WO2025070677A1

WO2025070677A1 - 赤外線吸収繊維および繊維製品

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Publication number: WO2025070677A1
Application number: PCT/JP2024/034547
Authority: WO
Inventors: 修平中倉; 佳輔町田
Original assignee: 住友金属鉱山株式会社
Priority date: 2023-09-29
Filing date: 2024-09-26
Publication date: 2025-04-03

Abstract

発明が解決しようとする課題は、赤外線吸収性能に優れた複合タングステン酸化物粒子を含む赤外線吸収繊維を提供することである。　本発明の赤外線吸収繊維は、繊維と、　前記繊維の内部および表面から選択された１以上の場所に配置された複合タングステン酸化物粒子と、を含み、　前記複合タングステン酸化物粒子は複合タングステン酸化物を含み、　前記複合タングステン酸化物は、一般式ＭｘＷｙＯｚ（０．２０≦ｘ／ｙ≦０．３７、２．２≦ｚ／ｙ≦３．３）で表わされ、　結晶系が六方晶であり、　前記複合タングステン酸化物粒子についての、［００１］入射からのＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像において、タングステン原子のＺコントラストが平均値の９５％以下に低下したスポットを個数割合で０．０１％以上１０％以下含む。

Description

赤外線吸収繊維および繊維製品

　本発明は、赤外線吸収繊維および繊維製品に関する。

　保温機能や発熱機能を備えた機能性の防寒衣料が提案されている。防寒効果を高める方法には、大別して３通りの方法がある。

　第一の方法は、人体から発生する熱の放散性を減少させて保温性を維持する方法である。

　第一の方法の具体的な手段として例えば防寒衣料において織り編みの構造を制御したり、用いられる繊維を中空や多孔質にしたりするなどして空気層を物理的に多くすることで人体から発生する熱の外部への放散性を減少させて保温性を維持する方法が挙げられる。

　第二の方法は、防寒衣料に含まれる繊維の化学的、物理的な特性を生かして繊維自体が蓄熱する方法である。

　第三の方法は、防寒衣料に含まれる繊維ヘ化学的・物理的な加工を施して、人体から発生する熱を再び人体へ向けて輻射したり、防寒衣料が受けた太陽光の一部を熱に変換したりするなどの積極的な方法により熱を蓄熱する方法である。

　第二の方法の一つとして、特許文献１にパラフィン系炭化水素の相転移潜熱を蓄熱に利用する技術が開示されている。

　第三の方法の一つとして、アルミナ系、ジルコニア系、マグネシア系等のセラミック粒子を繊維そのものに混練して、これらの無機微粒子が持つ遠赤外線放射効果や光を熱に変える効果を利用する方法や近赤外領域の吸収の高い染料を使用する方法が提案されている。すなわち積極的に外部のエネルギーを取り入れる方法が提案されている。

　例えば、特許文献２には、熱伝導率が０．３ｋｃａｌ／ｍ^２・ｓｅｃ・℃以上の金属および金属イオンの少なくとも１種を含有させた熱線放射特性を有する無機微粒子の１種または２種以上を含有することを特徴とする熱線放射性繊維が開示されている。

　特許文献３には、近赤外線領域の吸収が黒色染料よりも大きい特性を持つ染料と他の染料を組み合わせて染色することにより、近赤外線吸収程度として、７５０から１５００ｎｍの範囲内で生地の分光反射率が、６５％以下であるセルロース系繊維構造物の近赤外線吸収加工方法が開示されている。近赤外線領域の吸収が黒色染料よりも大きい染料としては、直接染料、反応染料、ナフトール染料、バット染料が開示されている。

　特許文献４において、本出願人は、繊維の内部に近赤外線吸収特性を有する超微粒子を含有する近赤外線吸収繊維であって、
　前記近赤外線吸収特性を有する超微粒子は、複合タングステン酸化物超微粒子であり、
　前記複合タングステン酸化物超微粒子は、シリコン粉末標準試料（ＮＩＳＴ製、６４０ｃ）の（２２０）面のＸＲＤピーク強度の値を１としたとき、ＸＲＤピークトップ強度の比の値が０．１３以上である複合タングステン酸化物超微粒子である、ことを特徴とする近赤外線吸収繊維や当該繊維を用いた繊維製品の技術を提案している。

　ところで、自然光を光源としてＣＣＤカメラ等で人体を撮影すると、自然光に含まれる赤外線により衣類を透過した状態で人体が撮影されることから、近年、上記現象を利用した犯罪行為、いわゆる盗撮が社会問題となっている。この問題を解決するため、赤外線を吸収または反射する赤外線遮蔽繊維を製造し、この赤外線遮蔽繊維を加工して成る衣類（赤外線遮蔽繊維構造物）が開発されている。

　例えば、特許文献５には、アントラキノン系、インジゴ系、ベンゾキノン系、ナフトキノン系もしくはフタルシアニン系から選ばれた赤外線吸収剤を芯鞘型合成繊維に付着させてなる編地が開示されている。

日本国特開２０１８―１３５６０５号公報日本国特開平１１－２７９８３０号公報日本国特開平９－２９１４６３号公報国際公開第２０１８／２３５８３９号日本国特開２００８－２２３１７１号公報

　ところで、赤外線吸収繊維については、いわゆる盗撮を防止する観点から赤外光による透過や反射を防止しつつも、繊維の風合い等を損ねないように、赤外線吸収粒子の含有量を抑制することが求められる。このため、赤外線吸収性能に優れた赤外線吸収粒子を含有する赤外線吸収繊維が求められている。

　そこで、本発明の一側面では、赤外線吸収性能に優れた複合タングステン酸化物粒子を含む赤外線吸収繊維を提供することを目的とする。

　本発明の一側面では、繊維と、
　前記繊維の内部および表面から選択された１以上の場所に配置された複合タングステン酸化物粒子と、を含み、
　前記複合タングステン酸化物粒子は複合タングステン酸化物を含み、
　前記複合タングステン酸化物は、一般式Ｍ_ｘＷ_ｙＯ_ｚ（但し、Ｍ元素は、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素、希土類元素、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｂｅ、Ｈｆ、Ｏｓ、Ｂｉ、Ｉのうちから選択される１種類以上の元素、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、０．２０≦ｘ／ｙ≦０．３７、２．２≦ｚ／ｙ≦３．３）で表わされ、
　結晶系が六方晶であり、
　前記複合タングステン酸化物粒子についての、［００１］入射からのＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像において、タングステン原子のＺコントラストが平均値の９５％以下に低下したスポットを個数割合で０．０１％以上１０％以下含む、赤外線吸収繊維を提供する。

　本発明の一側面では、赤外線吸収性能に優れた複合タングステン酸化物粒子を含む赤外線吸収繊維を提供できる。

図１は、本実施形態の複合タングステン酸化物粒子の製造方法に好適に用いることができる複合材料製造装置の模式図である。図２は、還元処理工程で用いた還元処理装置の説明図である。図３は、赤外線吸収粒子分散液の模式図である。図４は、赤外線吸収繊維の模式図である。図５は、［００１］入射で観察した複合タングステンブロンズの結晶構造の模式図である。図６は、実施例１で得られた複合タングステン酸化物粒子のＸＲＤパターンである。図７Ａは、実施例１で得られた複合タングステン酸化物粒子のＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像である。図７Ｂは、実施例１で得られた複合タングステン酸化物粒子のＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像である。図８Ａは、図７ＢにおけるラインＬ１におけるタングステン原子のＺコントラストを定量化したラインプロファイルである。図８Ｂは、図７ＢにおけるラインＬ２におけるタングステン原子のＺコントラストを定量化したラインプロファイルである。図８Ｃは、図７ＢにおけるラインＬ３におけるタングステン原子のＺコントラストを定量化したラインプロファイルである。図８Ｄは、図７ＢにおけるラインＬ４におけるタングステン原子のＺコントラストを定量化したラインプロファイルである。図８Ｅは、図７ＢにおけるラインＬ５におけるタングステン原子のＺコントラストを定量化したラインプロファイルである。図８Ｆは、図７ＢにおけるラインＬ６におけるタングステン原子のＺコントラストを定量化したラインプロファイルである。図９Ａは、比較例１で得られた複合タングステン酸化物粒子のＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像である。図９Ｂは、比較例１で得られた複合タングステン酸化物粒子のＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像である。図１０Ａは、比較例１で得られた複合タングステン酸化物粒子のＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像である。図１０Ｂは、比較例１で得られた複合タングステン酸化物粒子のタングステン原子のＺコントラストを定量化したラインプロファイルである。図１０Ｃは、比較例１で得られた複合タングステン酸化物粒子のタングステン原子のＺコントラストを定量化したラインプロファイルである。図１０Ｄは、比較例１で得られた複合タングステン酸化物粒子のタングステン原子のＺコントラストを定量化したラインプロファイルである。図１１Ａは、実施例１に係る近赤外線吸収粒子分散液の透過光プロファイルである。図１１Ｂは、比較例１に係る近赤外線吸収粒子分散液の透過光プロファイルである。図１２Ａは、実施例１に係る複合タングステン酸化物粒子についての、［１１０］入射からのＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像である。図１２Ｂは、実施例１に係る複合タングステン酸化物粒子についての、［１１０］入射からのＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像である。図１３は、図１２ＢのＷ原子とＣｓ原子の配置を模式的に示した図である。図１４Ａは、実施例１で得られた複合タングステン酸化物粒子のＷ原子のＸＰＳスペクトルである。図１４Ｂは、比較例１で得られた複合タングステン酸化物粒子のＷ原子のＸＰＳスペクトルである。図１５Ａは、実施例１で得られた複合タングステン酸化物粒子のモル吸光係数曲線である。図１５Ｂは、比較例１で得られた複合タングステン酸化物粒子のモル吸光係数曲線である。図１６Ａは、実施例１で得られた盗撮防止評価用ニット生地の反射率である。図１６Ｂは、比較例１で得られた盗撮防止評価用ニット生地の反射率である。

　本開示の一実施形態（以下「本実施形態」と記す）に係る赤外線吸収繊維、繊維製品の具体例を、以下に図面を参照しつつ説明する。なお、本発明はこれらの例示に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。

　赤外線吸収繊維について説明する前に、本実施形態の赤外線吸収繊維が含有する複合タングステン酸化物粒子について説明する。
［複合タングステン酸化物粒子］
　複合タングステン酸化物粒子は、複合タングステン酸化物を含む。なお、複合タングステン酸化物粒子は、複合タングステン酸化物から構成されていても良いが、この場合でも不可避不純物を含有することを排除するものではない。

　上記複合タングステン酸化物は、一般式Ｍ_ｘＷ_ｙＯ_ｚで表わされる。

　但し、上記一般式中のＭ元素は、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素、希土類元素、Ｍｇ（マグネシウム）、Ｚｒ（ジルコニウム）、Ｃｒ（クロム）、Ｍｎ（マンガン）、Ｆｅ（鉄）、Ｒｕ（ルテニウム）、Ｃｏ（コバルト）、Ｒｈ（ロジウム）、Ｉｒ（イリジウム）、Ｎｉ（ニッケル）、Ｐｄ（パラジウム）、Ｐｔ（白金）、Ｃｕ（銅）、Ａｇ（銀）、Ａｕ（金）、Ｚｎ（亜鉛）、Ｃｄ（カドミウム）、Ａｌ（アルミニウム）、Ｇａ（ガリウム）、Ｉｎ（インジウム）、Ｔｌ（タリウム）、Ｓｉ（シリコン）、Ｇｅ（ゲルマニウム）、Ｓｎ（スズ）、Ｐｂ（鉛）、Ｓｂ（アンチモン）、Ｂ（ホウ素）、Ｆ（フッ素）、Ｐ（リン）、Ｓ（硫黄）、Ｓｅ（セレン）、Ｂｒ（臭素）、Ｔｅ（テルル）、Ｔｉ（チタン）、Ｎｂ（ニオブ）、Ｖ（バナジウム）、Ｍｏ（モリブデン）、Ｔａ（タンタル）、Ｒｅ（レニウム）、Ｂｅ（ベリリウム）、Ｈｆ（ハフニウム）、Ｏｓ（オスミウム）、Ｂｉ（ビスマス）、Ｉ（ヨウ素）のうちから選択される１種類以上の元素とすることができる。また、Ｗはタングステン、Ｏは酸素を表し、ｘ、ｙ、ｚはそれぞれ、０．２０≦ｘ／ｙ≦０．３７、２．２≦ｚ／ｙ≦３．３を満たすことが好ましい。

　なお、アルカリ金属元素としては、Ｌｉ（リチウム）、Ｎａ（ナトリウム）、Ｋ（カリウム）、Ｒｂ（ルビジウム）、Ｃｓ（セシウム）、Ｆｒ（フランシウム）が挙げられる。アルカリ土類金属元素としては、Ｃａ（カルシウム）、Ｓｒ（ストロンチウム）、Ｂａ（バリウム）、Ｒａ（ラジウム）が挙げられる。希土類元素としては、Ｓｃ（スカンジウム）、Ｙ（イットリウム）、Ｌａ（ランタン）、Ｃｅ（セリウム）、Ｐｒ（プラセオジム）、Ｎｄ（ネオジム）、Ｐｍ（プロメチウム）、Ｓｍ（サマリウム）、Ｅｕ（ユウロピウム）、Ｇｄ（ガドリニウム）、Ｔｂ（テルビウム）、Ｄｙ（ジスプロシウム）、Ｈｏ（ホルミウム）、Ｅｒ（エルビウム）、Ｔｍ（ツリウム）、Ｙｂ（イッテルビウム）、Ｌｕ（ルテチウム）が挙げられる。

　また、該複合タングステン酸化物の結晶系は、六方晶となる。

　そして、複合タングステン酸化物粒子は、複合タングステン酸化物粒子についての［００１］入射からのＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像において、タングステン原子のＺコントラストが平均値の９５％以下に低下したスポットを個数割合で０．０１％以上１０％以下含む。
（１）組成について
　複合タングステン酸化物粒子に含まれる複合タングステン酸化物は、上述のように一般式Ｍ_ｘＷ_ｙＯ_ｚで表記される。式中のＭ元素、Ｗ、Ｏ、およびｘ、ｙ、ｚについては既述のため、ここでは説明を省略する。

　複合タングステン酸化物は、例えば正方晶、立方晶、および六方晶から選択された１種類以上のタングステンブロンズ型の結晶構造をとることができる。そして、本実施形態の複合タングステン酸化物粒子が含有する複合タングステン酸化物は、六方晶である。

　複合タングステン酸化物が六方晶の結晶構造を有する場合、当該粒子の可視光線領域の透過が向上し、近赤外線領域の光の吸収が向上する。

　複合タングステン酸化物が正方晶、立方晶のタングステンブロンズ型の結晶構造をとるときも赤外線遮蔽材料として機能する。ただし、当該複合タングステン酸化物がとる結晶構造によって、近赤外線領域の光の吸収位置が変化する傾向がある。この近赤外線領域の光の吸収位置は、立方晶よりも正方晶のときが長波長側に移動し、さらに六方晶のときは正方晶のときよりも長波長側に移動する傾向がある。また、当該吸収位置の変動に付随して、可視光線領域の光の吸収は六方晶が最も少なく、次に正方晶が少なく、立方晶はこれらの中では可視光線領域の光の吸収が最も大きい。よって、より可視光線領域の光を透過して、より赤外線領域の光を遮蔽する用途には、六方晶のタングステンブロンズ型の結晶構造を有する複合タングステン酸化物を用いることが好ましい。

　上述のように、複合タングステン酸化物が六方晶の結晶構造を有する場合、複合タングステン酸化物粒子の可視光線領域の光の透過率、および近赤外線領域の光の吸収が特に向上する。このため、複合タングステン酸化物粒子は、六方晶の結晶構造の複合タングステン酸化物を含むことが好ましい。そして、Ｍ元素にＣｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｔｌ、Ｂａ、Ｉｎから選択された１種類以上を用いると六方晶を形成し易くなる。このため、Ｍ元素はＣｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｔｌ、Ｂａ、Ｉｎから選択された１種類以上を含むことが好ましく、Ｍ元素はＲｂ、Ｃｓから選択された１種類以上の元素を含むことがより好ましい。

　ここで、複合タングステン酸化物が六方晶の結晶構造を有する場合のＭ元素の配置を説明する。

　Ｗ（タングステン）原子と、６つのＯ（酸素）原子と、を単位として形成される八面体、すなわち頂点にＯ原子を配し、中央部にＷ原子を配した八面体が、６個集合することでＯ原子より構成される六角形の空隙（トンネル）が形成される。そして、当該空隙中に、Ｍ元素が配置されて１つの単位を構成し、この１つの単位が多数集合して六方晶の結晶構造を構成する。

　六方晶の結晶構造を有する複合タングステン酸化物が均一な結晶構造を有するとき、Ｗに対するＭ元素の物質量比は、０．２０≦ｘ／ｙ≦０．３７であり、０．２５≦ｘ／ｙ≦０．３７が好ましく、０．３０≦ｘ／ｙ≦０．３６がより好ましい。理論上、ｚ／ｙ＝３の時、ｘ／ｙの値が０．３３となることで、Ｍ元素が六角形の空隙の全てに配置されると考えられる。なお、上記ｘ、ｙ、ｚは、既述の一般式Ｍ_ｘＷ_ｙＯ_ｚにおけるｘ、ｙ、ｚを意味しており、以下同様である。

　複合タングステン酸化物は、三酸化タングステン（ＷＯ_３）にＭ元素を添加した組成を有している。三酸化タングステンでは有効な自由電子を含まないため、１モルのタングステンに対する酸素の割合を３未満にしないと赤外線吸収効果を発揮することはできない。しかしながら、複合タングステン酸化物では、Ｍ元素を添加することで自由電子を生じ、赤外線吸収効果を得ることができる。このため、１モルのタングステンに対する酸素の割合は３以下とすることができる。また、１モルのタングステンに対する酸素の割合は３を超えても良い。ただし、ＷＯ_２の結晶相は可視光線領域の光について吸収や散乱を生じさせ、近赤外線領域の光の吸収を低下させる恐れがある。このため、ＷＯ_２の生成を抑制する観点から、１モルのタングステンに対する酸素の割合は２より大きくすることが好ましい。

