DE1797028C3 - Vorrichtung zum Auftragen schichtbildender Lösungen - Google Patents
Vorrichtung zum Auftragen schichtbildender LösungenInfo
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
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Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur fortlaufenden Entnahme einer schichtbildenden Flüssigkeit
aus einem Flüssigkeitsvorrat und zum Aufbringen einer Schicht der Flüssigkeit auf einen fotografischen
Schichtträger'mit einem Vorratsbehälter, einer Einrichtung, welche eine mit der Flüssigkeit zu beschichtende
Oberfläche in fortlaufender Bewegung in die Flüssigkeit eintaucht und wieder aus ihr herausführt
und einer Einrichtung zum Bewegen der Flüssigkeil
im Behälter.
Beim Auftragen schichtbildender Flüssigkeiler
nach dem Tauchverfahren wird die zu beschichtende Bahn um eine Führungswalze herumgeführt, die s(
in einem die Bcschichtungsfliissigkeil enthaltender Behälter - dem Gießtrog - angeordnet ist, daß sit
zu beschichtende Bahn die Beschichtungslösiing an der Oberfläche berührt b/w. bei gleichzeitig doppelseitiger
Beschichtung in die Bcschichtungsiösung eintaucht
und dabei eine mehr oder weniger dicke Schicht mitnimmt.
Obwohl vor allem in neuerer Zeit eine Reihe von Verfahren, die nach ganz anderen Prizipien arbeiten,
bekannt geworden sind, wird das Tauchverfahren wc-
!5 gen der relativ geringen Anforderung an die Präzision
der Ciießerteile und wegen seiner unkomplizierten Handhabung bei gleichzeitiger Fr/ielung höchster
Qualität in bezug auf die Gleichmäßigkeit des Beschichtungsauftrages
in der Praxis auch heule noch
»° sehr häufig /um Beschichten fotografischer Schichtträger
wie Filme verwendet.
Das Verfahren arbeitet mit einem Überschuß an Beschichtiingsflüssigkeit. d. h. die Beschichtungsflüssigkeit
befindet sich immer über einen lungern Zeil-
»5 raum im Gießtrog, bevor sie aufgetragen wird. Fur
da:, mit diesem Verfahren erzielbare Ergebnis ist <_■>
dabei v-.n entscheidender Bedeutung, daß während
des Verweilensder Beschich!"ngsflussigkeit im Gieß
irog keinerlei Inhomogenitäten auftreten. Sobald nümhch schichtbildende Flüssigkeiten aufjetjagr'
werden sollen, du: sich im Gießtrog in der Art verändern können, daß Phasen unterschiedlicher physikalischer
oder chemischer Eigenschaften entstehen, win! die einhe'tliche Beschichtung erheblich gestört. ^ ·
können an der Oberfläche der Beschiehtungslosunt;
durch Schwerkraftsedimentation Entmischungen und Konzentrationsänderungen auftreten. Die Stromungsverhältnisse im Trog verursachen dann zusätzlich noch eine ungleichmäßige Verteilung der Be-
*o Schichtungsflüssigkeit über die gesamte Trogbreitc.
Alle diese Inhomogenitäten beeinträchtigen das GuB bild in gan7 erheblichem Maße und zwar durch Bildung
von Streifen, Schlieren und dergleichen. Die größten Schwierigkeiten bereiten jedoch in al
len Fällen solche Inhomogenitäten, die an der Oberfläche
der Beschichtungslösung auf der Eintauchseite der zu beschichtenden Bahn auftreten.
Diese Problematik tritt besonders bei der Herstellung lichtempfindlicher fotografischer Materialien
durch Begießen geeigneter Schichtträger mit GeIatine-Silberhalogenid-EmuIsionen
auf. Zur Erzielung dünner Schichten bzw. kurzer Verarbeitungszeiten enthalten solche Emulsionen, die im eingentlichen
Sinne Suspensionen sind, heute oft relativ sehr niedrige Bindemittelgehalte, die eine rasche Entmischung
und Konzentrationsänderung durch Schwerkraftsedimentation verursachen. Besonders kritisch in
solchen Systemen ist darüberhinaus die unter dem Einfluß der durch Netzmiitelanreicherung an der
Oberfläche noch schneller verlaufende Entmischung der Oberflächenschicht, die zu erheblichen Störungen
des Gicßbildes führt. Derartige entmischten Zonen erzeugen bei gut netzende'n Schichtträgern oder Anspülwalzen
diffuse, halogensilberarme Streifen, bei
schlecht netzenden Schichtträgersorten oder Anspülwalzen jedoch scharf abgegrenzte, halogensilberarme
oder sogar halogensilberfreie Längsstreifen, was in jedem Falle zu einer erheblichen Oi
i 797 028
gung des Heschiehiungsauftrages fiihri.
