DE19752329A1 - Verfahren zur Herstellung eines metallischen Verbundbands - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines mit einer Zinn-Silber-Legie
rung beschichteten Verbundbands zur Fertigung von elektrischen Kontaktbauteilen.
Zinn-Silber ist ein sehr guter Kontaktwerkstoff. Er zeichnet sich vor allem durch sei
nen geringen elektrischen Widerstand, seine Härte und seine Abriebfestigkeit aus.
Die Möglichkeiten, einen elektrisch leitfähigen Basiswerkstoff galvanisch mit einer
Zinn-Silber-Legierung zu überziehen, sind jedoch begrenzt. Die US-A-5 514 261 of
fenbart in diesem Zusammenhang einen Weg, eine Silber-Zinn-Legierung galvanisch
aus einem cyanidfreien Bad abzuscheiden. Das Bad wird unter Verwendung von Sil
ber als Nitrat oder Diammin-Komplex, Zinn als lösliche Zinn(II)- oder Zinn(IV)-Verbin
dung und Mercaptoalkancarbonsäuren und -sulfonsäuren zubereitet. Aus diesem Bad
lassen sich Schichten aus Silber-Zinn-Legierungen mit einem Silbergehalt von etwa
20 Gew.-% bis 99 Gew.-% abscheiden.
Der Silberanteil einer auf diese Weise hergestellten Beschichtung ist relativ hoch.
Schichten mit geringeren Silberanteilen können nicht erzielt werden. Ferner ist die
galvanisch erzeugte Schicht feinzellig mit einer leichten Mikrorauhigkeit. Die Schicht
ist spröde und verträgt nur geringe Biegebeanspruchungen.
Der Erfindung liegt ausgehend vom Stand der Technik die Aufgabe zugrunde, ein
Verfahren aufzuzeigen, welches die Herstellung einer qualitativ hochwertigen Zinn-
Silber-Beschichtung auf einem elektrisch leitfähigen Basiswerkstoff ermöglicht.
Die Lösung dieser Aufgabe besteht nach der Erfindung in den Merkmalen des An
spruchs 1.
Danach wird der Basiswerkstoff in einem ersten Beschichtungsschritt mit einer Be
schichtung aus Zinn oder einer Zinnlegierung versehen. In einem zweiten Beschich
tungsschritt wird hierauf eine Silberschicht abgeschieden.
Durch die sich einstellenden Diffusionsvorgänge entsteht eine Zinn-Silber-Legie
rungsschicht. Diese weist gegenüber den zunächst heterogen aufgebrachten
Schichten verbesserte Eigenschaften auf. Die Beschichtung besitzt eine hohe elek
trische Leitfähigkeit und sehr gute mechanische Eigenschaften. Sie ist abriebfest und
hart. Auch die Wärmeleitfähigkeit ist hoch.
Die Beschichtung sichert einen wirksamen Korrosionsschutz und bildet gleichzeitig
eine Löthilfe. Dies ist insbesondere bei elektrischen oder elektronischen Komponen
ten von Vorteil.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich aus den abhängigen Ansprü
chen 2 bis 8.
Als Basiswerkstoff können grundsätzlich alle für elektrotechnische Anwendungen übli
che Metalle und Metallegierungen mit guter elektrischer Leitfähigkeit eingesetzt wer
den, wobei Kupfer und Kupferlegierungen besonders bevorzugt sind (Anspruch 8).
Kupferwerkstoffe zeichnen sich durch ihre hohe elektrische Leitfähigkeit aus. Zum
Schutz gegen Korrosion und Verschleiß sowie zur Erhöhung der Oberflächenhärte ist
es üblich, den Kupferwerkstoff mit einem metallischen Überzug zu versehen. In die
sem Zusammenhang zählt es zum Stand der Technik, ein Band aus einem Kupfer
werkstoff entweder galvanisch mit Zinn zu beschichten oder auf ein Kupferband in
einem Schmelzbad Zinn oder eine Zinn-Blei-Legierung aufzubringen.
Neben Kupfer ist aber auch die Verwendung von Zinnbronze, Messing oder niedrig le
gierten Kupferlegierungen, beispielsweise CuFe2, als Basiswerkstoff möglich.
Die Zinnschicht kann auf schmelzflüssigem Wege und die Silberschicht galvanisch
aufgebracht werden, wie dies Anspruch 2 vorsieht. Ferner können sowohl die Zinn
schicht als auch die Silberschicht galvanisch aufgebracht werden (Anspruch 3). Eine
weitere vorteilhafte Vorgehensweise besteht nach Anspruch 4 darin, die Zinnschicht
im Schmelztauchverfahren und die Silberschicht anschließend durch Kathodenzer
stäubung, dem sogenannten Sputtern, aufzubringen. Möglich ist es desweiteren
sowohl die Zinnschicht als auch die Silberschicht durch Sputtern aufzutragen
(Anspruch 5).
