DE19648048C2 - Detektorvorrichtung zur Druckmessung basierend auf gemessenen Kapazitätswerten - Google Patents
Detektorvorrichtung zur Druckmessung basierend auf gemessenen KapazitätswertenInfo
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- DE19648048C2 DE19648048C2 DE19648048A DE19648048A DE19648048C2 DE 19648048 C2 DE19648048 C2 DE 19648048C2 DE 19648048 A DE19648048 A DE 19648048A DE 19648048 A DE19648048 A DE 19648048A DE 19648048 C2 DE19648048 C2 DE 19648048C2
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Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine
Detektorvorrichtung, um einen Druck zu ermitteln, indem die
Deformation einer Membran in Abhängigkeit vom Druck gemessen
wird, indem Veränderungen der Kapazität zwischen der Membran
und einer Elektrode ermittelt werden. Derartige Vorrichtungen
sind bekannt (US 46 70 733, DE 42 06 675 A1, US 46 25 560)
Es ist ein auf dem Kapazitätsprinzip basierender Druckdetektor
bekannt (japanische Patentveröffentlichung 06-1228). Die
Fig. 1 zeigt eine Druckdetektoreinheit 1 des bekannten
Druckdetektors. Die Druckdetektoreinheit 1 weist eine Membrane
2 aus Silicium auf und weiterhin erste leitende Platten 3a und
3b, Isolatorplatten 4a und 4b, Stützteile 5a und 5b,
Verbindungsteile 6a und 6b und schließlich zweite leitende
Platten 7a und 7b auf. Die ersten leitenden Platten 3a und 3b
sind jeweils einander gegenüberliegend in einem vorbestimmten
Abstand von der Membran 2 angeordnet. Die Isolatorplatten 4a
und 4b isolieren die ersten leitenden Platten 3a und 3b und
die Stützteile 5a und 5b von den zweiten leitenden Platten 7a
und 7b. Die Membran 2 ist an den Stützteilen 5a und 5b durch
die Verbindungsteile 6a und 6b befestigt.
Wie in Fig. 1 gezeigt, durchdringen druckeinführende Rohre 8a
und 8b die ersten leitenden Platten 3a und 3b, die
isolierenden Platten 4a und 4b und die zweiten leitenden
Platten 7a und 7b. Die druckführenden Rohre 8a und 8b führen
Druckmittel unter den Drücken P1 und P2 zum Zentrum der
Druckdetektoreinheit 1. Elektrisch leitende Filme 9 sind an
der inneren Oberfläche der druckführenden Rohre 8a und 8b
vorgesehen, so daß die zweiten leitenden Platten 7a bzw. 7b
elektrisch mit den ersten leitenden Platten 3a bzw. 3b leitend
verbunden sind. Die links und rechts zur Membran 2 vorhandenen
Elemente wirken als Kapazitäten mit den Kapazitätswerten C1
und C2.
Fig. 2 zeigt ein Beispiel eines bekannten Druckdetektors 12
mit der Druckdetektoreinheit 1. Eine inkompressible
Flüssigkeit, beispielsweise Siliconöl, befindet sich in Teilen
10 und 11 oder in druckaufnehmenden Kammern 14a und 14b. Der
Druck wird über abdichtende Membrane 13a und 13b zur Membrane
2 durch die inkompressible Flüssigkeit übertragen.
Die Kapazitäten C1 und C2 sind von der
Dielektrizitätskonstanten der Flüssigkeit abhängig. Falls die
Dielektrizitätskonstante sich bei einer Änderung der
Temperatur oder des Druckes ebenfalls ändert, führt dies zu
einem Fehler bei der Messung des Drucks.
Ein bekanntes Verfahren, um diese Fehler zu beseitigen,
basiert darauf, den Druck bei einer Verschiebung Δ der
Membrane 2 zu bestimmen und die Meßwerte der Kapazitäten C1
und C2 durch die folgende Gleichung (1) zu korrigieren.
(C1 - C2)/{(C1 + C2) - 2Ck} = Δ/d (1),
wobei d jeweils den Zwischenraum zwischen der Membran 2 und
den ersten leitenden Platten 3a bzw. 3b und Ck die parasitäre
Kapazität bezeichnet, die zwischen den leitenden Teilen
erzeugt wird, wobei es sich hierbei nicht um die Elektroden
handelt.
Die Werte der Kapazitäten C1 und C2 können durch die folgende
Gleichung (2) dargestellt werden, wobei S den Bereich der
Elektrode, ε die relative Dielektritzitätskonstante des
druckleitenden Mediums und ε0 die Dielektrizitätskonstante in
Vakuum bezeichnet. Erhält man den Druck über die Gleichung
(1), so bleibt die Dielektrizitätskonstante des Mediums
unberücksichtigt, wohingegen bei der Gleichung (2) der Einfluß
der dielektrischen Konstante des Mediums eingeht.
C1 = ε0 . ε . S/(d - Δ)
C2 = ε0 . ε . S/(d + Δ) (2)
Wenn eine Hochpräzisionsmessung erforderlich ist, treten
folgende Probleme auf. Wenn ein Hochdruck gemessen wird, wird
die gesamte Druckdetektoreinheit 1 von außen her unter Druck
gesetzt, so daß sich die Zwischenräume zwischen der Membran 2
und den ersten leitenden Platten 3a und 3b verringern, wodurch
sich die Kapazitäten C1 und C2 erhöhen. Die Gleichung (2) geht
dann in die Gleichung (3) über, wobei δ diese
Abstandsveränderung wiedergibt.
C1 = ε0 . ε . S/(d - Δ - δ)
C2 = ε0 . ε . S/(d + Δ - δ) (3)
Entsprechend kann, die Gleichung (1) dann durch die Gleichung
(4) ersetzt werden und, wobei diese die vom Druck abhängigen
Verschiebungen δ) berücksichtigt.
(C1 - C2)/{(C1 + C2) - 2Ck} = Δ/(d - δ)) (4),
Falls die Temperatur des Mediums sich ändert, verändert sich
der Zwischenraum zwischen der Membran 2 und den Platten 3a und
3b und als Folge hiervon verändern sich die Kapazitäten C1 und
C2 ebenfalls. Da nicht nur ein kleiner Fehler auftritt, wenn
diese Veränderungen stattfinden und der Druck mit einer hohen
Präzision zu ermitteln ist, ist ein Temperatursensor oder ein
zweiter Drucksensor erforderlich, um die notwendigen
Anpassungen durchzuführen. In diesem Fall treten Probleme
durch steigende Kosten auf, und zwar mit der zunehmenden Zahl
erforderlicher Einrichtungen und Signalverarbeitungs
stromkreise und dergl.