　従って、１モルのタングステンに対する酸素の割合であるｚ／ｙは、上述のように２．２≦ｚ／ｙ≦３．３を満たすことが好ましい。
（２）平均粒径について
　本実施形態の複合タングステン酸化物粒子を例えば透明性を保持することが要求される用途に使用する場合、該複合タングステン酸化物粒子は、８００ｎｍ以下の平均粒径を有していることが好ましい。これは、平均粒径が８００ｎｍ以下の粒子は、散乱により光を完全に遮蔽することがなく、可視光線領域の視認性を高く保持し、同時に効率良く透明性を保持することができるからである。特に可視光線領域の透明性を重視する場合は、さらに粒子による可視光線領域の光の散乱を考慮することが好ましい。

　係る粒子による可視光線領域の光の散乱の低減を重視するとき、平均粒径は２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。

　これは、平均粒径が小さければ、光が散乱することを抑制することができ、可視光領域での意図しない光沢や、強度に波長依存性のある光散乱（レイリー散乱）による意図しない色調の発生を抑制することができるためである。

　また、本実施形態の複合タングステン酸化物粒子を繊維に練り込む工程で粗大な粒子が存在すると、紡糸の際に糸が切断されてしまう恐れがある。係る観点からも、複合タングステン酸化物粒子の粒径を低減することが好ましい。

　従って、本実施形態の複合タングステン酸化物粒子は、平均粒径が８００ｎｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。本実施形態の複合タングステン酸化物粒子の平均粒径の下限値は特に限定されないが、例えば１ｎｍ以上とすることが好ましく、５ｎｍ以上とすることがより好ましく、１０ｎｍ以上とすることがより好ましい。

　以上の理由から、複合タングステン酸化物粒子の平均粒径は、１ｎｍ以上８００ｎｍ以下とすることが好ましく、５ｎｍ以上２００ｎｍ以下とすることがより好ましく、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下とすることがより好ましく、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることがさらに好ましい。

　複合タングステン酸化物粒子の平均粒径は、透過型電子顕微鏡像から各複合タングステン酸化物粒子の粒径を測定し、算出する。具体的には、１視野に２００個以上の複合タングステン酸化物粒子を含む倍率で３視野を選択し、各視野内で複合タングステン酸化物粒子の像を二値化し、画像解析で平均粒径を算出する。なお、１視野内の複合タングステン酸化物粒子の個数の上限は特に限定されないが、例えば１視野内に５００個以下の複合タングステン酸化物粒子を含むように倍率を選択してもよい。また、３視野内の全ての複合タングステン酸化物粒子を評価の対象としてもよいが、例えば３視野の合計で５００個以上８００個以下の粒子を選択してもよく、６００個以上７００個以下の粒子を選択してもよい。

　具体的には、各複合タングステン酸化物粒子の面積から円換算径を算出し、複合タングステン酸化物粒子の粒径とする。そして、評価を行った全ての複合タングステン酸化物粒子の粒径を足し合わせ、評価を行った粒子の数で割ることで平均粒径を算出できる。すなわち、評価を行った複合タングステン酸化物粒子の粒径の加算平均値を平均粒径とすることができる。
（３）複合タングステン酸化物粒子のタングステン原子の原子番号（Ｚ）コントラスト
　本実施形態の複合タングステン酸化物粒子は、［００１］入射からのＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像（ＳＴＥＭ－Ｈｉｇｈ－Ａｎｇｌｅ　Ａｎｎｕｌａｒ　Ｄａｒｋ　Ｆｉｅｌｄ）において、タングステン原子の原子番号（Ｚ）コントラスト（以下、「Ｚコントラスト」とも記載する）における暗部を個数割合で０．０１％以上１０％以下含むことが好ましく、０．１％以上１０％以下含むことがより好ましく、０．２％以上１０％以下含むことさらに好ましい。なお、複合タングステン酸化物粒子の［００１］入射からのＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像は、複合タングステン酸化物の基底面を観察している像である。

　本発明の発明者の検討によれば、複合タングステン酸化物粒子は、ＸＲＤパターン等では把握することが困難な、微量の酸素欠損を適度に有することで、可視光透過性能と赤外線遮蔽性能とを特に高めることができる。

　そして、複合タングステン酸化物粒子が、タングステン原子（以下、「Ｗ原子」のようにも記載する）のＺコントラストにおける暗部を１０％以下含むことで、Ｗ欠損領域の周囲に残留したＷを酸化させ、酸素欠損量を過度にならない程度に含有できる。また、複合タングステン酸化物粒子が、Ｗ原子のＺコントラストにおける暗部を０．０１％以上含むことで、酸素欠損を適度に導入できるためである。

　複合タングステン酸化物粒子のＷ原子のＺコントラストにおける暗部は、Ｗ原子の欠損を示す。Ｗ原子のＺコントラストによる暗部とは、複合タングステン酸化物粒子についてのＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像の観察視野に含まれるＷ原子のＺコントラストの平均値を基準値として、Ｗ原子のＺコントラストが基準値の９５％以下に低下したスポット（点）を意味する。

　ＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像の観察に当たっては、分散した複合タングステン酸化物粒子のうち、［００１］入射で観察できる粒子であり、数十ｎｍ以上のサイズの粒子を選択できる。そして、Ｗ原子スポットのコントラストを抽出するには、その観察視野のサイズが２０ｎｍ角以上５０ｎｍ角以下となるようにして観察できる。

　図５に六方晶Ｃｓ_０．３３ＷＯ_３の（００１）面の結晶構造とＷ原子／Ｗ原子列（以下、「Ｗ／Ｗ列」のようにも記載する）の関係を示す。図７Ａ、図７Ｂに実施例１で得られたＣｓ_０．３３ＷＯ_３粒子のＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像を示す。また、図８Ａ～図８Ｆに、図７Ｂに示したラインＬ１～ラインＬ６でのＷ原子／Ｗ原子列のＷ原子のＺコントラストを示す。

　Ｗ原子のＺコントラストの暗部が確認された箇所のスポットは、図７Ｂの点Ｐ１、点Ｐ２のようにコントラストが弱くなっていて、それらのスポットはＷ原子の欠損を意味する。なお、図７Ｂにおいて、Ｐ１等の符号を付した矢印の先端部が上記暗部の点を意味している。

　Ｗ原子のＺコントラストは、試料を走査型透過電子顕微鏡で高角度散乱暗視野（ＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ）観察した際、試料を透過した電子のうち、散乱角の大きな透過電子のみを検出して得られた像（ＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ）から知ることができる。ここで、散乱角の大きさは原子番号（Ｚ）の２乗に比例するため、原子番号が大きな元素ほど明るいコントラストとなる。そのため、組成や元素の違いによるコントラストを得ることができる。なお、複合タングステンブロンズの場合、Ｃｓ等のＭ元素と、Ｗ原子と、をコントラストの違いにより識別することが可能である。

　本実施形態では、Ｗ原子の欠損箇所と非欠損箇所を判別するためにＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像における、タングステンが配置されたスポット（点）であるタングステンカラム（Ｗカラム）でのコントラスト強度の違いを利用している。Ｗ原子が欠損していれば、該スポットにおいて、Ｚコントラストの最大値が減少する。六方晶Ｃｓ_０．３３ＷＯ_３の（００１）面でのＷ原子の欠損サイトは、Ｗ原子／Ｗ原子列のＷ原子が配置されたスポットにおけるＺコントラストの平均値よりも低いコントラストで示される。該スポットは、（００１）方向に柱状に伸長したＷ原子の欠損領域を形成している。最も大きい箇所では（００１）方向に１０ｎｍ以上に広がっている。（００１）面では５ｎｍ以上で連通するＷ原子の欠損は確認されない。

　本実施形態の複合タングステン酸化物粒子が合成される過程から、複合タングステン酸化物粒子についての、［００１］入射からのＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像で、Ｗ原子のＺコントラストが確認されることを説明する。

　六方晶の複合タングステン酸化物の（００１）面について、結晶構造から説明する。図５に示すように、Ｗ原子５１と、６つのＯ原子５２とを単位として形成される八面体５４、すなわち頂点にＯ原子を配し、中央部にＷ原子５１を配した八面体５４が、６個集合することでＯ原子５２より構成される六角形の空隙（トンネル）５５が形成される。なお、図５において同じハッチングの丸は、同じ原子であることを意味する。

　そして、Ｏ原子５２より構成される六角形の空隙５５中に、Ｍ元素５３が配置されて１つの単位を構成する。さらに、この１つの単位が多数集合して六方晶の結晶構造を構成する。六角形の空隙５５は（００１）面に平行である。また、（００１）面はｃ軸に垂直である。（００１）面を観察することでＭ元素５３とＷ原子５１の違いを結晶学的に区別することができる。

　本実施形態の複合タングステン酸化物粒子としてＣｓ_０．３３ＷＯ_３粒子を例に合成される過程の粒子の結晶構造の変化を説明する。本実施形態の複合タングステン酸化物粒子は、後述するように、原料調製工程、エアロゾル形成工程、熱処理工程、還元処理工程を経て製造される。エアロゾル形成工程でエアロゾル化した原料を、熱処理工程で５００℃以上に急激に加熱して、短時間の加熱で原料を複合タングステン酸化物に変化させる反応を進行させる。そして、加熱後に急激に冷却し、原料が複合タングステン酸化物に変化する反応を停止させる。熱処理工程を経て得られる複合タングステン酸化物粒子は、六方晶（Ｃｓ_０．３３ＷＯ_３）と異相（Ｃｓ_４Ｗ_１１Ｏ_３５、（Ｃｓ_２Ｏ）_０．４４ＷＯ_６など）を含んでいる。複合タングステン酸化物粒子のＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像観察からは、多量のＷ原子の欠損を含んでいることを確認できる。このＷ原子の欠損箇所はＣｓ過剰領域となっており異相の形成に寄与する。

　熱処理工程を経て得られた、異相を含む複合タングステン酸化物粒子は、酸素を供給しない還元処理工程で、Ｍ元素であるＣｓ原子、Ｗ原子、Ｏ原子の再配列がされる。原子が再配列されることにより、［００１］入射からのＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像観察においてＷ原子のＺコントラストに暗部が観察される複合タングステン酸化物粒子に変化する。そして、還元処理工程を経た複合タングステン酸化物粒子の［００１］入射からのＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像におけるＷ原子のＺコントラストにおける暗部は、上述の異相やＷ原子の欠損の痕跡と推定される。

　一方、後述する比較例１で示すように、原料をエアロゾル化することなく、還元雰囲気下で上記実施例１に比べて長い時間加熱して複合タングステン酸化物粒子を合成する場合、雰囲気や加熱条件を調整すると六方晶の単相の複合タングステン酸化物粒子が得られる。原料をエアロゾル化することなく調製した複合タングステン酸化物粒子は、比較例１の評価結果である図９Ｂに示されるように、［００１］入射からのＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像を観察してもＷ原子のＺコントラストにおける暗部を確認することはほぼない。

　本実施形態の複合タングステン酸化物粒子は、該複合タングステン酸化物粒子についての、［１１０］入射からのＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像（プリズム面）において、ｃ軸に垂直な方向に欠損面を有することもできる。

　上記欠損面は、Ｗ原子の欠損により生じる。さらには、ｃ軸方向にセシウム等のＭ元素の原子とＷ原子とが存在しない空間が存在することがある。

　図１２Ａ、図１２Ｂは、実施例１に係る複合タングステン酸化物粒子についての、［１１０］入射からのＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像である。図１２Ａでは、ｃ軸に垂直方向に長さ約３０ｎｍのＷ原子の欠損に起因する基底面の欠損である欠損面１２１が存在することが確認された。また、ｃ軸方向に長さ約３ｎｍのＣｓ原子とＷ原子が存在しない空間１２２が存在することが確認された。

　図１２Ｂは図１２Ａを拡大した図である。基底面の欠損である欠損面１２１およびｃ軸方向に沿ったＣｓ、Ｗの存在しない空間１２２は、熱処理工程においてＣｓ、Ｗ原子が結晶内を再配列した際に、結晶化した領域の界面として残留したと考えられる。

　さらに、ｃ軸に垂直方向に長さ約３０ｎｍのＷ原子の欠損に起因する欠損面１２１を挟んで、１／４周期で結晶構造がずれた歪んだ構造あることが確認された。図１３は、図１２Ａ、図１２ＢのＷ原子とＣｓ原子の配置を模式的に示した図である。

　本実施形態の複合タングステン酸化物粒子では、上述の通り、還元処理工程の前のＷ原子の欠損の痕跡と推定される［００１］入射からのＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像におけるＷ原子のＺコントラストにおける暗部が観察される。合成される過程の還元処理工程の前における本実施形態の複合タングステン酸化物粒子は、多量のＷ原子の欠損を含んでいることを確認できる。このＷ原子の欠損箇所はＣｓ過剰領域となっており、六方晶以外の異相の形成に寄与する。そして、還元処理工程でＷ原子の再配列が生じ、六方晶構造を取る際に、ｃ軸に垂直な方向に欠損面、すなわち基底面（００１）の欠損が生じることがある。これらの欠損が存在することで、還元処理工程での六方晶構造を維持するＷ原子の再配列が進むものと考えられる。六方晶を維持しようとするＷ原子の再配列の過程で、プリズム面にＷ原子の欠損（欠損面）を生じさせて、欠損が生じていない箇所における六方晶構造を維持するものと考えられる。

　上述の通り、六方晶の複合タングステン酸化物において、理論上、ｚ／ｙ＝３の時、ｘ／ｙの値が０．３３となることで、Ｍ元素が最も多く配置されると考えられる。なお、上記説明や、以下の説明におけるｘ、ｙ、ｚは既述の複合タングステン酸化物粒子の一般式中のｘ、ｙ、ｚを意味する。Ｗ元素に対するＭ元素の物質量比は、０．２０≦ｘ／ｙ≦０．３７の範囲であり、０．２５≦ｘ／ｙ≦０．３７が好ましく、０．３０≦ｘ／ｙ≦０．３６がより好ましい。Ｍ元素の物質量比が０．２０≦ｘ／ｙ≦０．３７の範囲であれば、Ｗ原子の再配列で、プリズム面に欠損を生じさせることはあっても、六方晶構造を維持しつつ、赤外線吸収特性に優れた複合タングステン酸化物粒子とすることができる。ｘ／ｙが例えば０．２０未満の場合のように、Ｍ元素が少ないと六方晶構造を形成しにくく、六方晶構造を形成したとしても、Ｗ原子の５ｄ軌道に供給される自由電子が少なく、赤外線吸収特性が劣ることとなる。

　一方、Ｗ元素に対するＭ元素の物質量比（ｘ／ｙ）が０．３７より大きい場合は、Ｍ元素が過剰となり、プリズム面のほか、基底面にもＷ原子の欠損が多く発生し、また、六方晶以外にもパイロクロア相などの異相が生じ、赤外線吸収特性が劣ることになる。基底面でのこの欠損は、（００１）方向の長さが１０ｎｍ以上の面状または帯状の欠損である。

　本発明の発明者の検討によれば、Ｗ元素に対するＭ元素の物質量比（ｘ／ｙ）が０．３７より大きい複合タングステン酸化物粒子の［００１］入射からのＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像（基底面の像）では、帯状の欠損として観察される。この帯状の欠損は、ｃ軸に平行なＷ原子の面状の欠損である。この現象は、Ｍ元素の原子の数がＷ原子の数に対して過剰なため生じる現象である。過剰なＭ元素の原子に起因してＷ原子の再配列の過程で六方晶の他、パイロクロア相などの異相が発生するほか、複合タングステン酸化物粒子の基底面にも、長さ１０ｎｍを超える帯状のＷ原子の欠損が発生する。長さ１０ｎｍ以上のＷ原子の欠損領域が形成されると欠損領域が周期的に形成されはじめ、パイロクロア相等の異相が安定化すると考えられる。
　なお、工業的に本実施形態の複合タングステン酸化物粒子を合成する場合、後述する原料調製工程でＭ元素源とＷ元素源の配合に偏りが生じることがある。この場合、一部でＭ元素とＷ元素の物質量比（ｘ／ｙ）が０．３７より大きくなり、得られた複合タングステン酸化物粒子の一部の粒子の基底面に長さ１０ｎｍを超える帯状のＷ原子欠損が生じている場合がある。しかし、このような欠損が生じた粒子の占める個数割合が２０％未満なら、赤外線吸収特性が劣ることはない。
（４）複合タングステン酸化物粒子のＸＰＳによる評価について
　赤外線を吸収する複合タングステン酸化物粒子のＷ原子は酸素空孔に起因するＷ^５＋と、Ｗ^６＋の電子状態をとる。そして、ＸＰＳスペクトルのＷ原子の４ｆ軌道の強度をＷ^６＋とＷ^５＋に起因する強度に分離することで、酸化状態について評価できる。本実施形態の複合タングステン酸化物粒子の一例である実施例１に係る複合タングステン酸化物粒子は、ＸＰＳスペクトルを分離することで、比較例１に挙げた固相法で合成した複合タングステン酸化物粒子よりも酸化状態が進んでいることを確認できる。

　図１４Ａは、実施例１に係るセシウムタングステン複合酸化物粒子のＸＰＳによるＷ原子の４ｆプロファイルである。また、図１４Ｂは、比較例１に係るセシウムタングステン複合酸化物粒子のＸＰＳによるＷ原子の４ｆプロファイルである。

　六方晶のセシウムタングステン複合酸化物では、Ｗ^６＋は、束縛エネルギー３４ｅＶ～３６ｅＶの範囲に４ｆ_７／２のピークと、束縛エネルギー３６ｅＶ～３８ｅＶの範囲に４ｆ_５／２のピークと、を有する。Ｗ^５＋は、束縛エネルギー３２ｅＶ～３４ｅＶの範囲に４ｆ_７／２のピークと、束縛エネルギー３５ｅＶ～３７ｅＶの範囲に４ｆ_５／２のピークと、を有する。

　この知見を基に、Ｗ４ｆ_７／２とＷ４ｆ_５／２のピーク間隔を２．１８ｅＶに、ピーク面積比を０．７５に固定し、ガウス分布やローレンツ分布を当てはめて最小二乗法で測定されたプロファイルにフィッティングすることで、ＸＰＳのピーク分離を実施できる。ＸＰＳのＷ^６＋とＷ^５＋との強度の合計に対するＷ^５＋の占める強度の割合を知ることで、複合タングステン酸化物粒子のＷ原子の酸化状態が分かる。なお、ピーク分離に際しては、プロファイルのバックグラウンドを除去し、Ｗ４ｆ_７／２とＷ４ｆ_５／２の半値幅を一致させた。

