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CN1921053A - 具有光阻挡层的显示装置及其制造方法 - Google Patents

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CN1921053A
CN1921053A CNA2006100833557A CN200610083355A CN1921053A CN 1921053 A CN1921053 A CN 1921053A CN A2006100833557 A CNA2006100833557 A CN A2006100833557A CN 200610083355 A CN200610083355 A CN 200610083355A CN 1921053 A CN1921053 A CN 1921053A
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Abstract

本发明公开了一种非光敏性黑电极组合物和一种具有利用该组合物形成的黑电极的等离子体显示面板。用于该等离子体显示面板的黑电极包括非光敏性组合物,因此在电极上不会出现发黄的现象,但是透明电极层的导电率得以理想地确保,即使使用典型的导电粉末和多种黑色颜料。可以利用光刻法过程来进行图案化,因为对黑电极和辅助电极同时进行显影,它们能够用作电极,因为同时进行烧结。由于它是非光敏性的,所以可以使用多种黑色颜料,因此材料成本得以降低。

Description

具有光阻挡层的显示装置及其制造方法
相关申请的交叉引用
本申请要求2005年8月26日在韩国知识产权局申请的韩国专利申请No.10-2005-0078814的优先权,该韩国申请的整个公开内容在此被结合作为参考。
技术领域
本发明涉及显示装置。更具体而言,本发明涉及一种光阻挡层,其防止环境光在显示装置中形成的电极的反射面上反射。
背景技术
等离子体显示面板(PDP)装置是一种平板显示器,近年来,它已经在和LCD和投影电视进行竞争,其市场已经快速膨胀。
PDP装置典型的包括具有透明电极(维持电极)和辅助(bus)电极的前板,以及具有单元结构的后板,该单元结构包括定址电极、介电层、阻隔壁以及荧光层。
施加电压到两个基板的电极之间,以使得单元中放电,并产生紫外线。单元中的紫外线激发荧光材料,因此发出光。在前板上显示由发光板的红绿蓝(RGB)单元组合而成的图像。
前板上典型地由金属形成的辅助电极使得环境光通过前板反射回来。该问题使得图像质量恶化,包括对比度。为了改进图像的质量(对比度),可以使用黑电极或层来防止辅助电极引起的反射。
已经有人提出了在透明电极和辅助电极之间形成黑电极的多种过程。已经有人采用这样的形成黑电极层的过程,其采用具有导电性的黑色金属氧化物及其混合物,以及主要由没有导电性的金属氧化物组成的黑色颜料。此外,已经有人采用这样的过程来制造等离子体显示器,即,顺序地形成黑电极层和辅助电极层,然后将它们在玻璃基板上高温烧结,从而减小该电极通过后表面的可见度。然而,这些方法都比较昂贵,因为其在黑电极层中采用了金属氧化物,例如RuO2或ITO。
如果采用黑色金属氧化物来作为光敏黑电极材料,则随着时间变化粘性会大大改变,这是因为在黑色颜料材料和光敏有机材料之间会发生反应。因此,非想望的,仅仅非常有限种类的金属氧化物可以用作黑色颜料。
此外,如果使用典型的银粉来为透明电极层提供导电性,则会出现某些问题,例如变黄或者黑色减弱。
发明内容
本发明的一个方面提供一种制造等离子体显示装置的方法,包括:提供基板,可视图像将显示在该基板上;在该基板上方提供放电维持电极,该放电维持电极基本上是透明的;在该放电维持电极上方提供用于光阻挡层的第一层,该层基本上没有包含光敏材料;在该光阻挡层上方提供用于辅助电极的第二层;利用光刻法有选择地蚀刻第二层,从而形成辅助电极;以及有选择地蚀刻第一层,从而形成光阻挡层。
