CN104380151B - 防反射膜的制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供能够通过一系列的制造工序进行蛾眼结构的形成、对防反射膜的表面的防污处理和对模具的脱模处理且能够使模具的耐用期间长期化的防反射膜的制造方法。本发明的制造方法具有：在基材上层叠转印树脂的工序；对转印树脂表面涂布脱模/防污材料的工序；对模具表面涂布脱模/防污材料的工序；以及在对转印树脂表面和模具表面分别涂布脱模/防污材料后，将模具按压于转印树脂，从而将模具所具有的纳米结构图案转印到转印树脂的工序，该纳米结构图案具有相邻的凹部的底点间的宽度为可见光波长以下的多个凹部。
Description
技术领域
本发明涉及防反射膜的制造方法。更具体地说，涉及通过贴附到物品上能够降低表面反射的蛾眼膜的制造方法。
背景技术
近年来，作为降低显示装置的表面反射的技术，无需使用现有的光干涉膜就能够得到超防反射效果的蛾眼(Moth-eye：蛾子的眼睛)结构受到关注。蛾眼结构是在进行防反射处理的物品的表面上将比由防眩(AG：AntiGlare)膜形成的凹凸图案更微细的可见光波长以下的间隔的凹凸图案无间隙地排列，从而人为地使外界(空气)与物品表面的边界上的折射率的变化连续的结构，能够与折射率界面无关地透射过几乎全部的光，将该物品的表面的光反射几乎完全消除(例如，参照专利文献1、2。)。
这样的蛾眼结构通过人为地消除空气界面的折射率的变化使光透射过，因此，一般贴附于物品的最表面来使用。
蛾眼膜是通过纳米压印光刻制作的。在纳米压印光刻中，将形成有纳米结构图案的模具直接按压于转印树脂，因此，对模具实施脱模处理以使其不会附着有转印树脂。作为模具脱模处理法，利用含氟的单分子自组织化膜(SAM：self-assembledmonolayer)等覆盖模具的方法是主流。另外，也已提出以下脱模处理方法：在模具被按压前的转印树脂上涂布脱模剂，由此，即使对模具表面不实施脱模处理，也会防止转印树脂的一部分附着到模具侧(例如，参照专利文献3。)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：特许第4368384号说明书
专利文献2：特许第4368415号说明书
专利文献3：特开2010-45092号公报
发明内容
发明要解决的问题
蛾眼结构在表面具有间隔或者间距尺寸以纳米级而形成的多个凸部，因此，当表面附着有污垢时凸部会相对变低，无法人为地使外界与物品表面的边界上的折射率的变化连续。因此，可以考虑将防水性材料等防污剂涂布于蛾眼膜的表面来防止污垢附着的方法。
但是，若在形成蛾眼结构后涂布防污剂，则凹部会有液体积存，蛾眼膜的反射率会上升。另外，在制造工序中，若在形成蛾眼结构后涂布防污剂，工序数也会增加而制造时间变长。
而且，在如上所述的利用SAM等覆盖模具的脱模处理法中，若反复进行纳米压印光刻，则脱模剂的效果会逐渐失去，而无法准确地转印蛾眼结构。
本发明是鉴于上述现状而完成的，其目的在于，提供能够通过一系列的制造工序进行蛾眼结构的形成、对防反射膜的表面的防污处理和对模具的脱模处理且能够使模具的耐用期间长期化的防反射膜的制造方法。
用于解决问题的方案
本发明的发明人对向蛾眼膜涂布防污剂的方法进行了种种研究，关注了在形成蛾眼结构前在转印树脂上涂布防污剂的方法。并且发现，若利用在对转印树脂表面涂布防污剂后将模具按压于转印树脂从而将模具所具有的纳米结构图案转印到转印树脂的方法，则在按压模具的时点，防污剂已涂布到转印树脂表面，因此，转印树脂的凹部不会产生液体积存，能够在维持蛾眼结构的状态下赋予防污效果。
