WO2021149359A1 - 光学積層体及び表示装置 - Google Patents

Abstract

表示装置の前面に配置して用いられる光学積層体であって、優れた耐衝撃性を有する光学積層体を提供する。基材を含む前面板と、ｎ個（ｎは２以上の整数）の光学部材と、がこの順に積層された光学積層体であって、前記ｎ個の光学部材の前記前面板側の表面には、それぞれ厚み１０μｍ以上の粘着剤層が接して積層されており、前記前面板に近い側からｘ番目（ｘは１以上ｎ以下の整数）の光学部材を第ｘ光学部材とすると、評価値Ａが、下記式（２）：　５０≦Ａ≦５００　（２）の関係を満たす、光学積層体。

Description

光学積層体及び表示装置

　本発明は、光学積層体及び表示装置に関する。

　韓国公開特許第２０１８－００１２９１３号公報（特許文献１）には、耐久性に優れた表示装置用ウィンドウを提供することが記載されている。

韓国公開特許第２０１８－００１２９１３号公報

　本発明は、表示装置の前面に配置して用いられる光学積層体であって、優れた耐衝撃性を有する光学積層体、及び当該光学積層体を含む表示装置を提供することを目的とする。

　本発明は、以下に例示する光学積層体及び表示装置を提供する。
　〔１〕　基材を含む前面板と、ｎ個（ｎは２以上の整数）の光学部材と、がこの順に積層された光学積層体であって、
　前記ｎ個の光学部材の前記前面板側の表面には、それぞれ厚み１０μｍ以上の粘着剤層が接して積層されており、
　前記前面板に近い側からｘ番目（ｘは１以上ｎ以下の整数）の光学部材を第ｘ光学部材とすると、下記式（１）により算出される評価値Ａが、下記式（２）：
　５０≦Ａ≦５００　　　（２）
の関係を満たす、光学積層体。

　［式（１）中、Ｔ_０〔ｍＪ／ｍｍ^３〕は前記前面板のタフネスであり、ａ_０は（前記基材の厚み〔μｍ〕）／（前記前面板の厚み〔μｍ〕）であり、Ｔ_ｘ〔ｍＪ／ｍｍ^３〕は前記第ｘ光学部材のタフネスであり、ａ_ｘは（前記前面板の前記光学部材側とは反対側の表面から前記第ｘ光学部材の前記前面板側の表面までの距離〔μｍ〕）／（前記第ｘ光学部材の厚み〔μｍ〕）である。］
　〔２〕　前記ｎ個の光学部材の内の一つは偏光板である、〔１〕に記載の光学積層体。
　〔３〕　前記ｎ個の光学部材の内の一つはタッチセンサパネルである、〔１〕又は〔２〕に記載の光学積層体。
　〔４〕　前記ｎは４以下の整数である、〔１〕～〔３〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
　〔５〕　〔１〕～〔４〕のいずれか１項に記載の光学積層体を含む表示装置。

　本発明によれば、優れた耐衝撃性を有する光学積層体、及び当該光学積層体を含む表示装置を提供できる。

本発明に係る光学積層体の一例を示す概略断面図である。

　以下、図面を参照しつつ本発明に係る光学積層体の実施形態を説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の全ての図面においては、各構成要素を理解し易くするために縮尺を適宜調整して示しており、図面に示される各構成要素の縮尺と実際の構成要素の縮尺とは必ずしも一致しない。

　［光学積層体］
　本発明に係る光学積層体は、基材を含む前面板と、ｎ個（ｎは２以上の整数）の光学部材と、がこの順に積層された光学積層体であって、前記ｎ個の光学部材の前記前面板側の表面には、それぞれ厚み１０μｍ以上の粘着剤層が接して積層されている。本発明に係る光学積層体について、本明細書においては、前面板に近い側からｘ番目（ｘは１以上ｎ以下の整数）の光学部材を第ｘ光学部材とし、第ｘ光学部材の前面板側の表面に接して積層されている厚み１０μｍ以上の粘着剤層を第ｘ粘着剤層とする。ｎは、好ましくは６以下の整数であり、さらに好ましくは４以下の整数である。

　各光学部材は、一つの層から構成されるものであってもよいし、複数の層から構成されるものであってもよい。本明細書において、複数の層からなる光学部材について、複数の光学部材とするか、一つの光学部材とするかは、厚み１０μｍ以上の粘着剤層の有無に基づいて判断する。本明細書において、厚み１０μｍ以上の粘着剤層によって分離される二つの部分は異なる光学部材とする。したがって、各光学部材は、厚み１０μｍ未満の粘着剤層を含むものであってもよく、一方、厚み１０μｍ以上の粘着剤層は含まないものである。

　本発明に係る光学積層体の厚みは、光学積層体に求められる機能及び光学積層体の用途等に応じて異なるため特に限定されないが、例えば５０μｍ以上４０００μｍ以下であり、好ましくは７０μｍ以上２０００μｍ以下であり、より好ましく１００μｍ以上１０００μｍ以下である。

　光学積層体の平面視形状は、例えば方形形状であってよく、好ましくは長辺と短辺とを有する方形形状であり、より好ましくは長方形である。光学積層体１００の面方向の形状が長方形である場合、長辺の長さは、例えば１０ｍｍ以上１４００ｍｍ以下であってよく、好ましくは５０ｍｍ以上６００ｍｍ以下である。短辺の長さは、例えば５ｍｍ以上８００ｍｍ以下であり、好ましくは３０ｍｍ以上５００ｍｍ以下であり、より好ましくは５０ｍｍ以上３００ｍｍ以下である。光学積層体１００を構成する各層は、角部がＲ加工されたり、端部が切り欠き加工されたり、穴あき加工されたりしていてもよい。

　光学積層体は、例えば表示装置等に用いることができる。表示装置は特に限定されず、例えば有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（無機ＥＬ）表示装置、液晶表示装置、電界発光表示装置等が挙げられる。光学積層体１００は、特に屈曲が可能な表示装置に好適である。

　図１は、本発明の一実施形態による光学積層体の概略断面図である。図１に示す光学積層体１００は、前面板１０と、３個（ｎ＝３）の光学部材と、がこの順に積層されて構成されている。３個の光学部材は、前面板１０に近い側から、第１光学部材２１、第２光学部材２２、第３光学部材２３である。光学積層体１００において、第１光学部材２１の前面板１０側の表面には第１粘着剤層３１が接して積層されており、第２光学部材２２の前面板１０側の表面には第２粘着剤層３２が接して積層されており、第３光学部材２３の前面板１０側の表面には第３粘着剤層３３が接して積層されている。第１～３の粘着剤層３１，３２，３３は、いずれも厚みが１０μｍ以上である。

　光学積層体１００において、前面板１０は、基材１１を含み、基材１１の第１光学部材２１側とは反対側の表面に設けられたハードコート層１２をさらに含む。例えば、光学積層体１００において、第１光学部材２１は保護板であり、第２光学部材２２は偏光板であり、第３光学部材２３はタッチセンサパネルである。

　＜光学積層体の評価値Ａ＞
　本発明に係る光学積層体は、評価値Ａが下記式（２）：
　５０≦Ａ≦５００　　　（２）
の関係を満たす。

　評価値Ａは、下記式（１）：

により算出される値である。

　式（１）中、Ｔ_０〔ｍＪ／ｍｍ^３〕は前面板のタフネスであり、ａ_０は（前面板に含まれる基材の厚み〔μｍ〕）／（前面板の厚み〔μｍ〕）であり、Ｔ_ｘ〔ｍＪ／ｍｍ^３〕は第ｘ光学部材のタフネスであり、ａ_ｘは（前面板の光学部材側とは反対側の表面から第ｘ光学部材の前面板側の表面までの距離〔μｍ〕）／（前記第ｘ光学部材の厚み〔μｍ〕）である。本明細書において、タフネスは、温度２３℃、相対湿度５５％の環境下で測定された値を意味する。タフネスは、後述の実施例に記載された方法により測定される。