Ein verhältnismäßig einfacher Drucksensor, um diese Probleme
zu lösen, wird in dem Artikel "Smart Pressure Sensors for
Industrial Application, SENSORS Juni 1995, S. 32, 33, 48 und
49" beschrieben. Die Fig. 3 zeigt einen Bezugskondensator 21
und einen Sensorkondensator 22 auf einem Siliciumsubstrat 23
Der zu messende Druck wird an beide Seiten des
Bezugskondensators 21, aber nur an die eine Seite des
Sensorkondensators 22 angelegt. An der anderen Seite des
Sensorkondensators 22 steht ein Bezugsdruck an. Ein
Differentialdruck wird erhalten, der auf dem Verhältnis der
Kapazität des Bezugskondensators zu der des Sensor
kondensators 21 bzw. 22 basiert (R = Cr/Cs, wobei Cr und Cs
jeweils die Kapazitäten des Bezugskondensators 21 und des
Sensorkondensators 22 angeben).
Das Verhältnis R wird durch die folgende Gleichung (5)
berechnet
R = Cr/Cs = (Tb - Ts)/(Tb - Tr) (5),
wobei Ts, Tr und Tb durch die folgende Gleichung (6) bestimmt
werden
Ts = (Cs + Cp)Rf
Tr = (Cr + Cp)Rf
Tb = (Cr + Cs + Cp)Rf (6),
wobei Cp die parasitären Kapazitäten bezeichnet, die auf
Streukapazitäten beruhen und Rf den Rückkopplungswiderstand
eines Gebers bezeichnet, der beim Messen eingesetzt wird.
Obgleich die in Fig. 3 gezeigte Vorrichtung den Einfluß der
parasitären Kapazität Cp ausschalten kann, welche für
gewöhnlich sowohl beim Bezugskondensator 21 als auch beim
Sensorkondensator 22 vorhanden ist, besteht dadurch ein
Problem, daß der Einfluß durch Veränderungen in der Temperatur
und des Drucks auf die Kapazitäten nicht kompensiert werden
kann.
Die Veröffentlichung "Silicon Diaphragm Capacitive Vacuum
Sensor, K. Hatanaka et al., Technical Digest of the 13th Sensor
Symposium 1995, S. 37-40" beschreibt einen Vakuumsensor, in
welchem zwei Drucksensoren eingesetzt werden, um in
ausreichender Weise einen großen Meßbereich abzudecken. Bei
diesem Beispiel wird die Beziehung zwischen dem an den Sensor
angelegten Druck und dem Ausgang des Sensors für jeden der
Sensoren analysiert.
Ein bekanntes Verfahren zur Verarbeitung von Ausgangssignalen
von Drucksensoren (japanische Patentveröffentlichung 7-209122)
verbindet definitiv und aufeinanderfolgend die
charakteristischen Kurven der einzelnen Sensoren, in dem eine
Gewichtungsfunktion in einem Zwischenbereich eingesetzt wird,
in welchem die Druckmeßbereiche der beiden Drucksensoren, die
auf unterschiedlichen Meßprinzipien basieren, einander
überlappen. Es kann jedoch die Gewichtungsfunktion lediglich
den Ausgang des Sensors bewerten, der eine größere Veränderung
anzeigt, wenn die Ausgänge der Sensoren sich unter dem Einfluß
einer Störung, beispielsweise einer Veränderung in der
Umgebungstemperatur verändern. Als Ergebnis hiervon kann eine
Veränderung im Ausgang auf Grund einer solchen Störung nicht
verringert werden kann. Ein ähnliches Problem tritt auf, wenn
eine Störgröße den Ausgang von lediglich dem einen Sensor
beeinflußt, wodurch die Spezifikation für die Charakteristik
des Zwischenbereiches, aber auch die Charakteristik des
Sensors selbst beeinflußt wird. Demzufolge kann keine präzise
Messung erwartet werden.
Verfahren zur Lösung von Problemen durch Streukapazitäten sind
in der japanischen Patentveröffentlichung 64-71211 und der
japanischen Patentveröffentlichung 4-12813 beschrieben. Nach
der ersten Patentveröffentlichung kann der Einfluß der
parasitären Kapazität dadurch verringert werden, daß ein
Verhältnis zwischen zwei Kapazitäten eingesetzt wird. Nach der
letztgenannten Veröffentlichung kann der Einfluß der
parasitären Kapazität dadurch beseitigt werden, daß eine feste
Kapazität eingesetzt wird, die zu der parasitären Kapazität
äquivalent ist.
Da die Kapazität jedoch eine Veränderung nach einer
quadratischen Kurve im Ansprechen auf den Druck zeigt, wird
ein Korrekturvorgang durch einen Linearisierungsvorgang
kompliziert. Als Ergebnis hiervon ist es schwer, den Druck mit
hoher Präzision festzustellen, auch wenn der Meßbereich
begrenzt ist. Diese Problematik wird unter Bezugnahme auf die
Fig. 4A bis 4C beschrieben.
Fig. 4A zeigt eine Anordnung, in welcher eine bewegbare
Elektrode ELV zwischen zwei festen Elektroden ELF vorgesehen
ist, wobei sich die eine Kapazität erhöht, während die andere
sich verringert, falls die bewegliche Elektrode ELF sich nach
links oder rechts bewegt, wenn eine Druckänderung stattfindet.
Unter der Annahme, daß d1 den Abstand zwischen der beweglichen
Elektrode ELV und der festen Elektrode ELF bezeichnet, können
die Kapazitäten C1 und C2 wie folgt berechnet werden, wobei Δd
die Lageänderung der beweglichen Elektrode ELF anzeigt, so wie
dies durch eine unterbrochene Linie in 4A dargestellt ist.
C1 = εS/(d1 - Δd1)
C2 = εS/(d2 - Δd2),
wobei ε die Dielektrizitätskonstante des Bereichs zwischen den
Elektroden und S die Elektrodenfläche ist.
