindlichen Masse mit einer positiven lichtempfindlichen Chinondiazidverbindung lösen,
^ wenn man ihr als Sensibilisator mindestens eine Verbindung der allgemeinen Formel
COOR
und/oder
einverleibt.
In der allgemeinen Formel (I) steht R für ein Wasser- ° stoffatom oder eine Alkyl-, Aralkyl-, gegebenenfalls
substituierte Aryl- oder Cycloalkylgruppe oder ein
Alkalimetallatom.
In der allgemeinen Formel (II) können die Reste R1,
R- und R3 gleich oder verschieden sein und für ein
Wasserstoff- oder Halogenatom oder eine Alkyl-, Alkoxy-, gegebenenfalls substituierte Aryl-, Acyl-,
Nitro- oder Hydroxylgruppe stehen. Auch die verschiedenen Reste R0 können untereinander gleich oder ver-3
schieden sein.
Beispiele für durch R darstellbare Alkylgruppen sind solche mit vorzugsweise 1-18 Kohlenstoffatom—
(en), insbesondere solche mit 1-4 Kohlenstoffatom— (en). Die Alkylgruppen können gerad- oder verzweigtkettig
sein. Typische Beispiele für geeignete Alkylgruppen sind Methyl-, Ethyl-, Isopropyl-, tert.-Butyl-,
Isoamyl-, n-Hexyl-, n-Octyl, Lauryl-,
Cetyl- und Stearylgruppen. Beispiele für geeignete Aralkylgruppen sind vorzugsweise Benzyl-, Phenethyl··,
3-Phenylpropyl- und 2-Naphthylmethylgruppen. Beispiele
für gegebenenfalls substituierte Arylgruppen sind insbesondere Phenyl"/ Naphtyl", Anthryl- und
Phenanthrylgruppen. Als Substituenten für die substituierten
Arylgruppen kommen vorzugsweise kurzkettige Alkylgruppen mit 1'bis 4 Kohlenstoffatom (en) , Alkoxygruppen
mit 1 bis 4 Kohlenstoffatom (en) , Acylgruppen
mit 2 bis 4 Kohlenstoffatomen, Halogenatome, z.B.
Chlor- oder Bromatome, Nitrogruppen, Hydroxylgruppen und Carboxylgruppen in Frage. Die substituierten
Arylgruppen können zwei oder mehr gleiche oder verschiedene Substituenten enthalten. Bespiele für ge-
eignete Cycloalkylgruppen sind vorzugsweise Cyclopropyl",
Cyclopentyl" oder Cyclohexylaruppen. Beispiele
für geeignete Alkalimetallatome sind vorzugsweise Lithium, Natrium, Kalium oder Rubidiumatome.
Die durch R1, R2 oder R3 dargestellten Alkyl- oder
gegebenenfalls substituierten Arylgruppen entsprechen den im Zusammenhang mit dem Rest R genannten Gruppen.
Durch R1, R2 oder R^ darstellbare Alkoxygruppen sind
vorzugsweise solche mit 1 bis 12 Kohlenstoffatom (en). Typische Beispiele hierfür sind Methoxy^ Ethoxy;
Iso-Prc-poxy- oder tert.-Butoxygruppen und dergleichen,
insbesondere Methoxy- und Ethoxygruppen. Durch R1, R3
oder R- darstellbare Acylgruppen sind vorzugsweise solche mit 2 bis 8 Kohlenstoffatomen. Beispiele hierfür
sind Acetyl-, Propionyl-, ButyrYl- und Benzoylgruppen und dergleichen. Durch R1, R„ oder R3 darstellbare
Halogenatome sind Fluor-, Chlor-, Brom- oder Jodatome, vorzugsweise Chlor- und Bromatome. In der allgemeinen
Formel (II) können die Reste R1, R2 und R3,
wie bereits erwähnt, gleich oder voneinander verschieden sein und die gleichen oder verschiedene Substituenten
enthalten. Ferner können sämtliche möglichen Kombinationen solcher Gruppen vorkommen.
Bevorzugte positive lichtempfindliche Chinondiazidverbindungen
sind durch Umsetzen von 1,2-Diazobenzochinonsulfonylchlörid
oder 1,2-Diazonaphthochinonsulfonylchlörid
mit einer eine phenolische Hydroxylgruppe enthaltenden Verbindung erhaltene Ester und durch Umsetzen
von 1,2-Diazobenzochinonsulfonylchlorid oder
1,2-Diazonaphthochinonsalfonylchlorid mit einem aromatischen
Amin erhaltene Amide. Verbindungen mit einer phenolischen Hydroxylgruppe sind vorzugsweise Phenole
und Kondensationsprodukte von Phenolen mit Aldehyden oder Ketonen. Beispiele für Phenole sind Phenol selbst,
Cresol, Bisphenol A, Cumy!phenol, Resorcin, p.iert.-Butylphenol,
Pyrogallol und dergleichen. Beispiele für (damit umsetzbare) Aldehyde sind Formaldehyd, Acetaldehyd,
Benzaldehyd, p-Nitrobenzaldehyd, Butylaldehyd und dergleichen. Beispiele für (damit umsetzbare)
Ketone sind Aceton, Methylethylketon, Acetophenon,
Benzophenon und dergleichen.