在该方法中,第一层包括含量为大约5wt%到大约30wt%的有机粘结剂以及含量为大约30wt%到大约50wt%的玻璃粉,上述含量均参照光阻挡层的总重来计算。有选择地蚀刻第一层包括利用辅助电极作为蚀刻掩模来蚀刻第一层。有选择地蚀刻第一层是在有选择地蚀刻第二层曝光出第一层的表面时进行的,并且至少一部分蚀刻第一层的过程和蚀刻第二层同时进行。第二层包括光敏材料,而有选择地蚀刻第二层包括:将光掩模置于第二层上方,该光掩模包括多个图案化的开口;经光掩模的多个开口投射光线到第二层上,从而第二层的曝光区中的光敏材料发生光激活的反应;以及将蚀刻剂接触到第二层,从而该蚀刻剂有选择地蚀刻第二层以留下辅助电极。
该方法还包括烧结导电层和光阻挡层。第二层基本上没有包含光敏材料,而有选择地蚀刻第二层包括:在第二层上方利用光刻法形成蚀刻掩模;以及将蚀刻剂接触到第二层,从而该蚀刻剂有选择地蚀刻第二层以在蚀刻掩模下留下辅助电极。
在该方法中,在第二层上方形成蚀刻掩模包括:在第二层上方形成光致抗蚀层;将光掩模置于该光致抗蚀层上方,该光掩模包括多个图案化开口;经光掩模的多个开口投射光线到该光致抗蚀层上;以及去除该光致抗蚀层的至少一部分,以形成用于有选择地蚀刻第二层的蚀刻掩模。第二层基本上没有包含光敏材料。辅助电极比放电维持电极导电率更高。该光阻挡层构造成基本吸收沿朝向辅助电极的一般方向入射到基板上的环境光。
在该方法中,提供第一层和提供第二层包括将预制膜结构置于放电维持电极上,该预制膜结构包括第一层和第二层。该预制膜结构还可以进一步包括第二层上方的第三层,第三层对于有选择地蚀刻第二层的光刻法中所用的光而言是基本透明的。该预制膜结构还可以进一步包括位于第二层和第三层之间的第四层,第四层包括光致抗蚀层。
本发明的另一个方面提供了一种由上述方法制造而成的等离子体显示装置。该装置包括基板、放电维持电极、辅助电极和光阻挡层。该光阻挡层插入并电连接到放电维持电极和辅助电极之间。光阻挡层基本吸收沿朝向辅助电极的一般方向入射到基板上的环境光。该光阻挡层包括黑色或者基本暗色颜料、导电颗粒以及玻璃粉。
本发明的另一个方面提供了一种用于制造用于显示装置的光阻挡层的组合物。该组合物包括:占该组合物总重的大约5wt%到大约30wt%的有机粘结剂;占该组合物总重的大约30wt%到大约50wt%的玻璃粉;黑色或者基本暗色颜料;以及导电颗粒,其中该组合物基本上没有包含光敏材料。
在该组合物中,有机粘结剂可以占该组合物总重的大约15wt%到大约30wt%。玻璃粉可以占该组合物总重的大约35wt%到大约50wt%。该组合物还可以进一步包括占该组合物总重的大约0.1wt%到大约10wt%的增塑剂。
附图说明
通过下面结合附图的详细描述,本发明的上述和其它目的、特性以及优点将能够被更加清楚的理解,其中:
图1是传统的等离子体显示面板的透视图;
图2A-2E示出一种形成等离子体显示面板的黑电极层的传统方法;
图3A-3D示出一种形成等离子体显示面板的黑电极层的方法的一个实施方式;
图4A-4D示出一种形成等离子体显示面板的黑电极层的方法的另一个实施方式;
图5A-5E示出一种形成等离子体显示面板的黑电极层的方法的又一个实施方式;
图6是示出根据本发明的一个实施例形成的图案的示图;以及
图7是示出根据本发明的一个比较例形成的图案的示图。
具体实施方式
下面将参照附图来详细描述根据本发明的实施方式的对显示装置的光阻挡层进行图案化的方法。光阻挡层也可被称为“黑色层”、“黑电极层”或者“黑电极”。在附图中,相同的附图标记表示相同的或者功能相似的部件。