另外，关注了在对模具表面涂布脱模剂后将模具按压于转印树脂从而将模具所具有的纳米结构图案转印到转印树脂的方法，并且发现，通过将兼具脱模作用和防污作用的化合物涂布于转印树脂表面，能够在每次转印时进行对模具的脱模处理，能够使模具的耐用期间长期化，同时能够使防污剂充分地残存于转印树脂上而赋予防污效果。此外，在现有的仅对模具表面涂布脱模剂的方法或者现有的仅对转印树脂表面涂布脱模剂的方法中，无法使脱模剂(防污剂)充分地残存于转印树脂上。
而且发现，根据上述方法，能够通过一系列的制造工序进行对蛾眼膜的表面的防污处理和对模具的脱模处理。
如此，本发明的发明人想到能够很好地解决上述问题，达到了本发明。
即，本发明的一方面是防反射膜的制造方法，其具有：在基材上层叠转印树脂的工序；对转印树脂表面涂布脱模/防污材料的工序；对模具表面涂布脱模/防污材料的工序；以及在对转印树脂表面和模具表面分别涂布脱模/防污材料后，将模具按压于转印树脂，从而将模具所具有的纳米结构图案转印到转印树脂的工序，该纳米结构图案具有相邻的凹部的底点间的宽度为可见光波长以下的多个凹部。
作为上述防反射膜的制造方法所包含的工序，只要是必须包含上述工序即可，对其它工序没有特别限定。以下，详述上述防反射膜的制造方法所包含的各工序及其优选工序。此外，将下述防反射膜的制造方法的各个优选工序组合2个以上的工序也是上述防反射膜的制造方法的优选工序。
上述基材只要能够载置防反射膜即可，没有特别限定。
上述转印树脂是通过按压模具来转印纳米结构图案的树脂，优选使用以规定的条件固化的热固化性树脂或者光固化性树脂。而且，从提高生产率的观点出发，优选使用紫外线固化性树脂。
上述脱模/防污材料是作为对模具的脱模剂和对防反射膜的防污剂这两者发挥功能的材料，可以举出包含氟化合物、硅类化合物等的材料。
上述制造方法具有对模具表面涂布脱模/防污材料的工序。通过预先对模具表面涂布脱模/防污材料，在后工序中将模具按压于转印树脂时，能够防止涂布于转印树脂侧的脱模/防污材料移动到模具侧。另外，在流水线式的制造工序中，能够防止转印树脂被模具带走。
上述制造方法具有在对转印树脂表面涂布脱模/防污材料后将模具按压于转印树脂，从而将模具所具有的纳米结构图案转印到转印树脂的工序。通过在对转印树脂表面涂布脱模/防污材料后进行转印，能够防止该脱模/防污材料积存于转印蛾眼结构后的转印树脂的凹部。
根据上述制造方法，能够通过一系列的制造工序进行对转印防止膜的表面的防污处理和对模具的脱模处理，另外，能防止涂布于转印树脂侧的脱模/防污材料移动到模具侧，并且能向模具侧持续地供应脱模/防污材料。
上述模具所具有的纳米结构图案具有相邻的凹部的底点间的宽度为可见光波长以下的多个凹部。在本说明书中，所谓“可见光波长以下”，是指作为一般的可见光波长范围的下限的380nm以下，更优选为300nm以下，进一步优选为可见光波长的大约1/2以下即200nm以下。通过将该具有相邻的凹部的底点间的宽度为可见光波长以下的多个凹部的纳米结构图案转印到转印树脂，能够制作具有相邻的凸部的顶点间的宽度为可见光波长以下的多个凸部的纳米结构图案(蛾眼结构)。当凹部的底点间的宽度超过400nm时，有时所制作的防反射膜的表面会以蓝的波长成分着色，但通过将宽度设为300nm以下能充分地抑制这一影响，通过将宽度设为200nm以下则几乎完全不受影响。
上述防反射膜具有相邻的凸部的顶点间的宽度为可见光波长以下的多个凸部。通过具有这样的纳米结构图案(蛾眼结构)，能够降低在贴附有上述防反射膜的面上发生的反射。例如，通过将本发明的防反射膜贴附到显示装置的前面板上，能够得到进行因外部光反射所导致的周围(例如，室内的荧光灯)的映入少的良好显示的显示装置。
