[go: up one dir, main page]

DE1696110B1 - Verfahren zur herstellung von glasigen schichten auf substat materialien durch vakuumaufdampfen mittels elektronenstrahlen - Google Patents

Verfahren zur herstellung von glasigen schichten auf substat materialien durch vakuumaufdampfen mittels elektronenstrahlen

Info

Publication number
DE1696110B1
DE1696110B1 DE19681696110 DE1696110A DE1696110B1 DE 1696110 B1 DE1696110 B1 DE 1696110B1 DE 19681696110 DE19681696110 DE 19681696110 DE 1696110 A DE1696110 A DE 1696110A DE 1696110 B1 DE1696110 B1 DE 1696110B1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
percent
glass
weight
component
vaporized
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19681696110
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Dutz Hubert Dipl-Chem Dr
Mulfinger Hans-Otto Dipl-Ch Dr
Hans-Georg Krolla
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Schott AG
Original Assignee
Jenaer Glaswerk Schott and Gen
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jenaer Glaswerk Schott and Gen filed Critical Jenaer Glaswerk Schott and Gen
Priority to DE19681696110 priority Critical patent/DE1696110B1/de
Priority to JP299669A priority patent/JPS516694B1/ja
Priority to CH74169A priority patent/CH522747A/de
Priority to BE727217D priority patent/BE727217A/xx
Priority to GB341869A priority patent/GB1208091A/en
Priority to FR6901041A priority patent/FR2000583A1/fr
Publication of DE1696110B1 publication Critical patent/DE1696110B1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/10—Glass or silica
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/02—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
DE19681696110 1968-01-23 1968-01-23 Verfahren zur herstellung von glasigen schichten auf substat materialien durch vakuumaufdampfen mittels elektronenstrahlen Withdrawn DE1696110B1 (de)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19681696110 DE1696110B1 (de) 1968-01-23 1968-01-23 Verfahren zur herstellung von glasigen schichten auf substat materialien durch vakuumaufdampfen mittels elektronenstrahlen
JP299669A JPS516694B1 (es) 1968-01-23 1969-01-17
CH74169A CH522747A (de) 1968-01-23 1969-01-20 Verfahren zur Herstellung von glasigen Schichten auf Substraten
BE727217D BE727217A (es) 1968-01-23 1969-01-21
GB341869A GB1208091A (en) 1968-01-23 1969-01-21 Improvements in or relating to glass
FR6901041A FR2000583A1 (es) 1968-01-23 1969-01-21

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEJ0035563 1968-01-23
DE19681696110 DE1696110B1 (de) 1968-01-23 1968-01-23 Verfahren zur herstellung von glasigen schichten auf substat materialien durch vakuumaufdampfen mittels elektronenstrahlen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1696110B1 true DE1696110B1 (de) 1971-07-01

Family

ID=25754609

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19681696110 Withdrawn DE1696110B1 (de) 1968-01-23 1968-01-23 Verfahren zur herstellung von glasigen schichten auf substat materialien durch vakuumaufdampfen mittels elektronenstrahlen

Country Status (5)

Country Link
BE (1) BE727217A (es)
CH (1) CH522747A (es)
DE (1) DE1696110B1 (es)
FR (1) FR2000583A1 (es)
GB (1) GB1208091A (es)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3436001A1 (de) * 1984-10-01 1986-04-03 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Elektrostatisches glasloeten von halbleiterbauteilen
EP0461468A1 (de) * 1990-06-11 1991-12-18 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH Bleioxidfreies Glas für elektrische Geräte
WO1994019506A1 (de) * 1993-02-25 1994-09-01 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Im vakuum aufgedampte barriereschichten für die verpackungsindustrie und aufdampfgut für ihre herstellung
DE102005044522A1 (de) * 2005-09-16 2007-03-22 Schott Ag Verfahren zum Aufbringen einer porösen Glasschicht

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115124248B (zh) * 2022-06-23 2024-10-01 辽宁爱尔创生物材料有限公司 一种玻璃粉及其制备方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB709503A (en) * 1952-06-27 1954-05-26 English Electric Valve Co Ltd Improvements in or relating to methods of making very thin films
GB787183A (en) * 1953-09-30 1957-12-04 Siemens Ag Improvements in or relating to electric roll-type capacitors
US3276902A (en) * 1963-10-01 1966-10-04 Itt Method of vapor deposition employing an electron beam

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB709503A (en) * 1952-06-27 1954-05-26 English Electric Valve Co Ltd Improvements in or relating to methods of making very thin films
GB787183A (en) * 1953-09-30 1957-12-04 Siemens Ag Improvements in or relating to electric roll-type capacitors
US3276902A (en) * 1963-10-01 1966-10-04 Itt Method of vapor deposition employing an electron beam