图1示出一种传统等离子体显示面板(PDP)100。等离子体显示面板100包括前面板10和后面板20。前面板10包括前板11、透明电极12、黑电极层13、辅助电极层14、介电层15以及保护膜16。后面板20包括后板21、定址电极22、介电层23、阻隔壁24以及荧光层25。本领域技术人员将会理解,可以根据设计需要对等离子体显示面板结构的细节进行改变。
在前面板10中,仅在前板表面11的部分上形成透明电极12,如图1所示。此外,仅在透明电极12的部分上形成黑电极层13和辅助电极层14。
图2A-2E示出一种对前板11的透明电极12上的黑电极层13和辅助电极层14进行图案化的传统方法。在图2A中,黑色层13位于透明电极12和前板11的曝光表面上方。黑色层13典型的包含黑色颜料和光敏材料。在图2B中,辅助电极层14位于黑色层13上方。辅助电极层14典型的包含例如银的金属和光敏材料。
然后,在辅助电极层14上方设置光掩模17。该光掩模17具有用于对辅助电极层14的表面进行曝光的图案,其中黑电极和辅助电极形成在该辅助电极层14的表面的下面。在某些实施方式中,根据光刻法的类型,当打开没有电极形成在其下面的表面时该图案会阻挡这些表面。接着,包括但不限于UV的光被照射到光掩模17上。在该步骤,光穿透通过黑电极层13和辅助电极层14。光使得黑电极层13和辅助电极层14位于曝光表面下面的那些部分硬化,如图2C中的虚线所示。
然后,如图2D所示,光掩模17被去除,利用碱性显影溶液处理这些层。通过这些溶液,黑电极层和辅助电极层位于未曝光表面下面的那些部分被去除。然后执行干燥步骤和燃烧和/或烧结步骤。最后,在层12-14上方形成介电层15,如图2E所示。
制造显示装置的方法
图3A-3D示出形成等离子体显示面板的光阻挡层或黑色层的方法的一个实施方式。在图3A中,在透明电极32和前板31的曝光表面上方设置黑色层33。在所述实施方式中,黑色层33包含黑色颜料,但是基本上没有包含光敏材料。黑色层33的组合物将在下面详细描述。在图3B中,在黑色层33上方设置辅助电极层34。在所述实施方式中,辅助电极层34包含例如银的金属以及光敏材料。在一个实施方式中,黑色层33具有大约0.5微米到大约3微米的厚度。辅助电极层34具有大约4微米到大约8微米的厚度。
然后,在辅助电极层34上方设置光掩模37。该光掩模37具有用于对辅助电极层34的表面进行曝光的图案,其中黑电极和辅助电极形成在该辅助电极层34的该表面的下面。接着,包括但不限于UV的光被照射到光掩模37上。在该步骤,光仅使得辅助电极层34位于曝光表面下面的部分34a硬化,如图3C中的虚线所示。
然后,如图3D所示,光掩模37被去除,利用碱性显影溶液处理这些层。在该步骤,通过这些溶液,辅助电极层位于未曝光表面下面的那些部分被去除。在该步骤,黑色层位于辅助电极层34的未曝光表面下面的部分也被去除。然而,在该步骤之后,黑色层33位于辅助电极层34的硬化部分34a下面的部分基本上保持原样。然后执行干燥步骤和燃烧和/或烧结步骤。最后,在层32-34上方形成介电层,尽管未示出。
在所述实施方式中,虽然黑色层没有包含光敏材料,但是在对位于黑色层33上面的光敏辅助电极层34进行图案化的同时对黑色层33进行图案化。
图4A-4D示出对等离子体显示面板的光阻挡层或者黑色层进行图案化的方法的另一个实施方式。在图4A中,已经在前板41上形成了透明电极42。接着,如图4B所示,在该透明电极42上添加一个两层膜,包括黑色层43和辅助电极层44。除了这些层采用膜的形式,黑色层43和辅助电极层44如上述参照图3所述的那样。此外,在图4C和4D中示出的光照射步骤和层去除步骤也如上述参照图3C和3D所述的那样。在某些实施方式中,该膜还可以进一步包括辅助电极层44上方的例如PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)层的基层。该基层在光照射步骤(图4C)之后且在层去除步骤(图4D)之前被去除。
