CN109031801B - 一种液晶显示面板及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种液晶显示面板及其制备方法，该液晶显示面板包括：阵列基板，在所述阵列基板上依次层叠的钝化层、平坦化层、BPS材料层以及第一配向层，所述第一配向层在所述BPS材料层上的投影不超出所述BPS材料层的区域；在所述BPS材料层上设有多个凹槽，且所述多个凹槽沿着所述BPS材料层的边缘内侧分布，且在所述BPS材料层上还形成有框胶；其中，所述框胶与所述第一配向层分别位于所述多个凹槽的两侧。本发明不在阵列基板上制备挡墙，也可以阻挡框胶和第一配向层的流动，避免阵列基板上的框胶和第一配向层在制备时超出规格。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种液晶显示面板及其制备方法。
背景技术
BPS(Black photo spacer，黑色光阻垫片材料)技术是LCD(Liquid CrystalDisplay，液晶显示器)技术中一种把BM(黑色矩阵)和PS(间隙控制)两道制程合成一道制程的技术。该技术可以在彩膜基板侧或者阵列基板侧执行BPS制程，在阵列基板侧执行BPS制程，再通过COA(Color on Arrary，将彩膜基板与阵列基板集成在一起)技术将阵列基板与彩膜基板进行组装成盒，相应的彩膜基板侧只有一层正面的ITO(铟锡氧化物)电极层，没有其余膜层图形。这种设计可以运用于平面显示屏和曲面显示屏共用的情形。
无论是把BPS制程制备在阵列基板侧还是彩膜基板侧，周边遮光都是靠BPS材料层实现。由于没有色阻的存在，所以无法制备色阻挡墙来阻挡框胶和PI(聚酰亚胺)的流动。所以在BPS技术下，框胶和PI制程需要严格把控，并且经常会有超出规格的情况。图1是普通技术对应的液晶显示面板的框胶和挡墙的设计情况，11’为玻璃基板，12’为栅极金属、13’为源漏极金属，14’为栅极绝缘层，2’为钝化层，3’为框胶，4和5’均为配向层(为聚酰亚胺材料)，6’为ITO电极层，7’为黑色矩阵层，8’为彩膜基板，9’为挡墙，11’、12’、13’及14’构成阵列基板。由于BM制程和PS制程分开，并且没有使用平坦化层，彩膜基板侧可以使用色阻做成框胶与配向层之间的挡墙，而在阵列基板侧利用色阻做成配向层与框胶之间的挡墙。图2是采用BPS技术制备的液晶显示面板的示意图，11’为玻璃基板，12’为栅极金属、13’为源漏极金属，14’为栅极绝缘层，2’为钝化层，3’为框胶，4和5’均为配向层，6’为ITO电极层，，8’为彩膜基板，10’为平坦化层，20’为BPS材料层，11’、12’、13’及14’构成阵列基板。由于彩膜基板侧没有图形化的膜层，所以无法有挡墙的设计。阵列基板侧的BPS材料层起到遮光的作用，所以无法做出凸起的挡墙，并且即使利用色阻做挡墙也无法实现，因为平坦化层和BPS材料层都是有机层，而且都很厚，所以色阻的凸起会被两层有机层平坦化掉，无法起到挡墙的作用。
发明内容
为解决上述技术问题，本发明提供一种液晶显示面板及其制备方法，不在阵列基板上制备挡墙，也可以阻挡框胶和第一配向层的流动，避免阵列基板上的框胶和第一配向层在制备时超出规格。
本发明提供的一种液晶显示面板，包括：阵列基板，在所述阵列基板上依次层叠的钝化层、平坦化层、BPS材料层以及第一配向层，所述第一配向层在所述BPS材料层上的投影不超出所述BPS材料层的区域；
在所述BPS材料层上设有多个凹槽，且所述多个凹槽沿着所述BPS材料层的边缘内侧分布，且在所述BPS材料层上还形成有框胶；其中，所述框胶与所述第一配向层分别位于所述多个凹槽的两侧。
优选地，所述阵列基板上设有遮光金属，且所述BPS材料层上的凹槽在所述阵列基板上的投影位于所述遮光金属内或者与所述遮光金属重合。
优选地，所述阵列基板包含有玻璃基板以及位于所述玻璃基板上的栅极金属和所述遮光金属；所述栅极金属和所述遮光金属位于同一层；
在所述玻璃基板上还形成有栅极绝缘层和源漏极金属，所述栅极绝缘层覆盖所述栅极金属和所述遮光金属，所述源漏极金属形成于所述栅极绝缘层上，所述钝化层形成于所述栅极绝缘层上且所述钝化层覆盖所述源漏极金属。