Gemäß der japanischen Patentveröffentlichung 58-21104 gilt
(C1 - C2)/(C1 + C2) = Δd1/d1,
(C1 - C2)/(C1 + C2) = Δd1/d1,
wobei die Verschiebung Δd1 proportional zum Druck ist und
daher der Wert von (C1 - C2)/(C1 + C2) sich liniar mit dem
Druck P wie in Fig. 4B ändert.
Weiterhin gilt
C1/C2 = (d1 + Dd1)/(d1 - Dd1).
Obwohl die Veränderung Δd1 proportional zum Druck ist, tritt
dennoch ein Meßfehler auf, weil die Beziehung zwischen dem
Kapazitätsverhältnis C1/C2 und dem Druck quadratisch ist.
Nach der japanischen Patentveröffentlichung 4-12813 verändert
sich eine parasitäre Kapazität mit der Temperatur. Wenn die
parasitäre Kapazität kompensiert werden soll, indem eine feste
Kapazität eingesetzt wird, die zu der parasitären Kapazität
äquivalent ist, so kann die parasitäre Kapazität über alle
Temperaturbereiche nicht eleminiert werden.
Darüber hinaus tritt eine Ausgangsspannung V auf, wenn eine
Spannungsquelle E eingesetzt wird:
V = (C1 - C2)/(C1 + C2) × E.
In diesem Fall kann die Speisespannung E sich ändern und
irgendeine Störung auf diese Spannung würde auf das ermittelte
Signal einwirken und es instabil machen. Derartige Störungen
können in nachteiliger Weise die digitale Signalverarbeitung
beeinflussen.
Die vorliegende Erfindung ist entwickelt worden, um die oben
beschriebenen Probleme zu lösen, und sie bezweckt, eine
Druckdetektorvorrichtung zu schaffen, die in der Lage ist,
Druckmessungen mit hoher Präzision und niedrigen Kosten zu
ermöglichen. Die Erfindung will auch eine
Druckdetektorvorrichtung schaffen, die einer kurzen
Signalverarbeitungszeit arbeitet und nur eine geringe Energie
benötigt. Weiterhin will die vorliegende Erfindung eine
Druckdetektorvorrichtung schaffen, bei welcher der Einfluß
parasitärer Kapazitäten bemerkenswert verringert worden ist.
Gelöst werden diese Probleme durch die in dem Patentanspruch 1
aufgeführten Merkmale.
Durch den fünften Kondensator und durch die Verwendung von
zwei Membranen kann der Druck mit höherer Präzision bestimmt
werden. Der sechste Kondensator erfaßt den Einfluß der sich
ändernden Temperatur der Umgebung. Der siebte Kondensator
erfaßt Änderungen, die von der Veränderung der
Dielektrizitätskonstanten des druckleitenden Mediums abhängen.
Die Erfindung wird nachstehend anhand der Zeichnungen
beispielsweise erläutert.
Fig. 1 ist eine Schnittansicht durch eine bekannte
Druckdetektoreinheit, deren Wirkungsweise auf der Kapazität
basiert.
Fig. 2 ist eine Schnittansicht eines bekannten Druckdetektors
mit der in Fig. 1 beschriebenen Druckdetektoreinheit.
Fig. 3 ist eine Querschnittsansicht eines bekannten
Drucksensors.
Die Fig. 4A bis 4C zeigen ein Ersatzschaltdiagramm und die
Abhängigkeiten von Kapazitätsverhältnissen vom Druck.
Fig. 5 ist eine Querschnittsansicht einer Ausführungsform der
Druckdetektorvorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung.
Fig. 6 ist ein Blockdiagramm, welches den Aufbau der
Druckdetektorvorrichtung gem. der Erfindung zeigt.
Fig. 7 ist ein Blockdiagramm, welches das
Signalübertragungssystem der Druckdetektorvorrichtung gemäß
der Erfindung zeigt.
Fig. 8 zeigt Signalwellenformen, die durch die
Druckdetektorvorrichtung gemäß der Erfindung erzeugt werden.
Fig. 9 bis 14 zeigen Blockdiagramme für unterschiedliche
Ausführungsformen des Kapazitäts-Frequenz-
Umwandlungsstromkreises.
Nachstehend wird eine bevorzugte Ausführungsform der Erfindung
beschrieben.
Fig. 5 zeigt zwei Membrane 103 und 106 in einer
Druckdetektoreinheit 201 an einem Siliciumsubstrat 102, die
beispielsweise durch Plasma-Etching beider Seiten eines
Siliciumsubstrats 102 gebildet sind. Die Membrane 103 und 106
haben an ihren Mittelteilen jeweils flache Teile 104 und 107
mit leicht dünnerer Wanddicke als die des Siliciumsubstrats
102 und haben dünne Bereiche 105 bzw. 108, die kreisförmig an
ihren Umfängen ausgebildet sind. Da die Membran 103 für
niedrigen Druck eingesetzt wird und die Membran 106 für hohe
Drücke, ist der dünnere Teil 105 dünner als der Teil 108
ausgeführt worden. Die dünneren Teile sind so dimensioniert,
daß sie eine optimale Dicke haben, die von dem anwendbaren
Druckbereich abhängt. Substrate 109a und 109b sind aus
isolierendem Material hergestellt worden und haben einen
thermischen Ausdehnungskoeffizienten, der gleich dem des
Siliciumsubstrats 102 ist, beispielsweise wie Pyrexglas und
dergl. Sie sind zu beiden Seiten des Siliciumsubstrates 102
fest miteinander verbunden. Als Ergebnis hiervon werden
Zwischenräume 110a und 110b und Zwischenräume 114a und 114b zu
beiden Seiten der Membrane 103 bzw. 106 gebildet.
Feste Elektroden 112a und 112b sind an gegenüberliegenden
Seiten des flachen Teils 104 der Membran 103 an den
isolierenden Substraten 109a und 109b durch Aufbringen von
Schichten aus Cr und Au gebildet. In entsprechender Weise sind
Elektroden 116a und 116b gegenüberliegend dem flachen Teil 107
der Membran 106 an den isolierenden Substraten 109a und 109b
ausgebildet. Demzufolge wird ein Kondensator zwischen jeder
festen Elektrode und der Membran ausgebildet. Kondensatoren
bzw. Kapazitäten C10 und C20 sind zwischen der Membran 103 und
den festen Elektroden 112a und 112b vorhanden. Kondensatoren
bzw. Kapazitäten C30 und C40 befindet sich zwischen der
Membran 106 und den festen Elektroden 116a und 116b.