图5A-5E示出对等离子体显示面板的光阻挡层或者黑色层进行图案化的方法的又一个实施方式。在图5A中,透明电极52已经在前板51上图案化。接着,如图5B所示,在该透明电极52上添加一个三层膜,包括黑色层53、辅助电极层54以及光致抗蚀层55。在某些实施方式中,该膜还可以进一步包括光致抗蚀层55上方的例如PET层的基层。
在所述实施方式中,黑色层53包含黑色颜料,但是基本上没有包含光敏材料。黑色层53的组合物将在下面详细描述。所述的辅助电极层54包含例如银的金属,但是基本上没有包含光敏材料。光致抗蚀层55由商业上用作光致抗蚀剂的材料形成。然而,在某些实施方式中,辅助电极层54包含光敏材料。在所述实施方式中,黑色层53具有大约10微米到大约20微米的厚度。辅助电极层54具有大约10微米到大约30微米的厚度。光致抗蚀层55具有大约3微米到大约15微米的厚度。
然后,在光致抗蚀层55上方设置光掩模57。该光掩模57具有用于对光致抗蚀层55的表面进行曝光的图案,其中黑电极和辅助电极形成在该光致抗蚀层55的该表面的下面。接着,包括但不限于UV的光被照射到光掩模57上。在该步骤,光穿透通过光致抗蚀层55,并且使得光致抗蚀层55位于曝光表面下面的部分55a硬化,如图5C中的虚线所示。
然后,如图5D所示,光掩模57被去除,利用碱性显影溶液处理这些层。在该步骤,通过这些溶液,光致抗蚀层55位于未曝光表面下面的那些部分被去除。在该步骤,辅助电极层54a和黑色层53a位于光致抗蚀层55的未曝光表面下面的部分也被去除。然而,在该步骤之后,辅助电极层54a和黑色层53a位于光致抗蚀层的硬化部分55a下面的部分基本上保持原样。在该膜还进一步包括基层的某些实施方式中,在光照射步骤(图5C)之后以及层去除步骤(图5D)之前去除该基层。
然后执行干燥步骤和燃烧和/或烧结步骤。最后,在层52-54上方形成介电层,尽管未示出。
在其它实施方式中,黑色层和辅助电极层被制备为糊状形式,并且其利用丝网印刷方法或者胶印方法进行图案化。也可以结合丝网印刷方法和光刻法来实施该图案化。
在所述实施方式中,由于黑色层没有包含光敏材料,所以在制成的等离子体显示面板中不会出现因光敏材料而导致的发黄。此外,利用银粉和多种类型的黑色颜料可以理想地确保透明电极层的导电性。此外,还可以使用廉价的材料,因为对于选择黑色颜料没有限制。
黑色电极层组合物
在上述实施方式中,可以通过黑色层组合物来形成黑色电极层,该黑色层组合物包括黑色颜料、导电颗粒、有机粘结剂以及玻璃粉。在一个实施方式中,黑色层组合物包括占组合物总重的大约10-30wt%的黑色颜料、大约1-5wt%的导电颗粒、大约5-30wt%的有机粘结剂以及大约30-50wt%的玻璃粉。在另一个实施方式中,该组合物还包括占组合物总重的大约0.1-10wt%的增塑剂。
黑色颜料是一种基本上吸收或者阻挡光的材料。该黑色颜料为基本上黑颜色,包括黑色、深蓝色等等。在一个实施方式中,黑颜色具有大约1-40的L*值。黑色颜料的例子包括过渡金属元素的氧化物颗粒、硼化物、氮化物或者碳化物。在一个实施方式中,黑色颜料不具有导电性,并且对导体具有较高的本征电阻。在一个实施方式中,用作黑色颜料的颗粒具有大约0.1-5微米的直径。
导电颗粒可以是以下颗粒的一种或多种:银粉、金粉、铂粉、钯粉及其合金粉。在一个实施方式中,导电颗粒的平均直径大约为0.5-5微米,非强制性选择的为大约1-2微米。在一个实施方式中,导电颗粒占黑色层总重的大约1-5wt%。
有机粘结剂的例子包括含羧基的单体以及具有乙烯型不饱和双键的单体的共聚物。含羧基的单体的例子包括丙烯酸、异丁烯酸或者衣康酸。具有乙烯型不饱和双键的单体的例子包括丙烯酸酯(丙烯酸甲酯或者异丁烯酸乙酯)、苯乙烯、丙烯酰胺或者丙烯腈、纤维素的衍生物和水溶性纤维素、以及聚乙烯醇。有机粘结剂可以单独使用或者混合使用。