优选上述脱模/防污材料包含氟化合物。氟化合物有使表面能下降的效果，因此，通过将上述脱模/防污材料涂布于模具，能够防止转印树脂附着于模具。另外，通过将上述脱模/防污材料涂布于转印树脂，能够赋予转印树脂防污效果。作为氟化合物，例如可以举出具有氟烷基的化合物。
优选包含在上述对转印树脂表面涂布脱模/防污材料的工序之前对转印树脂表面进行表面改性的工序。上述“进行表面改性”是指，通过向构成上述转印树脂表面的化学结构导入官能基等使表面特性发生变化，其目的是提高转印树脂表面的反应性。具体地说，可以举出照射由高频电源激发的电晕放电的方法、进行臭氧处理的方法、照射短波长且渗透性小的准分子激光的方法、进行等离子处理的方法等。作为导入的官能基，可以举出-OH基、-COOH基、-NH2基等，优选-OH基。在通过表面改性导入了-OH基的情况下，作为涂布到转印树脂表面的脱模/防污材料，可以举出硅氧烷化合物、异氰酸酯化合物等，优选硅氧烷化合物。
优选上述氟化合物为具有氟烷基的硅氧烷化合物。通过涂布包含硅氧烷化合物的材料，在对上述转印树脂表面进行了表面改性的情况下，能够使硅氧烷化合物所具有的硅原子(Si)与通过上述表面改性导入到转印树脂的表面的官能基发生反应，使转印树脂所包含的成分与脱模/防污材料所包含的成分进行化学键合而使它们牢固地结合。通过导入这样的化学键，即使在对防反射膜表面进行了擦拭的情况下，也能够使得上述脱模/防污材料不易从转印树脂表面剥落。
优选上述氟化合物为具有氟烷基和聚合性基团的化合物。通过涂布包含该化合物的材料，能够使聚合性基团进行聚合，使转印树脂与脱模/防污材料进行化学键合。通过导入这样的化学键，即使在对防反射膜表面进行了擦拭的情况下，也能够使得上述脱模/防污材料不易从转印树脂表面剥落。
优选上述聚合性基团为丙烯酸酯基团和/或甲基丙烯酸酯基团。通过加热、光(例如，紫外线)照射等容易的工序，能够将转印树脂与脱模/防污材料牢固地结合。
优选上述将纳米结构图案转印到转印树脂的工序包含与将模具按压于转印树脂同时地进行紫外线照射的工序。能够将转印纳米结构图案时的转印树脂的固化和转印树脂所包含的成分与脱模/防污材料所包含的成分的化学键合同时进行。
发明效果
根据本发明，能够通过一系列的制造工序进行蛾眼结构的形成、对防反射膜的表面的防污处理和对模具的脱模处理且能够使模具的耐用期间长期化。
附图说明
图1是实施方式1的防反射膜的截面示意图。
图2是示出实施方式1的模具的制造工序的示意图。
图3是示出实施方式1的防反射膜的制造工序的示意图。
图4是示出实施方式1的防反射膜的流水线式的制造工序的示意图。
图5是实施方式2的防反射膜的截面示意图。
图6是示出实施方式2的防反射膜的制造工序的示意图。
图7是示出实施方式2的防反射膜的流水线式的制造工序的示意图。
图8是比较例1的防反射膜的截面示意图。
图9是比较例2的防反射膜的截面示意图。
具体实施方式
以下揭示实施方式，参照附图进一步详细地说明本发明，但本发明不限于这些实施方式。
(实施方式1)
图1是实施方式1的防反射膜的截面示意图。如图1所示，实施方式1的防反射膜具有转印树脂11和隔着化学键合层12形成于转印树脂11上的膜(脱模/防污材料)13，并贴附在基材10上。
在实施方式1中，在转印树脂11上形成有蛾眼结构，入射到防反射膜的表面的绝大部分的光会透射过空气与转印树脂11的界面和转印树脂11与基材10的界面，因此，与现有的光干涉型的防反射膜相比，能够得到优异得多的防反射效果。实施方式1中的防反射膜例如能够用于显示装置的构成部件(自发光型显示元件、非自发光型显示元件、光源、光扩散片、棱镜片、偏振反射片、相位差板、偏振板、前面板、箱体等)、透镜、窗户玻璃、边框玻璃、橱窗、水槽、印刷物、照片、涂装物品、照明设备等。