35
35
Die erfindungsgemäß am meisten bevorzugten Chinondiazide
verbindungen sind durch Umsetzen von 1,2-Diazobenzo-B
chinonsulfonylchlorid mit einer PoIyhydroxyphenylverbindung
oder durch Umsetzen von 1,2-Diazonaphthochinonsulfonylchlorid mit einem Resorcin/Benzaldehyd-Harz
erhaltene Ester. Weiter gutjjeeignete Chinondiazidver-
bindungen sind durch Umsetzen von 1,2-Diazobenzochinon-10
äulfonylchlorid oder 1,2-Diazonaphthochinonsulfonylchlorid
mit einem Phenol/Formaldehyd-Harz (vgl. US-PS 3 046120 und 3 188 210) sowie durch Umsetzen
von 1,2-Diazonaphthochinonsulfonylchlorid mit
einem Kondensationsprodukt aus Pyrogallol und Aceton 15
(vgl. US-PS 3 635 709) erhaltene Ester. Andere geeignete Chinondiazidverbindungen sind beispielsweise aus den
JP-OS 5303/1972, 63802/1973, 63803/1973, 96575/1973, 13354/1973, 38701/1974, 11222/1966, 9610/1970 und
_n 17481/1974, den US-PS 2 797 213, 3 454 400, 3 544 323,
3 573 917, 3 674 495 und 3 785 825, den GB-PS 1 227 602, 1 251 345, 1 267 005, 1 329 888 und 1 330 932 sowie der
DE-PS 854 890 bekannt.
2g Eine positive lichtempfindliche Masse gemäß der Erfindung
kann gegebenenfalls auch ein Bindemittel enthalten. Bespiele für bevorzugte Harzbindemittel sind
in wässrigen alkalischen Lösungen lösliche Novolackharze. Typische Beispiele für Novolackharze sind
Phenol/Formaldehyd-, Kresol/Formaldehyd- und p-iert.-Butylphenol/Formaldehyd-Harze
sowie phenolmodifizierte Xylolharze.
Bezogen auf das Gesamtgewicht
der lichtempfindlichen Masse kann darin die Chinondiazidverbindung
in einer Menge von 10 bis 50, vorzugsweise von 20 bis 40 Gewichtsprozent enthalten sein. Bezogen
auf das Gesamtgewicht der lichtempfindlichen Masse kann darin das Bindemittel in einer Menge von 45 bis
80, vorzugsweise von 50 bis 70 Gewichtsprozent enthalten sein.
Beispiele für in Kombination mit einer Chinondiazidverbindung verwendbare"Verbindungen der allgemeinen
Formel (I) sind Gallussäure und sämtliche Arten von Gallussäurederivaten, d.h. Gallussäure selbst, Methylgallat,
Ethylgallat, Isopropylgallat, tert.-Butylgallat, Laurylgallat, Stearylgallat, Benzylgallat,
Phenylgallat, Cyclohexylgallat, Gerbsäure, Digallussäure, Kaliumgallat und dergleichen, -vorzugsweise
Gallussäure, Methylgallat und Ethylgallat. Bezogen auf das Gesamtgewicht der lichtempfindlichen Masse
kann die Menge an Verbindung der allgemeinen Formel (I) 0,5 bis 20, vorzugsweise 1-7 Gewichtsprozent betragen.
Bespiele für in Kombination mit einer Chinondiazidverbindung
verwendbare Verbindungen der allgemeinen Formel (II) sind 1,4-Naphthochinon und sämtliche Arten
von 1,4-Naphthochinonderivatenjwie 1,4-Naphthochinon
selbst, 2-Methyl-1,4-naphthochinon, 2-Ethyl-1,4-naphtho-
J-L9-. chinon, 2-Propyl-1,4-naphthochinon, 2,3-Dimethyl-1,4-naphthochinon,
2,5-Dimethy1-1,4-naphthochinon, 2-Methoxy-1,4-naphthochinon, 2-Phenyl-1,4-naphthochinon,
2-(p-Tolyl)-1,4-naphthochinon,2-Acety1-1,4-naphthochinon,
3-Chlor-1,4-naphthochinon, 6-Chlor-1,4-naphthochinon,
6-Brom-1,4-naphthochinon, 6-Nitro-1,4-naphthochinon und 2-Hydroxy-1,4-naphthochinon,
vorzugsweise 1,4-Naphthochinon, 2-Methyl-1,4-naphtho-
chinon und 6-Chlor-1,4-naphthochinon.
Von den genannten Sensibilisatoren können selbstver-" ständlich auch zwei oder mehrere gegebenenfalls in
Kombination mit anderen Sensibilisatoren zum Einsatz gelangen.
Bezogen auf das Gesamtgewicht der lichtempfindlichen
Masse können die Verbindungen der allgemeinen Formel (II) in einer Menge von 0,5 bis 20, vorzugsweise von 1
bis 7 Gewichtsprozent zum Einsatz gelangen.
Wie bereits erwähnt, können in Kombination mit einer
Chinondiazidverbindung auch Sensibilisatoren der allgemeinen
Formel (I) und Sensibilisatoren der allgemeinen Formel (II) gemeinsam zum Einsatz gebracht werden.
_n In diesem Falle beträgt dann ihre Gedamtmenge, bezogen
auf das Gesamtgewicht der lichtempfindlichen Masse, 0,5 bis 20, vorzugsweise 1 bis 10 Gewichtsprozent.
Eine positive lichtempfindliche Masse gemäß der Erfindung
kann zusätzlich Füllstoffe, Farbstoffe und Pigmente, photolytische Säurebildner, 1,2-Naphthochinon-(2)'-4-sulfonsäurechlofid,
oberflächenaktive Mittel bzw. Netzmittel zur Verbesserung der Auftrageigenschaften
und sonstige übliche Zusätze und Hilfsmittel enthalten. Je nach der Art des verwendeten Zusatzes
Rann die Menge an Zusatz, bezogen auf das Gesamtgewicht der lichtempfindlichen Masse, 0,01 bis 20, vorzugsweise
0,05 bis 10 Gewichtsprozent betragen.
Erfindungsgemäß bevorzugt verwendbare Farbstoffe sind
basische Farbstoffe und öllösliche Farbstoffe. Bei-
spiele für basische Farbstoffe sind Viktoriareinblau
(CI-Nr. ), Viktoriablau (CI-Nr. 44045 D) , 5
Methylviolett (CI-Nr. 42 535) , Eisenmalachitgrün
(CI-Nr. 42000) , Patentreinblau VX (CI-Nr. ), Rhodamin B (CI-Nr. 45170) und Methylenblau (CI-Nr. 52015)
Beispiele für öllösliche Farbstoffe sind Sudanblau II
(CI-Nr. ), Viktoriablau F4R (CI-Nr. 44045 D) , 10
ölblau Nr. 603 (CI-Nr. 61555), ölblau BOS (CI-Nr. 61555)
und ölblau II N (CI-Nr. 61555).