　実施例１に係る複合タングステン酸化物粒子は、Ｗ^６＋とＷ^５＋強度の合計に対するＷ^５＋の占める割合が２４．９％であるの対し、比較例１に係る複合タングステン酸化物粒子は、２５．９６％であった。ＸＳＰのＷ^６＋とＷ^５＋強度の分離により、図１４Ａにプロファイルを示した実施例１の複合タングステン酸化物粒子は、図１４Ｂに示した比較例１の複合タングステン酸化物粒子よりもＷ^５＋の割合が少なく、すなわちＷ^６＋の割合が多いので、より酸化が進んでいることを意味する。

　実施例１において、Ｗ^５＋が少なく、酸化が進んでいる理由は、図７Ａ、図７Ｂもしくは図１２Ａ、図１２Ｂに示したようにｃ軸方向もしくは基底面方向に形成したＷ欠損の存在により結晶中のＷ原子は酸素と結合して安定化したためと推察される。

　上記例は一例ではあるが、既述のように、本実施形態の複合タングステン酸化物粒子は、原料をエアロゾル化した後、熱処理等を行って製造することができる。係る原料のエアロゾル化を伴った製造方法により製造した複合タングステン酸化物粒子は、従来から知られている固相法で合成し、粉砕等して得られた複合タングステン酸化物粒子よりも酸化が進んでいる傾向を有する。
（５）複合タングステン酸化物粒子の局在表面プラズモン吸収、ポーラロン吸収のピーク分離および積算強度
　本実施形態の複合タングステン酸化物粒子では、酸化状態が、光学特性に影響している。複合タングステン酸化物粒子の分散液の分光光度計による吸光曲線からモル吸光係数曲線を検討する。吸光曲線での吸光の原因は、粒子の局在表面プラズモン吸収とポーラロン吸収であり、これらの吸収が合わさった結果、吸光曲線となる。

　複合タングステン酸化物の場合、局在表面プラズモン吸収は、ｃ軸に対する異方性を示す。具体的には、複合タングステン酸化物粒子の場合、局在表面プラズモン吸収は、ｃ軸に垂直な方位の局在表面プラズモン共鳴の吸収（ＬＳＰＲ⊥）と、ｃ軸に平行な方位の局在表面プラズモン共鳴の吸収（ＬＳＰＲ／／）とがある。

　すなわち、複合タングステン酸化物粒子では、ｃ軸に垂直な方位（垂直方向）の局在表面プラズモン共鳴による吸収（ＬＳＰＲ⊥）と、ｃ軸に平行な方位（平行方向）の局在表面プラズモン共鳴のよる吸収（ＬＳＰＲ／／）と、ポーラロン吸収との３つの吸収要素がある。このため、複合タングステン酸化物粒子のモル吸光係数曲線は、３つの吸収曲線に分離できる。

　具体的には、モル吸光係数曲線の横軸の波長をエネルギー（ｅＶ）に換算し、モル吸光係数曲線をミー散乱理論に基づいてガウス分布とローレンツ分布をフィッティングさせる。そして、ｃ軸に垂直な方位の局在表面プラズモン共鳴による吸収（ＬＳＰＲ⊥）の吸収曲線と、ｃ軸に平行な方位の局在表面プラズモン共鳴のよる吸収（ＬＳＰＲ／／）の吸収曲線と、ポーラロン吸収の吸収曲線と、に分離を行う。

　モル吸光係数曲線の分離作業で、ｃ軸に垂直な方位の局在表面プラズモン共鳴による吸収（ＬＳＰＲ⊥）の吸収曲線、ｃ軸に平行な方位の局在表面プラズモン共鳴のよる吸収（ＬＳＰＲ／／）の吸収曲線、ポーラロン吸収の吸収曲線を求めることで、ガウス分布やローレンツ分布の平均値（ピークとなるエネルギー（波長））が判明する。それぞれのガウス分布は、式（１）で示される。

　式（１）中、Ａがピーク強度、ｂが平均値、Ｅがエネルギー、ｃが標準偏差を示す。

　ローレンツ分布は、以下の式（２）で示される。

　式（２）中、Ｅがエネルギー、bが平均値、ｄは定数である。

　これらの関数を用いて０．５ｅＶ以上２．０ｅＶ以下（波長６２０ｎｍ以上２５００ｎｍ以下）の吸収曲線を分離した結果を図１５Ａ、図１５Ｂに示す。なお、近赤外線領域（波長７８０ｎｍ以上２５００ｎｍ以下の領域）は０．５ｅＶ以上１．５９ｅＶ以下である。

　図１５Ａに本実施形態の複合タングステン酸化物粒子の一例である実施例１に係る複合タングステン酸化物粒子のモル吸光係数曲線を示す。また、図１５Ｂに従来から知られる固相法で合成し、粉砕して得られた複合タングステン酸化物粒子の一例である比較例１に係る複合タングステン酸化物粒子のモル吸光係数曲線を示す。表２に３つの吸収要素の吸収曲線のピーク位置、ピーク強度、曲線の積算強度を示す。さらに、モル吸光係数曲線の積算強度に対する３つの吸収要素の吸収曲線の積算強度の割合を表３に示す。

　図１５Ａ、図１５Ｂは一例であり、各図のモル吸光係数曲線は例示であり、これらのモル吸光係数曲線に限定されないが、本実施形態の複合タングステン酸化物粒子は、図１５Ａに示したモル吸光係数曲線と同様の傾向を示す。

　図１５Ａに示される実施例１に係る複合タングステン酸化物粒子におけるｃ軸に垂直な方位の局在表面プラズモン共鳴（ＬＳＰＲ⊥）の吸収曲線における吸収ピークは０．８６ｅＶ（波長１４３５ｎｍ）であり、該吸収曲線の積算強度は９６０１５．３８［Ｌ・ｅＶ／（ｍｏｌ・ｃｍ）］である。

　図１５Ａに示したモル吸光係数曲線において、ｃ軸に平行な方位の局在表面プラズモン共鳴（ＬＳＰＲ／／）の吸収曲線における吸収ピークは１．２０ｅＶ（波長１０３０ｎｍ）であり、該吸収曲線の積算強度は３３０４２．００［Ｌ・ｅＶ／（ｍｏｌ・ｃｍ）］である。

　図１５Ａに示したモル吸光係数曲線において、ポーラロン吸収の吸収曲線における吸収ピークは１．２６ｅＶ（波長９８５ｎｍ）であり、該吸収曲線の積算強度は１２２６５．６０［Ｌ・ｅＶ／（ｍｏｌ・ｃｍ）］である。

　図１５Ａに示したモル吸光係数曲線における３つの吸収曲線の積算強度の中で、ポーラロン吸収の吸収曲線の積算強度の割合は８．７％である。実施例１の複合タングステン酸化物粒子は、エアロゾル化した後、熱処理等を行って合成されており、従来から知られる固相法で合成される複合タングステン酸化物粒子と比較して、ポーラロン吸収の積算強度が減少している。

　一方、図１５Ｂに従来から知られる固相法で合成し粉砕して得られた比較例１に係る複合タングステン酸化物粒子のモル吸光係数曲線を示す。図１５Ｂに示したモル吸光係数曲線において、ｃ軸に垂直な方位の局在表面プラズモン共鳴（ＬＳＰＲ⊥）の吸収曲線における吸収ピークは０．８０ｅＶ（波長１５５０ｎｍ）であり、該吸収曲線の積算強度は７８８４３．３０［Ｌ・ｅＶ／（ｍｏｌ・ｃｍ）］である。

　図１５Ｂに示したモル吸光係数曲線において、ｃ軸に平行な方位の局在表面プラズモン共鳴（ＬＳＰＲ／／）の吸収曲線における吸収ピークは１．００ｅＶ（波長１２４０ｎｍ）であり、該吸収曲線の積算強度は２０２０９．６７［Ｌ・ｅＶ／（ｍｏｌ・ｃｍ）］である。

　図１５Ｂに示したモル吸光係数曲線において、ポーラロン吸収の吸収曲線における吸収ピークは１．４０ｅＶ（波長８８５ｎｍ）である、該吸収曲線の積算強度は３１１７４．０１［Ｌ・ｅＶ／（ｍｏｌ・ｃｍ）］である。

　図１５Ｂに示したモル吸光係数曲線における３つの吸収曲線の積算強度の中で、ポーラロン吸収の吸収曲線の積算強度の割合は２３．９％である。

　以上のポーラロン吸収の吸収曲線の積算強度の割合の比較から明らかなように、実施例１の複合タングステン酸化物粒子は、比較例１の複合タングステン酸化物粒子よりもポーラロン吸収が弱くなっている。このことは、実施例１の複合タングステン酸化物粒子の１．２６ｅＶ（波長９８５ｎｍ）に出現するポーラロン吸収の吸収曲線のピーク値が、固相法で合成した複合タングステン酸化物の１．４０ｅＶ（波長８８５ｎｍ）に出現するポーラロン吸収のピーク値よりも弱くなっていることからも示されている。

　さらに、実施例１の複合タングステン酸化物粒子は局在表面プラズモン共鳴による吸収である、ＬＳＰＲ⊥とＬＳＰＲ／／の吸収曲線の積算強度の割合がそれぞれ多くなっている。特に実施例１の複合タングステン酸化物粒子において、ＬＳＰＲ／／の吸収曲線の積算強度の割合は、固相法で合成、粉砕して得られた比較例１の複合タングステン酸化物粒子におけるＬＳＰＲ／／の吸収曲線の積算強度の割合よりも多い。これらの吸収状態の違いが光学特性として表れる。

　ここで、３種類の各吸収曲線の積算強度は、０．５ｅＶ以上２．０ｅＶ以下（波長６２０ｎｍ以上２５００ｎｍ以下）での積算強度である。上記範囲のｃ軸に垂直な方位の局在表面プラズモン共鳴（ＬＳＰＲ⊥）とｃ軸に平行な方位の局在表面プラズモン共鳴（ＬＳＰＲ／／）とポーラロン吸収の３つの吸収要素の積算強度を対比することで、近赤外線領域(波長７８０ｎｍ以上２５００ｎｍ以下)での３つの吸収要素の貢献を知ることができる。

　また、低エネルギー側からｃ軸に垂直方向の局在表面プラズモン共鳴、ｃ軸に平行方向の局材プラズモン吸収、ポーラロン吸収の順にピークを持つ吸収が出現する。すなわちポーラロンに起因する吸収は、エネルギーの高い領域（近赤外線領域のうち短波長側）に出現する。

　複合タングステン酸化物粒子におけるポーラロンによる吸収は、粒子を構成する結晶中のＷ原子のＷ^５＋によるものであることが知られている。上述のＸＰＳの結果の通り、本実施形態の複合タングステン酸化物粒子は、酸素欠損に起因するＷ^５＋が少ないため、モル吸光係数曲線のピーク分離を行うと、ポーラロン吸収の占める割合が、従来から知られる複合タングステン酸化物粒子よりも少ない。
　本実施形態の複合タングステン酸化物粒子は、ｃ軸に平行な方位の局在表面プラズモン吸収の吸収曲線の積算強度もしくはピーク値が、ポーラロン吸収の積算強度もしくはピーク値より高いことにより波長１０００ｎｍ付近での赤外線の急激な吸収が発現する。すなわち、本実施形態の複合タングステン酸化物粒子は、ポーラロン吸収に起因する波長８００ｎｍ付近の光の吸収が弱いが、波長１０００ｎｍ付近の赤外線を吸収する効果がある。これに対して、従来から知られる固相法で合成された複合タングステン酸化物粒子は、図１５Ｂに示すようにｃ軸に平行な方位の局在表面プラズモン吸収の吸収曲線の積算強度もしくはピーク値よりも、ポーラロン吸収の吸収曲線の積算強度もしくはピーク値が高い。この違いが、透過光の色合いに現れ、本実施形態の複合タングステン酸化物粒子によれば、分散液や、分散体とした場合に透過光をニュートラルな色調にできる。また、本実施形態の複合タングステン酸化物粒子は、可視光透過性能と近赤外線遮蔽性能とに優れた特性を発揮できる。

　さらに、モル吸光係数曲線から、分散液での複合タングステン酸化物粒子で構成される粉末のモル吸光係数を知ることができる。本実施形態の複合タングステン酸化物粒子で構成される粉末のモル吸光係数は２６００Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）以上が望ましく、２８００Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）以上がさらに望ましい。

　従来から知られる複合タングステン酸化物粒子でも製造条件を調整することで、ｃ軸に平行な方位の局在表面プラズモン吸収の吸収曲線のピーク値よりもポーラロン吸収の吸収曲線のピーク値を低くすることができる。

　しかし、従来から知られる複合タングステン酸化物粒子でｃ軸に平行な方位の局在表面プラズモン吸収の吸収曲線のピーク値よりもポーラロン吸収の吸収曲線のピーク値を低くすると、モル吸光係数が２０００Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）未満となる。赤外線吸収材料では、モル吸光係数が高いことが望ましく、モル吸光係数が高いことで、少量の赤外線吸収材料でも優れた赤外線遮蔽効果を発揮することができる。

　本実施形態の複合タングステン酸化物粒子は、複合タングステン酸化物の結晶構造や電子状態に起因し、従来から知られる固相法で合成し粉砕して得られた比較例１に例示される複合タングステン酸化物粒子よりも赤外線吸収能に優れた複合タングステン酸化物粒子とすることができる。

　本実施形態の複合タングステン酸化物粒子は、繊維の内部および表面から選択された１以上の場所に配置することで繊維に赤外線吸収の機能を付与できる。

　本実施形態の複合タングステン酸化物粒子を溶媒に分散した分散液について、光の透過プロファイルを分光光度計により測定すると、波長５００ｎｍ以上６００ｎｍ以下の領域の透過率のピークを７５％以上にしても、近赤外線領域の透過率のボトムを５％以下にできる。すなわち、本実施形態の複合タングステン酸化物粒子の分散液は、優れた赤外線遮蔽効果（赤外線吸収効果）を備える。このため、本実施形態の赤外線吸収繊維および繊維製品について、ＣＣＤカメラ等の撮像装置による盗撮防止機能を発揮するために必要となる複合タングステン酸化物粒子の添加量は、従来から知られる複合タングステン酸化物粒子を用いた場合よりも、抑制できる。

　さらに、本実施形態の複合タングステン酸化物粒子の分散液は、比較例１に示す複合タングステン酸化物粒子の分散液などと比較して波長８００ｎｍ付近の赤い光も透過できる。このため、複合タングステン酸化物粒子を用いた赤外線吸収繊維の色調改善にも貢献できる。
［複合タングステン酸化物粒子の製造方法］
　本実施形態の複合タングステン酸化物粒子の製造方法の概要を説明する。

　本実施形態の複合タングステン酸化物粒子の製造方法によれば、既述の複合タングステン酸化物粒子を製造できるため、既に説明した事項については説明を省略する。なお、ここでは複合タングステン酸化物粒子の製造方法の構成例を示しているに過ぎず、既述の複合タングステン酸化物粒子の製造方法が、以下の構成例に限定されるものではない。

　本実施形態の複合タングステン酸化物粒子の製造方法は、直接的に粒子径が１μｍ以下の複合タングステン酸化物粒子を合成できる方法が望ましい。直接的に粒子径が１μｍ以下の複合タングステン酸化物粒子を合成できれば、粉砕や分散のダメージの影響が少ない微粒子、例えば粒子径８００ｎｍ以下の複合タングステン酸化物粒子を得ることができる。

　直接的に粒子径１μｍ以下の複合タングステン酸化物粒子を合成する方法は、Ｍ元素源とタングステン元素源を含む原料のエアロゾルを電気炉や、火炎、プラズマに供給する熱処理工程を経て粒子を合成する製造方法が望ましい。

　そこで、本実施形態の複合タングステン酸化物粒子の製造方法は、以下の原料調製工程、エアロゾル形成工程、熱処理工程、還元処理工程を有することができる。

　原料調製工程では、Ｍ元素源と、タングステン元素源とを含有する原料を調製できる。

　エアロゾル形成工程では、原料調製工程で調製した原料をエアロゾル化できる。

　熱処理工程では、エアロゾル化した原料を反応場で熱処理できる。

　還元処理工程では、熱処理工程で得られた粒子を、還元性ガスを含む雰囲気下で還元処理できる。
（１）各工程について
　以下、本実施形態の複合タングステン酸化物粒子の製造方法の各工程について説明する。
（１－１）原料調製工程
　原料調製工程では、Ｍ元素源と、タングステン元素源（以下、「Ｗ元素源」とも記載する）と、を含む原料を調製できる。

　原料調製工程では、原料に含まれるＭ元素の物質量と、Ｗ元素の物質量との比が、目的とする複合タングステン酸化物粒子の組成に対応したものとなるように、原料を配合、調製できる。

　原料調製工程で調製する原料の状態は特に限定されず、液体でも粉末でも良く、噴霧等によりエアロゾルを形成できることが好ましい。なお、エアロゾルとは、気体中に浮遊する微小な液体または固体の粒子と周囲の気体の混合体を意味する。

　原料が液体の場合は、例えばＭ元素源とＷ元素源とを含む溶液を調製することで、原料を調製できる。

　また、予めＭ元素源を含む溶液と、Ｗ元素源を含む溶液とをそれぞれ用意しておき、原料調製工程で両溶液を混合し、原料である原料混合溶液とすることもできる。

　後述する熱処理工程へは、例えば原料を液滴の状態にして供給することもできる。この場合、該液滴を形成する液滴形成部（液滴形成手段）に供給する直前、もしくは液滴形成部内でＭ元素源を含む溶液と、Ｗ元素源を含む溶液とを混合し、原料調製工程を実施できる。そして、液滴形成部では、後述するエアロゾル形成工程を実施できる。

　例えば、Ｍ元素源を含む溶液とＷ元素源を含む溶液とを予め混合すると、ゲル化する等の問題がある場合には、上述のように両溶液を予め用意し、エアロゾル形成工程の直前で混合することが好ましい。エアロゾル形成工程の直前に原料調製工程を実施する場合、両溶液の濃度と両溶液の液滴形成部への送液速度を調整することで、原料中のＭ元素と、Ｗ元素の物質量比を所望の範囲に調整できる。

　上述のように、エアロゾル形成工程の直前に原料調製工程を実施する場合、エアロゾル形成工程と、原料調製工程とが明確に区別されている必要は無く、両工程は連続的に実施できる。

　上述のように原料調製工程において、Ｍ元素源を含む溶液と、Ｗ元素源を含む溶液とを混合する場合、混合する具体的な方法は特に限定されず、任意の方法を用いることができる。