　図１に示す光学積層体において評価値Ａは、式（１ａ）：
　Ａ＝Ｔ_０／ａ_０＋Ｔ_１／ａ_１＋Ｔ_２／ａ_２＋Ｔ_３／ａ_３　　（１ａ）
により算出される値である。

　式（１ａ）中、
　Ｔ_０〔ｍＪ／ｍｍ^３〕は前面板１０のタフネスであり、
　ａ_０は（前面板１０に含まれる基材１１の厚みｔ_０１〔μｍ〕）／（前面板１０の厚みｔ_０〔μｍ〕）であり、
　Ｔ_１〔ｍＪ／ｍｍ^３〕は第１光学部材２１のタフネスであり、
　ａ_１は（前面板１０の光学部材側とは反対側の表面から第１光学部材２１の前面板１０側の表面までの距離ｄ_１〔μｍ〕）／（第１光学部材２１の厚みｔ_１〔μｍ〕）であり、　Ｔ_２〔ｍＪ／ｍｍ^３〕は第２光学部材２２のタフネスであり、
　ａ_２は（前面板１０の光学部材側とは反対側の表面から第２光学部材２２の前面板１０側の表面までの距離ｄ_２〔μｍ〕）／（第２光学部材２２の厚みｔ_２〔μｍ〕）であり、　Ｔ_３〔ｍＪ／ｍｍ^３〕は第３光学部材２３のタフネスであり、
　ａ_３は（前面板１０の光学部材側とは反対側の表面から第３光学部材２３の前面板１０側の表面までの距離ｄ_３〔μｍ〕）／（第３光学部材２３の厚みｔ_３〔μｍ〕）である。

　評価値Ａは、後述する予備試験の結果に基づいて導き出された式（１）により算出される値である。式（１）からわかるように、評価値Ａは、前面板のタフネスが大きいほど、また前面板の厚みが厚いほど、大きな値となる。また、評価値Ａは、第ｘ光学部材のタフネスが大きいほど、また第ｘ光学部材の厚みが厚いほど、大きな値となる。評価値Ａへの、タフネス及び厚みの寄与は、前面板が最も大きく、第ｘ光学部材については、前面板との距離が式（１）の分母に入っていることから、前面板に近い位置に配置されているほど、すなわちｘの値が小さいほど大きくなる。したがって、評価値Ａは、前面板のタフネス及び厚み、第ｘ光学部材のタフネス及び厚み、光学部材の個数（ｎの値）、粘着剤層の厚み、等を適宜調整することにより調整することができる。前面板のタフネス、及び第ｘ光学部材のタフネスは、これらの材料を調整することにより調整することができる。

　本発明に係る光学積層体は、評価値Ａが５０以上であることにより耐衝撃性を向上させることができる。光学積層体の耐衝撃性は、後述する実施例に記載の方法により評価することができる。本発明に係る光学積層体は、耐衝撃性をさらに向上させることができる観点から、評価値Ａが１００以上であることが好ましい。

　また、本発明に係る光学積層体は、評価値Ａが５００以下であることにより耐屈曲性を向上させることができる。光学積層体は、前面板を内側にした方向に屈曲可能であることが好ましい。屈曲可能とは、前面板を内側にした方向に屈曲させ得ることを意味する。本明細書において、屈曲には、曲げ部分に曲面が形成される折り曲げの形態が含まれ、折り曲げた内面の屈曲半径は特に限定されない。また、屈曲には、内面の屈折角が０度より大きく１８０度未満である屈折、及び、内面の屈曲半径がゼロに近似、又は内面の屈折角が０度である折り畳みも含む。耐屈曲性は、屈曲を繰り返した際に、光学積層体のいずれかの層にクラックが生じるか否かにより評価することができる。本発明に係る光学積層体は、耐屈曲性をさらに向上させることができる観点から、評価値Ａが３００以下であることが好ましく、２００以下であってもよい。

　＜前面板＞
　前面板は、表示装置の最表面を構成することができる。前面板は、光を透過可能な板状体であれば、材料及び厚みは限定されることはない。前面板は、基材を含むものであれば、基材のみから構成されていても、基材及び他の層から構成されていてもよい。基材及び他の層は、それぞれ１層のみから構成されてよく、２層以上から構成されてもよい。前面板に含まれる基材としては、樹脂製の板状体（例えば樹脂板、樹脂シート、樹脂フィルム等）、ガラス製の板状体（例えばガラス板、ガラスフィルム等）が挙げられる。

　前面板は、硬度の観点から、ハードコート層を備えた樹脂フィルムであってもよい。ハードコート層は、樹脂フィルムの一方の面に形成されていてもよいし、両面に形成されていてもよい。ハードコート層を設けることにより、硬度及び耐スクラッチ性を向上させることができる。ハードコート層は、例えば紫外線硬化型樹脂の硬化層である。紫外線硬化型樹脂としては、例えばアクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂等が挙げられる。ハードコート層は、強度を向上させるために、添加剤を含んでいてもよい。添加剤は特に限定されることはなく、無機系微粒子、有機系微粒子、又はこれらの混合物が挙げられる。樹脂フィルムの両面にハードコート層を有する場合、各ハードコート層の組成や厚みは、互いに同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。

　前面板は、優れた耐衝撃性を有する光学積層体を構成しやすい観点から、タフネスが１０ｍＪ／ｍｍ^３以上であることが好ましく、３０ｍＪ／ｍｍ^３以上であることがさらに好ましく、４０ｍＪ／ｍｍ^３以上であることが最も好ましい。前面板のタフネスは、例えば１００ｍＪ／ｍｍ^３以下であり、６０ｍＪ／ｍｍ^３以下であってもよい。前面板の厚みは、例えば３０μｍ以上５００μｍ以下であってよく、好ましくは４０μｍ以上２００μｍ以下であり、より好ましくは５０μｍ以上１００μｍ以下である。前面板の厚みは、優れた耐衝撃性を有する光学積層体を構成しやすい観点から、４０μｍ以上であることが好ましい。本発明において、光学積層体を構成する各層の厚みは、後述する実施例において説明する厚みの測定方法に従って測定することができる。

　前面板の基材が樹脂製の板状体である場合、樹脂製の板状体は、光を透過可能なものであれば限定されることはない。樹脂製の板状体を構成する樹脂としては、例えばトリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、エチレン－酢酸ビニル共重合体、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリ（メタ）アクリル、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタアクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアミドイミドなどの高分子が挙げられる。これらの高分子は、単独で又は２種以上混合して用いることができる。強度及び透明性向上の観点から、樹脂製の板状体は、好ましくはポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド等の高分子で形成される樹脂フィルムである。樹脂製の板状体の厚みは、優れた耐衝撃性を有する光学積層体を構成しやすい観点から、３０μｍ以上であることが好ましく、例えば２００μｍ以下である。

　前面板の基材がガラス板である場合、ガラス板は、ディスプレイ用強化ガラスが好ましく用いられる。ガラス板の厚みは、例えば２０μｍ以上１０００μｍ以下であってよい。
ガラス板を用いることにより、優れた機械的強度及び表面硬度を有する前面板を構成することができる。

　光学積層体が表示装置に用いられる場合、前面板は、表示装置の前面（画面）を保護する機能（ウィンドウフィルムとしての機能）を有するのみではなく、タッチセンサとしての機能、ブルーライトカット機能、視野角調整機能等を有するものであってもよい。

　＜第ｘ粘着剤層＞
　第１粘着剤層は、前面板と第１光学部材の間に介在して、これらを貼合する。第１粘着剤層を除く第ｘ粘着剤層は、第ｘ－１光学部材と、第ｘ光学部材との間に介在して、これらを貼合する。第ｘ粘着剤層は、厚みが１０μｍ以上であれば、１層からなるものであってもよいし、２層以上からなるものであってもよいが、好ましくは１層からなるものである。第１～ｎ粘着剤層は、粘着剤組成物の組成及び配合成分、厚み等において、同じであってもよいし、異なっていてもよい。