Zonen unterschiedlicher Eigenschaften können ferner auch beim Beschichten von Kunststoffilmen
entstehen, wenn aus diesen Filmen oder den auf diesen Filmen bereits vorhandenen Beschichtungen /.. B.
Haftschichten u. dgl. durch das Lösungsmittel der aufzutragenden Masse im Gießtrog während der Beschiehtungsdauer
bestimmte Substanzen herausgelöst und dann wieder ungleichmäßig aufgetragen werden.
Störungen eines gleichmäßigen Beschichtens treten schließlich auch dann auf, wenn /um Beschichten Lösungen
verwendet werden, die leichtflüchtige Komponenten enthalten, die durch ihre Verdunstung Zonen
unterschiedlicher Konzentration innerhalb des Gießtroges entstehen lassen.
Um die genannten Nachteile zu beheben, ist es aus den USA.-Patentschriften 2 775 954 und 2 855 894
bekannt, den Gießtrog strömungstechnisch durch geeignete Formgebung, durch Leitbleche oder feststehende
Leitschnecken so auszubilden, daß keine »toten« Zonen entstehen. Diese Maßnahmen reichen
jedoch fur sich schnell verändernde Beschichtungslösungen nicht aus, da die BcschichtungsfKissigkeit
selbst bei bester Gestaltung solcher Vorrichtungen einige Minuten im Gießtrog verweilt und sich verandern
kann. Vor allem aber können auf diese Weise die sehr starken, in Sekunden auftretenden llntmischungserscheinungen
an der Oberfläche der Beschichtungsflüssigkeit nicht verhindert werden.
Fine weitere Möglichkeit, Entmischung und Sedimentation tu verhindern, besteht darin, den Gießtrog
drastisch zu verkleinern und damit die Verweilzelt der Beschichtungsflüssigkeit in dem Gießtrog stark /u
vermindern. In der Praxis treten dabei jedoch Prazisionsprobleme auf, deren Lösung durch die schwer
vermeidbaren Bewegungen des durchlaufenden Schichtträgers sehr erschwert wird und die in jedem
Falle Einbußen der Beschichtungsqualität zur Folge haben.
Aus den USA.-Patentschriften 2 168 997 und 3 025 828 ist es ferner bekannt, die Beschichtungsflü«.sigkeit
innerhalb des Gießtroges umzupumpen. Von Nachteil ist dabei, daß aufwendige Umpumpeinrichtungen.
Filtrier- und Entgasungseinrichtungen für die zirkulierende Beschichtungslösung erforderlich
sind Hinzu kommt, daß das Verfahren bei Besehichtungsmaterialien, die sich in sehr kurzer Zeit verändern,
meist überhaupt nicht eingesetzt werden kann, da die Beschichtungslösung bei der zur Verhinderung
dieser Veränderungen erforderlichen sehr hohen Durchsatzrate beginnt, an der Oberfläche Wirbel und
Wellen und an dem Schichtträger oder der Anspülwalze selbst Turbulenzerscheinungen zu bilden, wodurch
auf dem beschichteten Material Ungleichmäßigkeiten in Form von Wellen oder Streifen entstehen.
Im Durchtauchverfahren, bei dem der Schichtträger durch den Gießtrog gezogen und so gleichzeitig auf
beiden Seiten beschichtet wird, ist das genannte Umpumpverfahren wegen der durch die Schichtträgerschiaufe
eingeschlossenen Beschichtungslösung praktisch nur mit einer Strömung in Richtung der Achse
der Umlenkwalze im Gießtrog möglich. Es hat sich dabei gezeigt, daß es wegen der relativ langen Strömungsstrecke
im Gießtrog selbst bei den größten praktisch noch realisierbaren Durchsatzmengen nicht
möglich ist, den Schichtträger mit sich schnell verändernden Beschichtungslösungen ohne die durch diese
Veränderungen verursachten Störungen zu beschichten.
