CN106146570A - (二甲基乙烯基锗氧基)庚取代倍半硅氧烷及其合成方法 - Google Patents
(二甲基乙烯基锗氧基)庚取代倍半硅氧烷及其合成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN106146570A CN106146570A CN201510205547.XA CN201510205547A CN106146570A CN 106146570 A CN106146570 A CN 106146570A CN 201510205547 A CN201510205547 A CN 201510205547A CN 106146570 A CN106146570 A CN 106146570A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- synthetic method
- reaction
- germanium
- heptan
- epoxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 title claims 5
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims 4
- -1 (dimethylvinylgermanyloxy)heptane Chemical group 0.000 claims abstract description 24
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims abstract description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 20
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 claims description 5
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000005265 dialkylamine group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005270 trialkylamine group Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract description 4
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 abstract description 2
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 abstract description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 4
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 229910003849 O-Si Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910003872 O—Si Inorganic materials 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- TVVSSFJOFAXHHD-UHFFFAOYSA-N chloro-ethenyl-dimethylgermane Chemical compound C[Ge](C)(Cl)C=C TVVSSFJOFAXHHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical group 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 238000001460 carbon-13 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- GLMONAKWILDCRE-UHFFFAOYSA-N ethenylgermanium Chemical compound [Ge]C=C GLMONAKWILDCRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000007306 functionalization reaction Methods 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical group [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- KVNYFPKFSJIPBJ-UHFFFAOYSA-N ortho-diethylbenzene Natural products CCC1=CC=CC=C1CC KVNYFPKFSJIPBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005328 spin glass Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/30—Germanium compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
Abstract
本发明涉及通式1所示的(二甲基乙烯基锗氧基)庚取代倍半硅氧烷,其中,取代基R彼此相同并且表示:●直链或支链的C2-C8烷基;●环戊基或环己基;●苯基;及其合成方法。
Description
技术领域
本发明涉及(二甲基乙烯基锗氧基)庚取代倍半硅氧烷及其合成方法。