Druckführende Öffnungen 111a und 111b, 115a und 115b verbinden
die Räume 110a und 110b und die Räume 114a und 114b mit
äußeren Bereichen und leiten die äußeren Drücke P1 und P2 zu
den Membranen. Elektroden 113a, 113b, 117a und 117b sind an
den inneren Flächen der Öffnungen 111a, 111b, 115a und 115b
und an denjenigen Teilen, die die Öffnungen 111a, 111b, 115a
und 115b an den äußeren Oberflächen der isolierenden Substrate
109a und 109b umgeben, ausgebildet. Diese Elektroden sind
elektrisch an die Elektroden 112a, 112b, 116a und 116b jeweils
angeschlossen.
Ein Zwischenraum (ein Vakuumraum) 119 ist in dem
Siliciumsubstrat 102 vorgesehen und hat die gleiche Tiefe wie
die flachen Teile 104 und 107. Eine Elektrode 120 ist an dem
isolierenden Substrat 109a gegenüberliegend dem Raum 119
ausgebildet und ein Kondensator C50 ist zwischen der Elektrode
120 und dem Siliciumsubstrat 102 ausgebildet. Die Elektrode
120 ist mit einer Elektrode 122 verbunden, die an der äußeren
Fläche des isolierenden Substrat 109A angeordnet ist, und zwar
über eine Elektrode, die innerhalb einer Öffnung 121 an dem
isolierenden Substrat 109a ausgebildet ist. Ein isolierendes
Substrat 123 ist an der Elektrode 122 so vorgesehen, daß die
Öffnung 121 und der Raum 119 vollständig abgedichtet werden
können. Das isolierende Substrat 123 hält den Raum 119 unter
Vakuum. Dieser Aufbau um den Raum 119 herum unter Einschluß
des Kondensators C50 führt zur Verwirklichung einer
Absolutdruckdetektoreinheit 40.
Eine Elektrode 125 ist an der äußeren Fläche des isolierenden
Substrates 109a vorgesehen. Die Elektrode 125 und ein
Siliciumsubstrat 10 bilden einen Kondensator C60, der das
isolierende Substrat 109a zwischen diesen Teilen enthält.
Durch diesen Aufbau ist eine Temperaturdetektoreinheit 46
gebildet worden.
Ein Basisteil 126 fixiert die Druckdetektoreinheit 201 an der
Innenseite des Körpers eines Druckdetektors. Eine isolierende
Platte 27 fixiert die Elektroden 113b und 117b nach der
Isolierung von der Basis 126 und formt einen Druckeinlaß 130
zur Übertragung des Drucks P1 zu den Drucköffnungen 111b und
115b, wodurch die Elektroden 113b und 117b befestigt werden.
Eine Öffnung 128, die sich zu dem Siliciumsubstrat 102 hin
erstreckt, ist an dem isolierenden Substrat 109a vorgesehen.
Eine Elektrode 129 ist an der inneren Fläche der Öffnung,
beispielsweise durch die Spatter-Methode hergestellt worden.
Das Siliciumsubstrat 102 ist über die Elektrode 129 geerdet.
Fig. 5 zeigt weiterhin eine Bezugskapazitätsdetektoreinheit
210. Die Bezugskapazitätsdetektoreinheit 210 weist einen Raum
211 auf, der in dem Siliciumsubstrat 102 gebildet ist, und
weiterhin eine Elektrode 212, die an dem isolierenden Substrat
109a im oberen Bereich des Raumes 211 ausgebildet ist. Der
Raum 211 ist durch Plasma-Ätzung des Siliciumsubstrates bis
zur Tiefe der Membrane 104 und 108 hergestellt worden. Ein
Kondensator C70 ist zwischen der Elektrode 212 und dem
Siliciumsubstrat 102 ausgebildet. Eine Elektrode 214 ist an
der oberen Fläche des isolierenden Substrates 109a geformt und
ist mit der Elektrode 212 durch eine leitende Verbindung
verbunden, die innenseitig an eine Öffnung 213 in dem
isolierenden Substrat 109a ausgebildet ist.
Der Raum 211 wird mit dem Druckmedium der Kondensatoren C10
bis C40 gefüllt und überträgt den Druck P1 und P2. Daher wird
lediglich eine Veränderung in der Dielektrizitätskonstanten
des Druckmediums detektiert, welche mit einer Veränderung in
der Temperatur oder dem Druck einhergeht, indem eine
Veränderung der Kapazität des Kondensators C70 festgestellt
wird.
Die parasitären Kapazitäten der Kondensatoren C10 bis C40
werden ebenfalls durch eine Veränderung in der
Dielektrizitätskonstanten des Druckmediums beeinflußt, welches
sich mit der Temperatur und dem Druck ändert. Daher kann eine
reine Streukapazität ohne Einfluß einer Veränderung in der
Dielektrizitätskonstanten dadurch erhalten werden, indem eine
Veränderung durchgeführt wird, die auf dem Meßergebnis der
Kapazität für den Kondensator C70 basiert. Auf diese Art und
Weise wirkt die Einheit 210 als parasitärer
Kapazitätsänderungskondensator.
Fig. 6 ist ein Blockdiagramm, welches den Aufbau der
Druckdetektorvorrichtung zeigt und weist die
Druckdetektoreinheit 201, eine Auswahleinheit 202, einen
Kapazitäts-Frequenz-umwandlungsstromkreis 203, einen Zähler
204 und einen µ-COM-Arbeitsstromkreis 205 auf, der durch einen
Mikroprozessor verwirklicht worden ist.
Fig. 7 zeigt, wie die Signale von den Kondensatoren C10 bis
C70 der Druckdetektoreinheit 201 durch die Schalter SW11 bis
SW17 der Auswahleinheit 202 durchgeschaltet werden. Jeder
Schalter SW11 bis SW17 umfaßt beispielsweise einen CMOS-Typ-
Transistor. Der Schaltsteuerstromkreis SW1 steuert das Öffnen
und Schließen der Schalter SW11 bis SW17. Unter dieser
Steuerung wird ein erforderliches Signal aus den Signalen von
den Kondensatoren C10 bis C70 ausgewählt und zum Kapazitäts-
Frequenz-Umwandlungsstromkreis 203 ausgegeben. Der Stromkreis
203 lädt und entlädt die Kondensatoren C10 bis C70 und weist
einen Widerstand R und ein Schmidt-Trigger G1 auf. Der
Schmidt-Trigger G1 hat zwei Schwellwerte und wandelt einen
Ausgang dann um, wenn die Entladung oder Ladespannung den
Schwellwert überschreitet, wodurch ein Impulssignal mit einer
Frequenz erzeugt wird, die der Kapazität des Kondensators
entspricht. Der Zählerstromkreis 204 zählt die Impulssignale
unter Verwendung eines Bezugssteuersignals. Der µ-COM-
Arbeitsstromkreis 205 liest die Zählwerte und führt eine
entsprechende Operation aus.