以下，说明具体的实施方式1所涉及的防反射膜的制造方法。
＜模具的制作＞
以下，使用图2来说明实际制作用于形成防反射膜的模具(mold)的例子。图2是示出实施方式1的模具的制造工序的示意图。
首先，准备Al基材21(图2(a))，接着，如图2(b)所示，通过对该Al基材21局部(表面部分)进行阳极氧化形成多孔氧化铝层20，通过蚀刻形成凹部22a。根据阳极氧化的条件(例如化成电压、电解液的种类、浓度以及阳极氧化时间等)，能够控制凹部22a的大小、生成密度、凹部22a的深度等，通过控制化成电压的大小，能够控制凹部22a的排列的规则性。
在初始阶段生成的多孔氧化铝层20中凹部22a的排列有产生紊乱的倾向，因此，考虑到再现性，在实施方式1中，如图2(c)所示，除去了最开始形成的多孔氧化铝层20。通过除去到仅残留底部分的凹陷的距离大致相等的部分，在接下来的阳极氧化工序(图2(d))中，能够决定开孔的位置。
其后，如图2(d)所示，再次进行阳极氧化，形成具有凹部22a的多孔氧化铝层20。接着，如图2(e)所示，使具有凹部22a的多孔氧化铝层20接触氧化铝的蚀刻剂从而蚀刻规定的量，由此，使凹部22a的孔径扩大。在此，通过对草酸0.6％、液温5℃的电解液将80V的电压施加24秒来进行阳极氧化，通过在磷酸1mol/L、液温30℃的溶液中浸泡25分钟来进行蚀刻。
其后，如图2(f)所示，再次对Al基材21局部地进行阳极氧化，由此，使凹部22a向深度方向生长并且使多孔氧化铝层20变厚。在此，凹部22a的生长是从已经形成的凹部22a的底部开始，因此，凹部22a的侧面成为台阶状。然后，如图2(g)所示，使多孔氧化铝层20接触氧化铝的蚀刻剂从而进一步进行蚀刻，由此，使凹部22a的孔径进一步扩大。
这样，通过反复进行上述的阳极氧化工序(图2(d))和蚀刻工序(图2(e))，得到具备具有所希望的凹凸形状的凹部22a的多孔氧化铝层20。在此，交替地实施上述的阳极氧化和蚀刻而实施5次阳极氧化、4次蚀刻，制作出具有相邻的孔的间距为200nm且高度为400nm的圆锥状的孔的模具。
＜防反射膜的制作＞
以下，使用图3来说明实施方式1所涉及的防反射膜的制造方法。图3是示出实施方式1的防反射膜的制造工序的示意图。
首先，如图3(a)所示，准备基材10，涂布转印树脂11并使其干燥。基材的种类没有特别限定，例如可以举出将玻璃、塑料、金属等作为构成材料的基材。转印树脂11没有特别限定，但在光照纳米压印的情况下，优选使用紫外线固化性树脂，例如可以举出PAK01(东洋合成株式会社制造)、SU-8(日本化药株式会社制造)。
接着，如图3(b)所示，进行转印树脂11的表面改性。通过表面改性，能够向构成转印树脂11表面的化学结构导入官能基14，提高转印树脂表面的反应性。作为导入的官能基，可以举出-OH基、-COOH基、-NH2基等，优选-OH基。表面改性的方法优选使用对转印树脂照射紫外线等而不会使转印树脂劣化的方法，具体地说，可以举出对转印树脂的表面照射由高频电源激发的电晕放电的方法，进行臭氧处理的方法、照射短波长且渗透性小的准分子激光的方法、进行等离子处理的方法。
接着，如图3(c)所示，对进行上述表面改性后的转印树脂11的表面涂布脱模/防污材料13并使其干燥。作为该脱模/防污材料13，只要能作为对模具的脱模剂和对防反射膜的防污剂这两者发挥功能即可，没有特别限定，例如，优选使用包含具有氟烷基的硅氧烷化合物的材料，具体地说，可以举出代芙力(ダイフリー：DAIFREE；大金公司制造，注册商标)等。通过包含硅氧烷化合物起到脱模作用，通过包含氟烷基发挥防污功能。硅氧烷化合物所具有的硅原子(Si)与通过上述表面改性导入到转印树脂11的表面的-OH基发生反应，形成包含-O-Si-O-键的化学键合层12。即，该脱模/防污材料13在按压模具时具有作为脱模剂的效果，在蛾眼结构形成后具有作为防污剂的效果。