　Ｗ元素源としては特に限定されず、タングステンを含有する原料であればよく、タングステン単体や、タングステン化合物等が挙げられる。Ｗ元素源としては、タングステンの塩等を用いることができ、例えばヘキサカルボニルタングステンを好ましく用いることができる。ヘキサカルボニルタングステンは、例えばＷ（ＣＯ）_６と表すことができる。また、Ｗ元素源を含む溶液としては、取扱いの容易さ等から、Ｗ元素源を含む有機溶液を好適に用いることができる。

　Ｍ元素源についても特に限定されず、Ｍ元素を含有する原料であればよく、Ｍ元素単体や、Ｍ元素含有化合物等が挙げられる。Ｍ元素源を含む溶液としては、例えばＭ元素を含む塩の溶液を用いることができる。Ｍ元素源であるＭ元素の塩の種類は特に限定されないが、例えばＭ元素の炭酸塩、酢酸塩、硝酸塩、水酸化物等から選択された１種類以上を用いることができる。

　Ｍ元素源を含む溶液としては、取扱いの容易さ等から、Ｍ元素源を含むエタノール溶液を好適に用いることができる。

　例えば、Ｍ元素がセシウムの場合においても、Ｍ元素源の塩としては、炭酸塩、酢酸塩、硝酸塩、水酸化物等から選択された１種類以上を用いることができるが、酢酸塩を特に好適に用いることができる。これは、酢酸セシウムのエタノールへの溶解が特に容易であるからである。

　なお、得られる複合タングステン酸化物中の１モルのタングステン元素に対する、Ｍ元素の割合、すなわちドープ量は、原料混合溶液を形成する際のＷ元素源と、Ｍ元素源との割合により決まる。このため、ドープ量は、例えばＷ元素源を含む溶液の濃度や、Ｍ元素源を含む溶液の濃度等により制御できる。

　Ｗ元素源を含む溶液に含まれるＷ元素源の濃度、すなわちＷ元素の塩等の濃度は特に限定されない。例えば、Ｗ元素源を含む溶液のタングステン濃度が０．００１ｍｏｌ／Ｌ以上１０ｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、タングステン濃度が０．０１ｍｏｌ／Ｌ以上１０ｍｏｌ／Ｌ以下であることがより好ましく、タングステン濃度が０．０１ｍｏｌ／Ｌ以上１ｍｏｌ／Ｌ以下であることがさらに好ましい。これは、Ｗ元素源を含む溶液のタングステン濃度を０．００１ｍｏｌ／Ｌ以上とすることで、単位時間当たりの複合タングステン酸化物粒子の生産量を十分に確保でき、例えばフィルター等で十分な量を回収することができ、生産性を高めることができるからである。また、Ｗ元素源を含む溶液のタングステン濃度を１０ｍｏｌ／Ｌ以下とすることで、溶解したＷ元素源の再析出を抑制し、生成した粒子が凝集することを抑制し、例えば粒子径が１μｍよりも大きい粗大な複合タングステン酸化物粒子が混入することを抑制できるからである。さらに、Ｗ元素源を含む溶液には、ｐＨ調整のための薬剤や、界面活性剤などの添加剤を添加することもできる。

　また、Ｍ元素源を含む溶液に含まれるＭ元素源の濃度についても特に限定されるものではなく、製造する複合タングステン酸化物粒子における所望の組成や、Ｗ元素源を含む溶液に含まれるＷ元素源の濃度等に応じて選択することができる。

　原料混合溶液には、Ｗ元素源を含む溶液や、Ｍ元素源を含む溶液以外にも任意の成分を添加できる。

　ここまで、原料が液体の場合を例に説明したが、原料は固体であっても良く、例えば粉末とすることもできる。原料が粉末の場合は、例えばＭ元素化合物の粉末とタングステン化合物の粉末を混合することで調製できる。また、例えば、Ｍ元素源を含む溶液にタングステン化合物粉末を加え撹拌し、乾燥などにより溶媒を除去した前駆体粉末を原料とすることもできる。

　原料が固体の場合、Ｗ元素源としては特に限定されず、タングステンの塩等を用いることができ、例えばＨ_２ＷＯ_４や、パラタングステン酸アンモニウムを好ましく用いることができる。

　Ｈ_２ＷＯ_４は、タングステン以外の元素が、Ｈ（水素）、Ｏ（酸素）であり、タングステン以外の元素は後述する熱処理工程において系外に排出される。このため、Ｗ元素源としてＨ_２ＷＯ_４を用いることで、不純物の混入を抑制した複合タングステン酸化物粒子を得ることができるため好ましく用いることができる。

　Ｍ元素源としては、例えばＭ元素を含む塩の粉末を用いることができる。Ｍ元素を含む塩の種類は特に限定されないが、例えばＭ元素の炭酸塩、酢酸塩、硝酸塩、水酸化物等から選択された１種類以上を用いることができる。

　例えば、Ｍ元素がセシウムの場合についても、炭酸塩、酢酸塩、硝酸塩、水酸化物等から選択された１種類以上を用いることができるが、炭酸塩を特に好適に用いることができる。
（１－２）エアロゾル形成工程
　本実施形態の複合タングステン酸化物粒子の製造方法では、原料調製工程で調製した原料をエアロゾルの状態として、熱処理工程に供給することが好ましい。具体的にはエアロゾルを酸素等のキャリアガスにより搬送し、熱処理工程に供することが好ましい。

　そこで、本実施形態の複合タングステン酸化物粒子の製造方法は、原料について、原料の液滴または粒子を含むエアロゾルとするエアロゾル形成工程を有することもできる。

　エアロゾル形成工程においてエアロゾルを形成する手段、方法は特に限定されず、原料の状態等に応じて選択できる。

　原料が液体の場合は、遠心アトマイザ等の各種アトマイザや二流体ノズルを用いてキャリアガスに向けて、原料である液体を噴霧することでエアロゾルを形成できる。また、液体に対して超音波照射を行うことで液滴を形成することもできる。

　原料が粉末の場合は、原料である粉末の分散状態を形成し、該粉末を気流中に供給する装置によりエアロゾルを形成できる。例えば回転するブラシや撹拌翼等の撹拌部と、撹拌部に原料を送りだすピストンやスクリューフィーダ等を含む粉末供給部とを含むエアロゾル形成装置によりエアロゾルを形成できる。粉末供給部から供給された原料の粉末は、撹拌部で粉末を構成する粒子に分散され、各粒子をキャリアガスに送り出すことで原料である粉末からエアロゾルを生成できる。撹拌部は、原料である粉末を粒子に分散できるように、ブラシや、撹拌翼の回転速度を選択でき、高速で回転させることが好ましい。

　エアロゾル形成工程で気体中に分散した液滴を形成する場合、形成する液滴のサイズは特に限定されないが、液滴の直径は１００μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、５μｍ以下であることがさらに好ましい。液滴の直径を１００μｍ以下とすることで、得られる複合タングステン酸化物粒子が粗粒化することを防ぎ、ナノメートルオーダーの複合タングステン酸化物粒子を得ることが可能になる。なお、エアロゾル形成工程で形成する液滴のサイズの下限値は特に限定されない。ただし、過度に小さい液滴を形成することは困難であり、生産性が低下する恐れがあることから、例えば１μｍ以上であることが好ましい。

　エアロゾル形成工程で気体中に分散した固体の粒子を形成する場合、粒子のサイズは特に限定されないが、粒子の直径は１００μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、３μｍ以下がさらに好ましい。粒子の直径を１００μｍ以下とすることで、粒子の内部までより確実に熱処理を行うことが可能となる。粒子の直径は、既述の複合タングステン酸化物粒子の粒径と同様に測定できる。
（１－３）熱処理工程
　熱処理工程では、原料を熱処理して、原料から複合タングステン酸化物粒子に加工できる。熱処理は、原料を５００℃以上の温度で熱処理できれば良く、熱源の構成は特に限定されない。このため、熱処理工程は、キャリアガスを用いて原料を、火炎中に導く方法や、管状の電気炉内に導く方法、プラズマに導く方法等により実施できる。火炎を用いる場合も、電気炉を用いる場合も、プラズマを用いる場合も熱処理温度は５００℃以上とすることができる。５００℃以上で熱処理を行うことで、原料に含まれる化合物が分解し、タングステンとＭ元素とが反応して複合タングステン酸化物が形成される。

　熱処理工程後に得られる複合タングステン酸化物粒子が適切なＷ原子の欠損や異相を含むことで、還元処理工程後に、Ｗ原子のＺコントラストによる暗部を含む複合タングステン酸化物粒子を得ることができる。そこで、熱処理工程後に得られる複合タングステン酸化物粒子に、適切なＷ原子の欠損や異相が生じ、かつ還元処理工程後に、Ｗ原子のＺコントラストが低下したスポットが確認される複合タングステン酸化物粒子が生じるように、熱処理温度等の条件を選択できる。このため、還元処理工程後に、所望の割合でＷ原子のＺコントラストにおける暗部を含むように、予備試験等を行い、熱処理工程における原料の供給速度や、熱処理温度等を選択することが好ましい。なお、熱処理温度などの条件は、還元処理工程後に異相を低減、除去できるように選択することが好ましい。

　熱処理温度は、上記タングステンとＭ元素との反応を進行できればいいため、５００℃以上であればよいが、５５０℃以上であることが好ましく、１０００℃以上であることがより好ましい。熱処理温度の上限値は特に限定されないが、エネルギー消費量を抑制する観点からは、４０００℃以下であることが好ましい。

　熱処理工程では、上述のように火炎を用いることができ、原料を、火炎を用いて熱処理できる。熱処理工程で火炎を用い、火炎の反応場の温度を調整することで、得られる複合タングステン酸化物粒子の粒子径を選択できる。

　液体の原料をキャリアガスに噴霧して液滴とし、火炎中に該原料を導入して複合タングステン酸化物粒子を合成する場合、原料の液滴は、酸素ガスなどのキャリアガスにより火炎中を移動する。そして、原料の液滴は、火炎内部に搬送されると、原料のタングステン源とＭ元素源を含む有機溶媒が燃焼し、溶媒は燃焼反応により分解される。燃焼反応による生成熱がタングステンおよびＭ元素の分解反応に寄与し、火炎場の尾炎部にて冷却される過程において析出する。

　例えば、既述の様にＷ元素源としてはヘキサカルボニルタングステン等が、Ｍ元素源としてはＭ元素がセシウムの場合であれば酢酸セシウム等が挙げられ、これらの塩が熱処理工程において分解する。このとき、ＷはＷＯ_６として析出しやすい一方で、Ｃｓはモノマーとして酸化物を形成しにくく、一部、ナノサイズの粉末として析出できないままフィルターを通過して系外に排出される。

　そして、上記の場合、溶質部分の分解過程で、タングステンとＭ元素とが反応して、複合タングステン酸化物が形成される。

　熱処理工程で火炎を用いる場合、火炎の形成条件等は特に限定されないが、火炎は例えば酸素と炭化水素とを含む混合気体を用いて形成できる。酸素と炭化水素とを含む混合気体により火炎を形成することで、安定した温度の火炎を形成し、粒径等のばらつきを抑制した複合タングステン酸化物粒子を生成できる。

　火炎のサイズや、火炎の温度を調整する方法は特に限定されないが、例えば火炎に供給する混合気体中の酸素と、炭化水素等の可燃性気体との流量比を、可燃性気体の燃焼が可能な流量比としつつ、両気体の流量を調整することで行うことが好ましい。これは可燃性気体が、燃焼するために必要な酸素量を確保しつつ火力を調整することができるからである。

　例えば火炎を、酸素とプロパンとを含む混合気体を用いて形成している場合、混合気体中のプロパンと酸素の流量の体積比は、プロパン１に対し酸素を５以上８以下とし、プロパンの流量を０．５Ｌ／ｍｉｎ以上２Ｌ／ｍｉｎ以上の範囲とすることが好ましい。これはプロパンの流量を１とした場合に、酸素の流量を５以上とすることで、可燃性気体であるプロパンの燃焼を十分に促進できるからである。ただし、酸素の供給が過剰とならないように、プロパン１に対して、酸素を８以下供給することが好ましい。

　火炎の反応場等の熱処理温度は、得られる複合タングステン酸化物粒子の粒子径にも影響する。

　これは、生成した複合タングステン酸化物粒子の昇華に、火炎等の反応場における熱エネルギーが使われ、昇華により粒子が弾けて微細な粒子径の粒子が得られるためと推認される。

　熱処理させて得られた複合タングステン酸化物粒子は、例えばフィルターを用いて回収できる。
（１－４）還元処理工程
　熱処理工程を経て得られた粒子、具体的には複合タングステン酸化物粒子は、赤外線吸収特性を発現しない場合がある。そこで、本発明の発明者らが検討を行ったところ、熱処理工程を経て得られた複合タングステン酸化物粒子について還元処理を行う還元処理工程をさらに実施することで、複合タングステン酸化物粒子は、赤外線吸収特性を発現できることを見出した。

　このため、本実施形態の複合タングステン酸化物粒子の製造方法は、熱処理工程で得られた粒子を、還元性ガスを含む雰囲気下で還元処理する還元処理工程を有することもできる。具体的には例えば、本実施形態の複合タングステン酸化物粒子の製造方法は、熱処理工程の後に還元性ガスを含む雰囲気下で、４００℃より高く７００℃未満の範囲の温度で還元処理する還元処理工程を有することができる。

　還元処理の条件は特に限定されないが、還元処理後の複合タングステン酸化物粒子をＸ線回折パターンにより解析した場合に、還元処理工程の前後で結晶構造が変化せず、かつ金属のタングステン等が析出しないように還元処理の条件を選択することが好ましい。また、還元処理工程後の複合タングステン酸化物粒子が、所望の割合でＷ原子のＺコントラストにおける暗部を含むように、還元処理の条件についても併せて選択することが好ましい。

　還元処理工程では、熱処理工程で得られた複合タングステン酸化物粒子を、還元性ガスを含む還元雰囲気下で昇温と降温を行うことで、すなわち熱処理を行うことで還元処理できる。

　還元処理工程の間、複合タングステン酸化物粒子は撹拌しても静置してもよく、還元処理工程での複合タングステン酸化物粒子の取り扱いは適宜選択できるが、金属のタングステンが析出しないように取扱い条件を選択することが好ましい。

　還元処理の温度（還元処理温度）は、４００℃より高いことが好ましく、４５０℃以上とすることがより好ましく、５００℃以上であることがさらに好ましい。

　還元処理の温度の上限値についても特に限定されないが、例えば７００℃未満であることが好ましく、６５０℃以下であることがより好ましく、６５０℃未満であることがさらに好ましい。

　なお、原料が液体の場合、エアロゾル形成工程において、原料濃度を低下させると得られる粒子サイズは小径化する。小径化した粒子はより還元しやすくなるため、還元処理工程における温度を低下させることができる。還元処理工程では、室温から、還元処理の温度まで昇温後、再び室温まで降温することができる。

　還元条件は、得られる複合タングステン酸化物粒子の光学特性から、定めることができる。

　還元処理の温度を４００℃より高くすることで複合タングステン酸化物粒子について還元処理を進め、赤外線吸収特性をより確実に発揮できる。また、７００℃未満とすることで、複合タングステン酸化物粒子が金属タングステンに還元されることを抑制できる。

　還元雰囲気は、アルゴンなどの不活性ガスと、Ｈ_２ガス（水素ガス）等の還元性ガスとの混合ガスによる雰囲気とすることが好ましく、還元性ガスはＨ_２ガスが望ましい。

　還元性ガスとしてＨ_２ガスを用いる場合、還元雰囲気中のＨ_２ガスの含有量は、適宜選択できるが、Ｈ_２ガスの含有量は、体積割合で０．１％以上１０％以下の範囲が好ましく、２％以上１０％以下の範囲がより好ましい。還元性ガスのみの雰囲気で還元すると、還元反応が過剰に進み金属のタングステンが析出することがあるので注意が必要である。

　還元処理工程の時間は、昇温から、降温までの全時間で３０分以上とすることが望ましい。還元処理工程の時間の上限は特に限定されず、例えば過度に還元が進行しないように予備試験等を行い、選択することが好ましい。なお、ここでいう昇温から降温までの全時間とは、室温から昇温を開始し、還元処理温度に達した後、室温に冷却するまでの時間を意味する。なお、係る時間、複合タングステン酸化物粒子は、既述の還元雰囲気下に置かれていることが好ましい。

　このように還元処理工程を実施することで、熱処理工程後に得られた複合タングステン酸化物粒子について、目的としない異相を、目的とする複合タングステン酸化物相に変換させることができる。
（２）複合タングステン酸化物粒子の製造方法で好適に用いることができる装置について
（２－１）複合材料製造装置
　本実施形態の複合タングステン酸化物粒子の製造方法に好適に用いることができる複合材料製造装置の構成の一例について以下に説明する。

　図１は、本実施形態の複合材料製造装置１０を模式的に表した図である。

　複合材料製造装置１０は、原料となる溶液を入れた格納部１１と、原料の液滴を形成し、併せて火炎を形成する二流体ノズル１２と、形成した複合タングステン酸化物粒子を回収するフィルター１４に接続された反応管１３とを有する。原料となる溶液としては既に説明したが、Ｍ元素源とＷ元素源とを含む溶液が挙げられる。

　二流体ノズル１２に原料の溶液とキャリアガスを供給してエアロゾルを形成できる（エアロゾル形成工程）。二流体ノズル１２には例えば酸素と炭化水素とを供給し、あわせて火炎の反応場を形成しており、形成したエアロゾルは火炎内に供給し、熱処理を行うことができる（熱処理工程）。反応管１３の周囲には冷却水の配管１３１が配置され、冷却水が循環している。反応管１３に導入された複合タングステン酸化物粒子は、バグフィルターなどのフィルター１４で回収される。

　また、キャリアガスの供給量の調整に最下流側にエジェクタ１５を設けても良い。

　ここでは、原料の液滴を形成し、火炎を用いて熱処理を行い、複合タングステン酸化物粒子を形成する複合材料装置の構成例を示したが、係る形態に限定されず、原料は粉末等であっても良く、熱処理に用いる熱源は電気炉等であっても良い。
（２－２）還元処理装置
　還元処理装置では、既述の還元処理工程を実施することができる。

