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WO2019082746A1 - 偏光フィルムの製造方法及び偏光フィルム - Google Patents

偏光フィルムの製造方法及び偏光フィルム

Info

Publication number
WO2019082746A1
WO2019082746A1 PCT/JP2018/038526 JP2018038526W WO2019082746A1 WO 2019082746 A1 WO2019082746 A1 WO 2019082746A1 JP 2018038526 W JP2018038526 W JP 2018038526W WO 2019082746 A1 WO2019082746 A1 WO 2019082746A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
layer
patterned
group
polarizing
polarizing film
Prior art date
Application number
PCT/JP2018/038526
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
伸行 幡中
耕太 村野
Original Assignee
住友化学株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 住友化学株式会社 filed Critical 住友化学株式会社
Priority to JP2019551035A priority Critical patent/JP7272957B2/ja
Priority to KR1020207012636A priority patent/KR102807198B1/ko
Priority to CN201880069758.7A priority patent/CN111279233B/zh
Publication of WO2019082746A1 publication Critical patent/WO2019082746A1/ja

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    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
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    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing a polarizing film and a polarizing film, and more particularly to a method for producing a polarizing film having a layer containing a liquid crystal compound and a dichroic dye, and a polarizing film.
  • An organic EL display device using an organic light emitting diode can not only be reduced in weight and thickness as compared with a liquid crystal display device, but also has high image quality such as wide viewing angle, fast response speed, and high contrast. Because it can be realized, it is used in various fields such as smartphones, televisions, digital cameras, and the like. In the organic EL display device, it is known to improve the antireflection performance by using a circularly polarizing plate or the like in order to suppress a decrease in visibility due to the reflection of external light.
  • An object of the present invention is to provide a method of producing a novel polarizing film and a polarizing film having at least two regions having different degrees of visibility correction polarization.
  • the present invention provides a method for producing a polarizing film shown below and a polarizing film.
  • a patterned polarizing layer is formed by applying a composition for forming a polarizing layer containing a liquid crystal compound and a dichroic dye on the surface on the patterned alignment layer side of the substrate layer with a patterned alignment layer.
  • the patterned liquid repellent layer forming step A substrate layer with a protective layer is formed by laminating a protective layer having a coated region for coating the substrate layer and an exposed region for exposing the substrate layer on at least one side of the substrate layer.
  • the exposed area is a circle, an ellipse, an oval or a polygon in a plan view shape, When the exposed area is circular, the diameter is 5 cm or less.
  • the major axis is 5 cm or less.
  • region is a polygon
  • the manufacturing method of the polarizing film as described in [2] whose diameter of the virtual circle drawn so that the said polygon may be inscribed is 5 cm or less.
  • the manufacturing method of the polarizing film as described in-.
  • the composition for forming an alignment layer contains a photoalignable polymer
  • the patterned alignment layer forming step forms a patterned alignment layer by irradiating polarized light on the coating layer for a patterned alignment layer formed by applying the composition for forming an alignment layer
  • the liquid crystal compound is a polymerizable liquid crystal compound
  • the patterned polarizing layer is formed by performing active energy ray irradiation on the coating layer for a patterned polarizing layer formed by applying the composition for forming a polarizing layer.
  • the manufacturing method of the polarizing film in any one of 1]-[5].
  • the polarizing film is a long polarizing film having a length of 10 m or more
  • the retardation layer is a long retardation layer having a length of 10 m or more
  • an elongated laminate is formed by laminating the elongated polarizing film and the elongated retardation layer.
  • a polarizing film comprising a polarization region and a low polarization region having a visibility correction polarization degree lower than that of the polarization region on a substrate layer,
  • the polarization region contains a liquid crystal compound and a dichroic dye, and has a visibility correction polarization degree of 90% or more.
  • the polarizing film, wherein the low polarization region has a liquid repellent layer.
  • the polarizing film according to [12], wherein the low polarization region has a visibility correction polarization degree of 10% or less.
  • the polarization region has a visibility correction single transmittance of 35% or more,
  • FIG. 1 It is a schematic plan view which shows an example of the polarizing film of this invention.
  • FIG. 1 (A) to (e) are schematic cross-sectional views showing an example of the layer structure obtained in each step of the process for producing a polarizing film of the present invention. It is a schematic sectional drawing which shows an example of the patterning liquid repellent layer formation process in the manufacturing method of the polarizing film of this invention.
  • (A) to (c) are each a schematic cross-sectional view showing an example of the circularly polarizing plate of the present invention.
  • the method for producing a polarizing film of the present invention is A patterned liquid repellent layer forming step of forming a patterned liquid repellent layer on at least one side of the substrate layer to obtain a substrate layer with a patterned liquid repellent layer; Liquid-Repellent Layer-Coated Substrate Layer A patterned alignment-layer-provided substrate layer having a patterned alignment layer formed by coating the composition for forming an alignment layer on the patterned liquid-repellent layer side is patterned An alignment layer forming step, The patterned polarizing layer which forms a patterning polarizing layer by coating the composition for polarizing layer formation containing a liquid crystal compound and a dichroic dye on the surface at the side of the patterning alignment layer of a base material layer with a patterning alignment layer. And a forming step. The patterned liquid repellent layer exhibits liquid repellency to the composition for forming an alignment layer and the composition for forming a polarizing layer
  • a method of forming a patterned liquid repellent layer in the above-mentioned patterned liquid repellent layer forming step a method of forming a patterned liquid repellent layer using a protective layer, and a patterned liquid repellent layer by drop application of a liquid repellent agent. And methods for forming Each method will be described in detail below.
  • FIG. 1 is a schematic plan view showing an example of the polarizing film of the present invention.
  • 2 (a) to 2 (e) are schematic cross-sectional views showing the layer structure obtained in each step of the manufacturing process of the first method of manufacturing a polarizing film shown in FIG.
  • FIG. 2 (e) is a cross-sectional view taken along the line XX in FIG.
  • the patterned liquid repellent layer forming step in the first manufacturing method of the polarizing film 2 is A protective layer-attached group is formed by laminating a protective layer 37 having a coated area 37a for coating the base layer 13 and an exposed area 37b for exposing the base layer 13 on at least one side of the base layer 13.
  • a base layer coating step of obtaining the material layer 81 (FIG. 2 (a)); A liquid repellent layer is applied to the surface on the protective layer 37 side of the protective layer-provided base layer 81 to obtain a liquid-repellent layer-provided base layer 82 (FIG. 2B) on which the liquid repellent layer 47 is formed.
  • the 1st manufacturing method of the polarizing film 2 is a patterned liquid repellent layer of the base material layer 83 with a patterned liquid repellent layer (FIG.2 (c)) obtained through the above-mentioned patterned liquid repellent layer formation process.
  • Patterned alignment layer formation to obtain a substrate with patterned alignment layer 84 (FIG.
  • a polarizing film 2 having a patterned polarizing layer shown in FIG. 1 and FIG. 2 (e) can be manufactured.
  • the polarizing film 2 shown in FIG. 1 is a film having a function of light absorption anisotropy, and has a patterned polarizing layer 21 on the base layer 13.
  • the patterned polarization layer 21 has a polarization area 21 a and a low polarization area 21 b having a visibility correction polarization degree (Py) lower than that of the polarization area 21 a.
  • the polarization region 21a contains a liquid crystal compound and a dichroic dye, and has a visibility correction polarization degree (Py) of 90% or more.
  • the low polarization region 21 b preferably includes a patterned liquid repellent layer (liquid repellent layer) 47 b and does not contain a liquid crystal compound and a dichroic dye.
  • the polarizing film 2 has the patterned polarizing layer 21 on the base layer 13, but may further have the patterned alignment layer 22, other layers, and the like. Details of the patterned alignment layer 22 will be described later.
  • a surface protective layer provided for the purpose of protecting the surface of the patterned polarizing layer 21 or the like may be mentioned on the surface of the patterned polarizing layer 21 opposite to the substrate layer 13. it can.
  • the surface protective layer may have a single layer structure or a multilayer structure. When the surface protective layer has a multilayer structure, each layer may be formed of the same material, or may be formed of different materials.
  • the alignment layer and the patterned polarizing layer 21 are provided on one side of the base layer 13 is shown. It may have an optical polarization layer.
  • the structures of the patterned polarizing layers provided on both sides of the substrate layer 13 may be identical to one another or may be different from one another.
  • the polarizing film 2 may be a long polarizing film having a length of 10 m or more.
  • the polarizing film 2 can be a wound body wound in a roll.
  • the polarizing film can be continuously drawn out from the wound body and laminated with a retardation layer to be described later, or can be cut into pieces.
  • the length of the elongate polarizing film used as a winding body will not be specifically limited if it is 10 m or more, For example, it can be 10000 m or less.
  • the polarization area 21 a is formed on the base material layer 13 and contains a liquid crystal compound and a dichroic dye.
  • An alignment layer 22 a may be provided between the polarization region 21 a and the base material layer 13.
  • the polarization region 21a preferably has a visibility correction polarization degree (Py) of 90% or more, more preferably 92% or more, still more preferably 95% or more, and usually 100% or less.
  • the low polarization region 21 b preferably has a liquid repellent layer (patterned liquid repellent layer) 47 b formed on the base material layer 13 and does not have an alignment layer or a polarizing layer.
  • the low polarization region 21b can have a visibility correction polarization degree (Py) of, for example, 10% or less, preferably 5% or less, more preferably 1% or less, and 0%. It is also good.
  • the visibility correction single transmittance (Ty) of the low polarization region 21b can be, for example, 80% or more, preferably 85% or more, more preferably 88% or more, and usually 98%. It is below.
  • the visibility correction polarization degree (Py) and the visibility correction single transmittance (Ty) in the present specification can be calculated based on the degree of polarization and the single transmittance measured using a spectrophotometer.
  • the transmittance of the transmittance of the transmission axis direction in the wavelength range of 380 nm ⁇ 780 nm is visible light (alignment vertical) (T 1) and the absorption axis direction (oriented the same direction) to (T 2)
  • the spectrophotometer It can measure by a double beam method using the apparatus which set the folder with a polarizer.
  • the degree of polarization and single transmittance at each wavelength are calculated using the following formulas (Formula 1) and (Formula 2) By performing the visibility correction with the light source), it is possible to calculate the visibility correction single transmittance (Ty) and the visibility correction polarization degree (Py).
  • the occupied area of the polarization area 21 a and the occupied area of the low polarization area 21 b may be appropriately selected according to the characteristics required for the polarizing film 2.
  • the ratio of the total occupied area of the polarization region 21a and the low polarization region 21b to the surface area of the polarizing film 2 is preferably 90% or more, more preferably 95% or more, and 99% or more More preferable.
  • the occupied area of the polarization area 21a is preferably 50% or more, more preferably 70% or more, with respect to the total area of the occupied area of the polarization area 21a and the occupied area of the low polarization area 21b. More preferably, it is 80% or more. For example, as shown in FIG.
  • the polarization area 21a may be provided so that the area occupied by the low polarization area 21b is smaller than the area occupied by the polarization area 21a and the low polarization area 21b is surrounded.
  • the polarization area 21a is provided so as to surround one circular low polarization area 21b, but a plurality of low polarization areas 21b may be provided independently.
  • the shape of the polarization area 21a and the shape of the low polarization area 21b are not particularly limited.
  • the low polarization area 21b has a plan view
  • the shape may be any shape such as a circle, an oval, an oval, a polygon such as a triangle, a square, a rectangle, a rhombus, a letter shape, and a combination thereof.
  • the low polarization region 21 b preferably has a circular, elliptical, oval, or polygonal shape in a plan view.
  • its diameter is preferably 5 cm or less, more preferably 3 cm or less, and still more preferably 2 cm or less.
  • the major axis is preferably 5 cm or less, more preferably 3 cm or less, and still more preferably 2 cm or less.
  • the diameter of the virtual circle drawn so as to be inscribed in this polygon is preferably 5 cm or less, more preferably 3 cm or less, and 2 cm or less Is more preferred.
  • the low polarization area 21b having the above-described shape can be suitably used as an area corresponding to the lens position of a camera provided in a smartphone, a tablet or the like. At this time, coloring the low polarization region 21b by setting the low polarization region 21b as a region having a visibility correction polarization degree (Py) of 10% or less and a visibility correction single transmittance (Ty) of 80% or more.
  • the camera performance can be improved because the transparency of the camera can be reduced.
  • the polarization area 21a and the low polarization area 21b may be provided such that the shape in plan view is linear, band-like, wave-like or the like.
  • a plurality of polarization regions 21a and low polarization regions 21b may be alternately provided.
  • the widths of the polarization area 21a and the low polarization area 21b are preferably independently 1 ⁇ m to 10 mm, more preferably 1 ⁇ m to 1 mm, and still more preferably 1 ⁇ m to 100 ⁇ m.
  • the long polarizing film is usually cut into a predetermined size according to the application of the polarizing film, etc. It is preferable to set the arrangement of the polarization area and the low polarization area in the long polarizing film so that the polarization area 21a and the low polarization area 21b are formed.
  • the polarizing film after cutting is the polarizing film 2 shown in FIG. 1, a plurality of low polarization regions 21b are provided at predetermined intervals in the longitudinal direction and / or width direction of the long polarizing film. Is preferred.
  • the thickness of the polarizing region 21a of the patterned polarizing layer 21 is preferably 0.5 ⁇ m or more, more preferably 1 ⁇ m or more, and preferably 5 ⁇ m or less, more preferably 3 ⁇ m or less .
  • the thickness of the patterned liquid repellent layer 47b is usually 1 to 200 nm, preferably 1 to 20 nm.
  • the thickness of the polarization region 21a and the thickness of the patterned liquid repellent layer 47b can be measured by an interference film thickness meter, a laser microscope, a stylus film thickness meter, or the like.
  • Base layer coating step In the base material layer coating step, as shown in FIG. 2A, exposure for exposing the base material layer 13 and a coated region 37a for coating the base material layer 13 on at least one side of the base material layer 13 And a protective layer 37 having a region 37b is stacked. Thereby, the base layer 81 with a protective layer can be obtained.
  • the exposed region 37 b of the protective layer 37 can be, for example, an opening of the protective layer 37.
  • the coated region 37 a can suppress the coating of the liquid repellent agent on the base material layer 13 when the liquid repellent agent described later is coated on the protective layer-provided base layer 81.
  • the liquid repellent agent can be coated on the base layer 13.
  • a patterned liquid repellent layer 47 b is formed on the base material layer 13 by the liquid repellent agent applied to the exposed area 37 b.
  • the exposed area 37 b is preferably formed to correspond to the low polarization area 21 b of the polarizing film 2.
  • the shape is preferable to determine the shape according to the shape of the low polarization area
  • the plan view shape of the low polarization area 21b is circular; oval; oval; polygonal such as triangular, square, rectangular, rhombus, etc .; linear; It may be formed corresponding to the shape.
  • the exposed area 37b when the exposed area 37b is circular, its diameter is preferably 5 cm or less, more preferably 3 cm or less, and still more preferably 2 cm or less.
  • the major axis is preferably 5 cm or less, more preferably 3 cm or less, and still more preferably 2 cm or less.
  • the diameter of a virtual circle drawn so as to be inscribed in the polygon is preferably 5 cm or less, more preferably 3 cm or less, and 2 cm or less. More preferable.
  • liquid repellent layer 47 is formed on the covered area 37a in the covered area 37a of the protective layer 37, it is preferable to form the liquid repellent layer 47 corresponding to the area on the base material layer 13 where the liquid repellent layer 47 is not formed. . Since it is difficult to form an alignment layer or a polarizing layer on the patterned liquid repellent layer 47b, for example, when manufacturing the polarizing film 2 shown in FIG. 1 and FIG. 2 (e), according to the shape of the polarizing region 21a. It is preferable to determine the shape.
  • the base material layer 13 can be used to support the patterned alignment layer 22 or the patterned polarizing layer 21 when producing the polarizing film 2, and also supports the patterned polarizing layer 21 of the polarizing film 2. Can be used to
  • the base material layer 13 may be a glass base material or a resin base material, but is preferably a resin base material. Moreover, from the point which can manufacture the polarizing film 2 continuously, it is more preferable that the base material layer 13 unrolls the elongate resin base material wound by roll shape.
  • the resin substrate is preferably a light-transmissive substrate capable of transmitting visible light.
  • the term “transparency” means that the transmittance of a single visible sensitivity correction is 80% or more for light in a wavelength range of 380 to 780 nm.
  • the thickness of the base material layer 13 is preferably thin in that it is a mass that can be practically handled, but if it is too thin, the strength tends to decrease and the processability tends to be poor.
  • the thickness of the base layer 13 is usually 5 ⁇ m to 300 ⁇ m, preferably 20 ⁇ m to 200 ⁇ m.
  • the base material layer 13 may be provided so that peeling is possible, for example, after bonding the patterning polarizing layer 21 of the polarizing film 2 to the member which makes a display apparatus, the phase difference layer mentioned later, etc. It may be one that can be peeled off from the film 2. Thereby, the further film thinning effect of the polarizing film 2 is acquired.
  • the resin constituting the resin base examples include polyolefins such as polyethylene and polypropylene; cyclic olefin resins such as norbornene polymers; polyvinyl alcohol; polyethylene terephthalate; polymethacrylic acid esters; polyacrylic acid esters; Cellulose esters such as cellulose and cellulose acetate propionate; polyethylene naphthalate; polycarbonate; polysulfone; polyethersulfone; polyethersulfone; polyether ketone; polyphenylene sulfide and polyphenylene oxide;
  • polyolefins such as polyethylene and polypropylene
  • cyclic olefin resins such as norbornene polymers
  • polyvinyl alcohol polyethylene terephthalate
  • polymethacrylic acid esters polyacrylic acid esters
  • Cellulose esters such as cellulose and cellulose acetate propionate
  • polyethylene naphthalate polycarbonate
  • Examples of commercially available resin base materials of cellulose ester include “Fujitack film” (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.); “KC8UX2M”, “KC8UY” and “KC4UY” (all manufactured by Konica Minolta Opto Co., Ltd.), etc. .
  • cyclic olefin resins examples include “Topas” (registered trademark) (manufactured by Ticona, Germany), “Arton” (registered trademark) (manufactured by JSR Corporation), “ZEONOR” (registered trademark), Examples include “ZEONEX” (registered trademark) (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) and "APEL” (registered trademark) (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.).
  • Such a cyclic olefin resin can be formed into a film by a known means such as a solvent casting method and a melt extrusion method to make a resin substrate.
  • the resin base material of cyclic olefin resin marketed can also be used.
  • resin base materials of commercially available cyclic olefin-based resins "ESSINA” (registered trademark), "SCA 40” (registered trademark) (above, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.), "Zeonor Film” (registered trademark) (OPTES share) And “Arton Film” (registered trademark) (manufactured by JSR Corporation).
  • the base material layer 13 may have a single layer structure or a multilayer structure of two or more layers. When the base material layer 13 is a multilayer structure, each layer may be formed of the same material, or may be formed of different materials.
  • the base material layer 13 may have a 1 ⁇ 4 wavelength plate function.
  • a combination of the base material layer 13 and the patterned polarizing layer 21 can provide a polarizing film having the function of a circularly polarizing plate. Thereby, a circularly-polarizing plate can be obtained even if it does not bond the retardation film which has a 1 ⁇ 4 wavelength plate function separately from the base material layer 13 to the polarizing film 2.
  • the patterned polarizing layer 21 may be halved using a laminate of a layer having a half wave plate function and a layer having a quarter wave plate function.
  • a circularly polarizing plate can be obtained by laminating on the layer side having the wavelength plate function.
  • a circularly polarizing plate can also be used by using a layer in which a layer having inverse wavelength dispersive 1/4 wavelength plate function and a layer having positive C plate function are laminated. You can get
  • the protective layer 37 what formed the area
  • a predetermined portion of the sheet-like substrate is mechanically removed by punching, cutting plotter, water jet or the like, or a predetermined portion of the sheet-like substrate is removed by laser ablation, chemical dissolution or the like. It can be formed by a method or the like.
  • the sheet-like base material forming the protective layer 37 is not particularly limited as long as it is insoluble in the liquid repellent agent when the liquid repellent agent is applied in the liquid repellent layer forming step described later.
  • a sheet-like base material which forms protection layer 37 it can be formed using the same material as base material layer 13 mentioned above, for example, and it is preferred to form using resin base material especially, and protection layer 37 It is more preferable to use a polyester resin such as polyethylene terephthalate that easily suppresses deformation of a region (for example, an opening) to be the exposed region 37b.
  • the protective layer 37 preferably has an adhesive layer for bonding to the base layer 13.
  • the protective layer is peeled off as described later, so the adhesive layer is preferably peelable with respect to the base layer 13.
  • the thickness of the protective layer 37 is usually 20 ⁇ m or more, preferably 30 ⁇ m or more, and usually 250 ⁇ m or less, preferably 200 ⁇ m or less.
  • a liquid repellent agent is applied to the surface on the protective layer 37 side of the protective layer provided base material layer 81 to obtain a liquid repellent layer provided base material layer 82 having a liquid repellent layer 47 formed (FIG. 2 (b).
  • a liquid repellent layer (patterned liquid repellent layer 47b) formed by applying a liquid repellent agent exhibits liquid repellency to the composition for forming an alignment layer and the composition for forming a polarizing layer.
  • the liquid repellent layer 47b repels these compositions. It means that a coating layer of these compositions is not formed on the patterned liquid repellent layer 47b.
  • the liquid repellency of the patterned liquid repellent layer 47b is, for example, one having a contact angle of 90 ° or more measured by the ⁇ / 2 method with a water droplet volume of 3 ⁇ L on the surface of the patterned liquid repellent layer 47b. It may be 100 ° or more, 110 ° or more, and generally less than 120 °.
  • liquid repellent for example, a first organosilicon compound in which a fluorine-containing group having a perfluoroalkyl group or a perfluoropolyether group on the free end side and a hydrolyzable group are bonded to a silicon atom, hydrolysis Or a second organosilicon compound in which a fluorocarbon-containing group and a hydrolyzable group are bonded to a silicon atom.
  • the carbon number of the perfluoroalkyl group (in particular, the carbon number of the longest linear portion) is, for example, preferably 3 or more, more preferably 5 or more, more preferably 7 or more, and the upper limit of the carbon number is particularly limited. I will not.
  • the perfluoropolyether group is a group in which all hydrogen atoms of a polyalkylene ether group or a polyalkylene glycol dialkyl ether residue are substituted by a fluorine atom, a perfluoropolyalkylene ether group, or a perfluoropolyalkylene glycol dialkyl It can also be said that it is an ether residue.