　第ｘ粘着剤層は、（メタ）アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ウレタン系樹脂、エステル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂を主成分（ベースポリマー）とする粘着剤組成物から構成することができる。第ｘ粘着剤層を構成する粘着剤組成物としては、透明性、耐候性、耐熱性等に優れる（メタ）アクリル系樹脂をベースポリマーとする粘着剤組成物が好適である。粘着剤組成物は、活性エネルギー線硬化型又は熱硬化型であってもよい。

　粘着剤組成物に用いられる（メタ）アクリル系樹脂としては、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシル等の（メタ）アクリル酸エステルの１種又は２種以上をモノマーとする重合体又は共重合体が好適に用いられる。ベースポリマーには、極性モノマーを共重合させることが好ましい。極性モノマーとしては、（メタ）アクリル酸化合物、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシプロピル化合物、（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチル化合物、（メタ）アクリルアミド化合物、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート化合物、グリシジル（メタ）アクリレート化合物等の、カルボキシル基、水酸基、アミド基、アミノ基、エポキシ基等を有するモノマーを挙げることができる。

　粘着剤組成物は、上記ベースポリマーのみを含むものであってもよいが、通常は架橋剤をさらに含有する。架橋剤としては、２価以上の金属イオンであって、カルボキシル基との間でカルボン酸金属塩を形成する金属イオン、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するポリアミン化合物、カルボキシル基との間でエステル結合を形成するポリエポキシ化合物又はポリオール、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するポリイソシアネート化合物が例示される。架橋剤は、好ましくはポリイソシアネート化合物である。

　活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、紫外線や電子線のような活性エネルギー線の照射を受けて硬化する性質を有しており、活性エネルギー線照射前においても粘着性を有してフィルム等の被着体に密着させることができ、活性エネルギー線の照射によって硬化して密着力の調整ができる性質を有する。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、紫外線硬化型であることが好ましい。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、ベースポリマー、架橋剤に加えて、活性エネルギー線重合性化合物をさらに含有する。必要に応じて、光重合開始剤、光増感剤等を含有させてもよい。

　活性エネルギー線重合性化合物としては、例えば分子内に少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する（メタ）アクリレートモノマー；官能基含有化合物を２種以上反応させて得られ、分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する（メタ）アクリレートオリゴマー等の（メタ）アクリロイルオキシ基含有化合物等の（メタ）アクリル系化合物、分子内に少なくとも２個のベンゾイルフェニルメタアクリロイル基を有する化合物が挙げられる。粘着剤組成物は、活性エネルギー線重合性化合物を、粘着剤組成物の固形分１００質量部に対して０．１質量部以上含むことができ、１０質量部以下、５質量部以下又は２質量部以下含むことができる。

　ベンゾイルフェニルメタアクリロイル基は、以下の構造で表される基を意味する。＊は結合手を表す。活性エネルギー線重合性化合物が分子内に有するベンゾイルフェニルメタアクリロイル基の数は、５以下であることができ、４以下であることができる。

　分子内に少なくとも２個のベンゾイルフェニルメタアクリロイル基を有する化合物としては、例えば次の化合物が挙げられる。

　光重合開始剤としては、例えばベンゾフェノン、ベンジルジメチルケタール、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられる。光重合開始剤は、１種又は２種以上を含むことができる。粘着剤組成物が光重合開始剤を含むとき、その全含有量は、例えば粘着剤組成物の固形分１００質量部に対し０．０１質量部以上３．０質量部以下であってよい。

　粘着剤組成物は、光散乱性を付与するための微粒子、ビーズ（樹脂ビーズ、ガラスビーズ等）、ガラス繊維、ベースポリマー以外の樹脂、粘着性付与剤、充填剤（金属粉やその他の無機粉末等）、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染料、顔料、着色剤、消泡剤、腐食防止剤、光重合開始剤等の添加剤を含むことができる。

　第ｘ粘着剤層は、上記粘着剤組成物の有機溶剤希釈液を基材上に塗布し、乾燥させることにより形成することができる。第ｘ粘着剤層は、粘着剤組成物を用いて形成された粘着シートを用いて形成することもできる。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物を用いた場合は、形成された粘着剤層に、活性エネルギー線を照射することにより所望の硬化度を有する粘着剤層とすることができる。

　第ｘ粘着剤層の厚みは、１０μｍ以上であり、１００μｍ以下であることが好ましく、５０μｍ以下であることがより好ましい。

　＜光学部材＞
　光学積層体における光学部材としては、例えば、図１に示される光学積層体１００に含まれるような、保護板、偏光板、タッチセンサパネル等、その他に、背面板等が例示される。背面板としては、タッチセンサパネル、有機ＥＬ表示素子等が挙げられる。光学部材が複数の層から構成される場合には、二つの層を貼合するための貼合層を含むことができる。光学積層体における光学部材の積層順序としては、前面板側から、例えば、保護板／偏光板／タッチセンサパネル（図１に示す積層順序）、保護板／偏光板／タッチセンサパネル／有機ＥＬ表示素子、保護板／タッチセンサパネル／偏光板、保護板／タッチセンサパネル／偏光板／有機ＥＬ表示素子、等が挙げられる。ここで示した積層順序における偏光板は、光学積層体に反射防止フィルムとしての機能を付与することができる点で、円偏光板であることが好ましい。ここで示した積層順序における保護板は、含まれていなくてもよく、評価値Ａを所望の値に調整することが容易であるという観点からは含まれていることが好ましい。

　≪偏光板≫
　偏光板は、例えば直線偏光板、円偏光板（楕円偏光板を含む）等であってもよい。円偏光板は、直線偏光板及び位相差層を備える。円偏光板は、画像表示装置中で反射された外光を吸収することができるため、光学積層体に反射防止フィルムとしての機能を付与することができる。

　偏光板は、優れた耐衝撃性を有する光学積層体を構成しやすい観点から、タフネスが１ｍＪ／ｍｍ^３以上であることが好ましく、２ｍＪ／ｍｍ^３以上であることがさらに好ましい。偏光板のタフネスは、例えば１００ｍＪ／ｍｍ^３以下であり、５０ｍＪ／ｍｍ^３以下であってもよく、１０ｍＪ／ｍｍ^３以下であってもよい。偏光板の厚みは、通常５μｍ以上であり、２０μｍ以上であってもよく、２５μｍ以上であってもよく、３０μｍ以上であってもよい。また、偏光板の厚みは、８０μｍ以下であることが好ましく、６０μｍ以下であることがより好ましい。

　≪直線偏光板≫
　直線偏光板は、自然光等の非偏光な光線からなる一方向の直線偏光を選択的に透過させる機能を有する。直線偏光板は、二色性色素を吸着させた延伸フィルム又は延伸層、重合性液晶化合物の硬化物及び二色性色素を含み、二色性色素が重合性液晶化合物の硬化物中に分散し、配向している液晶層等を偏光子層として備えることができる。二色性色素は、分子の長軸方向における吸光度と短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素をいう。液晶層を偏光子層として用いた直線偏光板は、二色性色素を吸着させた延伸フィルム又は延伸層に比べて、屈曲方向に制限がないため好ましい。

　（二色性色素を吸着させた延伸フィルム又は延伸層である偏光子層）
　二色性色素を吸着させた延伸フィルムである偏光子層は、通常、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムをヨウ素等の二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造することができる。

　偏光子層の厚みは、通常３０μｍ以下であり、好ましくは１８μｍ以下、より好ましくは１５μｍ以下である。偏光子層の厚みを薄くすることは、偏光板１０３の薄膜化に有利である。偏光子層の厚みは、通常１μｍ以上であり、例えば５μｍ以上であってよい。

　ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することによって得られる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルのほか、酢酸ビニルとそれに共重合可能な他の単量体との共重合体が用いられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば不飽和カルボン酸系化合物、オレフィン系化合物、ビニルエーテル系化合物、不飽和スルホン系化合物、アンモニウム基を有する（メタ）アクリルアミド系化合物が挙げられる。

　ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、通常８５モル％以上１００モル％以下程度であり、好ましくは９８モル％以上である。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール等も使用することができる。ポリビニルアルコール系樹脂の重合度は、通常１０００以上１００００以下であり、好ましくは１５００以上５０００以下である。

　二色性色素を吸着させた延伸層である偏光子層は、通常、上記ポリビニルアルコール系樹脂を含む塗布液を基材フィルム上に塗布する工程、得られた積層フィルムを一軸延伸する工程、一軸延伸された積層フィルムのポリビニルアルコール系樹脂層を二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させて偏光子層とする工程、二色性色素が吸着されたフィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造することができる。偏光子層を形成するために用いる基材フィルムは、偏光子層の保護層として用いてもよい。必要に応じて、基材フィルムを偏光子層から剥離除去してもよい。基材フィルムの材料及び厚みは、後述する熱可塑性樹脂フィルムの材料及び厚みと同様であってよい。

　二色性色素を吸着させた延伸フィルム又は延伸層である偏光子層は、そのまま直線偏光板として用いてよく、その片面又は両面に保護層を形成して直線偏光板として用いてもよい。保護層としては、後述する熱可塑性樹脂フィルムを用いることができる。得られる直線偏光板の厚みは、好ましくは２μｍ以上４０μｍ以下である。

　熱可塑性樹脂フィルムは、例えばシクロポリオレフィン系樹脂フィルム；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース等の樹脂からなる酢酸セルロース系樹脂フィルム；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等の樹脂からなるポリエステル系樹脂フィルム；ポリカーボネート系樹脂フィルム；（メタ）アクリル系樹脂フィルム；ポリプロピレン系樹脂フィルム等、当分野において公知のフィルムを挙げることができる。偏光子層と保護層とは、後述する貼合層を介して積層することができる。

　熱可塑性樹脂フィルムの厚みは、薄型化の観点から、通常１００μｍ以下であり、好ましくは８０μｍ以下であり、より好ましくは６０μｍ以下であり、さらに好ましくは４０μｍ以下であり、なおさらに好ましくは３０μｍ以下であり、また、通常５μｍ以上であり、好ましくは１０μｍ以上である。

　熱可塑性樹脂フィルム上にハードコート層が形成されていてもよい。ハードコート層は、熱可塑性樹脂フィルムの一方の面に形成されていてもよいし、両面に形成されていてもよい。ハードコート層を設けることにより、硬度及びスクラッチ性を向上させた熱可塑性樹脂フィルムとすることができる。ハードコート層は、上述の樹脂フィルムに形成されるハードコート層と同様にして形成することができる。

　（液晶層である偏光子層）
　液晶層を形成するために用いる重合性液晶化合物は、重合性反応基を有し、かつ、液晶性を示す化合物である。重合性反応基は、重合反応に関与する基であり、光重合性反応基であることが好ましい。光重合性反応基は、光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸等によって重合反応に関与し得る基をいう。光重合性官能基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。重合性液晶化合物の種類は特に限定されず、棒状液晶化合物、円盤状液晶化合物、及びこれらの混合物を用いることができる。重合性液晶化合物の液晶性は、液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック性液晶でもよく、相秩序構造としてはネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。

　液晶層である偏光子層に用いられる二色性色素としては、３００～７００ｎｍの範囲に吸収極大波長（λＭＡＸ）を有するものが好ましい。このような二色性色素としては、例えば、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素、及びアントラキノン色素等が挙げられるが、中でもアゾ色素が好ましい。アゾ色素としては、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素、及びスチルベンアゾ色素等が挙げられ、好ましくはビスアゾ色素、及びトリスアゾ色素である。二色性色素は単独でも、２種以上を組み合わせてもよいが、３種以上を組み合わせることが好ましい。特に、３種以上のアゾ化合物を組み合わせることがより好ましい。二色性色素の一部が反応性基を有していてもよく、また液晶性を有していてもよい。

　液晶層である偏光子層は、例えば基材フィルム上に形成した配向膜上に、重合性液晶化合物及び二色性色素を含む偏光子層形成用組成物を塗布し、重合性液晶化合物を重合して硬化させることによって形成することができる。基材フィルム上に、偏光子層形成用組成物を塗布して塗膜を形成し、この塗膜を基材フィルムとともに延伸することによって、偏光子層を形成してもよい。偏光子層を形成するために用いる基材フィルムは、偏光子層の保護層として用いてもよい。基材フィルムの材料及び厚みは、上述した熱可塑性樹脂フィルムの材料及び厚みと同様であってよい。

　重合性液晶化合物及び二色性色素を含む偏光子層形成用組成物、及びこの組成物を用いた偏光子層の製造方法としては、特開２０１３－３７３５３号公報、特開２０１３－３３２４９号公報、特開２０１７－８３８４３号公報等に記載のものを例示することができる。偏光子層形成用組成物は、重合性液晶化合物及び二色性色素に加えて、溶媒、重合開始剤、架橋剤、レベリング剤、酸化防止剤、可塑剤、増感剤等の添加剤をさらに含んでいてもよい。これらの成分は、それぞれ１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

　偏光子層形成用組成物が含有していてもよい重合開始剤は、重合性液晶化合物の重合反応を開始し得る化合物であり、より低温条件下で、重合反応を開始できる点で、光重合性開始剤が好ましい。具体的には、光の作用により活性ラジカル又は酸を発生できる光重合開始剤が挙げられ、中でも、光の作用によりラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物の総量１００重量部に対して、好ましくは１質量部以上１０質量部以下であり、より好ましくは３質量部以上８質量部以下である。この範囲内であると、重合性基の反応が十分に進行し、かつ、液晶化合物の配向状態を安定化させやすい。

　液晶層である偏光子層の厚みは、通常１０μｍ以下であり、好ましくは０．５μｍ以上８μｍ以下であり、より好ましくは１μｍ以上５μｍ以下である。

　液晶層である偏光子層は、基材フィルムを剥離除去せずに直線偏光板として用いてもよく、基材フィルムを偏光子層から剥離除去して直線偏光板としてもよい。液晶層である偏光子層は、その片面又は両面に保護層を形成して直線偏光板として用いてもよい。保護層としては、上述する熱可塑性樹脂フィルムを用いることができる。

　液晶層である偏光子層は、偏光子層の保護等を目的として、偏光子層の片面又は両面にオーバーコート層を有していてもよい。オーバーコート層は、例えば偏光子層上にオーバーコート層を形成するための材料（組成物）を塗布することによって形成することができる。オーバーコート層を構成する材料としては、例えば光硬化性樹脂、水溶性ポリマー等が挙げられる。オーバーコート層を構成する材料としては、（メタ）アクリル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂等を用いることができる。

　（位相差層）
　偏光板に含まれる位相差層は、１層であってもよく２層以上であってもよい。位相差層は、偏光子層の前面板側とは反対側の表面上に積層されていることが好ましい。位相差層は、その表面を保護するオーバーコート層、位相差層を支持する基材フィルム等を有していてもよい。位相差層は、λ／４層を含み、さらにλ／２層又はポジティブＣ層の少なくともいずれかを含んでいてもよい。位相差層がλ／２層を含む場合、直線偏光板側から順にλ／２層及びλ／４層を積層する。位相差層がポジティブＣ層を含む場合、直線偏光板側から順にλ／４層及びポジティブＣ層を積層してもよく、直線偏光板側から順にポジティブＣ層及びλ／４層を積層してもよい。位相差層の厚みは、例えば０．１μｍ以上１０μｍ以下であり、好ましくは０．５μｍ以上８μｍ以下であり、より好ましくは１μｍ以上６μｍ以下である。