有机粘结剂可溶于预定的显影溶液。如果碱性水溶液(例如,0.4%Na2CO3水溶液)用作显影溶液,则具有羧基的树脂用作有机粘结剂。具有乙烯型不饱和双键的含羧基树脂以及不具有乙烯型不饱和双键的含羧基树脂都可以被采用。有机粘结剂的重均分子量大约为1000-200000,非强制性选择的为大约5000-100000。在一个实施方式中,有机粘结剂的酸值大约为20-250mg KOH/g。
增塑剂用于控制预定的显影溶液中的有机粘结剂的溶解度。增塑剂的例子包括邻苯二甲酸酯、己二酸酯、磷酸酯、偏苯三酸酯、柠檬酸酯、环氧、聚酯以及丙三醇。进而,可以采用丙烯酸类化合物的低分子量材料(单体、低聚物以及三聚体)作为增塑剂,其中上述低分子量材料是水溶性的并且用作具有高沸点的单体。
玻璃粉用作无机粘结剂。玻璃粉包括氧化铅、氧化铋或者氧化锌作为主成分。玻璃粉具有大约300-600摄氏度的软化点。玻璃粉的玻璃化点为大约200-500摄氏度。在一个实施方式中,玻璃粉具有大约5微米或更小的粒度。
此外,黑色层还可以进一步包括溶剂、分散剂、粘度稳定剂、消泡剂或者偶联剂来控制粘度。
显示装置
本发明的一个方面提供一种通过利用上述黑色层组合物的方法制造而成的显示装置。在上述实施方式中,在已经形成电极图案之后烧结光阻挡和导电层。获得的显示装置包括基本透明的电极、基本反射性的电极以及插入该透明和反射性电极之间的光阻挡层。在一个实施方式中,因为在烧结步骤之后去除了黑色层组合物中的有机粘结剂,所以该光阻挡层包括玻璃、黑色颜料以及导电颗粒,但是基本上没有包含有机粘结剂。
根据这些实施方式,可以使用含铜铁或含铜铬的黑色复合氧化物颜料,其在传统上公知用于增加组合物的粘性,而不会降低组合物的稳定性,例如粘性的变化。此外,还可以使用廉价的黑色颜料材料。
此外,通过烧结过程中的相互扩散,在透明电极和上部电极之间插入绝缘层确立了两者之间的导电率。如果在540-580摄氏度进行烧结,其对应于PDP的前板的制造条件,可以利用多种具有少量导电颗粒的黑色颜料来确保理想的导电率。
根据这些实施方式,图像对比度得以改善。此外,透明电极的导电率得以确保,并且可以低成本制造这些电极。
通过下面的实施例和比较例可以获得对本发明的更好的理解,这些实施例和比较例是用于阐述本发明而不是用于限制本发明的。
实施例1
包含40wt%异丁烯酸异丁烯酸甲酯共聚物的31.1wt% Texanol溶液和用作增塑剂的6.09wt% TMPTA、用作粘性稳定剂的0.84wt%丙二酸、3wt%银粉、16.6wt%氧化钴以及39.4wt%玻璃粉混合在一起,然后利用陶瓷三辊研磨机对其搅拌、捏和然后分散,以制造黑电极组合物。还进一步添加Texanol到其中作为稀释溶剂来控制粘度。
实施例2
包含40wt%异丁烯酸异丁烯酸甲酯共聚物的24.6wt% Texanol溶液和7.56wt%氧化钛粉、用作增塑剂的7.29wt% TMPTA、用作粘性稳定剂的1.0wt%丙二酸、3wt%银粉、10.4wt%氧化钴以及42wt%玻璃粉混合在一起,然后利用陶瓷三辊研磨机对其搅拌、捏和然后分散,以制造黑电极组合物。还添加Texanol到其中作为稀释溶剂来控制粘度。
实施例3
包含40wt%异丁烯酸异丁烯酸甲酯共聚物的24.6wt% Texanol溶液和7.56wt%氧化钛粉、用作增塑剂的7.29wt% TMPTA、用作粘性稳定剂的1.0wt%丙二酸、3wt%金粉、10.4wt%含铜铬氧化物黑色颜料以及42wt%玻璃粉混合在一起,然后利用陶瓷三辊研磨机对其搅拌、捏和然后分散,以制造黑电极组合物。还添加Texanol到其中作为稀释溶剂来控制粘度。
比较例1