Speziell durch die Kombination der schmelzflüssigen Verzinnung (Feuerverzinnung)
des Ausgangsbands in einer Schichtdicke von 0,5 µm bis 10,0 µm und anschließen
der galvanischer Nachversilberung mit einer Dicke der aufgebrachten Silberschicht
zwischen 0,1 µm bis 3,5 µm kann ein Verbundband hergestellt werden, welches ho
hen mechanischen und physikalischen Anforderungen zur Fertigung von elektrischen
Kontaktbauteilen genügt. Durch die Zinn-Silber-Legierungsbeschichtung kann auch
die Temperaturbeständigkeit unter Betriebsbedingungen im Vergleich zu einer her
kömmlichen Zinn- oder Zinn-Blei-Beschichtung verbessert werden. Das Verbundband
ist gut verarbeitbar durch Stanzen, Schneiden, Biegen oder Tiefziehen. Ferner verfügt
es über eine hohe Festigkeit mit guten Federeigenschaften. Die elektrische
Leitfähigkeit ist hoch und die Lotbenetzbarkeit gut. Der aufgebrachte Überzug ist
gleichmäßig in Struktur und Dicke. Desweiteren ist er porenfrei. Durch die Zinn-Silber-
Legierungsbeschichtung wird der Basiswerkstoff zuverlässig gegen Oxidation und
Korrosion geschützt.
Zusätzlich kann eine Wärmebehandlung, insbesondere als Diffusionsglühung, vorge
sehen werden (Anspruch 6). Die Wärmebehandlung gewährleistet einen zuverlässi
gen Ausgleich von möglicherweise noch vorhandenen Konzentrationsunterschieden
im Schichtaufbau des aufgebrachten Überzugs. Vorzugsweise erfolgt die Wärmebe
handlung des Verbundbands in einem Durchlaufprozeß mit einer Temperatur zwi
schen 140°C und 180°C.
Vor der Wärmebehandlung kann zum Schutz gegen Anlaufen eine chemische Passi
vierung der Oberfläche mittels üblicher Inhibitoren erfolgen.
Grundsätzlich kann auch eine Wärmebehandlung am verzinnten Ausgangsband vor
genommen werden. Als vorteilhaft ist auch hier ein Temperaturbereich zwischen 140
und 180°C anzusehen. Im Anschluß an die Wärmebehandlung des verzinnten Aus
gangsbands wird in einem weiteren Fertigungsschritt die Silberbeschichtung aufgetra
gen.
Für die im ersten Beschichtungsschritt aufgetragene Zinnschicht hat sich neben Zinn
eine Zinnlegierung mit Anteilen von Blei bewährt. Wird die Zinnschicht auf schmelz
flüssigem Wege aufgebracht, hat sich ferner eine Zinnlegierung als vorteilhaft erwie
sen, die 0,1 bis 10 Gew.-% mindestens eines der Elemente aus der Gruppe Silber,
Aluminium, Silizium, Kupfer, Magnesium, Eisen, Nickel, Mangan, Zink, Zirkonium,
Antimon, Rhodium, Palladium und Platin enthält. Der Rest besteht aus Zinn ein
schließlich unvermeidbarer Verunreinigungen und geringer Desoxidations- und Ver
arbeitungszusätze.
Ferner kann eine kobalthaltige Zinnlegierung verwendet werden mit einem Kobaltan
teil zwischen 0,001 bis 5,0 Gew.-%. Desweiteren können dieser Zinnlegierung
0,1 bis
10 Gew.-% Wismut und/oder 0,1 bis 10 Gew.-% Indium zulegiert sein.
Durch einen Kobaltzusatz wird die Ausbildung einer feinkörnigen gleichmäßigen in
termetallischen Phase zwischen Basiswerkstoff und Beschichtung gefördert. Ferner
wird die Gesamtschichthärte bei Verbesserung der Biegbarkeit erhöht. Desweiteren
kann die Scherfestigkeit verbessert und der Elastizitätsmodul verringert werden. Wis
mut und Indium führen zu einer zusätzlichen Härtesteigerung durch Mischkristallhär
tung.
Die Erfindung ermöglicht die Herstellung eines in ihren mechanischen und physika
lischen Eigenschaften hochwertigen Überzugs aus einer Zinn-Silber-Legierung auf
dem Ausgangsband. Gemäß den Merkmalen des Anspruchs 7 wird die Zinnschicht in
einer Dicke zwischen 0,5 µm und 10,0 µm aufgebracht, wobei sie vorzugsweise zwi
schen 0,8 µm und 3,0 mm liegt. Die nachfolgende Silberschicht weist eine Dicke zwi
schen 0,1 µm und 3,5 µm auf, vorzugsweise zwischen 0,2 µm und 1,0 µm. Diese
heterogenen Schichten homogenisieren anschließend durch Diffusion zu einer Zinn-
Silber-Legierungsschicht.