　位相差層は、保護層の材料として例示した樹脂フィルムから形成してもよいし、重合性液晶化合物が硬化した層から形成してもよい。位相差層は、さらに配向膜を含んでもよい。位相差層は、λ／４層と、λ／２層及びポジティブＣ層とを貼合するための貼合層を有していてもよい。

　重合性液晶化合物を硬化して位相差層を形成する場合、位相差層は、重合性液晶化合物を含む組成物を基材フィルムに塗布し硬化させることにより形成することができる。基材フィルムと塗布層との間に配向層を形成してもよい。基材フィルムの材料及び厚みは、上記熱可塑性樹脂フィルムの材料及び厚みと同じであってよい。重合性液晶化合物を硬化してなる層から位相差層を形成する場合、位相差層は、配向層及び基材フィルムを有する形態で光学積層体に組み込まれてもよい。位相差層は、貼合層を介して直線偏光板と貼合することができる。

　≪タッチセンサパネル≫
　タッチセンサパネルとしては、前面板でタッチされた位置を検出可能なセンサであり、かつ透明導電層を有する構成であることができる。タッチセンサパネルは、透明導電層に加え、これを支持する基材を有することができる。検出方式は限定されることはなく、抵抗膜方式、静電容量方式、光センサ方式、超音波方式、電磁誘導結合方式、表面弾性波方式等のタッチセンサパネルが例示される。その中でも、低コスト、早い反応速度、薄膜化の面で、静電容量方式のタッチセンサパネルが好適に用いられる。タッチセンサパネルは、透明導電層とこれを支持する基材との間に、接着層、分離層、保護層等を備えてもよい。接着層としては、接着剤層、粘着剤層が挙げられる。透明導電層を支持する基材として、一方の表面に透明導電層が蒸着形成されている基材、接着層を介して透明導電層が転写された基材等が挙げられる。

　静電容量方式のタッチセンサパネルの一例は、基材と、基材の表面に設けられた位置検出用の透明導電層と、タッチ位置検知回路とにより構成されている。静電容量方式のタッチセンサパネルを有する光学積層体を設けた表示装置においては、前面板の表面がタッチされると、タッチされた点で人体の静電容量を介して透明導電層が接地される。タッチ位置検知回路が、透明導電層の接地を検知し、タッチされた位置が検出される。互いに離間した複数の透明導電層を有することにより、より詳細な位置の検出が可能となる。

　透明導電層は、ＩＴＯ等の金属酸化物からなる透明導電層であってもよく、アルミニウムや銅、銀、金、またはこれらの合金等の金属からなる金属層であってもよい。

　分離層は、ガラス等の基板上に形成されて、分離層上に形成された透明導電層を分離層とともに、基板から分離するための層であることができる。分離層は、無機物層又は有機物層であることが好ましい。無機物層を形成する材料としては、例えばシリコン酸化物が挙げられる。有機物層を形成する材料としては、例えば（メタ）アクリル系樹脂組成物、エポキシ系樹脂組成物、ポリイミド系樹脂組成物等を用いることができる。

　保護層は、透明導電層に接して導電層を保護するために設けることができる。保護層は有機絶縁膜及び無機絶縁膜のうちの少なくとも一つを含み、これらの膜は、スピンコート法、スパッタリング法、蒸着法等によって形成することができる。

　タッチセンサパネル３０は例えば、以下のようにして製造することができる。第１の方法では、まずガラス基板へ接着層を介して基材を積層する。基材上に、フォトリソグラフィによりパターン化された透明導電層を形成する。熱を加えることにより、ガラス基板と基材とを分離して、透明導電層と基材とからなるタッチセンサパネルが得られる。

　第２の方法では、まずガラス基板上に分離層を形成し、必要に応じて、分離層上に保護層を形成する。分離層（または保護層）上に、フォトリソグラフィによりパターン化された透明導電層を形成する。透明導電層上に、剥離可能な保護フィルムを積層し、透明導電層から分離層までを転写して、ガラス基板を分離する。接着層を介して基材と分離層とを貼合し、剥離可能な保護フィルムを剥離することで、透明導電層と分離層と接着層と基材とをこの順に有するタッチセンサパネルが得られる。

　タッチセンサパネルの基材としては、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、シクロオレフィンポリマー、ポリエチレンナフタレート、ポリオレフィン、ポリシクロオレフィン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリイミド、ポリアミド、ポリスチレン、ポリノルボルネンなどの樹脂フィルムが挙げられる。
所望のタフネスを有する基材層を構成しやすい観点から、ポリエチレンテレフタレートが好ましく用いられる。

　タッチセンサパネルは、優れた耐衝撃性を有する光学積層体を構成しやすい観点から、タフネスが２ｍＪ／ｍｍ^３以上であることが好ましく、１０ｍＪ／ｍｍ^３以上であることがさらに好ましく、５０ｍＪ／ｍｍ^３以上であることが最も好ましい。タッチセンサパネルのタフネスは、例えば２００ｍＪ／ｍｍ^３以下である。

　タッチセンサパネルは、優れた耐衝撃性を有する光学積層体を構成しやすい観点から、厚みが３０μｍ以上であることが好ましい。タッチセンサパネルの厚みは、例えば１００μｍ以下である。

　≪背面板≫
　背面板としては、光を透過可能な板状体や通常の表示装置に用いられる構成要素等を用いることができる。

　背面板の厚みは、例えば５μｍ以上２０００μｍ以下であってよく、好ましくは１０μｍ以上１０００μｍ以下であり、より好ましくは１５μｍ以上５００μｍ以下である。

　背面板に用いられる板状体としては、１層のみから構成されてよく、２層以上から構成されたものであってよく、前面板において述べた板状態について例示したものを用いることができる。

　背面板に用いる通常の表示装置に用いられる構成要素としては、例えば上述のタッチセンサパネル、有機ＥＬ表示素子等が挙げられる。

　≪保護板≫
　保護板としては、光を透過可能な樹脂製の板状体や通常の表示装置に用いられる構成要素等を用いることができる。樹脂製の板状体は、１層のみから構成されてよく、２層以上から構成されたものであってよく、前面板において述べた樹脂製の板状体について例示したものを用いることができる。保護板を構成する樹脂としては、例えばトリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、エチレン－酢酸ビニル共重合体、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリ（メタ）アクリル、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタアクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアミドイミドなどの高分子が挙げられる。これらの高分子は、単独で又は２種以上混合して用いることができる。

　保護板は、優れた耐衝撃性を有する光学積層体を構成しやすい観点から、タフネスが１ｍＪ／ｍｍ^３以上であることが好ましく、４ｍＪ／ｍｍ^３以上であることがさらに好ましく、５０ｍＪ／ｍｍ^３以上であってもよい。保護板のタフネスは、例えば２００ｍＪ／ｍｍ^３以下であり、１００ｍＪ／ｍｍ^３以下であってもよい。保護板の厚みは、例えば５μｍ以上２０００μｍ以下であってよく、好ましくは１０μｍ以上１０００μｍ以下であり、より好ましくは１５μｍ以上５００μｍ以下であり、さらに好ましくは３０μｍ以上１００μｍ以下である。

　（貼合層）
　光学部材は、２つの層を接合するための貼合層を含むことができる。貼合層は、粘着剤又は接着剤から構成される層である。貼合層が粘着剤層である場合、その厚みは、１０μｍ未満である。貼合層の材料となる粘着剤は、上述の第ｘ粘着剤層で説明した粘着剤組成物を用いることができる。