　還元処理装置は、既述の還元処理工程を実施できるように構成されていればよく、特に限定されない。例えば、既述の複合材料製造装置で得られた粒子である複合タングステン酸化物粒子を格納する容器と、該容器内に還元雰囲気とする混合ガスを供給するガス配管と、該容器を加熱する熱源を備えればよい。

　なお、容器内に還元雰囲気とする混合ガスを導入、排気し、被処理物である複合タングステン酸化物粒子を該混合ガスの気流下に置くこともできる。この場合には、係る気流を形成できるように、ガス配管として混合ガスの供給配管、および排気配管を設けておくことができる。

　また、容器内の複合タングステン酸化物粒子を撹拌する撹拌羽なども併用してもよい。

　図２は還元処理装置の一構成例を模式的に示した図であり、還元処理装置２０の反応管２１の中心軸を通る面での断面図を示している。

　還元処理装置２０は、横型の管状炉であり、反応管２１の一方の口２１Ａに図示しないガス導入管を、該管状炉の他方の口２１Ｂに図示しないガス排気管を取り付けて用いることができる。そして、一方の口２１Ａ側から還元雰囲気とする混合ガスを供給することで、反応管２１内を還元雰囲気とすることができる。

　反応管２１の周囲にはヒーター２２を設けておくことができ、複合タングステン酸化物粒子は、ボート等のセラミック製の容器２３に入れ、管状炉の反応管２１内のヒーター２２に対応した位置に配置できる。

　係る還元処理装置２０を用い、反応管２１内を還元雰囲気とし、ヒーター２２により所望の温度に加熱することで、容器２３に入れられた複合タングステン酸化物粒子２４の還元処理を行うことができる。
［赤外線吸収粒子分散液］
　次に、本実施形態の赤外線吸収繊維を製造する際に用いることができる赤外線吸収粒子分散液の一構成例について説明する。

　本実施形態の赤外線吸収粒子分散液は、赤外線吸収粒子と、液状媒体とを含むことができる。そして、赤外線吸収粒子として、既述の複合タングステン酸化物粒子を用いることができる。

　液状媒体としては、例えば水、有機溶媒、油脂、液状樹脂、液状可塑剤から選択された１種類以上を用いることができる。すなわち、例えば図３に示した様に、本実施形態の赤外線吸収粒子分散液３０は、赤外線吸収粒子３１と、液状媒体３２とを含むことができる。赤外線吸収粒子分散液は、液状媒体に、赤外線吸収粒子が分散された構成を有することが好ましい。

　なお、図３は模式的に示した図であり、本実施形態の赤外線吸収粒子分散液は、係る形態に限定されるものではない。例えば図３において赤外線吸収粒子３１を円で表し、球状の粒子として記載しているが、既述の複合タングステン酸化物粒子である赤外線吸収粒子３１の形状は係る形態に限定されるものではなく、任意の形状を有することができる。赤外線吸収粒子３１は例えば表面に被覆等を有することもできる。赤外線吸収粒子分散液３０は、赤外線吸収粒子３１、液状媒体３２以外に、必要に応じてその他添加剤を含むこともできる。

　液状媒体としては、既述の様に、水、有機溶媒、油脂、液状樹脂、液状可塑剤から選択された１種類以上を用いることができる。

　有機溶媒としては、アルコール系、ケトン系、エステル系、炭化水素系、グリコール系など、種々のものを選択することが可能である。具体的には、イソプ口ピルアルコール、メタノール、エタノール、１－プ口パノール、ブタノール、ペンタノール、ベンジルアルコール、ジアセトンアルコール、１－メトキシ－２－プ口パノールなどのアルコール系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルブ口ピルケトン、メチルイソブチルケトン、シク口ヘキサノン、イソホ口ンなどのケトン系溶媒；３－メチルーメトキシ-プ口ピオネ一卜、酢酸n-ブチルなどのエステル系溶媒；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールイソプ口ピルエーテル、プ口ピレングリコールモノエチルエーテル、プ口ピレングリコールメチルエーテルアセテー卜、プ口ピレングリコールエチルエーテルアセテ一卜などのグリコール誘導体；ホルムアミド、Ｎ－メチルホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ卜アミド、Ｎ－メチル－２－ピ口リドンなどのアミド類；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；エチレンク口ライド、ク口ルベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類等から選択された１種類以上を挙げることができる。もっとも、これらの中でも極性の低い有機溶媒が好ましく、特に、イソプ口ピルアルコール、エタノール、１－メトキシ－２－プ口パノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、プ口ピレングリコールモノメチルエーテルアセテー卜、酢酸ｎ－ブチルなどがより好ましい。これらの有機溶媒は、１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。

　油脂としては例えば、アマニ油、ヒマワリ油、桐油等の乾性油、ゴマ油、綿実油、菜種油、大豆油、米糠油等の半乾性油、オリーブ油、ヤシ油、パーム油、脱水ヒマシ油等の不乾性油、植物油の脂肪酸とモノアルコールを直接エステル反応させた脂肪酸モノエステル、エーテル類、アイソパー(登録商標)　Ｅ、エクソール(登録商標)　Ｈｅｘａｎｅ、Ｈｅｐｔａｎｅ、Ｅ、Ｄ３０、Ｄ４０、Ｄ６０、Ｄ８０、Ｄ９５、Ｄ１１０、Ｄ１３０（以上、エクソンモービル製）等の石油系溶剤から選択された１種類以上を用いることができる。

　液状樹脂としては、例えば液状アクリル樹脂、液状エポキシ樹脂、液状ポリエステル樹脂、液状ウレタン樹脂等から選択された１種類以上を用いることができる。

　液状可塑剤としては、例えばプラスチック用の液状可塑剤等を用いることができる。

　赤外線吸収粒子分散液が含有する成分は、上述の赤外線吸収粒子、および液状媒体のみに限定されない。赤外線吸収粒子分散液は、必要に応じてさらに任意の成分を添加、含有することもできる。

　例えば、赤外線吸収粒子分散液に必要に応じて酸やアルカリを添加して、当該分散液のｐＨを調整してもよい。

　また、上述した赤外線吸収粒子分散液中において、赤外線吸収粒子の分散安定性を一層向上させ、再凝集による分散粒径の粗大化を回避するために、各種の界面活性剤、カップリング剤等を分散剤として赤外線吸収粒子分散液に添加することもできる。

　当該界面活性剤、カップリング剤等の分散剤は用途に合わせて選択可能であるが、該分散剤は、アミノ基、水酸基、カルボキシル基、およびエポキシ基から選択された１種類以上を官能基として有するものであることが好ましい。これらの官能基は、赤外線吸収粒子の表面に吸着して凝集を防ぎ、赤外線吸収粒子を用いて成膜した赤外線遮蔽膜中においても赤外線吸収粒子を均一に分散させる効果をもつ。分散剤は、上記官能基（官能基群）から選択された１種類以上を分子中にもつ高分子系分散剤がさらに望ましい。

　好適に用いることができる市販の分散剤としては、ソルスパース(登録商標)９０００、１２０００、１７０００、２００００、２１０００、２４０００、２６０００、２７０００、２８０００、３２０００、３５１００、５４０００、２５０(日本ルーブリゾール株式会社製)、ＥＦＫＡ(登録商標)　４００８、４００９、４０１０、４０１５、４０４６、４０４７、４０６０、４０８０、７４６２、４０２０、４０５０、４０５５、４４００、４４０１、４４０２、４４０３、４３００、４３２０、４３３０、４３４０、６２２０、６２２５、６７００、６７８０、６７８２、８５０３(エフカアディティブズ社製)、アジスパー(登録商標)　ＰＡ１１１、ＰＢ８２１、ＰＢ８２２、ＰＮ４１１、フェイメックスＬ－１２(味の素ファインテクノ株式会社製)、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ　(登録商標)　１０１、１０２、１０６、１０８、１１１、１１６、１３０、１４０、１４２、１４５、１６１、１６２、１６３、１６４、１６６、１６７、１６８、１７０、１７１、１７４、１８０、１８２、１９２、１９３、２０００、２００１、２０２０、２０２５、２０５０、２０７０、２１５５、２１６４、２２０Ｓ、３００、３０６、３２０、３２２、３２５、３３０、３４０、３５０、３７７、３７８、３８０Ｎ、４１０、４２５、４３０(ピックケミ一・ジャパン株式会社製)、ディスパ口ン(登録商標)　１７５１Ｎ、１８３１、１８５０、１８６０、１９３４、ＤＡ－４００Ｎ、ＤＡ－７０３－５０、ＤＡ－７２５、ＤＡ－７０５、ＤＡ－７３０１、ＤＮ－９００、ＮＳ－５２１０、ＮＶＩ－８５１４Ｌ(楠本化成株式会社製)、アルフォン(登録商標)　ＵＣ－３０００　、ＵＦ－５０２２、ＵＧ－４０１０、ＵＧ－４０３５、ＵＧ－４０７０(東亞合成株式会社製)等から選択された１種類以上が、挙げられる。

　赤外線吸収粒子の液状媒体への分散処理方法は、赤外線吸収粒子を液状媒体中へ分散できる方法であれば、特に限定されない。この際、赤外線吸収粒子の平均粒径が８００ｎｍ以下となるように分散できることが好ましく、１ｎｍ以上８００ｎｍ以下となるように分散できることがより好ましい。

　赤外線吸収粒子の液状媒体への分散処理方法としては、例えば、ビーズミル、ボールミル、サンドミル、ペイントシェーカー、超音波ホモジナイザーなどの装置を用いた分散処理方法が挙げられる。その中でも、媒体メディア(ビーズ、ボール、オタワサンド)を用いるビーズミル、ボールミル、サンドミル、ペイントシェーカー等の媒体撹拌ミルで粉砕、分散させることが所望とする平均粒径とするために要する時間を短縮する観点から好ましい。媒体撹拌ミルを用いた粉砕－分散処理によって、赤外線吸収粒子の液状媒体中への分散と同時に、赤外線吸収粒子同士の衝突や媒体メディアの赤外線吸収粒子への衝突等による微粒子化も進行し、赤外線吸収粒子をより微粒子化して分散させることができる。すなわち、粉砕－分散処理される。

　赤外線吸収粒子の平均粒径は、上述のように１ｎｍ以上８００ｎｍ以下であることが好ましい。これは、平均粒径が小さければ、光が散乱することを抑制することができ、可視光領域での意図しない光沢や、強度に波長依存性のある光散乱（レイリー散乱）による意図しない色調の発生を抑制することができるためである。

　従って、赤外線吸収粒子は、平均粒径が８００ｎｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以下であることがさらに好ましく、３０ｎｍ以下であることが特に好ましい。赤外線吸収粒子の平均粒径の下限値は特に限定されないが、例えば１ｎｍ以上とすることが好ましく、５ｎｍ以上とすることがより好ましく、１０ｎｍ以上とすることがより好ましい。

　以上の理由から、赤外線吸収粒子の平均粒径は、１ｎｍ以上８００ｎｍ以下とすることが好ましく、５ｎｍ以上２００ｎｍ以下とすることがより好ましく、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下とすることがより好ましく、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることがさらに好ましく、１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下とすることが特に好ましい。

　本実施形態の赤外線吸収粒子分散液を用いて得られる、赤外線吸収繊維における赤外線吸収粒子の分散状態は、繊維への公知の添加方法を行う限り該分散液の赤外線吸収粒子の平均粒径よりも凝集することはない。

　本実施形態の赤外線吸収粒子分散液中の赤外線吸収粒子の含有量は特に限定されないが、例えば０．０１質量％以上８０質量％以下であることが好ましい。これは赤外線吸収粒子の含有量を０．０１質量％以上とすることで十分な日射透過率を発揮できる、すなわち日射透過率を十分に抑制できるからである。また、８０質量％以下とすることで、赤外線吸収粒子を分散媒内に均一に分散させることができるからである。

　本実施形態の赤外線吸収粒子分散液によれば、既述の複合タングステン酸化物粒子を含有するため、可視光透過性能と赤外線遮蔽性能とに優れた赤外線吸収粒子分散液とすることができる。また、本実施形態の赤外線吸収粒子分散液によれば、波長５００ｎｍ以上６００ｎｍ以下の領域の透過率のピークを７５％以上としても、赤外線領域の透過率のボトムを５％以下にできる、優れた赤外線遮蔽効果を備える。さらに、本実施形態の赤外線吸収粒子分散液によれば、波長７００ｎｍで透過率５０％以上、波長８００ｎｍで透過率３０％以上を実現できる。
［赤外線吸収繊維］
　本発明に係る赤外線吸収繊維について説明する。

　図４に、本実施形態の赤外線吸収繊維の模式図を示す。図４は、赤外線吸収繊維４０が有する繊維４１の中心軸ＣＡを通る面での断面図を模式的に示している。図４に示すように、本実施形態の赤外線吸収繊維４０は、繊維４１と、複合タングステン酸化物粒子４２と、を含むことができる。

　複合タングステン酸化物粒子４２の配置は特に限定されないが、複合タングステン酸化物粒子４２は、例えば繊維４１の表面４１Ａおよび内部４１Ｂから選択された１以上の場所に配置できる。なお、図４は模式的に示した図であり、繊維４１の表面４１Ａおよび内部４１Ｂの両方に複合タングステン酸化物粒子４２を配置した例を示しているが、係る形態に限定されない。複合タングステン酸化物粒子４２は、繊維４１の表面４１Ａおよび内部４１Ｂのいずれか一方にのみ配置されていても良い。また、図４において複合タングステン酸化物粒子４２を球状の粒子として記載しているが、複合タングステン酸化物粒子４２の形状は係る形態に限定されるものではなく、任意の形状を有することができる。

　以下、本実施形態の赤外線吸収繊維が含有する部材について説明する。
（１）赤外線吸収繊維が含有する部材について
（１－１）繊維
（１－１－１）繊維の種類について
　本実施形態の赤外線吸収繊維が含有する繊維は、用途に応じて各種選択可能であり特に限定されない。繊維としては例えば、合成繊維、半合成繊維、天然繊維、再生繊維、無機繊維から構成される繊維群、および上記繊維群から選択された２種類以上の繊維の混紡、合糸、混繊による混合糸から選択された１種類以上を用いることができる。すなわち、上記繊維群から選択された繊維を用いることもでき、上記混合糸から選択された繊維を用いることもできる。

　中でも、赤外線吸収粒子を容易に繊維の内部等に含有させることや、保温持続性を考慮すると、繊維は合成繊維を含むことが好ましく、合成繊維から構成されていることがより好ましい。

　以下、各繊維について説明する。
（合成繊維）
　合成繊維としては、特に限定されないが、例えば、ポリウレタン繊維、ポリアミド系繊維、アクリル系繊維、ポリエステル系繊維、ポリオレフィン系繊維、ポリビニルアルコール系繊維、ポリ塩化ビニリデン系繊維、ポリ塩化ビニル系繊維、ポリエーテルエステル系繊維等から選択された１種類以上を用いることができる。

　ポリアミド系繊維としては、例えばナイロン、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１１、ナイロン６１０、ナイロン６１２、芳香族ナイロン、アラミド等が挙げられる。

　アクリル系繊維としては、例えばポリアクリロニトリル、アクリロニトリル－塩化ビニル共重合体、モダクリル等が挙げられる。

　ポリエステル系繊維としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等が挙げられる。

　ポリオレフィン系繊維としては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等が挙げられる。

　ポリビニルアルコール系繊維としては、例えばビニロン等が挙げられる。

　ポリ塩化ビニリデン系繊維としては、例えばビニリデン等が挙げられる。

　ポリ塩化ビニル系繊維としては、例えばポリ塩化ビニル等が挙げられる。

　ポリエーテルエステル系繊維としては、例えばレクセ、サクセス等が挙げられる。
（半合成繊維）
　半合成繊維としては、例えばセルロース系繊維、タンパク質系繊維、塩化ゴム、塩酸ゴム等から選択された１種類以上を用いることができる。

　セルロース系繊維としては、例えばアセテート、トリアセテート、酸化アセテート等が挙げられる。

　タンパク質系繊維としては、例えばプロミックス等が挙げられる。
（天然繊維）
　天然繊維としては、例えば植物繊維、動物繊維、鉱物繊維等から選択された１種類以上を用いることができる。

　植物繊維としては、例えば綿、カポック、亜麻、大麻、黄麻、マニラ麻、サイザル麻、ニュージーランド麻、羅布麻、やし、いぐさ、麦わら等が挙げられる。

　動物繊維としては、例えば羊毛、やぎ毛、モヘヤ、カシミヤ、アルパカ、アンゴラ、キャメル、ビキューナ等のウール、シルク、ダウン、フェザー等が挙げられる。

　鉱物繊維としては、例えば石綿、アスベスト等が挙げられる。
（再生繊維）
　再生繊維としては、例えばセルロース系繊維、タンパク質系繊維、アルギン繊維、ゴム繊維、キチン繊維、マンナン繊維等から選択された１種類以上を用いることができる。

　セルロース系繊維としては、例えばレーヨン、ビスコースレーヨン、キュプラ、ポリノジック、銅アンモニアレーヨン等が挙げられる。

　タンパク質系繊維としては、例えばカゼイン繊維、落花生タンパク繊維、とうもろこしタンパク繊維、大豆タンパク繊維、再生絹糸等が挙げられる。
（無機繊維）
　無機繊維としては、例えば、金属繊維、炭素繊維、けい酸塩繊維等から選択された１種類以上を用いることができる。

　金属繊維としては、例えば金属繊維、金糸、銀糸、耐熱合金繊維等が挙げられる。

　けい酸塩繊維としては、例えばガラス繊維、鉱さい繊維、岩石繊維等が挙げられる。
（１－１－２）繊維の形状
　繊維の断面形状は、特に限定されないが、例えば、円形、三角形、中空状、偏平状、Ｙ型、星型、芯鞘型等から選択された１種類以上が挙げられる。

　繊維への複合タングステン酸化物粒子の含有、配置形態は特に限定されない。例えば繊維の断面形状が芯鞘型の場合、複合タングステン酸化物粒子を繊維の芯部に含有しても、鞘部に含有してもかまわない。また、繊維の形状は特に限定されず、フィラメント(長繊維)であっても、ステープル(短繊維)であってもかまわない。
（１－２）複合タングステン酸化物粒子
　複合タングステン酸化物粒子については既に説明したため、説明を省略する。

　本実施形態の赤外線吸収繊維における、複合タングステン酸化物粒子の含有量は特に限定されず、赤外線吸収繊維に要求される特性等に応じて選択することができる。複合タングステン酸化物粒子の単位重量あたりの赤外線吸収能力は非常に高いので、ＩＴＯやＡＴＯと比較して、４分の１～１０分の１程度の使用量でその効果を発揮する。