包含40wt%异丁烯酸异丁烯酸甲酯共聚物的24.6wt% Texanol溶液和7.56wt%氧化钛粉、用作增塑剂的7.29wt% TMPTA、用作粘性稳定剂的1.0wt%丙二酸、10.4wt%氧化钴以及42wt%玻璃粉混合在一起,然后利用陶瓷三辊研磨机对其搅拌、捏和然后分散,以制造黑电极组合物。还添加Texanol到其中作为稀释溶剂来控制粘度。
比较例2
包含40wt%异丁烯酸异丁烯酸甲酯共聚物的24.6wt% Texanol溶液和7.56wt%氧化钛粉、用作增塑剂的7.29wt% TMPTA、用作粘性稳定剂的1.0wt%丙二酸、10wt%银粉、10.4wt%含铜铬氧化物黑色颜料以及42wt%玻璃粉混合在一起,然后利用陶瓷三辊研磨机对其搅拌、捏和然后分散,以制造黑电极组合物。还添加Texanol到其中作为稀释溶剂来控制粘度。
实施例4
利用上述成分制造而成的非光敏黑电极组合物和光敏银电极组合物结合。该光敏银组合物包括具有1.5微米的平均粒度的65wt%球形银粉、具有400摄氏度的软化点和1.5微米的平均粒度的3wt%玻璃粉、用作有机粘结剂成分的异丁烯酸甲酯共聚物、光敏单体、光聚合引发剂以及聚合添加剂。
实施例5
为了进行评估,实施例1到3以及比较例1和2的组合物涂敷到高熔点玻璃板上,其中利用丝网印刷方法将10厘米×10厘米尺寸的透明电极(ITO)涂敷到该高熔点玻璃板上,然后在90摄氏度下在红外带式干燥炉中干燥达10分钟。利用丝网印刷方法经相同步骤将实施例4的光敏银电极材料施加到其上,然后干燥。获得的两层结构利用铬光掩模以及利用曝光机进行曝光,其中该铬光掩模被设计成具有120微米的线/空间尺寸,而该曝光机具有400mJ/cm2的曝光量的高压汞紫外灯。在曝光之后,利用0.4%Na2CO3水溶液在30摄氏度下进行显影,从而形成图案。通过考查基于120微米的图案的形成来评估这些显影结构,其中这些显影结构通过利用实施例1至3和比较例1和2的组合物制造而成,并且在下面的表1和图6、7中示出了获得的结果。
从表1中可以看到,虽然实施例1到3的样本没有光敏性,但是它们仍然形成了像比较例的光敏性样本那样的陡线。图6和7是示出形成实施例2和比较例1中的图案的示图。这些结果显示,虽然本发明的黑电极组合物没有光敏性,也可以在曝光和显影之后利用该组合物形成电极图案。
进而,在该显影结构在被控保持在560摄氏度的带式烧结炉中进行烧结达20分钟之后,利用Minolta有限公司制造的色度计来测量上面的银电极和最下面的透明电极层之间的导电率以及经后表面观测到的黑度,并且利用裸眼通过后表面可观测到黑电极变黄。结果在下面的表1中示出。从表1中可以看到,实施例1至3的样本的导电率和黑度都优于比较例1的样本。同时,比较例2的样本的导电率和黑度都优于实施例1至3的样本,但是因为高银含量而导致发黄。
                                 表1
  项目  实施例1  实施例2  实施例3   比较例1  比较例2
导电率(ohm)   透明电极-透明电极 100 100 100 100 100
  透明电极-辅助电极 66 78 55 150 50
  黑度(L*)  15  15  15   13  70
  图案形成(120微米)  ○  ○  ○   ○  ○
  发黄  ×  ×  ×   ×  ○
实施方式提供了一种非光敏性黑电极组合物、一种具有包括该组合物的黑电极的等离子体显示面板、以及一种制造该面板的方法。利用该非光敏性黑电极组合物形成的等离子体显示面板的前板的优点在于,上部电极和透明电极之间的导电率得以确保,并且获得理想的低可见度,即使没有采用昂贵的黑色金属颗粒作为导电材料。进而,由于它不是光敏材料,所以可以采用多种黑色颜料,因此可以低成本制造出等离子体显示面板,因为材料成本得以降低。
虽然为了阐述目的公开了本发明的优选实施方式,但是本领域技术人员将会理解,可以进行多种更改、添附以及替代,而不会脱离由所附的权利要求中公开的本发明的范围和精神。