Die bisher bekannten Einrichtungen besitzen also den Nachteil, daß entweder die Durchmischung unzureichend
ist, oder aber, daß bei guter Durchmischung,
z. B. beim Umpumpen, zwar Entmischung und Sedimentation verhindert, aber durch die Mischbewegung
selbst erhebliche Beschichtungsstörungen verursacht werden.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde,
if den üießtrog so auszubilden, daß eine sehr gute
Diiichmischung der 13eschichtun»sflüssigkeit möglich
ist, so daß auch sich schnell und stark verändernde Beschichtungsflüssigkeiten mit gutern Ergebnis aufgetragen
werdt η können, ohne daß dabei durch die
'5 Durchmischüiigsnewegung selbst eine Beeinträchtigung
der Beschichtungsqualität erfolgt.
Diese Aufgabe wird erfindungsgcniäß dadurch gelöst,
daß in dci Flüssigkeit auf der Eintauchseite der Oberfläche mindestens eine Durchmischungseinrichtung
knapp unterhalb des Flüssigkeitsspiegeis vorgesehen ist, ind daß der Bereich der Flüssigkeitsoberflä
ehe. an dem die /u bedeckende oder zu beschichtende
Oberfläche aus der Hussigkeit austritt, vom durch die
Rühreinrichtung in Bewegung gehaltenen Teil der Flüssigkeit durch mindestens eine durch geeignete
Trennmittel erzeugte Verengung des dei Flüssigkeit zur Verfugung stehenden Raumes getrennt ist.
Die Erfindung geht dabei von der Erkenntnis aus, daß die endgültig auf dem Schichtträger verbleibende
Flüssigkeit überwiegend bereits am Eintauchmeniskus aufgebracht wird, während die Oberfl^hen-Oualität
der Beschichtung ausschließlich von der mechanischen Stabilität des Austauchmeniskus bestimmt wird.
Diese f rkenntnis ist neu und steht im Widerspruch
zu der bisher vertretenen Ansicht (V. L. Zclikman
und S. M. Le vi: Making and Coating Photographic
Emulsions, The Focal Press - London and New York 1M64. Seite 279; AP 2X55 894, Spalte 1. Zeile 14
bis .Sh), daß es zur Erzielung einer qualitativ hochwertigen
Beschichtung erforderlich sei, die mechanischen Bedingungen innerhalb des Gießtroges weitgehend
stationär zu halten, d.h. Erschütterungen, Vibrationen u. dgl. weitgehend auszuschalten. Ein Rühren des
Beschichtungsgutes innerhalb des Gießtroges galt bis-
her als völlig ausgeschlossen.
Das erfindungsgemäße Vorgehen ermöglicht also auch eine Beschichtung mit schnell veränderbaren
Flüssigkeiten durch kontrollierte Durchmischungen der Flüssigkeit an der Oberfläche in der Nähe des Eintauchmeniskus.
die eine ständige Umwälzung der Oberflächenschichten bewirkt und damit deren Entmischung
verhindert, wobei trotz der Bewegung an der Eintauchstelle durch die Trennung derselben von
der Austauchstelle das Austauchen aus einer ruhenden Oberfläche erfolgt.
Gemäß Erfindung können auch wäßrige Dispersionen von lichtempfindlichen Silberhalogeniden in einem
natürlichen oder synthetischen wasserdurchlässigen Kolloid, die wegen der geringen Tragkraft eines
öo relativ geringen Bindemittelanteils stark zur Entmischung
neigen, auf fotografische Schichtträger aufgetragen werden. Als Schichtträger geeignet sind u.a.
Bahnen aus Celluloseestern, Polyethylenterephthalat, Polystyrol, Polycarbonat, Papier u. a. Gleichermaßen
können natürlich auch nicht lichtempfindliche Zwischenschichten wie Schutzschichten, Haftschichten
Filter- und Lichthofschutzschichten aufgetragen werden.
Die gemäß tier Erfindung vorgesehene Verengung
bewirkt, daß sieli die Bewegung des durchmisehlcn
Teils der Flüssigkeit nicht oder nicht mehr in die Oua-Iίtut
der Beschichtung hceinflussendem Umfang auf
den AuMrillsbereiehausder Flüssigkeit übertragt. Die
Verendiing kar'n bis /ur Austrittsstclle ik-n gleichen
Querschnitt haben; sie kann aber auch als nur kurze Drosselstelle ausgebildet sein. Im einfachsten Fall
wird die Verengung von der zu bedeckenden Oberfläche und von der Behälterinnenfläche begrenzt.