接着，如图3(d)所示，对通过上述的方法制作的模具31的表面涂布脱模/防污材料13。通过对模具31涂布脱模/防污材料13，在转印后也能够容易使作为防污剂发挥功能的脱模/防污材料13残存在转印树脂11上。另外，通过预先在转印树脂11上涂布脱模/防污材料13，对模具31来说，能够一边供应脱模剂一边进行转印，因此，能够使模具31的耐用期间长期化。
接着，如图3(e)所示，将模具31按压于在表面上层叠有化学键合层12和脱模/防污材料13的转印树脂11，并且照射紫外线使转印树脂11固化，将形成于模具31的纳米结构图案转印到转印树脂11。通过以上的工序，完成实施方式1的防反射膜(图3(f))。
以上，说明了逐步(批)处理时的制造工序，但也能够如以下所示，进行流水线式的连续处理。图4是示出实施方式1的防反射膜的流水线式的制造工序的示意图。图4的制造工序(a)～(f)对应于图3的制造工序(a)～(f)。
首先，对基材10涂布转印树脂11(图4(a))，利用干燥炉使转印树脂11干燥。接着，进行表面改性，向构成转印树脂11的表面的化学结构导入官能基14(图4(b))。接着，对转印树脂11和模具31涂布脱模/防污材料13(图4(c)、(d))。在图4(c)的工序中，作为脱模/防污材料的硅氧烷化合物所具有的硅原子(Si)与官能基14发生反应，形成化学键合层12。然后，在利用干燥炉干燥后，进行紫外线照射，进行转印(图4(e))。在流水线式的制造中，模具31使用辊型的模具。经过以上的工序，完成实施方式1的防反射膜(图4(f))。
(实施方式2)
实施方式2除了使用包含具有氟烷基和聚合性基团的化合物的材料作为脱模/防污材料、不进行转印树脂的表面改性这些方面以外，与实施方式1是同样的。实施方式2能够适合用于光照纳米压印。
图5是实施方式2的防反射膜的截面示意图。如图5所示，实施方式2的防反射膜具有转印树脂101和隔着化学键合层102形成于转印树脂101上的膜(脱模/防污材料)103，并贴附在基材100上。
以下，使用图6来说明实施方式2所涉及的防反射膜的制造方法。图6是示出实施方式2的防反射膜的制造工序的示意图。首先，如图6(a)所示，准备基材100，涂布转印树脂101并使其干燥。作为基材100和转印树脂101，能够使用与实施方式1同样的基材和转印树脂。
接着，如图6(b)所示，对转印树脂101的表面涂布脱模/防污材料103并使其干燥。该脱模/防污材料103为包含具有氟烷基和聚合性基团的化合物的材料，优选聚合性基团为丙烯酸酯基团和/或甲基丙烯酸酯基团。具体地说，可以举出佛劳劳萨夫(フロロサーフ；氟技术公司(フロロテクノロジー社：FluoroTechnologyCo.,LTD.)制造，注册商标)等。通过使脱模/防污材料103包含具有聚合性基团的化合物，在通过紫外线照射使转印树脂固化时，能够同时使聚合性基团也发生反应，使转印树脂101与脱模/防污材料103进行化学键合。另外，通过具有氟烷基，能够赋予防反射膜防污性。即，脱模/防污材料103在按压模具时具有作为脱模剂的效果，在蛾眼结构形成后具有作为防污剂的效果。
接着，如图6(c)所示，对通过上述的方法制作的模具31的表面涂布脱模/防污材料103。通过对模具31涂布脱模/防污材料103，在转印后也能够容易使作为防污剂发挥功能的脱模/防污材料103残存在转印树脂101上。另外，通过预先在转印树脂101上涂布脱模/防污材料103，对模具31来说，能够一边供应脱模剂一边进行转印，因此，能够使模具31的耐用期间长期化。