Eine lichtempfindliche Masse gemäß der Erfindung kann
auf einen geeigneten Schichtträger, z.B. ein Aluminium-15
blech, ein Kupferblech, ein verchromtes Eisenblech, einen Kunststoffilm, Papier, ein Bimetall, ein Trimetall,
eine mit Kupfer kaschierte Kunststoffplatte zur Herstellung gedruckter Schaltungen, ein plattenförmiges
Verbundgebilde, z.B. eine mit Chrom bedampfte Glasplatte und dergleichen, vor Gebrauch aufgetragen
und -getrocknet werden. Der jeweilige Schichtträger kann zur Verbesserung der Haftung der lichtempfindlichen
Schicht mechanisch oder chemisch oberflächenbehandelt c werden.
Eine lichtempfindliche Masse gemäß der Erfindung wird
vor dem Auftragen (auf einen Schichtträger) in Form einer Beschichtungsmasse oder -lösung in einem geeigneten
organischen Lösungsmittel gelöst. Beispiel für geeignete Lösungsmittel sind Ethylendichlorid,
Cyclohexanon, Methylethylketon, Methylglykol, Ethylglykol,
Methylglykolacetat, Ethylglykolacetat, Dioxan, Ethylacetat, Dimethylformamid und dergleichen. Die
Lösungsmittel können entweder alleine oder in Form einer Mischung zum Einsatz gelangen. Der Feststoffgehalt
der erhaltenen Beschichtungsmasse oder -lösung sollte
zweckmäßigerweise 1 bis 50 Gewichtsprozent betragen. Die Auftragmenge kann je nach dem beabsichtigten Verwendungszweck
des fertigen Aufzeichnungsmaterials
0,5 bis 3,0 g/m Trägerfläche (Feststoffgehalt) betragen.
Zum Auftragen der Beschichtungsmasse oder -lösung kann man sich üblicher bekannter Auftragmaßnahmen
bedienen.
Das erhaltene lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial
kann in üblicher bekannter Weise zum Einsatz· gelangen. So kann beispielsweise eine durchsichtige Vorlage mit
Strich- oder"Rasterbildern der lichtempfindlichen Seite
des Aufzeichnungsmaterials zugeordnet (z.B. auf diese gelegt) und das Ganze dann belichtet werden. Das belichtete
Aufzeichnungsmaterial wird schließlich zur Herstellung eines der Vorlage entsprechenden positiven
Hochbildes mit einer wässrigen Alkalilösung entwickelt. Zur Belichtung geeignete Lichtquellen sind beispielsweise
Quecksilber-, Metallhalogenide Xenon- oder Kohlenbogenlampen oder chemische Lampen. Zum Entwickeln
geeignete wässrige Alkalilösungen sind bei- ° spielsweise wässrige Lösungen von Natriumsilikat,
Kaliumsilikat, Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Natriumtert.-Phosphat, Natrium-sec.-Phosphat, Natriumkarbonat,
Kaliumkarbonat und dergleichen. Diese wässrigen Alkalilösungen können das Alkali in (entsprechend der ver-
wendeten lichtempfindlichen Masse und dem verwendeten
Alkali) unterschiedlicher Konzentration, zweckmäßigerweise in einer Konzentration von 0,1 bis 10 Gewichtsprozent,
enthalten. Gegebenenfalls kann die wässrige
Alkalilösung ein oberflächenaktives Mittel bzw. Netz-35
mittel oder ein organisches Lösungsmittel, z.B. einen Alkohol, enthalten.
Ein unter Verwendung einer lichtempfindlichen Masse gemaß
der Erfindung hergestelltes Aufzeichnungsmaterial/ insbesondere ein solches zur Herstellung lithographischer
Druckplatten, besitzt eine höhere Empfindlichkeit als
die unter Verwendung bekannter positiver lichtempfindlicher Massen hergestellten lichtempfindlichen Auf-Zeichnungsmaterialien,
weswegen die Belichtungszeit verkürzt werden kann und somit ein Zeitgewinn erzielt wird.
Bei Verwendung eines Sensibilisators der allgemeinen Formel (T) kann auch in einem alkalischen Entwickler
eine Verfärbung an Rasterstellen und an den Säumen der Rasterpunkte unterdrücken. Eine solche Verfärbung ist
anjsich bei positiven lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien mit einer Chinondiazidverbindung unvermeidlich.
Somit lassen sich mit erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterialien schaffgestochene Strich- und
Punktbilder mit einem sog. guten Grundkontrast (foot contrast) herstellen. Vermutlich kann man aufgrund
dessen die Belichtung mit Hilfe einer Grauskala auch bei verminderter Anzahl von Stufen im Rasterbereich
(half-tone portion) durchführen. Ferner erhält man im Vergleich zur Nicht-Mitverwendung eines Sensibilisators
der allgemeinen Formel (I) kleinere Punkte. Bei Verwendung eines Sensibilisators der allgemeinen
Formel (II) erhält man im Vergleich zur Nicht-Mitverwendung eines solchen Sensibilisators größere Punkte.
Folglich erhält man bei Kombination von Sensibilisatoren der allgemeinen Formel (I) mit solchen der allgemeinen
Formel (II) geeignete Punkte.
Wie dargestellt, liefert ein unter Verwendung einer lichtempfindlichen Masse gemäß der Erfindung hergestelltes
Aufzeichnungsmaterial insbesondere lithogra-
phische Druckplatten, die sich durch Eigenschaften auszeichnen,
welche mit Hilfe anderer positiver lichtempfindlicher Massen nicht erhältlich sind.