Als nächstes wird der Meßvorgang der Kapazität des
Kondensators C10 bis C70 unter Bezugnahme auf die Fig. 8
beschrieben. (A) bis (f) nach Fig. 28 zeigt die Wellenformen
der Signale, an denen durch (a) und (f) gezeigten Positionen
der Fig. 7.
Im anfänglichen Zustand gibt der Arbeitsstromkreis 205 kein
Modeauswahlsignal PO aus, wie dies bei (a) in Fig. 8 zu
erkennen ist, und der Zählstromkreis 204 ist im rückgezählten
Zustand gemäß dem Rückstellungssignal RST (b) in Fig. 8. Wenn
der Arbeitsstromkreis 205 ein Modeauswahlsignal P0, wie dies
in (a) in Fig. 8 angezeigt ist, ausgibt, schaltet der
Schaltsteuerstromkreis SW1 den Schalter SW11 ein und wählt die
Kapazität C10 aus, hierbei wird ein Schwingstromkreis durch
den Widerstand R, den Kondensator C10 und das Gate G1
gebildet. Falls der Eingang zu dem Gate G1 einen niedrigen
Pegel hat (L), zeigt der Ausgang von Gate G1 einen hohen Wert
(H bzw. Voh), wodurch der Kondensator C10 über den Widerstand R
aufgeladen wird. Wenn die Ladespannung des Kondensators C10
die höhere Spannung (Vtu) des zweiten Schwellwertes erreicht,
wird der Ausgang vom Gate G1 vom Pegel L umgekehrt, so daß die
elektrische Ladung, die sich durch auf dem Kondensator C10
aufgesammelt hat über den Widerstand R entlädt. Wenn die
Eingangsspannung des Gates G1 auf den niedrigen Wert fällt
(Spannung VTL) des zweiten Schwellwertes, zeigt das Gate G1 den
H-Pegel, wodurch der Kondensator C10 sich wieder über den
Widerstand R auflädt. Durch Wiederholen des Lade- bzw.
Entladevorganges gibt das Gate G1 Impulssignale mit einer
Frequenz auf, die proportional zur Kapazität des Kondensators
C10 ist (vergl. (d) in Fig. 8).
Die Zahl der Impulse der Ausgangsimpulssignale werden durch
den Zählstromkreis 204 gezählt. Wenn der Zählwert eine
vorbestimmte Zahl erreicht, hält der Zählstromkreis 204 den
Zählvorgang an, wie dies in (f) gezeigt ist, indem ein
Impulssignal (IRQ) ausgegeben wird, welches in (e) in Fig. 8
gezeigt ist. Der Arbeitsstromkreis 205 empfängt das Zählsignal
IRQ als ein Unterbrechungssignal vom Zählstromkreis 204 und
liest den Zählwert n als Ausgang P1 bei einer Entlade bzw.
Ladezeit T1 ein.
Die Ladezeit des Kondensators C10, nämlich die Zeit t1 wird
wie folgt berechnet:
VTV - VTL = (VOH - VTL)(1 - e-t1/R.C10) (12)
und
t1 = R . C10 . LN{(VOH - VTL)/(VTU - VTL)} (13),
wobei LN den natürlichen Logarithmus darstellt.
Die Entladezeit t1' wird entsprechend wie folgt berechnet:
VTV - VTL = (VOL - VTU) . (1 - e-t1'/R.C10) (14)
und
t1' = R . C10 . LN{(VOL - VTU)/(VOL - VTL)} (15).
Da die Zeit der Ladevorgänge n - 1 für n Ladezeiten ist, wie
dies in (d) in Fig. 28 dargestellt ist, kann die Ladezeit T1
wie folgt berechnet werden:
T1 = n . t1 + (n - 1). t1' (16)
Die Ladezeit wird vielfach berechnet, weil die
Präzisionsmessung des Zeitmeßzählers verbessert wird. Die
Ladezeit (die Zahl der Impulse) n kann durch einen
zweckmäßigen Wert eingestellt werden, der der
Bezugszeitsteuerfrequenz, dem Wert des Widerstandes R und der
Kapazität und dergl. des Kondensators entspricht. Gemäß der
vorliegenden Ausführungsform ist n = 960.
Als nächstes schaltet der Stromkreis 205 entsprechend den
Gleichungen (13) und (15) den Schalter aus und schaltet den
Schalter SW12 unter der Steuerung des Schaltstromkreises SW1
nach dem Berechnen der Ladezeit T1 von der ausgezählten Zahl
der Impulse n und der Ladungszeit T1 für die Kapazität C10. In
entsprechender Weise wird die Lade- und Entladezeit T2 des
Kondensators C20 und die Impulssignale zu der Ladezeit t2
gezählt. Dieser Vorgang ist entsprechend dem bereits oben
beschriebenen. Der rechte Teil der Fig. 28 zeigt eine
zeitliche Darstellung für diesen Vorgang. In entsprechender
Weise wird die Ladezeit der Kondensatoren C30 bis C70
berechnet.
Basierend auf den erhaltenen Ladezeiten führt der
Arbeitsstromkreis 205 die folgenden Operationen durch.
Die durch die Membran angezeigte Veränderung wird für einen
niedrigen Druckbereichsensor L, der die Kondensatoren C10 und
C20 erfaßt, erhalten.
