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DE2247368A1 - Verfahren zum ausbessern defekter filmmuster - Google Patents

Verfahren zum ausbessern defekter filmmuster

Info

Publication number
DE2247368A1
DE2247368A1 DE19722247368 DE2247368A DE2247368A1 DE 2247368 A1 DE2247368 A1 DE 2247368A1 DE 19722247368 DE19722247368 DE 19722247368 DE 2247368 A DE2247368 A DE 2247368A DE 2247368 A1 DE2247368 A1 DE 2247368A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
defect
photoresist
photomask
area
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19722247368
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Israel Drukaroff
Wally Morren
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
RCA Corp
Original Assignee
RCA Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by RCA Corp filed Critical RCA Corp
Publication of DE2247368A1 publication Critical patent/DE2247368A1/de
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/522Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • Manufacturing & Machinery (AREA)
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  • Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
DE19722247368 1971-10-08 1972-09-27 Verfahren zum ausbessern defekter filmmuster Pending DE2247368A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US18773971A 1971-10-08 1971-10-08

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2247368A1 true DE2247368A1 (de) 1973-04-12

Family

ID=22690259

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19722247368 Pending DE2247368A1 (de) 1971-10-08 1972-09-27 Verfahren zum ausbessern defekter filmmuster

Country Status (4)

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JP (1) JPS4847284A (it)
DE (1) DE2247368A1 (it)
GB (1) GB1345093A (it)
IT (1) IT967781B (it)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0036310A2 (en) * 1980-03-14 1981-09-23 Fujitsu Limited Method and apparatus for amending a photomask

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Publication number Publication date
IT967781B (it) 1974-03-11
JPS4847284A (it) 1973-07-05
GB1345093A (en) 1974-01-30

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