　貼合層の材料となる接着剤としては、例えば水系接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤等のうち１種又は２種以上を組み合わせて形成することができる。水系接着剤としては、例えばポリビニルアルコール系樹脂水溶液、水系二液型ウレタン系エマルジョン接着剤等を挙げることができる。活性エネルギー線硬化型接着剤は、紫外線等の活性エネルギー線を照射することによって硬化する接着剤であり、例えば重合性化合物及び光重合性開始剤を含む接着剤、光反応性樹脂を含む接着剤、バインダー樹脂及び光反応性架橋剤を含む接着剤等を挙げることができる。上記重合性化合物としては、光硬化性エポキシ系モノマー、光硬化性アクリル系モノマー、光硬化性ウレタン系モノマー等の光重合性モノマー、及びこれらモノマーに由来するオリゴマー等を挙げることができる。上記光重合開始剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射して中性ラジカル、アニオンラジカル、カチオンラジカルといった活性種を発生する物質を含む化合物を挙げることができる。

　貼合層の厚みは、例えば１μｍ以上であってよく、好ましくは１μｍ以上１０μｍ未満、より好ましくは２μｍ以上１０μｍ未満、さらに好ましくは２．５μｍ以上５μｍ以下である。

　貼合層を介して貼合される対向する二つの表面は、予めコロナ処理、プラズマ処理、火炎処理等を行ってもよく、プライマー層等を有していてもよい。

　［光学積層体の製造方法］
　光学積層体は、粘着剤層を介して、前面板及び光学部材を貼合する工程を含む方法によって製造することができる。前面板及び光学部材の粘着剤層と接する表面は、密着力を調整する目的で、コロナ処理等の表面活性化処理を施すことが好ましい。コロナ処理の条件は適宜設定することができ、貼合面の一方の面と他の面とで条件が異なっていてもよい。
なお、貼合面がタッチセンサパネルの透明導電層である場合には、コロナ処理は行わないことが好ましい。

　＜表示装置＞
　本発明に係る表示装置は本発明に係る光学積層体を含む。表示装置は特に限定されず、例えば有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置、液晶表示装置、電界発光表示装置等の画像表示装置が挙げられる。本発明の光学積層体を含む表示装置は、優れた耐衝撃性を有し、屈曲又は巻回等が可能なフレキシブルディスプレイとして用いることもできる。

　表示装置において、光学積層体は、前面板を外側（表示素子側とは反対側、すなわち視認側）に向けて表示装置が有する表示素子の視認側に配置される。表示装置は、前面板側を内側にして屈曲可能であることが好ましい。表示装置は、前面板側を外側にして屈曲可能であってもよい。

　本発明に係る表示装置は、スマートフォン、タブレット等のモバイル機器、テレビ、デジタルフォトフレーム、電子看板、測定器や計器類、事務用機器、医療機器、電算機器等として用いることができる。

　以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

　＜予備試験＞
　試験１～５においてそれぞれ３つの試験片（例えば、試験１では試験片１－１，１－２，１－３）を準備した。各試験片は、図１に示す光学積層体１００の構成を有し、前面板１０、及び第１～３光学部材２１，２２，２３について表１に示す部材を用いて構成した。各試験片において、第１～３粘着剤層３１，３２，３３については、下記のようにして準備した粘着剤層（厚み２５μｍ）を用いた。試験１では前面板の部材が３つの試験片間で異なり、試験２では第１光学部材の部材が３つの試験片間で異なり、試験３では第２光学部材の部材が３つの試験片間で異なり、試験４では第３光学部材が３つの試験片間で異なり、試験５では前面板及び第１～３光学部材が３つの試験片間で異なる構成となるようにした。各試験片について、後述する方法によって耐衝撃性試験を行って打痕深さを測定した。表１に、測定結果を示す。

　表１において、部材１，２，３は、表２に示す樹脂フィルムである。表２において、部材１，２，３のタフネス及び厚みは後述する方法によって測定した値である。

　［粘着剤層の準備］
　粘着剤層を形成するための粘着剤に用いる（メタ）アクリル系樹脂を次の手順で調製した。窒素ガスを還流でき温度調節を行うための冷却装置が設けられた１Ｌの反応容器に、２－エチルヘキシルアクリレート９５部、ドデシルアクリレート２部、及び、２－ヒドロキシプロピルアクリレート３部を仕込んだ。反応容器内の酸素を除去するために窒素ガスで１時間パージングして、内温を６０℃に維持した。反応容器内に仕込んだ化合物を均一になるように混合した後、光重合開始剤としての１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン０．５部を投入して撹拌し、ＵＶランプ（１０ｍＷ）を照射して、（メタ）アクリル系樹脂を得た。得られた（メタ）アクリル系樹脂の重量平均分子量Ｍｗは６１万であった。

　上記で得た（メタ）アクリル系樹脂（固形分換算値）１００部と、光重合開始剤としての１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン０．３部（固形分換算値）とを混合して粘着剤を得た。

　得られた粘着剤を、基材がＰＥＴフィルムである第１剥離フィルムのシリコーン離型処理面に厚みが２５μｍとなるように塗布し、この塗布層上に基材がＰＥＴフィルムである第２剥離フィルムを貼合した積層体とした。この積層体に、ＵＶ照射（積算光量４００ｍＪ／ｃｍ^２、照度１．８ｍＷ／ｃｍ^２、ＵＶＶ基準）を行い、第１剥離フィルム、粘着剤層、第２剥離フィルムがこの順に積層された粘着シートを作製した。

　［タフネスの測定］
　光学部材のタフネスは、ＪＩＳ　Ｋ７１６１に準拠して、次のように測定した。測定対象の光学部材から長辺１１０ｍｍ×短辺１０ｍｍの長方形の小片を、スーパーカッターを用いて切り出した。次いで、引張試験機〔（株）島津製作所製　オートグラフ　ＡＧ－Ｘｐｌｕｓ試験機〕の上下つかみ具で、つかみ具の間隔が５ｃｍとなるように上記小片の長辺方向両端を挟み、温度２３℃、相対湿度５５％の環境下、引張速度４ｍｍ／分で小片の長辺方向に引張った。タフネスは、初期から破断までの間における、応力－ひずみ曲線の積分値として算出した。

　［耐衝撃性試験］
　測定対象の光学積層体から、長辺１５０ｍｍ×短辺７０ｍｍの長方形の大きさの小片を、スーパーカッターを用いて切り出し、小片の前面板側とは反対側の表面を粘着剤層を介してアクリル板に貼合した。そして、２３℃、相対湿度５５％の環境下で、小片に対して、評価用ペンを小片の前面板の最表面から１０ｃｍの高さにペン先が位置しかつペン先が下向きとなるように保持し、その位置から評価用ペンを落下させた。評価用ペンとして、重量が５．６ｇであり、ペン先の直径が０．７５ｍｍのペンを用いた。評価用ペンを落下させた後の小片について、干渉計顕微鏡（ContourGT-K3D Optical Microscope、Bruker社製）での画像を用いて打痕深さを測定した。

　［厚み測定］
　試料の厚みは、接触式膜厚測定装置（株式会社ニコン製「ＭＳ－５Ｃ」）を用いて測定した。ただし、偏光子層および配向膜については、レーザー顕微鏡（オリンパス株式会社製「ＯＬＳ３０００」）を用いて測定した。

　［予備試験結果の考察］
　表１に示す、試験１～５の打痕深さの評価結果から、耐衝撃試験においてペンが衝突する面に近い光学部材ほど異なる種類（異なるタフネス）の基材を用いることにより打痕深さに与える影響が大きく、また、光学部材のタフネスが大きいほど打痕深さを小さくできることがわかった。

　＜実施例１～５、比較例１，２＞
　実施例１～５、及び比較例１，２の光学積層体として、図１に示す光学積層体１００を作製した。各光学積層体において、前面板１０、第１光学部材（保護板）２１、第２光学部材（偏光板）２２、第３光学部材（タッチセンサパネル）２３は、後述するものを用いて構成した。各光学積層体において、第１～３粘着剤層３１，３２，３３については、予備試験で用いたものと同じ粘着剤層（厚み２５μｍ）を用いた。各光学積層体について、式（１ａ）に基づいて評価値Ａを算出した。表３に、算出した評価値Ａを示す。