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3436001A1 (de) * 1984-10-01 1986-04-03 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Elektrostatisches glasloeten von halbleiterbauteilen
EP0461468A1 (de) * 1990-06-11 1991-12-18 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH Bleioxidfreies Glas für elektrische Geräte
WO1994019506A1 (de) * 1993-02-25 1994-09-01 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Im vakuum aufgedampte barriereschichten für die verpackungsindustrie und aufdampfgut für ihre herstellung
DE102005044522A1 (de) * 2005-09-16 2007-03-22 Schott Ag Verfahren zum Aufbringen einer porösen Glasschicht
DE102005044522B4 (de) * 2005-09-16 2010-02-11 Schott Ag Verfahren zum Aufbringen einer porösen Glasschicht, sowie Verbundmaterial und dessen Verwendung

Also Published As

Publication number Publication date
BE727217A (es) 1969-07-01
CH522747A (de) 1972-05-15
GB1208091A (en) 1970-10-07
FR2000583A1 (es) 1969-09-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1183555A (en) Glass-ceramic coatings for use on metal substrates
DE60318517T2 (de) Bleifreies niedrigschmelzendes Glas
DE69331300T2 (de) Verfahren zur Abscheidung aus der Gasphase von einem Fluorid-Glasfilm auf einem Substrat
EP0221968A1 (de) Verfahren zur entfernung von metallionen aus körpern aus glas oder keramischen werkstoffen
DE2351154C2 (de) Verfahren zur Herstellung von Chalkogenidglasfasern
US3998617A (en) Method of improving the mechanical strength of glass
DE68903980T2 (de) Elektroleitendes glas und verfahren zu seiner herstellung.
DE1696110B1 (de) Verfahren zur herstellung von glasigen schichten auf substat materialien durch vakuumaufdampfen mittels elektronenstrahlen
DE3886802T2 (de) Verfahren zum beschleunigten Ausbrennen von organischen Materialien.
DE2446742A1 (de) Glaslotzusammensetzung
DE1596820B1 (de) Glas auf der Basis von ZnO-B2O3-SiO2 mit einem thermischen Ausdehnungskoffizienten von 44,5 bis 44,8.10-7/ deg.C(0 bis 300 deg.C)
DE2032577A1 (de) Verfahren zum Sintern und Schmel zen feuerfester Materialien ohne An wenden eines Tiegels
US3801356A (en) Method of producing vitreous layers on substrate materials
EP0974559B1 (de) Komposit-Lotglas mit niedriger Aufschmelztemperatur, ein Füllstoff hierfür, sowie deren Verwendung
DE1496465B2 (de) Kristallisierte abdichtglaeser mit waermeausdehnungskoeffi zienten von hoechstens 70 x 10 hoch 7 grad c (0 450 grad c) die bei temperaturen unter 700 grad c entglast worden sind und verfahren zur herstellung einer kristallisierten glasab dichtung
DE2345102A1 (de) Elektrischer widerstand und verfahren zu seiner herstellung
DE1696110C (de) Verfahren zur Herstellung von glasigen Schichten auf Substratmateriaüen durch Vakuumaufdampfen mittels Elektronenstrahlen
DE1496544A1 (de) Glasmassen fuer elektrische Widerstandsschichten
DE2447353B2 (de) Verfahren zum herstellen von lichtleitfasern
DE1796364B2 (de) Verfahren zum Verfestigen einer Schicht aus einem glasartigen oder vitrokristallinen Material
DD263083A1 (de) Verfahren zum glaetten und versiegeln thermisch gespritzter oberflaechenschichten
DE1237400C2 (de) Verfahren zum Vakuumaufdampfen eines feuchtigkeitsfesten isolierenden UEberzuges aufHalbleiterbauelemente, insbesondere auf Halbleiterbauelemente mit pn-UEbergang
DE69202277T2 (de) Verfahren zur Herstellung von integriert-optischen Wellenleitern in Glas.
DE3909539C2 (de) Verwendung einer Glas-Keramik-Beschichtung als Schutzschicht gegen Sauerstoff bei Temperaturen oberhalb von 1000 DEG C
DE2012366C3 (de) Gläser des Systems SIO2 -Al2 O3 -Cu2 O mit niedriger Wärmeausdehnung, geringer Dichte und guter Wärmeschockfestigkeit und ihre Verwendung

Legal Events

Date Code Title Description
E77 Valid patent as to the heymanns-index 1977
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: SCHOTT GLASWERKE, 6500 MAINZ, DE

8339 Ceased/non-payment of the annual fee