Das erfindungsgemäße Verbundband ist daher besonders gut für die Fertigung von
elektrischen Kontaktbauteilen geeignet, welche Biege- und Scherbeanspruchungen
ausgesetzt sind, beispielsweise von elektrischen Steck- oder Klemmverbindern. Sol
che Verbinder können mehrfach gesteckt und gelöst werden, ohne daß sich der Kon
taktwiderstand nennenswert ändert.
Ferner kann das erfindungsgemäß hergestellte Verbundmaterial auch für die Ferti
gung von elektromechanischen und elektrooptischen Bauelementen oder Halbleiter
bauelementen und ähnlichem Verwendung finden.
Claims (8)
1. Verfahren zur Herstellung eines metallischen Verbundbands zur Fertigung von
elektrischen Kontaktbauteilen, bei welchem ein Ausgangsband aus einem elek
trisch leitfähigen Basiswerkstoff zunächst mit einer Schicht aus Zinn oder einer
Zinnlegierung versehen und anschließend hierauf eine Schicht aus Silber abge
schieden wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Zinnschicht
schmelzflüssig und die Silberschicht galvanisch aufgebracht werden.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Zinnschicht und
die Silberschicht galvanisch aufgebracht werden.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Zinnschicht
schmelzflüssig und die Silberschicht durch Kathodenzerstäubung (Sputtern) auf
gebracht werden.
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Zinnschicht und
die Silberschicht durch Kathodenzerstäubung (Sputtern) aufgebracht werden.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß am
Verbundband eine Wärmebehandlung, insbesondere ein Diffusionsglühen, vorge
nommen wird.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die
Zinnschicht in einer Dicke zwischen 0,5 µm und 10,0 µm und die Silberschicht in
einer Dicke zwischen 0,1 µm und 3,5 µm aufgebracht werden.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß als
Basiswerkstoff Kupfer oder eine Kupferlegierung verwendet wird.
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ES98121473T ES2172851T3 (es) | 1997-11-26 | 1998-11-11 | Procedimiento para la produccion de una banda compuesta. |
DK98121473T DK0919644T3 (da) | 1997-11-26 | 1998-11-11 | Fremgangsmåde til fremstilling af et metallisk kompositbånd |
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AT98121473T ATE213508T1 (de) | 1997-11-26 | 1998-11-11 | Verfahren zur herstellung eines metallischen verbundbands |
PT98121473T PT919644E (pt) | 1997-11-26 | 1998-11-11 | Processo para a obtencao duma fita metalica composita |
DE59803128T DE59803128D1 (de) | 1997-11-26 | 1998-11-11 | Verfahren zur Herstellung eines metallischen Verbundbands |
JP10328468A JPH11222659A (ja) | 1997-11-26 | 1998-11-18 | 金属複合帯板を製造する方法 |
KR1019980049669A KR19990045402A (ko) | 1997-11-26 | 1998-11-19 | 금속 복합 밴드 제조 방법 |
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US09/774,146 US6495001B2 (en) | 1997-11-26 | 2001-01-30 | Method for manufacturing a metallic composite strip |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2468926A1 (de) * | 2010-12-15 | 2012-06-27 | OTB Oberflächentechnik in Berlin GmbH & Co. | Verfahren zur Herstellung eines Werkstücks aus Metall oder einer Legierung eines Metalls mit einer Beschichtung |
US9755343B2 (en) | 2012-04-06 | 2017-09-05 | Autonetworks Technologies, Ltd. | Plated member and plated terminal for connector |
WO2019224197A1 (de) * | 2018-05-23 | 2019-11-28 | Aurubis Stolberg Gmbh & Co. Kg | Kupferband zur herstellung von elektrischen kontakten und verfahren zur herstellung eines kupferbandes und steckverbinder |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19752329A1 (de) * | 1997-11-26 | 1999-05-27 | Stolberger Metallwerke Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines metallischen Verbundbands |
US6372997B1 (en) * | 2000-02-25 | 2002-04-16 | Thermagon, Inc. | Multi-layer structure and method for forming a thermal interface with low contact resistance between a microelectronic component package and heat sink |
DE10025106A1 (de) * | 2000-05-20 | 2001-11-22 | Stolberger Metallwerke Gmbh | Elektrisch leitfähiges Metallband und Steckverbinder hieraus |