Die folgenden Beispiele und Vergleichsbeispiele sollen die Erfindung näher veranschaulichen.
Auf ein Aluminiumblech mit elektrochemisch aufgerauhter und anodisch oxidierter Oberfläche wird eine lichtempfindliche
Beschichtungsmasse der folgenden Zusammen-
setzuna:
Veresterunasprodukt zwischen Naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfonylchlorid
und einem Resorcin/Benzaldehvd-Harz 3,00 g
Kresol/Novolack-Harz 9,00 g
Gallussäure 0,36 g
Viktoriareinblau BOH
(CI-Nr. ) 0,12 g
Methylglykol 100,00 g
derart aufgetragen, daß das Filmgewicht nach dem 30
Trocknen 2,5 g/m beträgt.
Nachdem die Oberfläche des erhaltenen lichtempfindlichen
Aufzeichnungsmaterials mit einer positiven Vorlage in Kontakt gebracht worden war, wird das
Ganze aus einem Abstand von 70 cm mittels einer 2 kW-Metallhalogenidlampe 60 s lang belichtet. Danach
wird das belichtete Aufzeichnungsmaterial 45 s lang bei einer Temperatur von 25°C mit einer zweiprozentiaen
wässrigen Natriununetasilikatlösunq entwickelt. Die
optimale Belichtungszeit bemißt sich danach, daß fünf Stufen in der Grauskala bei Gradationen mit Dichteunterschieden
von 0,15 vollständig klar wiedergegeben werden.
Gleichzeitig wird durch eine Punktskala mit 150 Strichen/
2,54 cm belichtet, um die Reproduzierbarkeit eines Puhktbezirks auf dem lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial
zu ermitteln ( im folgenden als "Punktreduzierbarkeit" bezeichnet). Der Prozentanteil an
Punktbezirk auf dem lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial
entsprechend einem prozentualen Bereich von 49% Punktbezirk auf der Vorlage wird mit Hilfe eines
Punktanalysengeräts mit 37,3% gemessen.
Ferner hat es sich gezeigt, daß innerhalb von 6 min bei der Entwicklung in einer zweiprozentigen wässrigen
Natriummetasilikatlösung bei 250C eine klare Stufenänderung
in der Grauskala erfolgt {im folgenden als "Entwicklungsspielraum" bezeichnet).
Wird mit Hilfe der erhaltenen Druckplatte in einer Offaetdruckpresse gedruckt, erhält man eine große
Anzahl qualitativ hochwertiger Drucke.
Vergleichsbeispiel 1
Entsprechend Beispiel 1 wird lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
hergestellt, wobei jedoch keine
Gallussäure mitverwendet wird.
35
35
Das erhaltene lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial
wird entsprechend Beispiel 1 belichtet und mit Hilfe
einer zweiprozentigen wässrigen Natriummetasilikatlösung
entwickelt. Der Zeitpunkt, an welchem fünf Stufen in 5
der Grauskala mit Dichteunterschieden von 0,15 vollständig klar werden (optimale Belichtungsdauer),
liegt unter entsprechenden Versuchsbedingungen (wie in Bespiel 1) bei 125 s.
Die Ergebnisse des Beispiels 1 und Vergleichsbeispiels zeigen, daß sich durch den Zusatz von Gallussäure zu
der lichtempfindlichen Schicht die Lichtempfindlich-Reit
um das etwa Doppelte erhöhen läßt.
Entsprechend Beispiel 1 wird mit Hilfe demselben Punktskala auch der prozentuale Punktbereich auf dem
lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial ermittelt. Er beträgt 40,2%.
Dies bedeutet, daß bei Mitverwendung von Gallussäure (Beispiel 1) etwa 3% kleinere Punkte (verstärkte Punktverkleinerung)
gebildet werden als bei Fehlen der Gallussäure (Vergleichsbeispiel 1).
Die Entwicklungstoleranz des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials
des Vergleichsbeispiels 1 bei Verwendung einer zweiprozentigen wässrigen Natriummetasilikatlösung
liegt änlich wie in Beispiel 1 im Bereich von 6 min. Somit kommt es durch die Mitverwendung der
Gallussäure (in Beispiel 1) nicht zu einer Beeinträchtigung des Entwicklungsspielraums.
Vergleichsbeispiel 2
5
5
Auf ein Aluminiumblech mit elektrochemisch aufgerauhter
und anodisch oxidierter Oberfläche wird eine lichtempfindliche Beschichtungsmasse der folgenden Zusammensetzung
(vgl. Beispiel 1 der JP-OS 80022/1977):
10
10
Veresterungsprodukt zwischen
Naphthochinon-1,2-diazid-5
sulfonylchlorid und einem
Naphthochinon-1,2-diazid-5
sulfonylchlorid und einem
Pyrogallol/Aceton-Harz 0,30 g
(vgl. Beispiel 1 der US PS
3 635 709)
15
15
Kresol/Novolack-Harz 0,97 g
Tetrahydrophtalsäureanhydrid 0,05 g
Additionsprodukt aus Benzylalkohol und einer handelsüb-
liehen Polyisocyanatverbindung,
bei der an ein Mol Trimethylolpropan 3 Mole Toluoldiisocyanat
addiert sind 0,03 g
addiert sind 0,03 g
ölblau Nr. 603 (CI-Nr. 61555) 0,01 g
Ethylendichlorid 10,00 g
2-Metoxyethylacetat' 10,00 g
derart aufgetragen, daß das Filmgewicht nach dem
30
30
Trocknen 2,3 g/m Trägerfläche beträgt.