Claims (20)

1.一种制造等离子体显示装置的方法,包括:
提供基板,可视图像将显示在该基板上;
在该基板上方提供放电维持电极,该放电维持电极基本上是透明的;
在该放电维持电极上方提供用于光阻挡层的第一层,该层基本上没有包含光敏材料;
在该光阻挡层上方提供用于辅助电极的第二层;以及
利用光刻法有选择地蚀刻第二层,从而形成辅助电极;以及
有选择地蚀刻第一层,从而形成光阻挡层。
2.根据权利要求1的方法,其中第一层包括占光阻挡层的总重大约5wt%到大约30wt%的有机粘结剂以及含量为大约30wt%到大约50wt%的玻璃粉。
3.根据权利要求1的方法,其中有选择地蚀刻第一层包括利用辅助电极作为蚀刻掩模来蚀刻第一层。
4.根据权利要求1的方法,其中有选择地蚀刻第一层是在有选择地蚀刻第二层曝光出第一层的表面时进行的,并且至少一部分蚀刻第一层的过程和蚀刻第二层同时进行。
5.根据权利要求1的方法,其中第二层包括光敏材料,而有选择地蚀刻第二层包括:
将光掩模置于第二层上方,该光掩模包括多个图案化的开口;
经光掩模的多个开口投射光线到第二层上,从而第二层的曝光区中的光敏材料发生光激活的反应;以及
将蚀刻剂接触到第二层,从而该蚀刻剂有选择地蚀刻第二层以留下辅助电极。
6.根据权利要求1的方法,还进一步包括烧结导电层和光阻挡层。
7.根据权利要求1的方法,其中有选择地蚀刻第二层包括:
在第二层上方利用光刻法形成蚀刻掩模;以及
将蚀刻剂接触到第二层,从而该蚀刻剂有选择地蚀刻第二层以在蚀刻掩模下留下辅助电极。
8.根据权利要求7的方法,其中在第二层上方形成蚀刻掩模包括:
在第二层上方形成光致抗蚀层;
将光掩模置于该光致抗蚀层上方,该光掩模包括多个图案化开口;
经光掩模的多个开口投射光线到该光致抗蚀层上;以及
去除该光致抗蚀层的至少一部分,以形成用于有选择地蚀刻第二层的蚀刻掩模。
9.根据权利要求8的方法,其中第二层基本上没有包含光敏材料。
10.根据权利要求1的方法,其中辅助电极比放电维持电极的导电率更高。
11.根据权利要求1的方法,其中该光阻挡层构造成基本吸收沿朝向辅助电极的一般方向入射到基板上的环境光。
12.根据权利要求1的方法,其中提供第一层和提供第二层包括将预制膜结构置于放电维持电极上,其中该预制膜结构包括第一层和第二层。
13.根据权利要求12的方法,其中该预制膜结构还进一步包括第二层上方的第三层,其中第三层对于有选择地蚀刻第二层的光刻法中所用的光而言是基本透明的。
14.根据权利要求13的方法,其中该预制膜结构还进一步包括位于第二层和第三层之间的第四层,其中第四层包括光致抗蚀层。
15.一种通过权利要求1的方法制造而成的等离子体显示装置,其中该装置包括基板、放电维持电极、辅助电极和光阻挡层,其中该光阻挡层插入并电连接到放电维持电极和辅助电极之间,其中光阻挡层基本吸收沿朝向辅助电极的一般方向入射到基板上的环境光。
16.根据权利要求15的装置,其中该光阻挡层包括黑色或者基本暗色颜料、导电颗粒以及玻璃粉。
17.一种用于制造用于显示装置的光阻挡层的组合物,包括:
占该组合物总重的大约5wt%到大约30wt%的有机粘结剂;
占该组合物总重的大约30wt%到大约50wt%的玻璃粉;
黑色或者基本暗色颜料;以及
导电颗粒,
其中该组合物基本上没有包含光敏材料。
18.根据权利要求17的组合物,其中有机粘结剂占该组合物总重的大约5wt%到大约30wt%。
19.根据权利要求17的组合物,其中玻璃粉占该组合物总重的大约35wt%到大约50wt%。
20.根据权利要求17的组合物,其中还进一步包括占该组合物总重的大约0.1wt%到大约10wt%的增塑剂。
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