JP3395772B2 (ja) * | 2000-11-20 | 2003-04-14 | 松下電器産業株式会社 | 錫−銀合金めっき皮膜の製造方法及び錫−銀合金めっき皮膜及びそれを備えた電子部品用リードフレーム |
US20020192492A1 (en) * | 2001-05-11 | 2002-12-19 | Abys Joseph Anthony | Metal article coated with near-surface doped tin or tin alloy |
IL144160A0 (en) * | 2001-07-05 | 2002-05-23 | Ika Ind Consulting Ltd | A lead-free alloy for use as soldering material |
US6924044B2 (en) * | 2001-08-14 | 2005-08-02 | Snag, Llc | Tin-silver coatings |
FI114927B (fi) * | 2002-11-07 | 2005-01-31 | Outokumpu Oy | Menetelmä hyvän kontaktipinnan muodostamiseksi katodin kannatintankoon ja kannatintanko |
US7575665B2 (en) * | 2005-04-28 | 2009-08-18 | Delphi Technologies, Inc. | Method of reducing corrosion of silver containing surfaces |
US20080308300A1 (en) * | 2007-06-18 | 2008-12-18 | Conti Mark A | Method of manufacturing electrically conductive strips |
DE102007047007A1 (de) * | 2007-10-01 | 2009-04-09 | Tyco Electronics Amp Gmbh | Elektrisches Kontaktelement und ein Verfahren zum Herstellen desselben |
WO2009140524A2 (en) * | 2008-05-15 | 2009-11-19 | Interplex Industries, Inc. | Tin-silver compound coating on printed circuit boards |
DE102012017520A1 (de) | 2012-09-05 | 2014-03-06 | Feindrahtwerk Adolf Edelhoff Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Zinnbeschichtung eines metallischen Substrats,Verfahren zur Härtung einer Zinnschicht, sowie Draht mit einer Zinnbeschichtung |
US9680246B2 (en) * | 2013-06-10 | 2017-06-13 | Oriental Electro Plating Corporation | Method for manufacturing plated laminate, and plated laminate |
RU2598729C2 (ru) * | 2014-09-08 | 2016-09-27 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Самарский государственный технический университет" | Способ получения покрытия для электрического контакта |
CN110773719A (zh) * | 2019-10-18 | 2020-02-11 | 郑州机械研究所有限公司 | 一种银铜复合带制备方法 |
DE102020006059A1 (de) | 2020-10-05 | 2022-04-07 | Wieland-Werke Aktiengesellschaft | Elektrisch leitendes Material mit Beschichtung |
CN114540606B (zh) * | 2022-03-09 | 2023-08-11 | 西部金属材料股份有限公司 | 一种高硬度钛合金薄板、箔材的制备方法 |
JP7213390B1 (ja) * | 2022-10-24 | 2023-01-26 | 松田産業株式会社 | 銀めっき皮膜及び該銀めっき皮膜を備えた電気接点 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51147191A (en) * | 1975-06-12 | 1976-12-17 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Hall element and its method of manufacturing |
GB8719498D0 (en) * | 1987-08-18 | 1987-11-18 | Ferranti Plc | Seals |
US5589280A (en) * | 1993-02-05 | 1996-12-31 | Southwall Technologies Inc. | Metal on plastic films with adhesion-promoting layer |
US5390080A (en) * | 1993-05-03 | 1995-02-14 | Motorola | Tin-zinc solder connection to a printed circuit board of the like |
EP0666342B1 (de) * | 1994-02-05 | 1998-05-06 | W.C. Heraeus GmbH | Bad zum galvanischen Abscheiden von Silber-Zinn-Legierungen |
JP3998731B2 (ja) * | 1994-08-10 | 2007-10-31 | 三菱伸銅株式会社 | 通電部材の製造方法 |
DE19752329A1 (de) * | 1997-11-26 | 1999-05-27 | Stolberger Metallwerke Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines metallischen Verbundbands |
-
1997
- 1997-11-26 DE DE19752329A patent/DE19752329A1/de not_active Withdrawn
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1998
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2001
- 2001-01-30 US US09/774,146 patent/US6495001B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2468926A1 (de) * | 2010-12-15 | 2012-06-27 | OTB Oberflächentechnik in Berlin GmbH & Co. | Verfahren zur Herstellung eines Werkstücks aus Metall oder einer Legierung eines Metalls mit einer Beschichtung |
US9755343B2 (en) | 2012-04-06 | 2017-09-05 | Autonetworks Technologies, Ltd. | Plated member and plated terminal for connector |
WO2019224197A1 (de) * | 2018-05-23 | 2019-11-28 | Aurubis Stolberg Gmbh & Co. Kg | Kupferband zur herstellung von elektrischen kontakten und verfahren zur herstellung eines kupferbandes und steckverbinder |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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KR19990045402A (ko) | 1999-06-25 |
ES2172851T3 (es) | 2002-10-01 |
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