　各光学積層体について、予備試験の項で示した方法によって耐衝撃性試験を行い、目視及び顕微鏡(Nikon社、MM-40/2U, X10倍率)での観察により以下の評価基準に基づいて打痕を評価した。表３に、評価結果を示す。
　Ａ：目視及び顕微鏡による観察で、打痕が観測されない。
　Ｂ：目視による観察で、打痕が観測されない。顕微鏡による観察で、打痕が観測される。
　Ｃ：目視による観察で、打痕が観測される。

　［前面板１０］
　透明の樹脂フィルム（基材１１）上にハードコート層用組成物をコーティングした後、溶剤を乾燥させ、ＵＶ硬化することで片面にハードコート層１２が形成された前面板（縦１７７ｍｍ×横１０５ｍｍ）を作製した。

　ハードコート層用組成物は、多機能アクリレート(MIWONスペシャルティーケミカル(韓国)、MIRAMER M340)３０重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルに分散したナノシリカゾル(平均粒径１２ｎｍ、固形分４０％)５０重量部、エチルアセテート１７重量部、光重合開始剤(Ciba社、I184)２．７重量部、フッ素系添加剤(信越化学工業株式会社、KY1203)０．３重量部を、攪拌機を利用して配合し、ポリプロピレン（ＰＰ）材質のフィルターを用いて濾過することでハードコート層用組成物を製造した。
　樹脂フィルム（基材１１）には、表３に記載の以下製造例１～７のいずれかのポリアミドイミド樹脂フィルムを用いた。

　［製造例１］
　窒素雰囲気下、撹拌翼を備えた１Ｌセパラブルフラスコに、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン（ＴＦＭＢ）５２ｇ（１６２．３８ｍｍｏｌ）および水分量を５００ｐｐｍに調整したＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）６７３．９３ｇを加え、室温で撹拌しながらＴＦＭＢをＤＭＡｃ中に溶解させた。次に、フラスコに４，４’－（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物（６ＦＤＡ）２８．９０ｇ（６５．０５ｍｍｏｌ）を添加し、室温で３時間撹拌した。その後、テレフタロイルクロリド（ＴＰＣ）１９．８１ｇ（９７．５７ｍｍｏｌ）をフラスコに加え、室温で１時間撹拌した。次いで、フラスコにピリジン７．４９ｇ（９４．６５ｍｍｏｌ）と無水酢酸１４．６１ｇ（１４３．１１ｍｍｏｌ）とを加え、室温で３０分間撹拌した後、オイルバスを用いて７０℃に昇温し、さらに５時間撹拌し、反応液を得た。

　得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入し、析出した沈殿物を取り出し、メタノール中に６時間浸漬後、メタノールで洗浄した。次に、１００℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミドイミド樹脂を得た。得られたポリアミドイミド樹脂に、濃度が１５質量％となるようにＤＭＡｃを加え、ポリアミドイミドワニスを作製した。

　得られたポリアミドイミドワニスをポリエステル基材（東洋紡（株）製、商品名「Ａ４１００」）の平滑面上に自立膜の膜厚が５５μｍとなるようにアプリケーターを用いて塗工し、５０℃３０分間、次いで１４０℃１５分間で乾燥し、自立膜を得た。自立膜を金枠に固定し、さらに大気下で２３０℃３０分間乾燥し、膜厚５０μｍのポリアミドイミドフィルムを得た。

　［製造例２］
　自立膜の膜厚が６５μｍとなるように塗工したこと以外は、製造例１と同様にして、膜厚６０μｍのポリアミドイミドフィルムを得た。

　［製造例３］
　窒素雰囲気下、撹拌翼を備えた１Ｌセパラブルフラスコに、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン（ＴＦＭＢ）５２ｇ（１６２．３８ｍｍｏｌ）および水分量を１００ｐｐｍに調整したＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）６９３．８ｇを加え、室温で撹拌しながらＴＦＭＢをＤＭＡｃ中に溶解させた。次に、フラスコに４，４’－（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物（６ＦＤＡ）２８．９０ｇ（６５．０５ｍｍｏｌ）と３，３’，４，４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）９．５７ｇ（３２．５２ｍｍｏｌ）を添加し、室温で３時間撹拌した。その後、テレフタロイルクロリド（ＴＰＣ）１３．２１ｇ（６３．１０ｍｍｏｌ）をフラスコに加え、室温で１時間撹拌した。次いで、フラスコにピリジン４．９９ｇ（６３．１０ｍｍｏｌ）と無水酢酸２１．９１ｇ（２１４．６６ｍｍｏｌ）とを加え、室温で３０分間撹拌した後、オイルバスを用いて７０℃に昇温し、さらに１時間撹拌し、反応液を得た。

　得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入し、析出した沈殿物を取り出し、メタノール中に６時間浸漬後、メタノールで洗浄した。次に、１００℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミドイミド樹脂を得た。得られたポリアミドイミド樹脂に、濃度が１５質量％となるようにＤＭＡｃを加え、ポリアミドイミドワニスを作製した。

　得られたポリアミドイミドワニスをポリエステル基材（東洋紡（株）製、商品名「Ａ４１００」）の平滑面上に自立膜の膜厚が５５μｍとなるようにアプリケーターを用いて塗工し、５０℃３０分間、次いで１４０℃１５分間で乾燥し、自立膜を得た。自立膜を金枠に固定し、さらに大気下で３００℃３０分間乾燥し、膜厚５０μｍのポリアミドイミドフィルムを得た。

　［製造例４］
　自立膜の膜厚が６５μｍとなるように塗工したこと以外は、製造例３と同様にして、膜厚６０μｍのポリアミドイミドフィルムを得た。

　［製造例５］
　自立膜の膜厚が４５μｍとなるように塗工したこと以外は、製造例３と同様にして、膜厚４０μｍのポリアミドイミドフィルムを得た。

　［製造例６］
　窒素ガス雰囲気下、撹拌翼を備えた１Ｌセパラブルフラスコに、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン（ＴＦＭＢ）１４．６７ｇ（４５．８ｍｍｏｌ）および水分量を２００ｐｐｍに調製したＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）２３３．３ｇを加え、室温で撹拌しながらＴＦＭＢをＤＭＡｃに溶解させた。次に、フラスコに４，４’－オキシジフタル酸二無水物（ＯＰＤＡ）４．２８３ｇ（１３．８ｍｍｏｌ）を加え、室温で１６．５時間撹拌した。その後、４，４‘－オキシビス（ベンゾイルクロリド）（ＯＢＢＣ）１．３５９ｇ（４．６１ｍｍｏｌ）およびテレフタロイルクロリド（ＴＰＣ）５．６０９ｇ（２７．６ｍｍｏｌ）をフラスコに加え、室温で１時間撹拌した。次いで、フラスコに無水酢酸４．９３７ｇ（４８．３５ｍｍｏｌ）と４－ピコリン１．５０１ｇ（１６．１２ｍｍｏｌ）とを加え、室温で３０分間撹拌後、オイルバスを用いて７０℃に昇温し、さらに３時間撹拌し、反応液を得た。　得られた反応液を室温まで冷却した後、メタノール３６０ｇおよびイオン交換水１７０ｇを加えてポリアミドイミドの沈殿を得た。それをメタノール中に１２時間浸漬し、濾過で回収してメタノールで洗浄した。次に、１００℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミドイミド樹脂を得た。得られたポリアミドイミド樹脂に、濃度が１５質量％となるようにＤＭＡｃを加え、ポリアミドイミドワニスを作製した。得られたポリアミドイミドワニスをポリエステル基材（東洋紡（株）製、商品名「Ａ４１００」）の平滑面上に自立膜の膜厚が５５μｍとなるようにアプリケーターを用いて塗工し、５０℃３０分間、次いで１４０℃１５分間で乾燥し、自立膜を得た。自立膜を金枠に固定し、さらに大気下で３００℃３０分間乾燥し、膜厚５０μｍのポリアミドイミドフィルムを得た。