Das erhaltene lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial
wird entsprechend Beispiel 1 belichtet und mit einer
zweiprozentigen wässrigen Natriummetasilikatlösung entwickelt. Unter entsprechenden Versuchsbedingungen liegt der Zeitpunkt, an welchem fünf Stufen in der Grauskala mit Dichteunterschieden von 0,15 vollständig klar er-
wird entsprechend Beispiel 1 belichtet und mit einer
zweiprozentigen wässrigen Natriummetasilikatlösung entwickelt. Unter entsprechenden Versuchsbedingungen liegt der Zeitpunkt, an welchem fünf Stufen in der Grauskala mit Dichteunterschieden von 0,15 vollständig klar er-
scheinen (optimale Belichtungszeit), bei 85 s.
Eine Messung des prozentualen Punktbereichs mit Hilfe 5
der in Beispiel 1 verwendeten Punktskala ergibt einen
Wert von 39,6%.
Der Entwicklungsspielraum in einer zweiprozentigen wässrigen Natriummetasilikatlösung bei 250C liegt im
Bereich von 4 min.
Die Ergebnisse zeigen deutlich, daß ein System mit einem darin enthaltenen zyklischen Säureanhydrid
zwar eine stark verbesserte Lichtempfindlichkeit besitzt,
daß die Verbesserung jedoch geringer ist als bei Verwendung eines erfindungsgemäß einsetzbaren Sensibilisators
und daß der Einfluß des zyklischen Säureanhydrids auf den EntwicRlungsspielraum nicht vernachlässigbar
ist.
Vergleibhsbeispiel 3
Auf ein Aluminiumblech mit elektrochemisch aufgerauhter und anodisch oxidierter Oberfläche wird eine lichtempfindliche
Beschichtungsmasse der folgenden Zusammensetzung (vgl. Beispiel 1 der JP-OS 73045/1980):
Veresterungsprodukt zwischen g0 1 Mol 2,3,4-Trihydroxybenzo-
phenon und 3 Mol Naphthochinon-
1,2-diazid-5-sulfonylchlorid 0,73 g
Veresterungsprodukt zwischen 1 Mol 2,2'-Dihydroxy-dinaphthyl-(1,1')-methan
und 2 Mol Naphthochinon-1,2-Siazid-5-sulfonylchlorid
0,55 g
Naphthochinon-1,2-diazid-4-
sulfonylchlorid 0,17g
5,33 | g |
0,06 | g |
0,68 | g |
40,00 | g |
50,00 | g |
10,00 | g |
Kresol/Formaldehyd/Novolack-Harz
eines Erweichungsb punkts von 105-1200C
Kristallviolett (CI-Nr. 42555)
Kondensationsprodukt zwischen 2,3,4-Trihydroxybenzophenon
und Formaldehyd
10
10
Methylglykol Tetrahydrofuran
Butylacetat
derart aufgetragen, daß das Filmgewicht nach dem Trocknen 2,5 g/m Trägerfläche beträgt.
Das erhaltenen lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial wird entsprechend Beispiel 1 belichtet und mit einer
' zweiprozentigen wässrigen Natriummetasilikatlösung entwickelt. Unter entsprechenden Versuchsbedingungen
liegt der Zeitpunkt, an welchem fünf Stufen in der Grauskala mit Dichteunterschieden von 0,15 klar erscheinen
(optimale Belichtungsdauer^ bei 100 s.
Eine Bestimmung des prozentualen Punktbereichs mittels der in Beispiel 1 verwendeten Punktskala ergibt einen
Wert von 40,7%. Der Entwicklungsspielraum in einer zweiprozentigen wässrigen Natriummetasilikatlösung
bei 250C liegt im Bereich von 6 min.
Die Ergebnisse zeigen deutlich, daß der Zusatz eines Hydroxybenzophenon/Formaldehyd-Harzes den Entwicklungs-Spielraum
kaum beeinflußt, daß jedoch die Erhöhung der Empfindlichkeit deutlich geringer ist als im Falle
eines erfindungsgemäß einsetzbaren Sensibilisators.
Auf einen Aluminiumschichtträger mit elektrochemisch aufgerauhter
' und anodisch oxidierter Oberfläche entsprechend Beispiel 1 wird eine Beschichtungsmasse der
folgenden Zusammensetzung:
Veresterungsprodukt zwischen Naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfonylchlorid
und einem m-Kresol/Formaldehyd-Harz (vgl. Beispiel 3 der JP-OS
9610/1970)
Kresol/Novolack-Harz
Ethylgallat
Viktoriareinblau BOH (CI-Nr. )
20 ölblau 2N (CI-Nr. 61555)
Ethylglykol
4 | ,00 | g |
8 | ,00 | g |
0 | ,48 | g |
0 | .06 | g |
0 | ,04 | g |
100 | ,00 | g |
derart aufgetragen, daß das Filmgewicht nach dem 25
Trocknen 2,3 g/m Trägerfläche beträgt.
Das erhaltene lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial
wird entsprechend Beispiel 1 auf seine optimale Belichtungszeit und seinen Entwicklungsspielraum hin unter-
QQ sucht. Erstere beträgt 68 s, letzterer liegt im Bereich
von 6 min. Die Punktreproduzierbarkeit auf dem lichtempfindlichen
Aufzeichnungsmaterial beträgt bei der Messung mit der in Beispiel 1 verwendeten Punktskala
37,9%.
Wird mit Hilfe der erhaltenen Druckplatte in einer Offsetdruckpresse gedruckt, erhält man eine große
Anzahl qualitativ hochwertiger, scharfer und kontrastreicher Drucke.
5
5
Auf ein Aluminiumblech mit mit Hilfe einer Nylonbürste
mechanisch aufgerauhter und anodisch oxidierter Oberfläche wird eine lichtempfindliche Beschichtungsmasse der
folgenden Zusammensetzung:
mechanisch aufgerauhter und anodisch oxidierter Oberfläche wird eine lichtempfindliche Beschichtungsmasse der
folgenden Zusammensetzung:
Veresterungsprodukt zwischen
Naphthochinon-1,2-diazid-5-. sulfonylchlorid und einem
Naphthochinon-1,2-diazid-5-. sulfonylchlorid und einem
Resorcin/Benzaldehyd-Harz 3,50 g
Kresol/Phenol-Novolack-Harz 8,50 g
Kaliumgallat 0,33 g
ölblau Nr. 603 (CI-Nr. 61555) 0,07 g
Kristallviolett (CI-Nr. 42555) 0,07 g
Methylglykol 90,00 g
Cyclohexanon 10,00 g
derart aufgetragen, daß das Filmgewicht nach dem
2
Trocknen 2,1 g/m Trägerfläche beträgt.