　本実施形態の赤外線吸収繊維は、複合タングステン酸化物粒子を、繊維の固形分に対して０．００１質量％以上８０質量％以下の割合で含有することができる。さらに、複合タングステン酸化物粒子添加後の繊維の重量や原料コストを考慮した場合は、本実施形態の赤外線吸収繊維は、例えば複合タングステン酸化物粒子を０.００５質量％以上５０質量％以下の割合で含有することがより好ましい。

　赤外線吸収繊維が、複合タングステン酸化物粒子を、繊維の固形分に対して０．００１質量％以上の割合で含有することで、該複合タングステン酸化物粒子を含む生地が薄い場合でも、十分な赤外線吸収効果を得ることができる。また、複合タングステン酸化物粒子を、繊維の固形分に対して８０質量％以下の割合で含有することで、赤外線吸収繊維を紡糸する際にフィルターへの目塞がりや糸切れ等による可紡性の低下をより確実に回避できる。また、複合タングステン酸化物粒子の上記含有量を８０質量％以下とすることで、繊維の物性を損なうことをより確実に回避できる。
（１－３）添加剤、遠赤外線放射物質
　本実施形態の赤外線吸収繊維は、上記繊維と複合タングステン酸化物粒子とのみから構成することもできるが、さらに任意の成分を含有することもでき、例えば目的に応じて以下に説明する遠赤外線放射物質や、添加剤を含有することもできる。
（添加剤）
　本実施形態に係る赤外線吸収繊維は、当該繊維の性能を損なわない範囲内で、目的に応じて、酸化防止剤、難燃剤、消臭剤、防虫剤、抗菌剤、紫外線吸収剤等を含有することもできる。
（遠赤外線放射物質）
　遠赤外線放射物質は遠赤外線を放射する能力を有する材料であり、粒子状であることが好ましい。すなわち遠赤外線放射物質としては、遠赤外線放射物質粒子を好適に用いることができる。

　遠赤外線放射物質は、繊維の表面、および内部から選択された１以上の場所に配置できる。

　遠赤外線放射物質としては、例えばＺｒＯ_２、ＳｉＯ_２、ＴｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＭｎＯ_２、ＭｇＯ、Ｆｅ_２Ｏ_３、ＣｕＯ等の金属酸化物、ＺｒＣ、ＳｉＣ、ＴｉＣ等の炭化物、ＺｒＮ、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＡｌＮ等の窒化物等から選択された１種類以上が挙げられる。

　複合タングステン酸化物粒子として、例えばセシウムタングステン酸化物を含む粒子が挙げられる。セシウムタングステン酸化物は、波長３００ｎｍ以上３０００ｎｍ以下の太陽光エネルギーを吸収する性質をもっており、特に波長９００ｎｍ以上２５００ｎｍ以下の領域付近の赤外線領域を選択的に吸収して、熱に変換、もしくは再輻射する。

　一方、遠赤外線放射物質の粒子は、赤外線吸収材料であるセシウムタングステン酸化物が吸収したエネルギーを受け取り、当該エネルギーを中・遠赤外線波長の熱エネルギーに転換、放射する能力を有している。例えば、ＺｒＯ_２粒子は、このエネルギーを波長２０００ｎｍ以上２００００ｎｍ以下の熱エネルギーに転換、放射する。従って、当該遠赤外線を放射する能力を有する遠赤外線放射物質と、複合タングステン酸化物粒子とが、繊維の内部や表面で共存することにより、複合タングステン酸化物粒子に吸収された太陽光エネルギーが繊維内部・表面で効率良く消費され、より効果的な保温がなされる。

　赤外線吸収繊維における遠赤外線放射物質の含有量は特に限定されず、赤外線吸収繊維に要求される性能等に応じて選択できる。

　本実施形態の赤外線吸収繊維は、遠赤外線放射物質を、例えば繊維の固形分に対して０.００１質量％以上８０質量％以下の割合で含有することが好ましい。

　これは、遠赤外線放射物質の上記含有割合を０.００１質量％以上とすることで、赤外線吸収繊維を含む生地が薄くても十分な熱エネルギー放射効果を得ることができるからである。また、遠赤外線放射物質の上記含有割合を８０質量％以下とすることで、赤外線吸収繊維について、紡糸する際にフィルターへの目塞がりや糸切れ等により可紡性の低下をより確実に回避できるからである。
（２）赤外線吸収繊維の製造方法
　本実施形態の赤外線吸収繊維の製造方法について説明する。本実施形態の赤外線吸収繊維の製造方法によれば、既述の赤外線吸収繊維を製造できるため、既に説明した事項については説明を省略する。

　本実施形態の赤外線吸収繊維の製造方法は、繊維と複合タングステン酸化物粒子とを含有する赤外線吸収繊維を調製する赤外線吸収繊維製造工程を有することができる。

　複合タングステン酸化物粒子、繊維については既に説明したため、ここでは説明を省略する。

　赤外線吸収繊維製造工程では、具体的には例えば、繊維の表面、および内部から選択された１以上の場所に複合タングステン酸化物粒子を配置できる。

　繊維の表面および内部から選択された１以上の場所へ、複合タングステン酸化物粒子を配置する方法は特に限定されない。例えば、以下の（ａ）～（ｄ）のいずれかの方法を用いることができる。
（ａ）合成繊維の原料ポリマーへ、複合タングステン酸化物粒子を直接混合して紡糸する方法。
（ｂ）あらかじめ原料ポリマーの一部へ複合タングステン酸化物粒子を高濃度に含有せしめたマスターバッチを製造し、マスターバッチを紡糸時に所定の濃度に希釈調整してから紡糸する方法。
（ｃ）複合タングステン酸化物粒子を、原料モノマーまたはオリゴマー溶液中に分散させた分散溶液を予め調製する。そして、該分散溶液を用いて目的とする原料ポリマーを合成すると同時に、複合タングステン酸化物粒子を原料ポリマー中に分散せしめた後、紡糸する方法。
（ｄ）あらかじめ紡糸して得られた繊維の表面へ、複合タングステン酸化物粒子を、結合剤などを用いて付着させる方法。

　ここで、上記（ａ）～（ｄ）の方法について、具体的に例を挙げてさらに説明する。
（ａ）の方法：
　繊維としてポリエステル繊維を用いる場合を例に説明する。

　まず熱可塑性樹脂であるポリエチレンテレフタレート樹脂ペレットに複合タングステン酸化物粒子分散液を添加し、ブレンダーで均一に混合した後、溶媒を除去する。当該溶媒を除去した混合物を二軸押出機で溶融混練することで、複合タングステン酸化物粒子を含有するマスターバッチを得る。得られたマスターバッチを樹脂の溶融温度付近で溶融混合し、例えば公知の各種方法により紡糸することで赤外線吸収繊維を製造できる。

　なお、上記マスターバッチの製造方法は特に限定されない。例えば、まず複合タングステン酸化物粒子分散液と、熱可塑性樹脂の粉粒体またはペレットと、必要に応じて他の添加剤とを、混練機を使用して溶剤を除去しながら溶融混合することで、熱可塑性樹脂に複合タングステン酸化物粒子を分散したマスターバッチを調製できる。

　混練機としては特に限定されないが、例えばリボブレンダー、タンブラー、ナウターミキサー、ヘンシェルミキサー、スーパーミキサー、プラネタリーミキサー等の混合機、およびバンバリーミキサー、ニーダー、ロール、ニーダールーダー、一軸押出機、二軸押出機等から選択された１種類以上を用いることができる。

　樹脂中に複合タングステン酸化物粒子を分散した混合物の調製方法は上記形態に限定されない。

　例えば、複合タングステン酸化物粒子分散液を調製後、まず当該分散液の分散媒を公知の方法で除去する。そして、分散媒を除去することで得られた粉末と、熱可塑性樹脂の粉粒体またはペレットと、必要に応じて他の添加剤と、を均一に溶融混合し、熱可塑性樹脂に複合タングステン酸化物粒子を分散した混合物を製造することもできる。この他、熱可塑性樹脂に複合タングステン酸化物粒子を分散した混合物の製造には、複合タングステン酸化物粒子を、直接、熱可塑性樹脂へ添加し、溶融混合する方法を用いることもできる。

　上述した方法により得られた複合タングステン酸化物粒子と、熱可塑性樹脂との混合物を、ベント式一軸もしくは二軸の押出機で混練し、ペレット状に加工することにより、赤外線吸収粒子を含むマスターバッチを得ることができる。

　このマスターバッチと、複合タングステン酸化物粒子無添加のポリエチレンテレフタレートよりなるマスターバッチの目的量とを、樹脂の溶融温度付近で溶融混合し公知の方法にしたがって紡糸する。
（ｂ）の方法：
（ａ）と同様の方法などを活用して、複合タングステン酸化物粒子を含有するマスターバッチを作製する。そして、該マスターバッチと、複合タングステン酸化物粒子無添加のポリエチレンテレフタレートよりなるマスターバッチとを、所望の混合比となるように、樹脂の溶融温度付近で溶融混合し公知の方法に従って紡糸することで、赤外線吸収繊維を製造できる。
（ｃ）の方法：
　例えば、繊維としてウレタン繊維を用いる場合を例に説明する。

　複合タングステン酸化物粒子を含有した高分子ジオールと有機ジイソシアネートとを、二軸押出機内で反応させてイソシアネート基末端プレポリマーを合成した後、ここへ鎖伸長剤を反応させてポリウレタン溶液(原料ポリマー)を製造する。当該ポリウレタン溶液を各種公知の方法に従って紡糸することで赤外線吸収粒子を製造できる。
（ｄ）の方法：
　例えば、天然繊維の表面に複合タングステン酸化物粒子を付着させる場合を例に説明する。

　まず複合タングステン酸化物粒子と、アクリル、エポキシ、ウレタン、ポリエステルから選択された１種類以上のバインダー樹脂と、水などの溶媒と、を混合した処理液を調製する。

　次に、調製された処理液に天然繊維を浸漬させるか、調製された処理液をパディング、印刷またはスプレー等により当該天然繊維へ含浸させ、乾燥する。これにより、当該天然繊維に複合タングステン酸化物粒子を付着させることができる。そして（ｄ）の方法は、上述した天然繊維の他、合成繊維、半合成繊維、再生繊維、無機繊維、または、これらの混紡、合糸、混繊等のいずれにも適用することができる。

　なお、上述の（ａ）～（ｄ）の方法を実施する際に用いることができる、複合タングステン酸化物粒子分散液の調製方法は特に限定されず、例えば、赤外線吸収粒子分散液で既述の方法により調製できる。

　また、複合タングステン酸化物粒子分散液の分散媒は特に限定されるものではなく、混合する繊維に合わせて選択可能であり、例えば、アルコール、エーテル、エステル、ケトン、芳香族化合物などの一般的な各種有機溶媒や、水等を好適に用いることができる。

　複合タングステン酸化物粒子を繊維やその原料となるポリマー等に付着、混合させる際には、複合タングステン酸化物粒子の分散液を、繊維やその原料となるポリマーに直接混合することもできる。また必要に応じて、複合タングステン酸化物粒子分散液に酸やアルカリを添加してｐＨを調整しても良いし、複合タングステン酸化物粒子の分散安定性を一層向上させるために、各種の界面活性剤、カップリング剤などを添加しても良い。

　以上に説明したように、本実施形態に係る赤外線吸収繊維は、赤外線吸収成分として複合タングステン酸化物粒子を繊維に含有する。本実施形態に係る赤外線吸収繊維は、複合タングステン酸化物粒子の含有量が少量であっても太陽光などからの近赤外線を効率良く吸収し、熱に変換するので、複合タングステン酸化物粒子の含有量が少なくても保温性に優れた繊維を提供することを可能とした。また、本実施形態に係る赤外線吸収繊維は、複合タングステン酸化物粒子の含有量を少なくできるため、繊維製品の意匠性を損なうことがなく、強度や伸度などの繊維の基本的な物性を損なうことも回避できる。この結果、本実施形態に係る繊維は、保温性を必要とする防寒用衣料、スポーツ用衣料、ストッキング、カーテン等の繊維製品やその他産業用繊維製品等の種々の用途に使用することができる。さらに、本実施形態に係る赤外線遮蔽繊維構造物を衣類に用いた場合、自然光に含まれる赤外線の人体の肌に届く量を低減できるため、肌へのダメージを低減することができる。本実施形態の繊維製品をカーテンとして使用し、建築物などの窓に配すれば、カーテンが太陽光に含まれる赤外線を吸収し、赤外線遮蔽機能を持つカーテンとなるので、窓に入射する日射の赤外線を遮蔽することとなり、夏季の室温の上昇も抑制できる。
　さらに、本実施形態の赤外線吸収繊維によれば、赤外線吸収粒子である複合タングステン酸化物粒子の含有量が少なくても赤外線吸収性能に優れるため、赤外光による透過や反射を防止し、いわゆる盗撮を防止しつつも、繊維の風合いを損ねることを防止できる。従って、いわゆる盗撮防止用の赤外線吸収繊維として、各種用途に用いることができる。
［繊維製品］
　本実施形態の繊維製品は、既述の赤外線吸収繊維を加工してなり、既述の赤外線吸収繊維を含むことができる。なお、本実施形態の繊維製品は既述の赤外線吸収繊維から構成することもできる。
（１）ＣＣＤカメラに対する本実施形態の繊維製品の盗撮防止機能
　本実施形態の赤外線吸収繊維を用いた生地や該生地を用いた衣料である繊維製品は、単位面積当たりの複合タングステン酸化物粒子、例えばセシウムタングステン複合酸化物の含有量が０．０８ｇ／ｍ^２以上であれば、日本紡績協会試験（ボーケン規格「ＢＱＥ　Ａ　０３３」）の赤外線による盗撮（ＣＣＤカメラによる透視）防止を行うことができる。

　本実施形態の赤外線吸収繊維を用いた繊維製品（赤外線遮蔽繊維構造物）は、ＣＣＤカメラによる盗撮防止機能を備える観点から、複合タングステン酸化物粒子の単位面積当たりの含有量は、上述のように０．０８ｇ／ｍ²以上にでき、好ましくは０．１５ｇ／ｍ²以上であり、更に好ましくは０．２０ｇ／ｍ²以上である。本実施形態の繊維製品の複合タングステン酸化物粒子の単位面積当たりの含有量の上限値は特に限定されないが、例えば４．５ｇ／ｍ²以下にできる。

　従って、本実施形態の繊維製品の複合タングステン酸化物粒子の単位面積当たりの含有量は、０．０８ｇ／ｍ²以上４．５ｇ／ｍ²以下にでき、好ましくは０．１５ｇ／ｍ²以上４．５ｇ／ｍ²以下であり、更に好ましくは０．２０ｇ／ｍ²以上４．５ｇ／ｍ²以下である。

　本実施形態の繊維製品の単位面積当たりの複合タングステン酸化物粒子の含有量が０．０８ｇ／ｍ²以上であれば、赤外線領域（波長８００ｎｍ～１３００ｎｍ）における繊維製品の平均反射率を６５％以下にすることができる。本実施形態の繊維製品の平均反射率が６５％以下ならば、本実施形態の繊維製品を織物や編物にして用いた衣類において、赤外線による盗撮（ＣＣＤカメラによる透視）を防止することができる。本実施形態の繊維製品の平均反射率は６０％以下がより好ましく、５５％以下がさらに好ましい。

　本実施形態の繊維製品の平均反射率は、複合タングステン酸化物粒子の単位面積当たりの含有量により選択できる。例えば、本実施形態の繊維製品の単位面積当たりの複合タングステン酸化物粒子の含有量を０．１５ｇ／ｍ²以上にすることで、繊維製品の平均反射率を６０％以下にできる。また、本実施形態の繊維製品の単位面積当たりの複合タングステン酸化物粒子の含有量を０．２０ｇ／ｍ²以上にすることで、繊維製品の平均反射率を５５％以下にできる。

　本実施形態の繊維製品の単位面積当たりの複合タングステン酸化物粒子の含有量が４．５ｇ／ｍ²を超えると、平均反射率は０．０７％よりも低くなるが、より低い平均反射率にしても赤外線による盗撮防止の効果はそれ以上向上しない。このため、本実施形態の繊維製品の単位面積当たりの複合タングステン酸化物粒子における含有量は、上記のように、４．５ｇ／ｍ²以下にすることができ、３．５ｇ／ｍ²以下であってもよい。単位面積当たりの複合タングステン酸化物粒子の含有量が３．５ｇ／ｍ²で以下あれば、平均反射率は０．２％以下となり、赤外線による盗撮防止の効果が十分発揮される。但し、繊維製品の単位面積当たりに複合タングステン酸化物粒子を過剰に含む場合、繊維製品を染色する色彩によってはその発色を困難にすることがある。

　なお、複合タングステン酸化物粒子を含まない繊維製品の赤外線領域（波長８００ｎｍ～１３００ｎｍ）における平均反射率は、下記参考例で確認されるように７７％であり、この平均反射率では、赤外線による盗撮（ＣＣＤカメラによる透視）が可能になってしまう。

　また、上記平均反射率とは、波長８００ｎｍ以上１３００ｎｍ以下の領域において、５ｎｍ間隔で、分光光度計で測定される繊維製品における反射率の平均値である。

　赤外線による盗撮（ＣＣＤカメラによる透視）を防止する解決策に関し、繊維製品の反射率に注目していることについて説明する。

　眼で物を見た場合、その物を認識できるのは、その物に照射された光が反射し、眼でその物の像を形成できるからであり、カメラで撮影される像も同様である。

　そして、繊維製品では、赤外線を吸収する複合タングステン酸化物粒子が繊維の表面および内部から選択された１以上の場所に含まれており、繊維製品に光が照射されると上記複合タングステン酸化物粒子が赤外線を吸収するため、赤外線領域の波長７８０ｎｍを超える領域における反射率が低くなる。すなわち、本実施形態の繊維製品に照射された光成分の内、赤外線の反射率は下がっている。この結果、本実施形態の繊維製品をＣＣＤカメラで撮影しようとしても、波長７８０ｎｍを超える領域の反射率が下がっているため不鮮明な画像になる。