I£ine bevorzugte Altsführungsform der Erfindung
zeichnet sich dadurch aus, daß die Verengung durch ein zwischen der Eintauchslclle und der Austrittsstelle
der Oberfläche angeordnetes von oben in die Flüssigkeil eintauchendes Wehr gebildet wird, welches zwischen
sich und dem Behälterboden einen Durehtril! für den durch die Flüssigkeit laufenden bandförmigen
■.chichtt rager und die Flüssigkeil frei läßt .Ie enger
hierbei der Durchtritt ist. um so ruhiger bleibt die Austrittsstelle. Der Durchtritt soll einen gewissen Abstand
von der Austrittsslelle haben, damit das Verhältnis des Durchlritlsqucrschnitts zu der zwischen
Durchtritt und Auslrittsstelle befindlichen Flussig keitsmenge klein ist.
Das Wehr kann aus festen Werkstoffen wie Metall, Keramik oder Kunststoff bestehen. Es erst reek t sich
vorzugsweise über die volle Breite des Behalters und soll die Flüssigkeitssäule!! der Hin- und Auslauchk.immer
möglichst vollkommen trennen. Zwischen der zu beschichtenden Bahn und dem Wehr kann ein
schmaler Spalt verbleiben: das Wehr kann jedoch bei kratzuncmpfindlichen Bahnen bzw. bei entsprechen
dei Harteabslimmung von Wehrkante und zu beschiehiendcr
Bahn an der Bahn leicht schleifend angeordnet sein Das Wehr kann mil dem Behälter eine
konstruktive Einheit bilden und fest mit diesem verbunden sein. Fvs kann auch in Führungsnutcn gleitend
z. B. fur Reinigungszwecke herausnehmbar gestaltet werden
Pimi'Msionierung und Ausbildung der Hin- und
Auslauchkammer hängt vom Beschichtungsgut und von der verlangten Qualiläl der Beschichtung ah. Im
allgemeinen wird die Stabilität des Austauchmeniskus von einer nicht zu klein dimensionierten Austauchkammer
gefordert. Wird, inbesondere nach längerer Gießzeit, eine störende Phasentrennung in der Aus
tauchkammer befürchtet, so kann letztere mit einem Oberlauf verschen werden. Dieser Überlauf erfordert
in allen Fallen eine wesentlich geringere Durchsatzmenge als bei dem bereits diskutierten reinen Übcrlaufvertahren,
so daß gemäß der Erfindung die aufwendigen Ompumpsysicme entfallen.
Des weiteren ist vor allem, wenn hohe Besehichtungsgcschwindigkeiten
erreicht werden sollen, eine Kombination mit dem l.ufthürstcnverfahren. bei welchem
die Auftragsmenge durch einen Luftstrahl dosiert wird, angebracht.
Die erfindungsgemäß ausgebildete Vonichtung
kann zum ein- oder zweiseitigen Beschichten sich bewegender Bahnen verwendet werden.
Das Durchtauehverfahren ermöglicht die gleichzeitige Beschichtung von Vorder- und Rückseite der
Bahn mit der gleichen Beschichtungslösung. Die beschriebenen Durchmischungseinrichtungen sollten in
diesem Fall zu beiden Seiten der eintauchenden Bahn angeordnet werden. Die Verengung wird dabei
zweckmäßig von einem Wehr begrenzt, wie dies bereits oben dargelegt wurde. Die Austauchkammer
kann zusätzlich, wenn eine Phasentrennung zu befürchten ist. mit einem Üherlauf versehen werden.
Das Anlauehvcrfahren dient zum einseitigen Beschichten und kann insbesondere bei höheren Beschichtungsgeschwindigkeilen
mit der Luftbürste kombiniert werden. Das Durchmisehungselemenl sollte nahe an der eintauchenden Bahn angeordnet
sein: die Verengung wird vorzugsweise von einer Erhöhuiig am Boden des Behalters gebildet. Der Spalt
zwischen der zu beschichtenden Oberfläche und der Erhöhung kann wegen der präzisen Führung der
Oberfläche sehr knapp (etwa V111 bis 1 mm) bemessen
werden.