Trocknen 2,1 g/m Trägerfläche beträgt.
Das erhaltene lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial
wird entsprechend Beispiel 1 auf seine optimale Belichtungszeit und seinen Entwicklungsspielraum hin untersucht. Erstere beträgt 65 s, letzterer liegt im Bereich von 6 min. Die Punktwidergabe auf dem lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial entspricht bei Messung mit Hilfe
der in Beispiel 1 verwendeten Punktskala einem Wert von 37,5%.
wird entsprechend Beispiel 1 auf seine optimale Belichtungszeit und seinen Entwicklungsspielraum hin untersucht. Erstere beträgt 65 s, letzterer liegt im Bereich von 6 min. Die Punktwidergabe auf dem lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial entspricht bei Messung mit Hilfe
der in Beispiel 1 verwendeten Punktskala einem Wert von 37,5%.
Wird die erhaltene Druckplatte in einer Offsetdruckpresse
zu Druckzwecken verwendet, erhält man eine große Anzahl 5
scharfer und kontrastreicher Drucke.
Auf ein Aluminiumblech mit elektrochemisch aufgerauhter
und anodisch oxidierter Oberfläche wird eine lichtempfindliche Beschichtungsmasse der folgenden Zusammensetzung:
Veresterungsprodukt zwischen
Naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfonylchlorid
und einem Resorcin/Benzaldehyd-Harz
Kresol/Novolack-Harz
1,4-Naphthochinon
20
20
Viktoriareinblau BOH (CI-Nr. )
Methylglykol
derart aufgetragen, daß das Filmgewicht nach dem
25 2
Trocknen 2,5 g/m Trägerfläche beträgt.
Während die Oberfläche des erhaltenen lichtempfindlichen
Aufzeichnungsmaterials mit einer positiven durchsichtigen
Vorlage in Kontakt steht, wird das Ganze aus einem 30
Abstand von 70 cm 62 s lang mittels einer 2 kW-Metallhalogenidlampe
belichtet. Das belichtete Aufzeichnungsmaterial wird 45 s lang mit einer zweiprozentigen
wässrigen Natriummetasilikatlösung bei einer Temperatur oc von 25°C entwickelt.
3 | ,00 | g |
9 | ,00 | g |
0 | ,36 | g |
0 | ,12 | g |
100 | ,00 | g |
Die optimale Belichtungszeit entspricht dem Zeitpunkt, an welchem 5 Stufen in der Grauskala bei Gradationen
mit Dichteunterschieden von 0,15 vollständig klar erscheinen. Gleichzeitig wird das Aufzeichnungsmaterial
durch eine Punktskala mit 150 Strichen/2,54 cm belichtet, um die Wiedergabe des Punktbereichs auf dem
lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial (im folgenden
als "Punktwiedergabe" bezeichnet) zu ermitteln. Der prozentuale Anteil der Punktfläche auf dem lichtempfindlichen
Aufzeichnungsmaterial entsprechend einer prozentualen Fläche von 49% Punktfläche auf der Vorlage
wird mit Hilfe eines Punktanalysengeräts zu 42,8% ermittelt.
Der Zeitpunkt, an welchem bei der Entwicklung in einer zweiprozentigen wässrigen Natriummetasilikatlösung bei
25°C in der Grauskala eine deutliche Stufenänderung erfolgt (im folgenden als "Entwicklungsspielraum" bezeichnet)
, liegt im Bereich von 6 min.
Wird die erhaltene Druckplatte in einer Offsetdruckpresse zu Druckzwecken verwendet, erhält man eine
große Anzahl von qualitativ hochwertigen Drucken.
Ein Vergleich der Ergebnisse dieses Beispiels mit den Ergebnissen des Vergleichbeispiels 1 zeigt, daß sich
3^ die Lichtempfindlichkeit durch Zusatz von 1,4-Naphthochinon
zu der lichtempfindlichen Schicht um das etwa Zweifache erhöhen läßt.
Durch den Zusatz des 1,4-Naphthochinone entstehen im
Vergleich zur Abwesenheit des 1,4-Naphthochinons (Vergleichsbeispiel 1) etwa 3% größere Punkte (verminderte
Punktverkleinerung).
Beispiel 5 5
Auf das in Beispiel 1 verwendete Aluminiumblech mit elektrochemisch aufgerauhter Und anodisch oxidierter
Oberfläche wird eine lichtempfindliche Beschichtungsmasse
der folgenden Zusammensetzung: 10
Veresterungsprodukt zwischen Naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfonylchlorid
und einem m-Kresol/Formaldehyd-Harz
4,00 g
(vgl. Beispiel 3 der JP-OS 9610/1970) 15
Kresol/Novolack-Harz
2-Methyl-1,4-naphthochinon
Viktoriareinblau BOH (CI-Nr. )
ölblau 2N (CI-Nr. 61555)
Ethylglykol
derart aufgetragen, daß das Filmgewicht nach dem
2
Trocknen 2,3 g/m Trägerfläche beträgt.
Trocknen 2,3 g/m Trägerfläche beträgt.
Entsprechend Beispiel 4 wird das erhaltene lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial auf seine
optimale Belichtungszeit und seinen Entwicklungs-Spielraum hin untersucht. Erstere beträgt 65 s,
letzterer liegt im Bereich von 6 min.
Die Punktreproduzierbarkeit auf dem lichtempfindlichen
Aufzeichnungsmaterial ergibt bei Messung mit der in Beispiel 1 verwendeten Punktskala einen Wert von
43,0%.