　なお、広く使われているＣＣＤカメラの波長領域は４００ｎｍ～１２００ｎｍであることが知られている。本実施形態の繊維製品では、照射された光成分の内、赤外線領域の波長７８０ｎｍを超える領域の反射率が下がるので、赤外線による盗撮（ＣＣＤカメラによる透視）を防止することが可能となる。ここまで、赤外線による盗撮に用いる撮像装置として、ＣＣＤカメラを例に説明したが、本実施形態の繊維製品は赤外線を撮像できる撮像装置による盗撮はカメラの種類によらず防止できる。

　一方、本実施形態の繊維製品が含有する複合タングステン酸化物粒子の可視光線領域における光の吸収は、赤外線領域の波長７８０ｎｍを超える領域における光の吸収に較べて僅かである。すなわち、本実施形態の繊維製品が含有する複合タングステン酸化物粒子の可視光線領域における光の吸収は少ないため、染色等により、繊維製品に自由に色彩を付与することができる。

　以下に具体的な実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
（１）評価方法
（１－１）粉末Ｘ線回折パターン
　複合タングステン酸化物粒子について、粉末Ｘ線回折装置（ＢＲＵＫＥＲ　Ｄ２　ＰＨＡＳＥＲ）を用い、粉末Ｘ線回折パターン（ＸＲＤパターン）の測定を行った。なお、線源としてはＣｕＫα線を用い、管電圧４５ｋＶ、管電流４０ｍＡとして粉末Ｘ線回折パターンの測定を行った。
（１－２）ＳＴＥＭ像、ＨＡＡＤＦ像観察
　得られた複合タングステン酸化物粒子について、透過型電子顕微鏡を用いて観察を行った。日本電子製ＳＴＥＭ（型式：ＪＥＭ－ＡＲＭ２００Ｆ）を用いてｈｉｇｈ－ａｎｇｌｅ　ａｎｇｕｌａｒ　ｄａｒｋ－ｆｉｅｌｄ　ｉｍａｇｅｓ（ＨＡＡＤＦ）像も観察した。ＨＡＡＤＦ像での原子番号（Ｚ）コントラストは粒子が有する原子の原子番号の２乗と原子の個数に比例する。重い原子が複数個積層するほど明るいコントラストを示すため、最も明るいコントラスト、および２番目に明るいコントラストがＷ、３番目に明るいコントラストがＣｓであり、Ｏは確認できないと考えられる。

　試料は分散法にて支持膜付Ｃｕメッシュに戴置して観察した。

　観察の際、２００ｋＶの加速電圧で高角度散乱暗視野像（ＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ）を取得した。本観察像では、試料を透過した電子のうち、散乱角の大きな透過電子のみを検出して得られた像であり、上述のように組成の違いによるコントラストを得ることができる。なお、散乱角の大きさは原子番号（Ｚ）の２乗に比例するため、原子番号が大きな元素ほど明るいコントラストとなる。実施例、比較例で調製した複合タングステン酸化物粒子の場合、ＣｓおよびＷをコントラストの違いにより識別することが可能である。

　評価に当たっては、Ｗの欠損箇所と非欠損箇所を判別するためにＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像において、タングステンが配置されたスポット（点）であるタングステンカラム（Ｗカラム）におけるコントラスト強度の違いを利用することにした。Ｗが欠損していれば、該スポットにおいて、Ｚコントラストの最大値が減少する。

　観察されたＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像のコントラストの評価、観察は、Ｇａｔａｎ社製のＤｉｇｉｔａｌ　Ｍｉｃｒｏｇｒａｐｈ（Ｖｅｒｓｉｏｎ　３．４３．３２１３．０）を用いて行った。観察データを本ソフトウェアで読み込み、該当箇所のコントラストをラインプロファイル機能により抽出した。

　ＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像は、分散した複合タングステン酸化物粒子のうち、電子線による劣化を抑制するためにサイズが５０ｎｍ以上の粒子を選択した。なお、観察する粒子を選択するために用いる粒子のサイズは、粒子を内部に含む最小包含円の直径とした。そして、Ｗ原子のＺコントラストを明確に区別するために観察視野のサイズが２０ｎｍ角以上５０ｎｍ角以下となるようにして観察できる。

　図５に六方晶構造のＣｓ－Ｗ－Ｏ化合物である六方晶Ｃｓ_０．３３ＷＯ_３の［００１］入射方向での、すなわち（００１）面での結晶構造を示す。Ｗ原子５１のみが並ぶＷ／Ｗ列５０１と、Ｗ原子５１とＭ元素５３であるＣｓ原子とが交互に並ぶＷ／Ｃｓ列５０２がそれぞれ配列している。なお、図中のａ軸長、ｂ軸長を示した両矢印で挟まれた領域Ｓが単位格子になる。紙面と垂直なｃ軸方向に向かってＷカラムおよびＣｓカラムが存在しており、領域ＳあたりにＷカラムは３列、Ｃｓカラムは１列存在する。
　ＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像におけるタングステン原子のＺコントラストにおける暗部の個数割合の算出に当たっては、まず図５に示した結晶構造を参考に、観察視野内におけるＷカラムの数をカウントした。

　次いで、観察視野内の各ＷカラムのスポットのＺコントラストの最大値を、上記ソフトウェアを用いて算出し、その平均値を求めた。また、観察視野内の各Ｗカラムのスポットのコントラストの最大値が、上記平均値の９５％以下となっているスポットである暗部の数をカウントした。

　そして、観察視野内におけるＷカラムの数に占める、観察視野内の暗部の数の割合を求めた。
（１－３）透過光プロファイル
　赤外線吸収粒子分散液の光学特性は、分光光度計（日立製作所株式会社製　Ｕ－４１００）を用いて、波長２００ｎｍ以上２６００ｎｍ以下の範囲において５ｎｍの間隔で透過光プロファイルを測定した。
（１－４）組成分析
　複合タングステン酸化物粒子が含有する各成分の割合は、以下の方法により評価した。

　Ｃｓの質量割合は偏向ゼーマン原子吸光光度計Ｐｏｌａｒｉｚｅｄ　Ｚｅｅｍａｎ　ａｔｏｍｉｃ　ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎ　ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ（ＡＡＳ、型式：ＺＡ３３００、株式会社日立ハイテック製）により１試料毎に３回測定した平均値とした。

　Ｗの質量割合はｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ－ｃｏｕｐｌｅｄ　ｐｌａｓｍａ　ｏｐｔｉｃａｌ　ｅｍｉｓｓｉｏｎ　ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ（ＩＣＰ－ＯＥＳ、型式：ＩＣＰＥ－９８００、株式会社島津製作所製）により１試料毎に３回分析した平均値とした。

　Ｏの質量割合は、酸素・窒素・水素分析装置（ＯＮ－８３６，　ＬＥＣＯ　Ｊａｐａｎ　Ｃｏｒｐ．，）により酸素検出用の赤外線検出器（ｉｎｆｒａｒｅｄ　ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎ　ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ（ＩＲＳ））を用い、１試料毎に３回分析した平均値とした。
［実施例１］
（１）複合タングステン酸化物粒子の製造
　図１に示した複合材料製造装置１０および図２に示した還元処理装置を用いて、複合タングステン酸化物粒子の製造を行い、評価を行った。以下、具体的な条件について説明する。

　複合材料製造装置１０は、原料となる溶液であるＷ元素源とＭ元素源を含む溶液を入れた格納部１１と、原料の液滴を形成し、併せて火炎を形成する二流体ノズル１２と、形成した複合タングステン酸化物粒子を回収するフィルター１４に接続された反応管１３とを有する。

　二流体ノズル１２への原料溶液の供給量は３ｇ／ｍｉｎとした。また、キャリアガスである酸素の流量は、エジェクタ１５により制御し、１５Ｌ／ｍｉｎとした。エジェクタ１５における空気流量が１６０Ｌ／ｍｉｎ～１８０Ｌ／ｍｉｎの範囲内となるように制御した。

　二流体ノズル１２による火炎の形成には、プロパンガスと、酸素ガスとを用い、プロパンガス流量を１．２Ｌ／ｍｉｎ、酸素ガス流量を６．０Ｌ／ｍｉｎとした。

　原料としては、Ｗ元素源であるＷ（ＣＯ）_６をＴＨＦ（テトラヒドロフラン）に溶解した溶液（Ｗ元素源を含む溶液）と、Ｍ元素源である酢酸セシウムをエタノールに溶解した溶液（Ｍ元素源を含む溶液）との混合溶液を用い、格納部１１に収容した。原料である混合溶液は、含まれるＭ元素であるＣｓの物質量（Ｃｓ）と、タングステン元素の物質量（Ｗ）との比であるＣｓ／Ｗが０．３７となるように調製した。

　格納部１１から、二流体ノズル１２に上記原料溶液とキャリアガスである酸素を供給してエアロゾルを形成した（エアロゾル形成工程）。

　二流体ノズル１２には上述のように、プロパンガスと、酸素ガスとを供給し、火炎の反応場を形成しており、形成したエアロゾルは火炎内に供給し、熱処理を行った（熱処理工程）。

　熱処理工程では、熱処理工程後に得られる複合タングステン酸化物粒子に、適切なＷ原子の欠損や異相が生じ、かつ還元処理工程後に、Ｗ原子のＺコントラストが低下したスポットが確認される複合タングステン酸化物粒子が生じるように、熱処理の条件を選択した。具体的には予め実施した試験結果に基づいて、熱処理条件を選択している。なお、熱処理工程は、原料を５５０℃以上の温度で熱処理している。

　熱処理工程で得られた複合タングステン酸化物粒子を、反応管１３内に導入した。反応管１３の周囲には冷却水の配管１３１が配置され、冷却水が循環している。反応管１３に導入された複合タングステン酸化物粒子は、バグフィルターであるフィルター１４で回収した。

　熱処理工程後に得られた複合タングステン酸化物粒子について、ＸＲＤパターンの評価を行った。

　図６に、得られた複合タングステン酸化物粒子のＸＲＤパターンを示す。図６中、「Ａｓ　ｐｒｏｄｕｃｅｄ」として示したＸＲＤパターン（Ａ）が熱処理工程後の複合タングステン酸化物粒子のＸＲＤパターンである。六方晶Ｃｓ_０．３３ＷＯ_３（ＩＣＤＤ：８１－１２４５）もしくは斜方晶Ｃｓ_４Ｗ_１１Ｏ_３５（ＩＣＤＤ：５１－１８９１）から構成される結晶相と、少量の立方晶パイロクロア（Ｃｓ_２Ｏ）_０．４４Ｗ_２Ｏ_６（ＩＣＤＤ：４７－０５６６）相と同定された。少量の結晶相の同定にはリードベルト解析を用いた。

　さらに、図２に示した還元処理装置２０を用いて還元処理を行った。

　図２に示すように、３体積％Ｈ_２／９７体積％Ａｒの気流下、反応管２１の周囲にはヒーター２２を設けておき、室温から５００℃まで昇温し、容器２３を置いた部分が還元処理温度に到達後、２時間保持し、その後室温まで冷却することで還元処理を行った（還元処理工程）。これにより、実施例１に係る複合タングステン酸化物粒子である還元粒子を得た。

　図６に、得られた複合タングステン酸化物粒子のＸＲＤパターンを示す。図６中、「Ｈｅａｔ　ｔｒｅａｔｅｄ」として示したＸＲＤパターン（Ｂ）が還元処理工程後の複合タングステン酸化物粒子のＸＲＤパターンである。得られたＸＲＤパターンは、Ｃｓ_０．３３ＷＯ_３の回折ピークのみを含み、結晶系が六方晶であることを確認した。

　実施例１に係る還元処理工程後の複合タングステン酸化物粒子の既述の組成分析を行い、セシウムとタングステンとの物質量の比であるＣｓ／Ｗ比を求めた。その結果、Ｃｓ／Ｗ比は仕込み組成の０．３７から、０．３４まで減少することを確認できた。しかし、０．３４という値は理論組成比０．３３よりも０．０１多く、上記ＸＲＤパターン上は単相であるため、Ｃｓ欠損もほぼ存在しないと考えられる。

　また、複合タングステン酸化物粒子の組成分析を行ったところ、酸素と、タングステンとの物質量の比であるＯ／Ｗ比は２．８４１であることを確認できた。なお、以下の説明では、複合タングステン酸化物粒子について、ＸＲＤパターンでの評価にあわせてＣｓ_０．３３ＷＯ_３と記載する。
（２）赤外線吸収粒子分散液の製造
　実施例１に係る還元処理工程後の複合タングステン酸化物粒子１０質量％とアクリル系高分子分散剤（アミン価４８ｍｇＫＯＨ／ｇ、分解温度２５０℃のアクリル系分散剤）１０質量％と、トルエン８０質量％とを秤量した。秤量した上記材料を、直径が０．０５ｍｍジルコニアビーズと共にペイントシェーカーに入れ、ペイントシェーカーを用いて１００分間の分散処理を行い、実施例１に係る赤外線吸収粒子分散液であるＣｓ_０．３３ＷＯ_３粒子分散液を得た。

　得られた実施例１に係る分散液内における複合タングステン酸化物粒子の平均粒径（透過型電子顕微鏡による測長）を測定すると、２７．２ｎｍであった。

　なお、複合タングステン酸化物粒子の平均粒径は、透過型電子顕微鏡を用いて、３視野で観察し、算出した。具体的には、３視野で、合計６００個以上７００個以下の複合タングステン酸化物粒子の像を観察し、二値化したデータから、各粒子の面積を算出し、各粒子について円換算径を算出した。そして、評価を行った全ての複合タングステン酸化物粒子の粒径、すなわち円換算径の加算平均値を、平均粒径とした。

　実施例１に係るＣｓ_０．３３ＷＯ_３粒子分散液を分取し、溶媒を除去して実施例１に係る複合タングステン酸化物粒子であるＣｓ_０．３３ＷＯ_３粒子を得た。

　実施例１に係る複合タングステン酸化物粒子であるＣｓ_０．３３ＷＯ_３粒子のＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像を図７Ａ、図７Ｂに示す。図７Ａに、粒子全体のＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像を示している。また、図７Ｂに、図７Ａに示した粒子中の四角形の領域７１を拡大して観察した像を示す。図７Ｂに示すように、観察視野のサイズは、約２０ｎｍ角となるように調整した。本粒子内にＷ原子のＺコントラストの低い領域である暗部が１５か所ほど確認された。本視野におけるタングステンカラムの数は、単位格子中に３カラムのタングステンカラムが存在することから、単位格子のサイズと視野の大きさとから、視野中に２２４９個のカラムが存在すると算出される。つまり、個数の割合としては０．６７％のカラムにおいてＷ欠損が存在することになる。

　コントラストの低い箇所である暗部は、タングステンカラムのスポットのＺコントラストの最大値が、平均値の９５％以下に低下したスポットとした。

　図８Ａ～図８Ｆに、実施例１における複合タングステン酸化物粒子のＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像においるＷ欠損を含むラインプロファイルを示す。図８Ａ～図８Ｆは、それぞれ、図７Ｂ中のラインＬ１～ラインＬ６でのラインプロファイルに当たる。

　同一ライン内においても粒子の厚みや電子線に対する傾き等の要因により、Ｚコントラストが異なる可能性があるが、視野内の各タングステンカラムのスポットのＺコントラストの最大値を平均化することでＷ欠損のないバルク領域におけるＷ原子のＺコントラスト強度とした。視野内の各タングステンカラムのスポットのＺコントラストの最大値の平均値を基準として、平均値に対して、タングステンカラムのスポットのコントラストの最大値が９５％以下になっている箇所をＷ欠損箇所とした。

　図８Ａに示したラインＬ１では点Ｐ１においてそのＺコントラストの最大値は平均値に対して８９．１％に、点Ｐ２では８８．４％まで低下しており、これらの点はＷ欠損箇所になる。

　図８Ｂに示したラインＬ２では、点Ｐ３～点Ｐ６のそれぞれにおいて、平均値に対して、Ｚコントラストの最大値は、８９．３％、９２．８％、９３．２％、９１．３５％まで低下していた。

　図８Ｃに示したラインＬ３では点Ｐ７、点Ｐ８において、平均値に対して、Ｚコントラストの最大値は、８６．９５％、８５．６％までそれぞれ低下した。

　図８Ｄに示したラインＬ４では点Ｐ９、点Ｐ１０において、平均値に対して、Ｚコントラストの最大値は、８９．２％、８９．４％までそれぞれ低下した。

　図８Ｅに示したラインＬ５では点Ｐ１１において、平均値に対して、Ｚコントラストの最大値は、８８．６％まで低下した。

　図８Ｆに示したラインＬ６では点Ｐ１２～点Ｐ１５において、平均値に対して、Ｚコントラストの最大値は、９４．０％、９３．２％、９３．４％、９０．６％までそれぞれ低下した。

　図１２Ａは、実施例１に係る複合タングステン酸化粒子について、［１１０］から入射からのＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像、すなわちプリズム面の像である。図１２Ａにはｃ軸に垂直な方向にＷ原子の欠損による欠損面１２１が生じている。該欠損は、基底面（００１）面の欠損である。図１２Ｂは、図１２Ａの該欠損面の拡大図である。該欠損に隣接しｃ軸方向に長さ約３ｎｍのＣｓ原子とＷ原子が存在しない空間１２２が存在することが確認された。これらの基底面の欠損である欠損面１２１およびc軸方向に沿ったＣｓ、Ｗの存在しない空間１２２は、熱処理工程においてＣｓ、Ｗ原子が結晶内を再配列した際に、結晶化した領域の界面として残留したためと考えられる。

　実施例１に係る赤外線吸収粒子分散液の光学特性として、透過光プロファイルを既述の条件で測定した。透過光プロファイルの結果を図１１Ａに、各波長の透過率を表１に示す。

　なお、光学特性を測定するに際し赤外線吸収粒子分散液は、可視光透過率が８０％になるように調整した。

　実施例１に係る赤外線吸収粒子分散液の透過光プロファイルの測定の際に得られる吸光曲線からモル吸光係数曲線を求めた。そして、モル吸光係数曲線について、ｃ軸に垂直な方位の局在表面プラズモン共鳴（ＬＳＰＲ⊥）の吸収曲線と、ｃ軸に平行な方位の局在表面プラズモン共鳴（ＬＳＰＲ／／）の吸収曲線と、ポーラロン吸収の吸収曲線との３つの吸収要素の吸収曲線に分離を行った。結果を図１５Ａに示す。図１５Ａ中の「ｅｘｐ．」は実測値で、「ｃａｌｃ」は３つの吸収要素の吸収曲線の合算値である。