发明内容
本发明的目的是合成(二甲基乙烯基锗氧基)庚取代倍半硅氧烷分子,即倍半硅氧烷具有7个烷基或芳基取代基和一个二甲基乙烯基锗氧基基,他们均直接结合在位于倍半硅氧烷骨架的硅原子上。
本发明涉及通式1所示的笼状结构(二甲基乙烯基锗氧基)庚取代倍半硅氧烷,
其中,取代基R彼此相同并且表示:
●直链或支链的C2-C8烷基;
●环戊基或环己基;
●苯基。
第二方面,本发明涉及一种通式1所示的笼状结构(二甲基乙烯基锗氧基)庚取代倍半硅氧烷的合成方法,
其中,取代基R彼此相同并且表示:
●直链或支链的C2-C8烷基,
●环戊基或环己基,
●苯基;
所述方法包括通式2所示的笼状结构单硅烷醇POSS与通式3所示的二甲基乙烯基氯锗之间的反应,反应过程是在胺和结合释放的氯化氢的化合物的存在下:
其中,R如上定义,
所述反应是在选自包括醚、饱和烃和芳香烃的组的有机溶剂中进行。有利地,使用的溶剂选自包括四氢呋喃、己烷、戊烷、二乙醚和苯的组。
由于二甲基乙烯基氯锗的属性,合成(二甲基乙烯基锗氧基)庚取代倍半硅氧烷的反应优选在无水条件下进行。在含水分介质中进行所述反应会使过程中的产率大幅度下降,这和二甲基乙烯基氯锗与水反应生成1,1,3,3-四甲基-1,3-二乙烯基二锗恶烷的反应有关。由于二甲基乙烯基氯锗与水的高反应性,所用试剂和溶剂应被干燥,以避免形成副产物,而要使其从产品中适当分离是非常困难的,甚至是不可能的。
所述反应可以在大气环境下进行,但为了获得更有利的产率,该反应优选在惰性气体,如氩气或氮气环境下进行。
该反应可以在宽的温度范围内进行,但在室温下是有利的,这是由于较高的温度下不会在增加产量方面具有显著效果,而降低温度会对产率的降低产生重大影响。
所述胺可以选自三烷基胺或二烷基胺,更优选为使用三乙胺。胺起着引发庚取代单硅烷醇POSS与二甲基乙烯基氯锗之间反应的作用。与此同时,所述胺可以发挥一种化合物的功能,所述化合物能够结合缩合反应的产物氯化氢。
结合氯化氢所述化合物,可以是包括溶解在反应环境中和与氯离子形成稳定盐的任意化合物。
合成反应是在(二甲基乙烯基氯锗):(庚取代单硅烷醇POSS)的摩尔比为1:1的试剂中发生,二甲基乙烯基氯锗微过量是有利的,该反应涉及的胺的使用量相对于庚取代单硅烷醇POSS不少于1个当量,但是当该胺也用作试剂结合氯化氢时,相对于二甲基乙烯基氯锗其用量不小于1.2当量。
通过以下顺序添加试剂有利于反应的进行:首先,溶解庚取代单硅烷醇POSS于选定溶剂中,然后添加胺并在几分钟之内混合完全,然后添加二甲基乙烯基氯锗,分批加入是有利的。添加顺序的改变可能导致产率的减少。
产物用以下方法纯化:
(a)如果该反应是在饱和烃(如戊烷,己烷)或芳香烃(如苯,甲苯)中进行,那么将形成的铵盐滤出,且溶剂在减压下蒸发。粉末状产品在冷的甲醇/水混合物中析出以洗去铵盐的痕迹,因其可以潜在地干扰(二甲基乙烯基锗氧基)庚取代倍半硅氧烷的进一步官能化,其中,水和甲醇的体积比为75:25-80:20,接下来将产品过滤并最终在在减压下干燥。
(b)如果该反应是在醚中进行,所述溶剂应当在减压下蒸发,然后将残余物结合于少量的光饱和烃(例如戊烷、己烷或石油醚),其中的反应产物被溶解以达到与铵盐残留物分离的目的,在醚溶剂中的铵盐的溶解度略高于在烃类溶剂中。然后铵盐沉淀物被滤出,而溶剂在减压下从滤液中除去。进一步操作与(a)所描述的相同。
本发明所述的笼状结构(二甲基乙烯基锗氧基)庚取代倍半硅氧烷的应用,除其他外,还可作为填料用于具有特定光学性质的聚合物中。
以用作含有π共轭烯烃作为取代基的官能化不饱和POSS的前体;这种化合物作为明确的发色团和光敏纳米填料而应用(B.Marciniec,P.ZAK,M.Majchrzak,C.Pietraszuk,J.Organomet.Chem.,2011,696,887)。由于Ge-O-Si键的基团存在于锗硅氧烷结构中的特征是折射率比硅氧烷高,这就是为什么低聚和聚合的硅氧烷被应用在专门的自旋玻璃,玻璃膜,显微透镜,激光和粘合剂层中。一方面,存在于这些化合物中的无机硅-氧-硅氧烷芯决定了良好的热性能和机械性能,而这些性能确定了它们作为填料的应用,还决定了它们的高光学透明性,而这一性能在光电和催化,主要是电子产品方面的应用显著。
另一方面,在Ge-O-Si基团的存在显著影响这些化合物的光学特性。例如Honore等(W.M.Risen,Jr.,Y.Z.Wang,A.Honore,US Patent:6248852,2001)表明,相对于类似的不含有锗原子的硅氧烷,引入Ge-O-Si基团到硅氧烷骨架对于提高折射率数值具有重大影响,这就是为什么将这些材料应用于专门自旋玻璃、玻璃膜、微透镜、激光和粘合的制造中。
本发明所述化合物结合了倍半硅氧烷衍生物的特性(如其保留了硅氧烷片段相同的骨架结构),并在同一时间,由于乙烯基锗基的引入作为倍半硅氧烷笼状结构的取代基,它们表现出特定的光学特性并可用于以下前体的制造,包括复合光学材料元件或具有特定电子特性而被用于例如光电子的官能化低聚物合成的基板。
具体实施方式
本发明所述方法,在以下实施例中给出,但并会不限制本发明的应用。
产品分析如下进行:
·1H和13C-NMR光谱记录在300和75MHz的Varian Gemini300光谱仪,
·29Si NMR光谱在119.203MHz使用Varian Avance600分光计记录,
·质谱记录在Applied Biosystems4000Q TRAP系统。
实施例1
一个100mL体积的两颈烧瓶中,配备有回流冷凝器和用于引入惰性气体的适配器,在氩气气氛中装入庚异丁基单硅烷醇POSS(1.5g,1.8mmol)、脱氧干燥的四氢呋喃(50ml)和三乙胺(0.33mL,2.73mmol)。然后,将二甲基乙烯基氯锗(0.4g,2.42mmol)于室温下非常缓慢地逐滴滴加入反应混合物中,随后铵盐沉淀。将悬浮液在室温下混合24小时,在此之后在减压下蒸发四氢呋喃。残余物用20mL己烷合并,然后空气中在连接到隔膜泵的玻璃烧结中过滤。将沉淀物用小部分己烷洗涤(3×10mL),并且将滤液蒸发至干。然后用冷的甲醇水溶液合并残留物,形成白色沉淀并在玻璃烧结漏斗中过滤。最终以85%的产率得到白色粉末(二甲基乙烯基锗氧基)庚异丁基倍半硅氧烷。