优选地，所述BPS材料层上每一条边的内侧均等间距的设有多个凹槽；
所述第一配向层位于所述BPS材料层上多个凹槽围成的区域内侧，所述框胶位于所述BPS材料层上多个凹槽围成的区域外侧。
优选地，还包括在远离所述阵列基板方向上依次层叠的第二配向层、ITO电极层、彩膜基板；
其中，所述第二配向层和所述第一配向层相对设置。
优选地，所述第二配向层在所述ITO电极层上的投影位于所述ITO电极层内；
所述阵列基板和所述彩膜基板之间通过所述框胶进行固定贴合，且所述框胶的两端分别与所述ITO电极层和所述钝化层固定贴合。
本发明还提供一种液晶显示面板的制备方法，包括下述步骤：
在阵列基板上依次制备钝化层、平坦化层和BPS材料层；
图形化所述BPS材料层，在所述BPS材料层的边缘内侧形成多个凹槽；
在所述BPS材料层上形成框胶和第一配向层，所述框胶和所述第一配向层位于同一层，且所述框胶和所述第一配向层分别位于所述多个凹槽的两侧。
优选地，图形化所述BPS材料层时，在所述BPS材料层上每一条边的内侧形成多个等间距排列的凹槽。
优选地，所述第一配向层位于所述BPS材料层上多个凹槽围成的区域内侧，所述框胶位于所述BPS材料层上多个凹槽围成的区域外侧。
优选地，还包括下述步骤：
在彩膜基板上依次形成ITO电极层和第二配向层，所述第二配向层在所述ITO电极层上的投影位于所述ITO电极层内；
将所述第一配向层与所述第二配向层相对设置，且所述ITO电极层通过所述框胶与所述BPS材料层固定贴合。
实施本发明，具有如下有益效果：本发明通过在BPS材料层上制备形成多个凹槽，在BPS材料层上的多个凹槽的两侧制备形成框胶和第一配向层，使得在制备框胶和第一配向层时，即使框胶或者第一配向层的材料发生过流，也是流入附近的凹槽，这样可以避免框胶或者第一配向层出现超规格的情形。
本发明不需要在阵列基板上制备挡墙，也可以阻止框胶材料和BPS材料层上PI材料的流动。因为第一配向层对应着液晶显示面板的有效显示区，本发明因此也可以避免框胶材料污染液晶显示面板的有效显示区，影响液晶显示面板的显示效果。
其次，在阵列基板的BPS材料层上一般先制备第一配向层，如果第一配向层向BPS材料层的边缘流动时，会使得框胶制备在第一配向层上，但第一配向层的PI材料与框胶之间结合时，第一配向层与框胶之间容易出现剥离等问题，导致第一配向层与第二配向层之间的液晶露出，出现彩膜基板与阵列基板与分离的情况。因此，本发明还可以减少彩膜基板与阵列基板分离的风险。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明提供的背景技术中普通技术对应的液晶显示面板结构示意图。
图2是本发明提供的背景技术中BPS技术制备的液晶显示面板的结构示意图。
图3是本发明提供的液晶显示面板的结构示意图。
图4是本发明提供的俯视角度观察第一配向层、BPS材料层及框胶的示意图。
具体实施方式
本发明提供一种液晶显示面板，如图3所示该液晶显示面板包括：阵列基板1，在阵列基板1上依次层叠的钝化层2、平坦化层3、BPS(Black photo spacer，黑色光阻衬垫材料)材料层4以及第一配向层6，第一配向层6在BPS材料层4上的投影不超出BPS材料层4的区域。配向层的材料为聚酰亚胺材料。
如图4所示，在BPS材料层4上设有多个凹槽41，且多个凹槽41沿着BPS材料层4的边缘内侧分布，且在BPS材料层4上还形成有框胶5；其中，框胶5与第一配向层6分别位于多个凹槽41的两侧。
这里，由于BPS材料层4自身可以作为黑色矩阵材料，可以用于遮光。在BPS材料层4上制备多个凹槽41，在制备第一配向层6以及框胶5的时候，将框胶5和第一配向层6制备在凹槽41的两侧，当制备框胶5和第一配向层6的过程中时，如果框胶5或者PI材料发生过流，会流入旁边的凹槽41中，避免框胶5或者PI材料因为发生过流而出现超出规格的情形。
需要说明的是，在BPS材料层4上形成有多个凹槽41，但凹槽41处不会形成过孔，，也即是在凹槽41的下方，至少还有一层较薄的BPS材料，依然可以进行遮光。