Als Misehelemente können Rührer verwendet wer-
1S den. die eine Rotationsbewegung, Oszillationsbewegung
oder beides kombiniert ausführen. Besonders bewährt haben sich rotierende Wellen aus Metall. Keramik,
Kunststoffen oder anderen festen Materialien, spiralförmig umwickeil mit Mischblättern, die die
?tl Flüssigkeil sowohl örtlich gut durchmischen, als auch
eine allgemeine Längsbewegung im Behälter schaffen. Es können weiterhin rotierende Rührer mit \erdrillten
oder geraden Ruhrflugeln oder anderen nicht zur Drehachse rolationssymmetrischcn Lk nenle verwendet
werden. Die Drehzahlen liegen jv nach Ausbildung des Rührers und Art des Besehk htungsgutcs
zweckmäßig zwischen 100 und 1000 Γ min Auch Mischhlältci. die im Beschichtungsgul eine gleichförmige
oder oszillierende Längs- oder Querbewegung
3" ausfuhren, haben sich bewahrt.
Anwendbar sind ferner pulsierende oder mit höheren Frequenzen schwingende elastische Schlauehe,
Stähl« . Drähte oder ganze Trogwände, die elektrisch
oder mechanisch erregt sein können. Die Mischele-
j5 menle sind stets so anzuordnen, daß eine Durchmischung
an der Oberfläche des Beschichtungsgutes über die volle Breile der eintauchenden Bahn gewährleistet
ist.
Nachfolgend sind als erläuternde Beispiele bevorzugte
Ausfiihrungsformen der Erfindung an I land der schematischen Zeichnungen beschrieben Ls zeigi
Fig. 1 die bevorzugte Ausführungsform eines Gießtrogs gemäß Erfindung für doppelseitige Beschichtung
im Schnitt,
Fig. 2 einen Teil einer Mischwalze in Ansicht.
Fig. 3 einen Teil einer /weiten Ausführung einer
Mischwalze in Ansicht und von der Stirnseite,
Fig. 4 eine zweite Ausführungsform eines Gießtrogs gemäß Erfindung im Schnitt,
Fig. 5 eine dritte Ausführungsform eines Gicßtrogs gemäß Erfindung im Schnitt.
Der in Fig. 1 gezeigte Gießtrog dient zum doppelseitigen
Beschichten eines Filmes 1. Dieser wird von der dem Gießtrog vorgeschalteten Vollwalze 2 über
die Leitwalzen 3 und 4 gezogen und taucht durch die Beschichtungsflüssigkeit 5 hindurch. Ein temperierbarer
Wassermantel mit dem Versorgungsrohr 6 und den Ablaufrohren 7 und 8 garantiert eine gleichmäßige
Temperatur innerhalb der Bcschichlungsflüssig-
Veit. Die durch das Einlaufrohr 9 in den Gießtrog gelangende Beschichtungsflüssigkeit wird durch die
rotierenden Mischwalzen 10 und 11, die nach Fig. 2 oder Fig. 3 ausgebildet sein können, an der Eintauchstellc
des Films gut verwirbelt und durchmischt. Das eingesetzte Wehr 12 verhindert die Übertragung der
Flüssigkeitsbewegung an der Eintauchstelle der Unterlage in die rechte Kammer, aus der die Unterlage
beschichtet austauchl und garantiert somit die zur
Aufrechterhaltung der hohen Beschichtungsqualität erforderliche Stabilität des Austauchmeniskus. Die in
Fig. 2 gezeigte Ausführungsform der rotierenden Mischwalzen ist mit einer Wendelrippe versehen, wodurch
nicht nur eine örtliche Durchmischung des Beschichtungsmaterials, sondern auch eine Strömung in
Längsrichtung der Unterlage erreicht wird. Bei der in Fig. 3 gezeigten zweiten möglichen Ausführungsform der Mischwalzen, verlaufen die Mischblätter 13
axial und garantieren eine örtlich begrenzte, gute Durchmischung des Beschichtungsgutes.