接着，如图6(d)所示，将模具31按压于在表面上层叠有脱模/防污材料103的转印树脂101，照射紫外线使转印树脂101固化，将形成于模具31的纳米结构图案转印到转印树脂101。另外，通过该紫外线照射，使得脱模/防污材料103所包含的聚合性基团进行反应，在脱模/防污材料103与转印树脂101之间形成化学键合层102。通过以上的工序，完成防反射膜(图6(e))。
以上，说明了逐步(批)处理时的制造工序，但也能够如以下所示，进行流水线式的连续处理。图7是示出实施方式2的防反射膜的流水线式的制造工序的示意图。图7的制造工序(a)～(e)对应于图6的制造工序(a)～(e)。
首先，对基材100涂布转印树脂101(图7(a))，利用干燥炉使转印树脂101干燥。接着，对转印树脂101和模具31涂布脱模/防污材料103(图7(b)、(c))。然后，在利用干燥炉干燥后，进行紫外线照射，进行转印(图7(d))。通过该紫外线照射，使得脱模/防污材料103所包含的聚合性基团进行反应，形成化学键合层102。在流水线式的制造中，模具31使用辊型的模具。经过以上的工序，完成实施方式2的防反射膜(图7(e))。
(实施例1)
在实施例1中，通过实施方式1所涉及的制造方法，实际制作防反射膜。首先，准备基材，在该基材上涂布转印树脂，在80℃的加热板上使其干燥1分钟。转印树脂使用PAK01(东洋合成株式会社制造)。接着，对转印树脂进行表面改性。表面改性是通过使用电晕放电处理装置以40W·分/m2的放电量对树脂表面照射由高频电源激发的电晕放电而进行的。接着，对进行表面改性后的转印树脂的表面涂布脱模/防污材料，在80℃的加热板上使其干燥1分钟。脱模/防污材料使用佛劳劳萨夫(氟技术公司制造)。接着，对通过实施方式1中所述的方法制作的模具的表面涂布与涂布到转印树脂的表面的脱模/防污材料相同的脱模/防污材料(佛劳劳萨夫(氟技术公司制造))，将模具按压于转印树脂，以1.5J/m2的照度照射波长365nm的光，转印纳米结构图案。
(实施例2)
在实施例2中，通过实施方式2所涉及的制造方法，实际制作防反射膜。首先，准备基材，在该基材上涂布转印树脂，在80℃的加热板上使其干燥1分钟。转印树脂使用PAK01(东洋合成株式会社制造)。接着，对转印树脂的表面涂布作为脱模/防污材料的丙烯酸2-(全氟己基乙酯)(2－(パーフロロへキシルエチルアクリレート))的异丙醇(IPA)溶液，在70℃的加热板上使其干燥1分钟。接着，对通过与实施例1同样的方法制作的模具的表面涂布与涂布到转印树脂的表面的脱模/防污材料不同的脱模/防污材料(佛劳劳萨夫(氟技术公司制造))，将模具按压于转印树脂，以1.5J/m2的照度照射波长365nm的光，转印纳米结构图案。
(评价试验)
除了实施例1和实施例2的防反射膜以外，还制作比较例1和比较例2的防反射膜，对实施例1、实施例2、比较例1、比较例2的防反射膜的反射率和擦拭性进行了研究。另外，对实施例1、实施例2、比较例1、比较例2的制造所使用的模具的水对模具表面的接触角进行了研究。在比较例1中，使用表面通过SAM实施了脱模处理的模具，将蛾眼结构转印到转印树脂，其后，涂布脱模/防污材料(代芙力(大金公司制造))并使其干燥。在比较例2中，对转印树脂的表面涂布脱模/防污材料(佛劳劳萨夫(氟技术公司制造))并使其干燥，其后，使用未实施脱模处理的模具，将蛾眼结构转印到转印树脂。在比较例1和2中，使用通过实施方式1中所述的方法制作的模具。图8、9分别是比较例1、2的防反射膜的截面示意图。