(t1 - t2)/(t1 + t2 - 7)
= (C10 - C20)/(C10 + C20 - C70) (17)
In diesem Fall enthält die gemessene Kapazität die parasitäre
Kapazität, die zwischen den Leitern erzeugt wird, und zwar
unter Ausschluß der Elektroden in der Druckdetektoreinheit
201. Daher wird eine parasitäre Kapazität von CS1 in der oben
beschriebenen Gleichung (17) wie folgt repräsentiert:
(C10 + Cs1 - C20 - Cs1)/(C10 + Cs1 - C20 + Cs1 - C70)
= (C10 - C20)/(C10 + C20 + 2Cs1 - C70) (18),
wobei mit 2Cs1 = C70 (Cref) wird der Einfluß der parasitären
Kapazität ausgelöscht wird. Auf diese Art und Weise kann eine
Veränderung, die durch die Membran angezeigt wird, erhalten
werden, während der Einfluß der Kapazität durch die
Durchführung einer Operation ausgelöscht werden kann, die den
oben beschriebenen Gleichungen entspricht und unter Einsatz
des Mikroprozessorstromkreises durchgeführt wird. Für einen
Hochdruckbereichsensor H unter Einschluß der Kapazitäten C30
und C40 wird eine Operation gemäß den Gleichungen 20 und 21
durchgeführt, die den Gleichungen 18 und 19 entsprechend
(t3 - t4)/(t3 + t4 - t7)
= (C30 - C40)/(C30 + C40 - C70) (19)
(C30 + Cs2 - C40 - Cs2)/(C30 + Cs2 - C40 + Cs2 - C70)
= (C30 - C40)/(C30 + C40 + 2Cs2 - C70) (20)
wobei Cs2 die parasitäte Kapazität bezeichnet, die sich auf
Hochdruckgereichsensor H bezieht.
Wenn Temperatur- und Druckausgleich durchgeführt werden, wählt
der Mikroprozessorstromkreis 205 die Kapazitäten C50 oder C60
aus, mißt die Ladezeiten t4 und t5, die proportional zur
jeweiligen Kapazität in einer Art und Weise berechnet wird,
wie die, die oben beschrieben worden ist, und führt einen
vorbestimmten Änderungsvorgang durch, der auf dem
Meßwertergebnis basiert.
Der Kapazitäts-Frequenz-Umwandlungsstromkreis 203 nach Fig. 9
wandelt den Schmidt-Trigger-Gate G1, der in Fig. 7 gezeigt
ist, von einem Wechselrichter-Gate in ein NAND-Gate G2 um. Der
eine Eingang F des NAND-Gates G2 ist ein Steuergateanschluß
241. Wenn ein Eingang von dem Arbeitsstromkreis 205 zu dem
Gate-Anschluß 241 geht, wird ein niedriger Pegel angezeigt und
das NAND-Gate G2 führt keine Ladung und auch keine Entladung
durch. Der Lade- oder Entladevorgang wird lediglich dann
durchgeführt, wenn das NAND-Gate G2 einen hohen Pegel zeigt.
In diesem Beispiel kann eine vorbestimmte Nichtarbeitszeit für
das NAND-Gate G2 durch Steuern eines Eingangssignals zum Gate-
Terminal 241 durch den Mikroprozessorarbeitsstromkreis
eingestellt werden, wodurch der Energieverbrauch verringert
wird. Die Bezugszahlen (1) und (2) in Fig. 9 zeigen ein
Beispiel für eine Ausgangswellenform vom NAND-Gate G2 und ein
Beispiel einer Eingangswellenform zum Gate-Anschluß 241.
In dem Beispiel nach Fig. 10 ist das Schmidt-Trigger-Gate G1,
welches in Fig. 7 gezeigt worden ist, durch zwei
Wechselrichter 231 und 232 und zwei Widerstände Rs und Tf
ersetzt worden. Der Schwellwert der Spannung des Inverters
VTH, ist die Spannung (Speisespannung), die an dem Stromkreis
gelegt wird VDD, der höhere der beiden Schwellspannungen ist
VTU und der niedrigere der beiden Schwellspannungen ist VTL.
VTL = (Rs + Rf)/Rf . {VTH - Rs . VDD/(Rs - Rf)} (21)
VTU = (Rs + Rf) . VTH/Rf (22)
VTU - VTL = Rs . VDD/Rf (23)
Als Ergebnis hiervon kann die Differenz zwischen den beiden
Schwellwerten der Spannungen beliebig durch Auswahl der
Widerstandswerte der Widerstände Rs und Rf eingestellt werden
und zwar basierend auf den oben beschriebenen Gleichungen
(23).
Die Druckdetektervorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung
detektiert einen Druck als eine Veränderung in der Kapazität,
wandelt ein Detektorsignal in ein elektrisches oder optisches
Signal um und überträgt dann das Ergebnis zu einer im Abstand
angeordneten Empfängereinheit und dgl., wodurch der
elektrische Energieverbrauch der Vorrichtung verringert wird.
In diesem Fall fließt ein hoher Strom in einem Schaltvorgang,
falls das Gate oder entsprechende Einrichtung eine CMOS-
Einrichtung aufweist. Um einen kleineren effektiven Wert des
elektrischen Energieverbrauchs zu erhalten, sollte eine
Schwingungsfrequenz beim Lade- und Entladevorgang kleiner
gemacht werden. Wenn daher die Höhe der Schwellspannung auf
einen großen Wert mit dem in Fig. 10 gezeigten Aufbau
eingestellt wird, kann die Schwingungsfrequenz kleiner sein,
wodurch der Energieverbrauch der Vorrichtung verringert wird.
Im Falle der Fig. 11 sind zwei Schalter CC1 und CC2 jeweils
mit CMOS-Transistoren und dgl. aufgebaut, so wie dies in Fig.
11 gezeigt ist. Diese Schalter werden dem Ausgang von Gate G1
entsprechend so gesteuert, um die Spannungseinspeisung von der
Konstantstromquelle VDD zu steuern, um die Ladung oder
Entladung des Kondensators durchzuführen. Wellenformen (1) und
(2), die in Fig. 11 gezeigt sind, stellen eine
Ausgangswellenform und eine Eingangswellenform des Gates G1
dar, wobei die Wellenform (3) und (4) jeweils dem Gatesignal
für die Transistoren CC1 und CC2 entsprechen. Mit diesem
Aufbau wird die Steigung der Spannung um die in
Spannungsschwellwert herum groß im Vergleich mit dem Fall, wo
die Ladung und Entladung durch einen Widerstand und einen
Kondensator verändert wird, welche eine exponentielle Form
zeigt. Daher ist die Vorrichtung durch Störungen, Rauschen und
dgl. weniger beeinflußbar. Mit Hilfe der CMOS-Transistoren
kann weiterhin der Vorteil erzielt werden, daß die
Temperaturdrift auf 0 eingestellt wird, weil die Quellspannung
verwendet wird.