　［製造例７］
　自立膜の膜厚が６５μｍとなるように塗工したこと以外は、製造例６と同様にして、膜厚６０μｍのポリアミドイミドフィルムを得た。

　ハードコート層１２の厚みは、表３に記載されている通りとした。
　前面板１０のタフネスＴ_０を予備試験の項で示した方法によって測定した。表３に、測定結果を示す。前面板１０のタフネスＴ_０は、基材１１の種類、及びハードコート層１２の厚みに応じて異なる値となった。

　［保護板２１（第１光学部材）］
　保護板２１として、表３に記載の以下のいずれかの樹脂フィルムを用いた。
・ＰＥＴ８０（商品名：ＳＨ８２、ＳＫＣ社製、ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚み８０μｍ）
・ＴＡＣ６０（商品名：ＫＣ６ＵＡＷ、コニカミノルタ株式会社、トリアセチルセルロースフィルム、厚み６０μｍ）
・ＴＡＣ４０（商品名：ＫＣ４ＵＡＷ、コニカミノルタ株式会社、トリアセチルセルロースフィルム、厚み４０μｍ）
・ＣＯＰ１３（商品名：ＺＦ１４－０１３、日本ゼオン株式会社、シクロオレフィン系樹脂フィルム、厚み１３μｍ）
　保護板２１のタフネスＴ_１を予備試験の項で示した方法によって測定した。表３に、測定結果を示す。保護板２１のタフネスＴ_１は、樹脂フィルムの種類に応じて異なる値となった。

　［偏光板２２（第２光学部材）］
　平均重合度約２,４００、ケン化度９９．９モル％以上、厚み２０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを準備した。ＰＶＡフィルムを３０℃の純水に浸漬した後、ヨウ素／ヨウ化カリウム／水の質量比が０．０２／２／１００の水溶液に３０℃で浸漬してヨウ素染色を行った（ヨウ素染色工程）。ヨウ素染色工程を経たＰＶＡフィルムを、ヨウ化カリウム／ホウ酸／水の質量比が１２／５／１００の水溶液に、５６．５℃で浸漬してホウ酸処理を行った（ホウ酸処理工程）。ホウ酸処理工程を経たＰＶＡフィルムを８℃の純水で洗浄した後、６５℃で乾燥して、ポリビニルアルコールにヨウ素が吸着配向している偏光子を得た。ＰＶＡフィルムの延伸は、ヨウ素染色工程とホウ酸処理工程において行った。ＰＶＡフィルムの総延伸倍率は５．３倍であった。得られた偏光子の厚みは７μｍであった。

　上記で得られた偏光子と、基材とを水系接着剤を介してニップロールで貼り合わせた。得られた貼合物の張力を４３０Ｎ／ｍに保ちながら、６０℃で２分間乾燥して、片面に基材フィルムを有する直線偏光板を得た。なお、水系接着剤は水１００部に、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール（「クラレポバール ＫＬ３１８」、株式会社クラレ製）３部と、水溶性ポリアミドエポキシ樹脂（「スミレーズレジン６５０」（固形分濃度３０％の水溶液）、田岡化学工業株式会社製）１．５部とを添加して調製した。
　当該偏光子上に、厚さ５μｍの粘着剤層を介して、液晶化合物が重合して硬化した層を含む位相差フィルム（厚さ５μｍ、層構成：液晶化合物が硬化した層及び配向膜からなるλ／２板（厚さ２μｍ）／接着剤層（厚さ２μｍ）／液晶化合物が硬化した層及び配向膜からなるλ／４板（厚さ１μｍ））を貼合した。このようにして、「基材／偏光子（厚さ７μｍ）／粘着剤層（厚さ５μｍ）／位相差フィルム（厚さ５μｍ）」の層構成を有する偏光板を作製した。

　偏光子に貼り合わせる基材には、表３に示されるように以下のいずれかに記載の樹脂フィルムを用いた。
・ＴＡＣ２５（商品名：ＫＣ２ＵＡＷ、コニカミノルタ株式会社、トリアセチルセルロースフィルム、厚み２５μｍ）
・ＣＯＰ２３（商品名：ＺＦ１４－０２３、日本ゼオン株式会社、シクロオレフィン系樹脂フィルム、厚み２３μｍ）
　偏光板２２のタフネスＴ_２を予備試験の項で示した方法によって測定した。表３に、測定結果を示す。偏光板２２のタフネスＴ_２は、基材の種類に応じて異なる値となった。

　［タッチセンサパネル２３（第３光学部材）］
　透明導電層、分離層、接着剤層、及び基材がこの順に積層された縦１７７ｍｍ×横１０５ｍｍのタッチセンサパネルを準備した。透明導電層はＩＴＯ層を含み、分離層はアクリル系樹脂組成物の硬化層を含むものであり、両者の厚みの合計は７μｍであった。接着剤層は厚みが２μｍであった。
　基材には、表３に記載の以下のいずれかに記載の樹脂フィルムを用いた。
・ＰＥＴ８０（商品名：ＳＨ８２、ＳＫＣ社製、ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚み８０μｍ）
・ＴＡＣ２５（商品名：ＫＣ２ＵＡＷ、コニカミノルタ株式会社、トリアセチルセルロースフィルム、厚み２５μｍ）
・ＣＯＰ２３（商品名：ＺＦ１４－０２３、日本ゼオン株式会社、シクロオレフィン系樹脂フィルム、厚み２３μｍ）
　タッチセンサパネル２３のタフネスＴ_３を予備試験の項で示した方法によって測定した。表３に、測定結果を示す。タッチセンサパネル２３のタフネスＴ_３は、基材の種類に応じて異なる値となった。

　１０　前面板、１１　基材、１２　ハードコート層、２１　第１光学部材（保護板）、２２　第２光学部材（偏光板）、２３　第３光学部材（タッチセンサパネル）、３１　第１粘着剤層、３２　第２粘着剤層、３３　第３粘着剤層。

Claims (5)

1. 　基材を含む前面板と、ｎ個（ｎは２以上の整数）の光学部材と、がこの順に積層された光学積層体であって、
   　前記ｎ個の光学部材の前記前面板側の表面には、それぞれ厚み１０μｍ以上の粘着剤層が接して積層されており、
   　前記前面板に近い側からｘ番目（ｘは１以上ｎ以下の整数）の光学部材を第ｘ光学部材とすると、下記式（１）により算出される評価値Ａが、下記式（２）：
   　５０≦Ａ≦５００　　　（２）
   の関係を満たす、光学積層体。
   

   

   　［式（１）中、Ｔ_０〔ｍＪ／ｍｍ^３〕は前記前面板のタフネスであり、ａ_０は（前記基材の厚み〔μｍ〕）／（前記前面板の厚み〔μｍ〕）であり、Ｔ_ｘ〔ｍＪ／ｍｍ^３〕は前記第ｘ光学部材のタフネスであり、ａ_ｘは（前記前面板の前記光学部材側とは反対側の表面から前記第ｘ光学部材の前記前面板側の表面までの距離〔μｍ〕）／（前記第ｘ光学部材の厚み〔μｍ〕）である。］
2. 　前記ｎ個の光学部材の内の一つは偏光板である、請求項１に記載の光学積層体。
3. 　前記ｎ個の光学部材の内の一つはタッチセンサパネルである、請求項１又は２に記載の光学積層体。
4. 　前記ｎは４以下の整数である、請求項１～３のいずれか１項に記載の光学積層体。
5. 　請求項１～４のいずれか１項に記載の光学積層体を含む表示装置。

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