表1是记录了实施例1、实施例2、比较例1、比较例2各自的反射率的表。反射率是使用CM2600d(柯尼卡美能达制造)以SCE模式进行测定的。
[表1]
| 反射率(SCE模式)(％) | |
| 实施例1 | 0.33 |
| 实施例2 | 0.33 |
| 比较例1 | 0.53 |
| 比较例2 | 0.32 |
在实施例1、实施例2、比较例2中，反射率为0.3％程度，得到了良好的结果。在比较例1中，反射率为0.53，与其它实施例和比较例相比，反射率较高。
在比较例1中，在将蛾眼结构转印到转印树脂后涂布防污剂，因此，可以想到如图8所示，脱模/防污材料43积存于凹部，基材40上的蛾眼结构的凸部的高度与不涂布脱模/防污材料43时相比变低。可以想到其结果是，蛾眼结构的特性受损，反射率上升了。
在实施例1、实施例2、比较例2中，在形成蛾眼结构前对转印树脂涂布脱模/防污材料，因此，可以想到没有液体积存，未观察到如比较例1那样的反射率的上升。
表2是记录了实施例1、实施例2、比较例1、比较例2各自的反复擦拭性的表。擦拭性是将转印树脂的表面用中性清洗剂反复擦拭10次，通过目视观察其后的转印树脂的表面上是否发生了成为反射不均的原因的脱模/防污材料的剥落而得到的。在对转印树脂的表面进行了擦拭后，将未发生擦拭不均的情况记为○，将发生了擦拭不均的情况记为×。
[表2]
| 擦拭性 | |
| 实施例1 | |
| 实施例2 | ○ |
| 比较例1 | × |
| 比较例2 | × |
在实施例1、实施例2中，在反复擦拭10次后也均未观察到擦拭不均，得到了良好的结果。另一方面，在比较例1、比较例2中，观察到了擦拭不均。
在比较例1中，在转印树脂上涂布有脱模/防污材料43，但未在转印树脂与脱模/防污材料43之间导入化学键，因此，可以想到当反复进行擦拭时，脱模/防污材料43被除去，从而观察到擦拭不均。在比较例2中，可以想到如图9所示，涂布到基材40上的转印树脂41上的脱模/防污材料43在转印后也很少量地残存在树脂上。但是，在与转印树脂41之间未导入化学键，因此，可以想到当反复进行擦拭时，残存的脱模/防污材料43被除去，从而观察到反射不均。
而另一方面，在实施例1中，在对树脂表面进行表面改性，提高对脱模/防污材料的反应性后，涂布包含具有氟烷基的硅氧烷化合物的材料，由此，在转印树脂与脱模/防污材料之间形成了-O-Si-O-键。另外，在实施例2中，脱模/防污材料使用包含具有聚合基的化合物的材料，通过紫外线照射，使转印树脂与脱模/防污材料进行了化学键合。在实施例1、2中，均在转印树脂与脱模/防污材料之间导入了化学键，因此，可以想到即使反复进行擦拭，也不会观察到反射不均。
表3是分别记录了实施例1、实施例2、比较例1、比较例2的制造所使用的模具的水对模具表面的接触角的表。比较了向转印树脂进行转印前和向转印树脂进行100次转印后的各自的水对模具表面的接触角。
[表3]
在实施例1、实施例2的制造所使用的模具中，即使在进行100次转印后，与转印前相比，水对模具表面的接触角也基本没有改变，转印前、100次转印后均得到了良好的结果。另一方面，在比较例1的制造所使用的模具中，100次转印后的水对模具表面的接触角与转印前相比大为下降。在比较例2的制造所使用的模具中，与实施例1、实施例2、比较例1相比，初始状态的水对模具表面的接触角明显低，100次转印后的水对模具表面的接触角比转印前变高了。
在比较例1的制造中，仅在转印前对模具进行脱模处理，在制造工序的中途不供应脱模/防污材料。因此，可以想到当反复进行转印时，脱模/防污材料从模具失掉，水的接触角下降了。在比较例2的制造中，在转印前对模具不进行脱模处理，因此，可以想到水对转印前的模具表面的接触角低，通过反复进行转印，在转印树脂上涂布的脱模/防污材料转移到模具，水对模具表面的接触角变高了。