  • the number of carbon atoms contained in the longest linear portion of the perfluoropolyether group is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, and still more preferably 20 or more.
  • the upper limit of the carbon number is not particularly limited, and may be, for example, about 200.
  • the fluorine-containing group may have the above perfluoroalkyl group or perfluoropolyether group on the free end side. Therefore, a suitable linking group may be present on the side to be bound to a silicon atom, and the perfluoroalkyl group or the perfluoroalkyl group may be directly bound to a silicon atom without the linking group.
  • the linking group is, for example, a hydrocarbon group such as an alkylene group or an aromatic hydrocarbon group, a (poly) alkylene glycol group, or a group in which a part of these hydrogen atoms is substituted with F, and these are suitably linked And the like.
  • the carbon number of the linking group is, for example, 1 or more and 20 or less, preferably 2 or more and 10 or less.
  • a plurality of silicon atoms may be bonded to one linking group, and a plurality of perfluoroalkyl groups or perfluoropolyether groups may be bonded to one linking group.
  • the number of fluorine-containing groups bonded to a silicon atom may be one or more, and may be two or three, preferably one or two, and particularly preferably one.
  • the hydrolyzable group is either (1) the first organosilicon compounds, or (2) the first organosilicon compound and the active hydrogen (such as hydroxyl group) on the surface of the substrate, through hydrolysis and dehydration condensation reactions. Or (3) has an effect of bonding the first organosilicon compound and the second organosilicon compound.
  • a hydrolyzable group include an alkoxy group (in particular, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms), a hydroxy group, an acetoxy group, an allyl group and a halogen atom (in particular, a chlorine atom).
  • Preferred hydrolyzable groups are an alkoxy group, an allyl group and a halogen atom, and in particular a methoxy group, an ethoxy group, an allyl group and a chlorine atom are preferred.
  • the number of hydrolyzable groups bonded to a silicon atom may be one or more, and may be two or three, preferably two or three, and particularly preferably three. When two or more hydrolyzable groups are bonded to a silicon atom, different hydrolyzable groups may be bonded to the silicon atom, but the same hydrolyzable group may be bonded to the silicon atom preferable.
  • the total number of fluorine-containing groups and hydrolyzable groups bonded to silicon atoms is usually 4, but may be 2 or 3 (especially 3). In the case of 3 or less, for example, an alkyl group (in particular, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), H, NCO or the like can be bonded to the remaining bond.
  • the fluorine-containing group of the first organosilicon compound may be linear or have a side chain.
  • the liquid repellent agent the water and oil repellent coating composition described in WO 2016/076245 can be mentioned.
  • the liquid repellent agent can be applied to the surface on the protective layer 37 side of the protective layer-provided base layer 81 by dip coating, roll coating, bar coating, spin coating, spray coating, die coating, etc. .
  • the coating layer formed by applying the liquid repellent agent to the protective layer-provided substrate layer 81 is subjected to air
  • the liquid repellent layer 47 can be formed by standing in the inside and / or drying by heating.
  • the liquid repellent agent is applied on the covering area 37 a of the protective layer 37 and on the base layer 13 in the exposed area 37 b of the protective layer 37.
  • the liquid repellent layer 47 is formed on the covering area 37a of the protective layer 37 and on the base layer 13 in the exposed area 37b of the protective layer 37.
  • the layered substrate layer 82 can be obtained.
  • the protective layer removing step the protective layer 37 is peeled off from the liquid repellent layer-provided base layer 82 obtained in the liquid repellent layer forming step.
  • the base material layer 83 with a patterned liquid repellent layer which has the patterned liquid repellent layer 47b formed by removing a part of the liquid repellent layer 47 can be obtained (FIG. 2 (c)).
  • the protective layer 37 is peeled off from the liquid repellent layer-provided base layer 82 obtained in the liquid repellent layer forming step.
  • the base material layer 83 with a patterned liquid repellent layer which has the patterned liquid repellent layer 47b formed by removing a part of the liquid repellent layer 47 can be obtained (FIG. 2 (c)).
  • the protective layer 37 By peeling the protective layer 37 from the liquid repellent layer-attached base layer 82, the liquid repellent layer 47 on the coated area 37a is removed together with the protective layer 37, and the base layer 13 is removed in the exposed area 37b of the protective layer 37.
  • the composition for forming an alignment layer is applied to the surface on the patterned liquid repellent layer 47 b side of the substrate layer 83 with a patterned liquid repellent layer obtained in the protective layer removing step.
  • the base material layer 84 with a patterning alignment layer which has the patterning alignment layer 22 can be obtained (FIG. 2 (d)).
  • the patterned alignment layer 22 formed in the patterned alignment layer forming step can have an alignment regulating force to align the liquid crystal compound laminated thereon in a desired direction.
  • an alignment polymer composition described later a composition for forming a photo alignment film, a composition containing a resin material for forming a glue alignment film, and the like can be used.
  • the patterned liquid repellent layer 47 b exhibits liquid repellency to the composition for forming an alignment layer. Therefore, when the composition for forming an alignment layer is applied to the surface on the side of the patterned liquid repellent layer 47b of the substrate layer 83 with a patterned liquid repellent layer in the step of forming a patterned alignment layer, the patterned liquid repellent layer 47b is formed. In this case, the composition for forming an alignment layer is repelled and a coated layer of this composition is not formed.
  • the coating layer of the composition for formation of alignment layers can be formed in the area
  • the alignment layer 22a is formed on the base material layer 13 in the region where the patterned liquid repellent layer 47b is formed and in the region where the patterned liquid repellent layer 47b is not formed.
  • a patterned alignment layer-provided substrate layer having a patterned alignment layer 22 can be obtained.
  • the patterned alignment layer 22 facilitates liquid crystal alignment of the liquid crystal compound.
  • the state of liquid crystal alignment such as horizontal alignment, vertical alignment, hybrid alignment, and tilt alignment changes depending on the properties of the patterned alignment layer 22 and the liquid crystal compound, and the combination thereof can be arbitrarily selected.
  • the patterned alignment layer 22 is a material that expresses horizontal alignment as alignment control force
  • the liquid crystal compound can form horizontal alignment or hybrid alignment
  • the patterned alignment layer 22 is a material that expresses vertical alignment. If so, the liquid crystal compound can form vertical alignment or tilt alignment.
  • the expression of horizontal, vertical, etc. represents the direction of the major axis of the aligned liquid crystal compound based on the plane of the polarizing film 2.
  • the vertical alignment is to have the long axis of the aligned polymerizable liquid crystal in the direction perpendicular to the plane of the polarizing film 2.
  • perpendicular as used herein means 90 ° ⁇ 20 ° with respect to the plane of the polarizing film 2. Since it is preferable that the polarizing film 2 has the polarization
  • the alignment control force of the patterned alignment layer 22 can be arbitrarily adjusted depending on the surface state and the rubbing conditions when the patterned alignment layer 22 is formed of an alignment polymer, and is formed of a photo alignment polymer If it is set, it can be adjusted arbitrarily according to the polarized light irradiation condition and the like.
  • the liquid crystal alignment can also be controlled by selecting physical properties such as surface tension and liquid crystallinity of the polymerizable liquid crystal compound.
  • the thickness of the patterned alignment layer 22 is usually 10 nm to 5000 nm, preferably 10 nm to 1000 nm, and more preferably 30 nm to 300 nm.
  • the patterned alignment layer 22 formed between the base material layer 13 and the patterned polarizing layer 21 is insoluble in the solvent used when forming the patterned polarizing layer 21 on the patterned alignment layer 22.
  • the patterned alignment layer 22 examples include an alignment film made of an alignment polymer, a photo alignment film, a groove alignment film, and the like.
  • the patterned alignment layer 22 is a photo alignment film from the viewpoint that the alignment direction can be easily controlled. Is preferred.
  • orientation polymers include polyamides and gelatins having an amide bond in the molecule, polyimides having an imide bond in the molecule, polyamic acid which is a hydrolyzate thereof, polyvinyl alcohol, alkyl-modified polyvinyl alcohol, polyacrylamide, polyoxazole, Examples thereof include polyethylene imine, polystyrene, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylic acid, and polyacrylic acid esters. Among them, polyvinyl alcohol is preferred. These orientable polymers may be used alone or in combination of two or more.
  • an alignment film made of an alignment polymer a composition obtained by dissolving the alignment polymer in a solvent (hereinafter sometimes referred to as “alignment polymer composition”) is usually used as the substrate layer 83 with a patterned liquid repellent layer. It can be obtained by applying, removing the solvent, or applying the orienting polymer composition to the substrate layer 13, removing the solvent and rubbing (rubbing method).
  • solvent used for the orientable polymer composition examples include water; alcohol solvents such as methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, methyl cellosolve, butyl cellosolve or propylene glycol monomethyl ether; ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl Ester solvents such as ether acetate, ⁇ -butyrolactone, propylene glycol methyl ether acetate or ethyl lactate; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methyl amyl ketone or methyl isobutyl ketone; fats such as pentane, hexane or heptane Group hydrocarbon solvents; aromatic hydrocarbon solvents such as toluene or xylene; nitrile solvents such as acetonitrile; Rofuran or
  • the content of the orienting polymer in the orientating polymer composition may be in the range in which the orienting polymer can be completely dissolved in the solvent, but is preferably 0.1 to 20% by mass in terms of solid content with respect to the solution. 0.1 to 10% by mass is more preferable.
  • a commercially available alignment film material may be used as it is as an alignment polymer composition.
  • Examples of commercially available alignment film materials include Sun Ever (registered trademark) (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) or Optomer (registered trademark) (manufactured by JSR Corporation).
  • coating methods such as spin coating method, extrusion method, gravure coating method, die coating method, bar coating method or applicator method And publicly known methods such as printing methods such as flexo method.
  • a printing method such as a gravure coating method, a die coating method or a flexo method can be adopted as the coating method.
  • a dry film of the orientable polymer is formed.
  • a natural drying method, a ventilation drying method, a heat drying method, a reduced pressure drying method and the like can be mentioned.
  • the dried coating can then be contacted with a rotating rubbing roll wrapped with a rubbing cloth to form the patterned alignment layer 22.
  • the photoalignment film usually has a composition containing a polymer or monomer having a photoreactive group and a solvent (hereinafter sometimes referred to as a "photoalignment film-forming composition") with a patterned liquid repellent layer-containing group. It can be obtained by irradiating polarized light (preferably, polarized UV) to the coating layer for alignment layer formed by coating on the material layer 83.
  • polarized light preferably, polarized UV
  • the photo alignment film is more preferable in that the direction of the alignment control force can be arbitrarily controlled by selecting the polarization direction of the polarized light to be irradiated.
  • the photoreactive group refers to a group that generates liquid crystal alignment ability by irradiating light. Specifically, it generates a light reaction that is the source of liquid crystal alignment ability, such as alignment induction or isomerization reaction of molecules generated by light irradiation, dimerization reaction, photocrosslinking reaction, or photolysis reaction. is there.
  • a light reaction that is the source of liquid crystal alignment ability, such as alignment induction or isomerization reaction of molecules generated by light irradiation, dimerization reaction, photocrosslinking reaction, or photolysis reaction. is there.
  • the photoreactive groups those capable of causing a dimerization reaction or a photocrosslinking reaction are preferable in that they are excellent in orientation.
  • These groups may have a substituent such as an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an allyloxy group, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a hydroxyl group, a sulfonic acid group or a halogenated alkyl group.
  • a solvent of the composition for forming a photo alignment film those capable of dissolving a polymer having a photo reactive group and a monomer are preferable.
  • the solvent for example, the solvents mentioned as the solvent of the alignment polymer composition described above, etc. Can be mentioned.
  • the content of the polymer or monomer having a photoreactive group in the composition for forming a photoalignment film is appropriately adjusted depending on the type of the polymer or monomer having a photoreactive group and the thickness of the photoalignment film to be produced. Although it is possible, 0.2 mass% or more is preferable, and a range of 0.3 to 10 mass% is particularly preferable.
  • a polymer material such as polyvinyl alcohol or polyimide and a photosensitizer may be contained within the range that the characteristics of the photo alignment film are not significantly impaired.
  • a method for applying the composition for forming a photoalignment film to the patterned liquid repellent layer-carrying substrate layer 83 a method for applying the above-mentioned alignment polymer composition to the patterned liquid repellent layer-bearing substrate layer 83 and Similar methods can be mentioned.
  • a method of removing a solvent from the composition for photo-alignment film formation applied the same method as the method of removing a solvent from alignment polymer composition is mentioned, for example.
  • the polarized light irradiation may be performed directly on the dried film from which the solvent has been removed from the composition for forming a photo alignment film coated on the patterned liquid repellent layer-coated substrate layer 83, and the substrate layer 13 was transmitted. You may carry out from the base material layer 13 side so that polarized light may be irradiated to a dry film.
  • polarized light used for polarized light irradiation is substantially parallel light.
  • the wavelength of the polarized light to be irradiated is preferably in the wavelength range in which the photoreactive group of the polymer or monomer having a photoreactive group can absorb light energy.
  • UV (ultraviolet light) having a wavelength of 250 to 400 nm is particularly preferable.
  • light sources used for polarized light irradiation include xenon lamps, high pressure mercury lamps, ultra high pressure mercury lamps, metal halide lamps, ultraviolet light lasers such as KrF and ArF, etc., and high pressure mercury lamps, ultra high pressure mercury lamps or metal halide lamps are more preferable. . These lamps are preferable because the emission intensity of ultraviolet light with a wavelength of 313 nm is large.
  • Polarized light can be illuminated by illuminating the light from the light source through a suitable polarizer.
  • a polarizing filter, a polarizing prism such as Glan-Thomson, Glan-Taylor, or a wire grid type polarizer can be used.
  • a plurality of regions (patterns) having different liquid crystal alignment directions can also be formed by performing masking when performing rubbing or polarized light irradiation.
  • the groove alignment film is a film having a concavo-convex pattern or a plurality of grooves (grooves) on the film surface.
  • a method of forming a concavo-convex pattern by performing development and rinsing after exposure through an exposure mask having slits of a pattern shape on the surface of a photosensitive polyimide film, a plate having grooves on the surface Method of forming a layer of a UV curable resin before curing on a sheet-like master, transferring the resin layer to a substrate and then curing, a plurality of films of the UV curable resin before curing formed on a substrate, The roll-shaped original disc which has a groove
  • the methods described in JP-A-6-34976 and JP-A-2011-242743 can be mentioned.
  • the width of the convex portion of the glue alignment film is preferably 0.05 ⁇ m to 5 ⁇ m, and the width of the concave portion is preferably 0.1 ⁇ m to 5 ⁇ m.
  • the depth is preferably 2 ⁇ m or less, and more preferably 0.01 ⁇ m to 1 ⁇ m or less.
  • a polarizing layer containing a liquid crystal compound and a dichroic dye is formed on the surface on the patterned alignment layer 22 side of the patterned alignment layer-provided base layer 84 obtained in the patterned alignment layer forming step.
  • the composition for a polarizing film the polarizing film 2 in which the patterning polarizing layer 21 was formed is obtained (FIG.2 (e)).
  • the composition for forming a polarizing layer is a composition containing a liquid crystal compound and a dichroic dye, and preferably contains a solvent and a polymerization initiator, and a sensitizer, a polymerization inhibitor, a leveling agent, a reactive additive, etc. May be included.
  • the patterned liquid repellent layer 47 b exhibits liquid repellency to the composition for forming a polarizing layer. Therefore, when the composition for forming a polarizing layer is applied to the surface on the side of the patterned liquid repellent layer 47b of the base material layer 84 with a patterned alignment layer in the step of forming a patterned polarizing layer, on the patterned liquid repellent layer 47b The composition for forming a polarizing layer is repelled and a coated layer of this composition is not formed.
  • the coating layer of the composition for forming a polarizing layer can be formed in a region where the patterned liquid repellent layer 47b of the patterned alignment layer-provided base material layer 84 is not formed.
  • a patterned area is formed on the base layer 13 where the patterned liquid repellent layer 47 b is formed and the polarized area 21 a is formed on the alignment layer 22 a of the patterned alignment layer 22.
  • a polarizing film 2 having the polarizing layer 21 can be obtained.
  • the polarizing film 2 shown in FIG. 1 and FIG. 2 (e) can also be used by peeling off the base material layer 13.
  • the alignment layer 22 a may be peeled off together with the base layer 13.
  • peeling of the base material layer 13 can also be performed after bonding the patterned polarizing layer 21 of the polarizing film 2 to the member, retardation layer, etc. which make a display apparatus.
  • the patterned polarizing layer 21 contains a liquid crystal compound and has a region containing the liquid crystal compound and a dichroic dye.
  • the patterned polarizing layer 21 has the polarization characteristic of the plane of the polarizing film 2, it is preferable to have a region in which the dichroic dye and the liquid crystal compound are horizontally aligned with respect to the plane of the polarizing film 2.
  • the patterned polarizing layer 21 has polarization characteristics in the film thickness direction of the polarizing film 2, it is preferable to have a region in which the dichroic dye and the liquid crystal compound are horizontally aligned with the plane of the polarizing film 2.
  • the above ratio is about 5 to 10.
  • the fact that the liquid crystal compound and the dichroic dye are not phase separated means, for example, surface observation with various microscopes or scattering degree measurement with a haze meter. It can confirm by.
  • the thickness of the patterned polarizing layer 21 is preferably 0.5 ⁇ m or more, more preferably 1 ⁇ m or more, and preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 5 ⁇ m or less.
  • the thickness of the patterned polarizing layer 21 can be measured by an interference film thickness meter, a laser microscope, a stylus film thickness meter, or the like.
  • liquid crystal compound A well-known liquid crystal compound can be used as a liquid crystal compound contained in the composition for polarizing layer formation.
  • the type of liquid crystal compound is not particularly limited, and rod-like liquid crystal compounds, discotic liquid crystal compounds, and mixtures thereof can be used.
  • the liquid crystal compound may be a polymer liquid crystal compound, a polymerizable liquid crystal compound, or a mixture of these.
  • a polymerizable liquid crystal compound As the liquid crystal compound, it is preferable to use a polymerizable liquid crystal compound as the liquid crystal compound.
  • the hue of the polarizing film can be arbitrarily controlled, and the thickness of the polarizing film can be significantly reduced.
  • a polarizing film can be manufactured without performing an extending
  • the polymerizable liquid crystal compound refers to a compound having a polymerizable group and having liquid crystallinity.
  • the polymerizable group means a group involved in the polymerization reaction, and is preferably a photopolymerizable group.
  • the photopolymerizable group means a group capable of participating in the polymerization reaction by active radicals or acids generated from a photopolymerization initiator described later.
  • Examples of the polymerizable group include vinyl group, vinyloxy group, 1-chlorovinyl group, isopropenyl group, 4-vinylphenyl group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, oxiranyl group, oxetanyl group and the like.
  • the liquid crystallinity may be a thermotropic liquid crystal or a lyotropic liquid crystal, it is preferable to use a thermotropic liquid crystal when it is mixed with a dichroic dye as in the patterned polarizing layer 21 of the present embodiment.
  • the polymerizable liquid crystal compound when it is a thermotropic liquid crystal, it may be a thermotropic liquid crystal compound exhibiting a nematic liquid crystal phase or a thermotropic liquid crystal compound exhibiting a smectic liquid crystal phase.
  • the liquid crystal state of the polymerizable liquid crystal compound is preferably a smectic phase, and more preferably a higher smectic phase from the viewpoint of enhancing the performance.
  • higher-order smectic liquid crystal compounds forming a smectic B phase, a smectic D phase, a smectic E phase, a smectic F phase, a smectic G phase, a smectic H phase, a smectic I phase, a smectic J phase, a smectic K phase or a smectic L phase
  • More preferred are higher order smectic liquid crystal compounds which form smectic B phase, smectic F phase or smectic I phase.
  • the patterned polarizing layer 21 formed by the polymerizable liquid crystal compound is a high-order smectic phase of these, it is possible to form a region with higher polarization performance in the patterned polarizing layer 21.
  • regions with high polarization performance as described above are those in which Bragg peaks derived from higher order structures such as hexatic phase and crystal phase are obtained in X-ray diffraction measurement.
  • the Bragg peak is a peak derived from the periodic structure of molecular orientation, and a film having a periodic spacing of 3 to 6 ⁇ can be obtained.
  • the patterned polarizing layer 21 preferably contains a polymer obtained by polymerizing the polymerizable liquid crystal compound in the smectic phase, so that the patterned polarizing layer 21 can be imparted with higher polarization characteristics, which is preferable. .
  • the polymerizable liquid crystal compound exhibits a nematic liquid crystal phase or a smectic liquid crystal phase can be confirmed, for example, as follows. After the composition for forming a polarizing film is applied to a substrate to form a coated film, the solvent contained in the coated film is removed by heat treatment under the condition that the polymerizable liquid crystal compound is not polymerized. Subsequently, the coating film formed on the substrate is heated to an isotropic phase temperature, and the liquid crystal phase developed by gradually cooling is inspected by texture observation with a polarizing microscope, X-ray diffraction measurement or differential scanning calorimetry Do.
  • X 1 , X 2 and X 3 each independently represent a divalent aromatic group or a divalent alicyclic hydrocarbon group, and here, the divalent aromatic group Or a hydrogen atom contained in a divalent alicyclic hydrocarbon group is a halogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or a cyano group Or a nitro group may be substituted, and a carbon atom constituting the divalent aromatic group or divalent alicyclic hydrocarbon group may be substituted by an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom .
  • X 1 , X 2 and X 3 is a 1,4-phenylene group which may have a substituent or a cyclohexane-1,4-diyl group which may have a substituent It is.
  • Y 1 , Y 2 , W 1 and W 2 are each independently a single bond or a divalent linking group.
  • V 1 and V 2 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and -CH 2- constituting the alkanediyl group is -O-,- It may be replaced by S- or NH-.
  • U 1 and U 2 independently of one another represent a polymerizable group or a hydrogen atom, and at least one is a polymerizable group.
  • compound (A) and the like can be mentioned.
  • X 1 , X 2 and X 3 is a 1,4-phenylene group which may have a substituent, or cyclohexane which may have a substituent It is a 1,4-diyl group.
  • X 1 and X 3 are preferably a cyclohexane-1,4-diyl group which may have a substituent, and the cyclohexane-1,4-diyl group is preferably a trans-cyclohexane-. More preferably, it is a 1,4-diyl group.
  • smectic liquid crystallinity tends to be easily developed.