8 | ,00 | g |
0 | ,48 | g |
0 | ,06 | g |
0 | ,04 | g |
100 | ,00 | g |
Wird die erhaltene Druckplatte in einer Offsetpresse zu Druckzwecken verwendet, erhält man eine große
Zahl qualitativ hochwertiger Drucke.
Auf ein Aluminiumblech mit mit Hilfe einer Nylonbürste
mechanisch aufgerauhter und anodisch oxidierter Oberfläche wird eine lichtempfindliche Beschichtungsmasse
der folgenden Zusammensetzung:
Veresterungsprodukt zwischen
Naphthochinone-1,2-diazid-5-sulfonylchlorid
und einem Resorcin/Benzaldehyd-Harz
Kresol/Phenol-Novolack-Harz
6-Chlor-1,4-naphthtochinon
ölblau Nr. 603 (CI-Nr. 61555)
Kristallviolett (CI-Nr. 42555)
Methylglykol 25
Cyclohexanon
derart aufgetragen, daß das Filmgewicht nach dem
2
Trocknen 2,1 g/m Trägerfläche beträgt.
Trocknen 2,1 g/m Trägerfläche beträgt.
Das erhaltene lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial
wird entsprechend Beispiel 4 auf seine optimale Belichtungszeit und seinen EntwicklungsSpielraum hin
untersucht. Erstere beträgt 59 s, letzterer liegt im Bereich von 6 min.
3,50 | g |
8,50 | g |
0,33 | g |
0,07 | g |
0,07 | g |
90,00 | g |
10,00 | g |
Die Punktreproduzierbarkeit auf dem lichtempfindlichen
Aufzeichnungsmaterial ergibt bei Messung mit der in Beispiel 4 verwendeten Punktskala einen
Wert von 42,1%.
Wir die erhaltene Druckplatte in einer Offsetdruckpresse zu Druckzwecken verwendet, erhält man eine
große Anzahl qualitativ hochwertiger Drucke.
Claims (16)
- PATENTANSPRÜCHE/i7) Positive lichtempfindliche Masse mit einer positiven lichtempfindlichen Chinondiazidverbindung und mindestens einem Sensibilisator der allgemeinen Formeln:[I]worin R für ein Wasserstoff- oder Alkalimetalla±om oder eine Alkyl-, Aralkyl-, gegebenenfalls substituierte Aryl- oder Cycloalkylgruppe steht, und/oder[II]worin R.., R2 und R3, die gleich oder verschieden sein können, jeweils ein Wasserstoff- oder' 3201T51Halogenatom oder eine Alkyl-, Alkoxy-, gegebenenfalls substituierte Aryl-, Acyl-, Nitro- oder Hydroxylgruppe darstellen, wobei gilt, daß auch die Reste R3 untereinander gleich oder verschieden sein können.
- 2. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie als lichtempfindliche Verbindung einen Ester von 1,2-Dizonaphthochinonsulfonylchlorid mit einer eine phenolische Hydroxylgruppe enthaltenden Verbindung und/oder ein Amid von 1^-Diazonaphthochinonsulfonylchlorid mit einem aromatischen Amin enthält.
- 3. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie als positive lichtempfindliche Chinondiazidverbindung einen Ester von 1^-Diazonaphthochinonsulfonylchlorid mit einer Polyhydroxyphenylverbindung, einen Ester von 1,2-Diazonaphthochinonsulfonylchlorid mit einem Resorcin/Benzaldehyd-Harz und/oder einen Ester von 1,2-Diazobenzochinonsulfonylchlorid oder 1,2-Diazonaphthochinonsulfonylchlorid mit einem Phenol/Formaldehyd-Harz enthält.
- 4. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß sie als positive lichtempfindliehe Chinondiazidverbindung einen Ester von 1,2-Diazonaphthochinonsulfonylchlorid mit einer Polyhydroxyphenylverbindung und/oder einen Ester von 1,2-Diazonaphthochinonsulfonylchlorid mit einemResorcin/Benzaldehyd-Harz enthält. 35
- 5. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie einen Sensibilisator derallgemeinen Formel I enthält. 5
- 6. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß sie als Sensibilisator Gallussäure, Methylgallat, Ethylgallat, Isopropylgallat, tert.-Butylgallat, Laurylgallat, Stearylgallat, Benzylgallat, Phenylgallat, Cyclohexylgallat, Gerbsäure, Digallussäure (digallic acid) und/oder Kaliumgallat enthält.
- 7. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß sie als Sensibilisator Gallussäure, Methylgallat und/oder Ethylgallat enthält.
- 8. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 1, dadurch 2Q gekennzeichnet, daß äie einen Sensibilisator der allgemeinen Formel II enthält.
- 9. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß sie als Sensibilisator 1,4-Naphthochinon, 2-Methyl-1,4-naphthochinon, 2-Ethyl-1,4-naphthochinon, 2-Propyl-1,4-naphthochinon, 2,3-Dimethyl-1,4-naphthochinon, 2,5-Dimethyl-1,4-naphthochinon, 2-Methoxy-1,4-naphthochinon, 2-Phenyl-1,4-naphthochinon, 2-(p-tolyl)-1,4-naphthochinon, 2-Acetyl-1,4-naphthochinon, 3-Chlor-1,4-naphthochinon, 6-Chlor-1,4-naphthochinon, 6-Brom-1,4-naphthochinon, 6-Nitro-1,4-naphthochinon und/oder 2-Hydroxy-1,4-naphthochinon enthält.
- 10. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß sie als Sensibilisator 1 ,4-Naphthochinon, 2-Methyl-1 , 4-riaphthochinon und/oder 6-Chlor-1,4-naphthochinon enthält.
- 11. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie mindestens einen weiteren Bestandteil enthält.