而另一方面，在实施例1、实施例2的制造中，在转印树脂侧涂布有脱模/防污材料。该脱模/防污材料也具有作为脱模剂的功能，因此，可以想到在转印时，起到与对模具持续地供应脱模剂同样的效果。所以，可以想到即使反复进行转印，模具的脱模性也未受损，模具的凹部不易积存树脂，使得模具的耐用期间长期化了。
附图标记说明
10、40、100：基材
11、41、101：转印树脂
12、102：化学键合层
13、43、103：脱模/防污材料
14：官能基
20：多孔氧化铝层
21：Al基材
22a：具有台阶状的侧面的微细的凹部
31：模具(mold)
Claims (10)
1.一种防反射膜的制造方法，其特征在于，具有：
在基材上层叠转印树脂的工序；
对转印树脂表面涂布脱模/防污材料的工序；
对模具表面涂布脱模/防污材料的工序；以及
在对转印树脂表面和模具表面分别涂布脱模/防污材料后，将模具按压于转印树脂，从而将模具所具有的纳米结构图案转印到转印树脂的工序，
该纳米结构图案具有相邻的凹部的底点间的宽度为可见光波长以下的多个凹部，
上述防反射膜的制造方法包含在上述对转印树脂表面涂布脱模/防污材料的工序之前对转印树脂表面进行表面改性的工序，
上述对转印树脂表面进行表面改性的工序是通过从包括照射由高频电源激发的电晕放电的方法、进行臭氧处理的方法、照射短波长且渗透性小的准分子激光的方法以及进行等离子处理的方法的组中选出的至少1种方法进行的。
2.根据权利要求1所述的防反射膜的制造方法，其特征在于，
上述脱模/防污材料包含氟化合物。
3.根据权利要求1所述的防反射膜的制造方法，其特征在于，
上述对转印树脂表面进行表面改性的工序是将从包括-OH基、-COOH基以及-NH2基的组中选出的至少1种官能基导入到转印树脂表面的工序。
4.根据权利要求2所述的防反射膜的制造方法，其特征在于，
上述氟化合物为具有氟烷基的硅氧烷化合物。
5.根据权利要求1所述的防反射膜的制造方法，其特征在于，
包含：在上述对转印树脂表面涂布脱模/防污材料的工序之前对转印树脂表面进行表面改性的工序；以及
在进行表面改性后的转印树脂表面形成化学键合层的工序。
6.根据权利要求5所述的防反射膜的制造方法，其特征在于，
上述化学键合层包含-O-Si-O-键。
7.根据权利要求2所述的防反射膜的制造方法，其特征在于，
上述氟化合物为具有氟烷基和聚合性基团的化合物。
8.根据权利要求7所述的防反射膜的制造方法，其特征在于，
上述聚合性基团为丙烯酸酯基团和/或甲基丙烯酸酯基团。
9.根据权利要求7或8所述的防反射膜的制造方法，其特征在于，
上述将纳米结构图案转印到转印树脂的工序包含与将模具按压于转印树脂同时地进行紫外线照射的工序。
10.一种防反射膜的制造方法，其特征在于，具有：
在基材上层叠转印树脂的工序；
对转印树脂表面涂布脱模/防污材料的工序；
对模具表面涂布脱模/防污材料的工序；以及
在对转印树脂表面和模具表面分别涂布脱模/防污材料后，将模具按压于转印树脂，从而将模具所具有的纳米结构图案转印到转印树脂的工序，
该纳米结构图案具有相邻的凹部的底点间的宽度为可见光波长以下的多个凹部，
上述脱模/防污材料包含氟化合物，
上述氟化合物为具有氟烷基的硅氧烷化合物，
上述防反射膜的制造方法包含：在上述对转印树脂表面涂布脱模/防污材料的工序之前对转印树脂表面进行表面改性的工序；以及
在进行表面改性后的转印树脂表面形成化学键合层的工序。
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