In diesem Beispiel nach Fig. 12 umfaßt der Schwingstromkreis
drei Inverter oder Nicht-Stufen G710, G720 und G730, einen
Lade- und Entladewiderstand R und Kondensatoren C10 bis C70,
um einen Lade- oder Entladevorgang durchzuführen unter
Verwendung der Schwellspannung. Ein Schutzwiderstand R7 hält
die Lade- und Entladespannung, wie in (3) in Fig. 12 gezeigt
wird so, daß sie nicht den Quellspannungsbereich VSS bis VDD
überschreitet. Da das Gate G730 einen hohen Pegel (H) hat,
wenn sein Eingang einen niedrigen Pegel hat, wird der
Kondensator über den Widerstand R geladen. Wenn die
Ladespannung den Schwellwert VTU erreicht, wird der Ausgang
des Gates G730 umgekehrt und zwar auf dem Pegel L und die
elektrische Ladung des Kondensators wird über den Widerstand R
entladen. Wenn die Entladespannung des Gates G730 einen
niedrigeren als den Schwellwert VTH annimmt, zeigt der Ausgang
des Gates G730 den H-Pegel an, wodurch der Kondensator wieder
über den Widerstand R geladen wird. Wie durch die Wellenform
der Ladung und Entladung in (3) in Fig. 12 gezeigt, kann die
Veränderung der Lade- und Entladespannung größer als nach der
Schmidt-Trigger-Methode (vergleiche die Darstellung (3) der
Fig. 12). Als Ergebnis hiervon kann die Schwingungsfrequenz
kleiner als oben beschrieben sein und der Energieverbrauch
kann erfolgreich verringert werden.
Das Beispiel nach Fig. 13 ist eine Veränderung der in Fig. 12
gezeigten Vorrichtung. Das Invertergate G710 ist nun ein NAND-
Gate G810 und Gateeingangsanschluß 410 ist, wie in Fig. 33
gezeigt, vorgesehen. Die Wellenformen (1), (2), (3) und (4),
die in Fig. 13 zu erkennen sind, zeigen eine
Eingangswellenform und eine Ausgangswellenform des Gates G730,
die Entlade- und Ladespannungswellenform der Kondensatoren und
das eine der beiden Eingangssignale des NAND-Gates G810.
Fig. 14 ist ein Beispiel, bei dem der Entlade- und
Ladewiderstand R7 durch zwei Schalter CC1 und CC2 ersetzt
worden ist. Die Schalter CC1 und CC2 werden in Abhängigkeit
vom Ausgang des Gates 730 geschaltet und die Speisespannung
von der Konstantstromquelle VDD wird dadurch so gesteuert, um
den Kondensator zu laden und entladen. Die in Fig. 13
wiedergegebenen Wellenformen (1), (2), (3), (4) und (5) zeigen
die Lade- und Entladespannungswellenform der Kondensatoren,
eine Eingangswellenform und eine Ausgangswellenform des Gates
G730 und die Gate-Signale der Transistoren CC1 und CC2.
Claims (9)
1. Eine auf der Kapazität basierende Detektorvorrichtung
zur Ermittlung des Drucks, der an einer Membran anliegt,
basierend auf der sich bei Druckveränderung in einem
Teil der Membran verändernden Kapazität, aufweisend:
eine erste Membran (103), deren Lage sich in Abhängigkeit des Differentialdrucks zwischen einem ersten und einem zweiten Druck (P1, P2) ändert,
eine erste Elektrode (112a), die einer ersten Ebene der ersten Membran (103) gegenüberliegend angeordnet ist und zusammen mit der Membran einen ersten Kondensator (C10) bildet,
eine zweite Elektrode (112b), die einer zweiten Ebene der ersten Membran (103) gegenüberliegend angeordnet ist und zusammen mit der Membran einen zweiten Kondensator (C20) bildet,
weiterhin aufweisend
eine zweite Membran (106), die dicker als die erste Membran (103) ist und deren Lage sich in Abhängigkeit des Differentialdrucks zwischen dem ersten und dem zweiten Druck (P1, P2) ändert,
eine dritte Elektrode (116a), die einer ersten Ebene der zweiten Membran (106) gegenüberliegend ausgebildet ist und zusammen mit der zweiten Membran einen dritten Kondensator (C30) bildet, und
eine vierte Elektrode (116b), die einer zweiten Ebene der zweiten Membran (106) gegenüberliegend ausgebildet ist und zusammen mit der zweiten Membran einen vierten Kondensator (C40) bildet;
einen fünften Kondensator (C50), dessen Kapazität sich gemäß dem zweiten Druck (P2) ändert;
einen sechsten Kondensator (C60), dessen Kapazität sich mit der Umgebungstemperatur der Membrane (103, 106) ändert;
einen siebten Kondensator (C70), dessen Kapazität auf eine Veränderung der Dielektrizitätskonstanten des Druckmediums anspricht und aufweisend
einen Schaltsteuerstromkreis (SW1), der Verbindungen zwischen den sieben Kondensatoren (C10, C20, C30, C40, C50, C60 C70) und der Detektoreinheit (201) durchschaltet bzw. wahlweise einen der Ausgänge der sieben Kondensatoren zur Detektoreinheit ausgibt.
eine erste Membran (103), deren Lage sich in Abhängigkeit des Differentialdrucks zwischen einem ersten und einem zweiten Druck (P1, P2) ändert,
eine erste Elektrode (112a), die einer ersten Ebene der ersten Membran (103) gegenüberliegend angeordnet ist und zusammen mit der Membran einen ersten Kondensator (C10) bildet,
eine zweite Elektrode (112b), die einer zweiten Ebene der ersten Membran (103) gegenüberliegend angeordnet ist und zusammen mit der Membran einen zweiten Kondensator (C20) bildet,
weiterhin aufweisend
eine zweite Membran (106), die dicker als die erste Membran (103) ist und deren Lage sich in Abhängigkeit des Differentialdrucks zwischen dem ersten und dem zweiten Druck (P1, P2) ändert,
eine dritte Elektrode (116a), die einer ersten Ebene der zweiten Membran (106) gegenüberliegend ausgebildet ist und zusammen mit der zweiten Membran einen dritten Kondensator (C30) bildet, und
eine vierte Elektrode (116b), die einer zweiten Ebene der zweiten Membran (106) gegenüberliegend ausgebildet ist und zusammen mit der zweiten Membran einen vierten Kondensator (C40) bildet;
einen fünften Kondensator (C50), dessen Kapazität sich gemäß dem zweiten Druck (P2) ändert;
einen sechsten Kondensator (C60), dessen Kapazität sich mit der Umgebungstemperatur der Membrane (103, 106) ändert;
einen siebten Kondensator (C70), dessen Kapazität auf eine Veränderung der Dielektrizitätskonstanten des Druckmediums anspricht und aufweisend
einen Schaltsteuerstromkreis (SW1), der Verbindungen zwischen den sieben Kondensatoren (C10, C20, C30, C40, C50, C60 C70) und der Detektoreinheit (201) durchschaltet bzw. wahlweise einen der Ausgänge der sieben Kondensatoren zur Detektoreinheit ausgibt.
2. Druckdetektorvorrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet
durch
einen Kapazitäts-Frequenz-Umwandlungsstromkreis (203), um die Kapazität der sieben Kondensatoren in ein Impulssignal umzuwandeln;
einen Zähler (204), um die Anzahl von Impulsen des Impulssignals und den Erzeugungszeitpunkt für das Impulssignal festzustellen; und durch
einen Arbeitsstromkreis (205), um die Kapazität des ersten bis siebten Kondensators festzustellen.
einen Kapazitäts-Frequenz-Umwandlungsstromkreis (203), um die Kapazität der sieben Kondensatoren in ein Impulssignal umzuwandeln;
einen Zähler (204), um die Anzahl von Impulsen des Impulssignals und den Erzeugungszeitpunkt für das Impulssignal festzustellen; und durch
einen Arbeitsstromkreis (205), um die Kapazität des ersten bis siebten Kondensators festzustellen.
3. Druckdetektorvorrichtung nach Anspruch 2, dadurch
gekennzeichnet, daß die Frequenz-Kapazitäts-
Umwandlungseinrichtung (203) aufweist:
ein Schmidt-Trigger-Gate (G1) zur Erzeugung eines Impulses, bevor die Entladungsspannung eines der sieben Kondensatoren einen zweiten Schwellwert nach Überschreiten eines ersten Schwellwerts erreicht.
ein Schmidt-Trigger-Gate (G1) zur Erzeugung eines Impulses, bevor die Entladungsspannung eines der sieben Kondensatoren einen zweiten Schwellwert nach Überschreiten eines ersten Schwellwerts erreicht.
4. Druckdetektorvorrichtung nach Anspruch 2, dadurch
gekennzeichnet, daß die Frequenz-Kapazitäts-
Umwandlungseinrichtung (203) aufweist
ein NAND-Gate (241) zur Erzeugung eines Impulses, bevor die Entladespannung des ersten bis siebten Kondensators einen zweiten Schwellwert nach Erreichen bzw. Überschreiten eines ersten Schwellwerts erreicht, wenn eine Gate-Spannung einen hohen Pegel zeigt.
ein NAND-Gate (241) zur Erzeugung eines Impulses, bevor die Entladespannung des ersten bis siebten Kondensators einen zweiten Schwellwert nach Erreichen bzw. Überschreiten eines ersten Schwellwerts erreicht, wenn eine Gate-Spannung einen hohen Pegel zeigt.
5. Druckdetektorvorrichtung nach Anspruch 2, dadurch
gekennzeichnet, daß die Frequenz-Kapazitäts-
Umwandlungseinrichtung (203) aufweist:
einen Stromkreis, der zwei Widerstände (Rs, Rf) und zwei Inverter oder NICHT-Stufen (231, 232) aufweist, um einen Impuls zu erzeugen, bevor eine Entladespannung des ersten bis siebten Kondensators einen zweiten Schwellwert nach Überschreiten des ersten Schwellwerts erreicht.
einen Stromkreis, der zwei Widerstände (Rs, Rf) und zwei Inverter oder NICHT-Stufen (231, 232) aufweist, um einen Impuls zu erzeugen, bevor eine Entladespannung des ersten bis siebten Kondensators einen zweiten Schwellwert nach Überschreiten des ersten Schwellwerts erreicht.
6. Druckdetektorvorrichtung nach Anspruch 2, dadurch
gekennzeichnet, daß die Frequenz-Kapazitäts-
Umwandlungseinrichtung aufweist:
einen Stromkreis mit zwei Schaltern (CC1, CC2), die an eine Konstantstromquelle (Voo) und ein Gate (G61) angeschlossen sind, um einen Impuls zu erzeugen, bevor die Entladespannung des ersten bis siebten Kondensators einen zweiten Schwellwert nach Überschreiten des ersten Schwellwerts erreicht.
einen Stromkreis mit zwei Schaltern (CC1, CC2), die an eine Konstantstromquelle (Voo) und ein Gate (G61) angeschlossen sind, um einen Impuls zu erzeugen, bevor die Entladespannung des ersten bis siebten Kondensators einen zweiten Schwellwert nach Überschreiten des ersten Schwellwerts erreicht.
7. Druckdetektorvorrichtung nach Anspruch 2, dadurch
gekennzeichnet, daß die Frequenz-Kapazitäts-
Umwandlungseinrichtung einen Stromkreis aufweist, der
einen ersten Widerstand (R, R7) und einen zweiten
Widerstand umfaßt und drei Inverter oder NICHT-Stufen
(G710, G720) aufweist, die parallel zum ersten
Widerstand geschaltet sind.
8. Druckdetektorvorrichtung nach Anspruch 2, dadurch
gekennzeichnet, daß die Frequenz-Kapazitäts-
Umwandlungseinrichtung einen Stromkreis aufweist, der
einen ersten und einen zweiten Widerstand (R, R7), ein
NAND-Gate (G810) und zwei Inverter (G720, G730)
aufweist, die parallel zum ersten Widerstand geschaltet
sind.
9. Druckdetektorvorrichtung nach Anspruch 2, dadurch
gekennzeichnet, daß die Frequenz-Kapazitäts-
Umwandlungseinrichtung einen Reihenstromkreis
aufweist, der seinerseits zwei Schalter (CC1, CC2)
enthält, die an eine Konstantstromquelle, einen
Widerstand (R7) und drei Inverter (G710, G720, G730)
angeschlossen sind.
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