- 12. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß sie als weiteren Bestandteil einen basischen Farbstoff und/oder einen öllöslichen Farbstoff enthält.
- 13. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie zusätzlich ein Harzbindemittel enthält.
- 14. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß sie als Harzbindemittel ein Phenol/Formaldehyd-, Kresol/Formaldehyd- oder p-tert.-Butylphenol/Formaldehyd-Harz und/oder ein phenolmodifiziertes Xylolharz enthält.
- 15. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie, bezogen auf ihr Gesamtgewicht, 10 bis 50 Gewichtsprozent einer Chinondiazidverbindung, 0,5 bis 20 Gewichtsprozent eines Sensibilisators der allgemeinen Formel I und/oder II und 45 bis 80 Gewichtsprozent eines Harzbindemittels enthält.
- 16. Positives lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterialmit einem Schichtträger und einer darauf aufge-5 tragenen lichtempfindlichen Schicht, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht aus einer positiven lichtempfindlichen Masse nach einem oder mehreren der vorheraehenden Ansprüche gebildet ist. 10
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US4550069A (en) * | 1984-06-11 | 1985-10-29 | American Hoechst Corporation | Positive photoresist compositions with o-quinone diazide, novolak, and propylene glycol alkyl ether acetate |
US5066561A (en) * | 1984-06-11 | 1991-11-19 | Hoechst Celanese Corporation | Method for producing and using a positive photoresist with o-quinone diazide, novolak, and propylene glycol alkyl ether acetate |
US5143814A (en) * | 1984-06-11 | 1992-09-01 | Hoechst Celanese Corporation | Positive photoresist compositions with o-quinone diazide, novolak and propylene glycol alkyl ether acetate |
US5039594A (en) * | 1985-10-28 | 1991-08-13 | Hoechst Celanese Corporation | Positive photoresist containing a mixture of propylene glycol alkyl ethers and propylene glycol alkyl ether acetate |
US4692398A (en) * | 1985-10-28 | 1987-09-08 | American Hoechst Corporation | Process of using photoresist treating composition containing a mixture of a hexa-alkyl disilazane, propylene glycol alkyl ether and propylene glycol alkyl ether acetate |
US4806458A (en) * | 1985-10-28 | 1989-02-21 | Hoechst Celanese Corporation | Composition containing a mixture of hexa-alkyl disilazane and propylene glycol alkyl ether and/or propylene glycol alkyl ether acetate |
US4983490A (en) * | 1985-10-28 | 1991-01-08 | Hoechst Celanese Corporation | Photoresist treating composition consisting of a mixture of propylene glycol alkyl ether and propylene glycol alkyl ether acetate |
US4948697A (en) * | 1985-10-28 | 1990-08-14 | Hoechst Celanese Corporation | Positive photoresist with a solvent mixture of propylene glycol alkyl ether and propylene glycol alkyl ether acetate |
DE3718416A1 (de) * | 1987-06-02 | 1988-12-15 | Hoechst Ag | Lichtempfindliches gemisch auf basis von 1,2-naphthochinondiaziden, daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial und dessen verwendung |
US4837121A (en) * | 1987-11-23 | 1989-06-06 | Olin Hunt Specialty Products Inc. | Thermally stable light-sensitive compositions with o-quinone diazide and phenolic resin |
US5024921A (en) * | 1987-11-23 | 1991-06-18 | Ocg Microelectronic Materials, Inc. | Thermally stable light-sensitive compositions with o-quinone diazide and phenolic resin used in a method of forming a positive photoresist image |
US4970287A (en) * | 1987-11-23 | 1990-11-13 | Olin Hunt Specialty Products Inc. | Thermally stable phenolic resin compositions with ortho, ortho methylene linkage |
TW202504B (de) * | 1990-02-23 | 1993-03-21 | Sumitomo Chemical Co | |
US5145763A (en) * | 1990-06-29 | 1992-09-08 | Ocg Microelectronic Materials, Inc. | Positive photoresist composition |
US6935073B2 (en) * | 2002-03-26 | 2005-08-30 | Scherba Industries, Inc. | Inflatable component connector |
EP1649322A4 (de) | 2003-07-17 | 2007-09-19 | Honeywell Int Inc | Planarisierungsfilme für fortschrittliche mikroelektronsiche anwendungen und einrichtungen und herstellungsverfahren dafür |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2670286A (en) * | 1951-01-20 | 1954-02-23 | Eastman Kodak Co | Photosensitization of polymeric cinnamic acid esters |
US4174222A (en) * | 1975-05-24 | 1979-11-13 | Tokyo Ohka Kogyo Kabushiki Kaisha | Positive-type O-quinone diazide containing photoresist compositions |
DE2847878A1 (de) * | 1978-11-04 | 1980-05-22 | Hoechst Ag | Lichtempfindliches gemisch |
DE3144657A1 (de) * | 1980-11-18 | 1982-09-02 | Konishiroku Photo Industry Co., Ltd., Tokyo | Lichtempfindliche masse |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1494640A (en) * | 1974-12-24 | 1977-12-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | Image-forming on light-sensitive element containing a quinone diazide |
DE2547905C2 (de) * | 1975-10-25 | 1985-11-21 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial |
JPS5280022A (en) * | 1975-12-26 | 1977-07-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | Light solubilizable composition |
-
1982
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2670286A (en) * | 1951-01-20 | 1954-02-23 | Eastman Kodak Co | Photosensitization of polymeric cinnamic acid esters |
US4174222A (en) * | 1975-05-24 | 1979-11-13 | Tokyo Ohka Kogyo Kabushiki Kaisha | Positive-type O-quinone diazide containing photoresist compositions |
DE2847878A1 (de) * | 1978-11-04 | 1980-05-22 | Hoechst Ag | Lichtempfindliches gemisch |
DE3144657A1 (de) * | 1980-11-18 | 1982-09-02 | Konishiroku Photo Industry Co., Ltd., Tokyo | Lichtempfindliche masse |
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