　表２に係る３つの吸収要素の吸収曲線のピーク位置、ピーク強度、吸収曲線の積算強度を示す。さらに、モル吸光係数曲線の積算強度に対する３つの吸収要素の吸収曲線の積算強度の割合を表３に示す。

　さらに、分光光度計の測定データから色度であるＬ^＊、ａ^＊、ｂ^＊表色系の値を算出した。結果を表４に示す。
（３）赤外線吸収繊維の製造
　実施例１に係る赤外線吸収粒子分散液について、スプレードライヤーを用いてトルエンを除去し、Ｃｓ_０.３３ＷＯ_３分散粉である（Ａ粉）を得た。

　得られた分散粉(Ａ粉)を、熱可塑性樹脂であるポリエチレンテレフタレート樹脂ペレットに添加し、ブレンダーで均一に混合した後、当該混合物を二軸押出機で溶融混練して押し出し、当該押出されたストランドをペレット状にカットした。以上の操作により、熱線吸収成分であるＣｓ_０.３３ＷＯ_３粒子を４０質量％含有するマスターバッチ（マスターバッチａ１）を得た。

　マスターバッチａ１を溶融紡糸し、続いて延伸を行ない、ポリエステルマルチフィラメント糸ａ１を製造した。得られたポリエステルマルチフィラメント糸ａ１を切断してポリエステルステープルａ１を作製した。

　また、Ｃｓ_０．３３ＷＯ_３粒子を含まないマスターバッチを溶融紡糸し、続いて延伸を行ない、ポリエステルマルチフィラメント糸ａ２を製造した。得られたポリエステルマルチフィラメント糸ａ２を切断してポリエステルステープルａ２を作製した。ポリエステルステープルａ１で紡績糸ａ１を、ポリエステルステープルａ２で紡績糸ａ２を製造した。
（４）繊維製品である保温性ニットの製造
　紡績糸ａ１と紡績糸ａ２を用いて近赤外線吸収性を有する実施例１に係る繊維製品であるニット製品ａ１を得た。ニット製品ａ１は日射反射率が８％になるように紡績糸ａ１と紡績糸ａ２の配合割合を調整して製造した。
（温度上昇効果の評価）
　次に、作製したニット製品ａ１の生地裏面の温度上昇効果を、以下のようにして測定した。

　２０℃、６０％ＲＨ環境下において、太陽光線近似スペクトルランプ(セリック(株)製ソーラーシミュレータＸＬ－０３Ｅ５０改)を、当該ニット製品の生地から３０ｃｍの距離より照射し、一定時間毎(０秒、３０秒、６０秒、１８０秒、３６０秒、６００秒)の、当該生地裏面の温度を放射温度計(ミノルタ(株)製ＨＴ－１１)にて測定した。

　評価結果を表５に示す。
（盗撮防止評価）
　紡績糸ａ１と紡績糸ａ２を用いて、単位面積当たりの複合タングステン酸化物粒子の使用量が表６に示した値となるように実施例１に係る前駆ニット生地を作製した。なお、実施例１では、表６に示すように単位面積当たりの複合タングステン酸化物粒子の含有量が濃度Ｂ～濃度Ｇの６種類の前駆ニット生地を作製した。

　その後、カチオン系染料で前駆ニット生地を茶色に染色して実施例１に係る盗撮防止評価用ニット生地を作製した。なお、染色して実施例１に係る盗撮防止評価用ニット生地を得たのは、染色されていない白色のニット製品では、可視光でも透けて見える事態を回避するためである。

　また、参考例として複合タングステン酸化物粒子を含まない紡績糸ａ２のみで、本実施例の盗撮防止評価用ニット生地と同様に参考例に係る盗撮防止評価用ニット生地を作製した。
（実施例１に係るニット製品の平均反射率）
　そして、日立製作所製の分光光度計を用い、実施例１に係るニット生地の波長８００ｎｍ以上１３００ｎｍ以下における５ｎｍ間隔の反射率を測定し、平均反射率を求めた。波長３００ｎｍ以上２５００ｎｍ以下の範囲における反射率の測定結果を図１６Ａに、生地の平均反射率の評価結果を表６にそれぞれ示す。
（実施例１、参考例に係るニット生地の評価）
　次いで、日本紡績検査協会のボーケン規格「ＢＱＥ　Ａ　０３３」に準じた下記試験方法により、実施例１、参考例に係るニット生地の「赤外線による盗撮（ＣＣＤカメラによる透視）防止」に関する評価を行った。
「試験方法」
（第１工程）ニット生地に係る試験片を透過判定板（視力検査表）に被せ、試験台に設置する。
（第２工程）赤外線投光機を用いて、試験片表面に約７ｍＷ／ｃｍ²の強度で投光する。
（第３工程）上記試験片をデジタルカメラで通常撮影する。
（第４工程）上記試験片を赤外線カメラで透過撮影する。
（第５工程）透過撮影した画像を確認し、赤外線透過の有無を判定する。
「判定結果」
　実施例１に係るニット生地は、赤外線による透過が認められなかった。これに対して、参考例に係るニット生地は赤外線による透過が認められた。
［比較例１］
（１）複合タングステン酸化物粒子の製造
　水０．３３０ｋｇにＣｓ_２ＣＯ_３０．２１６ｋｇを溶解し、得られた溶液をＨ_２ＷＯ_４１．０００ｋｇに添加して十分攪拌した後、乾燥して乾燥物を得た。Ｎ_２ガスをキャリアーとした体積割合で５％Ｈ_２ガスを供給しながら当該乾燥物を電気炉に入れ加熱し、８００℃の温度で１時間焼成し、その後、供給ガスをＮ_２ガスのみに切り替えて、室温まで降温して比較例１に係る複合タングステン酸化物粗粉末を得た。
（２）赤外線吸収粒子分散液の製造
　得られた複合タングステン酸化物粗粉末１０質量％とアクリル系高分子分散剤（アミン価４８ｍｇＫＯＨ／ｇ、分解温度２５０℃のアクリル系分散剤）１０質量％とトルエン８０質量％とを秤量した。秤量した上記材料を、直径が０．１ｍｍのジルコニアビーズと共にペイントシェーカーに入れ、ペイントシェーカーを用いて２時間分散処理を行い、比較例１に係る赤外線吸収粒子分散液を得た。得られた比較例１に係る分散液内における複合タングステン酸化物粒子の平均粒径（透過型電子顕微鏡による測長）を測定すると、２５．１ｎｍであった。なお、平均粒径は実施例１と同じ手順、条件で測定、算出した。また、比較例１に係る分散液を分取し、溶媒を除去して比較例１に係る複合タングステン酸化物粒子であるＣｓ_０．３３ＷＯ_３粒子を得た。

　図９Ａ、図９Ｂに、比較例１に係る複合タングステン酸化物粒子であるＣｓ_０．３３ＷＯ_３粒子のＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像を示す。図９Ａに、粒子全体のＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像を示している。また、図９Ｂに、図９Ａに示した粒子中の四角形の領域９１を拡大して観察した像を示す。固相法を経由して合成される粉末は、長時間の分散処理により破断面を有する。そして、コントラストは粒子厚みの影響を受けるため、その影響が少ないと考えられる粒子中心部の領域９１を拡大、抽出した。

　図９Ｂ中、矢印９２、矢印９３で示した箇所にＣｓカラムの低コントラスト領域が確認された。本Ｃｓカラムの欠損は長時間の粉砕処理に伴い、Ｃｓが脱離した影響と考えられる。

　図１０Ｂ～図１０Ｄに、図１０Ａに示したＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像における、Ｗ／Ｗ列であるラインＬ１１～ラインＬ１３でのラインプロファイルを抽出した結果を示す。いずれの箇所においても、Ｗ原子のＺコントラストが、平均コントラストの９５％以下となるような点は確認されなかった。つまり、Ｗ欠損は生じていないことを確認できた。

　比較例１に係る赤外線吸収粒子分散液の光学特性として、透過光プロファイルを既述の条件で測定した。透過光プロファイルの結果を図１１Ｂに、各波長の透過率を表１に示す。

　また、比較例１に係る赤外線吸収粒子分散液の透過光プロファイルの測定の際に得られる吸光曲線からモル吸光係数曲線を求めた。そして、モル吸光係数曲線について、ｃ軸に垂直な方位の局在表面プラズモン共鳴（ＬＳＰＲ⊥）の吸収曲線と、ｃ軸に平行な方位の局在表面プラズモン共鳴（ＬＳＰＲ／／）の吸収曲線と、ポーラロン吸収の吸収曲線との３つの吸収要素の吸収曲線に分離を行った。結果を図１５Ｂに示す。

　さらに、比較例１に係る赤外線吸収粒子分散液の可視光透過率を８０％になるように希釈し、分光光度計の測定データから、色度であるＬ^＊、ａ^＊、ｂ^＊表色系の値を算出した。結果を表４に示す。
（３）赤外線吸収繊維の製造
　比較例１に係る赤外線吸収粒子分散液について、スプレードライヤーを用いてトルエンを除去し、Ｃｓ_０.３３ＷＯ_３分散粉である（Ｂ粉）を得た。

　得られた分散粉(Ｂ粉)を、熱可塑性樹脂であるポリエチレンテレフタレート樹脂ペレットに添加し、ブレンダーで均一に混合した後、当該混合物を二軸押出機で溶融混練して押し出し、当該押出されたストランドをペレット状にカットした。以上の操作により、熱線吸収成分であるＣｓ_０.３３ＷＯ_３粒子を４０質量％含有するマスターバッチ（マスターバッチｂ１）を得た。

　マスターバッチｂ１を溶融紡糸し、続いて延伸を行ない、ポリエステルマルチフィラメント糸ｂ１を製造した。得られたポリエステルマルチフィラメント糸ｂ１を切断してポリエステルステープルｂ１を作製した。ポリエステルステープルｂ１で紡績糸ｂ１を製造した。
（４）繊維製品である保温性ニットの製造
　紡績糸ｂ１と、実施例１で製造した複合タングステン酸化物粒子を含まない紡績糸ａ２を用いて比較例１に係る繊維製品であるニット製品ｂ１を得た。ニット製品ｂ１は日射反射率が８％になるように紡績糸ｂ１と紡績糸ａ２の配合割合を調整して製造した。
（温度上昇効果の評価）
　次に、作製したニット製品ｂ１の生地裏面の温度上昇効果を、実施例１と同じ条件で測定した。

　評価結果を表５に示す。表５によれば、実施例１と比較例１に係るニット製品の生地裏面の温度上昇には差がなかった。
[盗撮防止評価]
（盗撮防止評価）
　紡績糸ｂ１と紡績糸ａ２を用いて、単位面積当たりの複合タングステン酸化物粒子の使用量が表６に示した値となるように比較例１に係る前駆ニット生地を作製した。なお、比較例１では、表６に示すように単位面積当たりの複合タングステン酸化物粒子の含有量が濃度Ｂ～濃度Ｇの６種類の前駆ニット生地を作製した。

　その後、カチオン系染料で前駆ニット生地を茶色に染色して比較例１に係る盗撮防止評価用ニット生地を作製した。

　得られた比較例１に係る盗撮防止評価用ニット生地について実施例１と同じ条件で評価した。反射率の測定結果を図１６Ｂに、生地の平均反射率の評価結果を表６にそれぞれ示す。

　図１１Ａに示した実施例１の赤外線吸収粒子分散液では、波長５００ｎｍ～６００ｎｍの領域の透過率のピークを７５％以上にしても、近赤外線領域の透過率のボトムを５％以下にできることを確認できた。

　これに対して、図１１Ｂに示した比較例１の赤外線吸収粒子分散液では、波長５００ｎｍ～６００ｎｍの領域の透過率のピークを７５％以上にした場合、近赤外線領域の透過率のボトムを５％以下にできず、近赤外線遮蔽効果に劣ることを確認できた。

　さらに、表１より、実施例１の赤外線吸収粒子分散液の波長７００ｎｍでの透過率は、比較例１の従来の複合タングステン酸化物粒子により構成される赤外線吸収粒子分散液の透過率よりも高く、可視光線領域（波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下）のうち長波長側の光も透過していることを示している。このことは、実施例１の複合タングステン酸化物粒子は、波長８００ｎｍ付近の赤い光も透過するので、従来の複合タングステン酸化物粒子の色調改善にも貢献していることを示している。

　表４より、実施例１に係る赤外線吸収粒子分散液は、ｂ^＊が－０．６１５０２であるのに対し、比較例１に係る近赤外線吸収粒子分散液は、ｂ^＊が－０．７１４１１であった。ｂ^＊は負の値になるほど、分散液が青味を帯びていることを示す。実施例１は、従来の複合タングステン酸化物粒子よりも青味が少なく色調改善にも貢献していることを示している。

　表６に示される結果によれば、実施例１に係る盗撮防止評価用ニット生地では、複合タングステン酸化物粒子の単位面積当たりの含有量が０．０９ｇ／ｍ^２でも日本紡績検査協会試験での透過は認められないことを確認できた。これに対して、比較例１に係る盗撮防止評価用ニット生地では、複合タングステン酸化物粒子の単位面積当たりの含有量を０．１３ｇ／ｍ^２以上にしないと、透過が認められない効果は発現しないことが確認できた。
　さらに、図１６Ａ、図１６Ｂを対比すると以下の点が確認できる。図１６Ａに示した実施例１に係る盗撮防止評価用ニット生地の反射率曲線では、複合タングステン酸化物粒子の単位面積当たりの含有量が０．０９ｇ／ｍ^２である濃度Ｂでも、波長１０５０ｎｍで反射率が６５％を下回る。これに対して、図１６Ｂに示した比較例１に係る盗撮防止評価用ニット生地の反射率曲線では、複合タングステン酸化物粒子の単位面積当たりの含有量が０．０９ｇ／ｍ²である濃度Ｂでは波長１０５０ｎｍにおいて反射率が６５％を超える。
　これらの結果より、本実施形態の赤外線吸収線繊維に含まれる複合タングステン酸化物粒子は、従来から知られる複合タングステン酸化物粒子よりも、赤外線の吸収特性が優れていることが分かる。
　本出願は、２０２３年９月２９日に日本国特許庁に出願された特願２０２３－１７０８３４号に基づく優先権を主張するものであり、特願２０２３－１７０８３４号の全内容を本国際出願に援用する。

１０　　　　　　複合材料製造装置
１１　　　　　　格納部
１２　　　　　　二流体ノズル
１３　　　　　　反応管
１３１　　　　　配管
１４　　　　　　フィルター
１５　　　　　　エジェクタ
２０　　　　　　還元処理装置
２１　　　　　　反応管
２１Ａ　　　　　一方の口
２１Ｂ　　　　　他方の口
２２　　　　　　ヒーター
２３　　　　　　容器
２４　　　　　　複合タングステン酸化物粒子
３０　　　　　　赤外線吸収粒子分散液
３１　　　　　　赤外線吸収粒子
３２　　　　　　液状媒体
４０　　　　　　赤外線吸収繊維
４１　　　　　　繊維
４２　　　　　　複合タングステン酸化物粒子
４１Ａ　　　　　表面
４１Ｂ　　　　　内部
ＣＡ　　　　　　中心軸
５０１　　　　　Ｗ／Ｗ列
５０２　　　　　Ｗ／Ｃｓ列
５１　　　　　　Ｗ原子
５２　　　　　　Ｏ原子
５３　　　　　　Ｍ元素
５４　　　　　　八面体
５５　　　　　　空隙
７１　　　　　　領域
Ｌ１～Ｌ６　　　ライン
Ｐ１～Ｐ１５　　点
９１　　　　　　領域
９２、９３　　　矢印
Ｌ１１～Ｌ１３　ライン
１２１　　　　　欠損面
１２２　　　　　空間

Claims

　繊維と、
　前記繊維の内部および表面から選択された１以上の場所に配置された複合タングステン酸化物粒子と、を含み、
　前記複合タングステン酸化物粒子は複合タングステン酸化物を含み、
　前記複合タングステン酸化物は、一般式Ｍ_ｘＷ_ｙＯ_ｚ（但し、Ｍ元素は、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素、希土類元素、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｂｅ、Ｈｆ、Ｏｓ、Ｂｉ、Ｉのうちから選択される１種類以上の元素、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、０．２０≦ｘ／ｙ≦０．３７、２．２≦ｚ／ｙ≦３．３）で表わされ、
　結晶系が六方晶であり、
　前記複合タングステン酸化物粒子についての、［００１］入射からのＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像において、タングステン原子のＺコントラストが平均値の９５％以下に低下したスポットを個数割合で０．０１％以上１０％以下含む、赤外線吸収繊維。
　前記複合タングステン酸化物の前記Ｍ元素が、Ｒｂ、Ｃｓから選択された１種類以上の元素を含む、請求項１に記載の赤外線吸収繊維。
　前記複合タングステン酸化物粒子の平均粒径が１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である、請求項１または請求項２に記載の赤外線吸収繊維。
　前記複合タングステン酸化物粒子についての、［１１０］入射からのＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ像において、ｃ軸に垂直な方向に欠損面を有する、請求項１または請求項２に記載の赤外線吸収繊維。
　前記繊維が合成繊維、半合成繊維、天然繊維、再生繊維、無機繊維から構成される繊維群、および前記繊維群から選択された２種類以上の繊維の混紡、合糸、混繊による混合糸から選択された１種類以上である、請求項１または請求項２に記載の赤外線吸収繊維。
　前記合成繊維が、ポリウレタン繊維、ポリアミド系繊維、アクリル系繊維、ポリエステル系繊維、ポリオレフィン系繊維、ポリビニルアルコール系繊維、ポリ塩化ビニリデン系繊維、ポリ塩化ビニル系繊維、ポリエーテルエステル系繊維から選択された１種類以上である、請求項５に記載の赤外線吸収繊維。
　前記半合成繊維が、セルロース系繊維、タンパク質系繊維、塩化ゴム、塩酸ゴムから選択された１種類以上である、請求項５に記載の赤外線吸収繊維。
　前記天然繊維が、植物繊維、動物繊維、鉱物繊維から選択された１種類以上である、請求項５に記載の赤外線吸収繊維。
　前記再生繊維が、セルロース系繊維、タンパク質系繊維、アルギン繊維、ゴム繊維、キチン繊維、マンナン繊維から選択された１種類以上である、請求項５に記載の赤外線吸収繊維。
　前記無機繊維が、金属繊維、炭素繊維、けい酸塩繊維から選択された１種類以上である、請求項５に記載の赤外線吸収繊維。
　請求項１または請求項２に記載の赤外線吸収繊維を含有する繊維製品。