这里可以采用GTM(Gray tone Mask，灰色调掩膜板)技术在BPS材料层4上刻蚀出多个凹槽41时，可以在凹槽41下方还保留一层薄薄的BPS材料层4，还可以避免在整体观看液晶显示面板时出现的反光问题。GTM技术具体为，在对BPS材料层4图形化处理时，采用涂布光阻、曝光显影的流程进行刻蚀。在曝光时，利用灰色调掩膜板(设有多个狭缝的掩膜板)进行曝光，光在透过灰色调掩膜板时会产生衍射。
进一步地，阵列基板1上设有遮光金属14，且BPS材料层4上的凹槽41在阵列基板1上的投影位于遮光金属14内或者与遮光金属14重合。
由于在BPS材料层4上刻蚀出多个凹槽41，凹槽41下方的BPS材料层4较薄，其遮光效果相对于其他部位的BPS材料层4的遮光效果不是很好。因此，在阵列基板1上可以设有与凹槽41相对应的遮光金属14，弥补凹槽41处的BPS材料层4的遮光效果不足的缺陷。这里，遮光金属14优选采用整面金属设计，避免出现漏光的情形。
进一步地，阵列基板1包含有玻璃基板11以及位于玻璃基板11上的栅极金属13和遮光金属14；其中，栅极金属13和遮光金属14位于同一层。也即是，栅极金属13和遮光金属14为同一层金属制成。
在玻璃基板11上还形成有栅极绝缘层12和源漏极金属15，栅极绝缘层12覆盖栅极金属13和遮光金属14，源漏极金属15形成于栅极绝缘层12上，钝化层2形成于栅极绝缘层12上且钝化层2覆盖源漏极金属15。
当然，在源漏极金属15与栅极绝缘层12之间还可设有有源层，栅极金属13，栅极金属13上方的源漏极金属15、栅极绝缘层12、有源层构成阵列基板1上的一个薄膜晶体管。
进一步地，BPS材料层4上每一条边的内侧均等间距的设有多个凹槽41。
第一配向层6位于BPS材料层4上多个凹槽41围成的区域内侧，框胶5位于BPS材料层4上多个凹槽41围成的区域外侧。
BPS材料层4的每一条边的内侧均匀分布多个凹槽41，保证在BPS层上制备第一配向层6或者框胶5时，避免PI材料过流流到多个凹槽41围成区域的外侧，以及避免框胶5过流流到多个凹槽41围成区域的内侧，从而避免第一配向层6或者框胶5出现超规格的情形。
进一步地，本发明提供的液晶显示面板还包括在远离阵列基板1方向上依次层叠的第二配向层7、ITO(铟锡氧化物)电极层、彩膜基板9。ITO电极层8作为接入公共电信号的公共电极。
其中，第二配向层7和第一配向层6相对设置。第一配向层6和第二配向层7之间可以设置液晶层，第一配向层6和第二配向层7用于给液晶层配向。
进一步地，第二配向层7在ITO电极层8上的投影位于ITO电极层8内。
阵列基板1和彩膜基板9之间通过框胶5进行固定贴合，且框胶5的两端分别与ITO电极层8和钝化层2固定贴合。
本发明还提供一种液晶显示面板的制备方法，该制备方法包括下述步骤：
在阵列基板1上依次制备钝化层2、平坦化层3和BPS材料层4；
图形化BPS材料层4，在BPS材料层4的边缘内侧形成多个凹槽41；
在BPS材料层4上形成框胶5和第一配向层6，框胶5和第一配向层6位于同一层，且框胶5和第一配向层6分别位于多个凹槽41围成区域的两侧。
进一步地，图形化BPS材料层4时，在BPS材料层4上每一条边的内侧形成多个等间距排列的凹槽41。
第一配向层6位于BPS材料层4上多个凹槽41围成的区域内侧，框胶5位于BPS材料层4上多个凹槽41围成的区域外侧。
进一步地，本发明中的液晶显示面板的制备方法还包括下述步骤：
在彩膜基板9上依次形成ITO电极层8和第二配向层7，第二配向层7在ITO电极层8上的投影位于ITO电极层8内；
将第一配向层6与第二配向层7相对设置，且ITO电极层8通过框胶5与BPS材料层4固定贴合。
综上所述，本发明通过在BPS材料层4上制备形成多个凹槽41，在BPS材料层4上的多个凹槽41的两侧制备形成框胶5和第一配向层6，使得在制备框胶5和第一配向层6时，即使框胶5或者第一配向层6的材料发生过流，也是流入附近的凹槽41，这样可以避免框胶5或者第一配向层6出现超规格的情形。
本发明不需要在阵列基板1上制备挡墙，也可以阻止框胶5材料和BPS材料层4上PI材料的流动。因为第一配向层6对应着液晶显示面板的有效显示区，本发明因此也可以避免框胶5材料污染液晶显示面板的有效显示区，影响液晶显示面板的显示效果。
其次，在阵列基板1的BPS材料层4上一般先制备第一配向层6，如果第一配向层6向BPS材料层4的边缘流动时，会使得框胶5制备在第一配向层6上，但第一配向层6的PI材料与框胶5之间结合时，第一配向层6与框胶5之间容易出现剥离等问题，导致第一配向层6与第二配向层7之间的液晶露出，出现彩膜基板9与阵列基板1与分离的情况。因此，本发明还可以减少彩膜基板9与阵列基板1分离的风险。
还有，在BPS材料层4的凹槽41下方的阵列基板1上制备有遮光金属14，弥补凹槽41下方的BPS材料层4较薄而引发的遮光效果不好的缺陷。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本发明的保护范围。
Claims (9)
1.一种液晶显示面板，其特征在于，包括：阵列基板，在所述阵列基板上依次层叠的钝化层、平坦化层、BPS材料层以及第一配向层，所述第一配向层在所述BPS材料层上的投影不超出所述BPS材料层的区域；
在所述BPS材料层上设有多个未穿透所述BPS材料层的凹槽，且所述多个凹槽沿着所述BPS材料层的边缘内侧分布，且在所述BPS材料层上还形成有框胶；其中，所述框胶与所述第一配向层分别位于所述多个凹槽的两侧；
所述阵列基板上设有遮光金属，且所述BPS材料层上的凹槽在所述阵列基板上的投影位于所述遮光金属内或者与所述遮光金属重合。
2.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述阵列基板包含有玻璃基板以及位于所述玻璃基板上的栅极金属和所述遮光金属；所述栅极金属和所述遮光金属位于同一层；
在所述玻璃基板上还形成有栅极绝缘层和源漏极金属，所述栅极绝缘层覆盖所述栅极金属和所述遮光金属，所述源漏极金属形成于所述栅极绝缘层上，所述钝化层形成于所述栅极绝缘层上且所述钝化层覆盖所述源漏极金属。
3.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述BPS材料层上每一条边的内侧均等间距的设有多个凹槽；
所述第一配向层位于所述BPS材料层上多个凹槽围成的区域内侧，所述框胶位于所述BPS材料层上多个凹槽围成的区域外侧。
4.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，还包括在远离所述阵列基板方向上依次层叠的第二配向层、ITO电极层、彩膜基板；
其中，所述第二配向层和所述第一配向层相对设置。
5.根据权利要求4所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第二配向层在所述ITO电极层上的投影位于所述ITO电极层内；
所述阵列基板和所述彩膜基板之间通过所述框胶进行固定贴合，且所述框胶的两端分别与所述ITO电极层和所述钝化层固定贴合。
6.一种液晶显示面板的制备方法，其特征在于，包括下述步骤：
在阵列基板上依次制备钝化层、平坦化层和BPS材料层；
图形化所述BPS材料层，在所述BPS材料层的边缘内侧形成多个未穿透所述BPS材料层的凹槽；在所述BPS材料层的凹槽下方的阵列基板上制备遮光金属；
在所述BPS材料层上形成框胶和第一配向层，所述框胶和所述第一配向层位于同一层，且所述框胶和所述第一配向层分别位于所述多个凹槽的两侧。
7.根据权利要求6所述的液晶显示面板的制备方法，其特征在于，图形化所述BPS材料层时，在所述BPS材料层上每一条边的内侧形成多个等间距排列的凹槽。
8.根据权利要求7所述的液晶显示面板的制备方法，其特征在于，所述第一配向层位于所述BPS材料层上多个凹槽围成的区域内侧，所述框胶位于所述BPS材料层上多个凹槽围成的区域外侧。
9.根据权利要求6所述的液晶显示面板的制备方法，其特征在于，还包括下述步骤：
在彩膜基板上依次形成ITO电极层和第二配向层，所述第二配向层在所述ITO电极层上的投影位于所述ITO电极层内；
将所述第一配向层与所述第二配向层相对设置，且所述ITO电极层通过所述框胶与所述BPS材料层固定贴合。
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