1H NMR(CDCl3,δ,ppm):0.50(s,6H,-Ge(CH3)2-);0.56-0.65(m,14H,CH2);0.86-1.03(m,42H,CH3);1.77-1.95(m,7H,CH);5.75(dd,1H,JHH=20.1,2.9Hz,CH=CH2);6.01(dd,1H,JHH=13.7,2.9Hz,CH=CH2);6.32(dd,1H,JHH=20.1,13.7Hz,CH=CH2)
13C NMR(CDCl3,δ,ppm):0.62(-Ge(CH3)2-);22.46,22.53(CH2);23.80,23.86(CH);25.68,25.73(CH3);131.33(=CH2);138.31(=CH-Ge)
29Si NMR:(CDCl3,δ,ppm):-67.30;-67.90;-105.73
MS(ASAP):m/z(%):833.26(57);834.26(40);835.26(29);959.24(34);961.24(68);963.24(100);964.24(69);965.24(57);966.24(30)
HRMS(ASAP)for C32H73GeO13Si8:calcd 963.2417;found 963.2432;
Elemental analysis:calcd(%)for C32H72GeO13Si8:C:39,94;H:7.54;found 39.83;H:7.57.
Claims (4)
1.通式1所示的笼状结构(二甲基乙烯基锗氧基)庚取代倍半硅氧烷,
其中,取代基R彼此相同并且表示:
●直链或支链的C2-C8烷基;
●环戊基或环己基;
●苯基。
2.通式1所示的笼状结构(二甲基乙烯基锗氧基)庚取代倍半硅氧烷的合成方法,
其中,取代基R彼此相同并且表示:
●直链或支链的C2-C8烷基,
●环戊基或环己基,
●苯基;
其中,所述合成方法包括通式2所示的笼状结构单硅烷醇POSS与通式3所示的二甲基乙烯基氯锗之间的反应,反应过程是在胺和结合释放的氯化氢的化合物的存在下:
其中,R如上定义,
3.根据权利要求2所述合成方法,其特征在于,所述反应是在一种三烷基胺或二烷基胺的存在下进行,并且特别有利的是使用三乙胺。
4.根据权利要求3所述合成方法,其特征在于,所述胺的用量相对于庚取代单硅烷醇POSS,不小于1个当量。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PL411195A PL411195A1 (pl) | 2015-02-11 | 2015-02-11 | (Dimetylowinylogermoksy) heptapodstawione silseskwioksany oraz sposób ich otrzymywania |
PLP.411195 | 2015-02-11 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN106146570A true CN106146570A (zh) | 2016-11-23 |
Family
ID=52737042
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201510205547.XA Pending CN106146570A (zh) | 2015-02-11 | 2015-04-24 | (二甲基乙烯基锗氧基)庚取代倍半硅氧烷及其合成方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9255112B1 (zh) |
EP (1) | EP3056502A1 (zh) |
CN (1) | CN106146570A (zh) |
PL (1) | PL411195A1 (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110669222A (zh) * | 2019-09-02 | 2020-01-10 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 光学透明材料及其制备方法、聚合物薄膜及其制作方法 |
US20210094649A1 (en) * | 2019-10-01 | 2021-04-01 | Chung-Che Lee | Quick release structure |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997024635A2 (en) | 1995-12-19 | 1997-07-10 | Risen William M Jr | Methods and compositions for joining waveguide structures and the resulting joined products |
US20100081837A1 (en) * | 2006-10-05 | 2010-04-01 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Process for production of powder of cage silsesquioxane compound |
-
2015
- 2015-02-11 PL PL411195A patent/PL411195A1/pl unknown
- 2015-03-26 EP EP15461521.5A patent/EP3056502A1/en not_active Withdrawn