Fig. 4 zeigt eine einfache Anordnung zur einseitigen
Beschichtung der Bahn 1 durch Anfauchen an der Oberfläche der Beschichtungsflüssigkeil 5, wobei die
Bahn über die Gießwalze 14 straff gezogen wird. Der Antauchtrog wird durch die vom Trogboden 15 aufragende
Trennrippe 12 in eine Eintauchkammer 16 und eine Austauchkammer 17 geteilt. Das Beschichtungsmaterial
5 wird in der Eintauchkammer 16 durch
die rotierende Mischwalze 10, die nach Fig. 2 odei 3 ausgebildet sein kann, gut durchmischt und so ar
den beschriebenen Veränderungen gehindert. Durrf die Trennrippe 12, die nur einen schmalen Spalt Ii
zwischen sich und der Gießwalze 14 als Verbinduni zwischen EinCauchkammcr 16 und Austauchkammei
17 bestehen läßt, werden Flüssigkeitsbewegunger nicht in die Austauchkammer 17 gelassen, wodurch
die zur Aufrechterhaltung der hohen Beschichtungsqualität erforderliche Stabilität des Austauchmeniskus
garantiert wird.
Fig. 5 zeigt eine ähnliche Anordnung wie Fig 4. Zusätzlich ist jedoch hier eine an sich bekannte
Überlaufkante 19 längs der Austauchkammer 17 aii-
»5 geordnet, wodurch verhindert wird, daß extreme Veränderungen
der Beschichtungsflüssigkeit in der Austauchkammer 17 auftreten, und daß die vom an sich
bekannten Luftrakel 20 abgeblasene Flüssigkeilsmenge in den Trog zurückgelangt. \
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
409620/289
Claims (7)
1. Vorrichtung zur fortlaufenden Entnahme einer schichtbildcnden Flüssigkeit aus einem Flüssigkeitsvorrat
und zum Aufbringen einer Schicht der Flüssigkeit auf einen fotografischen Schichtträger
mit einem Vorratsbehälter, einer Einrichtung, welche eine mit der Flüssigkeil zu beschichtende
Oberfläche in fortlaufender Bewegung in die Flüssigkeit eintaucht und wieder aus ihr herausführt
und einer Einrichtung zum Bewegen der Flüssigkeit im Behälter, dadurch gekennzeichnet,
daß in der Flüssigkeit auf d"r Eiiitauchseite
der Oberfläche mindestens -ine Durchmischungscinrtchtung
knapp unterhalb des Flüssigkeitsspiegels vorgesehen iit, und daß der
Bereich der Flüssigkeitsoberfläche, an dem die zu beschichtende Oberfläche aus dei Flüssigkeit austritt,
vom durch die Rühreinrichtung in Bewegung gehaltenen Teil der Flüssigkeit durch mindestens
eine durch geeignete Trennmittel erzeugte Verengung des der Flüssigkeit zur Verfügung stehenden
Raumes getrennt ist.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Verengung einerseits von der Behälterinnenfläche und andererseits von der
zu beschichtenden Oberfläche begrenzt isi.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Verengung durch ein zwischen der EintauchstcSle und der Austrittstelle der
Oberfläche angeordnetes von oben in die Flüssigkeit eintauchendes Wehr gebildet wird, welches
zwischen sich -ind dem Behälterboden einen
Durchtritt für den Jurch die Flüssigkeit laufenden
bandförmigen Schichtträger uti.* Jie Flüssigkeit frei läßt.
4. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß Trennmittel und Gießtrog eine Einheit bilden.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis
4, dadurch gekennzeichnet, 'au als Rühreinrichtung
mindestens ein umlaufendes Mischelement dient.
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis
5, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche einem über zumindest eine zumindest zum Teil in
die Flüssigkeit eintauchende Walze mit waagerechter Achse geführten bandförmigen totografischen
Schichtträger angehört.
7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß zu beiden Seiten der Eintauchstelle
des Schichtträgers Mischelemente vorgesehen sind.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE19681797028 DE1797028C3 (de) | 1968-08-06 | 1968-08-06 | Vorrichtung zum Auftragen schichtbildender Lösungen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE19681797028 DE1797028C3 (de) | 1968-08-06 | 1968-08-06 | Vorrichtung zum Auftragen schichtbildender Lösungen |
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DE1797028C3 true DE1797028C3 (de) | 1974-05-16 |
Family
ID=5708479
Family Applications (1)
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DE19681797028 Expired DE1797028C3 (de) | 1968-08-06 | 1968-08-06 | Vorrichtung zum Auftragen schichtbildender Lösungen |
Country Status (1)
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1968
- 1968-08-06 DE DE19681797028 patent/DE1797028C3/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE1797028A1 (de) | 1971-07-08 |
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E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
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