  • substituents which the 1,4-phenylene group which may have a substituent and the cyclohexane-1,4-diyl group which may have a substituent optionally have, a methyl group, ethyl
  • substituents include alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms such as a group or a butyl group, halogen atoms such as a cyano group, a chlorine atom or a fluorine atom. Preferably it is unsubstituted.
  • Y 1 and Y 2 are more preferably —CH 2 CH 2 —, —COO—, —OCO— or a single bond
  • X 1 , X 2 and X 3 all contain a cyclohexane-1,4-diyl group. If not, it is more preferred that Y 1 and Y 2 be different bonding systems. In the case where Y 1 and Y 2 are bonding systems different from each other, smectic liquid crystallinity tends to be easily exhibited.
  • W 1 and W 2 are preferably, independently of one another, a single bond, —O—, —S—, —COO— or OCO—, and more preferably, independently of each other, be a single bond or —O—.
  • C 1-20 alkanediyl group represented by V 1 and V 2 a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,3-diyl group, a butane-1,4 -Diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, decane-1,10-diyl group, tetradecane There may be mentioned -1,14-diyl or icosane-1,20-diyl and the like.
  • V 1 and V 2 are preferably alkanediyl groups having 2 to 12 carbon atoms, and more preferably linear alkanediyl groups having 6 to 12 carbon atoms.
  • the crystallinity is improved, and smectic liquid crystallinity tends to be easily exhibited.
  • Examples of the substituent optionally possessed by the optionally substituted alkanediyl group having 1 to 20 carbon atoms include a cyano group and a halogen atom such as a chlorine atom or a fluorine atom, and the alkanediyl group is It is preferably unsubstituted, and more preferably an unsubstituted and linear alkanediyl group.
  • Both U 1 and U 2 are preferably polymerizable groups, and both are more preferably photopolymerizable groups.
  • a polymerizable liquid crystal compound having a photopolymerizable group can be polymerized under a lower temperature condition than a thermally polymerizable group, and is thus advantageous in that a polymer of the polymerizable liquid crystal compound can be formed in a highly ordered state.
  • the polymerizable groups represented by U 1 and U 2 may be different from each other, but are preferably the same.
  • the polymerizable group include vinyl group, vinyloxy group, 1-chlorovinyl group, isopropenyl group, 4-vinylphenyl group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, oxiranyl group, oxetanyl group and the like.
  • an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, a vinyloxy group, an oxiranyl group or an oxetanyl group is preferable, and a methacryloyloxy group or an acryloyloxy group is more preferable.
  • Examples of such a polymerizable liquid crystal compound include the following.
  • the exemplified compounds (A) can be used for the patterned polarizing layer 21 alone or in combination.
  • two or more polymerizable liquid crystal compounds it is preferable that at least one be a compound (A), and it is more preferable that two or more be a compound (A).
  • the mixing ratio when combining two kinds of polymerizable liquid crystal compounds is usually 1:99 to 50:50, preferably 5:95 to 50:50, and 10:90 to 50:50. Is more preferred.
  • the compound (A) is described, for example, in Lub et al. Recl. Trav. Chim. It can manufacture by the well-known method as described in Pays-Bas, 115, 321-328 (1996) or patent 4719156 grade
  • the content of the polymerizable liquid crystal compound in the patterned polarizing layer 21 is usually 50 to 99.5 parts by mass, preferably 60 to 99 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the solid content of the patterned polarizing layer 21. It is more preferably 70 to 98 parts by mass, and still more preferably 80 to 97 parts by mass. If the content of the polymerizable liquid crystal compound is in the above range, the orientation tends to be high.
  • solid content means the thing of the total amount of the component except the solvent from the composition for polarizing layer formation mentioned later.
  • the dichroic dye is a dye having a property in which the absorbance in the long axis direction of the molecule and the absorbance in the short axis direction are different.
  • the dichroic dye is a dye that is oriented with the liquid crystal compound to exhibit dichroism, and the dichroic dye itself may have polymerizability or liquid crystallinity.
  • the dichroic dye preferably has a property of absorbing visible light, and more preferably one having an absorption maximum wavelength ( ⁇ MAX ) in the range of 380 to 680 nm.
  • a dichroic dye for example, an acridine dye, an oxazine dye, a cyanine dye, a naphthalene dye, an azo dye, an anthraquinone dye and the like can be mentioned, and among them, an azo dye is preferable.
  • the azo dye include monoazo dyes, bisazo dyes, trisazo dyes, tetrakisazo dyes, stilbene azo dyes and the like, with preference given to bisazo dyes or trisazo dyes.
  • the dichroic dyes may be used alone or in combination of two or more types, but in order to obtain absorption in the entire visible light range, it is preferable to combine three or more types of dichroic dyes, It is more preferable to combine a kind or more of azo dyes.
  • a 1 , A 2 and A 3 are each independently a 1,4-phenylene group which may have a substituent, a naphthalene-1,4-diyl group, or a substituent
  • T 1 and T 2 independently of each other are an electron withdrawing group or an electron emitting group, and the position is substantially 180 ° with respect to the azo bonding surface.
  • Have to. p represents an integer of 0 to 4; When p is 2 or more, each A 2 may be the same or different.
  • a compound represented by hereinafter sometimes referred to as "compound (I)").
  • the 1,4-phenylene group, the naphthalene-1,4-diyl group and the divalent heterocyclic group in A 1 , A 2 and A 3 optionally have, such as methyl group, ethyl group or butyl group
  • unsubstituted amino group is -NH 2.
  • Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group and a hexyl group.
  • Examples of the alkanediyl group having 2 to 8 carbon atoms include ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group. And hexane-1,6-diyl group, heptane-1,7-diyl group, and octane-1,8-diyl group.
  • a 1 , A 2 and A 3 are each independently unsubstituted, and hydrogen is substituted with a methyl group or a methoxy group
  • a 1,4-phenylene group or a divalent heterocyclic group is preferable, and p is preferably 0 or 1.
  • p is 1 and at least two of the three structures of A 1 , A 2 and A 3 are 1,4-phenylene groups, in that they have both simplicity of molecular synthesis and high performance. More preferable.
  • divalent heterocyclic group examples include quinoline, thiazole, benzothiazole, thienothiazole, imidazole, benzimidazole, oxazole and a group in which two hydrogen atoms are removed from benzoxazole.
  • a 2 is a divalent heterocyclic group, a structure having a molecular bonding angle of substantially 180 ° is preferable, and specifically, benzothiazole, benzimidazole, benzoxazole in which two 5-membered rings are condensed. The structure is more preferred.
  • T 1 and T 2 are, independently of each other, an electron withdrawing group or an electron emitting group, which are preferably different from each other, and T 1 is an electron withdrawing group and T 2 is an electron emitting group, or More preferably, T 1 is an electron-emitting group and T 2 is an electron-withdrawing group.
  • T 1 and T 2 independently represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a cyano group, a nitro group, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a cyano group An amino group having one or two alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, or an amino group in which two substituted alkyl groups are bonded to each other to form an alkanediyl group having 2 to 8 carbon atoms is preferable.
  • azo dyes examples include the following.
  • B 1 to B 20 independently of each other represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a cyano group, It represents a nitro group, a substituted or unsubstituted amino group (as defined for the substituted amino group and the unsubstituted amino group as described above), a chlorine atom or a trifluoromethyl group.
  • B 2 , B 6 , B 9 , B 14 , B 18 and B 19 are preferably a hydrogen atom or a methyl group, and more preferably a hydrogen atom.
  • n1 to n4 each independently represent an integer of 0 to 3.
  • a plurality of B 2 may be identical to or different from each other
  • a plurality of B 6 may be identical to or different from each other
  • a plurality of B 9 may be identical to or different from each other
  • the plurality of B 14 may be identical to or different from each other.
  • anthraquinone dye a compound represented by Formula (2-7) is preferable.
  • R 1 to R 8 independently represent a hydrogen atom, -R x , -NH 2 , -NHR x , -NR x 2 , -SR x or a halogen atom.
  • R x represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.
  • the oxazine dye is preferably a compound represented by the formula (2-8).
  • R 9 to R 15 independently represent a hydrogen atom, -R x , -NH 2 , -NHR x , -NR x 2 , -SR x or a halogen atom.
  • R x represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.
  • the acridine dye is preferably a compound represented by formula (2-9).
  • R 16 to R 23 independently represent a hydrogen atom, -R x , -NH 2 , -NHR x , -NR x 2 , -SR x or a halogen atom.
  • R x represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.
  • Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms represented by Rx in formulas (2-7), (2-8) and (2-9) include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and a butyl group And a pentyl group or a hexyl group.
  • Examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include a phenyl group, a toluyl group, a xylyl group or a naphthyl group.
  • the cyanine dye is preferably a compound represented by Formula (2-10) and a compound represented by Formula (2-11).
  • D 1 and D 2 independently represent a group represented by any one of Formula (2-10a) to Formula (2-10d).
  • n5 represents an integer of 1 to 3;
  • D 3 and D 4 each independently represent a group represented by any one of the formulas (2-11 a) to (2-11 h).
  • n6 represents an integer of 1 to 3;
  • the content of the dichroic dye (the total amount thereof in the case of containing plural kinds) is usually 0 with respect to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound in the patterned polarizing layer 21.
  • the amount is preferably 1 to 30 parts by mass, more preferably 1 to 20 parts by mass, and still more preferably 3 to 15 parts by mass.
  • the content of the dichroic dye is less than this range, light absorption is insufficient, sufficient polarization performance can not be obtained, and when it is more than this range, the alignment of liquid crystal molecules may be inhibited.
  • the composition for forming a polarizing layer may contain a solvent.
  • a solvent since the polymerizable liquid crystal compound has a high viscosity, when a polymerizable liquid crystal compound is used as the liquid crystal compound, coating is facilitated by using a composition for forming a polarizing layer containing a solvent, and as a result, the patterned polarizing layer 21 is formed. It becomes easy to form.
  • the solvent is preferably one that can completely dissolve the polymerizable liquid crystal compound and the dichroic dye, and is preferably a solvent inert to the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound.
  • alcohol solvents such as methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether or propylene glycol monomethyl ether; ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, ⁇ -butyrolactone Or ester solvents such as propylene glycol methyl ether acetate or ethyl lactate; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone or methyl isobutyl ketone; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane or heptane; toluene Or an aromatic hydrocarbon solvent such as xylene, a nitrile solvent such as acetonitrile; Ether solvents such as dimethoxyethane
  • the content of the solvent contained in the composition for forming a polarizing layer is preferably 50 to 98% by mass with respect to the total amount of the composition for forming a polarizing layer.
  • the content of solid content in the composition for forming a polarizing layer is preferably 2 to 50% by mass.
  • the viscosity of the composition for forming a polarizing layer is lowered, so that the thickness of the patterned polarizing layer 21 becomes substantially uniform, and unevenness occurs in the patterned polarizing layer 21. It tends to be difficult to occur.
  • the solid content can be determined in consideration of the thickness of the patterned polarizing layer 21 to be produced.
  • the composition for forming a polarizing layer may contain a polymerization initiator.
  • the polymerization initiator can be used when a polymerizable liquid crystal compound is used as the liquid crystal compound, and is a compound capable of initiating a polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound or the like.
  • the polymerization initiator is preferably a photopolymerization initiator that generates active radicals by the action of light from the viewpoint of being independent of the phase state of the thermotropic liquid crystal.
  • polymerization initiator examples include benzoin compounds, benzophenone compounds, alkylphenone compounds, acyl phosphine oxide compounds, triazine compounds, iodonium salts and sulfonium salts.
  • benzoin compound examples include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether and benzoin isobutyl ether.
  • benzophenone compounds include benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide, 3,3 ′, 4,4′-tetra (tert-butylperoxycarbonyl) And benzophenone and 2,4,6-trimethylbenzophenone.
  • alkylphenone compounds examples include diethoxyacetophenone, 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) ) Butan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1,2-diphenyl-2,2-dimethoxyethane-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1 -[4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] propan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone or 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propane-1-propane On-oligomer etc. are mentioned.
  • acyl phosphine oxide compound examples include 2,4,6-trimethyl benzoyl diphenyl phosphine oxide or bis (2,4,6-trimethyl benzoyl) phenyl phosphine oxide.
  • triazine compounds examples include 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine and 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxy). Naphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-Methylfuran-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -1 , 3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine or 2,4
  • polymerization initiators include Irgacure (registered trademark) 907, 184, 651, 819, 250, 369, 379, 127, 754, OXE01, OXE02, or OXE03 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Inc.) Seikol (registered trademark) BZ, Z, or BEE (manufactured by SEIKO CHEMICAL CO., LTD.); Kayacure (registered trademark) BP 100, or UVI-6992 (manufactured by Dow Chemical Co.); Adeka Optomer SP-152, N-1717, N-1919, SP-170, Adeka Arkles NCI-831, Adeka Arkles NCI-930 (manufactured by ADEKA Co., Ltd.); TAZ-A, or TAZ-PP (manufactured by Nihon Shiber Hegner Co., Ltd.); TAZ-A, or TAZ-PP (manufactured by Nihon Shiber
  • the content of the polymerization initiator in the composition for forming a polarizing layer can be appropriately adjusted according to the type of the polymerizable liquid crystal compound and the amount thereof, but the content is usually 0. 1 parts by mass relative to 100 parts by mass of the content of the polymerizable liquid crystal compound.
  • the amount is 1 to 30 parts by mass, preferably 0.5 to 10 parts by mass, and more preferably 0.5 to 8 parts by mass.
  • the composition for forming a polarizing layer may contain a sensitizer.
  • the sensitizer can be suitably used when a polymerizable liquid crystal compound is used as a liquid crystal compound, and when a polymerizable liquid crystal compound having a photopolymerizable group is used, the sensitizer is a photosensitizer. It is preferably an agent.
  • sensitizers include xanthone compounds such as xanthone and thioxanthone (eg, 2,4-diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone etc.); anthracene compounds such as anthracene and alkoxy group-containing anthracene (eg dibutoxyanthracene etc) And phenothiazine or rubrene and the like.
  • the composition for forming a polarizing layer contains a sensitizer
  • the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound contained in the composition for forming a polarizing layer can be further promoted.
  • the amount of the sensitizer used is preferably 0.1 to 10 parts by mass, more preferably 0.5 to 5 parts by mass, and more preferably 0.5 to 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound. Parts are more preferred.
  • the composition for forming a polarizing layer may contain a polymerization inhibitor from the viewpoint of stably advancing the polymerization reaction.
  • the polymerization inhibitor can be suitably used when a polymerizable liquid crystal compound is used as the liquid crystal compound, and the degree of progress of the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound can be controlled by the polymerization inhibitor.
  • polymerization inhibitor examples include radical scavenging such as hydroquinone, alkoxy group-containing hydroquinone, alkoxy group-containing catechol (eg, butyl catechol etc.), pyrogallol, 2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidinyloxy radical etc. Agents; thiophenols; ⁇ -naphthylamines or ⁇ -naphthols.
  • the content of the polymerization inhibitor is preferably 0.1 to 10 parts by mass, more preferably 100 parts by mass of the content of the polymerizable liquid crystal compound.
  • the amount is 0.5 to 5 parts by mass, more preferably 0.5 to 3 parts by mass.
  • the composition for forming a polarizing layer may contain a leveling agent.
  • the leveling agent is an additive having a function of adjusting the flowability of the composition and making the film obtained by applying the composition more flat, and is, for example, an organic modified silicone oil type, polyacrylate type or perfluoro type. An alkyl type leveling agent is mentioned.
  • DC3PA, SH7PA, DC11PA, SH28PA, SH29PA, SH30PA, ST80PA, ST86PA, SH8400, SH8700, FZ2123 (all manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.)
  • KP 321, KP 323, KP 324, KP 326, KP 340, KP341, X22-161A, KF6001 (all from Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
  • TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4446, TSF-4446, TSF4452, TSF4460 (all, Momentive Performance Materials Japan Ltd.
  • Fluorinert (registered trademark) FC-72, FC-40, FC-43, FC-3283 (above, Sumitomo 3M Co., Ltd., Megafuck (registered trademark) R-08, R-30, R-90, F-410, F-411, F-443, F-445, F-470, F-477, F-479, F-482, F-483 (all available from DIC Corporation), F-Top (trade names) EF301, EF303, EF351, EF 352 (all manufactured by Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co., Ltd.), Surflon (registered trademark) S-381, S-382, S-383, S-393, S-101, S-105, KH -40, SA-100 (all available from AGC Seimi Chemical Co., Ltd.), under the trade names E1830 and E5844 (manufactured by Daikin Fine Chemical Laboratories), BM-1000, BM-1100, BYK-352, BY -353 or BYK-361N
  • the composition for forming a polarizing layer contains a leveling agent, it is preferably 0.01 to 5 parts by mass, more preferably 0.1 to 5 parts by mass, still more preferably 0.1 based on 100 parts by mass of the liquid crystal compound. ⁇ 3 parts by mass.
  • the content of the leveling agent is in the above range, it is easy to horizontally align the liquid crystal compound, and the resulting patterned polarizing layer tends to be smoother.
  • the composition for polarizing layer formation may contain 2 or more types of leveling agents.
  • the composition for forming a polarizing layer may contain a reactive additive.
  • the reactive additive is preferably one having a carbon-carbon unsaturated bond and an active hydrogen reactive group in the molecule.
  • active hydrogen reactive group refers to a group having reactivity with a group having active hydrogen such as carboxyl group (-COOH), hydroxyl group (-OH), amino group (-NH 2 ) and the like.
  • glycidyl group, oxazoline group, carbodiimide group, aziridine group, imide group, isocyanate group, thioisocyanate group, maleic anhydride group and the like are representative examples.
  • the number of carbon-carbon unsaturated bonds or active hydrogen reactive groups contained in the reactive additive is usually 1 to 20, and preferably 1 to 10.
  • the active hydrogen reactive groups are preferably present, and in this case, the active hydrogen reactive groups may be the same or different.
  • the carbon-carbon unsaturated bond possessed by the reactive additive may be a carbon-carbon double bond, a carbon-carbon triple bond, or a combination thereof, but is preferably a carbon-carbon double bond.
  • the reactive additive contains a carbon-carbon unsaturated bond as a vinyl group and / or a (meth) acrylic group.
  • a reactive additive in which the active hydrogen reactive group is at least one selected from the group consisting of an epoxy group, a glycidyl group and an isocyanate group is preferable, and a reactive additive having an acrylic group and an isocyanate group is more preferable. .
  • the reactive additive include compounds having a (meth) acrylic group and an epoxy group such as methacryloxy glycidyl ether and acryloxy glycidyl ether; (meth) acrylic groups and oxetane such as oxetane acrylate and oxetane methacrylate A compound having a group; a compound having a (meth) acrylic group and a lactone group such as lactone acrylate and lactone methacrylate; a compound having a vinyl group and an oxazoline group such as vinyl oxazoline and isopropenyl oxazoline; isocyanato methyl acrylate And oligomers of compounds having a (meth) acrylic group and an isocyanate group, such as isocyanatomethyl methacrylate, 2-isocyanatoethyl acrylate or 2-isocyanatoethyl methacrylate.
  • an epoxy group such as methacryloxy glycidyl
  • compounds having a vinyl group or vinylene group and an acid anhydride such as methacrylic anhydride, acrylic anhydride, maleic anhydride or vinyl maleic anhydride, may be mentioned.
  • methacryloxy glycidyl ether, acryloxy glycidyl ether, isocyanato methyl acrylate, isocyanato methyl methacrylate, vinyl oxazoline, 2-isocyanato ethyl acrylate, 2-isocyanato ethyl methacrylate or the above-mentioned oligomers are preferable, isocyanato methyl acrylate, Particularly preferred is 2-isocyanatoethyl acrylate or the above mentioned oligomers.
  • a compound represented by the following formula (Y) is preferable.
  • n represents an integer of 1 to 10
  • R 1 ′ represents a divalent aliphatic or alicyclic hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms, or 2 Represents a substituted aromatic hydrocarbon group.
  • R 3 ' represents a group having a hydroxyl group or a carbon-carbon unsaturated bond. 'Of at least one R 3' formula (Y) in R 3 is a carbon - is a group having a carbon unsaturated bond.
  • a compound represented by the following formula (YY) (hereinafter sometimes referred to as a compound (YY)) is particularly preferable (where n is the same as above). Is the meaning).
  • the content of the reactive additive is usually 0.01 to 10 parts by mass, preferably 0.1 to 100 parts by mass of the liquid crystal compound. 5 parts by mass.
  • Coating method of composition for forming a polarizing layer As a method of applying the composition for forming a polarizing layer, extrusion coating method, direct gravure coating method, reverse gravure coating method, CAP coating method, slit coating method, microgravure method, die coating method, ink jet method, etc. may be mentioned. . Moreover, the method etc. of coating using coaters, such as a dip coater, a bar coater, a spin coater, etc. are mentioned. Among them, the coating method by microgravure method, ink jet method, slit coating method, die coating method is preferable in the case of continuous coating in the Roll to Roll format, and in the case of coating on a sheet substrate such as glass A highly uniform spin coating method is preferred.
  • a patterned alignment layer 22 is formed by applying a composition for forming an alignment film or the like on the substrate layer 83 with a patterned liquid repellent layer, and the patterned alignment layer obtained.
  • the composition for forming a polarizing layer can also be coated continuously on 22.
  • a solvent is removed from the composition for polarizing layer formation coated, and the coating layer for polarizing layers is formed.
  • the method of removing the solvent the same method as the method of removing the solvent from the oriented polymer composition can be used, and for example, natural drying, air drying, heat drying, reduced pressure drying and a combination thereof are mentioned. Be Among these, natural drying or heat drying is preferred.
  • the drying temperature is preferably in the range of 0 to 200 ° C., more preferably in the range of 20 to 150 ° C., and still more preferably in the range of 50 to 130 ° C.
  • the drying time is preferably 10 seconds to 10 minutes, more preferably 30 seconds to 5 minutes.
  • the coating layer for a polarizing layer formed in the step for forming a polarizing layer is irradiated with active energy rays to photopolymerize the polymerizable liquid crystal compound.
  • the patterned polarizing layer 21 is formed.
  • the type of the polymerizable liquid crystal compound particularly, the type of the photopolymerizable functional group possessed by the polymerizable liquid crystal compound
  • the photopolymerization initiator contained as the active energy ray to be irradiated It is suitably selected according to the kind of photoinitiator and those quantities.
  • one or more types of light selected from the group consisting of visible light, ultraviolet light, infrared light, X-rays, ⁇ -rays, ⁇ -rays, and ⁇ -rays can be mentioned.
  • ultraviolet light is preferable in that it is easy to control the progress of the polymerization reaction, and in that it can be used widely as an apparatus for photopolymerization, polymerization is possible so that it can be photopolymerized by ultraviolet light. It is preferable to select the type of the liquid crystal compound.
  • a light source of active energy ray for example, low pressure mercury lamp, medium pressure mercury lamp, high pressure mercury lamp, super high pressure mercury lamp, xenon lamp, halogen lamp, carbon arc lamp, tungsten lamp, gallium lamp, excimer laser, wavelength range 380
  • Examples thereof include an LED light source emitting ⁇ 440 nm, a chemical lamp, a black light lamp, a microwave excitation mercury lamp, a metal halide lamp and the like.
  • Irradiation intensity of the active energy rays are usually, 10mW / cm 2 ⁇ 3000mW / cm 2.
  • the irradiation intensity of the active energy ray is preferably an intensity in a wavelength range effective for activating the cationic polymerization initiator or the radical polymerization initiator.
  • the irradiation time of the active energy ray is usually 0.1 seconds to 10 minutes, preferably 0.1 seconds to 5 minutes, more preferably 0.1 seconds to 3 minutes, still more preferably 0. 1 second to 1 minute.
  • the cumulative amount of light is, 10mJ / cm 2 ⁇ 3000mJ / cm 2, preferably 50mJ / cm 2 ⁇ 2,000mJ / cm 2, more preferably It can be 100 mJ / cm 2 to 1000 mJ / cm 2 .
  • the integrated light amount is less than this range, the curing of the polymerizable liquid crystal compound may be insufficient, and good transferability may not be obtained.
  • the patterned polarizing layer may be colored.
  • the manufacturing method of the polarizing film 2 can preferably be continuously manufactured by a Roll to Roll type
  • the base layer coating step the base layer wound in a roll is conveyed while being unwound, and the second protective layer wound in a roll is conveyed while being unwound,
  • the layer and the protective layer may be laminated to obtain a substrate layer with a protective layer.
  • the liquid repellent layer forming step the liquid repellent agent is applied while continuously conveying the protective layer-attached base layer to obtain a liquid repellent layer-attached base layer, and in the protective layer removing step, the liquid repellent layer attached substrate
  • the protective layer may be peeled off continuously while transporting the layer.
  • the patterned alignment layer may be formed by continuously applying the composition for forming an alignment layer by a coating device while transporting the substrate layer with a patterned liquid repellent layer.
  • the patterned polarizing layer may be formed by continuously applying the composition for forming a polarizing layer with a coating device while transporting the substrate layer with a patterned alignment layer.
  • the polarizing film manufactured continuously as mentioned above can have a length of 10 m or more, for example.
  • FIG. 3 is a schematic sectional drawing which shows an example of the patterning liquid-repellent layer formation process in the manufacturing method of the polarizing film 2 shown in FIG.
  • the liquid repellent agent is dropped and applied to at least one side of the substrate layer 13 without using the protective layer 37 used in the first manufacturing method.
  • the patterned liquid repellent layer 47b shown in FIG. 2C can be formed.
  • the second manufacturing method of the polarizing film 2 is a patterned liquid repellent layer of the substrate layer 83 with a patterned liquid repellent layer (FIG. 2 (c)) obtained through the above-described patterned liquid repellent layer forming step.
  • a patterned alignment layer forming step of obtaining a substrate with patterned alignment layer 84 (FIG.
  • a polarizing film 2 having a patterned polarizing layer shown in FIG. 1 and FIG. 2 (e) can be manufactured.
  • the base layer 13 and the liquid repellent agent used in the patterned liquid repellent layer forming step of the second manufacturing method are the same as the base layer 13 and the liquid repellent agent used in the first manufacturing method, and the liquid repellent agent. Can be used.
  • coat can be mentioned.
  • a liquid repellent agent is dropped and applied onto the substrate layer 13 to form a patterned liquid repellent layer 47 b on the substrate layer 13, whereby a substrate layer 83 with a patterned liquid repellent layer can be obtained (FIG. c))
  • the patterned alignment layer forming step and the patterned polarizing layer forming step of the second manufacturing method are the same as the patterned alignment layer forming step and the patterned polarizing layer forming step of the first manufacturing method.
  • the polarizing film 2 can be continuously produced, for example, by the Roll to Roll method.
  • the base material layer wound in a roll in the patterned liquid repellent layer forming step is transported while being unwound, and a liquid repellent agent is dropped and applied to form a patterned liquid repellent layer on the base material layer, What is necessary is just to obtain the base material layer with a patterned liquid repelling layer.
  • the patterned alignment layer may be formed by continuously applying the composition for forming an alignment layer by a coating device while transporting the substrate layer with a patterned liquid repellent layer.
  • the patterned polarizing layer may be formed by continuously applying the composition for forming a polarizing layer with a coating device while transporting the substrate layer with a patterned alignment layer.
  • the polarizing film manufactured continuously as mentioned above can have a length of 10 m or more, for example.
  • FIG. 4 (a) to 4 (c) are each a schematic cross-sectional view showing an example of the circularly polarizing plate of the present invention.
  • the polarizing film 2 shown in FIG. 2 (e) is made to be circularly polarizing plates 5a and 5b shown in FIGS. 4 (a) and 4 (b) by laminating a retardation layer 15 having a quarter wave plate function.
  • the retardation layer 15 may be laminated on the side of the patterned polarizing layer 21 of the polarizing film 2 (FIG. 4 (a)) or may be laminated on the side of the base material layer 13 (FIG. 4 (b)).
  • FIG.4 (c) what peeled the base material layer 13 from the circularly-polarizing plate 5a shown to Fig.4 (a) can also be used as a circularly-polarizing plate 5c (FIG.4 (c)), In this case, a pattern is carried out with the base material layer 13.
  • the alignment layer 22 may also be peeled off.
  • the circularly polarizing plate may be one in which the polarizing film 2 and the retardation layer having a multilayer structure are laminated.
  • a retardation layer of the multilayer structure a retardation layer in which a layer having a half wave plate function and a layer having a quarter wave plate function can be laminated can be used.
  • a circularly polarizing plate can also be obtained by using a retardation layer in which a layer having a function of a quarter wavelength plate with reverse wavelength dispersion and a layer having a positive C plate function are laminated as a retardation layer having a multilayer structure. be able to.
  • the base material layer 13 of the polarizing film 2 one having a function as a retardation layer may be used, and a retardation layer may be further laminated to form a circularly polarizing plate.
  • the function as the retardation layer of the base material layer 13 and the retardation layer may be selected according to the lamination position of the base material layer 13 and the retardation layer in the circularly polarizing plate.
  • the polarizing film and the retardation layer can be laminated via an adhesive layer using a known pressure-sensitive adhesive or adhesive.
  • the circularly polarizing plate can be manufactured by laminating a polarizing film and a retardation layer.
  • the polarizing film is a long polarizing film having a length of 10 m or more continuously produced
  • the long retardation layer having a length of 10 m or more is used as the retardation layer, and the both are continuously conveyed.
  • the manufacturing method of a circularly polarizing plate is a sheet of a predetermined size in order to attach the polarizing film to a display device of a predetermined size, etc., by attaching a long laminate obtained by laminating a long polarizing film and a long retardation layer to a display of a predetermined size. It may have a process of cutting into In the cutting step, the long laminate is preferably cut in at least one of the length direction and the width direction of the long laminate. In this case, it is preferable to determine the cutting position in the long laminate so that the low polarization area is disposed at a predetermined position in the cut sheet.
  • the luminosity correction single transmittance (Ty) and the luminosity correction polarization degree (Py) were calculated in the following procedure.
  • the apparatus was used to measure by the double beam method.
  • a mesh was provided to cut the light amount by 50% on the reference side.
  • the transmittance and polarization degree at each wavelength are calculated using the following (Equation 1) and (Equation 2), and the visibility is corrected with a 2-degree field of view (C light source) of JIS Z 8701, and the visibility correction transmittance (Ty) and the visibility correction polarization degree (Py) were calculated.
  • Degree of polarization [%] ⁇ (T 1 ⁇ T 2 ) / (T 1 + T 2 ) ⁇ ⁇ 100
  • Single transmittance [%] (T 1 + T 2 ) / 2 (equation 2)
  • Example 1 (Production of liquid repellent) A first organosilicon compound (S1) (having a molecular weight of about 8000) represented by the following formula (a) was synthesized by the methods described in Synthesis Examples 1 and 2 of JP-A-2014-15609. In the formula (a), n is 43 and m is an integer of 1 to 6.
  • the compound represented by the above formula (a) as the first organosilicon compound (S1) (hereinafter referred to as compound (a)), FAS9E (C 4 F 9 -C 2 H 4 ) as the second organosilicon compound (S2) -Si- (OC 2 H 5 ) 3 , boiling point 241 ° C., manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Novec 7200 (C 4 F 9 OC 2 H 5 , 3M company) as a solvent and mixed, and stirring at room temperature for a predetermined time
  • the liquid repellent was obtained.
  • the ratio of the first organosilicon compound (S1) is 0.03 parts
  • the ratio of the second organosilicon compound (S2) is 0.07 parts.
  • composition for Forming Alignment Layer (Production of Composition for Forming Alignment Layer) The following components were mixed, and the obtained mixture was stirred at 80 ° C. for 1 hour to obtain a composition for forming an alignment layer which is a composition for forming a photo alignment film.
  • ⁇ 2 parts of polymer having photoreactive group shown below Solvent: 98 parts of o-xylene
  • composition for forming polarizing layer (Production of composition for forming polarizing layer) The following components were mixed and stirred at 80 ° C. for 1 hour to obtain a composition for forming a polarizing layer.
  • the dichroic dye the azo dye described in the example of JP-A-2013-101328 was used.
  • AY-638 Flujimori Kogyo Co., Ltd. made of AY-638 (A polyester film with a thickness of 38 ⁇ m and a pressure-sensitive adhesive layer with a thickness of 15 ⁇ m are formed as a protective layer in which an opening is formed by forming a hole) Liquid is applied and dried at 120.degree. C. for 10 minutes to form a liquid repellent layer.
  • the protective layer was peeled off to obtain a patterned liquid repellent layer-formed substrate layer on which a patterned liquid repellent layer was formed.
  • the composition for forming an alignment layer is applied to the surface of the obtained substrate layer with a patterned liquid repellent layer on which the patterned liquid repellent layer is formed, the composition is set at 120 ° C. in a drying oven set at 120 ° C. It dried in the drying oven for 1 minute, and obtained the coating layer for alignment layers.
  • the liquid crystal is irradiated with ultraviolet light (in nitrogen atmosphere, wavelength: 365 nm, integrated light amount at wavelength 365 nm: 1000 mJ / cm 2 ) using a high pressure mercury lamp (UNIQUEUR VB-15201BY-A, manufactured by USHIO INC.)
  • a patterned polarizing layer in which the compound and the dichroic dye were oriented was formed to obtain a polarizing film.
  • Example 2 Example 1 except that a liquid repellent agent is partially applied drop-wise on the base material layer using a dropper instead of bonding the protective layer in which the opening portion is formed by forming a hole with a punching punch.
  • a polarizing film was obtained in the same manner as in. When the external appearance of the obtained polarizing film was observed visually, the circular area
  • Comparative Example A polarizing film was obtained in the same manner as Example 1, except that the liquid repellent was not used and the liquid repellent layer was not formed. When the appearance of the obtained polarizing film was visually observed, it was found that the region where the polarizing layer was not present could not be confirmed, and that a polarizing film having a polarizing region and a low polarizing region was not obtained. Moreover, the sample for evaluation was produced in the above-mentioned procedure, and the visual sensitivity correction
  • the values of the visibility correction transmittance (Ty) and the visibility correction polarization degree (Py) measured in each example, comparative example and reference example shown in Table 1 are the visibility correction transmittance of the base material layer ( Ty) and the visibility correction polarization degree (Py) value, the visibility correction transmittance (Ty) of the base material layer alone is 92%, and the visibility correction polarization degree of the base material layer (Ty) Since the value of Py) is 0%, when the base material layer is removed in each of the examples, comparative examples and reference examples shown in Table 1, the value of the visibility correction transmittance (Ty) is the value shown in Table 1 The value of the degree of visibility correction polarization (Py) is considered to be the same as the value shown in Table 1.
  • Polarizing film 5a to 5c circularly polarizing plate, 13 base layer, 15 retardation layer, 21 patterned polarizing layer, 21a polarized area, 21b low polarized area, 22 patterned alignment layer, 22a alignment layer, 37 protective layer, 37a coated area, 37b exposed area, 47 liquid repellent layer, 47b patterned liquid repellent layer (liquid repellent layer), 81 base layer with protective layer, 82 base layer with liquid repellent layer, 83 group with patterned liquid repellent layer Material layer, 84 A substrate layer with a patterned alignment layer.

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Abstract

偏光フィルムの製造方法は、基材層の少なくとも片面側に、パターン化撥液層を形成してパターン化撥液層付き基材層を得るパターン化撥液層形成工程と、パターン化撥液層付き基材層のパターン化撥液層側の面に、配向層形成用組成物を塗工して形成されたパターン化配向層を有するパターン化配向層付き基材層を得るパターン化配向層形成工程と、パターン化配向層付き基材層のパターン化配向層側の面に、液晶化合物及び二色性色素を含む偏光層形成用組成物を塗工することによりパターン化偏光層を形成するパターン化偏光層形成工程と、を有する。パターン化撥液層は、配向層形成用組成物及び偏光層形成用組成物に対して撥液性を示す。

Description

偏光フィルムの製造方法及び偏光フィルム
　本発明は、偏光フィルムの製造方法及び偏光フィルムに関し、特に液晶化合物と二色性色素とを含む層を有する偏光フィルムの製造方法及び偏光フィルムに関する。
　有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）を用いた有機ＥＬ表示装置は、液晶表示装置等に比べて軽量化や薄型化が可能であるだけでなく、幅広い視野角、速い応答速度、高いコントラスト等の高画質を実現できるため、スマートフォンやテレビ、デジタルカメラ等、様々な分野で用いられている。有機ＥＬ表示装置では、外光の反射による視認性の低下を抑制するために、円偏光板等を用いて反射防止性能を向上させることが知られている。
　このような円偏光板に用いられる偏光フィルムとして、特開２０１５－２０６８５２号公報（特許文献１）及び特開２０１５－２１２８２３号公報（特許文献２）には、基材上にパターン化した液晶硬化膜を積層したパターン偏光フィルムが記載されている。
特開２０１５－２０６８５２号公報 特開２０１５－２１２８２３号公報
　本発明は、視感度補正偏光度が互いに異なる少なくとも２つの領域を有する新規な偏光フィルムの製造方法及び偏光フィルムを提供することを目的とする。
　本発明は、以下に示す偏光フィルムの製造方法及び偏光フィルムを提供する。
　〔１〕　基材層の少なくとも片面側にパターン化撥液層を形成してパターン化撥液層付き基材層を得るパターン化撥液層形成工程と、
　前記パターン化撥液層付き基材層の前記パターン化撥液層側の面に、配向層形成用組成物を塗工して形成されたパターン化配向層を有するパターン化配向層付き基材層を得るパターン化配向層形成工程と、
　前記パターン化配向層付き基材層の前記パターン化配向層側の面に、液晶化合物及び二色性色素を含む偏光層形成用組成物を塗工することによりパターン化偏光層を形成するパターン化偏光層形成工程と、を有し、
　前記パターン化撥液層は、前記配向層形成用組成物及び前記偏光層形成用組成物に対して撥液性を示す、偏光フィルムの製造方法。
　〔２〕　前記パターン化撥液層形成工程は、
　　前記基材層の少なくとも片面側に、前記基材層を被覆するための被覆領域と前記基材層を露出させるための露出領域とを有する保護層を積層することにより保護層付き基材層を得る基材層被覆工程と、
　　前記保護層付き基材層の前記保護層側の面に撥液剤を塗工して撥液層が形成された撥液層付き基材層を得る撥液層形成工程と、
　　前記撥液層付き基材層から前記保護層を剥離することにより、前記撥液層の一部を除去して前記パターン化撥液層を形成する保護層除去工程と、を含む、〔１〕に記載の偏光フィルムの製造方法。
　〔３〕　前記露出領域は、平面視形状が円形、楕円形、長円形又は多角形であり、
　　前記露出領域が円形である場合の直径は、５ｃｍ以下であり、
　　前記露出領域が楕円形又は長円形である場合の長径は、５ｃｍ以下であり、
　　前記露出領域が多角形である場合、前記多角形が内接されるように描いた仮想円の直径は、５ｃｍ以下である、〔２〕に記載の偏光フィルムの製造方法。
　〔４〕　前記パターン化撥液層形成工程は、前記基材層の少なくとも片面側に、撥液剤を滴下塗布して前記パターン化撥液層を形成する、〔１〕～〔３〕のいずれかに記載の偏光フィルムの製造方法。
　〔５〕　前記配向層形成用組成物は、光配向性ポリマーを含み、
　前記パターン化配向層形成工程は、前記配向層形成用組成物を塗工して形成されたパターン化配向層用塗工層に偏光照射を行って前記パターン化配向層を形成する、〔１〕～〔４〕のいずれかに記載の偏光フィルムの製造方法。
　〔６〕　前記液晶化合物は、重合性液晶化合物であり、
　前記パターン化偏光層形成工程は、前記偏光層形成用組成物を塗工して形成されたパターン化偏光層用塗工層に活性エネルギー線照射を行って前記パターン化偏光層を形成する、〔１〕～〔５〕のいずれかに記載の偏光フィルムの製造方法。
　〔７〕　前記パターン化偏光層は、Ｘ線回折測定においてブラッグピークを示す、〔１〕～〔６〕のいずれかに記載の偏光フィルムの製造方法。
　〔８〕　前記偏光フィルムの長さは１０ｍ以上である、〔１〕～〔７〕のいずれかに記載の偏光フィルムの製造方法。
　〔９〕　前記基材層は、１／４波長板機能を有する、〔１〕～〔８〕のいずれかに記載の偏光フィルムの製造方法。
　〔１０〕　〔１〕～〔８〕のいずれかに記載の偏光フィルムの製造方法で製造された偏光フィルムと、１／４波長板機能を有する位相差層とを積層する位相差層積層工程を有する、円偏光板の製造方法。
　〔１１〕　前記偏光フィルムは、長さが１０ｍ以上の長尺偏光フィルムであり、
　前記位相差層は、長さが１０ｍ以上の長尺位相差層であり、
　前記位相差層積層工程は、前記長尺偏光フィルムと前記長尺位相差層とを積層することにより長尺積層体を形成し、
　さらに、前記長尺積層体を枚葉に裁断する裁断工程を有する、〔１０〕に記載の円偏光板の製造方法。
　〔１２〕　基材層上に、偏光領域と、偏光領域よりも低い視感度補正偏光度を有する低偏光領域とを有する偏光フィルムであって、
　前記偏光領域は、液晶化合物及び二色性色素を含むとともに、視感度補正偏光度が９０％以上であり、
　前記低偏光領域は、撥液層を有する、偏光フィルム。
　〔１３〕　前記低偏光領域は、視感度補正偏光度が１０％以下である、〔１２〕に記載の偏光フィルム。
　〔１４〕　前記偏光領域は、視感度補正単体透過率が３５％以上であり、
　前記低偏光領域は、視感度補正単体透過率が８０％以上である、〔１２〕又は〔１３〕に記載の偏光フィルム。
　本発明によれば、視感度補正偏光度が互いに異なる少なくとも２つの領域を有する偏光フィルムの製造方法を提供することができる。
本発明の偏光フィルムの一例を示す概略平面図である。 （ａ）～（ｅ）は本発明の偏光フィルムの製造工程の各工程で得られる層構造の一例を示す概略断面図である。 本発明の偏光フィルムの製造方法におけるパターン化撥液層形成工程の一例を示す概略断面図である。 （ａ）～（ｃ）は、それぞれ本発明の円偏光板の一例を示す概略断面図である。
　以下、図面を参照して、本発明の偏光フィルムの製造方法及び偏光フィルムの好ましい実施形態について説明する。なお、本発明の範囲はここで説明する実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を損なわない範囲で種々の変更をすることができる。
　［第１の実施形態（偏光フィルムの製造方法及び偏光フィルム）］
　本発明の偏光フィルムの製造方法は、
　基材層の少なくとも片面側に、パターン化撥液層を形成してパターン化撥液層付き基材層を得るパターン化撥液層形成工程と、
　撥液層付き基材層のパターン化撥液層側の面に、配向層形成用組成物を塗工して形成されたパターン化配向層を有するパターン化配向層付き基材層を得るパターン化配向層形成工程と、
　パターン化配向層付き基材層のパターン化配向層側の面に、液晶化合物及び二色性色素を含む偏光層形成用組成物を塗工することによりパターン化偏光層を形成するパターン化偏光層形成工程と、を有する。パターン化撥液層は、配向層形成用組成物及び偏光層形成用組成物に対して撥液性を示す。
　上記のパターン化撥液層形成工程でのパターン化撥液層の形成方法としては、保護層を用いてパターン化撥液層を形成する方法と、撥液剤を滴下塗布してパターン化撥液層を形成する方法とを挙げることができる。以下、各方法について詳述する。
　＜偏光フィルムの第１の製造方法＞
　図１は、本発明の偏光フィルムの一例を示す概略平面図である。図２（ａ）～（ｅ）は、図１に示す偏光フィルムの第１の製造方法の製造工程の各工程で得られる層構造を示す概略断面図である。図２（ｅ）は、図１のＸ－Ｘ断面図である。偏光フィルム２の第１の製造方法におけるパターン化撥液層形成工程は、
　基材層１３の少なくとも片面側に、基材層１３を被覆するための被覆領域３７ａと基材層１３を露出させるための露出領域３７ｂとを有する保護層３７を積層することにより保護層付き基材層８１（図２（ａ））を得る基材層被覆工程と、
　保護層付き基材層８１の保護層３７側の面に撥液剤を塗工して撥液層４７が形成された撥液層付き基材層８２（図２（ｂ））を得る撥液層形成工程と、
　撥液層付き基材層８２から保護層を剥離することにより、撥液層４７の一部を除去してパターン化撥液層４７ｂ（図２（ｃ））を形成する保護層除去工程と、を有する。
　偏光フィルム２の第１の製造方法は、上記のようなパターン化撥液層形成工程を経て得られたパターン化撥液層付き基材層８３（図２（ｃ））のパターン化撥液層４７ｂ側の面に、配向層形成用組成物を塗工して形成されたパターン化配向層２２を有するパターン化配向層付き基材層８４（図２（ｄ））を得るパターン化配向層形成工程と、
　パターン化配向層付き基材層８４のパターン化配向層２２側の面に、液晶化合物及び二色性色素を含む偏光層形成用組成物を塗工することによりパターン化偏光層２１を形成するパターン化偏光層形成工程と、を有する。これにより、例えば、図１及び図２（ｅ）に示す、パターン化偏光層を有する偏光フィルム２を製造することができる。
　（偏光フィルム）
　上記の製造方法によって得られる偏光フィルムの一例について説明する。図１に示す偏光フィルム２は、光吸収異方性の機能を有するフィルムであって、基材層１３上に、パターン化偏光層２１を有する。パターン化偏光層２１は、偏光領域２１ａと、偏光領域２１ａよりも低い視感度補正偏光度（Ｐｙ）を有する低偏光領域２１ｂとを有する。偏光領域２１ａは、液晶化合物及び二色性色素を含むとともに、視感度補正偏光度（Ｐｙ）が９０％以上である。低偏光領域２１ｂは、パターン化撥液層（撥液層）４７ｂを有し、液晶化合物及び二色性色素を含有しないことが好ましい。
　偏光フィルム２は、基材層１３上にパターン化偏光層２１を有するものであるが、さらにパターン化配向層２２、その他の層等を有していてもよい。パターン化配向層２２の詳細については後述する。その他の層としては、例えば、パターン化偏光層２１の基材層１３とは反対側の面に、パターン化偏光層２１の表面を保護する等の目的で設けられた表面保護層を挙げることができる。また、基材層１３を剥離して用いる場合には、パターン化偏光層２１の基材層１３を剥離した側の面に表面保護層を設けてもよい。表面保護層は１層構造であってもよく、多層構造であってもよい。表面保護層が多層構造である場合、各層は同じ材料から形成されていてもよく、互いに異なる材料から形成されていてもよい。
　なお、図２（ｅ）に示す偏光フィルム２では、基材層１３の片面側に配向層及びパターン化偏光層２１を有する例を示しているが、基材層１３の両面に配向層及びパターン化偏光層を有していてもよい。基材層１３の両面に設けられるパターン化偏光層の構造は、互いに同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。
　偏光フィルム２は、長さが１０ｍ以上の長尺状の偏光フィルムであってもよく、この場合、偏光フィルム２はロール状に巻回された巻回体とすることができる。この巻回体から偏光フィルムを連続的に繰り出して、後述する位相差層と積層する、枚葉に切断する等の工程を行うことができる。巻回体とする長尺状の偏光フィルムの長さは１０ｍ以上であれば特に限定されないが、例えば１００００ｍ以下とすることができる。
　偏光領域２１ａは、基材層１３上に形成され、液晶化合物及び二色性色素を含有する。偏光領域２１ａと基材層１３との間には配向層２２ａが設けられていてもよい。偏光領域２１ａは、視感度補正偏光度（Ｐｙ）が９０％以上であることが好ましく、９２％以上であることがより好ましく、９５％以上であることがさらに好ましく、通常１００％以下である。また、偏光領域２１ａは、視感度補正単体透過率（Ｔｙ）を例えば３５％以上とすることが好ましく、４０％以上であることがより好ましく、４４％以上であることがさらに好ましく、通常５０％未満である。
　低偏光領域２１ｂは、基材層１３上に形成された撥液層（パターン化撥液層）４７ｂを有し、配向層や偏光層を有しないものであることが好ましい。低偏光領域２１ｂは、視感度補正偏光度（Ｐｙ）を、例えば１０％以下とすることができ、５％以下であることが好ましく、１％以下であることがより好ましく、０％であってもよい。また、低偏光領域２１ｂの視感度補正単体透過率（Ｔｙ）は、例えば８０％以上とすることができ、８５％以上であることが好ましく、８８％以上であることがより好ましく、通常９８％以下である。
　本明細書における視感度補正偏光度（Ｐｙ）及び視感度補正単体透過率（Ｔｙ）は、分光光度計を用いて測定した偏光度及び単体透過率に基づいて算出することができる。例えば、可視光である波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの範囲で透過軸方向（配向垂直方向）の透過率（Ｔ１）及び吸収軸方向（配向同一方向）の透過率（Ｔ２）を、分光光度計に偏光子付フォルダーをセットした装置を用いてダブルビーム法で測定することができる。可視光範囲での偏光度及び単体透過率は、下記式（式１）及び（式２）を用いて各波長における偏光度及び単体透過率を算出し、さらにＪＩＳ　Ｚ　８７０１の２度視野（Ｃ光源）により視感度補正を行うことで、視感度補正単体透過率（Ｔｙ）及び視感度補正偏光度（Ｐｙ）で算出することができる。
　　偏光度［％］＝｛（Ｔ１－Ｔ２）／（Ｔ１＋Ｔ２）｝×１００　　　（式１）
　　単体透過率［％］＝（Ｔ１＋Ｔ２）／２　　　（式２）
　偏光領域２１ａの占有面積及び低偏光領域２１ｂの占有面積は、偏光フィルム２に要求される特性に応じて適宜選択すればよい。偏光フィルム２の表面積に対する、偏光領域２１ａ及び低偏光領域２１ｂの占有面積の合計の割合は、９０％以上であることが好ましく、９５％以上であることがより好ましく、９９％以上であることがさらに好ましい。また、偏光領域２１ａの占有面積と低偏光領域２１ｂの占有面積の合計面積に対して、偏光領域２１ａの占有面積は、５０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましく、８０％以上であることがさらに好ましい。例えば、図１に示すように、低偏光領域２１ｂの専有面積が偏光領域２１ａの専有面積よりも小さく、低偏光領域２１ｂを取り囲むように偏光領域２１ａを設けてもよい。図１に示す偏光フィルム２では、１つの円形の低偏光領域２１ｂを取り囲むように偏光領域２１ａを設けているが、低偏光領域２１ｂはそれぞれ独立に複数設けられていてもよい。
　偏光領域２１ａの形状及び低偏光領域２１ｂの形状は特に限定されないが、例えば、図１に示すように、低偏光領域２１ｂを取り囲むように偏光領域２１ａを設ける場合、低偏光領域２１ｂは、平面視形状が、円形；楕円形；長円形；三角形、正方形、矩形、菱形等の多角形；文字形状；これらの組み合わせ等、任意の形状に形成することができる。
　低偏光領域２１ｂは、平面視形状が円形、楕円形、長円形、又は多角形であることが好ましい。低偏光領域２１ｂが円形である場合、その直径は５ｃｍ以下であることが好ましく、３ｃｍ以下であることがより好ましく、２ｃｍ以下であることがさらに好ましい。低偏光領域２１ｂが楕円形又は長円形である場合、その長軸は５ｃｍ以下であることが好ましく、３ｃｍ以下であることがより好ましく、２ｃｍ以下であることがさらに好ましい。低偏光領域２１ｂが多角形である場合、この多角形が内接されるように描いた仮想円の直径は５ｃｍ以下であることが好ましく、３ｃｍ以下であることがより好ましく、２ｃｍ以下であることがさらに好ましい。上記した形状の低偏光領域２１ｂは、スマートフォンやタブレット等に設けられたカメラのレンズ位置に対応させる領域として好適に用いることができる。この際、低偏光領域２１ｂを、視感度補正偏光度（Ｐｙ）が１０％以下であり、視感度補正単体透過率（Ｔｙ）が８０％以上の領域とすることにより、低偏光領域２１ｂの着色を低減し、優れた透明性を得ることができるため、カメラの性能を向上させることができる。
　さらに、偏光領域２１ａと低偏光領域２１ｂとを、それぞれ平面視形状が線状、帯状、波形状等の形状となるように設けてもよい。この場合、偏光領域２１ａと低偏光領域２１ｂとはそれぞれ交互に複数設けられていてもよい。この場合、偏光領域２１ａ及び低偏光領域２１ｂの幅は、それぞれ独立して、１μｍ～１０ｍｍであることが好ましく、１μｍ～１ｍｍであることがより好ましく、１μｍ～１００μｍであることがさらに好ましい。
　なお、偏光フィルムが長尺状の偏光フィルムである場合、長尺状の偏光フィルムは通常、偏光フィルムの用途等に応じて所定サイズに裁断されるため、裁断後の偏光フィルムの所定の位置に偏光領域２１ａや低偏光領域２１ｂが形成されるように、長尺状の偏光フィルムにおける偏光領域や低偏光領域の配置を設定することが好ましい。例えば、裁断後の偏光フィルムが図１に示す偏光フィルム２である場合には、長尺状の偏光フィルムの長さ方向及び／又は幅方向に、所定の間隔で複数の低偏光領域２１ｂを設けることが好ましい。
　パターン化偏光層２１の偏光領域２１ａの厚みは、０．５μｍ以上であることが好ましく、１μｍ以上であることがより好ましく、また、５μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以下であることがより好ましい。また、パターン化撥液層４７ｂの厚みは、通常１～２００ｎｍであり、１～２０ｎｍであることが好ましい。偏光領域２１ａの厚み及びパターン化撥液層４７ｂの厚みは、干渉膜厚計、レーザー顕微鏡、又は触針式膜厚計等で測定することができる。
　次に、図２（ａ）～（ｅ）に基づいて、偏光フィルム２の製造方法の各工程について説明する。
　（基材層被覆工程）
　基材層被覆工程では、図２（ａ）に示すように、基材層１３の少なくとも片面側に、基材層１３を被覆するための被覆領域３７ａと基材層１３を露出させるための露出領域３７ｂとを有する保護層３７を積層する。これにより、保護層付き基材層８１を得ることができる。
　保護層３７が有する露出領域３７ｂは、例えば保護層３７の開口部とすることができる。被覆領域３７ａは、保護層付き基材層８１上に、後述する撥液剤を塗工したときに、基材層１３上に撥液剤が塗工されることを抑制することができる。一方、保護層３７の露出領域３７ｂでは、基材層１３上に撥液剤を塗工することができる。
　後述するように、露出領域３７ｂに塗工された撥液剤により、基材層１３上にはパターン化撥液層４７ｂが形成される。このパターン化撥液層４７ｂ上には、後述するように、配向層や偏光層が形成されにくい。そのため、露出領域３７ｂは、偏光フィルム２の低偏光領域２１ｂに対応させて形成することが好ましい。例えば、図１及び図２（ｅ）に示す偏光フィルム２を製造する場合には、低偏光領域２１ｂの形状に合わせてその形状を決定することが好ましい。例えば、低偏光領域２１ｂの平面視形状が、円形；楕円形；長円形；三角形、正方形、矩形、菱形等の多角形；線状；帯状；波形状であれば、露出領域３７ｂは、これらの形状に対応して形成すればよい。
　例えば、露出領域３７ｂが円形である場合、その直径は５ｃｍ以下であることが好ましく、３ｃｍ以下であることがより好ましく、２ｃｍ以下であることがさらに好ましい。露出領域３７ｂが楕円形又は長円形である場合、その長軸は５ｃｍ以下であることが好ましく、３ｃｍ以下であることがより好ましく、２ｃｍ以下であることがさらに好ましい。露出領域３７ｂが多角形である場合、この多角形が内接されるように描いた仮想円の直径は５ｃｍ以下であることが好ましく、３ｃｍ以下であることがより好ましく、２ｃｍ以下であることがさらに好ましい。
　また、保護層３７の被覆領域３７ａでは、被覆領域３７ａ上に撥液層４７が形成されるため、基材層１３上の、撥液層４７を形成しない領域に対応させて形成することが好ましい。パターン化撥液層４７ｂ上には配向層や偏光層が形成されにくいため、例えば、図１及び図２（ｅ）に示す偏光フィルム２を製造する場合には、偏光領域２１ａの形状に合わせてその形状を決定することが好ましい。
　（基材層）
　基材層１３は、偏光フィルム２を製造する際に、パターン化配向層２２やパターン化偏光層２１を支持するために用いることができ、また、偏光フィルム２のパターン化偏光層２１を支持するために用いることができる。
　基材層１３は、ガラス基材であっても樹脂基材であってもよいが、樹脂基材であることが好ましい。また、偏光フィルム２を連続的に製造できる点から、基材層１３は、ロール状に巻回した長尺の樹脂基材を巻き出したものであることがより好ましい。樹脂基材は、可視光を透過し得る透光性を有する基材であることが好ましい。ここで、透光性とは、波長３８０～７８０ｎｍの波長域の光に対して視感度補正単体透過率が８０％以上であることをいう。
　基材層１３の厚みは、実用的な取り扱いができる程度の質量である点では、薄い方が好ましいが、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向がある。基材層１３の厚みは、通常、５μｍ～３００μｍであり、好ましくは２０μｍ～２００μｍである。また、基材層１３は、剥離可能に設けられていてもよく、例えば、偏光フィルム２のパターン化偏光層２１を、表示装置をなす部材や後述する位相差層等に貼合した後、偏光フィルム２から剥離できるものであってもよい。これにより、偏光フィルム２のさらなる薄膜化効果が得られる。
　樹脂基材を構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン；ノルボルネン系ポリマー等の環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド及びポリフェニレンオキシド；等を挙げることができる。
　市販のセルロースエステルの樹脂基材としては、“フジタックフィルム”（富士写真フイルム株式会社製）；“ＫＣ８ＵＸ２Ｍ”、“ＫＣ８ＵＹ”及び“ＫＣ４ＵＹ”（以上、コニカミノルタオプト株式会社製）等が挙げられる。
　市販の環状オレフィン系樹脂としては、“Ｔｏｐａｓ”（登録商標）（Ｔｉｃｏｎａ社（独）製）、“アートン”（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）、“ゼオノア（ＺＥＯＮＯＲ）”（登録商標）、“ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ）”（登録商標）（以上、日本ゼオン株式会社製）及び“アペル”（登録商標）（三井化学株式会社製）が挙げられる。このような環状オレフィン系樹脂を、溶剤キャスト法、溶融押出法等の公知の手段により製膜して、樹脂基材とすることができる。市販されている環状オレフィン系樹脂の樹脂基材を用いることもできる。市販の環状オレフィン系樹脂の樹脂基材としては、“エスシーナ”（登録商標）、“ＳＣＡ４０”（登録商標）（以上、積水化学工業株式会社製）、“ゼオノアフィルム”（登録商標）（オプテス株式会社製）及び“アートンフィルム”（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）が挙げられる。
　基材層１３は、１層構造であってもよく２層以上の多層構造であってもよい。基材層１３が多層構造である場合、各層は同じ材料から形成されていてもよく、互いに異なる材料から形成されていてもよい。
　また、基材層１３は１／４波長板機能を有していてもよい。基材層１３が１／４波長板機能を有することにより、基材層１３とパターン化偏光層２１との組み合わせにより、円偏光板の機能を有する偏光フィルムを得ることができる。これにより、偏光フィルム２に、基材層１３とは別に１／４波長板機能を有する位相差層を貼合しなくても、円偏光板を得ることができる。また、基材層１３が多層構造である場合、１／２波長板機能を有する層と１／４波長板機能を有する層とが積層されたものを用い、パターン化偏光層２１を１／２波長板機能を有する層側に積層することにより、円偏光板を得ることができる。あるいは、基材層１３が多層構造である場合、逆波長分散性の１／４波長板機能を有する層とポジティブＣプレート機能を有する層とが積層されたものを用いることによっても、円偏光板を得ることができる。
　（保護層）
　保護層３７としては、シート状基材に露出領域３７ｂとなる領域を形成したものを用いることができる。露出領域３７ｂとなる領域は、シート状基材の所定部分を、パンチング、カッティングプロッタ、ウォータージェット等によって機械的に打ち抜く方法、シート状基材の所定部分をレーザーアブレーション、化学的溶解等によって除去する方法等によって形成することができる。
　保護層３７を形成するシート状基材としては、後述の撥液層形成工程において撥液剤を塗工したときに撥液剤に不溶であるものであれば、その材料は特に限定されない。保護層３７を形成するシート状基材としては、例えば、上記した基材層１３と同じ材料を用いて形成することができ、特に樹脂基材を用いて形成されることが好ましく、保護層３７の露出領域３７ｂとなる領域（例えば、開口部）の変形を抑制しやすいポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂を用いることがより好ましい。
　保護層３７は、基材層１３に貼合するための粘着層を有していることが好ましい。保護層は、後述するように剥離されるため、粘着層は、基材層１３に対して剥離可能であることが好ましい。また、保護層３７の厚みは、通常２０μｍ以上であり、３０μｍ以上であることが好ましく、また、通常２５０μｍ以下であり、２００μｍ以下であることが好ましい。
　（撥液層形成工程）
　撥液層形成工程では、保護層付き基材層８１の保護層３７側の面に、撥液剤を塗工して撥液層４７が形成された撥液層付き基材層８２を得る（図２（ｂ））。
　（撥液剤）
　撥液剤としては、撥液剤を塗工して形成される撥液層（パターン化撥液層４７ｂ）が配向層形成用組成物及び偏光層形成用組成物に対して撥液性を示すものであれば特に限定されない。本明細書における撥液性は、パターン化撥液層４７ｂ上に配向層形成用組成物や偏光層形成用組成物を塗工したときに、パターン化撥液層４７ｂがこれらの組成物をはじき、パターン化撥液層４７ｂ上にこれらの組成物の塗工層が形成されないことをいう。パターン化撥液層４７ｂが有する撥液性は、例えば、パターン化撥液層４７ｂの表面において水滴量３μＬでθ／２法により測定した接触角が９０°以上であるものをいい、接触角は１００°以上であってもよく、１１０°以上であってもよく、通常１２０°未満である。
　撥液剤としては、例えば、パーフルオロアルキル基又はパーフルオロポリエーテル基を自由端側に有する含フッ素基と、加水分解性基とがケイ素原子に結合している第１の有機ケイ素化合物、加水分解性シランオリゴマー、又は、フッ化炭素含有基と加水分解性基とがケイ素原子に結合した第２の有機ケイ素化合物とを含んでいてもよい。
　パーフルオロアルキル基の炭素数（特に最も長い直鎖部分の炭素数）は、例えば３以上であることが好ましく、５以上がより好ましく、より好ましくは７以上であり、炭素数の上限は特に限定されない。パーフルオロポリエーテル基とは、ポリアルキレンエーテル基又はポリアルキレングリコールジアルキルエーテル残基の全部の水素原子がフッ素原子に置換された基であり、パーフルオロポリアルキレンエーテル基、又はパーフルオロポリアルキレングリコールジアルキルエーテル残基ということもできる。パーフルオロポリエーテル基の最も長い直鎖部分に含まれる炭素数は、５以上であることが好ましく、１０以上がより好ましく、より好ましくは２０以上である。炭素数の上限は特に限定されず、例えば２００程度であってもよい。
　含フッ素基は、上記パーフルオロアルキル基又はパーフルオロポリエーテル基を自由端側に有していればよい。したがって、ケイ素原子と結合する側には、適当な連結基が存在していてもよく、当該連結基なしで上記パーフルオロアルキル基又はパーフルオロアルキル基が直接ケイ素原子に結合してもよい。連結基としては、例えば、アルキレン基、芳香族炭化水素基等の炭化水素基、（ポリ）アルキレングリコール基、又はこれらの水素原子の一部がＦに置換された基、及びこれらが適当に連結した基等が挙げられる。連結基の炭素数は、例えば１以上、２０以下であり、好ましくは２以上、１０以下である。
　なお、一つの連結基には複数のケイ素原子が結合してもよく、一つの連結基に複数のパーフルオロアルキル基又はパーフルオロポリエーテル基が結合してもよい。ケイ素原子に結合する含フッ素基の数は、１つ以上であればよく、２又は３であってもよいが、１又は２であるのが好ましく、１であるのが特に好ましい。
　加水分解性基は、加水分解・脱水縮合反応を通じて、（１）第１の有機ケイ素化合物同士を、又は（２）第１の有機ケイ素化合物と基材表面の活性水素（水酸基等）とを、又は（３）第１の有機ケイ素化合物と第２の有機ケイ素化合物とを結合する作用を有する。こうした加水分解性基としては、例えばアルコキシ基（特に炭素数１～４のアルコキシ基）、ヒドロキシ基、アセトキシ基、アリル基、ハロゲン原子（特に塩素原子）等が挙げられる。好ましい加水分解性基は、アルコキシ基、アリル基、及びハロゲン原子であり、特にメトキシ基、エトキシ基、アリル基、塩素原子が好ましい。
　ケイ素原子に結合する加水分解性基の数は、１つ以上であればよく、２又は３であってもよいが、２又は３であるのが好ましく、３であるのが特に好ましい。２つ以上の加水分解性基がケイ素原子に結合している場合、異なる加水分解性基がケイ素原子に結合していてもよいが、同じ加水分解性基がケイ素原子に結合しているのが好ましい。ケイ素原子に結合する含フッ素基と加水分解性基との合計数は、通常４であるが、２又は３（特に３）であってもよい。３以下の場合、残りの結合手には、例えば、アルキル基（特に炭素数が１～４のアルキル基）、Ｈ、ＮＣＯ等が結合できる。
　第１の有機ケイ素化合物の含フッ素基は、直鎖状であってもよいし、側鎖を有していてもよい。撥液剤の具体例としては、国際公開２０１６／０７６２４５号に記載された撥水撥油コーティング組成物を挙げることができる。
　撥液剤は、保護層付き基材層８１の保護層３７側の面に、ディップコート法、ロールコート法、バーコート法、スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法等によって塗工することができる。撥液剤として、第１の有機ケイ素化合物と第２の有機ケイ素化合物とを含む組成物を用いた場合、保護層付き基材層８１に撥液剤を塗工して形成された塗工層を空気中で静置する、及び／又は、加温乾燥することにより、撥液層４７を形成することができる。
　撥液剤は、保護層３７の被覆領域３７ａ上、及び、保護層３７の露出領域３７ｂでは基材層１３上に塗工される。これにより、図２（ｂ）に示すように、保護層３７の被覆領域３７ａ上、及び、保護層３７の露出領域３７ｂでは基材層１３上にそれぞれ撥液層４７が形成された、撥液層付き基材層８２を得ることができる。
　（保護層除去工程）
　保護層除去工程では、撥液層形成工程で得られた撥液層付き基材層８２から保護層３７を剥離する。これにより、撥液層４７の一部を除去して形成したパターン化撥液層４７ｂを有するパターン化撥液層付き基材層８３を得ることができる（図２（ｃ））。撥液層付き基材層８２から保護層３７を剥離することにより、被覆領域３７ａ上の撥液層４７が保護層３７とともに除去され、保護層３７の露出領域３７ｂの部分では、基材層１３上に撥液層４７を残存させて、パターン化撥液層４７ｂを形成することができる。これにより、図２（ｃ）に示すように、パターン化撥液層４７ｂを有するパターン化撥液層付き基材層８３を得ることができる。
　（パターン化配向層形成工程）
　パターン化配向層形成工程では、保護層除去工程で得られたパターン化撥液層付き基材層８３のパターン化撥液層４７ｂ側の面に、配向層形成用組成物を塗工する。これにより、パターン化配向層２２を有するパターン化配向層付き基材層８４を得ることができる（図２（ｄ））。パターン化配向層形成工程で形成されるパターン化配向層２２は、その上に積層される液晶化合物を、所望の方向に液晶配向させる配向規制力を有することができる。配向層形成用組成物としては、後述する配向性ポリマー組成物、光配向膜形成用組成物、グルブ配向膜を形成するための樹脂材料を含む組成物等を用いることができる。
　上記したように、パターン化撥液層４７ｂは、配向層形成用組成物に対して撥液性を示す。そのため、パターン化配向層形成工程において、パターン化撥液層付き基材層８３のパターン化撥液層４７ｂ側の面に、配向層形成用組成物を塗工すると、パターン化撥液層４７ｂ上では、配向層形成用組成物がはじかれてこの組成物の塗工層が形成されない。一方、パターン化撥液層付き基材層８３のパターン化撥液層４７ｂが形成されていない領域では、配向層形成用組成物の塗工層を形成することができる。したがって、パターン化配向層形成工程では、基材層１３上に、パターン化撥液層４７ｂが形成された領域と、パターン化撥液層４７ｂが形成されていない領域に配向層２２ａが形成されたパターン化配向層２２と、を有するパターン化配向層付き基材層を得ることができる。
　パターン化配向層２２は、液晶化合物の液晶配向を容易にする。水平配向、垂直配向、ハイブリッド配向、傾斜配向等の液晶配向の状態は、パターン化配向層２２及び液晶化合物の性質によって変化し、その組み合わせは任意に選択することができる。例えば、パターン化配向層２２が配向規制力として水平配向を発現させる材料であれば、液晶化合物は水平配向又はハイブリッド配向を形成することができ、パターン化配向層２２が垂直配向を発現させる材料であれば、液晶化合物は垂直配向又は傾斜配向を形成することができる。水平、垂直等の表現は、偏光フィルム２平面を基準とした場合の、配向した液晶化合物の長軸の方向を表す。例えば、垂直配向とは偏光フィルム２平面に対して垂直な方向に、配向した重合性液晶の長軸を有することである。ここでいう垂直とは、偏光フィルム２平面に対して９０°±２０°のことを意味する。偏光フィルム２は、偏光フィルム２平面の偏光特性を有することが好ましいため、パターン化配向層２２は水平配向を発現させる材料を用いて形成することが好ましい。
　パターン化配向層２２の配向規制力は、パターン化配向層２２が配向性ポリマーから形成されている場合は、表面状態やラビング条件によって任意に調整することが可能であり、光配向性ポリマーから形成されている場合は、偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。また、重合性液晶化合物の表面張力や液晶性等の物性を選択することにより、液晶配向を制御することもできる。
　パターン化配向層２２の厚みは、通常１０ｎｍ～５０００ｎｍであり、１０ｎｍ～１０００ｎｍであることが好ましく、３０ｎｍ～３００ｎｍであることがより好ましい。また、基材層１３とパターン化偏光層２１との間に形成されるパターン化配向層２２は、パターン化配向層２２上にパターン化偏光層２１を形成する際に使用される溶剤に不溶であり、また、溶剤の除去や液晶の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。
　パターン化配向層２２としては、配向性ポリマーからなる配向膜、光配向膜、又は、グルブ（ｇｒｏｏｖｅ）配向膜等が挙げられる。基材層１３が長尺の樹脂基材を巻回した巻回体から巻き出されたものである場合には、パターン化配向層２２は、その配向方向を容易に制御できる点から光配向膜であることが好ましい。
　配向性ポリマーとしては、分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミド、その加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、又は、ポリアクリル酸エステル類等が挙げられる。中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。これらの配向性ポリマーは、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　配向性ポリマーからなる配向膜は、通常、配向性ポリマーを溶剤に溶解させた組成物（以下、「配向性ポリマー組成物」ということがある。）をパターン化撥液層付き基材層８３に塗布し、溶剤を除去する、又は、配向性ポリマー組成物を基材層１３に塗布し、溶剤を除去し、ラビングすること（ラビング法）によって得ることができる。
　配向性ポリマー組成物に用いられる溶剤としては、水；メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ又はプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ－ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート又は乳酸エチル等のエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン又はメチルイソブチルケトン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン又はヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤；トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル溶剤；テトラヒドロフラン又はジメトキシエタン等のエーテル溶剤；クロロホルム又はクロロベンゼン等の塩素置換炭化水素溶剤；等が挙げられる。これら溶剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　配向性ポリマー組成物中の配向性ポリマーの含有量は、配向性ポリマーが、溶剤に完溶できる範囲であればよいが、溶液に対して固形分換算で０．１～２０質量％が好ましく、０．１～１０質量％がより好ましい。
　配向性ポリマー組成物としては、市販の配向膜材料をそのまま使用してもよい。市販の配向膜材料としては、サンエバー（登録商標）（日産化学工業株式会社製）又はオプトマー（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）等が挙げられる。
　配向性ポリマー組成物をパターン化撥液層付き基材層８３に塗布する方法としては、スピンコーティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法又はアプリケータ法等の塗布方法や、フレキソ法等の印刷法等の公知の方法が挙げられる。偏光フィルム２を、Ｒｏｌｌ－ｔｏ－Ｒｏｌｌ形式の連続的製造方法により製造する場合、当該塗布方法には通常、グラビアコーティング法、ダイコーティング法又はフレキソ法等の印刷法を採用することができる。
　配向性ポリマー組成物に含まれる溶剤を除去することにより、配向性ポリマーの乾燥被膜が形成される。溶剤の除去方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥法及び減圧乾燥法等が挙げられる。その後、上記乾燥被膜を、ラビング布が巻きつけられた回転しているラビングロールに接触させて、パターン化配向層２２を形成することができる。
　光配向膜は、通常、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと、溶剤とを含む組成物（以下、「光配向膜形成用組成物」ということがある。）をパターン化撥液層付き基材層８３に塗工して形成された配向層用塗工層に、偏光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することによって得ることができる。光配向膜は、照射する偏光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御できる点でより好ましい。
　光反応性基とは、光を照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光を照射することで生じる分子の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応、又は光分解反応のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じるものである。当該光反応性基の中でも、二量化反応又は光架橋反応を起こすものが、配向性に優れる点で好ましい。以上のような反応を生じうる光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合を有するものが好ましく、炭素－炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素－窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素－窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）、及び炭素－酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基がより好ましい。
　Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ－ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基又はシンナモイル基等が挙げられる。反応性の制御が容易であるという点や光配向時の配向規制力発現の観点から、カルコン基又はシンナモイル基であることが好ましい。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基又は芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基又はホルマザン基等や、アゾキシベンゼンを基本構造とするものが挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基又はマレイミド基等を挙げることができる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基又はハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。
　光配向膜形成用組成物の溶剤としては、光反応性基を有するポリマー及びモノマーを溶解するものが好ましく、該溶剤としては、例えば、前記の配向性ポリマー組成物の溶剤として挙げられた溶剤等が挙げられる。
　光配向膜形成用組成物中の、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの含有量は、当該光反応性基を有するポリマー又はモノマーの種類や製造しようとする光配向膜の厚さによって適宜調節できるが、０．２質量％以上とすることが好ましく、０．３～１０質量％の範囲が特に好ましい。また、光配向膜の特性が著しく損なわれない範囲で、ポリビニルアルコールやポリイミド等の高分子材料や光増感剤が含まれていてもよい。
　光配向膜形成用組成物をパターン化撥液層付き基材層８３に塗工する方法としては、上記した配向性ポリマー組成物をパターン化撥液層付き基材層８３に塗工する方法と同様の方法が挙げられる。塗工された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去する方法としては、例えば、配向性ポリマー組成物から溶剤を除去する方法と同じ方法が挙げられる。
　偏光照射は、パターン化撥液層付き基材層８３の上に塗工された光配向膜形成用組成物から溶剤を除去した乾燥被膜上から直接行ってもよく、基材層１３を透過した偏光が乾燥被膜に照射されるように基材層１３側から行ってもよい。また、偏光照射に用いられる偏光は、実質的に平行光であることが特に好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長領域のものがよい。具体的には、波長２５０～４００ｎｍの範囲のＵＶ（紫外光）が特に好ましい。偏光照射に用いる光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦ等の紫外光レーザー等が挙げられ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ又はメタルハライドランプがより好ましい。これらのランプは、波長３１３ｎｍの紫外光の発光強度が大きいため好ましい。光源からの光を、適当な偏光子を通過して照射することにより、偏光を照射することができる。かかる偏光子としては、偏光フィルターやグラントムソン、グランテーラー等の偏光プリズムやワイヤーグリッドタイプの偏光子を用いることができる。
　なお、ラビングや偏光照射を行う時に、マスキングを行えば、液晶配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を形成することもできる。
　グルブ（ｇｒｏｏｖｅ）配向膜は、膜表面に凹凸パターン又は複数のグルブ（溝）を有する膜である。等間隔に並んだ複数の直線状のグルブを有する膜に液晶分子を置いた場合、その溝に沿った方向に液晶分子が配向する。
　グルブ配向膜を得る方法としては、感光性ポリイミド膜表面にパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光後、現像及びリンス処理を行って凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に、硬化前のＵＶ硬化性樹脂の層を形成し、樹脂層を基材へ移してから硬化する方法、基材上に形成した硬化前のＵＶ硬化性樹脂の膜に、複数の溝を有するロール状の原盤を押し当てて凹凸を形成し、その後硬化する方法等が挙げられる。具体的には、特開平６－３４９７６号公報及び特開２０１１－２４２７４３号公報記載の方法等が挙げられる。
　配向乱れの小さな配向を得るためには、グルブ配向膜の凸部の幅は０．０５μｍ～５μｍであることが好ましく、凹部の幅は０．１μｍ～５μｍであることが好ましく、凹凸の段差の深さは２μｍ以下であることが好ましく、０．０１μｍ～１μｍ以下であることが好ましい。
　（パターン化偏光層形成工程）
　パターン化偏光層形成工程では、パターン化配向層形成工程で得られたパターン化配向層付き基材層８４のパターン化配向層２２側の面に、液晶化合物及び二色性色素を含む偏光層形成用組成物を塗工することにより、パターン化偏光層２１が形成された偏光フィルム２を得る（図２（ｅ））。偏光層形成用組成物は、液晶化合物及び二色性色素を含む組成物であって、溶剤及び重合開始剤を含むことが好ましく、増感剤、重合禁止剤、レベリング剤、反応性添加剤等を含んでいてもよい。
　上記したように、パターン化撥液層４７ｂは、偏光層形成用組成物に対して撥液性を示す。そのため、パターン化偏光層形成工程において、パターン化配向層付き基材層８４のパターン化撥液層４７ｂ側の面に、偏光層形成用組成物を塗工すると、パターン化撥液層４７ｂ上では、偏光層形成用組成物がはじかれて、この組成物の塗工層が形成されない。一方、パターン化配向層付き基材層８４のパターン化撥液層４７ｂが形成されていない領域では、偏光層形成用組成物の塗工層を形成することができる。したがって、パターン化偏光層形成工程では、基材層１３上に、パターン化撥液層４７ｂが形成された領域と、パターン化配向層２２の配向層２２ａ上に偏光領域２１ａが形成されたパターン化偏光層２１と、を有する偏光フィルム２を得ることができる。
　図１及び図２（ｅ）に示す偏光フィルム２は、さらに、基材層１３を剥離して用いることもできる。この場合、基材層１３とともに配向層２２ａも剥離してもよい。例えば、基材層１３の剥離は、偏光フィルム２のパターン化偏光層２１を、表示装置をなす部材や位相差層等に貼合した後に行うこともできる。
　（パターン化偏光層）
　パターン化偏光層２１は液晶化合物を含み、液晶化合物と二色性色素とを含有する領域を有する。パターン化偏光層２１が偏光フィルム２平面の偏光特性を有する場合、二色性色素と液晶化合物が偏光フィルム２平面に対して水平配向した状態である領域を有することが好ましい。また、パターン化偏光層２１が偏光フィルム２の膜厚方向の偏光特性を有する場合、二色性色素と液晶化合物が偏光フィルム２平面に対して水平配向した状態である領域を有することが好ましい。
　パターン化偏光層２１のうち、二色性色素と液晶化合物が偏光フィルム２面に対して水平配向した状態である領域は、波長λｎｍの光に対する液晶配向水平方向の吸光度Ａ１（λ）と液晶配向面内垂直方向の吸光度Ａ２（λ）の比である二色比（＝Ａ１（λ）／Ａ２（λ））が７以上であれば好ましく、２０以上であればより好ましく、さらに好ましくは３０以上である。この値が高ければ高い程、吸収選択性の優れる偏光特性を有することを示す。二色性色素の種類にもよるが、パターン化偏光層２１がネマチック液晶相である場合には、上記比は５～１０程度である。なお、パターン化偏光層２１がネマチック液晶相及びスメクチック液晶相である場合、液晶化合物と二色性色素とが相分離していないことは、例えば、各種顕微鏡による表面観察やヘイズメーターによる散乱度測定により確認できる。
　パターン化偏光層２１の厚みは、０．５μｍ以上であることが好ましく、１μｍ以上であることがより好ましく、また、１０μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下であることがより好ましい。パターン化偏光層２１の厚みは、干渉膜厚計、レーザー顕微鏡、又は触針式膜厚計等で測定することができる。
　（液晶化合物）
　偏光層形成用組成物に含まれる液晶化合物としては、公知の液晶化合物を用いることができる。液晶化合物の種類は特に限定されず、棒状液晶化合物、円盤状液晶化合物、及びこれらの混合物を用いることができる。また、液晶化合物は、高分子液晶化合物であってもよく、重合性液晶化合物であってもよく、これらの混合物であってもよい。
　液晶化合物としては、重合性液晶化合物を用いることが好ましい。重合性液晶化合物を用いることにより、偏光フィルムの色相を任意に制御することができるとともに、偏光フィルムを大幅に薄型化できる。また、延伸処理を行うことなく偏光フィルムを製造することができるので、熱による延伸緩和のない非伸縮性の偏光フィルムとすることができる。
　重合性液晶化合物とは、重合性基を有し、かつ、液晶性を有する化合物をいう。重合性基は、重合反応に関与する基を意味し、光重合性基であることが好ましい。ここで、光重合性基とは、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸等によって重合反応に関与し得る基をいう。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。液晶性は、サーモトロピック液晶でもリオトロピック液晶でもよいが、本実施の形態のパターン化偏光層２１のように二色性色素と混合する場合には、サーモトロピック液晶を用いることが好ましい。
　重合性液晶化合物がサーモトロピック液晶である場合は、ネマチック液晶相を示すサーモトロピック性液晶化合物であってもよいし、スメクチック液晶相を示すサーモトロピック性液晶化合物であってもよい。重合性液晶化合物が示す液晶状態は、スメクチック相であることが好ましく、高性能化の観点から高次スメクチック相であることがより好ましい。中でも、スメクチックＢ相、スメクチックＤ相、スメクチックＥ相、スメクチックＦ相、スメクチックＧ相、スメクチックＨ相、スメクチックＩ相、スメクチックＪ相、スメクチックＫ相又はスメクチックＬ相を形成する高次スメクチック液晶化合物がより好ましく、スメクチックＢ相、スメクチックＦ相又はスメクチックＩ相を形成する高次スメクチック液晶化合物がさらに好ましい。重合性液晶化合物が形成するパターン化偏光層２１がこれらの高次スメクチック相であると、パターン化偏光層２１に偏光性能のより高い領域を形成することができる。また、このように偏光性能の高い領域は、Ｘ線回折測定においてヘキサチック相やクリスタル相といった高次構造由来のブラッグピークが得られるものである。当該ブラッグピークは分子配向の周期構造に由来するピークであり、その周期間隔が３～６Åである膜を得ることができる。本実施の形態の偏光フィルム２では、パターン化偏光層２１が重合性液晶化合物がスメクチック相の状態で重合された重合体を含むことにより、パターン化偏光層２１により高い偏光特性を付与できるため好ましい。
　重合性液晶化合物が、ネマチック液晶相やスメクチック液晶相を示すか否かは、例えば、以下のようにして確認できる。基材に偏光膜形成用組成物を塗布して塗布膜を形成した後、重合性液晶化合物が重合しない条件で加熱処理することで塗布膜に含有される溶剤を除去する。続いて、基材上に形成された塗布膜を等方相温度まで加熱し、徐々に冷却することで発現する液晶相を、偏光顕微鏡によるテクスチャー観察、Ｘ線回折測定又は示差走査熱量測定により検査する。
　このような重合性液晶化合物としては、具体的には、下記式（Ａ）
　　Ｕ１－Ｖ１－Ｗ１－Ｘ１－Ｙ１－Ｘ２－Ｙ２－Ｘ３－Ｗ２－Ｖ２－Ｕ２　　　（Ａ）
［式（Ａ）中、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は、それぞれ独立に、２価の芳香族基又は２価の脂環式炭化水素基を表し、ここで、該２価の芳香族基又は２価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のフルオロアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていてもよく、該２価の芳香族基又は２価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子に置換されていてもよい。ただし、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３のうち少なくとも１つは、置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基又は置換基を有していてもよいシクロヘキサン－１，４－ジイル基である。
　Ｙ１、Ｙ２、Ｗ１及びＷ２は、互いに独立に、単結合又は二価の連結基である。
　Ｖ１及びＶ２は、互いに独立に、置換基を有していてもよい炭素数１～２０のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－又はＮＨ－に置き換わっていてもよい。
　Ｕ１及びＵ２は、互いに独立に、重合性基又は水素原子を表し、少なくとも１つは重合性基である。］
で表される化合物（以下、化合物（Ａ）ということがある。）等が挙げられる。
　化合物（Ａ）において、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３のうち少なくとも１つは、置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基、又は、置換基を有していてもよいシクロヘキサン－１，４－ジイル基である。特に、Ｘ１及びＸ３は置換基を有していてもよいシクロヘキサン－１，４－ジイル基であることが好ましく、該シクロへキサン－１，４－ジイル基は、トランス－シクロへキサン－１，４－ジイル基であることがさらに好ましい。トランス－シクロへキサン－１，４－ジイル基の構造を含む場合、スメクチック液晶性が発現しやすい傾向にある。また、置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基及び置換基を有していてもよいシクロへキサン－１，４－ジイル基が任意に有する置換基としては、メチル基、エチル基又はブチル基等の炭素数１～４のアルキル基、シアノ基、塩素原子又はフッ素原子等のハロゲン原子が挙げられる。好ましくは無置換である。
　Ｙ１及びＹ２は、互いに独立に、単結合、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＲａ＝ＣＲｂ－、－Ｃ≡Ｃ－又はＣＲａ＝Ｎ－が好ましく、Ｒａ及びＲｂは、互いに独立に、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基を表す。Ｙ１及びＹ２は、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－又は単結合であるとより好ましく、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３が全てシクロヘキサン－１，４－ジイル基を含まない場合、Ｙ１及びＹ２が互いに異なる結合方式であることがより好ましい。Ｙ１及びＹ２が互いに異なる結合方式である場合には、スメクチック液晶性が発現しやすい傾向にある。
　Ｗ１及びＷ２は、互いに独立に、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－又はＯＣＯ－が好ましく、互いに独立に単結合又は－Ｏ－であることがより好ましい。
　Ｖ１及びＶ２で表される炭素数１～２０のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、テトラデカン－１，１４－ジイル基又はイコサン－１，２０－ジイル基等を挙げることができる。Ｖ１及びＶ２は、好ましくは炭素数２～１２のアルカンジイル基であり、より好ましくは直鎖状の炭素数６～１２のアルカンジイル基である。直鎖状の炭素数６～１２のアルカンジイル基とすることで結晶性が向上し、スメクチック液晶性を発現しやすい傾向にある。
　置換基を有していてもよい炭素数１～２０のアルカンジイル基が任意に有する置換基としては、シアノ基及び塩素原子、フッ素原子等のハロゲン原子等が挙げられるが、該アルカンジイル基は、無置換であることが好ましく、無置換かつ直鎖状のアルカンジイル基であることがより好ましい。
　Ｕ１及びＵ２は、ともに重合性基であることが好ましく、ともに光重合性基であることがより好ましい。光重合性基を有する重合性液晶化合物は、熱重合性基よりも低温条件下で重合できるため、秩序度の高い状態で重合性液晶化合物の重合体を形成できる点で有利である。
　Ｕ１及びＵ２で表される重合性基は互いに異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基又はオキセタニル基が好ましく、メタクリロイルオキシ基、あるいは、アクリロイルオキシ基がより好ましい。
　このような重合性液晶化合物としては、例えば、以下のようなものが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　例示した前記化合物の中でも、式（１－２）、式（１－３）、式（１－４）、式（１－６）、式（１－７）、式（１－８）、式（１－１３）、式（１－１４）及び式（１－１５）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましい。
　例示した化合物（Ａ）は、単独又は組み合わせて、パターン化偏光層２１に用いることができる。また、２種以上の重合性液晶化合物を組み合わせる場合には、少なくとも１種が化合物（Ａ）であることが好ましく、２種以上が化合物（Ａ）であることがより好ましい。２種以上の重合性液晶化合物を組み合わせることにより、液晶－結晶相転移温度以下の温度でも一時的に液晶性を保持することができる場合がある。２種類の重合性液晶化合物を組み合わせる場合の混合比としては、通常、１：９９～５０：５０であり、５：９５～５０：５０であることが好ましく、１０：９０～５０：５０であることがさらに好ましい。
　化合物（Ａ）は、例えば、Ｌｕｂ　eｔ　aｌ.　Ｒｅｃｌ．Ｔｒａｖ．Ｃｈｉｍ．Ｐａｙｓ－Ｂａｓ，１１５,　３２１－３２８（１９９６）、又は特許第４７１９１５６号等に記載の公知方法で製造することができる。
　パターン化偏光層２１中における重合性液晶化合物の含有量は、パターン化偏光層２１の固形分１００質量部に対して、通常５０～９９．５質量部であり、好ましくは６０～９９質量部であり、より好ましくは７０～９８質量部であり、さらに好ましくは８０～９７質量部である。重合性液晶化合物の含有量が上記範囲内であれば、配向性が高くなる傾向がある。ここで、固形分とは、後述する偏光層形成用組成物から溶剤を除いた成分の合計量のことをいう。
　（二色性色素）
　二色性色素とは、分子の長軸方向における吸光度と、短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素をいう。二色性色素は、液晶化合物とともに配向して二色性を示す色素であり、二色性色素自身が重合性を有していてもよいし、液晶性を有していてもよい。二色性色素としては、可視光を吸収する特性を有する特性を有することが好ましく、３８０～６８０ｎｍの範囲に吸収極大波長（λＭＡＸ）を有するものがより好ましい。このような二色性色素としては、例えば、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素又はアントラキノン色素等が挙げられるが、中でもアゾ色素が好ましい。アゾ色素としては、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素又はスチルベンアゾ色素等が挙げられ、好ましくはビスアゾ色素又はトリスアゾ色素である。二色性色素は単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよいが、可視光全域で吸収を得るためには、３種類以上の二色性色素を組み合わせることが好ましく、３種類以上のアゾ色素を組み合わせることがより好ましい。
　アゾ色素としては、例えば、式（Ｉ）
　Ｔ１－Ａ１（－Ｎ＝Ｎ－Ａ２）ｐ－Ｎ＝Ｎ－Ａ３　－Ｔ２　　　（Ｉ）
［式（Ｉ）中、Ａ１、Ａ２及びＡ３は、互いに独立に、置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基、ナフタレン－１，４－ジイル基、又は、置換基を有していてもよい２価の複素環基を表し、Ｔ１及びＴ２は、互いに独立に電子吸引基又は電子放出基であり、アゾ結合面内に対して実質的に１８０°の位置に有する。ｐは０～４の整数を表す。ｐが２以上である場合、各々のＡ２は互いに同一でも異なっていてもよい。可視域に吸収を示す範囲で－Ｎ＝Ｎ－結合が－Ｃ＝Ｃ－、－ＣＯＯ－、－ＮＨＣＯ－又は－Ｎ＝ＣＨ－結合に置き換わっていてもよい。］
で表される化合物（以下、「化合物（Ｉ）」ということもある）が挙げられる。
　Ａ１、Ａ２及びＡ３における１，４－フェニレン基、ナフタレン－１，４－ジイル基及び２価の複素環基が任意に有する置換基としては、メチル基、エチル基又はブチル基等の炭素数１～４のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基又はブトキシ基等の炭素数１～４のアルコキシ基；トリフルオロメチル基等の炭素数１～４のフッ化アルキル基；シアノ基；ニトロ基；塩素原子、フッ素原子等のハロゲン原子；アミノ基、ジエチルアミノ基及びピロリジノ基等の置換又は無置換アミノ基（置換アミノ基とは、炭素数１～６のアルキル基を１つ又は２つ有するアミノ基、あるいは２つの置換アルキル基が互いに結合して炭素数２～８のアルカンジイル基を形成しているアミノ基を意味する。無置換アミノ基は、－ＮＨ２である。）が挙げられる。なお、炭素数１～６のアルキル基としては、メチル基、エチル基又はヘキシル基等が挙げられる。炭素数２～８のアルカンジイル基としては、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、又は、オクタン－１，８－ジイル基等が挙げられる。スメクチック液晶のような高秩序液晶構造中に化合物（Ｉ）を包摂するためには、Ａ１、Ａ２及びＡ３は、互いに独立に、無置換、水素がメチル基又はメトキシ基で置換された１，４－フェニレン基、若しくは２価の複素環基が好ましく、ｐは０又は１であることが好ましい。中でもｐが１であり、かつ、Ａ１、Ａ２及びＡ３の３つの構造のうち少なくとも２つが１，４－フェニレン基であることが分子合成の簡便さと高い性能の両方を有するという点でより好ましい。
　２価の複素環基としては、キノリン、チアゾール、ベンゾチアゾール、チエノチアゾール、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、オキサゾール及びベンゾオキサゾールから２個の水素原子を除いた基が挙げられる。Ａ２が２価の複素環基の場合には、分子結合角度が実質的に１８０°となる構造が好ましく、具体的には、二つの５員環が縮合したベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾオキサゾール構造がより好ましい。
　Ｔ１及びＴ２は、互いに独立に電子吸引基又は電子放出基であって、互いに異なる構造であることが好ましく、Ｔ１が電子吸引基であってＴ２が電子放出基である、あるいは、Ｔ１が電子放出基であってＴ２が電子吸引基であることがさらに好ましい。具体的には、Ｔ１及びＴ２は、互いに独立に炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１～６のアルキル基を１つ又は２つ有するアミノ基、あるいは２つの置換アルキル基が互いに結合して炭素数２～８のアルカンジイル基を形成しているアミノ基、又はトリフルオロメチル基であることが好ましく、中でもスメクチック液晶のような高秩序液晶構造中に包摂するためには、分子の排除体積がより小さい構造体である必要があるため、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、シアノ基、炭素数１～６のアルキル基を１つ又は２つ有するアミノ基、あるいは２つの置換アルキル基が互いに結合して炭素数２～８のアルカンジイル基を形成しているアミノ基が好ましい。
　このようなアゾ色素としては、例えば、以下のようなものが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
［式（２－１）～（２－６）中、Ｂ１～Ｂ２０は、互いに独立に、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、置換又は無置換のアミノ基（置換アミノ基及び無置換アミノ基の定義は前記のとおり）、塩素原子又はトリフルオロメチル基を表す。また、高い偏光性能が得られる観点から、Ｂ２、Ｂ６、Ｂ９、Ｂ１４、Ｂ１８、Ｂ１９は水素原子又はメチル基であることが好ましく、水素原子であることがさらに好ましい。
　ｎ１～ｎ４は、それぞれ独立に０～３の整数を表す。
　ｎ１が２以上である場合、複数のＢ２はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよく、
　ｎ２が２以上である場合、複数のＢ６はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよく、
　ｎ３が２以上である場合、複数のＢ９はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよく、
　ｎ４が２以上である場合、複数のＢ１４はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
　前記アントラキノン色素としては、式（２－７）で表される化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
［式（２－７）中、Ｒ１～Ｒ８は、互いに独立に、水素原子、－Ｒｘ、－ＮＨ２、－ＮＨＲｘ、－ＮＲｘ ２、－ＳＲｘ又はハロゲン原子を表す。
　Ｒｘは、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数６～１２のアリール基を表す。］
　前記オキサジン色素としては、式（２－８）で表される化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
［式（２－８）中、Ｒ９～Ｒ１５は、互いに独立に、水素原子、－Ｒｘ、－ＮＨ２、－ＮＨＲｘ、－ＮＲｘ ２、－ＳＲｘ又はハロゲン原子を表す。］
　Ｒｘは、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数６～１２のアリール基を表す。］
　前記アクリジン色素としては、式（２－９）で表される化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
［式（２－９）中、Ｒ１６～Ｒ２３は、互いに独立に、水素原子、－Ｒｘ、－ＮＨ２、－ＮＨＲｘ、－ＮＲｘ ２、－ＳＲｘ又はハロゲン原子を表す。
　Ｒｘは、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数６～１２のアリール基を表す。］
　式（２－７）、式（２－８）及び式（２－９）における、Ｒｘで表される炭素数１～４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基又はヘキシル基等が挙げられ、炭素数６～１２のアリール基としては、フェニル基、トルイル基、キシリル基又はナフチル基等が挙げられる。
　前記シアニン色素としては、式（２－１０）で表される化合物及び式（２－１１）で表される化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
［式（２－１０）中、Ｄ１及びＤ２は、互いに独立に、式（２－１０ａ）～式（２－１０ｄ）のいずれかで表される基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　ｎ５は１～３の整数を表す。］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
［式（２－１１）中、Ｄ３及びＤ４は、互いに独立に、式（２－１１ａ）～式（２－１１ｈ）のいずれかで表される基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　ｎ６は１～３の整数を表す。］
　二色性色素の含有量（複数種含む場合にはその合計量）は、良好な光吸収特性を得る観点から、パターン化偏光層２１中の重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１～３０質量部であることが好ましく、１～２０質量部であることがより好ましく、３～１５質量部であることがさらに好ましい。二色性色素の含有量がこの範囲より少ないと光吸収が不十分となり、十分な偏光性能が得られず、この範囲よりも多いと液晶分子の配向を阻害する場合がある。
　（溶剤）
　偏光層形成用組成物は溶剤を含有していてもよい。一般に重合性液晶化合物は粘度が高いため、液晶化合物として重合性液晶化合物を用いる場合は、溶剤を含む偏光層形成用組成物を用いることで塗工が容易になり、結果としてパターン化偏光層２１を形成しやすくなる。溶剤としては、重合性液晶化合物及び二色性色素を完全に溶解し得るものが好ましく、また、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶剤であることが好ましい。
　溶剤としては、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル又はプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ－ブチロラクトン又はプロピレングリコールメチルエーテルアセテート又は乳酸エチル等のエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン又はメチルイソブチルケトン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン又はヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤；トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル溶剤；テトラヒドロフラン又はジメトキシエタン等のエーテル溶剤；クロロホルム又はクロロベンゼン等の塩素含有溶剤；ジメチルアセトアミド、ジメチルホルミアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のアミド系溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　偏光層形成用組成物に含まれる溶剤の含有量は、偏光層形成用組成物の総量に対して５０～９８質量％が好ましい。換言すると、偏光層形成用組成物における固形分の含有量は、２～５０質量％が好ましい。固形分の含有量が５０質量％以下であると、偏光層形成用組成物の粘度が低くなることから、パターン化偏光層２１の厚さが略均一になり、パターン化偏光層２１にムラが生じにくくなる傾向がある。また、かかる固形分の含有量は、製造しようとするパターン化偏光層２１の厚みを考慮して定めることができる。
　（重合開始剤）
　偏光層形成用組成物は重合開始剤を含有していてもよい。重合開始剤は、液晶化合物として重合性液晶化合物を用いている場合に用いることができ、重合性液晶化合物等の重合反応を開始し得る化合物である。重合開始剤としては、サーモトロピック液晶の相状態に依存しないという観点から、光の作用により活性ラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。
　重合開始剤としては、例えばベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩又はスルホニウム塩等が挙げられる。
　ベンゾイン化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル又はベンゾインイソブチルエーテル等が挙げられる。
　ベンゾフェノン化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ－ベンゾイル安息香酸メチル、４－フェニルベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’－テトラ（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン及び２，４，６－トリメチルベンゾフェノン等が挙げられる。
　アルキルフェノン化合物としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、２－メチル－２－モルホリノ－１－（４－メチルチオフェニル）プロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）ブタン－１－オン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、１，２－ジフェニル－２，２－ジメトキシエタン－１－オン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン－１－オン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン又は２－ヒドロキシ－２－メチル－１－〔４－（１－メチルビニル）フェニル〕プロパン－１－オンのオリゴマー等が挙げられる。
　アシルホスフィンオキサイド化合物としては、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド又はビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。
　トリアジン化合物としては、例えば、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシナフチル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシスチリル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（５－メチルフラン－２－イル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（フラン－２－イル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（４－ジエチルアミノ－２－メチルフェニル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン又は２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（３，４－ジメトキシフェニル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン等が挙げられる。
　重合開始剤は市販のものを用いることもできる。市販の重合開始剤としては、イルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）（登録商標）９０７、１８４、６５１、８１９、２５０、３６９、３７９、１２７、７５４、ＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２、又はＯＸＥ０３（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）；セイクオール（登録商標）ＢＺ、Ｚ、又はＢＥＥ（精工化学株式会社製）；カヤキュアー（ｋａｙａｃｕｒｅ）（登録商標）ＢＰ１００、又はＵＶＩ－６９９２（ダウ・ケミカル株式会社製）；アデカオプトマーＳＰ－１５２、Ｎ－１７１７、Ｎ－１９１９、ＳＰ－１７０、アデカアークルズＮＣＩ－８３１、アデカアークルズＮＣＩ－９３０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）；ＴＡＺ－Ａ、又はＴＡＺ－ＰＰ（日本シイベルヘグナー株式会社製）；ＴＡＺ－１０４（株式会社三和ケミカル製）；等が挙げられる。偏光層形成用組成物中の重合開始剤は、１種類を用いてもよく、光の光源に合わせて２種類以上の複数の重合開始剤を混合して用いてもよい。
　偏光層形成用組成物中の重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物の種類やその量に応じて適宜調節できるが、重合性液晶化合物の含有量１００質量部に対して、通常０．１～３０質量部、好ましくは０．５～１０質量部、より好ましくは０．５～８質量部である。重合開始剤の含有量が上記範囲内であると、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく重合を行うことができる。
　（増感剤）
　偏光層形成用組成物は増感剤を含有してもよい。増感剤は、液晶化合物として重合性液晶化合物を用いている場合に好適に用いることができ、光重合性基を有する重合性液晶化合物を用いている場合には、増感剤は光増感剤であることが好ましい。増感剤としては、例えば、キサントン及びチオキサントン等のキサントン化合物（例えば、２，４－ジエチルチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン等）；アントラセン及びアルコキシ基含有アントラセン(例えば、ジブトキシアントラセン等)等のアントラセン化合物；フェノチアジン又はルブレン等が挙げられる。
　偏光層形成用組成物が増感剤を含有する場合、偏光層形成用組成物に含有される重合性液晶化合物の重合反応をより促進することができる。かかる増感剤の使用量は、重合性液晶化合物の含有量１００質量部に対して、０．１～１０質量部が好ましく、０．５～５質量部がより好ましく、０．５～３質量部がさらに好ましい。
　（重合禁止剤）
　偏光層形成用組成物は、重合反応を安定的に進行させる観点から重合禁止剤を含有してもよい。重合禁止剤は、液晶化合物として重合性液晶化合物を用いている場合に好適に用いることができ、重合禁止剤により、重合性液晶化合物の重合反応の進行度合いをコントロールすることができる。
　重合禁止剤としては、例えばハイドロキノン、アルコキシ基含有ハイドロキノン、アルコキシ基含有カテコール（例えば、ブチルカテコール等）、ピロガロール、２，２，６，６－テトラメチル－１－ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル捕捉剤；チオフェノール類；β－ナフチルアミン類又はβ－ナフトール類等が挙げられる。
　偏光層形成用組成物が重合禁止剤を含有する場合、重合禁止剤の含有量は、重合性液晶化合物の含有量１００質量部に対して、好ましくは０．１～１０質量部、より好ましくは０．５～５質量部、さらに好ましくは０．５～３質量部である。重合禁止剤の含有量が、上記範囲内であると、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく重合を行うことができる。
　（レベリング剤）
　偏光層形成用組成物はレベリング剤を含有してもよい。レベリング剤とは、組成物の流動性を調整し、組成物を塗布して得られる膜をより平坦にする機能を有する添加剤であり、例えば、有機変性シリコーンオイル系、ポリアクリレート系又はパーフルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。具体的には、ＤＣ３ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ、ＳＴ８６ＰＡ、ＳＨ８４００、ＳＨ８７００、ＦＺ２１２３（以上、全て東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１、Ｘ２２－１６１Ａ、ＫＦ６００１（以上、全て信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ－４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（以上、全てモメンティブ　パフォーマンス　マテリアルズ　ジャパン合同会社製）、フロリナート（ｆｌｕｏｒｉｎｅｒｔ）（登録商標）ＦＣ－７２、同ＦＣ－４０、同ＦＣ－４３、同ＦＣ－３２８３（以上、全て住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｒ－０８、同Ｒ－３０、同Ｒ－９０、同Ｆ－４１０、同Ｆ－４１１、同Ｆ－４４３、同Ｆ－４４５、同Ｆ－４７０、同Ｆ－４７７、同Ｆ－４７９、同Ｆ－４８２、同Ｆ－４８３（以上、いずれもＤＩＣ（株）製）、エフトップ（商品名）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（以上、全て三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ－３８１、同Ｓ－３８２、同Ｓ－３８３、同Ｓ－３９３、同ＳＣ－１０１、同ＳＣ－１０５、ＫＨ－４０、ＳＡ－１００（以上、全てＡＧＣセイミケミカル（株）製）、商品名Ｅ１８３０、同Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ－１０００、ＢＭ－１１００、ＢＹＫ－３５２、ＢＹＫ－３５３又はＢＹＫ－３６１Ｎ（いずれも商品名：ＢＭ　Ｃｈｅｍｉｅ社製）等が挙げられる。中でも、ポリアクリレート系レベリング剤又はパーフルオロアルキル系レベリング剤が好ましい。
　偏光層形成用組成物がレベリング剤を含有する場合、液晶化合物１００質量部に対して、好ましくは０．０１～５質量部、より好ましくは０．１～５質量部、さらに好ましくは０．１～３質量部である。レベリング剤の含有量が上記範囲内であると、液晶化合物を水平配向させることが容易であり、かつ得られるパターン化偏光層がより平滑となる傾向がある。液晶化合物に対するレベリング剤の含有量が上記範囲を超えると、得られるパターン化偏光層にムラが生じやすい傾向がある。なお、偏光層形成用組成物は、レベリング剤を２種以上含有していてもよい。
　（反応性添加剤）
　偏光層形成用組成物は反応性添加剤を含んでもよい。反応性添加剤としては、その分子内に炭素－炭素不飽和結合と活性水素反応性基とを有するものが好ましい。なお、ここでいう「活性水素反応性基」とは、カルボキシル基（－ＣＯＯＨ）、水酸基（－ＯＨ）、アミノ基（－ＮＨ２）等の活性水素を有する基に対して反応性を有する基を意味し、グリシジル基、オキサゾリン基、カルボジイミド基、アジリジン基、イミド基、イソシアネート基、チオイソシアネート基、無水マレイン酸基等がその代表例である。反応性添加剤が有する、炭素－炭素不飽和結合又は活性水素反応性基の個数は、通常、それぞれ１～２０個であり、好ましくはそれぞれ１～１０個である。
　反応性添加剤において、活性水素反応性基が少なくとも２つ存在することが好ましく、この場合、複数存在する活性水素反応性基は同一でも、異なるものであってもよい。
　反応性添加剤が有する炭素－炭素不飽和結合とは、炭素－炭素二重結合、炭素－炭素三重結合、又はそれらの組み合わせであってよいが、炭素－炭素二重結合であることが好ましい。中でも、反応性添加剤としては、ビニル基及び／又は（メタ）アクリル基として炭素－炭素不飽和結合を含むことが好ましい。さらに、活性水素反応性基が、エポキシ基、グリシジル基及びイソシアネート基からなる群から選ばれる少なくとも１種である反応性添加剤が好ましく、アクリル基とイソシアネート基とを有する反応性添加剤がより好ましい。
　反応性添加剤の具体例としては、メタクリロキシグリシジルエーテルやアクリロキシグリシジルエーテル等の、（メタ）アクリル基とエポキシ基とを有する化合物；オキセタンアクリレートやオキセタンメタクリレート等の、（メタ）アクリル基とオキセタン基とを有する化合物；ラクトンアクリレートやラクトンメタクリレート等の、（メタ）アクリル基とラクトン基とを有する化合物；ビニルオキサゾリンやイソプロペニルオキサゾリン等の、ビニル基とオキサゾリン基とを有する化合物；イソシアナトメチルアクリレート、イソシアナトメチルメタクリレート、２－イソシアナトエチルアクリレート又は２－イソシアナトエチルメタクリレート等の、（メタ）アクリル基とイソシアネート基とを有する化合物のオリゴマー等が挙げられる。また、メタクリル酸無水物、アクリル酸無水物、無水マレイン酸又はビニル無水マレイン酸等の、ビニル基やビニレン基と酸無水物とを有する化合物等が挙げられる。中でも、メタクリロキシグリシジルエーテル、アクリロキシグリシジルエーテル、イソシアナトメチルアクリレート、イソシアナトメチルメタクリレート、ビニルオキサゾリン、２－イソシアナトエチルアクリレート、２－イソシアナトエチルメタクリレート又は上記のオリゴマーが好ましく、イソシアナトメチルアクリレート、２－イソシアナトエチルアクリレート又は上記のオリゴマーが特に好ましい。
　具体的には、下記式（Ｙ）で表される化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
［式（Ｙ）中、ｎは１～１０までの整数を表わし、Ｒ１’は、炭素数２～２０の２価の脂肪族又は脂環式炭化水素基、或いは炭素数５～２０の２価の芳香族炭化水素基を表わす。各繰返し単位にある２つのＲ２’は、一方が－ＮＨ－であり、他方が＞Ｎ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ３’で示される基である。Ｒ３’は、水酸基又は炭素－炭素不飽和結合を有する基を表す。
　式（Ｙ）中のＲ３’のうち、少なくとも１つのＲ３’は炭素－炭素不飽和結合を有する基である。］
　前記式（Ｙ）で表される反応性添加剤の中でも、下記式（ＹＹ）で表される化合物（以下、化合物（ＹＹ）ということがある。）が特に好ましい（なお、ｎは前記と同じ意味である）。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
　化合物（ＹＹ）には、市販品をそのまま又は必要に応じて精製して用いることができる。市販品としては、例えば、Ｌａｒｏｍｅｒ（登録商標）ＬＲ－９０００（ＢＡＳＦ社製）が挙げられる。
　偏光層形成用組成物が反応性添加剤を含有する場合、反応性添加剤の含有量は、液晶化合物１００質量部に対して、通常０．０１～１０質量部であり、好ましくは０．１～５質量部である。
　（偏光層形成用組成物の塗工方法）
　偏光層形成用組成物を塗工する方法としては、押出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法、スリットコーティング法、マイクログラビア法、ダイコーティング法、インクジェット法等が挙げられる。また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーター等のコーターを用いて塗工する方法等も挙げられる。中でも、Ｒｏｌｌ　ｔｏ　Ｒｏｌｌ形式で連続的に塗工する場合には、マイクログラビア法、インクジェット法、スリットコーティング法、ダイコーティング法による塗工方法が好ましく、ガラス等の枚葉基材に塗工する場合には、均一性の高いスピンコーティング法が好ましい。Ｒｏｌｌ　ｔｏ　Ｒｏｌｌ形式で塗工する場合、パターン化撥液層付き基材層８３に配向膜形成用組成物等を塗工してパターン化配向層２２を形成し、さらに得られたパターン化配向層２２上に偏光層形成用組成物を連続的に塗工することもできる。
　偏光層形成用組成物を塗工してパターン化偏光層２１を形成する際には、塗工された偏光層形成用組成物から溶剤を除去して偏光層用塗工層を形成する。溶剤を除去する方法としては、配向性ポリマー組成物から溶剤を除去する方法と同じ方法を用いることができるが、例えば、自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥及びこれらを組み合わせた方法が挙げられる。中でも、自然乾燥又は加熱乾燥が好ましい。乾燥温度は、０～２００℃の範囲が好ましく、２０～１５０℃の範囲がより好ましく、５０～１３０℃の範囲がさらに好ましい。乾燥時間は、１０秒間～１０分間が好ましく、より好ましくは３０秒間～５分間である。
　偏光層形成用組成物に含まれる液晶化合物が重合性液晶化合物である場合、偏光層形成工程で形成された偏光層用塗工層に、活性エネルギー線照射を行い、重合性液晶化合物を光重合させてパターン化偏光層２１を形成することが好ましい。照射する活性エネルギー線としては、偏光層用塗工層に含まれる重合性液晶化合物の種類（特に、重合性液晶化合物が有する光重合性官能基の種類）、光重合開始剤を含む場合には光重合開始剤の種類、及びそれらの量に応じて適宜選択される。具体的には、可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、α線、β線、及びγ線からなる群より選択される一種以上の光が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御しやすい点、及び光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって光重合可能なように、重合性液晶化合物の種類を選択することが好ましい。
　活性エネルギー線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０～４４０ｎｍを発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。
　活性エネルギー線の照射強度は、通常、１０ｍＷ／ｃｍ２～３０００ｍＷ／ｃｍ２である。活性エネルギー線の照射強度は、好ましくはカチオン重合開始剤又はラジカル重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。活性エネルギー線を照射する時間は、通常０．１秒～１０分であり、好ましくは０．１秒～５分であり、より好ましくは０．１秒～３分であり、さらに好ましくは０．１秒～１分である。このような活性エネルギー線の照射強度で１回又は複数回照射すると、その積算光量は、１０ｍＪ／ｃｍ２～３０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは５０ｍＪ／ｃｍ２～２，０００ｍＪ／ｃｍ２、より好ましくは１００ｍＪ／ｃｍ２～１０００ｍＪ／ｃｍ２とすることができる。積算光量がこの範囲以下である場合には、重合性液晶化合物の硬化が不十分となり、良好な転写性が得られない場合がある。逆に、積算光量がこの範囲以上である場合には、パターン化偏光層が着色する場合がある。
　（偏光フィルムを連続的に製造する方法）
　偏光フィルム２の製造方法は、好ましくは、Ｒｏｌｌ　ｔｏ　Ｒｏｌｌ形式により連続的に製造することができる。この場合、基材層被覆工程において、ロール状に巻回された基材層を巻出しながら搬送し、また、ロール状に巻回された第２保護層を巻出しながら搬送して、基材層と保護層とを積層して、保護層付き基材層を得ればよい。撥液層形成工程では、保護層付き基材層を連続的に搬送しながら撥液剤を塗工して、撥液層付き基材層を得、保護層除去工程では、撥液層付き基材層を搬送しながら連続的に保護層を剥離すればよい。パターン化配向層形成工程では、パターン化撥液層付き基材層を搬送しながら、塗布装置により連続的に配向層形成用組成物を塗工してパターン化配向層を形成すればよい。パターン化偏光層形成工程では、パターン化配向層付き基材層を搬送しながら、塗布装置により連続的に偏光層形成用組成物を塗工してパターン化偏光層を形成すればよい。上記のように連続的に製造された偏光フィルムは、例えば１０ｍ以上の長さを有することができる。
　＜偏光フィルムの第２の製造方法＞
　偏光フィルム２は、上記した第１の製造方法のほか、下記に示す第２の製造方法によって製造することもできる。図３は、図１に示す偏光フィルム２の製造方法におけるパターン化撥液層形成工程の一例を示す概略断面図である。偏光フィルム２の第２の製造方法におけるパターン化撥液層形成工程は、第１の製造方法で用いた保護層３７を用いずに、基材層１３の少なくとも片面側に撥液剤を滴下塗布して（図３）、図２（ｃ）に示すパターン化撥液層４７ｂを形成することができる。
　偏光フィルム２の第２の製造方法は、上記のようなパターン化撥液層形成工程を経て得られたパターン化撥液層付き基材層８３（図２（ｃ））のパターン化撥液層４７ｂ側の面に、上記第１の製造方法と同様に、
　配向層形成用組成物を塗工して形成されたパターン化配向層２２を有するパターン化配向層付き基材層８４（図２（ｄ））を得るパターン化配向層形成工程と、
　パターン化配向層付き基材層８４のパターン化配向層２２側の面に、液晶化合物及び二色性色素を含む偏光層形成用組成物を塗工することによりパターン化偏光層２１を形成するパターン化偏光層形成工程と、を有する。これにより、例えば、図１及び図２（ｅ）に示す、パターン化偏光層を有する偏光フィルム２を製造することができる。
　この第２の製造方法のパターン化撥液層形成工程で用いる基材層１３及び撥液剤は、上記第１の製造方法で用いた基材層１３及び撥液剤と同様の基材層及び撥液剤を用いることができる。基材層１３の少なくとも片面側に、撥液剤を滴下塗布してパターン化撥液層４７ｂを形成する方法としては、例えば図３に示すように、この一部の領域に液状物を滴下して塗布する、いわゆるインクジェット法等を挙げることができる。基材層１３上に撥液剤を滴下塗布することにより、基材層１３上にパターン化撥液層４７ｂを形成し、パターン化撥液層付き基材層８３を得ることができる（図２（ｃ））
　第２の製造方法のパターン化配向層形成工程及びパターン化偏光層形成工程は、上記第１の製造方法におけるパターン化配向層形成工程及びパターン化偏光層形成工程と同様である。
　第２の製造方法についても、第１の製造方法と同様に、例えばＲｏｌｌ　ｔｏ　Ｒｏｌｌ形式により偏光フィルム２を連続的に製造することができる。この場合、パターン化撥液層形成工程においてロール状に巻回された基材層を巻出しながら搬送し、撥液剤を滴下塗布して、基材層上にパターン化撥液層を形成し、パターン化撥液層付き基材層を得ればよい。パターン化配向層形成工程では、パターン化撥液層付き基材層を搬送しながら、塗布装置により連続的に配向層形成用組成物を塗工してパターン化配向層を形成すればよい。パターン化偏光層形成工程では、パターン化配向層付き基材層を搬送しながら、塗布装置により連続的に偏光層形成用組成物を塗工してパターン化偏光層を形成すればよい。上記のように連続的に製造された偏光フィルムは、例えば１０ｍ以上の長さを有することができる。
　［第２の実施形態（円偏光板及びその製造方法）］
　（円偏光板）
　図４（ａ）～（ｃ）は、それぞれ本発明の円偏光板の一例を示す概略断面図である。図２（ｅ）に示す偏光フィルム２は、１／４波長板機能を有する位相差層１５を積層することにより、図４（ａ）及び（ｂ）に示す円偏光板５ａ、５ｂとすることができる。位相差層１５は、偏光フィルム２のパターン化偏光層２１側に積層してもよく（図４（ａ））、基材層１３側に積層してもよい（図４（ｂ））。また、図４（ａ）に示す円偏光板５ａから、基材層１３を剥離したものを円偏光板５ｃ（図４（ｃ））として用いることもでき、この場合、基材層１３とともにパターン化配向層２２も剥離してもよい。
　また、円偏光板は、偏光フィルム２と多層構造の位相差層とを積層したものであってもよい。この場合、多層構造の位相差層として、１／２波長板機能を有する層と１／４波長板機能を有する層とを積層した位相差層を用いることができ、多層構造の位相差層の１／２波長板機能を有する層側と偏光フィルム２とを積層することにより、円偏光板とすることができる。あるいは、多層構造の位相差層として、逆波長分散性の１／４波長板機能を有する層とポジティブＣプレート機能を有する層とを積層した位相差層を用いることによっても、円偏光板を得ることができる。
　また、偏光フィルム２の基材層１３として位相差層としての機能を有するものを用い、さらに位相差層を積層して円偏光板としてもよい。この場合、円偏光板における基材層１３及び位相差層の積層位置に応じて、基材層１３及び位相差層が有する、位相差層としての機能を選択すればよい。
　偏光フィルムと位相差層とは、公知の粘着剤又は接着剤を用いた接着層を介して積層することができる。
　（円偏光板の製造方法）
　円偏光板は、偏光フィルムと位相差層とを積層することによって製造することができる。偏光フィルムが連続的に製造された長さ１０ｍ以上の長尺偏光フィルムである場合、上記位相差層として、長さ１０ｍ以上の長尺位相差層を用い、両者を連続的に搬送しながら長尺偏光フィルムと長尺位相差層とを積層することにより、長尺積層体を形成することが好ましい。このとき、長尺偏光フィルム及び長尺位相差層の少なくとも一方に、粘着剤又は接着剤を塗工して両者を積層することが好ましい。
　円偏光板の製造方法は、長尺偏光フィルムと長尺位相差層とを積層して得られた長尺積層体を、偏光フィルムを所定サイズの表示装置等に取付けるために所定サイズの枚葉に裁断する工程を有していてもよい。裁断工程では、長尺積層体の長さ方向及び幅方向の少なくとも一方において、長尺積層体を裁断することが好ましい。この場合、裁断された枚葉において低偏光領域が所定の位置に配置されるように、長尺積層体における裁断位置を決定することが好ましい。
　本発明を実施例に基づいてさらに具体的に説明する。ただし、本発明は、これらの実施例により限定されるものではない。
　実施例、比較例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、質量％及び質量部である。
　［視感度補正偏光度（Ｐｙ）及び視感度補正透過率（Ｔｙ）］
　（評価用サンプルの作製）
　各実施例、比較例及び参考例で用いた配向層形成用組成物及び偏光層形成用組成物を準備した。また、各実施例、比較例及び参考例で基材層として用いたものと同じフィルムを、４０ｍｍ×４０ｍｍに切り出したものを評価用サンプルの基材層として準備した。これらを用い、保護層を用いないこと以外は、各実施例、比較例及び参考例の偏光フィルムの製造と同様の手順を行い評価用サンプルを得た。
　（視感度補正偏光度（Ｐｙ）及び視感度補正透過率（Ｔｙ））
　評価用サンプルについて、以下の手順で視感度補正単体透過率（Ｔｙ）及び視感度補正偏光度（Ｐｙ）を算出した。波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの範囲で透過軸方向の透過率（Ｔ１）及び吸収軸方向の透過率（Ｔ２）を、分光光度計（島津製作所株式会社製　ＵＶ－３１５０）に偏光子付フォルダーをセットした装置を用いてダブルビーム法で測定した。該フォルダーは、リファレンス側は光量を５０％カットするメッシュを設置した。下記（式１）及び（式２）を用いて、各波長における透過率、偏光度を算出し、さらにＪＩＳ　Ｚ　８７０１の２度視野（Ｃ光源）により視感度補正を行い、視感度補正透過率（Ｔｙ）及び視感度補正偏光度（Ｐｙ）を算出した。
　　偏光度［％］＝｛（Ｔ１－Ｔ２）／（Ｔ１＋Ｔ２）｝×１００　　　（式１）
　　単体透過率［％］＝（Ｔ１＋Ｔ２）／２　　　（式２）
　〔実施例１〕
　（撥液剤の製造）
　特開２０１４－１５６０９号公報の合成例１、２に記載された方法により、下記式（ａ）で表される第１の有機ケイ素化合物（Ｓ１）（分子量約８０００）を合成した。式（ａ）において、ｎは４３であり、ｍは１～６の整数である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
　第１の有機ケイ素化合物（Ｓ１）として上記式（ａ）で表される化合物（以下、化合物（ａ））、第２の有機ケイ素化合物（Ｓ２）としてＦＡＳ９Ｅ（Ｃ４Ｆ９－Ｃ２Ｈ４－Ｓｉ－（ＯＣ２Ｈ５）３、沸点２４１℃、東京化成工業社製）、溶剤としてノベック７２００（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５、３Ｍ社製）を混合し、室温で所定の時間撹拌して撥液剤を得た。この撥液剤１００部中、第１の有機ケイ素化合物（Ｓ１）の比率は０．０３部であり、第２の有機ケイ素化合物（Ｓ２）の比率は０．０７部である。
　（配向層形成用組成物の製造）
　下記成分を混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、光配向膜形成用組成物である配向層形成用組成物を得た。
・下記に示す光反応性基を有するポリマー　２部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
・溶剤：ｏ－キシレン　９８部
　（偏光層形成用組成物の製造）
　下記の成分を混合し、８０℃で１時間攪拌することで、偏光層形成用組成物を得た。二色性色素には、特開２０１３－１０１３２８号公報の実施例に記載のアゾ系色素を用いた。
・式（１－６）で表される重合性液晶化合物　７５部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
・式（１－７）で表される重合性液晶化合物　２５部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
・下記に示す二色性色素（１）　２．８部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
・下記に示す二色性色素（２）　２．８部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
・下記に示す二色性色素（３）　２．８部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
・下記に示す重合開始剤　６部
　２－ジメチルアミノ－２－ベンジル－１－（４－モルホリノフェニル）ブタン－１－オン（イルガキュア３６９；チバスペシャルティケミカルズ社製）
・下記に示すレベリング剤　１．２部
　ポリアクリレート化合物（ＢＹＫ－３６１Ｎ；ＢＹＫ－Ｃｈｅｍｉｅ社製）
・下記に示す溶剤　２５０部
　シクロペンタノン
　（偏光フィルムの製造）
　トリアセチルセルロースフィルムを２０×２０ｍｍに切り出し、その表面にコロナ処理（ＡＧＦ－Ｂ１０、春日電機株式会社製）を施した。基材層上に、穴あけパンチにて穴をあけて開口部を形成した保護層として藤森工業株式会社製のＡＹ－６３８（厚みが３８μｍのポリエステルフィルム上に厚みが１５μｍの粘着剤層とで構成されている）を貼合した後、撥液剤を塗布して１２０℃１０分で乾燥させて撥液層を形成した。続いて、保護層を剥離してパターン化撥液層を形成したパターン化撥液層付き基材層を得た。得られたパターン化撥液層付き基材層のパターン化撥液層が形成された側の面に、配向層形成用組成物を塗布した後、１２０℃に設定した乾燥オーブンで１２０℃に設定した乾燥オーブンで１分間乾燥し、配向層用塗工層を得た。配向層用塗工層上に偏光ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ　ＣＵＲＥ　ＳＰ－７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、フィルム辺に対して０°方向の偏光ＵＶを、５０ｍＪ／ｃｍ2（３１３ｎｍ基準）の積算光量で照射しパターン化配向層を形成した。得られたパターン化配向層上に、バーコーターを用いて偏光層形成用組成物を塗布した後、１１０℃に設定した乾燥オーブンで１分間乾燥した。その後高圧水銀ランプ（ユニキュアＶＢ－１５２０１ＢＹ－Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長：３６５ｎｍ、波長３６５ｎｍにおける積算光量：１０００ｍＪ／ｃｍ2）することにより、液晶化合物及び二色性色素が配向したパターン化偏光層を形成して、偏光フィルムを得た。
　得られた偏光フィルムの外観を目視で観察したところ、偏光層の存在しない円形の領域（低偏光領域）を明確に確認することができた。また、上記した手順で、偏光フィルムの偏光領域の視感度補正透過率（Ｔｙ）及び視感度補正偏光度（Ｐｙ）を算出した。その結果を表１に示す。
　〔実施例２〕
　穴あけパンチにて穴をあけて開口部を形成した保護層を貼合することに代えて、スポイトを用いて、基材層上に部分的に撥液剤を滴下塗布したこと以外は、実施例１と同様に偏光フィルムを得た。得られた偏光フィルムの外観を目視で観察したところ、偏光層の存在しない円形の領域（低偏光領域）を明確に確認することができた。また、上記した手順で、偏光フィルムの偏光領域の視感度補正透過率（Ｔｙ）及び視感度補正偏光度（Ｐｙ）を算出した。その結果を表１に示す。
　〔比較例〕
　撥液剤を用いず撥液層を形成しないこと以外は、実施例１と同様にして偏光フィルムを得た。得られた偏光フィルムの外観を目視で観察したところ、偏光層の存在しない領域を確認することができず、偏光領域と低偏光領域とを有する偏光フィルムが得られていないことがわかった。また、上記した手順で評価用サンプルを作製し、その視感度補正透過率（Ｔｙ）及び視感度補正偏光度（Ｐｙ）を算出した。その結果を表１に示す。
　なお、表１中に示す各実施例、比較例及び参考例で測定した視感度補正透過率（Ｔｙ）及び視感度補正偏光度（Ｐｙ）の値は、基材層の視感度補正透過率（Ｔｙ）及び視感度補正偏光度（Ｐｙ）の値を含めた値であるが、基材層単体の視感度補正透過率（Ｔｙ）は９２％であり、基材層の視感度補正偏光度（Ｐｙ）の値は０％であるため、表１中に示す各実施例、比較例及び参考例において基材層を除いた場合、視感度補正透過率（Ｔｙ）の値は表１に示す値よりも大きくなり、視感度補正偏光度（Ｐｙ）の値は表１に示す値と同じになると考えられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000023
　２　偏光フィルム、５ａ～５ｃ　円偏光板、１３　基材層、１５　位相差層、２１　パターン化偏光層、２１ａ　偏光領域、２１ｂ　低偏光領域、２２　パターン化配向層、２２ａ　配向層、３７　保護層、３７ａ　被覆領域、３７ｂ　露出領域、４７　撥液層、４７ｂ　パターン化撥液層（撥液層）、８１　保護層付き基材層、８２　撥液層付き基材層、８３　パターン化撥液層付き基材層、８４　パターン化配向層付き基材層。

Claims (14)

  1. 　基材層の少なくとも片面側にパターン化撥液層を形成してパターン化撥液層付き基材層を得るパターン化撥液層形成工程と、
    　前記パターン化撥液層付き基材層の前記パターン化撥液層側の面に、配向層形成用組成物を塗工して形成されたパターン化配向層を有するパターン化配向層付き基材層を得るパターン化配向層形成工程と、
    　前記パターン化配向層付き基材層の前記パターン化配向層側の面に、液晶化合物及び二色性色素を含む偏光層形成用組成物を塗工することによりパターン化偏光層を形成するパターン化偏光層形成工程と、を有し、
    　前記パターン化撥液層は、前記配向層形成用組成物及び前記偏光層形成用組成物に対して撥液性を示す、偏光フィルムの製造方法。
  2. 　前記パターン化撥液層形成工程は、
    　　前記基材層の少なくとも片面側に、前記基材層を被覆するための被覆領域と前記基材層を露出させるための露出領域とを有する保護層を積層することにより保護層付き基材層を得る基材層被覆工程と、
    　　前記保護層付き基材層の前記保護層側の面に撥液剤を塗工して撥液層が形成された撥液層付き基材層を得る撥液層形成工程と、
    　　前記撥液層付き基材層から前記保護層を剥離することにより、前記撥液層の一部を除去して前記パターン化撥液層を形成する保護層除去工程と、を含む、請求項１に記載の偏光フィルムの製造方法。
  3. 　前記露出領域は、平面視形状が円形、楕円形、長円形又は多角形であり、
    　　前記露出領域が円形である場合の直径は、５ｃｍ以下であり、
    　　前記露出領域が楕円形又は長円形である場合の長径は、５ｃｍ以下であり、
    　　前記露出領域が多角形である場合、前記多角形が内接されるように描いた仮想円の直径は、５ｃｍ以下である、請求項２に記載の偏光フィルムの製造方法。
  4. 　前記パターン化撥液層形成工程は、前記基材層の少なくとも片面側に、撥液剤を滴下塗布して前記パターン化撥液層を形成する、請求項１～３のいずれか１項に記載の偏光フィルムの製造方法。
  5. 　前記配向層形成用組成物は、光配向性ポリマーを含み、
    　前記パターン化配向層形成工程は、前記配向層形成用組成物を塗工して形成されたパターン化配向層用塗工層に偏光照射を行って前記パターン化配向層を形成する、請求項１～４のいずれか１項に記載の偏光フィルムの製造方法。
  6. 　前記液晶化合物は、重合性液晶化合物であり、
    　前記パターン化偏光層形成工程は、前記偏光層形成用組成物を塗工して形成されたパターン化偏光層用塗工層に活性エネルギー線照射を行って前記パターン化偏光層を形成する、請求項１～５のいずれか１項に記載の偏光フィルムの製造方法。
  7. 　前記パターン化偏光層は、Ｘ線回折測定においてブラッグピークを示す、請求項１～６のいずれか１項に記載の偏光フィルムの製造方法。
  8. 　前記偏光フィルムの長さは１０ｍ以上である、請求項１～７のいずれか１項に記載の偏光フィルムの製造方法。
  9. 　前記基材層は、１／４波長板機能を有する、請求項１～８のいずれか１項に記載の偏光フィルムの製造方法。
  10. 　請求項１～８のいずれか１項に記載の偏光フィルムの製造方法で製造された偏光フィルムと、１／４波長板機能を有する位相差層とを積層する位相差層積層工程を有する、円偏光板の製造方法。
  11. 　前記偏光フィルムは、長さが１０ｍ以上の長尺偏光フィルムであり、
    　前記位相差層は、長さが１０ｍ以上の長尺位相差層であり、
    　前記位相差層積層工程は、前記長尺偏光フィルムと前記長尺位相差層とを積層することにより長尺積層体を形成し、
    　さらに、前記長尺積層体を枚葉に裁断する裁断工程を有する、請求項１０に記載の円偏光板の製造方法。
  12. 　基材層上に、偏光領域と、偏光領域よりも低い視感度補正偏光度を有する低偏光領域とを有する偏光フィルムであって、
    　前記偏光領域は、液晶化合物及び二色性色素を含むとともに、視感度補正偏光度が９０％以上であり、
    　前記低偏光領域は、撥液層を有する、偏光フィルム。
  13. 　前記低偏光領域は、視感度補正偏光度が１０％以下である、請求項１２に記載の偏光フィルム。
  14. 　前記偏光領域は、視感度補正単体透過率が３５％以上であり、
    　前記低偏光領域は、視感度補正単体透過率が８０％以上である、請求項１２又は１３に記載の偏光フィルム。
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