- 2015-04-02 US US14/677,118 patent/US9255112B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2015-04-24 CN CN201510205547.XA patent/CN106146570A/zh active Pending
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
FRANK J. FEHER ET AL.: "Silsesquioxanes as Models for Silica Surfaces", 《J. AM. CHEM. SOC.》 * |
JACEK WAEHNER ET AL.: "Functionalization of Vinylspherosilicates by Ruthenium-Catalyzed Silylative Coupling Reactions", 《EUR. J. INORG. CHEM.》 * |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110669222A (zh) * | 2019-09-02 | 2020-01-10 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 光学透明材料及其制备方法、聚合物薄膜及其制作方法 |
CN110669222B (zh) * | 2019-09-02 | 2021-09-03 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 光学透明材料及其制备方法、聚合物薄膜及其制作方法 |
US20210094649A1 (en) * | 2019-10-01 | 2021-04-01 | Chung-Che Lee | Quick release structure |
US11767077B2 (en) * | 2019-10-01 | 2023-09-26 | Chung-Che Lee | Quick release structure |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3056502A1 (en) | 2016-08-17 |
PL411195A1 (pl) | 2015-11-09 |
US9255112B1 (en) | 2016-02-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20050239985A1 (en) | Process for the formation of polyhedral oligomeric silsesquioxanes | |
CN106866722B (zh) | 一种含苯并环丁烯官能化的有机硅化合物及其制备方法 | |
CN108602840A (zh) | 高纯度三甲硅烷基胺、制备方法和用途 | |
WO2003091186A2 (en) | Azasilanes and methods for making and using the same | |
Dudziec et al. | New mono-and diethynylsiloxysilsesquioxanes–efficient procedures for their synthesis | |
KR101215736B1 (ko) | 에폭시 화합물 및 그 제조 방법 | |
Władyczyn et al. | Hydroxyalkyl-substituted double-decker silsesquioxanes: effective separation of cis and trans isomers | |
CN106146570A (zh) | (二甲基乙烯基锗氧基)庚取代倍半硅氧烷及其合成方法 | |
JP2009263316A (ja) | 不完全縮合オリゴシルセスキオキサンの製造方法 | |
CN1648130A (zh) | 一种氨基苯基笼型倍半硅氧烷及其制备方法 | |
KR101299034B1 (ko) | 1,3,5-트리에틸-2,4,6-트리하이드리도-2,4,6-트리에틸아미노-1,3,5-트리아자-2,4,6-트리실라시클로헥산의 제조 방법 | |
CN106432729A (zh) | 一种含苯并环丁烯官能团的聚倍半硅氧烷及其制备方法 | |
TWI745596B (zh) | 具有烷氧基烷基的異三聚氰酸衍生物及其製造方法 | |
TW202023951A (zh) | 肆(三氯矽基)鍺烷,其製備方法及其用途 | |
CN101585850B (zh) | 一种含硅芳香氰酸酯单体及其制备方法 | |
JP7613749B2 (ja) | 化合物及びその製造方法 | |
WO2017065311A1 (ja) | 異なる置換基を対面に4つずつ有するかご型シルセスキオキサン | |
CN104470935A (zh) | 氧杂环硅烷及其制备方法 | |
JP2007211138A (ja) | 脂環式ポリエーテル、その製造方法及びその用途 | |
KR20230053668A (ko) | 실록산의 제조 방법 | |
JPH05310942A (ja) | シルセスキオキサンラダーポリマー及びその製造方法 | |
JP7575069B2 (ja) | 化合物及びその製造方法 | |
CN106146547A (zh) | 乙烯基锗倍半硅氧烷 | |
JP3564536B2 (ja) | シリレン基を有するポリカルボシランの製造方法 | |
WO2019054498A1 (ja) | オルガノシロキサン及びオルガノシロキサンの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20161123 |
|
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |